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KR100734234B1 - Multilayer printed circuit board and fabricating method thereof - Google Patents

Multilayer printed circuit board and fabricating method thereof Download PDF

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Publication number
KR100734234B1
KR100734234B1 KR1020060048144A KR20060048144A KR100734234B1 KR 100734234 B1 KR100734234 B1 KR 100734234B1 KR 1020060048144 A KR1020060048144 A KR 1020060048144A KR 20060048144 A KR20060048144 A KR 20060048144A KR 100734234 B1 KR100734234 B1 KR 100734234B1
Authority
KR
South Korea
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insulating layer
circuit pattern
via hole
laminated plate
printed circuit
Prior art date
Application number
KR1020060048144A
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Korean (ko)
Inventor
박세훈
박성대
유명재
강남기
이우성
박종철
Original Assignee
전자부품연구원
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Publication date
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Abstract

A multilayer printed circuit board and a method for manufacturing the same are provided to have high resistance to an external impact by enclosing a circuit pattern with an insulation layer and to improve the yield and shorten a manufacturing time by integrally laminating laminated plates through thermal compression. A multilayer printed circuit board includes a first laminated plate, a second laminated plate. The first laminated plate has a first insulating layer(130), a first circuit pattern(115), a first via-hole(150), and a conductive material. The first circuit pattern(115) is laid on the first insulating layer(130). A lower part of the first circuit pattern(115) is exposed. The first via-hole(150) is formed on an upper part of the first circuit pattern(115) and penetrates the first insulating layer(130). The conductive material is filled in the first via-hole(150). A second circuit pattern is laid on a location corresponding to the first circuit pattern of a second insulating layer. An upper part of the second circuit pattern is exposed. A second via-hole is formed on a lower part of the second circuit pattern and penetrates the second insulating layer. A conductive material is filled in the second via hole. The second laminated plate is electrically connected to the first laminated plate when the conductive material filled in the first via-hole corresponds to the conductive material filled in the second via-hole.

Description

다층 인쇄회로기판 및 그 제조방법{ Multilayer Printed Circuit Board and Fabricating Method Thereof }Multilayer Printed Circuit Board and Fabrication Method Thereof}

도 1a 내지 도 1g는 종래의 빌드업(Build-up) 방식에 따른 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 나타낸 단면도.1A to 1G are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to a conventional build-up method.

도 2a 내지 도 2f는 본 발명의 적층판을 제작하는 공정을 나타낸 단면도.2A to 2F are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing the laminate of the present invention.

도 3은 비아홀을 도전성 페이스트를 사용하여 충진하는 경우, 비아홀의 상태를 나타낸 단면도.3 is a cross-sectional view showing a state of a via hole when the via hole is filled using a conductive paste.

도 4는 본 발명의 각 적층판을 일괄 적층하는 공정을 나타낸 단면도.4 is a cross-sectional view showing a step of collectively laminating each laminate of the present invention.

도 5는 본 발명의 다층 인쇄회로기판의 실시예를 나타낸 단면도.5 is a cross-sectional view showing an embodiment of a multilayer printed circuit board of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

110 : 금속 박막 115 : 회로 패턴110: metal thin film 115: circuit pattern

120 : 제1 보호 필름 130 : 절연층120: first protective film 130: insulating layer

140 : 제2 보호 필름 150 : 비아홀140: second protective film 150: via hole

160 : 범프160: bump

본 발명은 다층 인쇄회로기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a multilayer printed circuit board and a method of manufacturing the same.

최근, 전자 산업의 급속한 발달로 전자 제품이 소형화, 박판화, 고밀도화, 경량화 됨에 따라 그 기반이 되는 인쇄회로기판(Printed Circuit Board : PCB)에서도 미세패턴화, 고정밀화, 소형화가 동시에 진행되고 있다.Recently, due to the rapid development of the electronics industry, as electronic products become smaller, thinner, higher density, and lighter, micropatterning, high precision, and miniaturization are simultaneously progressed on a printed circuit board (PCB), which is the basis thereof.

이러한 인쇄회로기판의 미세패턴 형성, 신뢰성 및 설계 밀도의 향상을 위해 원자재의 변경과 함께 회로의 층구성을 복합화하는 구조로 변화하는 추세이고, 부품 역시 DIP(Dual-In-Line Package) 타입에서 SMT(Surface Mount Technology) 타입으로 변경되면서 그 실장 밀도 역시 높아지고 있는 추세이다. In order to improve the pattern formation, reliability, and design density of the printed circuit board, there is a tendency to change the structure of the circuit layer with the change of raw materials, and the parts are also SMT in the DIP (Dual-In-Line Package) type. As the surface mount technology is changed, the mounting density is also increasing.

또한 전자기기의 휴대화와 더불어 고기능화, 인터넷, 동영상, 고용량의 데이터 송수신 등으로 인쇄회로기판의 설계가 복잡해지고 고난이도의 기술을 요하게 된다.In addition to the portableization of electronic devices, high functionalization, the Internet, moving pictures, and high-capacity data transmission and reception make the design of printed circuit boards complicated and require high-level technology.

인쇄회로기판에는 절연 기판의 일면에만 배선을 형성한 단면 인쇄회로기판, 양면에 배선을 형성한 양면 인쇄회로기판 및 다층으로 배선한 다층 인쇄회로기판(Multi Layered Board : MLB)가 있다. 과거에는 부품 소자들이 단순하고 회로 패턴도 간단하여 단면 인쇄회로기판을 사용하였으나, 최근에는 회로의 복잡도가 증가하고 고밀도 및 소형화 회로에 대한 요구가 증가하여 양면 인쇄회로기판 또는 다층 인쇄회로기판이 널리 사용되고 있다.The printed circuit board includes a single-sided printed circuit board having wiring formed only on one surface of an insulated substrate, a double-sided printed circuit board having wiring formed on both sides, and a multi-layered printed circuit board (MLB) wired in multiple layers. In the past, single-sided printed circuit boards were used because of simple component parts and simple circuit patterns. Recently, double-sided printed circuit boards or multilayer printed circuit boards have been widely used due to the increased complexity of circuits and increased demand for high density and miniaturized circuits. have.

상기 다층 인쇄회로기판은 배선 영역을 확대하기 위해 배선이 가능한 층을 추가로 형성한 것이다. 구체적으로, 다층 인쇄회로기판은 내층과 외층으로 구분된다. 내층에는 전원 회로, 접지 회로, 신호 회로 등을 형성하며, 내층과 외층간 또 는 외층 사이에는 절연층이 형성된다. 이때, 각 층의 배선은 비아홀을 이용하여 연결한다.The multilayer printed circuit board further includes a layer capable of wiring in order to enlarge a wiring area. Specifically, the multilayer printed circuit board is divided into an inner layer and an outer layer. An inner layer forms a power supply circuit, a ground circuit, a signal circuit, and the like, and an insulating layer is formed between the inner layer and the outer layer or the outer layer. At this time, the wiring of each layer is connected using via holes.

내층의 재료로서 박판 코어(Thin Core)를 사용하고, 외층과 내층을 절연층으로 접착한 구조의 4층 구조가 기본이며, 회로의 복잡도의 증가에 따라, 6층, 8층, 10층 또는 그 이상으로 구성되기도 한다. As a material of the inner layer, a thin core is used, and a four-layer structure in which an outer layer and an inner layer are bonded to each other as an insulating layer is basic. As the complexity of the circuit increases, six layers, eight layers, ten layers, or the like It may be composed of the above.

도 1a 내지 도 1g는 종래의 빌드업(Build-up) 방식에 따른 다층 인쇄회로기판의 제조방법을 나타낸 단면도이다. 이에 도시된 바와 같이, 먼저 절연층(100)에 동박(101)이 입혀져 있는 동박 적층판(Copper Clad Laminate : CCL)에 비아홀(102)을 형성한다(도 1a).1A to 1G are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to a conventional build-up method. As shown in the drawing, first, the via hole 102 is formed in a copper clad laminate (CCL) on which the copper foil 101 is coated on the insulating layer 100 (FIG. 1A).

다음으로, 상기 동박(101)과 비아홀(102)의 표면에 도금층(103)을 형성한다(도 1b). 상기 도금층은 무전해 도금을 먼저 실시한 다음, 전해 도금을 실시하여 형성한다. 전해 도금 전에 무전해 도금을 실시하는 이유는 절연층 위에서는 전기가 필요한 전해 도금을 실시할 수 없기 때문이다. 즉, 전해 도금에 필요한 도전성 막을 형성시켜 주기 위해서 그 전처리로서 얇게 무전해 도금을 하는 것이다. Next, a plating layer 103 is formed on the surfaces of the copper foil 101 and the via hole 102 (FIG. 1B). The plating layer is formed by performing electroless plating first, followed by electroplating. The reason why electroless plating is performed before electrolytic plating is that electrolytic plating requiring electricity cannot be performed on the insulating layer. In other words, in order to form a conductive film necessary for electrolytic plating, electroless plating is thinly performed as a pretreatment.

이어서, 상기 비아홀(102)을 충진하여 연결부(104)를 형성한다(도 1c). 상기 연결부(104)는 절연성의 잉크로 이루어질 수 있으며, 인쇄회로기판의 사용 목적에 따라 도전성 페이스트로 이루어질 수도 있다. Subsequently, the via hole 102 is filled to form a connecting portion 104 (FIG. 1C). The connection part 104 may be made of an insulating ink, or may be made of a conductive paste according to the purpose of using a printed circuit board.

그 후, 상기 동박(101) 및 도금층(103)을 식각하여 회로 패턴을 형성한다(도 1d). 상기 절연층(100) 위에 형성된 회로 패턴과 절연층(100) 아래에 형성된 회로 패턴은 비아홀(102) 내부에 형성된 도금층(103)을 통해 전기적으로 연결된다.Thereafter, the copper foil 101 and the plating layer 103 are etched to form a circuit pattern (FIG. 1D). The circuit pattern formed on the insulating layer 100 and the circuit pattern formed under the insulating layer 100 are electrically connected through the plating layer 103 formed in the via hole 102.

다음으로, 상기 동박 적층판의 양면에 절연층(105)과 동박(106)으로 이루어진 필름을 적층한다(도 1e). 상기 절연층(105)은, 절연층(105)의 상부 및 하부에 형성되는 회로를 절연하는 역할을 한다.Next, the film which consists of the insulating layer 105 and the copper foil 106 is laminated | stacked on both surfaces of the said copper foil laminated board (FIG. 1E). The insulating layer 105 serves to insulate circuits formed on and under the insulating layer 105.

이어서, 내층 회로와 외층 회로간의 전기 접속 역할을 하는 비아홀(108)을 형성하고, 다시 도금을 실시하여, 도금층(107)을 형성한다(도 1f). 상기 비아홀(108)을 형성할 때는 내층의 비아홀(102)을 형성할 때보다 정밀한 가공을 요하므로, 레이저 드릴을 이용하는 것이 바람직하다.Subsequently, a via hole 108 serving as an electrical connection between the inner layer circuit and the outer layer circuit is formed, and plating is again performed to form the plating layer 107 (FIG. 1F). When the via hole 108 is formed, more precise processing is required than when the via hole 102 of the inner layer is formed. Therefore, it is preferable to use a laser drill.

그 후, 외층의 동박(106) 및 도금층(107)을 식각하여 외층 회로 패턴을 형성한다(도 1g). Thereafter, the copper foil 106 and the plating layer 107 of the outer layer are etched to form an outer layer circuit pattern (FIG. 1G).

전술한 방식으로, 추가적 외층을 형성하고, 회로 패턴을 형성하면, 더 많은 층을 갖는 다층 인쇄회로기판을 제조할 수 있다. In the manner described above, by forming additional outer layers and forming circuit patterns, multilayer printed circuit boards having more layers can be produced.

이와 같은 종래의 다층 인쇄회로기판의 제조방법은 절연층의 형성과 회로층의 형성을 반복하여 실시하기 때문에 제조 시간이 오래 걸리며, 1개 층의 회로층에 불량이 발생하면 지금까지의 적층구조체 자체가 불량품이 되기 때문에 제품 수율이 매우 낮다는 문제가 있다.Such a conventional method for manufacturing a multilayer printed circuit board takes a long time since the formation of the insulating layer and the formation of the circuit layer are repeated. If a failure occurs in the circuit layer of one layer, the laminated structure itself until now is There is a problem that the product yield is very low because becomes a defective product.

그리고, 회로 패턴이 절연층의 표면에만 형성되기 때문에 고주파 영역이나 빠른 신호 전달속도를 요구하는 시스템의 경우, 저항에 의한 노이즈(Noise)나 방열 특성에 문제점을 나타낼 수 있다.In addition, since the circuit pattern is formed only on the surface of the insulating layer, in a system requiring a high frequency region or a high signal transmission speed, there may be a problem in noise due to resistance or heat dissipation characteristics.

또한, 회로 패턴이 절연층의 표면에 형성되어 있어서 미세 패턴화되어 갈수 록 절연층과의 접착 면적이 감소하여 외부충격에 의해 회로 패턴의 들뜸 및 파손의 문제가 발생할 수 있다.In addition, since the circuit pattern is formed on the surface of the insulating layer and finely patterned, the adhesion area with the insulating layer decreases, thereby causing problems of lifting and breakage of the circuit pattern due to external impact.

따라서, 본 발명의 목적은 보호 필름 상부에 회로 패턴을 형성한 후, 상기 보호 필름 상부에 상기 회로 패턴을 감싸며 절연층을 형성함으로써, 회로 패턴이 절연층에 매립되어 외부 충격에 우수한 신뢰성을 나타내는 다층 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to form a circuit pattern on top of the protective film, and then to form the insulating layer surrounding the circuit pattern on the protective film, the circuit pattern is embedded in the insulating layer to exhibit a high reliability against external impact There is provided a printed circuit board and a method of manufacturing the same.

본 발명의 다른 목적은 각 적층판을 일괄 적층하여 열압착함으로써, 제조 시간을 단축하고 제품 수율을 향상시킨 다층 인쇄회로기판 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a multi-layer printed circuit board and a method of manufacturing the same by laminating each laminated plate and thermally compressing them to shorten manufacturing time and improve product yield.

본 발명의 다층 인쇄회로기판의 바람직한 실시예는, 제1절연층과, 상기 제1절연층에 매립되며 하부가 노출된 제1회로 패턴과, 상기 제1회로 패턴 상부에 형성되며 상기 제1절연층을 관통하는 제1비아홀과, 상기 제1비아홀에 충진된 도전성 물질로 이루어지는 제1적층판과, 제2절연층과, 상기 제2절연층의 상기 제1회로 패턴과 대응되는 위치에 매립되며 상부가 노출된 제2회로 패턴과, 상기 제2회로 패턴 하부에 형성되며 상기 제2절연층을 관통하는 제2비아홀과, 상기 제2비아홀에 충진된 도전성 물질로 이루어지고, 상기 제1비아홀에 충진된 도전성 물질과 상기 제2비아홀에 충진된 도전성 물질이 대응된 상태로 상기 제1적층판과 압착되어 전기적으로 연결되는 제2적층판을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.A preferred embodiment of the multilayer printed circuit board of the present invention includes a first insulating layer, a first circuit pattern buried in the first insulating layer and exposed at a lower portion thereof, and formed on an upper portion of the first circuit pattern. Buried in a position corresponding to a first via hole penetrating the layer, a first laminated plate made of a conductive material filled in the first via hole, a second insulating layer, and a first circuit pattern of the second insulating layer; Is formed of the exposed second circuit pattern, a second via hole formed under the second circuit pattern and penetrating the second insulating layer, and a conductive material filled in the second via hole, and filled in the first via hole. And a second laminated plate pressed and electrically connected to the first laminated plate in a state in which the conductive material and the conductive material filled in the second via hole correspond to each other.

본 발명의 다층 인쇄회로기판의 제조방법의 바람직한 실시예는, 절연층과, 상기 절연층에 매립되어 하부면이 노출되어 있는 회로 패턴과, 상기 회로 패턴 상부에 상기 절연층을 관통하며 형성된 비아홀과, 상기 비아홀을 충진하며 상기 절연층의 상부면으로부터 돌출되어 있는 범프로 각각 이루어지는 제1적층판 및 제2적층판을 형성하는 단계와, 상기 제1적층판과 제2적층판을 상기 범프가 대응되도록 위치시키는 단계와, 상기 제1적층판과 제2적층판을 열압착하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.Preferred embodiments of the method of manufacturing a multilayer printed circuit board of the present invention include an insulating layer, a circuit pattern embedded in the insulating layer and a lower surface thereof exposed, a via hole formed through the insulating layer on the circuit pattern; Forming a first laminated plate and a second laminated plate each having a bump filling the via hole and protruding from the upper surface of the insulating layer, and placing the first laminated plate and the second laminated plate to correspond to the bumps. And thermally compressing the first laminated plate and the second laminated plate.

여기서, 상기 상기 제1적층판 및 제2적층판을 형성하는 단계는, 제1 보호 필름 상부에 회로 패턴을 형성하고, 상기 제1 보호 필름 상부에 상기 회로 패턴을 감싸며 절연층을 형성한 후, 상기 절연층 상부에 제2 보호 필름을 형성하는 단계와, 상기 회로 패턴 상부에 형성된 절연층 및 제2 보호필름을 관통하는 비아홀을 형성하는 단계와, 상기 비아홀에 도전성 물질을 충진하여 범프를 형성하는 단계와, 상기 제1 보호 필름 및 제2 보호 필름을 제거하여 상기 회로 패턴의 하부면을 노출시키고, 상기 범프를 상기 절연층의 상부면으로부터 돌출시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The forming of the first laminate and the second laminate may include forming a circuit pattern on an upper portion of the first protective film, forming an insulation layer surrounding the circuit pattern on the first protective film, and then insulating Forming a second protective film on the layer, forming a via hole penetrating the insulating layer and the second protective film formed on the circuit pattern, and filling the via hole with a conductive material to form a bump; And removing the first protective film and the second protective film to expose the lower surface of the circuit pattern, and protruding the bump from the upper surface of the insulating layer.

이하, 도 2 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 다층 인쇄회로기판의 제조방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a multilayer printed circuit board of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 5.

도 2a 내지 도 2f는 본 발명의 적층판을 제작하는 공정을 나타낸 단면도이 다. 이에 도시된 바와 같이, 먼저 금속 박막(110)의 하부에 제1 보호 필름(120)을 형성한다(도 2a).2A to 2F are cross-sectional views illustrating a process of manufacturing the laminate of the present invention. As shown in the drawing, first, the first protective film 120 is formed under the metal thin film 110 (FIG. 2A).

여기서, 상기 금속 박막(110)은 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al) 중에서 선택된 어느 하나의 금속 또는 상기 금속들 중에서 선택된 둘 이상의 금속의 합금으로 이루어진다. 특히, 경제성 및 전기 전도도를 고려할 때, 구리 또는 구리를 포함한 합금으로 이루어지는 것이 바람직하다.Here, the metal thin film 110 is made of one metal selected from gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al) or an alloy of two or more metals selected from the metals. In particular, in view of economics and electrical conductivity, it is preferable to consist of copper or an alloy containing copper.

그리고, 상기 금속 박막(110)의 두께는 1 ~ 35㎛로 하되, 바람직하게는 12 ~ 18㎛로 하는 것이 바람직하다. 이는 금속 박막(110)의 두께가 1㎛보다 작으면 회로의 저항율이 높아지며, 금속 박막(110)의 두께가 35㎛보다 크면 절연층(130)으로의 금속의 매입량이 많아져 수지 경화 후에 절연층(130)이 변형을 일으킬 수 있기 때문이다.In addition, the metal thin film 110 may have a thickness of 1 to 35 μm, preferably 12 to 18 μm. This is because if the thickness of the metal thin film 110 is less than 1 μm, the resistivity of the circuit is high. If the thickness of the metal thin film 110 is greater than 35 μm, the amount of metal to be inserted into the insulating layer 130 increases, and the insulating layer after curing of the resin is increased. This is because 130 can cause deformation.

상기 제1 보호 필름(120)의 재질로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌(PE) 등을 사용하며, 상기 금속 박막(110)의 하부에 열압착을 통한 라미네이팅(Laminating) 공정으로 형성한다. 상기 제1 보호 필름(120)은 이형(離形) 필름을 사용한다.Polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE) and the like are used as the material of the first protective film 120 and are formed by a laminating process through thermocompression bonding on the lower portion of the metal thin film 110. The first protective film 120 uses a release film.

그리고, 상기 제1 보호 필름(120)은 저수축의 필름을 이용하는데, 이 경우 후술할 회로 패턴 형성 공정에서 열처리에 수반하는 필름의 수축에 의해 그 표면에 형성된 회로 패턴의 치수가 변화하는 것을 방지할 수 있다.In addition, the first protective film 120 uses a low-shrink film, and in this case, the dimensions of the circuit pattern formed on the surface thereof are prevented from being changed by shrinkage of the film accompanying heat treatment in a circuit pattern forming process to be described later. can do.

다음으로, 상기 제1 보호 필름(120) 상부에 회로 패턴(115)을 형성한다(도 2b).Next, a circuit pattern 115 is formed on the first protective film 120 (FIG. 2B).

즉, 상기 금속 박막(110) 상부에 포토 레지스트를 도포한 후, 포토 레지스트를 패턴화한다. 그리고, 상기 패턴된 포토 레지스트를 식각 마스크로 하여 상기 금속 박막(110)을 식각한 후, 남아 있는 포토 레지스트를 제거하여 상기 제1 보호 필름(120) 상부에 회로 패턴(115)을 형성한다.That is, after the photoresist is coated on the metal thin film 110, the photoresist is patterned. The metal thin film 110 is etched using the patterned photoresist as an etch mask, and the remaining photoresist is removed to form a circuit pattern 115 on the first protective film 120.

상기 회로 패턴(115)은 후술할 다른 적층판과의 결합을 고려하여 그 정확한 위치 및 치수가 미리 설계되어야 한다.The circuit pattern 115 should be designed in advance in the correct position and dimensions in consideration of the combination with other laminates to be described later.

상기 회로 패턴(115)을 형성한 후, 회로가 제대로 형성되었는가를 검사하기 위해 자동 광학 검사(Automatic Optical Inspection) 등의 방법으로 회로의 외관을 검사하는 과정과, 흑화(Black Oxide) 처리 등의 표면 처리를 하는 과정을 더 수행할 수 있다.After the circuit pattern 115 is formed, a process of inspecting the appearance of the circuit by a method such as automatic optical inspection and a black oxide treatment to check whether the circuit is properly formed. You can do more processing.

자동 광학 검사는 자동으로 인쇄회로기판의 외관을 검사하는 장치이다. 이 장치는 영상 센서와 컴퓨터의 패턴 인식 기술을 이용하여 기판의 외관 상태를 자동으로 검사한다. 즉, 영상 센서로 대상 회로의 패턴 정보를 읽어들인 후, 이를 기준 데이터와 비교하여 불량을 판독한다. Automatic optical inspection is a device for automatically inspecting the appearance of a printed circuit board. The device uses an image sensor and a computer's pattern recognition technology to automatically inspect the substrate's appearance. That is, the pattern information of the target circuit is read into the image sensor, and then compared with the reference data to read the defect.

다층 인쇄회로기판은 하나의 적층판에 불량이 발생할 경우, 인쇄회로기판 전체를 사용할 수 없게 되므로, 각 적층판에 대한 충실한 검사가 필요하다.In the multilayer printed circuit board, when a failure occurs in one laminate, the entire printed circuit board cannot be used. Therefore, a faithful inspection of each laminate is required.

이어서, 상기 제1 보호 필름(120) 상부에 상기 회로 패턴(115)을 감싸며 절연층(130)을 형성한 후, 상기 절연층(130) 상부에 제2 보호 필름(140)을 형성한다 (도 2c).Subsequently, the insulating layer 130 is formed while surrounding the circuit pattern 115 on the first protective film 120, and then the second protective film 140 is formed on the insulating layer 130 (FIG. 2c).

상기 절연층(130)은 합성 수지로 이루어지고, 바람직하게는 유리 섬유를 합성 수지에 함침(含浸)시킨 형태의 것이 좋다. 상기 절연층(130)의 두께는 7 ~ 50㎛인 것이 바람직하다.The insulating layer 130 is made of a synthetic resin, and preferably in the form of impregnating glass fibers with a synthetic resin. The thickness of the insulating layer 130 is preferably 7 ~ 50㎛.

상기 합성 수지로는 반경화 상태의 열 경화성 수지 또는 열 가소성 수지가 사용된다. 상기 반경화 상태의 열 경화성 수지는 복수개의 적층판을 열압착하는 단계에서, 중합이 진행되어 완전 경화하게 된다.As said synthetic resin, the thermosetting resin or the thermoplastic resin of a semi-hardened state is used. In the semi-cured thermosetting resin, in the step of thermocompression bonding a plurality of laminates, polymerization proceeds to complete curing.

상기 반경화 상태의 열 경화성 수지로는 폴리이미드가 주로 사용되는데, 폴리이미드는 용융점이 높기 때문에 열안정성이 뛰어나며, 장시간 사용에 견딜 수 있다. 또 기계적 강도, 전기적 특성, 내화학약품성, 내방사선성 등이 좋기 때문에 다층인쇄회로기판의 절연층으로 널리 사용되고 있다.As the thermosetting resin in the semi-cured state, polyimide is mainly used, and since polyimide has a high melting point, it has excellent thermal stability and can withstand long-term use. In addition, since the mechanical strength, electrical properties, chemical resistance, radiation resistance and the like is good, it is widely used as an insulating layer of a multilayer printed circuit board.

상기 반경화 상태의 열 경화성 폴리이미드는 유리 섬유를 폴리아믹산 용액에 함침한 다음, 비교적 낮은 온도에서 중합을 진행시켜 형성한다. 상기 폴리아믹산은 폴리이미드의 중간체로서, 아미드화 반응 및 가교 반응이 진행되면서 폴리이미드가 된다. The semi-cured thermosetting polyimide is formed by impregnating the glass fibers in a polyamic acid solution and then proceeding the polymerization at a relatively low temperature. The polyamic acid is an intermediate of the polyimide, and becomes a polyimide while the amidation reaction and the crosslinking reaction proceed.

그리고, 열 가소성 수지로는 폴리 에틸렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리프로필렌 등이 사용될 수 있으며, 열 가소성 수지는 가열에 의해 쉽게 유동성을 가지며, 경화시키는 과정에서 중합을 진행시킬 필요가 없으므로 반경화 상태의 열 경화성 수지에 비하여 작업성이 좋다는 유리한 점이 있다.In addition, as the thermoplastic resin, polyethylene, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polypropylene, or the like may be used. The thermoplastic resin is easily flowable by heating, and it is necessary to proceed polymerization in the curing process. Therefore, there is an advantage that the workability is good as compared to the thermosetting resin in the semi-cured state.

연이어, 상기 회로 패턴(115)의 상부에 형성된 절연층(130) 및 제2 보호 필름(140)을 관통하는 비아홀(150)을 형성한다(도 2d). 상기 비아홀(150)은 도전성 물질로 충진되어, 다층 인쇄회로기판의 각 적층판에 형성된 회로 패턴을 전기적으로 연결하는 기능을 한다.Subsequently, a via hole 150 penetrating through the insulating layer 130 and the second protective film 140 formed on the circuit pattern 115 is formed (FIG. 2D). The via hole 150 is filled with a conductive material to electrically connect circuit patterns formed on each laminate of the multilayer printed circuit board.

상기 비아홀(150)은 레이저 드릴을 이용하여 형성한다. 상기 비아홀(150)은 회로 패턴(115)에는 형성되지 않고, 회로 패턴(115)의 상부에 형성된 절연층(130)과 제2 보호 필름(140)에만 형성되어야 하는데, 기계적 드릴로는 그러한 미세한 공정을 수행하기 어렵다. 보다 상세하게는, UV-YAG 레이저 또는 CO2 레이저가 사용된다. The via hole 150 is formed using a laser drill. The via hole 150 should not be formed in the circuit pattern 115, but should be formed only in the insulating layer 130 and the second protective film 140 formed on the circuit pattern 115. Is difficult to carry. More specifically, UV-YAG laser or CO 2 laser is used.

그리고, 상기 비아홀(150)을 형성한 후, 상기 비아홀(150) 내부를 세정하는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 비아홀(150)을 형성하는 과정에서 생성된 먼지 등이 비아홀(150) 내부에 쌓임으로써, 후술할 범프의 형성에 장애가 되기 때문이다.After the via hole 150 is formed, it is preferable to clean the inside of the via hole 150. This is because dust and the like generated in the process of forming the via hole 150 are accumulated in the via hole 150, thereby preventing the formation of bumps to be described later.

다음으로, 상기 비아홀(150)을 충진하여 범프(Bump)(160)를 형성한다(도 2e). 상기 범프(160)는 도전성 물질로 이루어져, 각 적층판에 형성된 회로 패턴이 서로 전기적으로 연결되도록 한다.Next, the via hole 150 is filled to form a bump 160 (FIG. 2E). The bumps 160 are made of a conductive material so that the circuit patterns formed on the respective laminates are electrically connected to each other.

상기 범프(160)는 도금법에 의해 형성하는데, 보다 상세하게는 전해 도금법을 이용하여 구리 범프를 형성한다. 본 발명의 경우, 회로 패턴(115) 상부의 절연층(130)과 제2 보호 필름(140)에만 비아홀(150)을 형성함으로써, 비아홀(150) 내부 에 전해 도금법을 이용하여 범프(160)를 형성할 수 있다.The bumps 160 are formed by a plating method, and more specifically, copper bumps are formed by using an electroplating method. In the exemplary embodiment of the present invention, the via hole 150 is formed only in the insulating layer 130 and the second protective film 140 on the circuit pattern 115, thereby forming the bump 160 in the via hole 150 using an electroplating method. Can be formed.

상기 전해 도금은 바람직하게는 2 ~ 8 A/㎠의 전류 밀도에서, 황산구리 180 ~ 240 g/L, 황산 45 ~ 60 g/L 및 티오우레아, 덱스트린, 또는 티오우레아와 몰라세(Molasses)의 화합물 같은 첨가물을 포함하는 욕조에서 실시된다. The electroplating is preferably a copper sulfate 180-240 g / L, sulfuric acid 45-60 g / L and a thiourea, dextrin, or thiourea and molasses at a current density of 2-8 A / cm 2. It is carried out in a bath containing the same additives.

상기 비아홀(150) 내부의 회로 패턴(115)의 표면에서부터 도금이 시작되어, 비아홀(150) 전체를 충진하게 되는데, 비아홀(150) 내부가 충진된 후에도 어느 정도 도금이 계속 되어, 비아홀(150) 주위의 제2 보호 필름(140) 위에 도금막이 형성되는 경우가 많으므로, 이러한 경우에는 범프(160)의 높이가 제2 보호 필름(140)과 동일하게 되도록 연마 공정을 수행할 필요가 있다.Plating is started from the surface of the circuit pattern 115 inside the via hole 150 to fill the entire via hole 150. Plating is continued to some extent even after the inside of the via hole 150 is filled. Since a plating film is often formed on the surrounding 2nd protective film 140, in this case, it is necessary to perform a grinding | polishing process so that the height of bump 160 may become the same as the 2nd protective film 140. FIG.

이어서, 상기 제1 보호 필름(120) 및 제2 보호 필름(140)을 제거하여 회로 패턴(115)의 하부면을 노출시키고, 상기 절연층(130)의 상부면으로부터 돌출된 범프(160)를 가지는 적층판(A)을 형성한다(도 2f). 상기 제1 보호 필름(120) 및 제2 보호 필름(140)은 이형 필름이므로 쉽게 제거할 수 있다. Subsequently, the lower surface of the circuit pattern 115 is exposed by removing the first protective film 120 and the second protective film 140, and the bumps 160 protruding from the upper surface of the insulating layer 130 are removed. The branches form a laminated plate A (FIG. 2F). Since the first protective film 120 and the second protective film 140 are release films, they can be easily removed.

상기 제1 보호 필름(120) 및 제2 보호 필름(140)이 제거됨에 따라, 상기 범프(160)는 절연층(130)의 표면으로부터 제2 보호 필름(140)의 두께 만큼 돌출되어 돌출부를 형성하게 된다. As the first protective film 120 and the second protective film 140 are removed, the bumps 160 protrude from the surface of the insulating layer 130 by the thickness of the second protective film 140 to form protrusions. Done.

이러한 돌출부는 각 적층판의 열압착시 범프(160)의 전기적 연결을 좋게 한다. 본 발명의 범프(160)는 도금법에 의해 견고하게 형성되므로, 제1 보호 필름(120) 및 제2 보호 필름(140)의 박리에 의해 손상될 염려가 적다.These protrusions improve the electrical connection of the bumps 160 during thermal compression of each laminate. Since the bumps 160 of the present invention are firmly formed by the plating method, they are less likely to be damaged by peeling of the first protective film 120 and the second protective film 140.

이와 같이, 본 발명은 제1 보호 필름(120) 상부에 회로 패턴(115)을 형성한 후, 절연층(130)을 형성함으로써, 회로 패턴(115)이 안정적으로 절연층(130)에 매립되어 표면이 매우 평탄하며, 회로 패턴(115)이 3차원적으로 절연층(130)에 둘러쌓여 있기 때문에 외부 충격에도 견고한 특성이 있다.As described above, in the present invention, after the circuit pattern 115 is formed on the first protective film 120, the insulating layer 130 is formed, whereby the circuit pattern 115 is stably embedded in the insulating layer 130. Since the surface is very flat and the circuit pattern 115 is surrounded by the insulating layer 130 in three dimensions, there is a strong characteristic against external impact.

그리고, 비아홀(150) 내에 도전성 물질을 충진하여 범프(160)를 형성할 때, 도금법에 의해 범프(160)를 형성하기 때문에 보호 필름의 제거시 범프(160)의 돌출부가 손상되지 않는다는 장점이 있다.In addition, when the bumps 160 are formed by filling the via holes 150 with the conductive material, the bumps 160 are formed by the plating method, so that the protrusions of the bumps 160 are not damaged when the protective film is removed. .

또한, 절연층(130)의 상부면으로부터 돌출된 범프(160)의 높이가 균일해야 층간 접속이 원활하게 이루어지는데, 본 발명은 제2 보호 필름(140)을 사용하여 범프(160)의 높이를 균일하게 형성할 수 있으며, 도금 과정에서 제2 보호 필름(140) 위에 형성된 도금막은 연마 공정을 수행함으로써 범프(160)의 높이를 균일하게 할 수 있다. In addition, when the height of the bumps 160 protruding from the upper surface of the insulating layer 130 is uniform, the interlayer connection is smoothly performed. In the present invention, the height of the bumps 160 is increased by using the second protective film 140. The plating film formed on the second protective film 140 in the plating process may be uniformly formed to uniform the height of the bumps 160 by performing a polishing process.

위의 실시예에서는 비아홀을 도금법에 의해 충진하는 것을 나타내었는데, 비아홀은 도전성 페이스트를 사용하여 충진할 수도 있다.In the above embodiment, the via hole is filled by the plating method, but the via hole may be filled using a conductive paste.

도 3은 비아홀을 도전성 페이스트를 사용하여 충진하는 경우, 비아홀의 상태를 나타낸 단면도이다. 이에 도시된 바와 같이, 회로 패턴(215) 상부에 형성된 절연층(230)과 제2 보호 필름(240)을 관통하는 제1비아홀(250)을 형성한 후, 상기 회로 패턴(215)과 상기 회로 패턴(215) 하부에 위치한 제1 보호 필름(220)을 관통하 는 제2비아홀(260)을 형성한다. 3 is a cross-sectional view showing a state of a via hole when the via hole is filled using a conductive paste. As shown in the drawing, after forming the first via hole 250 penetrating the insulating layer 230 and the second protective film 240 formed on the circuit pattern 215, the circuit pattern 215 and the circuit A second via hole 260 penetrating the first protective film 220 positioned below the pattern 215 is formed.

상기 제2비아홀(260)은 제1비아홀(250)보다 작은 직경을 가지며, 25 ~ 30㎛ 정도로 형성하는 것이 바람직하다.The second via hole 260 has a diameter smaller than that of the first via hole 250 and is preferably about 25 to 30 μm.

여기서, 제2비아홀(260)을 형성하는 이유는 도전성 페이스트를 보다 잘 충진하기 위함이다. 즉, 제1비아홀(250)만 형성하여 도전성 페이스트를 충진하는 경우 제1비아홀(250) 내에 도전성 페이스트가 잘 충진되지 않게 되고, 이 경우 범프 내에 보이드 등이 발생하여 범프를 통한 각 적층판의 열압착시 전기적 연결이 좋지 못하게 된다.The reason for forming the second via hole 260 is to fill the conductive paste better. That is, when the conductive paste is filled by only forming the first via hole 250, the conductive paste is hardly filled in the first via hole 250. In this case, voids are generated in the bumps, and thermal bonding of each laminate through the bumps is performed. The electrical connection is poor.

이어서, 상기 제1비아홀(250)과 제2비아홀(260)을 형성한 다음, 상기 제1비아홀(250)과 제2비아홀(260)에 도전성 페이스트를 충진하고, 제1 보호 필름(220) 및 제2 보호 필름(240)을 제거한다.Subsequently, after the first via hole 250 and the second via hole 260 are formed, a conductive paste is filled into the first via hole 250 and the second via hole 260, and the first protective film 220 and The second protective film 240 is removed.

이때, 도전성 페이스트는 스크린 인쇄법을 이용하여 충진하며, 스크린 인쇄시 작업 환경은 대기압 또는 진공 상태에서 작업을 한다.At this time, the conductive paste is filled using the screen printing method, the work environment during the screen printing work at atmospheric pressure or vacuum.

상기 도전성 페이스트의 주성분은 금속 분말로써 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 주석(Sn), 납(Pb) 등의 금속을 사용하며 유기 바인더가 포함되어서 금속 분말을 결합시켜 주는 역할을 한다. The main component of the conductive paste is a metal powder using a metal such as copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), tin (Sn), lead (Pb), including an organic binder to bind the metal powder Play a role.

상기 도전성 페이스트는 가열, 가압시 금속 분말 끼리 서로 접촉되어 전기적으로나 열적으로 전도도를 확보할 수 있어야 한다. When the conductive paste is heated and pressed, the metal powders should be in contact with each other to ensure conductivity electrically or thermally.

도 4는 본 발명의 복수개의 적층판을 일괄 적층하는 공정을 나타낸 단면도이 다. 4 is a cross-sectional view showing a step of collectively laminating a plurality of laminates of the present invention.

이에 도시된 바와 같이, 복수개의 적층판들의 회로 패턴이 동일한 선상에서 연결되도록 위치시킨 후, 압착하여 다층 인쇄회로기판을 제작한다.As shown therein, the circuit patterns of the plurality of laminated boards are positioned to be connected on the same line, and then compressed to fabricate a multilayer printed circuit board.

여기서, 위쪽에 배치되는 적층판들(A,B)은 회로 패턴이 위를 향하도록 하고, 아래쪽에 배치되는 적층판들(C,D)은 회로 패턴이 아래를 향하도록 배치하여 압착한다.Here, the laminates (A, B) disposed on the upper side is a circuit pattern facing up, and the laminates (C, D) disposed on the bottom are arranged so that the circuit pattern faces downward, and compressed.

여기서, 상기 복수개의 적층판들을 압착하여 한 장의 인쇄회로기판으로 만드는 방법으로는 열압착 방법이 사용된다. 이는 복수개의 적층판들을 케이스에 넣고, 진공 챔버의 상하에서 열판에 끼워 가압 가열하는 방법으로 적층을 행한다. 이 방법을 VHL(Vacuum Hydraulic Lamination)법이라 한다.Here, a thermocompression method is used as a method of compressing the plurality of laminated plates to form a single printed circuit board. This is carried out by laminating a plurality of laminated plates in a case and inserting them into hot plates above and below the vacuum chamber to pressurize and heat them. This method is called VHL (Vacuum Hydraulic Lamination) method.

그 밖에 진공 챔버에 가열원으로 전열 히터를 설치하고, 가스를 사용하여 가압한 상태에서 적층하는 진공 압착법도 있다. 이 방법은 열판을 필요로 하지 않기 때문에, 적층판의 수에 관계 없이 한 번에 적층할 수 있는 유리한 점이 있다.In addition, there is a vacuum crimping method in which a heat transfer heater is provided as a heating source in a vacuum chamber and laminated in a pressurized state using gas. Since this method does not require a hot plate, there is an advantage in that it can be laminated at one time regardless of the number of laminates.

여기서, 복수개의 적층판들의 절연층은 열 가소성 수지 또는 반경화 상태의 열 경화성 수지로 이루어지는데, 열 가소성 수지의 경우, 열압착 공정에서 유리 전이 온도 이상으로 가열되어 유동성 및 점착성이 높아져 각 적층판을 결합시키며, 반경화 상태의 열 경화성 수지의 경우, 열압착 공정에서 중합이 진행되면서 각 적층판을 결합시킨다.Here, the insulating layer of the plurality of laminated plates is made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin in a semi-cured state, in the case of the thermoplastic resin is heated above the glass transition temperature in the thermocompression process to increase the fluidity and adhesiveness to bond each laminated plate In the case of the thermosetting resin in the semi-cured state, as the polymerization proceeds in the thermocompression bonding process, the laminates are bonded.

상기 열압착 공정에서 가해지는 압력은 80 ~ 120 kg/㎠이 바람직하며, 가열 온도는 150 ~ 350℃ 정도가 바람직하다.The pressure applied in the thermocompression process is preferably 80 to 120 kg / cm 2, and the heating temperature is preferably about 150 to 350 ° C.

도 5는 본 발명의 다층 인쇄회로기판의 실시예를 나타낸 단면도이다. 5 is a cross-sectional view showing an embodiment of a multilayer printed circuit board of the present invention.

이에 도시된 바와 같이, 제1절연층(300)과, 상기 제1절연층(300)에 매립되며 하부가 노출된 제1회로 패턴(310)과, 상기 제1회로 패턴(310) 상부에 형성되며 상기 제1절연층(300)을 관통하는 제1비아홀(320)과, 상기 제1비아홀(320)에 충진된 도전성 물질로 이루어지는 제1적층판(I)과, 제2절연층(400)과, 상기 제2절연층(400)의 상기 제1회로 패턴(310)과 대응되는 위치에 매립되며 상부가 노출된 제2회로 패턴(410)과, 상기 제2회로 패턴(410) 하부에 형성되며 상기 제2절연층(400)을 관통하는 제2비아홀(420)과, 상기 제2비아홀(420)에 충진된 도전성 물질로 이루어지고, 상기 제1비아홀(320)에 충진된 도전성 물질과 상기 제2비아홀(420)에 충진된 도전성 물질에 대응된 상태로 상기 제1적층판(I)과 압착되어 전기적으로 연결되는 제2적층판(J)을 포함하여 이루어진다.As shown in the drawing, the first insulating layer 300, the first circuit pattern 310 buried in the first insulating layer 300 and exposed at the bottom thereof, are formed on the first circuit pattern 310. And a first via hole 320 passing through the first insulating layer 300, a first laminated plate I made of a conductive material filled in the first via hole 320, and a second insulating layer 400. A second circuit pattern 410 buried in a position corresponding to the first circuit pattern 310 of the second insulating layer 400 and exposed at an upper portion thereof, and formed under the second circuit pattern 410. A second via hole 420 penetrating the second insulating layer 400, and a conductive material filled in the second via hole 420, and a conductive material filled in the first via hole 320 and the first material. And a second laminated plate J which is pressed and electrically connected to the first laminated plate I in a state corresponding to the conductive material filled in the second via hole 420.

여기서, 상기 제1적층판(I)의 하부 또는 상기 제2적층판(J)의 상부에 필요에 따라 복수개의 적층판을 더 형성할 수 있다. 이 경우, 각 적층판의 비아홀들이 동일 선상에서 연결되도록 위치시킨다.Here, a plurality of laminated plates may be further formed on the lower portion of the first laminated plate I or the upper portion of the second laminated plate J as necessary. In this case, the via holes of each laminate are positioned to be connected on the same line.

이상에서 대표적인 실시예를 통하여 본 발명에 대하여 상세하게 설명하였으나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 상술한 실시예에 대하여 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 다양한 변형이 가능함을 이해할 것이다. Although the present invention has been described in detail with reference to exemplary embodiments above, those skilled in the art to which the present invention pertains can make various modifications to the above-described embodiments without departing from the scope of the present invention. I will understand.

그러므로 본 발명의 권리범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안 되며, 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be defined by the claims below and equivalents thereof.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 의하면 보호 필름 상부에 회로 패턴을 형성하고, 보호 필름 상부에 회로 패턴을 감싸며 절연층을 형성함으로써, 회로 패턴이 안정적으로 절연층에 매립되어 표면이 매우 평탄하며, 회로 패턴이 3차원적으로 절연층에 둘러쌓여 있기 때문에 외부 충격에 우수한 신뢰성을 나타내는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, by forming a circuit pattern on the upper portion of the protective film, surrounding the circuit pattern on the protective film and forming an insulating layer, the circuit pattern is stably embedded in the insulating layer, and the surface is very flat. Since the circuit pattern is surrounded by the insulating layer three-dimensionally, there is an effect of showing excellent reliability against external impact.

그리고, 비아홀 내에 도전성 물질을 충진하여 범프를 형성할 때, 전해 도금법에 의해 범프를 형성하기 때문에 보호 필름의 제거시 범프의 돌출부가 손상되지 않는다는 장점이 있다.When bumps are formed by filling a conductive material in the via holes, bumps are formed by the electroplating method, so that the protrusions of the bumps are not damaged when the protective film is removed.

또한, 절연층 상부에 형성된 보호 필름을 통해 범프의 높이가 균일하게 형성되므로, 층간 접속이 원활히 이루어질 수 있다.In addition, since the height of the bump is uniformly formed through the protective film formed on the insulating layer, the interlayer connection can be made smoothly.

게다가, 각 적층판들을 별도로 형성시킬 수 있어 일괄 적층 전에 사전 검사를 통해 제품의 수율을 향상시킬 수 있으며, 제조 시간을 단축시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, it is possible to form each laminated plate separately, thereby improving the yield of the product through the pre-inspection before batch lamination, there is an effect that can reduce the manufacturing time.

Claims (10)

제1절연층과, 상기 제1절연층에 매립되며 하부가 노출된 제1회로 패턴과, 상기 제1회로 패턴 상부에 형성되며 상기 제1절연층을 관통하는 제1비아홀과, 상기 제1비아홀에 충진된 도전성 물질로 이루어지는 제1적층판과;A first insulating layer, a first circuit pattern buried in the first insulating layer and exposed at a lower portion thereof, a first via hole formed on the first circuit pattern and penetrating through the first insulating layer, and the first via hole A first laminated plate made of a conductive material filled in; 제2절연층과, 상기 제2절연층의 상기 제1회로 패턴과 대응되는 위치에 매립되며 상부가 노출된 제2회로 패턴과, 상기 제2회로 패턴 하부에 형성되며 상기 제2절연층을 관통하는 제2비아홀과, 상기 제2비아홀에 충진된 도전성 물질로 이루어지고, 상기 제1비아홀에 충진된 도전성 물질과 상기 제2비아홀에 충진된 도전성 물질이 대응된 상태로 상기 제1적층판과 압착되어 전기적으로 연결되는 제2적층판을 포함하여 이루어지는 다층 인쇄회로기판.A second insulating layer, a second circuit pattern buried in a position corresponding to the first circuit pattern of the second insulating layer and having an exposed upper portion, and formed under the second circuit pattern and penetrating the second insulating layer And a second via hole, and a conductive material filled in the second via hole, and the conductive material filled in the first via hole and the conductive material filled in the second via hole correspond to the first laminated plate. A multilayer printed circuit board comprising a second laminated board electrically connected. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2적층판 상부에 형성되며, 상기 제2적층판과 압착되어 전기적으로 연결되는 복수개의 적층판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판.And a plurality of laminates formed on the second laminate and electrically connected to the second laminate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1회로 패턴 및 제2회로 패턴은 금, 은, 구리, 알루미늄 중에서 선택 된 어느 하나의 금속 또는 상기 금속들 중에서 선택된 둘 이상의 금속의 합금으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판.The first circuit pattern and the second circuit pattern is a multilayer printed circuit board, characterized in that made of any one metal selected from gold, silver, copper, aluminum or an alloy of two or more metals selected from the metals. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1절연층 및 제2절연층은 열 가소성 수지 또는 반경화 상태의 열 경화성 수지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판.The first insulating layer and the second insulating layer is a multilayer printed circuit board, characterized in that made of a thermoplastic resin or a thermosetting resin in a semi-cured state. 절연층과, 상기 절연층에 매립되어 하부면이 노출되어 있는 회로 패턴과, 상기 회로 패턴 상부에 상기 절연층을 관통하며 형성된 비아홀과, 상기 비아홀을 충진하며 상기 절연층의 상부면으로부터 돌출되어 있는 범프로 각각 이루어지는 제1적층판 및 제2적층판을 형성하는 단계;An insulating layer, a circuit pattern buried in the insulating layer to expose a lower surface, a via hole formed through the insulating layer on the circuit pattern, and filling the via hole and protruding from the upper surface of the insulating layer. Forming a first laminated plate and a second laminated plate each formed of a bump; 상기 제1적층판과 제2적층판을 상기 범프가 대응되도록 위치시키는 단계; 및Positioning the first laminate and the second laminate to correspond to the bumps; And 상기 제1적층판과 제2적층판을 열압착하는 단계를 포함하여 이루어지며,It comprises the step of thermocompression bonding the first laminated plate and the second laminated plate, 상기 제1적층판 및 제2적층판을 형성하는 단계는,Forming the first laminated plate and the second laminated plate, 제1 보호 필름 상부에 회로 패턴을 형성하고, 상기 제1 보호 필름 상부에 상기 회로 패턴을 감싸며 절연층을 형성한 후, 상기 절연층 상부에 제2 보호 필름을 형성하는 단계;Forming a circuit pattern on the first protective film, forming an insulating layer surrounding the circuit pattern on the first protective film, and then forming a second protective film on the insulating layer; 상기 회로 패턴 상부에 형성된 절연층 및 제2 보호필름을 관통하는 비아홀을 형성하는 단계;Forming a via hole penetrating the insulating layer and the second protective film formed on the circuit pattern; 상기 비아홀에 도전성 물질을 충진하여 범프를 형성하는 단계; 및Filling the via hole with a conductive material to form a bump; And 상기 제1 보호 필름 및 제2 보호 필름을 제거하여 상기 회로 패턴의 하부면을 노출시키고, 상기 범프를 상기 절연층의 상부면으로부터 돌출시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법.Removing the first protective film and the second protective film to expose a lower surface of the circuit pattern, and protruding the bump from the upper surface of the insulating layer. Way. 삭제delete 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 비아홀을 형성하는 단계는;Forming the via hole; 레이저 드릴을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법.Method for manufacturing a multilayer printed circuit board, characterized in that formed using a laser drill. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 범프를 형성하는 단계는;Forming the bumps; 전해 도금법을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법.A method of manufacturing a multilayer printed circuit board, characterized in that it is formed using an electroplating method. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 범프는 구리(Cu)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법.The bump is a manufacturing method of a multilayer printed circuit board, characterized in that made of copper (Cu). 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 열압착하는 단계는;The thermocompression step may include; 150 ~ 350℃ 분위기에서 80 ~ 120 kg/㎠의 압력으로 가압하여 압착하는 것을 특징으로 하는 다층 인쇄회로기판의 제조방법.Method of manufacturing a multilayer printed circuit board, characterized in that the pressing by pressing at a pressure of 80 ~ 120 kg / ㎠ in a 150 ~ 350 ℃ atmosphere.
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