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KR100825146B1 - 산성 중합체와 물리적 흡착 매체를 사용하는 필터 - Google Patents

산성 중합체와 물리적 흡착 매체를 사용하는 필터 Download PDF

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KR100825146B1
KR100825146B1 KR1020027014794A KR20027014794A KR100825146B1 KR 100825146 B1 KR100825146 B1 KR 100825146B1 KR 1020027014794 A KR1020027014794 A KR 1020027014794A KR 20027014794 A KR20027014794 A KR 20027014794A KR 100825146 B1 KR100825146 B1 KR 100825146B1
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KR
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KR1020027014794A
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올레그 피. 키쉬코비치
드봉 킨키드
아나톨리 그레이퍼
윌리엄 엠. 굿윈
데이비드 루에드
Original Assignee
엔테그리스, 아이엔씨.
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Publication date
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Abstract

본 발명에 따른 필터는 적어도 두 개의 상이한 흡착 매체를 포함한다. 첫 번째는, 화학적 흡착 매체는 다공성이며 산성 작용기를 포함하여 오염되지 않은 좋은 질의 기상 환경이 필요한 반도체 제조 및 기타 공정에서 사용되는 대기로부터 암모니아, 유기성 아민, 이미드 및 아미노 알콜을 포함한 염기 분자를 제거하는데 사용된다. 두 번째는, 물리적 흡착 매체는 응축성 오염물을 흡착 가능하며, 특히 이들의 끓는점은 150℃보다 높다. 물리적 흡착 매체는 비처리 활성 탄소를 포함할 수 있다.
필터, 흡착 매체, 산성 작용기, 화학적 흡착 매체, 물리적 흡착 매체, 활성 탄소

Description

산성 중합체와 물리적 흡착 매체를 사용하는 필터{FILTERS EMPLOYING BOTH ACIDIC POLYMERS AND PHYSICAL-ADSORPTION MEDIA}
본 출원은 2000년 5월 5일자 출원된 미국 가출원 제60/201,928호 및 2000년 8월 15일자 출원된 미국 가출원 제60/225,248호의 우선권을 주장한다. 상기의 출원들의 전체적인 교시는 참조에 의해 본 명세서에 합체된다.
공기 오염이 증가되는 시대에, 우리가 호흡하는 공기로부터 화학 약품을 제거하는 것은 모두에게 중요한 문제이다. 또한, 반도체와 같은 전자 재료와 장치의 제조에는 오염되지 않은 질 좋은 공기가 필요하다. 공기로부터 오염물을 여과하기 위하여, 통상적으로 다양한 방식으로 제조된 활성 탄소를 이용하는 기상 여과법이 일반적으로 사용된다. 한 가지 방식은 탄소/점착제 슬러리(carbon/adhesive slurry)를 이용하여 탄소를 기판에 접착시키는 것이다. 점착제는 그 표면에 막을 형성함으로써 탄소 성능을 저하시킨다. 다른 방식으로는, 유기계 웨브가 탄소를 활성화시킨 후에 가열됨으로써 탄화되는 것이다. 이러한 방식으로 생산된 필터는 고가이며 상대적으로 낮은 흡수 용량을 갖는다. 또 다른 방식에서는, 탄소 가루 및 섬유의 슬러리가 처리 상사성(process analogous)에 의해 시트에 형성되어 습식 제지 처리(wet papermaking process)되도록 한다. 이러한 재료는 중고가이며, 원치않는 높은 압력 강하가 일어난다. 더욱이, 낮은 분자량 재료를 화학 흡착시키는데 사용되는, 화학적으로 포화된 탄소 입자들은 수성 공정(aqueous process)과 연관되어서는 효과적으로 사용되지 못하고, 수성 공정의 성질은 탄소를 포화시키도록 사용된 화학 제품을 씻어내거나, 또는 원치않는 포화 또는 활성화된 화합물과 반응하는 성질을 가지기 때문에 효력이 없게 된다. 그러나, 일반적으로 화학적으로 활성화 그룹에 병합되지 않는 필터 재료는 화학적으로 활성화된 그룹을 포함한 필터 재료와 비교하여, 암모니아와 같은 다소 중요한 낮은 분자량 요소에 대하여 덜 효과적으로 수행된다.
상기한 필터는 본 산업분야에 사용되어졌고, 이들은 원하는 목적을 위해 적절하게 실행될 것으로 예견된다. 그러나, 이러한 필터는 결점이 있다. 특히, 전술한 종래 기술에서는 세척성, 가격 효율성, 고효율성, 낮은 압력 강하 및 흡착 합성물을 소정의 특성을 달성하기 위한 접근이 없었다.
본 발명은 이러한 결점들을 극복하는 필터를 제공하는 것이다. 특히, 본 발명의 일 태양에서, 유체 투과성 필터는 유체, 특히 가스가 유동하여 통과할 수 있는 도관을 포함한다. 도관 내측에는 도관을 통과하는 유체 내의 염기 오염물을 화학적으로 흡착하기 위한 산성 작용기를 갖는 공중합체를 포함하는 화학적 흡착 매체가 있다. 또한, 도관 내측에는 도관을 통과하는 유체로부터 응축성 오염물을 물리적으로 흡착하기 위한 물리적 흡착 매체가 있다. 화학적 흡착 매체와 물리적 흡착 매체는 바람직하게는 분리된 필터 부재이지만, 두 매체 형태는 선택적으로 단일하게 분리되지 않은 필터 몸체를 형성하도록 혼합될 수 있다.
바람직하게는, 필터는 세척성, 가격 효율성, 고효율성 및 낮은 압력 강하성을 가지며, 비처리 또는 천연 활성 탄소와 조합되는 큰 표면적, 높은 산성, 화학적으로 산성인 흡착제를 포함하는 기상 필터이다. 본 발명의 일 실시예는 공기중 염기와 결합하는 산성 작용기를 갖는 부직포 합성 재료를 사용한다. 비처리 활성 탄소는 유기성 및 무기성 응축 오염물을 흡착하며, 통상적으로 이들은 150℃보다 높은 끓는점을 갖는다. 본 발명은 염기 분자(예컨대, 암모니아와 n-메틸 피로리디드논)와, 응축성 유기성 및 무기성 오염물(예컨대, 요오드 벤젠과 실록산)과 같은, 반도체 웨이퍼 처리 장비를 통하는 순환 공기에 존재하는 불순물에 민감성인 재료를 사용하는 리소그래피 시스템에 사용될 수 있다. 암모니아, NMP, 트리에틸아민 피리딘(triethylamine pyridine) 등을 포함한 다량의 염기가 본 발명으로 여과된 기구 클러스터 내에서 2ppb 이하의 농도로 유지될 수 있다. 산성 흡착제는 예를 들어, 활성 산성 흡착제를 가열하여 커버 시트로 캘린더 가공되는 부직포 캐리어 재료에 건조 적용시킴으로써 형성될 수 있다.
부직포 캐리어 재료는 폴리에스테르 부직포일 수 있으며, 산성 흡착제는 술폰화 디비닐 벤젠 스티렌 공중합체(sulfonated divinyl benzene styrene copolymer)를 포함할 수 있다. 일 실시예는 카르복실 작용기(carboxylic functional groups)를 사용한다. 산성기는 공중합체 산성도의 수준이 적어도 1 밀리당량/그램(1 milliequivalents/gram)이거나 그보다 높고, 바람직하게는 공중합체가 적어도 4 밀리당량/그램이거나 그보다 높다. 사용된 중합체는 다공성이며 기공의 크기는 50-400 옹스트롬의 범위이며 표면적은 20㎡/g 이상이다.
부직포 폴리에스테르 탄솜(batting)의 건조 공정은 산성 흡착제입자를 폴리에스테르 탄솜의 깊이 전반에 걸쳐 균등하게 분포시키게 한다. 이는 매우 낮은 압력 강하에서 증가된 베드 깊이를 제공하고, 이는 2중의 베드 깊이가 얇은 섬유 기저 술폰화 베드를 사용할 때에 4중으로 필터의 돌파 시간(감퇴 시간)을 증가시키게 하기 때문에 매우 바람직하다.
활성 탄소는 발명의 명칭이 "부직포 필터 합성물(Non-Woven Filter Composite)"인 미국 특허 제5,582,865호에서 더 상세히 설명되어 있다. 필터는 두 개 또는 그 이상의 층과, 활성 탄소 중 하나와 술폰화 디비닐 벤젠 스티렌 공중합체 비드(beads) 중 하나를 가질 수 있다. 또한, 두 개 또는 그 이상의 재료가 합성 필터를 제공하도록 혼합될 수 있다.
따라서, 세척성, 가격 효율성, 고효율성 및 낮은 압력 강화성을 갖는 흡착성 합성 필터가 제공되며, 이러한 합성 필터를 형성하는 방법이 제공된다. 합성 필터는 공기 스트림 내에서 염기, 유기성 및 무기성 응축 오염물(통상적으로 150℃보다 큰 끓는점을 가짐)을 제거하는데 특히 유용하다. 입자들은 필터의 기공 크기가 더 큰 경우에 제거될 수 있다. 필터는 압력 강하로서 몇달 간의 유효 수명을 가질 수 있어 전력 소비를 감소시키도록 하며 시스템 작동에의 충돌을 최소화한다. 예를 들어, 높은 압력 강하 필터는 필터를 교체한 후 온도와 습도의 평형을 유지하도록 리소그래피 시스템에 대하여 긴 시간이 필요할 수 있다. 화학적으로 처리된 활성 탄소 필터와 비교하여, 본 발명의 조합 필터는 화학적으로 처리된 활성 탄소보다 비처리 활성 탄소의 우수한 흡착 특성에 기인하여 우수한 흡착 성능을 제공한다. 여기에 설명된 방법에 따라 비처리 활성 탄소의 사용은 유기성 및 무기성 응축 오염물에 대하여 우수한 침투 성능을 제공할 수 있는데, 이는 염기 분자를 포획하기 위하여 활성 탄소상에 적절히 수행되는 화학적 처리가 유기성 및 무기성 응축 오염물을 흡착하기 위한 용량을 훼손하기 때문이며, 통상적으로 이들 끓는점들은 150℃보다 크다.
다른 실시에에서, 참조에 의해 본 명세서에 전체 내용이 합체된, 미국 특허 제5,834,114호에 설명된 것과 같은 합성 탄소 재료는 본 발명에 따른 다공성 산성 필터 부재를 제공하도록 본 발명의 산성 재료로 피복될 수 있다. 또 다른 실시예에서, 참조에 의해 본 명세서에 전체 내용이 합체된, 미국 특허 제6,033,573호에 설명된 활성화된 너트 껍질 탄소 매체가 단독으로 사용될 수 있거나 또는 임의의 다른 화학적 흡착 매체 또는 물리적 흡착 매체와 조합되어 사용될 수 있어 본 명세서의 교시에 따른 방식으로 도관을 통과하여 유동하는 공기로부터 오염물을 제거하도록 한다.
공기 중에서 염기 오염물을 탐지함으로써 필터가 교체될 필요가 있을 때를 결정하는 탐지 시스템 및 방법은, 올레그 키시코비치(Oleg Kishkovich) 등에 의해 "가스 샘플 내의 염기 오염물의 탐지(Detection of Base Contaminants in Gas Samples)"라는 제목 하에 1999년 1월 14일에 출원된 미국 출원 제09/232,199호에 설명되었다. 또한, 올레그 키시코비치 등에 의해 "염기 오염물의 탐지(Detecting of Base Contaminants)"라는 제목 하에 1997년 2월 28일에 출원된 미국 출원 제08/795,949호, 및 올레그 키시코비치 등에 의해 "반도체 제조의 보호 및 유사한 민감 공정(Protection of Semiconductor Fabrication and Similar Sensitive Processes)"라는 제목 하에 1997년 12월 23일에 출원된 미국 출원 제08/996,790호는 본 발명에 사용될 수 있다. 이들 특허 출원들은 공기 중의 아민에 민감한 화학적 증폭 포토레지스트를 이용하여 DUV 리소그래피 처리의 보호를 개시한다. 이들 특허 출원들은 참조에 의해 전적으로 본 출원에 합체된다.
큰 표면적과 원하는 유동 특성을 갖는 필터 부재를 제조하는 하나의 방법은 다른 쪽 상부에서 하나의 연속된 층에 놓여지는 분말성 재료를 이용하는 것을 포함한다. 분말성 재료를 각 층에 증착한 후에, 3차원 필터 부재를 형성하는 컴퓨터 모델에 따른 프린팅 기술을 이용하여 결합제 재료가 분말성 재료의 층 각각에 전달된다. 이후에 필요한 분말 층과 결합제 재료 모두를 연속 도포시켜 해당하는 일부가 형성되도록 하고, 매여있지 않은 분말은 적절히 제거되어 원하는 3차원 필터 부재로 구성한다. 이러한 기술은 매우 높은 정도의 분해능(resolution)으로 형성된 큰 표면적을 갖는 복잡 단일체 또는 합성 필터 부재의 제조를 위해 제공된다.
다른 장치에서, 물리적 흡착 및 화학적 흡착 필터 부재는 포토리소그래피 기구(photolithography tool)를 통하는 공기를 순환하기 위한 순환 루프 내에 위치된다. 이러한 두 매체들은 상이한 위치에 각각 위치되므로, 물리적 흡착 매체는 화학적 흡착 매체가 유지되는 곳보다 더 찬 온도가 되게 유지된다.
물리적 흡착 매체는 화학적 흡착 매체로부터 상류(즉, 화학적 흡착 매체와 포토리소그래피 기구의 유출구 사이)에 위치될 수 있고, 기구의 공기 조화 유닛 내의 냉각 코일의 하류측에 근접하여 위치될 수 있다. 이와는 달리, 물리적 흡착 매체는 냉각수원과 같은 분리형 냉각 부재와 연결될 수 있다. 두 가지 경우에서, 물리적 흡착 매체를 통과하는 공기는 냉각될 수 있으며, 물리적 흡착 매체를 빠져나온 이후에, 일정 온도로 재가열되며 포토리소그래피 기구로 재유입되기 전에 화학적 흡착 매체를 통과한다. 온도 센서는 상이한 매체의 온도를 모니터하도록 사용될 수 있으며, 또한 시스템의 폐루프 제어용 제어기에 피드백 신호를 제공한다. 물리적 흡착 필터 부재는 흡착과, 재생 및 조화(conditioning)의 활성을 위하여 분리된 챔버를 갖춘 회전식 휠 내에 포함될 수 있다. 이러한 실시예들의 몇 가지 장점은 낮은 분자량 응축 오염물의 제거 강화와, 시스템의 전체적인 풋프린트의 감소와, 여과 성분의 압력 강하 작용의 감소와, 교환 및 서비스의 시간을 상당히 증가시킨다는 것이다. 또한, 낮은 분자량 유기성 오염물은 수동식 흡착 베드로서 달성가능한 것보다 여기에 설명된 온도 스윙 베드로서 보다 효과적으로 제거될 수 있다.
본 발명의 다른 태양에서, 필터 유닛은 다수의 필터 부재를 포함한다. 필터 부재는 화학적 흡착 매체와 물리적 흡착 매체로 만들어진다. 또한, 필터 유닛은 필터 부재의 성능을 모니터하는 모니터 장치와 연결하기 위하여 필터 부재 내측의 다수의 샘플링 포트를 포함한다. 샘플링 포트는 필터 부재 근처 사이에서 위치되는 개별적인 샘플링 포트의 방식으로 정렬된다. 다수의 필터 부재의 상류측에 샘플링 포트가 위치될 수 있고, 다른 샘플링 포트는 필터 부재의 하류측에 위치될 수 있다.
몇몇 실시예에서, 모니터 장치는 예컨대, 가스 크로마토그래피 질량 선별 탐지기(Gas Chromatograph Mass Selective Detector), 이온 이동도 분광계(ion mobility spectrometers), 표면 탄성파 탐지기(surface acoustic wave detector), 원자 흡수 탐지기(atomic absorption detector), 인덕턴스 결합 플라즈마 탐지기(inductance couple plasma detector) 및 퓨리에 변환 방법을 포함한 분석용 장치이다. 이와는 달리, 모니터 장치는 농축기일 수 있으며, 이는 펌프로서 농축기로 이끌어 낸 샘플을 수집하거나 또는 농축기는 샘플링 포트에 연결되므로 오염물은 확산에 의해 농축기에 축적된다. 일단 샘플이 농축기에 수집되면, 농축기는 실험실로 가져가 샘플을 평가한다. 필터 부재는 한 세트의 스택 내에 정렬될 수 있으며, 이는 직렬로 정렬되고, 각 스택 내에서 필터 부재는 평행하게 정렬된다.
다른 태양에서, 포토리소그래피 시스템은 시스템을 통과한 공기를 이동시키기 위한 공기 취급기를 포함하고, 여과되지 않은 공기를 필터 유닛 및 필터 유닛으로부터의 여과 공기를 수용하는 포토리소그래피 기구로 전달한다. 이러한 배열의 특별한 장점은 오염물이 포토리소그래피 기구의 렌즈에 도달하기 전에 오염물을 탐지할 수 있다는 것이다.
본 발명의 다른 태양에서, 필터 유닛은 하나 이상의 필터 부재를 포함한다. 두 개의 필터 부재 사이에 샘플링 포트가 위치될 수 있다. 또한, 이와는 달리, 필터 부재의 일측에 샘플링 포트가 위치되거나 필터 부재의 타측에 제2의 샘플링 포트가 위치될 수 있다.
본 발명과 연관된 태양은 필터 유닛을 통과하는 공기를 여과하기 위한 방법과 포토리소그래피 기구를 통과하는 공기를 순환시키기 위한 방법을 포함한다.
본 발명의 전술한 목적과 기타의 목적, 특징과 장점들은 이후에 첨부된 도면을 참조로 보다 상세히 설명되는 본 발명의 바람직한 실시예로부터 보다 명백해질 것이며, 도면에는 다른 관점을 통해 나타낸 동일한 부품에 대하여 동일한 참조부호를 부여하였다. 도면은 본 발명을 설명하는데 실척일 필요는 없으며 강조하여 도시된다.
도1은 화학적 흡착 필터 부재와 물리적 흡착 필터 부재를 포함한 필터를 도시한 것이다.
도2는 화학적 흡착 필터 부재가 물리적 흡착 필터 부재에 흡착된 필터를 도시한 것이다.
도3은 화학적 흡착 필터 부재와 물리적 흡착 필터 부재에 첨가된 정전기적 전하된 부직포 필터 재료를 포함한 필터를 도시한 것이다.
도4는 포토리소그래피 기구와 결합된 본 발명의 필터를 도시한 것이다.
도5는 필터 어셈블리를 도시한 것이다.
도6은 포토리소그래피 기구 및 오염물 제거 효과를 강화시키기 위하여 위치된 물리적 흡착 매체와 화학적 흡착 매체의 순환 루프를 포함한 장치의 개략도이다.
도7은 포토리소그래피 기구 및 오염물 제거 효과를 강화시키기 위하여 위치된 물리적 흡착 매체와 화학적 흡착 매체의 순환 루프를 포함한 장치의 다른 실시예의 개략도이다.
도8은 가열 및 캘린더 가공되기 전의 산성 흡착 필터 부재의 사시도이다.
도9는 가열 및 캘린더 가공된 후의 산성 흡착 필터 부재의 사시도이다.
도10은 가열 및 커버 시트로 캘린더 가공된 이후의 산성 흡착 필터 부재의 사시도이다.
도11은 필터 부재 제조 과정을 도시한 흐름도이다.
도12는 도11에 도시된 과정에 따라 제조된 3차원 필터 부재의 예시도이다.
도13은 주름진 구조의 주름을 도시한 정사각 또는 직사각형 수용기 구조인 필터 부재의 평면도이다.
도14는 필터 부재의 주름진 구조의 평면도이다.
도15는 직사각 또는 정사각 수용기 구조의 제1 통과 고효율의 멀티 주름 팩 패널 필터를 갖춘 필터 부재의 평면도이다.
도16은 방사 주름진 원통형 수용기 구조의 필터 부재 평면도이다.
도17은 중간 포장된 원통형 필터의 필터 부재 평면도이다.
도18은 필터 부재 제조 과정의 사시도이다.
도19는 주름진 필터 부재이다.
도20은 종래 사용되는 필터 부재와 본 발명의 산성 흡착 필터의 염기 제거 효율을 포함한 그래프이다.
도21은 활성 탄소 필터로 처리된 상대 진공 통과율의 그래프를 도시한 것이다.
도22는 본 발명에 따른 필터 유닛이다.
도23은 포토리소그래피 시스템의 요소로서 도22의 필터 유닛의 개략도이다.
도24a는 분석용 장치에 연결된 도2의 필터 유닛의 샘플링 포트의 근접도이다.
도24b는 도22의 필터 유닛의 샘플링 포트가 농축기에 연결된 것을 도시한 근접도이다.
도24c는 도22의 필터 유닛의 샘플링 포트에 부착된 수동식 샘플러의 근접도이다.
도25는 모니터와 필터에 사용된 손실성 렌즈의 개략도이다.
본 발명의 바람직한 실시예의 설명은 다음과 같다. 유체 투과성 필터는 화학적 흡착 매체와 물리적 흡착 매체를 포함한다. 이러한 두 가지 매체의 유형은 필터 부재를 분리할 수 있다. 도1에 도시된 실시예는 도관(36) 내측에 설치된 화학적 흡착 필터 부재(16)와 물리적 흡착 필터 부재(32)를 포함한다. 도2에 도시된 다른 실시예에서, 화학적 흡착 필터 부재(16)는 물리적 흡착 필터 부재(32)의 한쪽 또는 양쪽에 부착되는 층을 형성할 수 있다. 더불어, 정전기적으로 대전된 부직포 필터 재료(34)가 도3과 같이 화학적 흡착 필터 부재(16) 및 물리적 흡착 필터 부재(32)를 덮을 수 있다.
화학적 흡착 필터 부재(16)는, 시약과 반응성인 산성 작용기(acidic functional group)를 갖는 공중합체로 형성되는 다공성의 화학적 흡착성 매체를 포함한다. 물리적 흡착 필터 부재(32)는 비처리 활성 탄소와 같은 물리적 흡착 매체를 포함한다. 여기에 사용된 "비처리(untreated)"라는 용어는, 물리적 또는 비극성의 흡착제로서 잔류되는 비처리 활성 탄소라기보다는 화학적 흡착을 수행하도록 화학적 처리에 의한 변형된 활성화된 탄소를 의미한다. 물리적 흡착 매체는 유기성 및 무기성 응축 오염물을 제거하고, 통상적으로 이들은 물리적 흡착을 통해 150℃보다 큰 끓는점을 가지는 반면에, 화학적 흡착 매체는 화학적 흡착을 통해 염기 증기(base vapor)를 제거한다. "물리적 흡착(physisorption)"이란 용어는 흡착질이 약한 물리적 힘에 의해 유지되는 가역 흡수 과정을 뜻한다. 반대로, "화학적 흡착(chemisorption)"이란 용어는 화학적 결합이 가스 또는 액체 분자와 고체 표면사이에서 형성되는 비가역적 화학 반응 과정을 뜻하는 것이다.
도4에 도시된 바와 같이, 필터(40)는 자외선 포토리소그래피 기구(41; 예컨대 스텝퍼 또는 스캐너)의 유입구에 설치될 수 있어, 기구(41)로 유입되는 공기를 여과하도록 하며 투사 및 조명 광학기(42)와 포토리소그래피 기구(41)의 챔버(46) 내측에서 웨이퍼(44) 상의 포토레지스트를 보호하도록 한다.
필터는 다양한 구성을 가질 수 있다. 한 가지 예로써, 중합체 펠릿의 베드와 비처리 활성 탄소가 전통적인 매체 트레이 및 랙 시스템(예컨대, 공기를 구조체를 통해 흐르게 하는 동안 관통된 재료 또는 스크린 양자가 흡착제내에 유지시키는데 사용되는 금속 엔클로저)을 이용한 공기 스트림에 노출된다. 두 번째 예로써, 필터는 허니콤(honeycomb) 구성의 형태이며 여기에서 중합체 펠릿과 비처리 활성 탄소는 부분적으로 채워지거나 또는 완전히 채워진 허니콤 구조 내에 유지된다. 세 번째 예로써, 중합체와 비처리 활성 탄소는 단결정 다공성(monolithci porous) 구조 또는 허니콤 구조를 형성한다. 네 번째 예로써, 중합체 화이버 매트와, 직물 또는 부직포 중 한 가지와, 통합 비처리 활성 탄소가 전통적인 주름 공기 필터에 주름져서 배열된다. 다섯 번째 예로써, 활성 탄소 펠릿의 베드가 산성 중합체를 포함한 부직포 합성 재료의 층을 구비한 전통적 매체 트레이 및 랙 시스템을 이용하여 탄소 트레이의 일측 또는 양측에 부착되거나 병합된 술폰화 공중합체 기저 합성 재료를 포함하면서 공기 스트림에 노출된다. 필터의 주름진 어레이는 도5에 도시된다.
도6과 도7에 도시된 장치는 낮은 끓는점 오염물 제거에 효과적이며 화학적 흡착 및 물리적 흡착 매체 작용하에서 각 상태를 더 최적화하도록 설계된다. 포토리소그래피 기구에 유입되는 공기 스트림에 최적의 정화를 제공함으로써, 공기 중 염기 분자와 광학기 표면의 광전자 유도된 유기성 오염물로부터의 포토레지스트 오염에 대한 보호가 제공된다.
도6의 장치에서, 순환 루프(102)는 공기를 포토리소그래피 기구(41)를 통해 순환시킨다. 공기 조화 유닛(104)은 포토리소그래피 기구(41)로 유입되는 공기의 온도와 습도를 조절하여 온도 및 습도가 정밀하게 규정된 제한 내에 머물게 하는 것을 보장한다. 냉각 부재(예컨대, 냉각 핀)와 가열 부재를 제어하기 위한 컴퓨터 판독 매체 저장 소프트웨어 코드를 갖는 컴퓨터는 프로세서를 통해 공기 조화 유닛(104)에 연결될 수 있어 온도와 습도를 이러한 제한 내에 확실하게 유지시킨다. 화학적 흡착 필터 부재(16)는 더 따뜻하고 습한 조건에서 일어나는 강화된 화학적 흡착의 장점을 갖도록 순환 루프 내측에 위치된다. 한편, 물리적 흡착 필터 부재(32)는 더 차갑고 건조한 조건에서 발생하는 강화된 물리적 흡착의 장점을 갖도록 위치된다.
화학적 흡착 필터 부재(16)는 공기 조화 유닛(104)과 물리적 흡착 필터(32)로부터 하류 위치에서 순환 루프(102) 내에 위치된다. 이러한 실시예에서, 화학적 흡착 필터 부재는 일정 온도(예컨대 약 21℃ 내지 약 23℃ 범위 내)와 포토리소그래피 기구(41)에 유입하는 공기에 대하여 설정된 습도에서 작용할 것이다. 이러한 기구(41) 내에서 일정 온도를 유지하는 것은 렌즈 수차를 일으킬 수 있는 온도 유도형 렌즈 왜곡을 최소화시키는데 중요하다.
공기 조화 유닛(104)에 유입된 공기는 필연적인 압력 손실을 고려하여 제공된 혼합된 구성 공기로서 포토리소그래피 기구(41)에서 배출된 재순환 공기를 포함한다. 이러한 실시예에서, 공기는 대략 대기압 또는 그 이하 압력일 수 있다. 유닛(104)과 전체 순환 루프(102)를 통하는 공기의 유동을 구동시키도록 공기 조화 유닛(104)에 팬(106)이 제공된다. 냉각 코일(108)은 들어오는 공기를 냉각하도록 팬(106)으로부터 하류에 위치된다. 냉각 코일은 냉각수에 의해 약 8℃까지 냉각 가능하다. 냉각 코일(108)에 의해 냉각된 이후, 공기는 약 18℃의 온도에서 약 20℃까지 될 수 있다. 도6의 실시예에서, 공기는 물리적 흡착 필터 부재(32)를 통과하고, 이는 라인 내 다음에 위치된다. 냉각 코일(108)에 근접하면서 냉각 코일로부터의 하류 위치에 위치하기 때문에, 물리적 흡착 필터 부재(32)는 흡착이 강화되는 감소된 온도에서 작용한다. 마침내, 공기는 가열 부재(110)를 통과하는데, 이는 화학적 흡착 필터 부재(16)를 통과하기 전에 공기를 원하는 작동 온도로 가열시킨다. 따라서, 공기 조화 유닛(104)의 냉각 코일(108)과 가열 부재(110)는 포토리소그래피 기구(41)에서 공기의 온도와 습도 작용을 강화시키는 상태에 부가하여 강화된 물리적 흡착 및 화학적 흡착을 제공하는데 이용되는 장점이 있다.
도7의 장치에서, 물리적 흡착 필터 부재(32)는 약 1 또는 2 미터 길이의 회전식 휠의 형태이며 물리적 흡착 매체로 채워진 3개의 분리된 챔버를 갖는다. 모터(112)는 도시된 화살표 방향{순환 루프(102)의 상류 위치로부터 보여지는 반시계방향}으로 회전 구동하도록 휠에 연결된다.
활성 챔버(114)로서의 챔버 작용은 포토리소그래피 기구(41)로부터 순환 루프(102)를 통해 재순환된 공기를 수용하도록 위치된다. 활성 챔버(114)는 순환 루프(102)내의 공기로부터 오염물을 제거한다.
회전 시퀀스에서의 전술한 챔버는 조화 챔버(116)로서 작용한다. 조화 챔버(116)는 라인(120)을 통해 순환되는 냉각수를 수용하도록 위치된다. 냉각수는 조화 챔버(116) 내에서 물리적 흡착 필터 매체를 냉각하므로, 매체는 활성 챔버(114)에 따라 챔버를 회전 위치 이전에(강화된 흡착성을 제공하면서) 냉각시킬 것이다. 이와는 달리, 보충 냉각 코일 또는 재생식 열 교환기와 같은 다른 냉각 부재는 물리적 흡착 필터 매체를 조화 챔버(116) 내에서 냉각하는데 사용될 수 있다. 압축 가스의 단열 냉각을 이용한 다른 장치가 사용될 수 있으며, 이는 물리적 흡착 필터 매체의 베드에 관통된다.
재생 챔버(118)로서 작용하는 나머지 챔버는 포토리소그래피 기구(41)로부터의 열 배출기를 수용하도록 위치된다. 열 배출기에 의한 열은 재생 챔버(118) 내의 물리적 흡착 필터 매체의 온도를 상승시키므로 응축된 오염물을 증발시켜 물리적 흡착 매체로부터 이탈되면서 물리적 흡착 필터 매체의 재활용을 준비시킨다. 이탈된 오염물은 포획되며 재순환될 수 있다. 열 배출기와는 다르게, 다른 보조 열원이 매체로부터 오염물을 탈착시키도록 제공될 수 있다.
매 3회전당 1번으로, 활성 챔버(114)로서 작용하는 챔버는 재생 챔버(118)가 되며, 재생 챔버(118)로서 작용하는 챔버는 조화 챔버(116)가 되며, 조화 챔버(116)로서 작용하는 챔버는 활성 챔버(114)가 된다. 이러한 회전 순환은 물리적 흡착 필터 매체를 지속적으로 재생시키며 냉각시키도록 기구의 작용 전반에 걸쳐 계속되므로 "신선한(fresh)" 매체가 항상 이용될 수 있다. 이와 같이, 필터 매체의 베드가 "온도 스윙 흡착 베드(temperature swing adsorption beds)"로서 작용하고, 이는, 화학적 흡착 필터 매체와의 조합에서 순환 공기 내에 십억분율당 1 (ppb) 이하의 아민 수준을 유지할 수 있으며, +/-17 mK 내에서 (공기 조화 유닛을 통해) 온도를 유지할 수 있는 장치 내에서 십억분율당 1 이하의 기타 유기물의 오염 수준을 유지할 수 있다.
도7의 물리적 흡착 필터 부재(32)로서 사용된 것과 같은 휠은 도6의 장치에 유사하게 사용될 수 있다. 물리적 흡착 필터 부재(32)의 회전 휠 실시예와는 달리, 분리된 도관이 순환 루프, 열 배출기 및 냉각수 도관으로부터 각 3개의 챔버로 각각 분기될 수 있으며, 각 분기에서의 밸브 처리에 의해 각 도관으로부터 각 챔버를 통해 유동이 회전될 수 있게 통제한다.
도6 및 도7의 장치는 포토리소그래피 장치 내에서 스텝퍼(노출) 기구에 대해 공기를 여과하는데 사용될 때 특히 유용하며, 여기에서 필터 부재는 기구 내에서 자유 라디칼을 형성하여 기구의 렌즈를 고착시킴으로써 그 작동을 방해하는 오염물을 제거할 수 있다. 그럼에도 불구하고, 도6 및 도21의 장치는 트랙(여기에서 유기물은 처리되어질 물의 습윤성을 변화시킬 수 있으며 산화층 두께의 측정을 개시할 수 있음)으로부터의 공기를 여과하는데 사용될 수 있거나, 또는 오염물에 의해 훼손될 수 있는 포토리소그래피 장치 내에서 다른 부재로 유입하는 공기를 여과시키는데 사용될 수 있다. 도6 및 도7의 장치의 사용과 조합될 수 있는, 이러한 사용은 미국특허 제5,833,726호에 더 상세히 설명되어 있다.
도8을 참조하면, 일부가 산성인 화학적 흡착 합성 필터 부재(16)가 도시된다. 화학적 흡착 합성 필터 부재(16)는 커버 시트(66)와 중간층(62)을 갖는다. 커버 시트(66)는 결합제 대 화이버 비율이 55/44와 0.024인치의 두께를 갖는 폴리에스테르 부직포일 수 있다. 중간층(62)은 두께 0.25인치(0.610mm)와 결합제대 화이버 비율이 35% 내지 65%인 공기 저장 폴리에스테르 부직포 화이버이다. 중간층(62)은 필터를 통과하는 공기 내에서 기본 분자와 친화성인 다공성의 산성 중합체 재료로 채워진다. 이와는 달리, 직물이 직조될 수 있다.
도9의 구조는 산성의 흡착성 합성물 필터 부재의 형태로 직접 사용될 수 있다. 산성의 흡착성 합성물(16)은 도10과 같이 중간층(62)의 표면에서 제1 커버 시트(66)의 반대편에 제공되며 제2 커버 시트(80)로 이용될 수 있다. 커버 시트(66, 80)는 여과성 또는 비 여과성 부직포 폴리에스테르, 폴리아미드 또는 폴리프로필렌 재료 또는 이와 유사한 재료일 수 있다. 커버 시트(66, 80)가 여과성 재질인 경우, 이는 공기 스트림 내에서 미립자 물질의 제거를 위해 합성 구조에 유입된 공기의 여과를 어느 정도 제공하는 역할을 한다. 또한, 커버 시트(66, 80)는 중간층 또는 탄솜(62) 내에서 비드 형태일 수 있는 술폰화 디비닐 벤젠 스티렌 공중합체와 같은 다공성 산성 중합체 재료를 유지하는 역할을 할 수 있다. 또한, 커버 시트(66, 80)는 폴리프로필렌 또는 폴리에스테르와 같은 화학적으로 불활성 재료일 수 있다.
도1, 도6 및 도7에 도시된 물리적 흡착 필터 부재(32)는 비처리 활성 탄소를 포함할 수 있다. 탄소는 (비표면적이 1000 ㎡/g정도일 수 있는) 다공성 화이버의 형태로 제공될 수 있다. 이와는 달리, 비처리 활성 탄소는 트레이 내 집합된 입자의 형태일 수 있다. 다른 실시예에서, 비처리 활성 탄소는 블럭으로 형성될 수 있으며 결합제 재료로 유지된다. 비처리 활성 탄소는 코코넛 껍질, 석탄, 목재, 피치 및 기타 유기원을 포함한 다양한 소스로부터 형성될 수 있다. 또한, 술폰화 공중합체 코팅이 비처리 활성 탄소에 부착될 수 있다.
이와는 달리, 본 발명의 넓은 표면적 필터 부재는 미국 특허 제5,204,055호 및 5,387,380호에서 설명된 3차원 프린팅 기술을 이용하여 제조될 수 있다.
이러한 필터 부재의 제조 방법은 도11과 연관하여 도시된다. 과정(200)은 치수가 잘 형성되도록 필터 부재의 3차원 모델을 형성하는 단계(202)를 포함한다. 필터를 형성하는데 사용된 분말 재료의 제1층이 프린터 장치에 의해 놓여진다(단계 204). 결합제는 선택된 영역을 결합시키게 되는 분말 재료에 분배된다(단계 206). 단계(204)와 단계(206)는 넓은 표면적 필터가 형성될 때까지 여러 번 반복된다. 마침내 과잉 물질이 제거된다(단계 210). 본 방법에 따른 넓은 표면적 필터의 예는 도12에서 샘플(240)로 도시되었다. 결합제는 산성 중합가능성(acid-polymerizable) 또는 산성 교차 연결가능성(acid-cross-linkable) 액체일 수 있다.
화학적 흡착 필터 부재(16)와 물리적 흡착 필터(32)의 상대적 두께는 강화될 수 있으므로, 두 필터 부재의 유효 수명은 주어진 환경에서 대략 같은 시간으로 소요된다. 따라서, 술폰화 공중합체로 형성된 화학적 흡착 필터 부재는 비처리 탄소로 형성된 물리적 필터 부재보다 얇게 만들 수 있는데, 이는 탄소의 물리적 흡착 성질이 통상적으로 산성의 술폰화 공중합체의 화학적 흡착 성질보다 빨리 소비되기 때문이다.
두 가지 합성 필터 부재(16, 32)는 포토리소그래피 기구와 결합된 여과 장치의 공기 유동 경로에 설치되기 위하여 적절한 수용기 또는 구조물 내에 포함될 수 있고, 필터 부재(16, 32)는 통상적으로 회수 또는 대체 가능한 필터 부재의 형태가 되어진다. 다양한 목적을 위하여, 입사 공기 유동에 노출된 필터 재료의 표면적을 증가시키는 것이 바람직하며, 이를 위하여 합성 필터 부재가 증가된 표면적을 제공하도록 주름질 수 있다.
도13의 일 실시예에서, 합성 재료가 공기 필터 부재(15, 17)를 형성한다. 필터 부재는 도14에 도시된 바와 같이 아코디언식 구조(19)로 주름져서 직사각 또는 정사각 수용기(18) 내측에 수용되고, 전방(21)과 후방(23)을 가지며 화살표(22)로 도시된 공기 스트림에 개방된다. 주름부(20)는 공기 유동에 실질적으로 직각을 이룬다. 도9는 전방 또는 후방에서 본 구조이다. 도14는 필터 부재의 상부를 절개하여 도시한 것이다.
다른 실시예가 도15에 도시되는데, 여기에서 다수의 주름진 합성 필터 부재(24)가 연속하여 수용기(18) 내측에 놓여져 공기가 통과할 수 있는 다단계 필터를 제공하도록 한다. 전술한 실시예에 따라, 부재(24)의 주름부(20)는 실질적으로 공기 유동(22)의 방향에 직각을 이룬다.
다른 실시예가 도16에 도시되고, 여기에서 합성 필터 부재는 원통형 구성으로 놓여지며 원통형 수용기(28) 내측에 유지된다. 전술한 바와 같이 주름부(20)는 반경 방향의 공기 유동에 실질적으로 직각을 이룬다. 다른 실시예가 도17에 도시되는데, 여기에서 합성 구조는 전체적으로 원통형 수용기(28) 내측에 수용된 나선형 구성(30)으로 감겨져 있다.
산성의 화학적 흡착 입자는 부직포 또는 화이버 매트릭스 또는 폴리에스테리 탄솜 전체에 걸쳐 균등하게 분포될 수 있다. 산성의 화학적 흡착 입자의 예로는 술폰화 디비닐 벤젠 스티렌 공중합체를 포함하지만 이에 제한되지는 않는다.
일 실시예에서, 이온-교환성 강-산성의 예비 촉매는 0.3과 1.2㎜ 사이의 입자 크기를 가지며, 다공성은 대략 0.3 ㎖/g이고, 평균 기공 직경은 약 250 옹스트롬이다. 촉매는 300 ㎖/g까지, 또는 그보다 높은 다공성을 가질 수 있다. 또한, 촉매의 산점(acid sites)의 농도는 대략 1.8 meq/㎖ 일 수 있으며 촉매의 표면적은 약 45㎡/g일 수 있다. 이러한 촉매는 롬 앤드 하스(Rohm and Haas)에 의해 AMBERLYST®15DRY 또는 AMBERLYST®35DRY의 상표명으로 판매되고 있다. 전술한 것과 같은 범주 이외의 물리적 특성을 갖는 촉매가 사용될 수도 있다.
전반적으로, 화학적 흡착 필터 부재의 화이버 매트릭스의 건조 공정은 건조 재료 조제시스템, 탄솜의 밀도의 천연 성층, 그리고 술폰화 디비닐 벤젠 스티렌 공중합체 입자의 균등 분배와 술폰화 디비닐 벤젠 스티렌 공중합체 입자 크기의 성층을 이용하는 술폰화-디비닐-벤젠-스티렌 공중합체의 조합을 내포한다. 이러한 절차는 매우 낮은 압력 강하에서 증가된 베드 깊이를 갖는 패브릭 아키텍쳐(fabric architecture)를 고려하는데, 이는 화학적 흡착 필터 부재의 낮은 작용 단가와 연결된 높은 제1통과 효율에 기인하여 매우 바람직한 것이다.
여기에서 사용된 "효율(efficiency)"이란 용어는 식 X-Y/X에 의해 정의되며, 여기에서 X는 오염물질의 상류 농도이며, Y는 오염물질의 하류 농도이다.
필터는 활성 탄소 및 전술한 예비 촉매 재료를 혼합할 수 있다. 이러한 조합은 충분한 다공성과 강한 산성 그룹을 가져, 매체와 강한 염기의 영구 제거를 용이하게 제공하며 부유 염기 오염물로부터 약한 염기의 충분한 분비를 제공하도록 한다. 또한, 필터는 다공성 공중합체 재료를 포함할 수 있다.
전술한 바와 같이, 필터는 오염되지 않은 높은 순도의 공기를 필요로 하는 반도체 제조 시스템과 같은 환경에서 공기를 여과하는데 채용된다.
도18을 참조하면, 중간 공기층 폴리에스테르 부직포 층(62)이 커버 시트(66)에 합쳐진다. 산성의 흡착 입자(60)는 유동화된 베드 또는 키타 입자 분포 시스템(64)으로부터 화이버 매트릭스(62)에 위치된다. 술폰화 디비닐 벤젠 스틸렌 공중합체 입자(60)는 탄솜(62)의 깊이 전체에서 균등하게 성층화된다. 전술한 바에 따라, 탄솜 전체에 분포된 흡착 입자의 증가된 베드 깊이는 채류 시간을 증가시키고, 화학적 흡착 입자 표면의 노출을 증가시키고, 낮은 온도 강하를 제공하며, 필터의 수명을 실질적으로 증가시키는데 매우 바람직하다.
매트릭스(62)에 분포된 화학적 흡착 입자(60)는, 상이한 파장의 적외선 에너지를 갖는 두 개의 영역(68, 70)을 이용하여 가열되는 것이 바람직하다. 탄솜(62)은 250℉와 350℉ 사이의 전체 평균 온도로 가열된다.
적외선 에너지는 화학적 흡착 입자를 탄솜에 한 지점에서 고착시키며, 이 지점에서 입자는 탄솜에 접촉한다. 이러한 과정은 전체 탄솜의 온도가, 탄솜을 녹게 하며 붕괴시키게 할 수 있어 입자를 둘러싸며 화학적 활동을 파괴할 수 있게 하는, 폴리에스테르 탄솜의 녹는점 또는 그와 비슷한 온도로 상승시키는 것을 피할 수 있다.
그 후, 탄솜(62)은 한 쌍의 캘린더 롤(76, 78)을 이용하여 캘린더 가공된다. 제1 롤(76)은 가열 및 캘린더 가공 단계가 140℉ 정도의 정적 온도에서 수행될 수 있으며, 과열 및 이에 따른 커버 시트의 용융을 방지하며 직물의 과도한 캘린더 가공을 방지하는 온도로 조절 가능하다. 제2 롤(78)은 흡착 입자의 분쇄를 피하도록 경도계를 갖는 고무 롤일 수 있으며, 롤(78)은 금속일 수 있다.
또한, 온도 조절된 롤러(76)가 사용될 때에, 탄솜의 압력은 26인치 거리에 걸쳐 약 2000 파운드정도이다. 높은 캘린더 가공 압력은 입자들이 활성 탄소 기저일 때 특히 분쇄될 수 있어 먼지를 형성하게 되고, 이는 합성 필터 부재에 유지되지 못하며 결과적으로 가스 스트림으로 통과될 수 있다.
또한, 탄솜의 술폰화 디비닐 벤젠 스티렌 공중합체를 유지하는데 도움이 되는 인조 부직포 커버 시트(80)는 전술한 바와 같이 탄솜(62)과 캘린더 가공될 수 있다. 필터 부재가 형성된 후에, 거싯(gussets) 또는 스페이서가 필터 부재에 놓여진다. 필터 부재는 상자로 밀봉된다.
선택적으로, 재료는 다른 공정 이전에 재료의 냉각을 용이하게 하기 위해 상부 롤러(84)로 안내될 수 있다. 활성 탄소 필터 부재에 대한 제조 방법은 발명의 명칭이 "부직포 필터 합성물(Non-Woven Filter Composite)"인 미국 특허 제5,582,865호에 상세히 설명되어 있고, 그 전체 내용은 참조에 의해 본 명세서에 합체된다.
전술한 방법이 필터를 생성하는 한 가지 방법이기도 하지만, 다른 기술이 사용될 수도 있다는 것을 알 수 있다. 이러한 몇몇 기술들은 미국 특허 제5,605,746호에 설명된 것과 같은, 또는 매체 형성의 KX 산업 방법(KX Industries' method of media formation)과 같은 호이쉬스트(Hoechst)에 의해 개발된 기술들을 포함한다. 이러한 방법상의 공통적 특징은 화학적 활성 흡착제를 다공성 매체 구조에 병합시킨다는 것이다.
다른 방법에서, 필터 부재는 화학적 흡착 매체와 물리적 흡착 매체를 함께 예비 혼합하여 혼합물을 웨브에 끼움으로써 만들어질 수 있다. 또는, 화학적 흡착 매체와 물리적 흡착 매체는 각각의 분배 유닛으로부터 소정의 비율로 웨브가 분배 유닛의 아래를 통과함에 따른 제위치에서의 웨브 상에 놓여진다.
본 발명에 따른 다공성 산성 중합체를 이용한 주름진 필터 구조(220)가 도19에 도시된다. 이는 스택 필터 시스템 내의 대체 필터로서 사용될 수 있도록, 길이(222), 폭(224) 및 깊이를 갖는 직사각 프레임(228)의 양측의 주름진 시스템이다. 필터는 1000 ppb 챌린지 농도에서 99% 이상의 제거 효율을 갖는다.
도20은 3개의 상이한 산성의 화학적 흡착 필터 부재에 대한 제거 효율의 그래프이다. 그래프는 필터로부터 상류의 20 ppm NH3 농도에서 시간에 따른 제거 효율을 나타내고 있다. 필터 부재 크기는 대략 12인치×12인치×6인치(30.48mm×30.48mm×15.24mm)이다. 공기 유동은 대략 100 cfm(cubic feet per minute)이다. 유효 수명 데이터만을 고려한다면, 필터 부재 #3이 최적으로 수행되는 것을 나타내고 있다. 그러나, 추가적인 데이터가 고려된다면, 결론은 간단하지 않다. 필터 부재 #2에 대한 압력 강하는 0.3" WC이고, 필터 부재 #3에 대한 압력 강하는 1.0"WC였다. 필터 부재 #1과 #2는 기구 제조자의 세부사항과 매우 근접하지만, 필터 부재#3는 기구의 적절한 ECU 기능을 방해하는 과도한 압력 강하가 생성된다. 과도한 압력 강하는 여러 가지 이유로 인하여 바람직하지 못하다. 예를 들어, 이는 팬 하중과 전력 소비를 증가시키며, 기구를 통하는 공기유동과 엔클로저 내측의 정압을 감소시킨다. 따라서, 본 발명에 따라 만들어진 필터 부재 #1는 실질적으로 증가된 유효 수명을 제공하는 반면에 기구 작용에 적합한 압력 강하를 제공한다.
비처리 활성 탄소 필터 부재의 흡착 성능이 도21에 도시된다. 도21의 그래프는 처리된 탄소와 비처리 탄소 두 가지에서 다수의 유기 화합물에 대한 흡착 파괴 곡선을 도시한다. 처리된 탄소(50)와 비처리 탄소(50')에 대한 에틸 아세테이트(EtAc)의 파괴 곡선을 비교하면, 비처리 탄소의 성능(파괴에 상당하는 시간)은 처리된 탄소보다 높은 5와 10 시간 사이인 것을 알 수 있다. 그래프에 도시된 바와 같이, 처리된 탄소의 이소프로필 알콜(52)과 이소부탄(54)에 대한 유기체 진공 용량은 비처리 이소프로필 알콜(52')과 이소부탄(54')에 대한 유기체 진공 용량의 해당 측정과 비교하여 비슷하게 작다.
전술한 필터 부재는 휘발성 염기 화합물과 응축성 유기 오염물에 대하여 99% 이상의 제거 효율을 갖는다. 휘발성 염기 화합물과 응축성 유기 오염물에 대한 이러한 필터 부재의 성능은 5 내지 60 ppm-days 범위이다. 비 응축성 유기 오염물에 대한 제거 효율은 90%보다 크고, 그리고 원소 유기물에 대해서는 99% 이상이다. 통상적인 원소 유기물은 Si-R, P-R, B-R, Sn(Bi)3 및 기타 유기 금속을 포함하는데, 여기에서 R은 유기성 기이고, Si는 실리콘이며, P는 인이며, B는 붕소이며, Sn은 주석이며, Bi는 창연이다.
도22의 도시는 화학적 흡착 매체와 물리적 흡착 매체를 갖는 다중 필터 부재(502)를 포함한 필터 유닛(500)으로서의 본 발명의 실시예이다. 도22에 도시된 바와 같이, 필터 부재(502)는 한 세트의 스택(501)으로 평행하게 정렬되며 스택은 필터 유닛(550)의 케이싱(504) 내측에 직렬로 정렬된다. 제거 가능한 커버 패널(505)은 필터 부재에 진입시키게 한다. 필터 유닛(500)에는 필터 유닛(500)을 원하는 위치로 용이하게 이동시키는 한 세트의 캐스터(507)가 제공된다. 공기 여과 시스템은 미국 특허 제5,607,647호에 상세히 설명되어 있고, 그 전체 내용은 참조에 의해 본 명세서에 합체된다.
작동 시, 공기는 유입 포트(506)를 통해 화살표 A 방향으로 유동하고, 필터 부재(502)를 통과하여 유출 포트(508)로 배출된다. 한 세트의 샘플링 포트(510-1, 510-2, 510-3, 510-4; 샘플링 포트(510)라고 집합적으로 언급됨)는 필터 유닛(500)을 통과함에 따라 공기의 질을 모니터하기 용이하게 하도록 필터 유닛(500)의 몇몇 영역으로 접근시킨다. 개별적인 필터 부재(502)의 각 측면 상에는 샘플링 포트가 있으므로 필터 부재를 통과함에 따른 공기의 질의 변화가 평가될 수 있다.
도23을 참조하면, 포토리소그래피 처리(512)의 일부에 사용된 필터 유닛(500)이 도시된다. 필터 유닛(500)은 라인(516)으로 공기 취급기 유닛(514)에 연결된다. 다른 라인(518)은 필터 유닛(500)을 스텝퍼 또는 트랙과 같은 기구(520)에 연결하고, 라인(522)은 기구(520)를 공기 취급기(514)에 연결한다. 그리하여, 공기 취급기(514)는 여과되지 않은 공기를 라인(516)을 통해 필터 유닛(500)으로 보낸다. 공기 중의 오염물은 필터 유닛(500)의 필터 부재(502)를 통해 공기 유동에 따라 제거된다. 계속하여, 여과된 공기는 라인(518)을 통해 기구(520)로 보내어진다. 그리고, 공기가 기구(520)를 통과한 후에, 라인(522)을 통해 공기 취급기(514)로 다시 돌아온다.
필터 부재(502)의 성능은 반도체 웨이퍼를 가시적으로 검사함으로써 모니터될 수 있다. 예를 들어, 작동자는 리소그래픽 과정이 저하되는지의 여부를 결정하도록 웨이퍼를 관찰할 수 있다. 이러한 저하는 필터의 성능이 저하되었다는 것을 작동자에게 간접적으로 지시한다.
이와는 달리, 필터 부재(502)의 성능은 샘플 포트(510)로부터 샘플을 취함으로써 모니터된다. 예를 들어, 도24a에 도시된 바와 같이, 화살표(A)의 방향으로 필터 부재(502)를 통하는 공기의 유동에 따라, 두 개의 필터 부재(502) 사이 영역에서의 공기 중의 오염은 샘플링 포트(510)로부터의 샘플을 라인(522)을 통해 얻어내는 분석용 장치(520)에서 결정된다. 통상적인 분석용 장치는 가스 크로마토그래피 질량 선별(Gas Chromatograph Mass Selective), 이온 이동도 분광계(ion mobility spectrometers), 표면 탄성파(surface acoustic wave), 원자 흡수(atomic absorption), 인덕턴스 결합 플라즈마(inductance couple plasma) 및 퓨리에 변환 방법을 포함한다. 모든 포트(510-1 내지 510-4; 도23)로부터의 샘플링은 공기가 각각의 필터 부재를 통과하기 이전과 이후의 공기 중의 오염물의 양을 결정할 수 있게 하므로, 필터 유닛(500)의 모든 필터 부재(502)의 성능을 모니터하기 위한 편리한 방법을 제공하게 된다.
표면 탄성파 탐지기는 미국 특허 제5,856,198호에서 설명되어 있고, 그 전체 내용은 참조에 의해 본 명세서에 합체된다. 도25를 참조하면, 손실성 렌즈(sacrificial lens; 602)와 조합되어 사용되는 탄성파 탐지기(600)는 Si-R과 같은 원소 유기물의 존재를 탐지하도록 한다. Si-R 분자는 휘발성이지만 자외선 복사에 노출시, Si-R은 다음의 반응식으로 반응한다;
Si-R ⇒ Si-R° + R°
여기에서, R°는 유기체 자유기이고, 산소(O2)의 반응은,
O2 ⇒ 2O°이므로,
삭제
Si-R°+ O°⇒ Si-R-O 또는 R-Si-O의 반응을 n번 반복하면,
삭제
Si-R + O2 ⇒ Si-O2 + R + R-O + ...
이므로 Si-O2가 발생되고, 여기에서 비휘발성 무기질 산화물은 손실성 렌즈(602)에 응축 가능하게 된다. 따라서, Si-R을 자외선에 노출시킴으로써, 탄성파 탐지기(600)는 샘플 공기에서 Si-R의 양을 탐지할 수 있다.
삭제
샘플 포트를 분석용 장치에 연결하는 대신, 샘플링 포트(510)는 도24b에 도시된 바와 같이 농축기(524)에 연결될 수 있다. 농축기(524)에 연결된 펌프(526)는 라인(528)을 통해 샘플을 농축기로 이끌어 낸다. 이와는 달리, 도24c에 도시된 바와 같이, 샘플은 확산에 의하여 샘플링 포트(510)에 직접 부착된 농축기(530) 내에 축척된다. 이 두 가지 경우, 작동자는 농축기(524 또는 530)를 실험실로 다시 가져가서 전술한 임의의 분석 장치에 의해 농축기의 내용물을 평가한다.
비록 여기에 설명된 본 발명은 바람직한 실시예를 참조하여 도시되고 설명되었지만, 이는 본 기술분야의 당업자들에게 있어서 다양한 형태의 변형과 상세함이 본 발명의 범주 내에서 가능한 것으로 이해되어야 한다.

Claims (63)

  1. 반도체 처리 기구용 유체 투과성 필터이며,
    반도체 처리 기구에 연결된 유체 유동을 위한 통로를 형성하는 도관과,
    도관을 통과하는 유체 내의 염기성 오염물을 화학적으로 흡착할 수 있는 산성 작용기를 갖는 공중합체를 포함하는, 도관 내측의 화학적 흡착 매체와,
    화학적 흡착 매체와 상호 혼합되며 도관을 통과하는 유체로부터 응축성 오염물을 물리적으로 흡착할 수 있는, 도관 내측의 물리적 흡착 매체를 포함하는 유체 투과성 필터.
  2. 제1항에 있어서, 화학적 흡착 매체는 술폰화 산성기를 갖는 다공성 디비닐 벤젠 스티렌 공중합체를 포함하는 유체 투과성 필터.
  3. 제1항에 있어서, 산성기는 적어도 1 밀리당량/그램의 스티렌 공중합체의 산성도 레벨을 갖는 유체 투과성 필터.
  4. 제1항에 있어서, 화학적 흡착 필터는 기공의 크기가 50 내지 400 옹스트롬의 범위에 있는 유체 투과성 필터.
  5. 제1항에 있어서, 산성 작용기는 카르복실산을 포함하는 유체 투과성 필터.
  6. 제1항에 있어서, 화학적 흡착 매체 및 물리적 흡착 매체는 주름진 필터 부재의 일부인 유체 투과성 필터.
  7. 제1항에 있어서, 화학적 흡착 매체 및 물리적 흡착 매체는 각각 20㎡/g 이상의 표면적을 갖는 유체 투과성 필터.
  8. 제1항에 있어서, 물리적 흡착 매체는 비처리 활성 탄소를 포함하는 유체 투과성 필터.
  9. 제8항에 있어서, 비처리 활성 탄소는 트레이를 채우는 유체 투과성 필터.
  10. 제9항에 있어서, 비처리 활성 탄소는 코코넛 쉘계인 유체 투과성 필터.
  11. 제9항에 있어서, 비처리 활성 탄소는 석탄계인 유체 투과성 필터.
  12. 제9항에 있어서, 비처리 활성 탄소는 목재계인 유체 투과성 필터.
  13. 제9항에 있어서, 비처리 활성 탄소는 피치(pitch)계인 유체 투과성 필터.
  14. 제9항에 있어서, 비처리 활성 탄소는 유기체원으로부터 유도되는 유체 투과성 필터.
  15. 제1항에 있어서, 화학적 흡착 매체는 비처리 활성 탄소에 부착된 층을 형성하는 유체 투과성 필터.
  16. 제8항에 있어서, 비처리 활성 탄소는 결합제 재료와 함께 유지되는 블럭 형태인 유체 투과성 필터.
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  21. 오염되지 않은 고급의 공기 제조에 필요한 반도체 설비를 위한 공기 여과 방법이며,
    염기성 오염물과 반응할 수 있는 술폰화 산성 작용기 및 카르복실산 작용기 중 적어도 하나의 작용기를 갖는 다공성 디비닐 벤젠 스티렌 공중합체를 포함하는 화학적 흡착 매체를 갖는 화학적 흡착 필터 부재를 제공하는 단계와,
    응축성 오염물을 물리적으로 흡착할 수 있는 물리적 흡착 매체를 갖는 물리적 흡착 필터 부재를 제공하는 단계와,
    화학적 흡착 매체 및 물리적 흡착 매체를 통해 공기를 유동시키는 단계를 포함하는 공기 여과 방법.
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  23. 제21항에 있어서, 물리적 흡착 매체는 비처리 활성 탄소인 공기 여과 방법.
  24. 제21항에 있어서, 공기가 필터 부재를 통과한 이후에 공기를 포토리소그래피 기구로 유동시키는 단계를 더 포함하는 공기 여과 방법.
  25. 제24항에 있어서, 복수의 필터 부재들 중 적어도 하나의 부재는 화학적 흡착 매체와 상호 혼합된 물리적 흡착 매체를 포함하는 공기 여과 방법.
  26. 제24항에 있어서, 복수의 필터 부재들 중 적어도 하나의 부재는 주름진 필터부재인 공기 여과 방법.
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Families Citing this family (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1105203B1 (en) * 1998-08-20 2004-01-28 Extraction Systems, Inc. Filters employing porous strongly acidic polymers
US7540901B2 (en) 2000-05-05 2009-06-02 Entegris, Inc. Filters employing both acidic polymers and physical-adsorption media
KR100825146B1 (ko) 2000-05-05 2008-04-24 엔테그리스, 아이엔씨. 산성 중합체와 물리적 흡착 매체를 사용하는 필터
US6533847B2 (en) * 2001-02-13 2003-03-18 Donaldson Company, Inc. Adsorption apparatus
EP1247558A1 (en) * 2001-04-07 2002-10-09 3M Innovative Properties Company A combination filter for filtering fluids
JP2003001028A (ja) * 2001-06-22 2003-01-07 Bridgestone Corp フィルター材
US20040023419A1 (en) * 2001-09-24 2004-02-05 Extraction Systems, Inc System and method for monitoring contamination
US7092077B2 (en) * 2001-09-24 2006-08-15 Entegris, Inc. System and method for monitoring contamination
JP2003286012A (ja) * 2002-03-28 2003-10-07 Toshiba Corp ガスリサイクルシステムおよび方法、ガス絶縁機器、六弗化硫黄供給システム並びに電力事業システム
US7008209B2 (en) * 2002-07-03 2006-03-07 Therics, Llc Apparatus, systems and methods for use in three-dimensional printing
US7341618B2 (en) * 2002-10-24 2008-03-11 Georgia Tech Research Corporation Filters and methods of making and using the same
US7105037B2 (en) * 2002-10-31 2006-09-12 Advanced Technology Materials, Inc. Semiconductor manufacturing facility utilizing exhaust recirculation
FI20031207A (fi) * 2003-05-13 2005-02-08 Hydrocell Ltd Oy Suodatusmenetelmä ja suodatinlaite
US6905536B2 (en) * 2003-06-11 2005-06-14 Arvin Technologies, Inc. Increased surface area hydrocarbon adsorber
US7132011B2 (en) 2003-09-02 2006-11-07 Entegris, Inc. Reactive gas filter
WO2005037395A2 (en) * 2003-10-17 2005-04-28 Koslow Technologies Corporation Tangential in-line air filter
US20050120775A1 (en) * 2003-12-03 2005-06-09 Extraction Systems, Inc. Systems and methods for detecting contaminants
US7430893B2 (en) * 2003-12-03 2008-10-07 Entegris, Inc. Systems and methods for detecting contaminants
US20050217484A1 (en) * 2004-01-06 2005-10-06 Claude Bourgault Method and portable apparatus for cooling and heating structures
CN101072620B (zh) * 2004-06-07 2011-02-23 安格斯公司 去除污染物的系统和方法
US7314506B2 (en) 2004-10-25 2008-01-01 Matheson Tri-Gas, Inc. Fluid purification system with low temperature purifier
US7400383B2 (en) * 2005-04-04 2008-07-15 Entegris, Inc. Environmental control in a reticle SMIF pod
US20060249027A1 (en) * 2005-05-05 2006-11-09 Adolphsen Tony L Rigid adsorption apparatus, and methods
US7850766B1 (en) * 2005-08-31 2010-12-14 Cocona, Inc. Systems and methods for preferentially heating active particles and articles produced thereof
JP4828198B2 (ja) * 2005-10-06 2011-11-30 サンデン株式会社 空気浄化用フィルタおよびその製造方法
US7789949B2 (en) * 2005-11-23 2010-09-07 Integrated Sensing Systems, Inc. Getter device
US7628845B2 (en) * 2006-03-10 2009-12-08 Macronix International Co., Ltd. Filtering device and filtering method thereof and semiconductor fabricating method
WO2007121085A2 (en) * 2006-04-10 2007-10-25 Meadwestvaco Corporation Control of vapor emissions from gasoline stations
US20070277536A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-06 Johnson Coltrols Technology Company Filter for vapor compression systems
CN101506087B (zh) 2006-06-19 2011-09-21 诚实公司 用于净化光罩存储器的系统
TWI417130B (zh) * 2006-07-13 2013-12-01 Entegris Inc 過濾系統
JP4965953B2 (ja) * 2006-09-29 2012-07-04 株式会社東芝 ポリシラザンまたはポリシラザン溶液の取り扱い方法、ポリシラザン溶液、半導体装置の製造方法
JP5674314B2 (ja) * 2007-02-28 2015-02-25 インテグリス・インコーポレーテッド レチクルｓｍｉｆポッド又は基板コンテナ及びそのパージ方法
US20080226534A1 (en) * 2007-03-13 2008-09-18 Gidumal Rajan H Adsorbent Articles for Disk Drives
EP2188036A4 (en) * 2007-07-13 2011-08-17 Donaldson Co Inc MEDIUM FOR REMOVING ORGANIC COMPOUNDS
CN101909696A (zh) * 2008-01-17 2010-12-08 开利公司 用于去除挥发性硅氧烷的过滤器和寿命延长的光催化装置
US7572976B1 (en) * 2008-02-06 2009-08-11 Victor Merrill Quick connect electrical box
US20090211453A1 (en) * 2008-02-26 2009-08-27 Nassivera Terry W Filtration Media for the Removal of Basic Molecular Contaminants for Use in a Clean Environment
US8147592B2 (en) * 2008-03-14 2012-04-03 The Boeing Company Using a metallocene to remove oxygen from a stream of gas
US8007555B2 (en) * 2008-03-30 2011-08-30 Lack Nicholas L Filter with multiple sections of different media
CN102202870A (zh) * 2008-10-31 2011-09-28 巴斯夫欧洲公司 离子交换剂模制品及其生产方法
WO2010065880A2 (en) * 2008-12-05 2010-06-10 Matheson Tri-Gas, Inc. Acetylene process gas purification methods and systems
TWI515035B (zh) * 2009-03-02 2016-01-01 科邁實業有限公司 可再生皺褶式過濾器媒介
US8157892B2 (en) 2010-05-17 2012-04-17 Enverid Systems, Inc. Method and system for improved-efficiency air-conditioning
US8409337B1 (en) 2010-06-08 2013-04-02 Aaf-Mcquay Inc. Air handling filtration equipment with adjustable media bed and method of use
CA2706495A1 (en) * 2010-06-08 2011-12-08 Alan B. Morison Particulate scavenger medium canister
US8518166B2 (en) * 2010-09-13 2013-08-27 Atomic Energy Council-Institute Of Nuclear Energy Research Air filtering system capable of enhancing inspection convenience
US20120145005A1 (en) * 2010-12-10 2012-06-14 General Electric Company New panel filter augmentation technique for particulate capture gains
US8690999B2 (en) 2011-02-09 2014-04-08 Enverid Systems, Inc. Modular, high-throughput air treatment system
US9533250B2 (en) 2011-08-23 2017-01-03 Enverid Systems, Inc. Sorbents for carbon dioxide reduction from indoor air
US9316410B2 (en) 2011-11-17 2016-04-19 Enverid Systems, Inc. Method and system for conditioning air in an enclosed environment with distributed air circulation systems
CN107339779B (zh) 2012-01-10 2020-02-18 恩弗里德系统公司 用于管理空调系统中的空气质量和能量使用的方法和系统
CN104379234B (zh) 2012-05-22 2018-02-27 恩沃德系统公司 对室内空气的洗涤的吸附剂的高效利用
US9950290B2 (en) 2012-07-18 2018-04-24 Enverid Systems, Inc. Systems and methods for regenerating adsorbents for indoor air scrubbing
CN104685300B (zh) 2012-09-24 2017-11-28 恩沃德系统公司 具有集成空气处理的空气处理系统
US11428832B2 (en) 2012-11-12 2022-08-30 Image Insight, Inc. Crowd-sourced hardware calibration
US9987584B2 (en) 2012-11-15 2018-06-05 Enverid Systems, Inc. Method and system for reduction of unwanted gases in indoor air
JP2014217811A (ja) * 2013-05-09 2014-11-20 清水建設株式会社 浄化フィルタ装置
TWI661196B (zh) * 2013-09-06 2019-06-01 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 不含液體樣品阱及量測微量酸性及鹼性ａｍｃ之分析方法
WO2015042150A1 (en) 2013-09-17 2015-03-26 Enverid Systems, Inc. Systems and methods for efficient heating of sorbents in an indoor air scrubber
TWI762084B (zh) 2014-03-19 2022-04-21 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 可替換過濾器堆疊及使用該堆疊之氣櫃
CN104759189A (zh) * 2015-03-12 2015-07-08 同方威视技术股份有限公司 离子迁移谱仪中可持续工作的气体净化装置
US20180147526A1 (en) 2015-05-11 2018-05-31 Enverid Systems, Inc. Method and system for reduction of unwanted gases in indoor air
WO2017035254A1 (en) 2015-08-24 2017-03-02 Enverid Systems, Inc. Scrubber for hvac system
WO2017184780A1 (en) 2016-04-19 2017-10-26 Enverid Systems, Inc. Systems and methods for closed-loop heating and regeneration of sorbents
EP3448541A4 (en) * 2016-04-28 2020-01-01 Entegris, Inc. FILTER CARTRIDGE SYSTEM FOR AIR-CARRIED MOLECULAR IMPURITIES WITH FLAMMABLE FILTER CARTRIDGE AND REUSABLE FRAME
US10278656B2 (en) 2016-05-09 2019-05-07 Image Insight, Inc. Medical devices for diagnostic imaging
JPWO2018043697A1 (ja) * 2016-09-02 2019-06-24 富士フイルム株式会社 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
US11110387B2 (en) 2016-11-10 2021-09-07 Enverid Systems, Inc. Low noise, ceiling mounted indoor air scrubber
CN108159840A (zh) * 2016-12-07 2018-06-15 杰智环境科技股份有限公司 具有较佳结构强度的转轮结构
MX2019008374A (es) * 2017-01-13 2019-12-02 Gvs Filtration Inc Metodo para fabricar un filtro de fluidos.
CN107081039A (zh) * 2017-06-14 2017-08-22 上海安居乐环保科技股份有限公司 一种新型VOCs吸附浓缩转轮
CN109141973B (zh) * 2017-06-28 2021-09-21 西安市宇驰检测技术有限公司 固定污染源大气中酸雾的收集装置和方法
GB201802917D0 (en) 2018-02-22 2018-04-11 Micromass Ltd Charge detection mass spectrometry
CN111836824A (zh) * 2018-03-15 2020-10-27 克拉维格两合股份有限公司 用于从溶液中去除污染物的复合材料
CN108956750B (zh) * 2018-06-01 2021-07-27 清华大学深圳研究生院 一种工作于低气压条件的离子迁移谱装置
CN108854281B (zh) * 2018-07-03 2020-11-17 江苏爱科固体废物处理有限公司 一种化工车间环保吸气装置及其使用方法
DE102018119408A1 (de) * 2018-08-09 2020-02-13 Innovative Sensor Technology ISTAG Filter für einen Feuchtesensor
KR20210080568A (ko) 2018-12-20 2021-06-30 엔테그리스, 아이엔씨. 능동 습식 스크러빙 여과 시스템
KR20220099993A (ko) 2019-12-09 2022-07-14 후지필름 가부시키가이샤 처리액, 패턴 형성 방법
US11842891B2 (en) 2020-04-09 2023-12-12 Waters Technologies Corporation Ion detector

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0335034A1 (en) * 1988-03-30 1989-10-04 Uop An integrated process for the removal of sulfur compounds from fluid streams
EP0398847A2 (en) * 1989-05-18 1990-11-22 Fabrizio Mariani Air filter for civil and industrial applications
US5944878A (en) * 1995-04-12 1999-08-31 Curt Lindhe Konsult & Forvaltnings Ab Multiple-element air filter

Family Cites Families (97)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2430861A (en) * 1944-02-24 1947-11-18 John H Carpenter Gas purification method
US3019127A (en) 1957-10-07 1962-01-30 American Air Filter Co Filtering medium and method of making the same
NL241315A (ko) 1958-07-18
US3409691A (en) 1966-02-01 1968-11-05 Dow Chemical Co Porous cation exchange resins as selective sorbents in organic systems
US3607706A (en) 1967-08-04 1971-09-21 Ionics Method of making stable laminated cation-exchange membranes
USRE29410E (en) 1970-05-23 1977-09-20 C. Weinberger & Co., Ltd. Process for manufacturing of deodorizing air filters
GB1373388A (en) 1970-12-24 1974-11-13 Teijin Ltd Thermoplastic polymer fibres
US3961920A (en) * 1974-01-24 1976-06-08 Humphrey Gilbert Gas adsorber cell test sampler
JPS568901Y2 (ko) 1975-07-23 1981-02-26
US4135896A (en) * 1975-12-11 1979-01-23 Cvi Corporation Gas purifier having rechargeable adsorber filter with removeable rechargeable sample canister
US4055075A (en) * 1976-04-08 1977-10-25 Flanders Filters, Inc. Method and apparatus for the leak testing of filters
JPS5414478A (en) 1977-07-04 1979-02-02 Kurashiki Boseki Kk Method of uniformly pushing powdery substance to porous material
US4313832A (en) 1980-06-12 1982-02-02 Rohm And Haas Company Method for treatment of aqueous solutions with ion exchange fibers
US4322230A (en) 1980-09-08 1982-03-30 Donaldson Company, Inc. Unitized gas-particulate filter and housing
JPS6071830A (ja) * 1983-09-29 1985-04-23 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd 組替式局所環境制御室
IT1179369B (it) 1984-05-15 1987-09-16 Ital Idee Srl Gruppo filtrante multiplo, particolarmente per impianti di aerazione e condizionamento per autoveicoli e ambienti chiusi, munito di mezzi di controllo dell'efficienza
US4904343A (en) 1985-04-23 1990-02-27 American Cyanamid Company Non-woven activated carbon fabric
US5133864A (en) 1985-09-16 1992-07-28 The Dow Chemical Company Filters employing particulate porous polymers
JPS63119233A (ja) * 1986-11-07 1988-05-23 Hitachi Ltd Ｘ線転写装置
AU598606B2 (en) 1986-11-27 1990-06-28 Unitika Ltd. Adsorptive fiber sheet
US4760423A (en) 1987-03-12 1988-07-26 Savin Corporation Apparatus and method for reducing hydrocarbon emissions from a liquid-based electrophotographic copying machine
US5143552A (en) 1988-03-09 1992-09-01 Tokyo Electron Limited Coating equipment
DE3813563C2 (de) 1988-04-22 2002-01-17 Mhb Filtration Gmbh & Co Kg Adsorptionsfilter mit hoher Luftdurchlässigkeit
JPH0226612A (ja) * 1988-07-18 1990-01-29 Shin Etsu Handotai Co Ltd ガス体中の微量イオンの捕捉方法及びガス体浄化方法及びガス体浄化フィルター装置
US5023654A (en) 1988-10-31 1991-06-11 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Thermal fixing device for image recording apparatus
JP2736662B2 (ja) * 1988-11-04 1998-04-02 東芝セラミックス株式会社 半導体ウェーハの曇防止装置
US5582865A (en) 1988-12-12 1996-12-10 Extraction Systems, Inc. Non-woven filter composite
US5626820A (en) 1988-12-12 1997-05-06 Kinkead; Devon A. Clean room air filtering
US4946480A (en) 1989-09-27 1990-08-07 Hauville Francois P Filter apparatus with improved filtration and saturation level detector
US5130743A (en) 1989-10-23 1992-07-14 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Image forming apparatus having means for indicating timing of heat-fixing filter
US5387380A (en) 1989-12-08 1995-02-07 Massachusetts Institute Of Technology Three-dimensional printing techniques
US5204055A (en) 1989-12-08 1993-04-20 Massachusetts Institute Of Technology Three-dimensional printing techniques
JP2536957B2 (ja) * 1990-08-31 1996-09-25 日立プラント建設株式会社 クリ―ンル―ム
US5219464A (en) 1990-10-09 1993-06-15 Tokyo Electron Limited Clean air apparatus
US5181819A (en) 1990-10-09 1993-01-26 Tokyo Electron Sagami Limited Apparatus for processing semiconductors
US5328758A (en) 1991-10-11 1994-07-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Particle-loaded nonwoven fibrous article for separations and purifications
US5166530A (en) 1991-12-20 1992-11-24 General Signal Corporation Illuminator for microlithographic integrated circuit manufacture
US5200554A (en) 1992-01-21 1993-04-06 Nasman Jan Anders H Bisphosphonic acid derivatives and their use
US5302354A (en) * 1992-06-26 1994-04-12 Pall Corporation Filtration device
US5430303A (en) 1992-07-01 1995-07-04 Nikon Corporation Exposure apparatus
US5306321A (en) 1992-07-07 1994-04-26 Donaldson Company, Inc. Layered air filter medium having improved efficiency and pleatability
JPH0763578B2 (ja) * 1992-08-04 1995-07-12 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 環状アルキレンカーボネートの洗気による削減方法
JP3238495B2 (ja) * 1992-11-02 2001-12-17 日本原子力研究所 クリーンルーム内の微量汚染空気の浄化方法
JP2818693B2 (ja) 1992-11-18 1998-10-30 ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション 固定された粒子物質を含有する繊維状構造物およびその製造方法
JPH06154545A (ja) * 1992-11-18 1994-06-03 Sekisui Plastics Co Ltd 脱臭装置
US5399377A (en) 1992-12-31 1995-03-21 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Borazine oligomers and composite materials including boron nitride and methods of making the same
US5290345A (en) 1993-01-13 1994-03-01 Donaldson Company, Inc. Refillable gas adsorption bed assembly and counterflow adsorber module
EP0743089B1 (en) 1993-01-25 2000-05-17 Daikin Industries, Limited Porous polytetrafluoroethylene film
US5514196A (en) 1993-02-04 1996-05-07 Tokyo Electron Limited Air cleaning apparatus
JP3334929B2 (ja) 1993-02-04 2002-10-15 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置
KR100242530B1 (ko) 1993-05-18 2000-02-01 히가시 데쓰로 필터장치
US5647356A (en) 1993-07-28 1997-07-15 Donaldson Company, Inc. Respirator cartridge with sealing fit test structure and method of use
JP3448670B2 (ja) 1993-09-02 2003-09-22 株式会社ニコン 露光装置及び素子製造方法
US5772738A (en) * 1993-11-30 1998-06-30 Purex Co., Ltd. Multifunctional air filter and air-circulating clean unit with the same incorporated therein
JP3489891B2 (ja) * 1993-11-30 2004-01-26 野村マイクロ・サイエンス株式会社 多機能エアフィルター及び該フィルターが組込まれた空気循環式クリーンユニット
US5607647A (en) 1993-12-02 1997-03-04 Extraction Systems, Inc. Air filtering within clean environments
US5462485A (en) 1993-12-03 1995-10-31 Extraction Systems, Inc. Controlling air quality
US5453313A (en) * 1994-01-26 1995-09-26 Environmental, L.L.C. Elastomeric polysulfide composites and method
DE4407149B4 (de) * 1994-03-04 2006-06-29 Mhb Filtration Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung einer mehrlagigen Adsorptionsfilterschicht
SE515506C2 (sv) 1994-06-17 2001-08-20 Mhb Filtration Gmbh & Co Kg Luktfilter för ventilationsutloppshuvar
SE509743C2 (sv) 1994-06-17 1999-03-01 Bluecher Hasso Von Adsorptionsfilterskikt
US5685895A (en) 1994-08-10 1997-11-11 Nikon Corporation Air cleaning apparatus used for an exposure apparatus
US5675752A (en) 1994-09-15 1997-10-07 Sony Corporation Interactive applications generator for an interactive presentation environment
TW288051B (ko) 1994-11-22 1996-10-11 Ebara Corp
US5856198A (en) 1994-12-28 1999-01-05 Extraction Systems, Inc. Performance monitoring of gas-phase air filters
JP3346680B2 (ja) 1995-05-11 2002-11-18 株式会社西部技研 湿気交換用吸着体
US5833726A (en) 1995-05-26 1998-11-10 Extraction System, Inc. Storing substrates between process steps within a processing facility
US5834114A (en) 1995-05-31 1998-11-10 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Coated absorbent fibers
JP2000509327A (ja) 1996-05-03 2000-07-25 エムハーベー フィルトラツィオーン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト フィルタ材料及びフィルタ材料の製法並びにこのフィルタ材料から製作された吸着フィルタ
KR100197900B1 (ko) * 1996-07-24 1999-06-15 윤종용 반도체 청정실용의 공기조화시스템
US5743927A (en) 1996-07-31 1998-04-28 Donaldson Company, Inc. Air filter element; assembly; and, method
JP3552140B2 (ja) * 1997-01-31 2004-08-11 株式会社荏原製作所 気体の清浄化方法及びその装置
JPH10230117A (ja) * 1997-02-18 1998-09-02 Ebara Corp ケミカルフィルタ装置及びその制御方法
US6096267A (en) * 1997-02-28 2000-08-01 Extraction Systems, Inc. System for detecting base contaminants in air
US5928792A (en) 1997-05-01 1999-07-27 Millipore Corporation Process for making surface modified porous membrane with perfluorocarbon copolymer
US6033573A (en) 1997-05-29 2000-03-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of Agriculture Activated nutshell carbons from agricultural waste
US5964927A (en) * 1997-07-11 1999-10-12 Donaldson Company, Inc. Adsorption apparatus
US6056805A (en) 1997-08-15 2000-05-02 Guardian Environmental Technologies, Inc. Method and apparatus for the absorption of non-polar organic molecules on hydrocarbon block copolymers
JP3342838B2 (ja) * 1997-09-22 2002-11-11 東京エレクトロン株式会社 処理装置および処理方法
US6068685A (en) * 1997-10-15 2000-05-30 Saes Pure Gas, Inc. Semiconductor manufacturing system with getter safety device
US6013821A (en) 1998-06-25 2000-01-11 Abbott Laboratories Removal of silylated compounds from solvent and gas waste streams
CN1160145C (zh) 1998-08-05 2004-08-04 东丽株式会社 化学过滤装置和气体净化系统
EP1105203B1 (en) 1998-08-20 2004-01-28 Extraction Systems, Inc. Filters employing porous strongly acidic polymers
EP1402943B1 (en) 1998-08-20 2013-04-10 Entegris, Inc. Filters employing porous strongly acidic polymers
DE19844167A1 (de) 1998-09-25 2000-04-06 Ticona Gmbh Aktivkohlefilter
WO2000025896A1 (en) 1998-11-03 2000-05-11 Donaldson Company, Inc. Gas chemical filter having compression mechanism; and methods
JP2980124B1 (ja) * 1998-11-26 1999-11-22 日本電気株式会社 ケミカルフィルタ及びその交換判定法、並びに気体浄化装置
DE19859788C1 (de) * 1998-12-23 2000-03-23 Draeger Sicherheitstech Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Anzeige der Erschöpfung eines Gasfilters
US6207460B1 (en) * 1999-01-14 2001-03-27 Extraction Systems, Inc. Detection of base contaminants in gas samples
US7540901B2 (en) 2000-05-05 2009-06-02 Entegris, Inc. Filters employing both acidic polymers and physical-adsorption media
KR100825146B1 (ko) 2000-05-05 2008-04-24 엔테그리스, 아이엔씨. 산성 중합체와 물리적 흡착 매체를 사용하는 필터
JP2001317000A (ja) 2000-05-08 2001-11-16 Osaka Gas Co Ltd 活性炭含有紙およびエアフィルター
EP1292973B1 (en) 2000-06-23 2015-09-09 Honeywell International, Inc. Method to restore hydrophobicity in dielectric films and materials
US6533847B2 (en) 2001-02-13 2003-03-18 Donaldson Company, Inc. Adsorption apparatus
US7264648B1 (en) 2003-06-19 2007-09-04 Applied Filter Technology, Inc. Removing siloxanes from a gas using a segmented filtration system customized to the gas composition
US7132011B2 (en) 2003-09-02 2006-11-07 Entegris, Inc. Reactive gas filter
TWI417130B (zh) 2006-07-13 2013-12-01 Entegris Inc 過濾系統

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0335034A1 (en) * 1988-03-30 1989-10-04 Uop An integrated process for the removal of sulfur compounds from fluid streams
EP0398847A2 (en) * 1989-05-18 1990-11-22 Fabrizio Mariani Air filter for civil and industrial applications
US5944878A (en) * 1995-04-12 1999-08-31 Curt Lindhe Konsult & Forvaltnings Ab Multiple-element air filter

Also Published As

Publication number Publication date
KR20030001471A (ko) 2003-01-06
WO2001085308A2 (en) 2001-11-15
AU2001259568A1 (en) 2001-11-20
EP1357998B1 (en) 2014-12-03
US20020078828A1 (en) 2002-06-27
US20050051030A1 (en) 2005-03-10
CA2406703A1 (en) 2001-11-15
US20020178923A1 (en) 2002-12-05
JP5595627B2 (ja) 2014-09-24
US7014693B2 (en) 2006-03-21
US6761753B2 (en) 2004-07-13
WO2001085308A3 (en) 2003-09-12
EP1357998A2 (en) 2003-11-05
WO2001085308A8 (en) 2002-09-06
US6740147B2 (en) 2004-05-25
JP2013150979A (ja) 2013-08-08
JP2003533339A (ja) 2003-11-11
EP2269710A1 (en) 2011-01-05
USRE44536E1 (en) 2013-10-15

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Publication Publication Date Title
KR100825146B1 (ko) 산성 중합체와 물리적 흡착 매체를 사용하는 필터
US7540901B2 (en) Filters employing both acidic polymers and physical-adsorption media
US5607647A (en) Air filtering within clean environments
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