KR100897804B1 - Pattern-graved light guide plate of back light unit - Google Patents
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Abstract
본 발명은 레이저장치를 이용하여 도광판 표면에 패턴을 형성하되, 곡선형태의 패턴 깊이 프로파일을 형성하도록 제어하는 방법에 의하여 형성된 백라이트 유닛용 도광판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 도광판의 일면에 패턴을 형성함에 있어, 광원으로부터의 거리에 따라 패턴의 깊이가 변화하여 입광부에서의 빛의 반사를 기준 내에서 최소화하고 배광부로 광원을 최소 손실로 전달할 수 있는 패턴형성공정의 제어방법으로 인해 형성된 패턴을 갖는 도광판에 관한 것이다.The present invention relates to a light guide plate for a backlight unit formed by a method of forming a pattern on a surface of a light guide plate using a laser device and forming a curved pattern depth profile, and more particularly, to form a pattern on one surface of the light guide plate. The depth of the pattern is changed according to the distance from the light source, thereby minimizing the reflection of light from the light incident part within the reference and having a pattern formed by a control method of the pattern forming process that can transmit the light source to the light emitting part with minimum loss. It relates to a light guide plate.
도광판, 패턴깊이, 제어시스템, 레이저 장치 Light guide plate, pattern depth, control system, laser device
Description
본 발명은 레이저장치를 이용하여 도광판 표면에 패턴을 형성하되, 곡선형태의 패턴 깊이 프로파일을 형성하는 방법 및 그 방법에 의하여 형성된 백라이트 유닛용 도광판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 도광판의 일면에 패턴을 형성함에 있어, 광원에서 멀어질수록 패턴을 깊이 형성하여 입광부에서의 빛의 반사를 기준 내에서 최소화하고 배광부로 광원을 최소 손실로 전달할 수 있는 패턴형성 방법에 의하여 형성된 패턴을 갖는 도광판에 관한 것이다.The present invention relates to a method of forming a pattern on a surface of a light guide plate using a laser device, and to forming a curved pattern depth profile, and a light guide plate for a backlight unit formed by the method. More specifically, a pattern is formed on one surface of the light guide plate. In forming, the light guide plate having a pattern formed by a pattern forming method that can form a pattern deeper away from the light source to minimize the reflection of light from the light incident portion within the reference and to transmit the light source with a minimum loss to the light distribution portion. .
평판 디스플레이 분야에서 가장 널리 상업화되고 실용화된 액정표시장치는 자체 발광을 하지 못하기 때문에 백라이트 유닛(Back light unit)이라는 발광장치가 필요하며, 액정표시장치의 성능은 그 자체의 특성 뿐만이 아니라, 상기 백라이트 유닛의 성능에 의존하는 바가 크다.The most widely commercialized and practical liquid crystal display device in the flat panel display field requires a light emitting device called a back light unit because it does not emit light. The performance of the liquid crystal display device is not only its own characteristics, but also the backlight. It depends a lot on the performance of the unit.
이러한 백라이트 유닛은 크게 도광판, 광학필름, 램프 어셈블리 및 몰드프레임으로 구성되는데, 이와 같은 액정표시장치는 백라이트 유닛의 램프 위치에 따라 직하 방식(direct light)과 에지 방식(edge light)으로 구분된다.The backlight unit is mainly composed of a light guide plate, an optical film, a lamp assembly, and a mold frame. The liquid crystal display is classified into a direct light and an edge light according to the lamp position of the backlight unit.
직하방식은 광원으로부터 발생된 빛을 확산판을 이용하여 균일화하여 액정 패널에 입사시키는 방식이며, 에지 방식은 도광판의 측면에서 발생된 빛을 도광판으로 반사하여 액정패널에 입사시키는 방식이다. 최근의 기술적 도향으로는 액정표시장치(LCD) 모듈의 박형화, 경량화 추세에 발맞추어, 에지 방식을 보다 선호하고 있다. The direct method is a method in which light generated from a light source is uniformized using a diffuser plate and incident on the liquid crystal panel. The edge method is a method in which light generated from the side of the light guide plate is reflected by the light guide plate and incident on the liquid crystal panel. In recent years, in line with the trend toward thinner and lighter liquid crystal display (LCD) modules, the edge method is more preferred.
이러한 에지 방식의 백라이트 유닛에서는 램프 어셈블리가 도광판의 측면에 설치되며, 빛을 발산하는 램프와, 램프를 감싸는 모양으로 형성되어 램프에서 발산되는 빛을 도광판으로 반사시켜주는 램프 반사시트로 구성된다.In the edge-type backlight unit, the lamp assembly is installed on the side of the light guide plate, and includes a lamp that emits light and a lamp reflection sheet that is formed in a shape surrounding the lamp to reflect the light emitted from the lamp to the light guide plate.
에지 방식을 채용하는 백라이트 유니트는 도광판 상에 균일한 휘도를 형성시키기 위하여 발광된 빛을 균일하게 산란시키는 것이 바람직하므로, 도광판의 일면에 소정 형태의 패턴을 형성시켜야 한다.Since the backlight unit employing the edge method preferably scatters the emitted light uniformly to form uniform brightness on the light guide plate, a pattern of a predetermined shape should be formed on one surface of the light guide plate.
종래 도광판에 패턴을 형성하는 방식으로는 다이아몬드를 이용한 기계적인 V-노치(V-notch)를 형성시키는 방법, 인쇄에 의한 방법, 레이저를 이용하여 패턴을 형성하는 방법이 있다.Conventional methods for forming a pattern on a light guide plate include a method of forming a mechanical V-notch using diamond, a printing method, and a method of forming a pattern using a laser.
먼저, 다이아몬드에 의한 기계적인 커팅방식은 그 속도가 상대적으로 느려서 생산성이 떨어지고, 가공면의 거칠기로 인하여 빛이 균일하게 산란되지 못하며, 의도하는 패턴 형태를 그대로 재현하는 재현성이 떨어지는 단점이 있다.First, the mechanical cutting method by diamond has a disadvantage that its speed is relatively slow, productivity is low, light is not uniformly scattered due to the roughness of the processing surface, and the reproducibility of reproducing the intended pattern shape is inferior.
또한, 인쇄에 의한 방법은 마스크 패턴에 의한 노광, 현상을 수행한 후, 부 식액을 사용할 때, 부식액이 마스크와 도광판 사이로 스며들어 미세패턴을 형성하는데 문제가 있고, 도광판이 박판인 경우에 재현성이 떨어지는 문제점 및 부식액의 사용에 따른 환경 문제가 발생한다.In addition, the printing method has a problem in that when the corrosion solution is used after performing exposure and development by a mask pattern and a corrosion solution penetrates between the mask and the light guide plate to form a fine pattern, and the light guide plate is a thin plate, reproducibility is achieved. Falling problems and environmental problems due to the use of corrosion solutions occur.
따라서, 최근에는 레이저 장치를 이용하여 도광판의 패턴을 형성하는 방법을 사용하는 경우가 많아지고 있다.Therefore, in recent years, the method of forming the pattern of a light guide plate using a laser device is increasing.
종래의 레이저 장치를 이용하여 도광판의 패턴을 형성하는 방법은 도광판 평면상의 X축 간격, Y축 간격, 개별 패턴의 사이즈의 3가지 변수를 조절하여 레이저를 발진시킴으로써, 도광판의 표면에 패턴을 형성하는 방식에 의하였으며, 이렇게 형성된 패턴의 형상은 아래 도 1에 나타난 바와 같다.The conventional method of forming a pattern of a light guide plate using a laser device is to form a pattern on the surface of the light guide plate by oscillating the laser by adjusting three parameters, the X-axis spacing, the Y-axis spacing, and the size of the individual pattern on the light guide plate plane. By way of example, the shape of the thus formed pattern is as shown in Figure 1 below.
도 1은 종래의 레이저 패턴형성방식에 의해 형성된 도광판의 패턴 형상을 나타낸 도면이다.1 is a view showing a pattern shape of a light guide plate formed by a conventional laser pattern forming method.
도 1의 원 내에 확대되어 도시된 바와 같이, 종래의 레이저 패턴 형성방식에 의해 형성된 도광판의 개별 패턴은 바(bar) 형태이며, 이러한 바 형태의 개별패턴 형상이 X축 간격(A), Y축 간격(B), 사이즈(C)를 달리해서 반복하여 형성된다.As shown in an enlarged circle in the circle of FIG. 1, the individual patterns of the light guide plate formed by the conventional laser pattern forming method are in the form of bars, and the shape of the individual patterns in the bar form is the X axis interval A and the Y axis. It is formed repeatedly by varying the interval B and the size C.
상기 종래의 레이저 방식에 의한 패턴형성방식에 의해 패턴이 형성된 도광판은 상기 인쇄에 의한 방법에 비하여 그 휘도가 8 내지 10% 상승되는 효과와 아울러, 도광판의 표면이 레이저에 의하여 음각으로 가공됨에 따라 부식액 사용 등에 의한 환경 문제가 발생되지 않는 친환경적인 방식이다.The light guide plate in which the pattern is formed by the pattern forming method by the conventional laser method has an effect of increasing the brightness by 8 to 10% compared to the printing method, and the corrosion solution as the surface of the light guide plate is negatively processed by the laser. It is an environmentally friendly method that does not cause any environmental problems due to use.
그러나, 종래의 레이저 장치는 백라이트 유닛에 적용되는 도광판 패턴 형성 시, 레이저 출력량을 패턴 형성공정 내내 동일하게 적용함으로써 개별 패턴의 깊이 및 형상을 동일하게 일괄적으로 형성함에 반해, 개별패턴의 크기, 개별패턴 간의 X,Y축 간격만을 조절함으로써, Y축 변위를 조절함에 있어서 그 변화량이 큰 곳에는 휘도가 떨어지는 암선이 발생되는 문제점이 있다.However, in the conventional laser apparatus, when the light guide plate pattern applied to the backlight unit is formed, the laser power is applied equally throughout the pattern forming process to form the same depth and shape of the individual patterns in the same batch, whereas the size and the individual patterns of the individual patterns are different. By adjusting only the X- and Y-axis spacing between patterns, there is a problem in that dark lines of low luminance are generated in the place where the amount of change is large in adjusting the Y-axis displacement.
또한, X축 및 Y축 방향으로의 레이저 듀티(duty) 변화량의 조절이 불규칙함에 따라 화면상 줄무늬나 얼룩이 나타나는 모아레 현상이 발생되는 경우도 발생된다.In addition, a moiré phenomenon in which streaks or spots appear on the screen may occur due to irregular adjustment of the laser duty variation amounts in the X- and Y-axis directions.
또한, 레이저 듀티를 조절하는 인자가 X축 간격, Y축 간격, 바(bar)의 사이즈 3개에 불과하여, 휘도 및 패턴 외관의 분포 조정에 있어서 편의성 및 효율성이 떨어지는 문제점을 가지고 있다. In addition, the factor for adjusting the laser duty is only three of the X-axis spacing, the Y-axis spacing, and the size of the bar, which has a problem in that convenience and efficiency are inferior in adjusting the luminance and pattern appearance.
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 그 목적은 백라이트 유닛용 도광판의 레이저 가공시 패턴 라인별로 다른 출력량을 적용하여, 패턴 깊이의 프로파일을 형성함으로써, 기존 패턴의 레이저 가공 시 발생했던 패턴의 암선 형성을 방지하는데 있다.The present invention is to solve the above problems, the object is to apply a different output amount for each pattern line during the laser processing of the light guide plate for the backlight unit, by forming a profile of the pattern depth, the dark line of the pattern generated during the laser processing of the existing pattern To prevent formation.
또한, 본 발명은 도트(dot) 형상의 개별패턴을 형성하고, 각 도트별로 레이저 출력량을 포함하는 레이저 듀티 값를 제어하여, 휘도를 향상시키는데 그 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to form a dot-shaped individual pattern, and to control the laser duty value including the laser output amount for each dot, thereby improving luminance.
또한, 본 발명은 도트 형상의 개별패턴의 형상 및 사이즈 변화를 제어하여, Y축 변위의 변화량을 감소시키고, X축 및 Y축 방향으로의 레이저 출력을 규칙적으로 변화시킴으로써, 암선 발생을 방지하고, 외관불량을 방지하는데 그 목적이 있다.In addition, the present invention is to control the shape and size change of the individual pattern of the dot shape, to reduce the amount of change in the Y-axis displacement, and to regularly change the laser output in the X-axis and Y-axis direction, thereby preventing the occurrence of dark lines, The purpose is to prevent appearance defects.
또한, 본 발명은 종래방식에 의한 레이저 듀티의 조절 인자에 더하여, 레이저 출력량, 그에 따른 도트형상 및 도트의 깊이가 추가됨으로써 더욱 정밀하고 효율적인 휘도 및 패턴 외관의 분포 조정이 가능하도록 하는데 그 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to enable a more precise and efficient distribution of luminance and pattern appearance by adding a laser output amount, a dot shape, and a dot depth in addition to the adjustment factor of the laser duty according to the conventional method. .
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 의한 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판은, 일측에 광원이 설치되고, 상기 광원이 설치된 측을 Y축의 원점으로 하여 X축 및 Y축 평면으로 이루어지며, 일면에 패턴이 형성되고, Y축 좌표에 따라 패턴의 깊이가 변화하도록 형성되며, 타원 형상의 음각의 개별패턴들이 소정 간격으로 이격되어 형성된다.In the light guide plate for a backlight unit having a pattern according to the present invention for solving the above problems, a light source is provided on one side, and the light source plate is formed on the X axis and the Y axis plane with the origin of the Y axis as the origin of the Y axis. Is formed, and the depth of the pattern is changed according to the Y-axis coordinate, and the intaglio intaglio patterns are spaced apart at predetermined intervals.
또한, 상기 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판은, Y축 좌표가 증가함에 따라 상기 음각의 개별 패턴의 폭 또는 너비 중 적어도 어느 하나가 증가하는 것이 휘도 향상 및 외관 불량을 방지하기 위하여 바람직하다.In the light guide plate for the backlight unit on which the pattern is formed, it is preferable that at least one of the width or the width of the respective individual patterns of the intaglio increases as the Y-axis coordinate is increased in order to prevent luminance improvement and appearance defects.
또한, 상기 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판은, 레이저장치에 의하여 패턴이 형성된 것이 효율적인 패턴 형성을 위해 바람직하다.In addition, the light guide plate for the backlight unit having the above pattern is preferably formed with a pattern by a laser device for efficient pattern formation.
아울러, 상기 Y축 좌표에 따라 패턴의 깊이가 변화하도록 형성된 패턴은, 깊이 변화 프로파일이 B-스플라인 보간방법에 의하여 형성되는 것이 부드러운 곡선형태의 패턴 깊이 프로파일을 형성함에 있어서 바람직하다.In addition, the pattern formed to change the depth of the pattern according to the Y-axis coordinates, it is preferable that the depth change profile is formed by the B-spline interpolation method in forming a smooth curved pattern depth profile.
본 발명에 의하면, 백라이트 유닛용 도광판의 레이저 가공시 패턴 라인별로 다른 출력량을 포함한 레이저 듀티 값을 적용하여, 패턴 깊이의 프로파일을 형성함으로써, 기존 패턴의 레이저 가공 시 발생했던 패턴의 암선 형성을 방지할 수 있다.According to the present invention, by forming a profile of the pattern depth by applying a laser duty value including a different output amount for each pattern line during laser processing of the light guide plate for the backlight unit, it is possible to prevent the dark line formation of the pattern generated during laser processing of the existing pattern. Can be.
또한, 본 발명에 의하면 도트(dot) 형상의 개별패턴을 형성하고, 각 도트별로 레이저 듀티 값 및 사이즈 변화를 제어하여, 휘도를 향상시킬 수 있다.Further, according to the present invention, it is possible to form a dot-shaped individual pattern, to control the laser duty value and the size change for each dot, thereby improving luminance.
또한, 본 발명에 의하면 도트 형상의 개별패턴의 형상 및 사이즈 변화를 제 어하여, Y축 변위의 변화량을 감소시키고, X축 및 Y축 방향으로의 레이저 출력을 규칙적으로 변화시킴으로써, 암선 발생을 방지하고, 외관불량을 방지한다.In addition, according to the present invention, by controlling the shape and size change of the individual pattern of the dot shape, the amount of change in the Y-axis displacement is reduced, and the laser output in the X-axis and Y-axis directions is changed regularly to prevent the occurrence of dark lines. And prevent appearance defects.
또한, 본 발명에 의하면, 종래방식에 의한 레이저 듀티의 조절 인자에 더하여, 레이저 출력량, 그에 따른 도트형상 및 도트의 깊이가 추가됨으로써 더욱 정밀하고 효율적인 휘도 및 패턴 외관의 분포 조정이 가능하다.In addition, according to the present invention, in addition to the adjustment factor of the laser duty according to the conventional method, the laser output amount, the dot shape and the depth of the dot are added, thereby enabling more precise and efficient luminance and pattern appearance distribution adjustment.
이하, 도면을 참조하여 본 발명에 의한 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판에 대하여 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, a light guide plate for a backlight unit having a pattern according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 2a는 본 발명에 의한 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판의 단면도이며, 도 2b는 그에 따른 패턴 깊이의 프로파일을 나타낸 그래프이다.2A is a cross-sectional view of a light guide plate for a backlight unit having a pattern according to the present invention, and FIG. 2B is a graph showing a profile of a pattern depth according to the present invention.
도 2a에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판 패턴 형성방법에 의해 제조된 도광판은 광원으로부터 멀어질수록, 즉 Y좌표가 커질수록 형성되는 패턴의 깊이가 증가하는 프로파일을 갖게 함으로써, 광원에서 발생된 빛이 반사되어 동일한 휘도를 갖게 하는 것을 특징으로 한다. 또한, 개별패턴들의 형상은 각각 음각의 타원형상을 나타낸다.As shown in FIG. 2A, the light guide plate manufactured by the light guide plate pattern forming method for a backlight unit having a pattern according to the present invention has a profile in which the depth of the formed pattern increases as the Y coordinate increases. In this case, the light generated from the light source is reflected to have the same luminance. In addition, the shapes of the individual patterns each represent an intaglio elliptical shape.
도 2b에 도시된 바와 같이, 상기 도 2a의 도광판은, 도광판의 Y축 양단에 광원을 설치한 경우에 있어서, 도광판 패턴의 단면을 통해 나타나는 패턴의 깊이(T)의 프로파일(profile, 도 4b에서 'A'로 표시됨.)은 Y좌표가 증가함에 따라 포물선을 그려야 한다. As shown in FIG. 2B, the light guide plate of FIG. 2A has a profile of a depth T of a pattern appearing through a cross section of the light guide plate pattern when a light source is provided at both ends of the Y-axis of the light guide plate. Denoted as 'A') should draw a parabola as the Y coordinate increases.
여기서, 동일한 Y좌표를 갖는 X축의 1개 라인에 형성되는 패턴은 동일한 레이저 듀티와 포커스가 적용되기에, 상기 동일 라인에 형성되는 개별패턴들의 너비, 폭, 개별패턴 간의 X축 간격은 동일하다.Here, since the pattern formed on one line of the X axis having the same Y coordinate is applied with the same laser duty and focus, the width, width, and X-axis spacing between the individual patterns formed on the same line are the same.
상기의 도광판에 형성된 패턴은 각 X축 라인마다 패턴의 깊이를 달리해야 하기 때문에 각 라인마다 균일한 레이저 출력량을 적용시키는 기존의 레이저장치를 이용한 가공방법으로는 제조가 곤란하다. Since the pattern formed on the light guide plate has to vary the depth of the pattern for each X-axis line, it is difficult to manufacture a conventional method using a laser device that applies a uniform laser output amount for each line.
즉, 펄스신호의 단락을 제어하여 개별패턴의 2차원 평면상의 크기를 변화시키는 레이저 듀티 변화와 아울러, 각 라인별로 형성되는 패턴의 깊이를 변화시켜야 하므로, 레이저의 출력량까지 변화시켜야 하며, 이 때문에 한꺼번에 엄청난 량의 데이터를 처리하는 레이저장치 내의 제어시스템이 요구된다. That is, in addition to changing the laser duty to change the size of the individual pattern on the two-dimensional plane by controlling the short circuit of the pulse signal, the depth of the pattern formed for each line must be changed, and thus the output amount of the laser must be changed at once. There is a need for a control system in a laser device that processes a large amount of data.
또한, 상기 포물선 프로파일이 제대로 형성되지 아니할 경우에는 화면의 중앙부에 광원으로부터의 빛이 전달되지 않고 손실되어, 중앙부의 휘도가 주변부에 비해 떨어지는 현상이 발생되기 때문에, 상기 중앙부의 휘도 손실을 방지하기 위해서는 레이저의 출력량을 포함하는 레이저 듀티 값 및 포커스가 각 패턴 라인마다 적절하게 조절되어야 한다.In addition, when the parabolic profile is not properly formed, light is lost from the light source at the center of the screen without being transmitted, and the luminance of the center part is lowered than that of the peripheral part. The laser duty value and focus, including the output of the laser, must be adjusted appropriately for each pattern line.
본 발명에 의한 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판을 제조함에 있어서는 레이저의 출력량을 포함하는 레이저 듀티 값의 조절이 가능한 레이저 장치를 활용할 수 있는데, 바람직하게는 신속하며 효율적인 패턴의 가공을 위하여 하기와 같은 제어시스템을 갖춘 레이저 장치를 활용한다.In manufacturing a light guide plate for a backlight unit having a pattern according to the present invention, a laser device capable of adjusting a laser duty value including an output amount of a laser may be used. Preferably, the following control is performed to process a pattern quickly and efficiently. Utilize a laser device equipped with the system.
도 3은 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명에 의한 백라이트 유닛용 도광판 의 패턴 형성공정에 있어서 사용되는 레이저장치를 도시한 도면이다.3 is a view showing a laser device used in the pattern forming process of the light guide plate for a backlight unit according to the present invention for solving the above problems.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 백라이트 유닛용 도광판 패턴 형성 레이저장치(100)는, 모션부(20) 및 출력부(30)를 제어하는 제어시스템(10)과; 바람직하게는 서보모터 및 서보드라이브로 이루어지며, 동작신호에 의하여 출력부의 움직임을 제어하는 모션부(20), 모션부(20)에 의해 이동되며 출력신호에 의하여 레이저를 출력하여 도광판에 패턴을 형성하는 출력부(30)를 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 3, the light guide plate pattern forming
또한, 본 발명에 의한 제어시스템(10)은, 출력부의 동작 및 레이저의 출력에 대한 프로그램을 실행하는 프로그래밍부(1)와; 프로그래밍부(1)와 연결되어 도광판의 특정 Y좌표 에 대응되는 X축의 각 1개 라인의 패턴 데이터를 전송받아 처리하는 로컬버스(2)와; 로컬버스(2)에서 전송받은 데이터를 이용하여 모션부(20)를 제어하는 모션제어부(3)와; 로컬버스(2)에서 전송받은 데이터를 이용하여 출력부(30)를 제어하는 출력제어부(4)를 포함하여 이루어진다. In addition, the
프로그래밍부(1)는 각종 제어데이터 및 프로그램을 실행하여, 사용자가 설계한 CAD 패턴 데이터를 작업순서에 맞게 정렬하고, 상기 CAD 패턴 데이터를 레이저출력신호인 펄스신호로 변환하는 역할을 수행하며, 컴퓨터의 CPU로 이루어진다.The
모션제어부(3)와 출력제어부(4)는 바람직하게는 PCI버스(peripheral component interconnect bus)로 이루어진 동일한 로컬버스(2) 위에 입출력단자(5)와 함께 탑재되어 실시간 제어되도록 이루어진다. 로컬버스(2)를 PCI버스로 활용하는 것은 PCI버스가 로컬버스(2)로써 상용화되어 있고, CPU의 종류가 다른 경우에도 그에 대응하는 브리지 회로를 갖추기만 하면 어떤 CPU와도 연결될 수 있는 성질, 즉 호환성이 확보되어있기 때문이다.The
상술한 바와 같이, 모션제어부(3)와 출력제어부(4)를 하나의 로컬버스(2)에 탑재하여 제어시스템(10)을 구성하는 경우에는, 앞서 설명한 종래기술의 문제점이었던 출력변화의 제어에 있어서 처리시간 지연을 방지하는 효과가 있다.As described above, when the
즉, 상기 제어시스템(10)의 기술적 특징은, 종래와 같이 별도의 출력변화제어부(5')를 두어, 선순위 X축 1개 라인에 대한 패턴형성작업이 끝나고나서 후순위 X축 1개 라인에 대한 작업을 수행하기 위해 후순위 X축 라인에 대한 레이저 출력량을 포함하는 레이저 듀티 값 및 포커스를 조정하는 출력변화과정을 수행할 경우의 처리시간 지연을 방지하고자, 출력변화제어부(5')를 구성에서 배제하고, 하나의 로컬버스(2)에 모션제어부(3) 및 출력제어부(4)를 모두 탑재하여 출력신호의 변화를 로컬버스(2) 내에서 일괄적으로 처리할 수 있는 제어시스템을 구현한 것이다. That is, the technical feature of the
상기와 같은 구성을 갖는 레이저장치(100)를 이용하여 제조하는 방법에 대하여 설명하기로 한다.A manufacturing method using the
본 발명에 의한 백라이트 유닛용 도광판 패턴 형성방법은 데이터 연산단계(S10)와; 패턴형성단계(S20)를 포함하여 이루어진다.The light guide plate pattern forming method for a backlight unit according to the present invention includes a data operation step (S10); It comprises a pattern forming step (S20).
데이터 연산단계(S10)는 사용자에 의해 설계되어 저장된 패턴 데이터를 프로그래밍부(1)에서 인식하여 불러들여 작업순서에 맞게 정렬하고, 상기 패턴 데이터를 레이저출력신호인 펄스신호로 변환함으로써 수행되며, 본격적인 패턴형성단계(S20)를 수행하기 전의 예비단계이다.The data operation step (S10) is performed by recognizing and recalling the pattern data designed and stored by the user in the
패턴형성단계(S20)는 로컬버스(2)가 상기 펄스신호 중 도광판 내의 특정 Y축 좌표에 대응되는 각 X축 라인에 대한 가공 데이터를 선입선출 방식에 의하여 순차적으로 전송받아 모션제어부(3) 및 출력제어부(4)에 각각 동작신호 및 출력신호를 전송하여 출력부(30)를 이동시키고, 출력부(30)가 레이저 듀티 값 및 포커스를 조절하여 도광판의 상단부부터 하단부까지 순차적으로 패턴을 형성함으로써 수행된다.In the pattern forming step (S20), the
패턴형성단계(S20)는 발진되는 레이저의 듀티 값을 조절하는데 있어서, Y축의 좌표에 따라 레이저 출력량을 변화시킴으로써, 형성되는 패턴의 깊이 및 그 크기가 Y축의 좌표 증가에 따라 깊어지도록 수행된다. In the pattern forming step S20, in adjusting the duty value of the oscillated laser, the laser output amount is changed according to the coordinates of the Y-axis, so that the depth and the size of the pattern to be formed are deepened as the coordinates of the Y-axis are increased.
또한, 종래의 방식과 마찬가지로 형성되는 개별패턴이 X축 및 Y축 길이, X축 및 Y축의 간격을 조절하여 수행되는 것은 물론이다.In addition, of course, the individual patterns formed in the same manner as the conventional method are performed by adjusting the X-axis and the Y-axis length, the X-axis and the Y-axis spacing.
이렇게 형성된 패턴의 깊이 프로파일은 곡선 형태를 이루게 되는데, 상기 곡선 형태를 부드럽게 제어할수록 더욱 정밀한 패턴을 형성할 수 있으며, 정밀한 패턴이 형성됨으로써, 도광판의 패턴에서 산란된 빛이 균일한 휘도를 나타낼 수 있다. 따라서, 상기 패턴의 깊이 프로파일이 부드러운 곡선이 형성되도록 미리 프로그래밍부(1)에서 형성된 패턴의 곡선을 제어하기 위한 곡선 보간방법이 마련되어야 한다.The depth profile of the pattern thus formed forms a curved shape. As the curved shape is smoothly controlled, a more precise pattern can be formed, and a precise pattern is formed, so that light scattered from the pattern of the light guide plate can exhibit uniform luminance. . Therefore, a curve interpolation method for controlling the curve of the pattern formed in the
곡선의 보간 방법은 레이저 듀티 값을 각 라인별로 변화시키도록 제어함으로써 가능하다. The interpolation method of the curve is possible by controlling the laser duty value to be changed for each line.
먼저, 상기 곡선의 보간 방법 중에서 점진적 곡선 보간방법을 적용한 경우에 대하여 살펴보기로 한다. 상기 점진적 변화법은 L1을 출력부(30)의 변화될 첫번째 Y좌표값, L2를 출력부(30)의 변화될 두번째 Y좌표값, La를 L1위치에 변화할 레이저 출력량, Lb를 L2 위치에서 변화할 레이저 출력량, R1을 L1 에서 L2 위치로 이동할 때의 레이저 출력량의 변화율이라 할 때, 상기 레이저 출력량의 변화율은 수학식 R1 = (La-Lb)/(L2-L1)에 의하여 도출되고, A1을 현재의 상기 출력부의 Y축 좌표, S를 적용될 레이저 출력량이라고 할 때, Y축상의 특정값에 대응되는 X축 1개 라인에 적용되는 상기 레이저 출력량은 수학식 S = R1*A1 에 의하여 도출된다.First, a case in which a progressive curve interpolation method is applied among the curve interpolation methods will be described. In the gradual change method, L1 is the first Y-coordinate value to be changed in the
도 4a 및 도5a는 Y축 좌표가 증가함에 따라 점진적 곡선 보간방법에 의하여 각각 레이저 듀티 값 및 포커스(경통 증가값)가 변화하는 결과를 나타낸 그래프이다. 4A and 5A are graphs showing the results of changing the laser duty value and the focus (barrel increase value) by the gradual curve interpolation method as the Y-axis coordinates increase.
도 4a 및 도 5a에 도시된 바와 같이, 상기 점진적 곡선 보간방법을 적용하면, 곡선의 형태가 부드럽게 연결되지 않기 때문에, 패턴이 형성되었을 때 패턴상에 경계선 혹은 줄무늬 등이 형성될 우려가 있다. 따라서, 이를 방지하기 위하여 곡선의 형태를 더욱 부드럽게 연결되도록 제어해야 할 필요가 있다. As shown in FIGS. 4A and 5A, when the gradual curve interpolation method is applied, since the shape of the curve is not smoothly connected, there is a possibility that a boundary line or a stripe or the like is formed on the pattern when the pattern is formed. Therefore, in order to prevent this, it is necessary to control the shape of the curve to be connected more smoothly.
따라서, 본 발명에서는 상기 곡선 보간방법으로써 B-스플라인(B-spline) 보간방법을 사용하고자 한다.Therefore, the present invention intends to use the B-spline interpolation method as the curve interpolation method.
상기 B-스플라인 곡선 보간방법은 곡선상의 다수의 제어점 Po, P1, P2....Pn에 대한 좌표치, 즉 패턴의 각 라인에 대한 레이저 듀티 값을 지정하여 두면, 출력제어부(4)에서 각 라인의 패턴 형성 작업 수행 시에 상기 레이저 듀티 값을 지령함으로써, 결과적으로 Po, P1, P2....Pn를 잇는 곡선이 부드럽게 형성되도록 보정하기 위하여 적용된다.In the B-spline curve interpolation method, if the coordinate values of a plurality of control points Po, P 1 , P 2 .... Pn on the curve, that is, the laser duty value for each line of the pattern are specified, the
상기 B-스플라인 보간방법에 적용되는 수학식은 일반적인 B-스플라인 곡선에 적용되는 공식으로써, (n+1)개의 제어점에서의 각각의 k번째 위치벡터 Pk을 근사시키는 B-스플라인 곡선은 (d-1)차 다항식에서, d는 2≤d≤n+1 범위 내에서 임의로 선택되는 정수라고 할 때,The equation applied to the B-spline interpolation method is a formula applied to a general B-spline curve, and a B-spline curve approximating each k-th position vector P k at (n + 1) control points is (d- 1) In the order polynomial, d is an integer arbitrarily selected within the
로써 표현되며, u는 소정의 범위 umin≤u≤umax에서 정의되는 파라미터이며, Nk,d(u)는 스플라인 기저함수이고, 아래와 같은 점화식 형태의 수학식으로 표현된다.U is a parameter defined in a predetermined range u min ≤ u ≤ u max , and N k, d (u) is a spline basis function, and is expressed by an equation of an ignition type as follows.
여기서, uk는 매듭(knot) 이고, u0, u2... um은, m=n+d에서, n+d+1개 구간 내의 매듭들이며, 이러한 매듭들의 집합이 매듭백터(knot vector)를 형성한다.Where u k is a knot, u 0 , u 2 ... u m are knots in n + d + 1 intervals at m = n + d, and the set of knots is knot form a vector).
상기 스플라인 기저함수 Nk ,d(u)는 k번째부터 k+d번째 구간 내의 제어점 사이 d개 구간에서 정의되며, 상기 d개 구간에 한하여 영향을 주는 곡선의 국부제어가 가능한 함수이다.The spline basis function N k , d (u) is defined in d intervals between control points in the kth to k + dth intervals, and is a function capable of local control of a curve affecting only the d intervals.
만약 매듭백터의 형성이 비균일(non-uniform)하게 형성되는 경우에는 아래의 NURBS(Non-Uniform Rational B-Spline: 비균일 유리화 B-스플라인)으로 정의되는 수학식을 이용한 보간방법을 활용할 수 있다. If the formation of the knot vector is non-uniform, an interpolation method using an equation defined by NURBS (Non-Uniform Rational B-Spline) can be used. .
즉, n+1개의 제어점이 주어질 때,That is, when n + 1 control points are given,
로 표현되는 수학식이다. 여기서, ωk는 k번째 제어점의 가중치로 정의되며, 상기 가중치와 스플라인 기저함수에 따라 곡선의 형태가 변화된다.It is expressed as Here, ω k is defined as the weight of the k-th control point, and the shape of the curve changes according to the weight and the spline basis function.
상기 수학식들을 적용한 B-스플라인 곡선 보간방법을 이용하여 레이저 듀티 값 및 포커스를 제어한 결과는 각각 도 4b 및 도 5b에 도시된 바와 같다. The results of controlling the laser duty value and the focus by using the B-spline curve interpolation method applying the above equations are as shown in FIGS. 4B and 5B, respectively.
도 4b 및 도 5b의 노란색 실선으로 도시된 바와 같이, 상기 B-스플라인 곡선보간방법을 활용하면, 각 제어점을 연결하는 곡선에 단차가 형성되지 아니하여 부드러운 패턴의 프로파일을 형성할 수 있고, 이로써 패턴 상에 경계선이 형성되지 아니하도록 정밀한 제어를 수행할 수 있다.As shown by the solid yellow lines of FIGS. 4B and 5B, when the B-spline curve interpolation method is used, a profile of a soft pattern may be formed without forming a step in a curve connecting each control point, thereby forming a pattern. Precise control can be performed so that no boundary is formed on the phase.
상기 패턴형성 방법에 의하여 패턴이 형성된 본 발명에 의한 백라이트 유닛용 도광판에 대해서는 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 통하여 살펴보기로 한다.The light guide plate for a backlight unit according to the present invention having a pattern formed by the pattern forming method will be described through preferred embodiments and comparative examples of the present invention.
우선, 상기 패턴 형성방법에 의해 형성된 패턴의 형상 및 배열, 개별패턴의 크기를 살펴보기 위하여, 도 6에 도시된 바와 같이, 일측에 광원이 설치된 백라이트 유닛(모델명 LTN154BT02)용 도광판의 광원에서 가장 가까운 입광부 10mm 부분과, 중앙부, 광원에서 가장 먼 반입광부 10mm 부분의 패턴의 X축 및 Y축 길이, 배열 형태, 개별패턴의 형상을 측정하였다.First, in order to examine the shape and arrangement of patterns formed by the pattern forming method and the size of individual patterns, as shown in FIG. 6, the light source of the light guide plate for the backlight unit (model name LTN154BT02) having a light source installed on one side is closest to the light source. The X-axis and Y-axis length, the arrangement form, and the shape of the individual pattern of the 10 mm portion of the light incident portion, the center portion, and the 10 mm portion of the incident light portion farthest from the light source were measured.
상기 측정 결과는 <표 1>에 나타난 바와 같다.The measurement results are as shown in Table 1.
<표 1>에서 나타난 바와 같이, 형성된 개별 패턴의 형상은 X축 방향으로 장축을 갖는 타원형상이며, 그 배열은 입광부의 X축 및 Y축의 피치(pitch)가 747㎛, 중앙부에서 554㎛, 반입광부에서 414㎛로서, 입광부에서 반입광부로 갈수록 그 간격이 조밀해 지는 것을 알 수 있다.As shown in Table 1, the shape of the formed individual pattern is an elliptical shape having a long axis in the X-axis direction, the arrangement of which the pitch of the X-axis and Y-axis of the light incident portion is 747 탆, 554 탆 at the central portion, It can be seen that the spacing becomes 414 µm in the incident light portion, and the gap becomes denser from the incident light portion to the incoming light portion.
또한, 형성된 개별패턴의 크기를 살펴보면, 각각 X축 길이는 입광부에서 170㎛, 반입광부에서 236㎛으로, Y축의 길이는 입광부에서 72㎛, 반입광부에서 112㎛으로, 패턴의 깊이는 입광부에서 12㎛, 반입광부에서 47㎛으로 커지는 것을 알 수 있다.In addition, looking at the size of the formed individual pattern, the X-axis length is 170㎛ in the incident light, 236㎛ in the incident light, respectively, the length of the Y-axis is 72㎛ in the incident light, 112㎛ in the incident light, the depth of the pattern It can be seen that the size increases to 12 µm in the miner and 47 µm in the incident light section.
다음으로, 패턴의 밀도의 변화 곡선을 나타낸 그래프인 도 7를 참조하여 이를 살펴보기로 한다. 도 7a는 비교예로서, 종래의 패턴 형성방식에 의해 형성된 패턴의 Y축 좌표 변화에 따른 X축 라인의 패턴 밀도를 나타낸 그래프이며, 도 7b는 본 발명의 일실시예에 의한 패턴 형성 방식에 의해 형성된 패턴의 Y축 좌표 변화에 따른 X축 라인의 패턴 밀도를 나타낸 그래프이다.Next, this will be described with reference to FIG. 7, which is a graph showing a change curve of the density of the pattern. Figure 7a is a comparative example, a graph showing the pattern density of the X-axis line according to the change in the Y-axis coordinate of the pattern formed by the conventional pattern formation method, Figure 7b is a pattern formation method according to an embodiment of the present invention It is a graph which shows the pattern density of the X-axis line with the change of the Y-axis coordinate of the formed pattern.
상기 도 7a 및 도 7b에서, 그래프의 가로축은 도광판 패턴의 Y축방향으로의 좌표를 가리키며, 그래프의 세로축은 각 라인에 대한 밀도를 나타낸다.7A and 7B, the horizontal axis of the graph indicates coordinates in the Y-axis direction of the light guide plate pattern, and the vertical axis of the graph indicates density for each line.
도 7a에 나타난 바와 같이, 종래의 패턴 형성방식에 의해 패턴을 형성한 경우의 에는 휘도를 조절하기 위하여 개별 패턴의 2차원 상의 사이즈, 개별 패턴들 간의 X축간격 및 Y축 간격의 3가지 인자만 조절이 가능하기 때문에, 일정한 휘도 발생을 위하여 불규칙한 패턴밀도를 보일 수 밖에 없고, 패턴밀도의 변화량이 급격한 라인에서는 모아레 발생 또는 암선 형성의 가능성이 있다.As shown in FIG. 7A, in the case of forming a pattern by a conventional pattern forming method, only three factors, the size of the two-dimensional image of the individual patterns, the X-axis spacing and the Y-axis spacing between the individual patterns, are used to control the luminance. Since adjustment is possible, there is no choice but to show an irregular pattern density for generating a constant luminance, and there is a possibility of moiré generation or dark line formation in a line with a rapid change in pattern density.
그러나, 도 7b에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 패턴 형성방식을 적용하여 형성된 도광판의 패턴밀도는 Y축 좌표의 증가에 따라 일정한 기울기를 가지며 증가하는 것을 볼 수 있다. 즉, 패턴의 밀도 변화를 완만하게 하여 원하는 휘도분포를 얻을 수 있게 된다. However, as shown in Figure 7b, it can be seen that the pattern density of the light guide plate formed by applying the pattern formation method according to the present invention increases with a constant slope as the Y-axis coordinates increase. In other words, it is possible to obtain a desired luminance distribution by smoothing the density change of the pattern.
상기 현상이 나타나는 이유는, 본 발명에 의한 패턴 형성방식을 적용한 경우에 레이저 출력량을 포함하는 레이저 듀티 값을 라인별로 조정할 수 있고, 그에 따라, 휘도조절을 위해 개별 패턴의 2차원 상의 사이즈, 개별 패턴들 간의 X축간격 및 Y축 간격의 3가지 인자 외에도 개별 패턴의 깊이, 개별패턴의 형상이 조절 가능하기 때문이다. The reason for the above phenomenon is that, when the pattern formation method according to the present invention is applied, the laser duty value including the laser output amount can be adjusted for each line, and accordingly, the two-dimensional image size and the individual pattern of the individual pattern for brightness control This is because the depth of individual patterns and the shape of individual patterns can be adjusted in addition to the three factors of the X-axis spacing and the Y-axis spacing therebetween.
도 8은 본 발명의 실시예 및 비교예에 의한 백라이트 유닛용 도광판의 패턴의 전체적 형상을 나타낸 CAD 도면이다. 도 8a는 비교예로서 종래의 패턴형성 방식에 의해 형성된 패턴의 CAD 도면이며, 도 8b는 본 발명의 일실시예에 의한 패턴형성 방식에 의해 형성된 패턴의 CAD 도면이다.8 is a CAD diagram showing the overall shape of a pattern of a light guide plate for a backlight unit according to an embodiment of the present invention and a comparative example. 8A is a CAD drawing of a pattern formed by a conventional pattern forming method as a comparative example, and FIG. 8B is a CAD drawing of a pattern formed by a pattern forming method according to an embodiment of the present invention.
도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이, 종래의 방식에 의하여 패턴을 형성한 경우에 비하여, 본 발명에 의하여 패턴을 형성한 도광판의 패턴은 X축 및 Y축 간격변화량에 의하여 휘도의 급격한 변화가 없음을 알 수 있고, 특히, 도 8a의 하단부에는 줄무늬가 형성되는 것을 발견할 수 있으나, 본 발명에서는 도 8b에 도시된 바와 같이, 그러한 현상이 나타나지 않는다. As shown in FIG. 8A and FIG. 8B, the pattern of the light guide plate in which the pattern is formed according to the present invention has a sharp change in luminance due to the X-axis and Y-axis spacing variations as compared with the case in which the pattern is formed by the conventional method. It can be seen that there is no, and in particular, it can be found that stripes are formed in the lower end of Figure 8a, but in the present invention, as shown in Figure 8b, such a phenomenon does not appear.
마지막으로 본 발명에 의한 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판의 광측정 평가에 대하여 살펴보기로 한다.Finally, the optical measurement evaluation of the light guide plate for a backlight unit having a pattern according to the present invention will be described.
측정온도는 23℃, 측정습도는 55%의 암실, 무풍 분위기에서 측정하였으며, 측정기기는 TOPCON BM-7 fast를 사용하여 측정거리 500mm, 2°필드로 하여 도광판에 30분간 열처리 후 측정하였다. 측정포인트는 패턴 상의 9점을 추출하는 9점 측정방식과 25점을 추출하는 25점 측정방식에 의하여 추출하였다. 상기 25점 측정방식에 의한 입광부의 측정 포인트는 도 9에 도시된 바와 같다.The measurement temperature was measured at 23 ° C., humidity at 55% in a dark room, and in a windless atmosphere. The measuring instrument was measured after heat treatment on a light guide plate for 30 minutes using a TOPCON BM-7 fast at a distance of 500 mm and a 2 ° field. The measurement points were extracted by a 9-point measurement method that extracts 9 points on the pattern and a 25-point measurement method that extracts 25 points. Measurement points of the light incident part by the 25-point measurement method are as shown in FIG. 9.
도 10은 본 발명의 실시예 및 비교예에 의한 25점 측정방식에 의한 광측정 결과를 나타낸 도면이며, 도 11은 본 발명의 실시예 및 비교예에 의한 25점 측정방식에 의한 광측정 결과를 나타낸 도면이다. 10 is a view showing the optical measurement results according to the 25 point measurement method according to the embodiment and comparative example of the present invention, Figure 11 is a photo measurement result by the 25 point measurement method according to the embodiment and the comparative example of the present invention. The figure shown.
도 10에 도시된 25점 측정 방식의 평균치를 아래의 <표 2>에 나타내었다.The average value of the 25 point measurement method shown in FIG. 10 is shown in Table 2 below.
[표 2] 휘도단위: Cd/m2 [Table 2] Luminance Unit: Cd / m 2
도 10, 도 11 및 상기 <표 2>에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의하여 형성된 패턴을 갖는 도광판은 그 휘도가 종래 방식에 의해 형성된 패턴을 갖는 도광판에 비하여 약 114% 향상된 것을 알 수 있다. As shown in FIGS. 10, 11 and Table 2, it can be seen that the light guide plate having the pattern formed by the present invention is about 114% improved in brightness compared to the light guide plate having the pattern formed by the conventional method.
이상, 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 상세하게 설명하였다. 그러나 본 발명의 권리범위는 상기 실시예에 한정되는 것이 아니라, 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 가능한 다양한 변형 가능 범위까지 본 발명의 청구범위의 권리범위 내에 있는 것으로 본다. It has been described in detail above with reference to preferred embodiments of the present invention. However, the scope of the present invention is not limited to the above embodiments, but may be embodied in various forms of embodiments within the appended claims. Without departing from the gist of the invention as claimed in the claims, any person skilled in the art to which the invention pertains is considered to be within the scope of the claims of the invention to the various possible modifications possible.
도 1은 종래의 레이저 패턴형성방식에 의해 형성된 도광판의 패턴 형상1 is a pattern shape of a light guide plate formed by a conventional laser pattern forming method
도 2a는 본 발명에 의한 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판의 단면도2A is a cross-sectional view of a light guide plate for a backlight unit having a pattern according to the present invention;
도 2b는 본 발명에 의한 패턴이 형성된 백라이트 유닛용 도광판의 패턴 깊이의 프로파일을 나타낸 그래프Figure 2b is a graph showing the profile of the pattern depth of the light guide plate for a backlight unit with a pattern according to the present invention
도 3은 본 발명에 의한 백라이트 유닛용 도광판의 패턴 형성공정에 있어서 사용되는 레이저장치3 is a laser apparatus used in the pattern formation process of the light guide plate for backlight units by this invention.
도 4a는 Y축 좌표가 증가함에 따라 점진적 곡선 보간방법에 의하여 레이저 듀티 값을 변화시킨 결과를 나타낸 그래프Figure 4a is a graph showing the result of changing the laser duty value by the gradual curve interpolation method as the Y-axis coordinates increase
도 4b는 Y축 좌표가 증가함에 따라 B-스플라인(B-Spline) 곡선 보간방법에 의하여 레이저 듀티 값을 변화시킨 결과를 나타낸 그래프4B is a graph showing the result of changing the laser duty value by the B-spline curve interpolation method as the Y-axis coordinates increase.
도 5a는 Y축 좌표가 증가함에 따라 점진적 곡선 보간방법에 의하여 레이저 포커스 값을 변화시킨 결과를 나타낸 그래프5A is a graph illustrating a result of changing a laser focus value by a gradual curve interpolation method as the Y-axis coordinates increase
도 5b는 Y축 좌표가 증가함에 따라 B-스플라인(B-Spline) 곡선 보간방법에 의하여 레이저 듀티 값을 변화시킨 결과를 나타낸 그래프5B is a graph showing the result of changing the laser duty value by the B-spline curve interpolation method as the Y-axis coordinates increase.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 백라이트 유닛용 도광판의 측정부분을 나타낸 도면6 is a view showing a measurement portion of the light guide plate for a backlight unit according to an embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 실시예 및 비교예에 의한 백라이트 유닛용 도광판의 패턴의 밀도의 변화 곡선을 나타낸 그래프7 is a graph showing a change curve of a pattern of a light guide plate for a backlight unit according to an embodiment and a comparative example of the present invention;
도 8은 본 발명의 실시예 및 비교예에 의한 백라이트 유닛용 도광판의 패턴 의 전체적 형상을 나타낸 CAD 도면8 is a CAD drawing showing the overall shape of a pattern of a light guide plate for a backlight unit according to an embodiment of the present invention and a comparative example;
도 9는 본 발명의 실시예 및 비교예에 의한 입광부의 측정포인트를 나타낸 도면9 is a view showing a measuring point of the light incident part according to the embodiment and the comparative example of the present invention
도 10은 본 발명의 실시예 및 비교예에 의한 25점 측정방식에 의한 광측정 결과를 나타낸 도면10 is a view showing the optical measurement results by the 25-point measurement method according to the Examples and Comparative Examples of the present invention
도 11은 본 발명의 실시예 및 비교예에 의한 9점 측정방식에 의한 광측정 결과를 나타낸 도면11 is a view showing a light measurement result by the nine-point measurement method according to the embodiment and comparative example of the present invention
<도면의 주요 부분 부호에 대한 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>
1: 프로그래밍부 2: 로컬버스1: programming unit 2: local bus
3: 모션제어부 4: 출력제어부3: motion controller 4: output controller
5: 입출력단자 10: 제어시스템5: input / output terminal 10: control system
20: 모션부 30: 출력부 20: motion unit 30: output unit
100: 레이저장치100: laser device
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