KR100765383B1 - Apparatus for detecting split of water curtain - Google Patents
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Abstract
Description
도 1 은 유리기판을 클린닝하기 위하여 수막 분사 나이프로부터 수막이 분사되는 모습을 도시한다.1 shows a state in which a water film is sprayed from a water film spray knife to clean a glass substrate.
도 2 는 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치의 전체적인 구성도이다.2 is an overall configuration diagram of a device for detecting water splitting according to the present invention.
도 3 은 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치의 초음파 발신기 모듈을 나타낸다.Figure 3 shows an ultrasonic transmitter module of the tear film detection device according to the present invention.
도 4 는 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치의 초음파 수신기 모듈을 나타낸다.4 shows an ultrasonic receiver module of the apparatus for detecting water film breakage according to the present invention.
도 5 는 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치를 측면에서 바라본 개요도이다.Fig. 5 is a schematic side view of the apparatus for detecting water film splitting according to the present invention.
도 6 은 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치를 정면에서 바라본 개요도이다.Fig. 6 is a schematic view of the water film cracking detection device according to the present invention as viewed from the front.
도 7 은 본 발명에서 수막이 갈라진 것을 초음파에 의해 감지되는 것을 도시한다.7 shows that the water film is detected by ultrasonic waves in the present invention.
도 8 은 초음파 송수신부에 설치된 송수신 센서들의 배치간격을 도시한다.8 is a layout interval of transmission and reception sensors installed in an ultrasonic transceiver.
** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 **** Explanation of symbols for main parts of drawings **
10: 유리기판 20: 수막 분사 나이프10: glass substrate 20: water film spray knife
30: 수막 35: 수막의 갈라진 영역30: water film 35: cracked area of water film
50: 초음파송신부 60: 초음파수신부50: ultrasonic transmitter 60: ultrasonic receiver
70: 송수신컨트롤러70: transmit / receive controller
본 발명은 수막의 갈아짐 검출장치에 관한 것으로, 더욱 자세히 설명하면, 엘씨디의 제조공정중 유리 원판에 수막분사나이프를 이용하여 균일한 수막을 분사하여 유리기판을 클린닝(cleaning)하는 공정에서 수막이 갈라짐이 없이 균일하게 분사되는지를 검출하는 수막의 갈라짐 검출장치에 관한 것이다.The present invention relates to a device for detecting water film cracking, and more specifically, to a water film in a process of cleaning a glass substrate by spraying a uniform water film using a water film spraying knife on a glass disc during the manufacturing process of an LCD. The present invention relates to a crack detection apparatus for water film that detects whether the jet is uniformly sprayed without cracks.
일반적으로, LCD패널, 모니터, PDP장치, 반도체 디바이스, 노트북 등에 사용되는 액정표시장치 등의 전자 기기분야에 있어서, 그 제조 공정 중에 피처리 기판인 반도체 기판이나 유리기판의 표면에 부착된 고착성 이물질 등을 제거하기 위한 세정처리 공정이 필수적이다.In general, in the field of electronic devices such as liquid crystal displays used in LCD panels, monitors, PDP devices, semiconductor devices, notebook computers, and the like, adherent foreign matter adhered to the surface of a semiconductor substrate or a glass substrate, which is a substrate to be processed, during the manufacturing process. A cleaning process is necessary to remove this.
이는, 만일 세정되지 않은 액정유리기판을 사용시에는 액정유리기판을 사용한 노트북 모니터, LCD, PDP 등과 같은 제품의 품질이 저하되는 결점이 발생하였기 때문이다.This is because, if an uncleaned liquid crystal glass substrate is used, a defect occurs such that the quality of a product such as a notebook monitor, an LCD, a PDP, etc. using the liquid crystal glass substrate is deteriorated.
따라서 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 세정작업을 진행하기 위하여 세정 장치가 제안되었고, 종래의 세정장치를 사용하여 유리기판의 표면에 부착된 유리가루와 같은 이물질을 제거하는 세정작업을 통하여 유리기판의 표면에 부착된 이물질들을 제거하는 세정작업이 진행되어 왔다.Therefore, a cleaning apparatus has been proposed to proceed with a cleaning operation to solve such a problem, and the surface of the glass substrate through a cleaning operation for removing foreign substances such as glass powder attached to the surface of the glass substrate using a conventional cleaning apparatus Cleaning has been carried out to remove the foreign matter attached to the.
종래의 세정장치로는 브러시를 이용한 세정장치와 물을 분사하여 세정하는 세정장치가 있다. Conventional cleaning apparatuses include a cleaning apparatus using a brush and a cleaning apparatus for cleaning by spraying water.
브러시를 이용한 세정장치를 사용할 경우에는 액정유리기판의 두께에 따라 일일이 브러시의 높낮이를 다시 세팅해야 하므로 작업시간이 많이 소요되어 생산성이 저하될 뿐만 아니라, 세정작업 중 강하게 눌러 세정할 경우에는 유리기판 표면에 흠집이 발생되어 제품의 신뢰성이 떨어지는 문제점이 있었다.In case of using a cleaning device using a brush, the height of the brush must be set again according to the thickness of the liquid crystal glass substrate. Therefore, it takes a lot of work time and decreases productivity. Scratches occurred in the product, there was a problem that the reliability of the product falls.
물을 분사하여 세정하는 세정장치는 유리기판의 표면에 부착된 유리가루와 같은 고착성 이물질을 세정장치에 의해 물을 분사하여 깨끗한 상태로서 세정시킬 수 있고, 작업하고자 하는 유리기판의 두께와 상관없이 작업헤드가 상하로 호환성 있게 조절되면서 일정한 힘을 가하여 효율적으로 세정작업을 진행할 수 있어서 작업시간을 단축시킬 수 있었다. 다만, 물을 분사하여 세정하는 세정장치가 물을 분사하여 유리기판을 세정할 때 분사되는 수막에 수막 갈라짐 (split)이 발생하고, 수막갈라짐이 있는 부분의 유리기판 부분은 세정공정이 잘 처리되지 못하는 문제점이 있다.The cleaning device that sprays water to clean adherent foreign substances such as glass powder attached to the surface of the glass substrate can be cleaned by spraying water with the cleaning device to clean it, and work regardless of the thickness of the glass substrate to be worked on. As the head was adjusted up and down interchangeably, the cleaning work could be carried out efficiently by applying a constant force, which shortened the working time. However, when the cleaning device that sprays water and cleans the glass substrate by spraying water, water film splitting occurs in the sprayed water film, and the glass substrate part of the water film cracking part is not well processed. There is a problem.
본 발명은 상기한 종래의 세정장치의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으 로, DI 용액 또는 약액을 종래의 수막분사나이프를 이용하여 수막을 형성하면서 유리기판상에 분사하여 세정하는 장치에, 수막의 갈라짐이 발생하는지를 검출할 수 있는 검출장치를 설치하여, 수막의 갈라짐 현상이 검출되면 수막분사 나이프의 결함부위를 수정하거나 교체하여 수막분사나이프로부터 분사되는 DI 용액 또는 약액의 수막의 갈라짐이 없도록 하는 수막 갈라짐 검출장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in order to solve the above problems of the conventional cleaning device, a device for cleaning by spraying a DI solution or a chemical liquid on a glass substrate while forming a water film using a conventional water film spraying knife, If a detection device for detecting water film is detected and a water film is cracked, the water film is cracked to correct or replace a defective portion of the water film injection knife so that the water film of the DI solution or chemical liquid sprayed from the water film spray knife is not cracked. It is an object to provide a detection device.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 수막 갈라짐 검출장치는, In order to achieve the above object, the water film cracking detection device according to the present invention,
일정한 두께의 용액 수막을 만드는 수막분사나이프 (20) 에서 수막을 유리기판에 분사시켜서 유리기판 (10) 의 이물질을 제거하고 세정하는 세정장치에 있어서,In the cleaning apparatus for removing and cleaning foreign substances on the
상기 수막분사나이프 (20) 로부터 분사되는 수막 (30) 위에 설치되고, 초음파신호를 상기 분사되는 수막 (30)을 향해 송신하는 초음파송신부 (50); An ultrasonic transmitter (50) installed on the water film (30) sprayed from the water film spray knife (20) and transmitting an ultrasonic signal toward the water film (30) to be sprayed;
상기 분사되는 수막 (30) 의 밑과 상기 유리기판 사이에 설치되고, 상기 초음파송신수 (50)로부터 송신되고, 수막의 갈라진 영역(35) 을 통과한 초음파신호를 수신하는 초음파수신부 (60); 및An
상기 초음과 송수신부 (50, 60) 와 전기적으로 연결되고, 상기 초음파 송신부 (50) 로부터의 초음파신호 송신을 제어하고, 상기 초음파 수신부 (60)에서 수신받은 상기 수막의 갈라진 영역 (36) 을 통과한 초음파신호를 분석하여 상기 수막 (30) 의 수막의 갈라진 영역 (35) 을 검출하는 송수신컨트롤러 (70)를 포함하고,The ultrasonic signal is electrically connected to the transceiving
상기 초음파송신부 (50) 에는 초음파신호를 상기 수막 (30) 을 향해 송신하 는 다수개의 송신센서들 (52) 이 일렬로 설치되고,The
상기 초음파수신부 (60) 에는 상기 초음파송신부 (50)로부터 송신되어 상기 수막의 갈라진 영역 (35) 을 통과한 초음파신호를 수신하는 다수개의 수신센서 (62) 들이 일렬로 설치되는 것을 특징으로 하고, 상기 초음파수신부 (60) 에 설치된 각각의 수신센서들 (62) 의 간격은 상기 초음파송신부 (50) 에 설치된 각각의 송신센서들 (52) 의 간격보다 더 조밀한 것을 특징으로 하고, 상기 수막갈라짐 검출장치는 장비컨트롤러 (80) 를 더 포함하도록 구성되고, 상기 장비컨트롤러 (80) 는 유리기판이 세정되는 상기 세정장치가 설치되어 있는 공장 외부에서 상기 송수신 컨트롤러 (70) 에 신호를 보내어 외부에서 수막의 갈라진 영역 (35) 을 검출하고 모니터링 할 수 있는 것을 특징으로 하고,상기 수막 (30) 과 초음파수신부 (60) 는 10 내지 40 mm 이격되어 있는 것을 특징으로 하고, 상기 초음파수신부 (60) 에 설치된 각각의 수신센서들 (62) 의 간격은 상기 초음파송신부 (50) 에 설치된 각각의 송신센서들 (52) 의 간격보다 2 배이상 조밀하게 설치된 것을 특징으로 한다.The
본 발명의 특징, 장점 및 바람직한 실시예 등은 첨부된 도면들을 참조하여 아래에서 상세히 설명한다.Features, advantages and preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.
도 1 은 유리기판을 클린닝하기 위하여 수막 분사 나이프로부터 수막이 분사되는 모습을 도시한다.1 shows a state in which a water film is sprayed from a water film spray knife to clean a glass substrate.
도 1 을 참조하면, 엘씨디 제조공정 중 유리기판 (20) 을 이동시켜면서 수막분사 나이프 (20) 를 통하여 일정한 수막 (30) (DI 용액 등) 을 유리기판 (10) 에 분사하여 수평이동중인 유리 원판 (10)의 표면을 클린닝 (cleaning) 하는 세정공정이 도시되어 있다.Referring to FIG. 1, while the
수막분사 나이프 (20) 는 도 1 과 같이 수막이 분사되는 부분에 아주 얇은 틈을 가지고 있고, 일정한 압력과 일정한 두께의 수막이 분사되도록 설치된 종래의 장치이다.The water
종래에 노트북 모니터, PDP (Plasma Display Panel) 등과 같은 액정유리기판의 이물질 제거 및 세정을 위하여 도 1 과 같은 장비가 사용되어 지고 있다.Conventionally, equipment as shown in FIG. 1 has been used for removing and cleaning foreign substances of liquid crystal glass substrates such as notebook monitors and plasma display panels (PDPs).
도 2 는 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치의 전체적인 구성도이다. 도 3 은 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치의 초음파 발신기 모듈을 나타낸다. 도 4 는 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치의 초음파 수신기 모듈을 나타낸다.2 is an overall configuration diagram of a device for detecting water splitting according to the present invention. Figure 3 shows an ultrasonic transmitter module of the tear film detection device according to the present invention. 4 shows an ultrasonic receiver module of the apparatus for detecting water film breakage according to the present invention.
도 2 를 참조하면, 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치는 초음파를 수막 (30) 을 향하여 송신하는 초음파 송신부 (50), 도 7 의 수막의 갈라진 영역 (35) 을 통과한 초음파를 수신하는 초음파 수신부 (60), 초음파 송수신부 (50, 60)에서 초음파의 송수신을 제어하고, 초음파수신부 (60)의 각각의 수신센서 (62) 에서 수신된 초음파 신호값을 검출하는 송수신 컨트롤러 (70) 및 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치를 전체적으로 세정공정이 진행되는 장소의 외부에서 제어하는 장 비컨트롤러 (80) 로 구성되어 있다.Referring to FIG. 2, the apparatus for detecting water splitting according to the present invention includes an ultrasonic
본 발명에 따른 초음파 송신부 (50) 는 도 1 의 수막분사 나이프 (20) 로부터 분사되는 수막 (30) 을 향하여 초음파를 송신하고, 도 7의 수막의 갈라진 영역 (35) 을 통과한 초음파를 초음파 수신부 (60) 가 수신받아서, 각각의 수신센서 (62) 중에서 수막의 갈라진 영역 (35) 을 통과한 초음파를 수신한 해당 수신센서가 검출되면, 해당 수신센서 (62) 가 위치한 지점에 수막의 갈라진 영역 (split) (35) 이 있다고 탐지하는 방식으로 수막의 갈라짐 (split) 여부를 송수신 콘트롤러 (70)가 체크하도록 구성한다.The
도 3 및 도 4 를 참조하면, 초음파 송신부 (50) 는 일정한 간격을 가지고, 일직선상에 설치된 다수개의 송신센서들 (52), 각각의 송신센서들 (52) 과 전기적으로 연결된 송신케이블 (54) 로 구성되고, 송신센서들 (52) 과 송신케이블 (54) 은 내 산화 방수케이스에 케이싱되어 있다. 3 and 4, the
본 발명에 따른 초음파 수신부 (60) 는 일정한 간격을 가지고 일직선상에 설치된 다수개의 수신센서들 (62), 각각의 수신센서들 (62) 과 전기적으로 연결된 수신케이블 (64) 로 구성되고, 수신센서들 (62) 과 수신케이블 (64) 은 내 산화 방수케이스에 케이싱되어 있다.
초음파 수신부 (60) 의 각각의 수신센서 (62)들이 일직선으로 배열된 간격은 초음파송신부 (50) 의 각각의 송신센서 (52) 의 간격보다 더 좁게 배치되어 있다. 각각의 송신센서 (52) 의 초음파 영역은 이웃하는 송신센서 (52) 의 초음파 영역과 중첩이 될 수 있는 만큼 이격되어 있으면 충분하기 때문에, 초음파 수신부 (60) 의 각각의 수신센서 (62)보다 배열된 간격이 더 넓어도 수막의 갈라짐을 검출하는데는 지장이 없다.The intervals in which the
다만, 초음파 수신부 (60) 의 각각의 수신센서 (62)들은 각각의 간격이 조밀하게 설치하여 작은 수막의 갈라진 영역 (35) 도 감지하도록 설치된다.However, each of the
실제로 설치되는 송신센서 (52) 의 개수와 수신센서 (62) 의 개수와 배치거리는 실제의 장비의 크기 등의 상황에 따라 임의적으로 변경될 수 있다.The number of
도 5 는 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치를 측면에서 바라본 개요도이다. Fig. 5 is a schematic side view of the apparatus for detecting water film splitting according to the present invention.
도 5 를 참조하면, 수막분사나이프 (20) 를 통하여 분사될 용액 (32) 이 저장되어 있고, 수막분사나이프 (20) 를 통하여 분사되는 수막 (DI 용액 또는 O3, N2 약액) (30) 을 로울러 (7) 를 따라 수평이동중인 유리기판 (10) 에 수막 (30) 분사하면서 유리기판 (10) 을 세정한다.Referring to FIG. 5, a
초음파를 송신하는 초음파 송신부 (50) 는 수막분사 나이프 (20)를 통하여 분사되는 수막 (30) 의 윗부분에 설치되어 수막 (30) 을 향하여 초음파를 송신하고, 초음파 수신부 (60) 는 수막 (30) 의 밑부분과 유리기판 (10) 의 위부분 사이에 설치되고, 초음파 송신부 (50) 로부터 도 7 의 수막의 갈라진 영역 (35) 을 통과하여 송신되는 초음파신호를 수신한다.
본 발명의 수막분사 나이프 (20) 를 통하여 분사되는 DI 용액 등은 수막분사 나이프 (20) 와 연결되어 저장되어 있다.DI solution or the like sprayed through the water
도 6 은 본 발명에 따른 수막의 갈라짐 검출장치를 정면에서 바라본 개요도이다.Fig. 6 is a schematic view of the water film cracking detection device according to the present invention as viewed from the front.
도 6 을 참조하면, 수막분사 나이프 (20) 의 노즐로부터 수막 (30) 이 유리기판 (10) 을 향하여 분사되고, 분사되는 수막 (30) 에는 어떠한 수막 갈라짐 (split) 이 없는 것이 도시되어 있다. 초음파송신부 (50) 로 부터 송신된 초음파신호가 수막 (30) 을 통과하지 못하고 따라서 초음파수신부 (60) 의 각각의 수신센서들 (62) 은 아무런 초음파신호를 수신하지 않는다. Referring to FIG. 6, it is shown that the
초음파수신부 (60) 가 아무런 초음파 신호를 수신하지 않는 동안에는 송수신컨트롤러 (70)는 수막분사 나이프 (20)로부터 분사되는 수막 (30) 에 도 7 의 수막의 갈라진 영역 (35) 이 발생하지 않는 것으로 판단한다.While the
도 7 은 본 발명에서 수막이 갈라진 것을 초음파에 의해 감지되는 것을 도시한다.7 shows that the water film is detected by ultrasonic waves in the present invention.
도 7 을 참조하면, 수막분사나이프 (20) 의 노즐로부터 분사되는 액체 수막 (30) 의 일부분에 수막의 갈라진 영역(35) 이 발생한 경우를 설명한다. Referring to FIG. 7, the case where the cracked area |
수막분사 나이프 (20) 의 노즐로부터 수막 (30) 이 유리기판 (10) 을 향하여 분사되고, 이 때 분사되는 수막 (30) 에는 수막의 갈라진 영역 (35) 이 발생한 것이 도시되어 있다. 초음파송신부 (50) 로부터 송신된 초음파신호가 수막의 갈라진 영역 (35) 을 통과하고 초음파수신부 (60) 의 수신센서 (62) 에 의해 수막의 갈라 진 영역 (35) 을 통과한 초음파 신호가 수신된다. The
상기 초음파신호를 수신한 초음파수신부 (60)의 해당 수신센서 (62) 는 도 2의 송수신 컨트롤러 (70)로 상기 초음파신호가 수신되었다는 신호를 전송하게 되고, 해당 초음파신호가 수신된 해당 수신센서를 검출하고, 해당 수신센서 부근에서 수막의 갈라진 영역 (35) 이 발생한 것으로 송수신컨트롤러 (70)는 판단한다.The corresponding receiving
이와 같은 수막의 갈라진 영역 (35) 이 발생한 경우에는 수막의 갈라진 영역 (35) 이 발생한 영역의 유리기판 (10) 은 제대로 세정이 되지 않을 가능성이 높고, 이는 제품의 불량을 발생시킬 가능성을 높일 수 있다.If such a cracked
이러한 경우 작업자는 세정작업을 중지하고, 수막의 갈라진 영역 (35) 이 발생하는 원인을 찾아서 이를 해결하고, 다시 세정장치를 작동시켜서 수막이 갈라진 영역 (35) 이 없이 수막분사 나이프 (20) 로부터 수막 (30) 이 분사되게 한다.In this case, the operator stops the cleaning operation, finds out the cause of the occurrence of the cracked
도 8 은 초음파 송수신부에 설치된 송수신 센서들의 배치간격을 도시한다.8 is a layout interval of transmission and reception sensors installed in an ultrasonic transceiver.
도 8 을 참조하면, 초음파송신부 (50) 의 송신센서들 (52) 보다 초음파수신부 (60) 의 수신센서들 (62) 이 더 조밀하게 배치되어 있는 것을 알 수 있다. 초음파수신부 (60) 의 각각의 수신센서들 (62) 은 조밀하게 배치될수록 보다 작은 수막의 갈라진 영역 (35) 조차도 검출할 수 있다. 그러나 송수신센서들 (52, 62) 의 조밀한 배치는 비용이 증가하는 문제점이 발생하므로 얼마큼 조밀하게 송수신센서 (52, 62) 들을 배치할지에 대한 조율이 필요하다. Referring to FIG. 8, it can be seen that the receiving
도 8 에는 초음파수신부 (60) 의 수신센서들 (62) 이 초음파송신부 (50) 의 송신센서들 (52) 보다 2배 더 조밀하게 배치되어 있는 모습이 도시되어 있다.8 shows that the receiving
기본적으로 송수신센서 (52, 62) 의 송수신 파형각도로 예상할 수 있는 최대감지는 1mm 이상의 수막의 갈라진 영역 (35) 을 감지할 수 있다.Basically, the maximum detection that can be predicted by the transmission / reception waveform angles of the transmission /
그리고, 액체의 경우에는 고유의 점도를 가지고 있기 때문에 수막분사나이프 (20) 의 틈에 파티클 (particle) 로 인한 수막의 갈라진 영역 (35) 은 1mm 이상이 예상된다. 따라서 장비의 상황에 따라 송수신 센서 (52, 62) 를 적당한 배치 거리와 개수를 정하는 것이 바람직하다. Since the liquid has an inherent viscosity, the cracked
본 발명에 따른 수막 갈라짐 검출장치의 발명으로 인하여, 유리기판을 세정하기 위하여 수막분사 나이프로부터 DI 용액 등이 일정한 두께의 수막을 형성하면서 유리기판을 세정하는 동안에, 분사되는 수막에 갈라짐이 발생한 것을 검출할 수 있고, 수막갈라짐을 검출할 수 있기 때문에 수막 갈라짐이 발생하는 영역의 유리기판이 제대로 세정이 되지 않았던 문제점을 개선할 수 있게 되었다.Due to the invention of the water film cracking detection device according to the present invention, a crack is generated in the sprayed water film while the glass substrate is cleaned while the DI solution or the like forms a water film having a constant thickness from the water film spray knife to clean the glass substrate. Since it is possible to detect the splitting of the meninges, it is possible to solve the problem that the glass substrate in the area where the splitting of the meninges is not properly cleaned.
즉, 초음파 수신부에 조밀하게 설치된 각각의 수신센서들에서 수막의 갈라진 영역을 통과한 초음파신호를 수신받고, 상기 초음파신호를 수신한 해당 수신센서를 검출하여, 상기 수신센서가 위치한 지점에서 수막 갈라짐 현상이 발생하는 것으로 판단할 수 있는 효과가 있다.That is, each of the receiving sensors densely installed in the ultrasonic receiving unit receives the ultrasonic signal passing through the cracked area of the meninges, detects the corresponding receiving sensor that receives the ultrasonic signal, and breaks the meninges at the point where the receiving sensor is located. There is an effect that can be judged to occur.
초음파수신부의 수신센서들 중에서 수막의 갈라진영역을 통과한 초음파를 수신한 해당 수신센서를 검출하여 수막의 갈라짐 현상이 발생하는 지점을 검출하면, 수막분사 나이프에서 해당 지점을 조사하여 수막 갈라짐이 발생하는 원인을 찾아내 고 이를 수리하거나 교체하는 등의 문제해결을 위한 조치를 취할 수 있고, 궁극적으로 유리기판이 세정되는 동안에 분사되는 수막에 갈라짐이 발생하지 않은 상태로 수막이 분사되는 것을 보장하여 효율성이 높도록 유리기판의 세정을 달성할 수 있는 현저한 효과가 있다.If the detection sensor receives the ultrasonic wave that has passed through the cracked area of the water film among the receiving sensors of the ultrasound receiver, and detects the spot where the water film is cracked, the water film injection knife irradiates the spot to generate the water film crack. Take measures to solve problems such as finding the cause, repairing or replacing it, and ultimately ensuring that the water film is sprayed without cracking in the water film sprayed while the glass substrate is being cleaned. There is a remarkable effect that the cleaning of the glass substrate can be achieved to be high.
본 발명의 바람직한 실시례가 특정 용어들을 사용하여 기술되어 왔지만, 그러한 기술은 오로지 설명을 하기 위한 것이며, 다음의 청구범위의 기술적 사상 및 범위로 부터 이탈되지 않고서 여러 가지 변경 및 변화가 가해질 수 있는 것으로 이해되어져야 한다.While preferred embodiments of the present invention have been described using specific terms, such descriptions are for illustrative purposes only and various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the following claims. It must be understood.
Claims (6)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070026206A KR100765383B1 (en) | 2007-03-16 | 2007-03-16 | Apparatus for detecting split of water curtain |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020070026206A KR100765383B1 (en) | 2007-03-16 | 2007-03-16 | Apparatus for detecting split of water curtain |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR100765383B1 true KR100765383B1 (en) | 2007-10-10 |
Family
ID=39419771
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100765383B1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2007
- 2007-03-16 KR KR1020070026206A patent/KR100765383B1/en not_active IP Right Cessation
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