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KR100712876B1 - Light emitting diode capable of improving color uniformity and a manufacturing method thereof - Google Patents

Light emitting diode capable of improving color uniformity and a manufacturing method thereof Download PDF

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KR100712876B1
KR100712876B1 KR1020050124285A KR20050124285A KR100712876B1 KR 100712876 B1 KR100712876 B1 KR 100712876B1 KR 1020050124285 A KR1020050124285 A KR 1020050124285A KR 20050124285 A KR20050124285 A KR 20050124285A KR 100712876 B1 KR100712876 B1 KR 100712876B1
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KR
South Korea
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light emitting
emitting diode
diode chip
resin layer
transparent resin
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KR1020050124285A
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Korean (ko)
Inventor
오영식
윤정현
이수환
Original Assignee
루미마이크로 주식회사
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Publication date
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Abstract

색 균일성을 향상시킬 수 있는 발광 다이오드 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명에 따른 발광 다이오드는, 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판에 발광 다이오드 칩이 실장되며, 발광 다이오드 칩을 덮도록 투명 수지층이 형성된다. 이때, 투명 수지층은 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루고, 내부에는 형광체가 균일하게 분산되어 있다. 이로써, 발광 다이오드는 빛의 전반사, 색수차, 형광체 분포 등에 의해 발생되는 색 균일성 저하를 방지할 수 있게 되며, 결과적으로 발광 다이오드의 휘도를 향상시키고 제품 수율을 증가시킬 수 있게 된다.Disclosed are a light emitting diode capable of improving color uniformity and a method of manufacturing the same. In the light emitting diode according to the present invention, a light emitting diode chip is mounted on a printed circuit board on which a thin film pattern is formed, and a transparent resin layer is formed to cover the light emitting diode chip. At this time, the transparent resin layer has a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip, and phosphors are uniformly dispersed therein. As a result, the light emitting diode can prevent color uniformity degradation caused by total reflection of light, chromatic aberration, phosphor distribution, and the like, and as a result, it is possible to improve the brightness of the light emitting diode and increase the product yield.

발광 다이오드, 전반사, 색수차, 형광체 분포, 색 균일성 Light Emitting Diode, Total Reflection, Chromatic Aberration, Phosphor Distribution, Color Uniformity

Description

색 균일성을 향상시킬 수 있는 발광 다이오드 및 그 제조방법{Light emitting diode capable of improving color uniformity and a manufacturing method thereof}Light emitting diode capable of improving color uniformity and a manufacturing method

도 1은 전반사를 설명하기 위하여 도시된 도면,1 is a view for explaining the total reflection,

도 2는 색수차를 설명하기 위하여 도시된 도면, 2 is a diagram illustrating chromatic aberration;

도 3은 종래 기술에 따른 수지 수납형 발광 다이오드의 한 예를 나타낸 도면,3 is a view showing an example of a resin accommodating light emitting diode according to the prior art;

도 4는 본 발명에 따른 발광 다이오드의 실시 예를 나타낸 도면,4 is a view showing an embodiment of a light emitting diode according to the present invention;

도 5는 본 발명에 따른 발광 다이오드의 다른 실시 예를 나타낸 도면,5 is a view showing another embodiment of a light emitting diode according to the present invention;

도 6은 플립 칩 방식을 설명하기 위하여 도시된 도면,6 is a view illustrating a flip chip method;

도 7은 본 발명에 따른 발광 다이오드 제조방법의 실시 예를 나타낸 흐름도, 그리고7 is a flowchart illustrating an embodiment of a method of manufacturing a light emitting diode according to the present invention; and

도 8은 본 발명에 따른 발광 다이오드 제조방법의 다른 실시 예를 나타낸 흐름도이다.8 is a flowchart illustrating another embodiment of a method of manufacturing a light emitting diode according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

7, 25 : 발광 다이오드 칩 12, 28 : 형광체7, 25: light emitting diode chip 12, 28: phosphor

14, 27 : 투명 수지층 29 : 렌즈 14, 27: transparent resin layer 29: the lens

본 발명은 발광 다이오드 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 색 균일도(color uniformity)를 개선하고 색 편차를 감소시킬 수 있는 발광 다이오드 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a light emitting diode and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a light emitting diode and a method of manufacturing the same that can improve color uniformity (color uniformity) and reduce color variation.

일반적으로 발광 다이오드(LED)(Light Emitting Diode)는 반도체의 p-n 접합구조를 이용하여 주입된 소수캐리어(전자 또는 정공)를 만들어내고, 이들의 재결합(再結合)에 의하여 빛을 방출시키는 전자 부품이다. 즉, 발광 다이오드는 전기를 통해주면 전자가 에너지준위가 높은 곳에서 낮은 곳으로 이동하면서 특정한 파장의 빛을 방출하는 화합물 반도체를 이용하여 만들어진 소자이다. 이와 같은 발광 다이오드는 저전압으로 고효율의 광을 조사할 수 있으므로 가전제품, 전광판, 디스플레이 등의 전자기기에 널리 사용된다.In general, a light emitting diode (LED) is an electronic component that generates a small number of carriers (electrons or holes) injected by using a pn junction structure of a semiconductor and emits light by recombination thereof. . In other words, a light emitting diode is a device made of a compound semiconductor that emits light of a specific wavelength while electrons move from a high energy level to a low energy state through electricity. Such a light emitting diode can be irradiated with high efficiency light at low voltage, and thus is widely used in electronic devices such as home appliances, electronic displays, and displays.

발광 다이오드 칩을 이용하는 광원 시스템은, 사용하고자 하는 용도에 따라 빛을 방출하는 발광 다이오드 칩을 여러 형태의 패키지에 실장하여 형성된다. 특히, 정보 통신기기의 소형화, 슬림화 추세에 따라 기기의 각종 부품인 저항, 콘덴서, 노이즈 필터 등은 더욱 소형화되고 있으며, 그에 따라 발광 다이오드 패키지도 인쇄회로기판(PCB)(Printed Circuit Board)에 발광 다이오드를 직접 장착하기 위하여 표면실장소자(SMD)(Surface Mount Device)형으로 만들어지고 있다.A light source system using a light emitting diode chip is formed by mounting a light emitting diode chip emitting light according to a intended use in various types of packages. In particular, according to the trend toward miniaturization and slimming of information and communication devices, various components such as resistors, capacitors, and noise filters are becoming more miniaturized. Accordingly, a light emitting diode package also includes a light emitting diode on a printed circuit board (PCB). It is made of Surface Mount Device (SMD) type in order to mount it directly.

빛이 광학적으로 밀(密)한 매질(굴절률이 큰 물질)에서 소(疎)한 매질(굴절 률이 작은 물질)로 입사하는 경우, 도 1a에 도시한 바와 같이 그 입사각이 어느 특정각도 이상이면 매질의 경계면에서 빛이 전부 반사되어 버리는 현상이 발생한다. 이와 같은 현상을 전반사라고 하며, 이때 빛의 전반사가 일어나는 한계의 입사각을 임계각이라고 한다. 이러한 전반사는 도 1b에 도시한 바와 같이 발광 다이오드의 렌즈 내부에서도 발생하는데, 렌즈 내부에서 발생된 전반사는 발광 다이오드의 색 균일성을 저하시키는 주요한 요인이 된다.When light is incident from an optically dense medium (a material having a high refractive index) to a small medium (a material having a small refractive index), as shown in FIG. The reflection of all light at the interface of the medium occurs. This phenomenon is called total reflection, and the incident angle of the limit at which total reflection of light occurs is called a critical angle. This total reflection is generated inside the lens of the light emitting diode as shown in FIG. 1B, but the total reflection generated inside the lens is a major factor that lowers the color uniformity of the light emitting diode.

또한, 렌즈를 통하여 물체의 상(像)을 만들 때 생기는 상의 위치는 물체에서 나오는 색에 따라 달라지는데, 이와 같은 현상을 색수차라고 한다. 유리의 경우, 굴절률은 빛의 파장이 길어짐에 따라 차차 작아지는데, 렌즈를 통해 물체의 상을 맺게 하면 물체의 색(빛의 파장)에 따라 상의 위치나 배율이 달라진다. 색수차를 가진 프리즘이나 렌즈를 통해 백색광을 보면 도 2a에 도시한 바와 같이, 빨강에 가까운 긴 파장의 빛일수록 초점이 렌즈에서 먼 곳에, 보라에 가까운 짧은 파장의 빛일수록 렌즈와 가까운 곳에 상이 맺힌다. 이와 같은 색수차는 도 2b에 도시한 바와 같이 발광 다이오드의 렌즈를 통해서도 발생되며, 이것은 발광 다이오드의 색 균일성을 저하시키는 요인이 된다.In addition, the position of the image generated when the image of the object is made through the lens depends on the color coming from the object, which is called chromatic aberration. In the case of glass, the index of refraction gradually decreases as the wavelength of light increases. When the image is formed through the lens, the position or magnification of the image varies depending on the color of the object (wavelength of light). When white light is seen through a prism or a lens having chromatic aberration, as shown in FIG. 2A, the longer the wavelength is closer to the red, the farther the focus is from the lens, and the shorter the wavelength is closer to the violet, the closer the lens is. Such chromatic aberration is also generated through the lens of the light emitting diode as shown in Fig. 2b, which causes a decrease in color uniformity of the light emitting diode.

도 3은 종래 기술에 따른 수지 수납형 발광 다이오드의 한 예를 나타낸 도면이다. 도면을 참조하면, 수지 수납형 발광 다이오드는 외부와의 연결을 위한 리드 프레임(lead frame)을 구성하는 금속 베이스부(1, 3)와 다이 본딩(5)에 의하여 금속 베이스부(1) 위에 실장된 발광 다이오드 칩(7)과, 금속 베이스부(1)와 발광 다이오드 칩(7)을 전기적으로 접속하는 와이어 본딩(9)과, 발광 다이오드 칩(7)으로 부터 방출되는 빛을 반사하여 상방으로 방출시키도록 구성된 백색 패키지(10)로 이루어진다.3 is a view showing an example of a resin accommodating light emitting diode according to the prior art. Referring to the drawings, the resin accommodating light emitting diode is mounted on the metal base part 1 by the die bonding 5 and the metal base parts 1 and 3 constituting a lead frame for connection to the outside. The light emitting diode chip 7, the wire bonding 9 for electrically connecting the metal base 1 and the light emitting diode chip 7, and the light emitted from the light emitting diode chip 7 to reflect upwardly. It consists of a white package 10 configured to release.

백색 패키지(10)는 도 3에 도시된 바와 같이, 그 바닥에 발광 다이오드 칩(7)의 실장이 가능하도록 된 함몰부(recess)를 가지며, 함몰부는 형광체(12)가 분산된 광투과성 에폭시 수지(14) 또는 실리콘 수지(14)로 채워진다. 이때, 에폭시 수지(14) 또는 실리콘 수지(14)는 투과성이 좋고, 내광성, 내습성, 내열성이 우수하고 생산라인에서의 대량 생산용 장치에서의 사용에 적합한 것이어야 한다.As shown in FIG. 3, the white package 10 has a recess at the bottom thereof to enable mounting of the light emitting diode chip 7, and the recess has a light transmissive epoxy resin in which the phosphor 12 is dispersed. 14 or silicone resin 14 is filled. At this time, the epoxy resin 14 or the silicone resin 14 should have good permeability, excellent light resistance, moisture resistance and heat resistance, and be suitable for use in a mass production apparatus in a production line.

또한, 백색 패키지(10)는 그 표면(16)에서 광반사율이 높고 광흡수율이 낮아야 한다. 일반적으로 도 3의 구조를 갖는 종래 기술의 수지 수납형 발광 다이오드에서는 질화물계 화합물 반도체로 이루어진 발광 다이오드 칩(7)을 사용한다. In addition, the white package 10 should have high light reflectivity and low light absorption at its surface 16. In general, the resin containing light emitting diode of the related art having the structure of FIG. 3 uses a light emitting diode chip 7 made of a nitride compound semiconductor.

발광 다이오드 칩(7)으로부터 방출되는 청색광을 사용하여 백색을 구현하기 위한 색변환 층으로서, 수지(14)층 내에 분산되는 형광물질로는 무기물계 형광물질인 이트륨-알루미늄-가넷(Y3Al5O12 : Ce, YAG : Ce)계 화합물이 널리 사용되어 왔다. 그러나 YAG : Ce 형광체를 이용한 백색 발광 다이오드는 색온도와 연색성지수가 다소 낮다는 점 때문에 실리케이트(silicate) 또는 TAG 계열의 형광체로 전환되는 추세이다.As a color conversion layer for realizing white color using blue light emitted from the light emitting diode chip 7, the fluorescent material dispersed in the resin 14 layer is yttrium-aluminum-garnet (Y 3 Al 5 ), which is an inorganic fluorescent material. O 12 : Ce, YAG: Ce) compounds have been widely used. However, white light emitting diodes using YAG: Ce phosphors tend to be converted to silicate or TAG series phosphors due to their low color temperature and color rendering index.

그런데, 이와 같은 종래의 방법은 분말수지에 열을 가하는 과정 중에 형광물질을 혼합하였으며, 이때 형광물질과 수지분말의 점도차이와 과립의 크기 차이 때문에 무기물 형광체(12)가 국부적으로 응집하여(예를 들어, 도 3의 A) 발광 특성이 색변환 층의 전 영역에 걸쳐 고르지 못하게 분포되는 문제점이 발생하였다. 또한, 분말 수지가 열에 의해 용융되어 그 수지(14)가 발광 다이오드 칩(7)이 탑재된 함몰부에 몰딩되는 과정에서 투명수지보다 비중이 높은 형광물질이 밑으로 가라앉게 되는 문제점이 있다(도 3의 S). 이와 같은 현상은 수지 내의 색변환 효율을 저하시키며, 결과적으로 발광 다이오드의 색 균일성을 저하시키는 주요한 요인이 된다.However, in the conventional method, the fluorescent material was mixed during the heating of the powdered resin, and the inorganic phosphor 12 was locally aggregated due to the viscosity difference between the fluorescent material and the resin powder and the size difference of the granules (for example, For example, A) emission characteristics of FIG. 3 occur unevenly distributed over the entire area of the color conversion layer. In addition, there is a problem that the fluorescent material having a higher specific gravity than the transparent resin sinks while the powdered resin is melted by heat and the resin 14 is molded into the recessed portion in which the light emitting diode chip 7 is mounted (FIG. 3, S). Such a phenomenon lowers the color conversion efficiency in the resin, and consequently becomes a major factor in lowering the color uniformity of the light emitting diode.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 발광 다이오드의 색 균일성을 향상시킴으로써, 결과적으로 발광 다이오드의 휘도를 향상시키고 제품 수율을 증가시킬 수 있는 발광 다이오드 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, by improving the color uniformity of the light emitting diode, thereby providing a light emitting diode and a method of manufacturing the same that can improve the brightness of the light emitting diode and increase the product yield For the purpose of

상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 발광 다이오드는, 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판; 상기 인쇄회로기판에 실장되는 발광다이오드 칩; 및 상기 발광다이오드 칩을 덮도록 형성되며, 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루고, 내부에 형광체가 균일하게 분산된 투명 수지층을 포함하는 것을 특징으로 한다.A light emitting diode according to the present invention for achieving the above object, a printed circuit board formed with a thin film pattern; A light emitting diode chip mounted on the printed circuit board; And a transparent resin layer formed to cover the light emitting diode chip, forming a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip, and having phosphors uniformly dispersed therein.

여기서, 상기 투명 수지층은 트랜스퍼 몰딩법 또는 인캡슐레이션 프린팅 방법에 의해 형성되는 것이 바람직하다. Here, the transparent resin layer is preferably formed by a transfer molding method or an encapsulation printing method.

또한, 상기 투명 수지층은, 상기 투명 수지층은, 주제 에폭시성분 또는 실리콘성분을 혼합하는 과정에서 열을 가하며 상기 형광체를 혼합하여 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the transparent resin layer, the transparent resin layer is preferably formed by mixing the phosphor while applying heat in the process of mixing the main epoxy component or silicone component.

바람직하게는, 상기 발광다이오드 칩은 플립 칩(flip chip) 방식으로 구현된다.Preferably, the light emitting diode chip is implemented by a flip chip method.

바람직하게는, 상기 투명 수지층은 볼록렌즈형상을 이루며, 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되어 상기 투명 수지층의 표면으로 향하는 빛의 입사각이 대략 40°이내가 되도록 형성된다.Preferably, the transparent resin layer forms a convex lens shape and is formed such that an incident angle of light emitted from the light emitting diode chip toward the surface of the transparent resin layer is within about 40 °.

또는, 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 빛이 대략 40°이내로 입사되도록 상기 투명 수지층 상에 접합된 렌즈를 더 포함하는 것이 바람직하다. 여기서, 상기 렌즈는 빛의 분산율이 낮은 재질로 이루어지며, 상기 렌즈는 형석유리 또는 불화물 린산 글라스 중의 어느 하나로 구현되는 것이 바람직하다. Alternatively, the lens may further include a lens bonded on the transparent resin layer such that light emitted from the light emitting diode chip is incident within about 40 °. Here, the lens is made of a material having a low light dispersion rate, the lens is preferably implemented by any one of fluorite glass or fluoride phosphate glass.

한편, 본 발명에 따른 발광다이오드는, 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판에 발광다이오드 칩을 실장하는 단계; 및 상기 발광다이오드 칩을 덮도록 투명 수지층을 몰딩하는 단계를 포함하며, 상기 투명 수지층은 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루고, 내부에 형광체가 균일하게 분산된 발광다이오드 제조방법을 제공한다.On the other hand, the light emitting diode according to the present invention comprises the steps of mounting a light emitting diode chip on a printed circuit board formed with a thin film pattern; And molding a transparent resin layer to cover the light emitting diode chip, wherein the transparent resin layer has a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip, and emits light in which phosphors are uniformly dispersed therein. Provided is a diode manufacturing method.

상기의 발광다이오드 제조방법은, 적어도 하나의 수지원료에 형광체를 혼합하는 단계; 상기 형광체가 혼합된 상기 수지를 고체상태로 성형하기 위하여 열경화하는 단계; 상기 고체상태의 성형을 분말분쇄하는 단계; 및 분말분쇄된 수지분말로 부터 테블릿을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 몰딩단계는, 형성된 상기 테블릿을 이용하여 구현되는 것이 바람직하다.The light emitting diode manufacturing method includes the steps of mixing a phosphor in at least one water support material; Thermosetting the resin mixed with the phosphor to form a solid state; Powder grinding of the solid state molding; And forming a tablet from the powdered resin powder, wherein the molding step is preferably implemented using the formed tablet.

이로써, 본 발명에 따른 발광다이오드 및 그 제조방법은, 발광 다이오드의 색 균일성을 향상시킴으로써, 결과적으로 발광 다이오드의 휘도를 향상시키고 제품 수율을 증가시킬 수 있게 된다.As a result, the light emitting diode and the manufacturing method thereof according to the present invention can improve the color uniformity of the light emitting diode, and as a result, it is possible to improve the brightness of the light emitting diode and increase the product yield.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 발광 다이오드 및 그 제조방법을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, a light emitting diode and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 발광 다이오드의 실시 예를 나타낸 도면이다. 도면을 참조하면, 발광 다이오드는 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판(Printed Circuit Board : PCB)(21, 23)에 발광 다이오드 칩(25)이 실장되며, 투명 수지층(27)이 발광 다이오드 칩(25)을 덮어 형성된다. 이때, 투명 수지층(27)은 발광 다이오드 칩(25)으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루며, 내부에 형광체(28)가 균일하게 분산되어 있다. 또는, 발광 다이오드는 도 5에 도시한 바와 같이, 내부에 형광체(28)가 균일하게 분산된 투명 수지층(27) 상에 볼록렌즈가 접합되는 구조로 형성될 수도 있다.4 is a view showing an embodiment of a light emitting diode according to the present invention. Referring to the drawings, a light emitting diode is mounted on a printed circuit board (PCB) 21, 23 having a thin film pattern, the light emitting diode chip 25 is mounted, the transparent resin layer 27 is a light emitting diode chip 25 ) Is formed by covering. At this time, the transparent resin layer 27 has a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip 25, and the phosphor 28 is uniformly dispersed therein. Alternatively, the light emitting diode may have a structure in which convex lenses are bonded to the transparent resin layer 27 in which the phosphor 28 is uniformly dispersed therein, as shown in FIG. 5.

발광 다이오드 칩(25)과 인쇄회로기판(21, 23) 사이의 와이어 본딩을 생략하기 위하여, 발광 다이오드 칩(25)는 플립 칩(flip chip) 방식으로 구현되는 것이 바람직하다.In order to omit wire bonding between the light emitting diode chip 25 and the printed circuit boards 21 and 23, the light emitting diode chip 25 may be implemented in a flip chip method.

도 6은 플립 칩 방식을 설명하기 위하여 도시된 도면으로서, 갈륨 나아트라이드(GaN) 발광 다이오드 칩의 단면 구성도이다. 도면을 참조하면, GaN 발광 다이 오드 칩은 기본적으로 사파이어 기판(31), 사파이어 기판(31)에 형성되는 n형 GaN 클래드층(32), n형 GaN 클래드층(32) 상부의 소정 영역에 형성되는 다중 양자 우물(multi-quantum well) 구조의 활성층(33), 활성층(33) 위에 형성되는 p형 GaN 클래드층(34), p형 GaN 클래드층(34)의 상부에 형성되어 전류 주입 면적을 증가시키면서 광의 휘도 특성을 저하시키지 않도록, 도전성을 갖는 투명물질로 이루어진 T-전극(transparent electrode)(35), T-전극(35)의 상부 소정 위치에 형성되는 도전성물질로 이루어진 본딩용 B-전극(36), n형 GaN 클래드(32) 상의 소정 영역에 형성되어 본딩 및 전압인가용으로 사용되는 N-전극(37)으로 구성되며, B-전극(36)과 N-전극(37) 상에 범프(bump)(38)를 형성한 후, 와이어 본딩을 할 필요없이 범프(38)를 통해 기판(21, 23)과 발광 다이오드 칩(25)를 직접 접합시키게 된다. 여기서, T-전극(35)은 필요에 따라 생략될 수 있다.FIG. 6 is a cross-sectional view of a gallium nitride (GaN) light emitting diode chip as shown to explain a flip chip method. Referring to the drawings, a GaN light emitting diode chip is basically formed in a predetermined region above the n-type GaN cladding layer 32 and the n-type GaN cladding layer 32 formed on the sapphire substrate 31 and the sapphire substrate 31. A current injection area is formed on the active layer 33 having a multi-quantum well structure, the p-type GaN cladding layer 34 and the p-type GaN cladding layer 34 formed on the active layer 33. Bonding B-electrode made of a conductive material formed at a predetermined position on the T-electrode 35 and a T-electrode 35 made of a transparent transparent material so as not to decrease the brightness characteristic of the light while increasing 36, an N-electrode 37 formed in a predetermined region on the n-type GaN cladding 32 and used for bonding and voltage application, on the B-electrode 36 and the N-electrode 37 After the bumps 38 are formed, the substrates 21 and 23 and the light emitting diodes are formed through the bumps 38 without the need for wire bonding. The chip 25 is directly bonded. Here, the T-electrode 35 may be omitted as necessary.

플립 칩 본딩된 GaN 발광 다이오드 칩(25)의 활성층(33)에서 발광된 빛 중, 상부로 발광된 빛은 그대로 방사되지만, 일부는 기판(21, 23) 방향으로도 방사되기도 한다. 따라서 보통 다이오드의 휘도 특성을 향상시키기 위하여, B-전극(36)을 형성하기 전에 먼저 T-전극(35)의 상부에 반사층을 형성하여 기판(21, 23) 방향으로 방사된 빛을 상부로 반사시키도록 한다. 이와 같은 반사층으로 반사율이 높은 Ag나 Al등이 사용된다.Of the light emitted from the active layer 33 of the flip chip bonded GaN LED chip 25, the light emitted upward is radiated as it is, but some of them are also emitted toward the substrates 21 and 23. Therefore, in order to improve the brightness characteristic of the diode, a reflective layer is first formed on the T-electrode 35 before the B-electrode 36 is formed to reflect the light emitted toward the substrates 21 and 23 upwards. Let's do it. As the reflective layer, Ag, Al, or the like having high reflectance is used.

투명 수지층(27)은 발광 다이오드 칩(25)으로부터 방출되어 투명 수지층(27)의 표면으로 향하는 빛의 입사각이 대략 40°이내가 되도록 그 표면이 볼록렌즈의 형상으로 구현되는 것이 바람직하다. 그러나 도 5에 도시한 바와 같이, 투명 수지층(27) 상에 볼록렌즈(29)가 접합된 경우에는 볼록렌즈(29)가 발광다이오드 칩(25)으로부터 방출되는 빛이 대략 40°이내로 입사되도록 곡면을 이루는 것이 바람직하다. 또한, 투명 수지층(27) 상에 접합되는 렌즈는 색수차에 의한 색 균일성 저하를 방지하기 위하여 빛의 분산율이 낮은 재질로 구현되는 것이 바람직하다. 빛의 분산율이 낮은 재질로는 형석유리, 불화물 린산 글라스 등이 있다. The transparent resin layer 27 is preferably embodied in the shape of a convex lens such that the incident angle of light emitted from the light emitting diode chip 25 to the surface of the transparent resin layer 27 is within about 40 °. However, as shown in FIG. 5, when the convex lens 29 is bonded on the transparent resin layer 27, the convex lens 29 is incident so that light emitted from the light emitting diode chip 25 is incident within about 40 °. It is preferable to form a curved surface. In addition, the lens to be bonded on the transparent resin layer 27 is preferably made of a material having a low dispersion rate of light in order to prevent the color uniformity decrease due to chromatic aberration. Examples of low light dispersion include fluorite glass and fluoride phosphate glass.

입사되는 빛의 각도가 대략 40°이내가 되도록 제한하는 이유는 다음과 같다.The reason for limiting the incident light angle to be within about 40 ° is as follows.

공기의 굴절률을 1이라 할 경우, 투명 수지층(27)의 굴절률은 대략 1.52 정도라고 할 수 있다. 굴절률이 큰 물질에서 굴절률이 작은 물질로 빛이 입사하게 되면 어느 특정각도 이상에서 빛의 전반사가 일어나는데, 이때의 임계각은 수학식 1과 같은 방법으로 계산할 수 있다.When the refractive index of air is 1, the refractive index of the transparent resin layer 27 may be about 1.52. When light is incident on a material having a large refractive index and a material having a small refractive index, total reflection of light occurs at a specific angle or more, and the critical angle at this time may be calculated by Equation 1 below.

n1sinθ1 = n2sinθ2 n 1 sinθ 1 = n 2 sinθ 2

여기서, n1=1.52, n2=1, θ2=90°이므로, Where n 1 = 1.52, n 2 = 1, θ 2 = 90 °,

1.52sinθ1 = 1.0sin90°= 11.52sinθ 1 = 1.0sin90 ° = 1

따라서 sinθ1 = 1/1.52 = 0.658 이며,Therefore sinθ 1 = 1 / 1.52 = 0.658,

θ1 = 41.15°가 된다.θ 1 = 41.15 °.

한편, 투명 수지층(27)은 트랜스퍼 몰딩법 또는 인캡슐레이션 프린팅 (encapsulation printing) 방법에 의하여 형성되는 것이 바람직하다. 트랜스퍼 몰딩법은 이송성형이라고도 하며, 재료를 폐쇄된 가열금형(加熱金型) 속에 압입한 뒤 이송시키는 과정에서 가소성(可塑性)을 띤 재료를 경화상태로 변화시킨다. 조작은 예비성형 -> 예비가열 -> 금형폐쇄 -> 재료공급 -> 경화 -> 금형개방 -> 성형품 빼내기의 순으로 이루어진다. 이 성형법의 특징은 복잡한 형상에 적합하고 보통의 압축성형으로는 불가능한 부서지기 쉬운 인서트(수지 속에 삽입하는 쇠붙이)를 사용할 수 있으며, 제품의 각부가 균질하게 되고 특히 두께가 두꺼운 제품에서는 강도가 증가한다. 또 치수가 정밀한 제품이 얻어지며, 특히 얇은 것, 긴 것의 성형이 가능하여 가늘고 긴 관을 성형할 수도 있다.On the other hand, the transparent resin layer 27 is preferably formed by a transfer molding method or an encapsulation printing method. The transfer molding method, also called transfer molding, transforms a plastic material into a cured state by injecting the material into a closed heating mold and then transferring the material. The operation is performed in the order of preforming-> preheating-> mold closing-> material supply-> hardening-> mold opening-> ejecting the molded product. This molding method is characterized by the use of brittle inserts (metal inserts in the resin), which are suitable for complex shapes and are not possible with normal compression molding.The parts of the product become homogeneous, especially in thick products. . In addition, products with precise dimensions can be obtained, and particularly thin and long products can be formed, and thin and long tubes can be formed.

인캡슐레이션 프린팅 방법은, 발광 다이오드 기판위에 투명 수지층(27)을 형성시킨 후 수분, 산소 등으로부터 기판을 격리시켜 소자의 변형을 막는 방법이다.The encapsulation printing method is a method of preventing the deformation of an element by forming a transparent resin layer 27 on a light emitting diode substrate and isolating the substrate from moisture, oxygen, and the like.

도 7은 본 발명에 따른 발광 다이오드의 제조방법의 실시 예를 나타낸 흐름도이다. 도면을 참조하면, 인쇄회로기판 또는 리드프레임(21, 23) 상에 발광 다이오드 칩(25)을 탑재하고(S100), 발광 다이오드 칩(25)을 보호 및 밀봉하기 위하여 투명 수지층(27)을 발광 다이오드(25) 상에 몰딩한다(S300). 7 is a flowchart illustrating an embodiment of a method of manufacturing a light emitting diode according to the present invention. Referring to the drawings, the light emitting diode chip 25 is mounted on the printed circuit board or the lead frames 21 and 23 (S100), and the transparent resin layer 27 is provided to protect and seal the light emitting diode chip 25. Molding on the light emitting diode 25 (S300).

상기에서는 발광 다이오드 칩(25)은 인쇄회로기판(PCB)에 탑재되며, 발광 다이오드 칩(25)은 플립 칩 방식으로 구현되는 것으로 설명하였지만, 이에 한정된 것은 아니다. 즉, 발광 다이오드 칩(25)은 리드프레임에 형성될 수도 있으며, 와이어 본딩에 의해 인쇄회로기판 또는 리드프레임과 전기적으로 연결될 수도 있다. 발광 다이오드 칩(25)이 와이어 본딩으로 연결되는 경우, 그 재질로는 일반적으로 금 (Au)이 사용된다. 물론, 플립 칩 방식을 이용하면 와이어 본딩을 할 필요가 없다.In the above, the light emitting diode chip 25 is mounted on a printed circuit board (PCB), and the light emitting diode chip 25 has been described as being implemented in a flip chip method, but is not limited thereto. That is, the light emitting diode chip 25 may be formed in the lead frame, or may be electrically connected to the printed circuit board or the lead frame by wire bonding. When the light emitting diode chip 25 is connected by wire bonding, gold (Au) is generally used as the material. Of course, the flip chip method eliminates the need for wire bonding.

더하여, 발광 다이오드 칩(25)의 적정한 전류의 공급을 위해 탑재부(21, 23)에 제너다이오드를 실장할 수도 있다. 이는 백색 발광소자의 안정된 작동과 제어를 위해 요구된다.In addition, a zener diode may be mounted on the mounting portions 21 and 23 to supply an appropriate current of the light emitting diode chip 25. This is required for stable operation and control of the white light emitting device.

투명 수지층(27)을 몰딩하는 과정에서, 투명 수지층(27)은 발광 다이오드 칩(25)으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루도록 형성된다. 또한, 투명 수지층(27)은 발광 다이오드 칩(25)으로부터 방출되어 투명 수지층(27)의 표면으로 향하는 빛의 입사각이 대략 40°이내가 되도록 볼록 렌즈의 형상으로 구현된다. 또는, 상술한 바와 같이, 발광 다이오드 칩(25)을 덮는 투명 수지층(27) 상에, 발광 다이오드 칩(25)으로부터 방출되는 빛이 대략 40°이내로 입사되도록 렌즈(29)가 접합되는 구조로 형성될 수도 있다.In the process of molding the transparent resin layer 27, the transparent resin layer 27 is formed to have a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip 25. In addition, the transparent resin layer 27 is embodied in the shape of a convex lens such that the incident angle of light emitted from the light emitting diode chip 25 and directed to the surface of the transparent resin layer 27 is within about 40 °. Alternatively, as described above, the lens 29 is bonded on the transparent resin layer 27 covering the light emitting diode chip 25 so that the light emitted from the light emitting diode chip 25 is incident within about 40 °. It may be formed.

이와 같은 투명 수지층(27)의 제조방법(S200)으로서, 주제 에폭시 성분 또는 실리콘 성분을 혼합하는 과정(S210) 중에 열을 가하면서 형광체(28)를 혼합한다(S220). 여기서, 주제 에폭시 성분 또는 실리콘 성분은 투명 수지층(27)의 투명성, 색 균일성 등을 고려하여 적절한 비율로 배합되는 것이 바람직하며, 전체 성분의 50 % 내지 80%를 차지하도록 배합되는 것이 바람직하다. 또한, 형광체(28)는 전체 성분의 20% 내지 50%를 차지하도록 배합되는 것이 바람직하다. 그러나 주제 성분 및 형광체(28)의 배합비는 이에 한정된 것이 아니며, 업체 및 패키지의 사양에 따라 달라질 수 있다. 이때, 첨가제로서 산화방지제, UV 흡수제, 개질제 등이 사용된다.As the method of manufacturing the transparent resin layer 27 (S200), the phosphor 28 is mixed while applying heat during the process of mixing the main epoxy component or the silicone component (S210) (S220). Here, the main epoxy component or the silicone component is preferably blended in an appropriate ratio in consideration of transparency, color uniformity, etc. of the transparent resin layer 27, and is preferably blended so as to occupy 50% to 80% of the total components. . In addition, the phosphor 28 is preferably blended to account for 20% to 50% of the total components. However, the mixing ratio of the main component and the phosphor 28 is not limited thereto and may vary depending on the specifications of the manufacturer and the package. At this time, antioxidants, UV absorbers, modifiers and the like are used as additives.

형광체(28)가 혼합된 수지에는 경화제 에폭시 성분 또는 실리콘 성분이 혼합되어 고상성형된다(S230). 경화제 성분으로는 MHHPA, MTHPA 등의 액상 타입, 또는 THPA, HHPA 등의 고상 타입이 이용될 수 있다. 이때, 주제 에폭시 성분 또는 실리콘 성분에 산화방지제, UV 흡수제, 촉매 등이 더 첨가될 수 있다. 첨가제의 첨가에 따라 투명 수지층(27)의 내열성 및 내습성이 향상되고, 성형성도 좋아진다.In the resin in which the phosphor 28 is mixed, a curing agent epoxy component or a silicone component is mixed and solidified (S230). As the curing agent component, a liquid type such as MHHPA or MTHPA, or a solid type such as THPA or HHPA may be used. At this time, an antioxidant, a UV absorber, a catalyst, or the like may be further added to the main epoxy component or the silicone component. By addition of an additive, the heat resistance and moisture resistance of the transparent resin layer 27 improve, and moldability improves.

보다 구체적으로 에폭시 수지와 에폭시 수지의 경화에 대하여 살펴보면, 일반적으로 에폭시 수지는 비스페놀 A[2,2-비스(4'-옥시페놀)프로판]와 에피클로르히드린을 수산화나트륨의 존재하에서 작용시키면 분자량 300~4,000의 제1차 수지(프레폴리머)가 생긴다. 제1차 수지는 원료의 배합조건에 따라 기름 모양의 것에서 연화점(軟化點) 160℃ 가까운 고체 모양의 것까지 얻을 수 있기 때문에 후일의 용도에 따라 반응조건을 선택할 수 있다.More specifically, the epoxy resin and the curing of the epoxy resin, generally, the epoxy resin is the molecular weight of bisphenol A [2,2-bis (4'-oxyphenol) propane] and epichlorohydrin in the presence of sodium hydroxide 300-4,000 primary resin (prepolymer) is produced. Since the primary resin can be obtained from an oil-like one to a solid-like one having a softening point of 160 ° C. depending on the mixing conditions of the raw materials, the reaction conditions can be selected according to the later use.

제1차 수지에 m-페닐렌디아민 등 아민, 프탈산 무수물 등 산(이들을 경화제라고 한다)을 첨가하면 에폭시기의 고리열림[開環] 및 히드록시기와의 반응이 일어나 다리결합이 이루어져 경화제의 종류나 반응조건에 따라 각각 성질이 다른 수지가 생긴다. When an acid such as amine or phthalic anhydride such as m-phenylenediamine or phthalic anhydride is added to the primary resin, ring opening of epoxy group and reaction with hydroxy group occur to form a bridging bond, and the type and reaction of curing agent. Depending on the conditions, resins having different properties are produced.

에폭시수지는 비중 1.230~1.189이며, 굽힘강도·굳기[硬度] 등 기계적 성질이 우수하다. 경화시에 휘발성 물질의 발생 및 부피의 수축이 없고, 경화할 때는 재료면에 큰 접착력을 가진다. 가연성(可燃性)·내약품성이 크지만 강한 산과 강한 염기에는 약간 침식된다. 안료(顔料)를 첨가함으로써 마음대로 착색할 수 있고, 또 내일광성(耐日光性)도 크다. 주형(注型)·매입(埋)·봉입(封入) 등 뛰어난 가공성 을 보인다. Epoxy resin has a specific gravity of 1.230 to 1.189 and is excellent in mechanical properties such as bending strength and firmness. There is no generation of volatiles and shrinkage of the volume at the time of curing, and it has a great adhesion to the material surface at the time of curing. It is flammable and chemically resistant, but is slightly eroded by strong acids and strong bases. By adding a pigment, coloring can be made at will, and also daylight resistance is large. It has excellent workability such as casting, embedding and encapsulation.

이상과 같은 성능을 이용하여 접착제·도료·라이닝 재료·주형품 재료·적층판(積層板)·염화비닐수지의 안정제 등 그 용도가 다양하다.By using the above-mentioned performance, the use of such adhesives, paints, lining materials, casting materials, laminated plates, and stabilizers of vinyl chloride resins is various.

또한, 에폭시 수지의 장점중 하나는 상온에서 쉽게 열경화성의 물질로 만들 수 있다는 것이며, 이러한 현상(경화)을 에폭시 수지의 경화라 한다. 이렇게 경화하기 위해서는 소위 경화제라고 하는 것이 사용되는데, 경화제는 에폭시와 반응하기 쉬운 물질들이 쓰여 진다. 경화제는 일반적으로 촉매와는 다른 개념으로 촉매는 반응을 일으키기는 하지만 반응물에 직접반응을 하여 고분자의 한 부분으로 존재하지는 않는 것이며, 경화제는 반응을 통해 직접 반응물의 한 부분이 되는 것이다.In addition, one of the advantages of the epoxy resin is that it can easily be made of a thermosetting material at room temperature, this phenomenon (curing) is called curing of the epoxy resin. In order to cure this, a so-called hardener is used, and a hardener is used for materials that are easily reacted with epoxy. The curing agent is generally different from the catalyst. The catalyst causes a reaction, but the catalyst reacts directly with the reactant and does not exist as part of the polymer. The curing agent becomes a part of the reactant directly through the reaction.

경화반응은 발열반응이어서 반응이 개시되면서 부터 열이 발생한다. 그러나 반응을 시키기 위해서는 가열을 필요로 하는 경우도 있다. The curing reaction is exothermic and heat is generated from the start of the reaction. However, in order to make a reaction, heating may be required.

일반적으로 가열하면 그 가열온도에 비례하여 경화반응을 완결시키는데 필요한 시간을 단축시킬 수가 있다. 그러나 온도가 너무 높은 상태에서 경화를 시키면 경화물의 물성이 저하되는 경향이 크다. 그래서 적절한 온도의 선택이 중요하다. In general, heating can shorten the time required to complete the curing reaction in proportion to the heating temperature. However, when hardening in the state where temperature is too high, the physical property of hardened | cured material tends to fall. That's why choosing the right temperature is so important.

대개 순도가 높은 에폭시 수지는 200도 이하에서는 화학적으로 매우 안정한 화합물로 존재하며, 열가소성의 성질도 지니고 있다. 이것이 경화반응을 통해 3차원(망상)구조를 가지게 된다. Generally, high purity epoxy resins exist as chemically very stable compounds below 200 ° C, and have thermoplastic properties. It has a three-dimensional (network) structure through the curing reaction.

그러므로 백색 발광소자의 투명 수지층(27)으로서, 균일한 색분포를 위한 형광물질의 혼합이 종래의 기술에서처럼 수지분말을 형성하고 열을 가하여 일정형태의 테블릿을 형성하는 과정에서 혼합하는 것이 아니라, 투광성 에폭시 수지와 형광 체(28)를 혼합하고, 이를 열경화하여 고상성형함으로써, 투명 수지층(27) 전체에 고르게 형광물질이 분포되게 된다.Therefore, as the transparent resin layer 27 of the white light emitting device, the mixing of the fluorescent material for uniform color distribution is not mixed in the process of forming the resin powder and applying the heat to form a tablet of a certain shape as in the prior art. In addition, by mixing the light-transmissive epoxy resin and the fluorescent substance 28, and thermosetting it to form a solid state, the fluorescent substance is evenly distributed throughout the transparent resin layer 27.

이것은 위에서 설명한 바와 같이 에폭시 수지가 열경화 시간과 온도에 따라 비례하여 경화정도가 결정되고, 액상의 에폭시 수지 원료를 혼합하는 과정에서 형광물질이 혼합되므로, 비중이 상대적으로 높은 형광물질이 밑으로 가라앉는 것을 방지하게 된다.As described above, the curing degree of epoxy resin is proportionally determined according to the heat curing time and temperature, and the fluorescent material is mixed in the process of mixing the liquid epoxy resin raw material. You will be prevented from sitting down.

즉, 형광물질이 하방으로 침강되는 시간적 여유가 없게 되고, 경화되는 과정에 있기 때문에 형광물질과의 점도 차이가 줄어들어 그 분산성이 향상되어, 결국 투명 수지층(27) 전체에 골고루 형광물질이 분포하게 되는 것이다.That is, there is no time for the fluorescent material to settle downward, and since it is in the process of hardening, the viscosity difference with the fluorescent material is reduced, so that its dispersibility is improved, and the fluorescent material is evenly distributed throughout the transparent resin layer 27. Will be done.

고상성형된 수지는 분말로 분쇄되어 파우더 상태로 변환되며(S240), 파우더 상태의 분말에 열을 가하여(S250) 녹여냄으로써, 일정한 형태의 테블릿으로 형성시킨다(S260).Solid-state resin is pulverized into a powder is converted into a powder state (S240), by applying heat to the powder of the powder (S250) to melt, to form a tablet of a certain form (S260).

투명 수지층(27)을 몰딩하는 단계(S300)는 트랜스퍼 몰딩방식 또는 인캡슐레이션 프린팅법을 이용하는 것이 바람직한데, 이 방식은 발광 다이오드 칩(25)이 탑재되는 인쇄회로기판이나 리드프레임(21, 23)을 알맞은 금형이 설치된 트랜스퍼 몰딩 프레스 상에 배열하며, 단계 S260에서 형성된 몰딩 컴파운드 테블릿을 넣고, 소정의 압력, 온도, 그리고 시간을 두어 외부와 전기적으로 연결된 발광 다이오드 칩(25)을 덮도록 성형하여 형광물질층(투명 수지층)(27)을 형성한다.In the molding of the transparent resin layer 27 (S300), it is preferable to use a transfer molding method or an encapsulation printing method, which is a printed circuit board or lead frame 21 on which the light emitting diode chip 25 is mounted. 23) is arranged on a transfer molding press equipped with a suitable mold, and the molding compound tablet formed in step S260 is placed, so as to cover the light emitting diode chip 25 electrically connected to the outside at a predetermined pressure, temperature, and time. By molding, a fluorescent material layer (transparent resin layer) 27 is formed.

도 8은 본 발명에 따른 발광 다이오드 제조방법의 다른 실시 예를 나타낸 흐름도이다. 도면을 참조하면, 단계 S100 내지 단계 S300은 도 7의 단계 S100 내지 단계 S300과 동일하므로, 동일한 부재번호를 부여하였으며 이하, 그 설명을 생략한다.8 is a flowchart illustrating another embodiment of a method of manufacturing a light emitting diode according to the present invention. Referring to the drawings, the steps S100 to S300 are the same as the steps S100 to S300 of FIG. 7, and therefore, the same reference numerals are assigned to the same members.

도 8에서, 발광 다이오드는 도 7의 경우와 같이, 투명 수지층(27)을 발광 다이오드 칩(25)으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양의 볼록 렌즈 형상으로 형상하는 대신에, 상기의 과정에 의해 형성된 투명 수지층(27) 상에 볼록 렌즈(29)를 접합하여 구현될 수 있다(S400). 이 경우, 투명 수지층(27) 상에 접합되는 볼록 렌즈(29)는 발광 다이오드 칩(25)으로부터 방출되는 빛이 대략 40 ?? 이내로 입사되도록 하는 곡률을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이 경우 렌즈(29)는 색수차에 의한 색 균일성 저하를 방지하기 위하여 빛의 분산율이 낮은 재질로 구현되는 것이 바람직하며, 이와 같은 재질로는 형석유리, 불화물 린산 글라스 등이 있다.In FIG. 8, instead of forming the transparent resin layer 27 into a convex lens shape having a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip 25, the light emitting diode is formed in the above-described process as in the case of FIG. 7. It can be implemented by bonding the convex lens 29 on the transparent resin layer 27 formed by (S400). In this case, the convex lens 29 bonded on the transparent resin layer 27 has approximately 40 degrees of light emitted from the light emitting diode chip 25. It is desirable to have a curvature to be incident within. In this case, the lens 29 is preferably made of a material having a low light dispersion rate in order to prevent color uniformity degradation due to chromatic aberration, such as fluorite glass, fluoride phosphate glass, and the like.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대해서 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.Although the preferred embodiments of the present invention have been illustrated and described above, the present invention is not limited to the specific embodiments described above, and the present invention is not limited to the specific embodiments of the present invention without departing from the spirit of the present invention as claimed in the claims. Anyone skilled in the art can make various modifications, as well as such modifications are within the scope of the claims.

이로써, 본 발명에 따른 발광 다이오드 및 그 제조방법은, 빛의 전반사, 색수차, 형광체 분포 등에 의해 발생되는 색 균일성 저하를 방지할 수 있게 되며, 결과적으로 발광 다이오드의 휘도를 향상시키고 제품 수율을 증가시킬 수 있게 된다.As a result, the light emitting diode and its manufacturing method according to the present invention can prevent color uniformity degradation caused by total reflection of light, chromatic aberration, phosphor distribution, etc., and as a result, improve the brightness of the light emitting diode and increase the product yield. You can do it.

또한, 본 발명에 따르면 형광체 도포 및 와이어 루프에 대한 제약이 없기 때문에, 다양한 형태의 패키지를 설계할 수 있게 되며, 결과적으로 초소형의 패키지 개발을 유도하게 된다.In addition, according to the present invention, since there is no restriction on phosphor coating and wire loops, various types of packages can be designed, resulting in the development of a very small package.

또한, 본 발명에 따르면 색 편차에 대한 부담이 줄어들기 때문에, 다양한 형태의 렌즈 설계하여 투명 수지층에 접합시킬 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, since the burden of color deviation is reduced, various types of lenses can be designed and bonded to the transparent resin layer.

Claims (12)

삭제delete 삭제delete 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판; A printed circuit board having a thin film pattern formed thereon; 상기 인쇄회로기판에 실장되는 발광다이오드 칩; 및A light emitting diode chip mounted on the printed circuit board; And 상기 발광다이오드 칩을 덮도록 형성되며, 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루고, 내부에 형광체가 균일하게 분산된 투명 수지층을 포함하며,It is formed to cover the light emitting diode chip, forms a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip, and includes a transparent resin layer in which phosphors are uniformly dispersed therein, 상기 투명 수지층은, 에폭시성분 또는 실리콘성분을 혼합하는 과정에서 열을 가하며 상기 혼합체를 혼합하여 형성되는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드.The transparent resin layer is a light emitting diode, characterized in that formed by mixing the mixture while applying heat in the process of mixing the epoxy component or silicone component. 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판; A printed circuit board having a thin film pattern formed thereon; 상기 인쇄회로기판에 실장되는 발광다이오드 칩; 및A light emitting diode chip mounted on the printed circuit board; And 상기 발광다이오드 칩을 덮도록 형성되며, 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루고, 내부에 형광체가 균일하게 분산된 투명 수지층을 포함하며,It is formed to cover the light emitting diode chip, forms a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip, and includes a transparent resin layer in which phosphors are uniformly dispersed therein, 상기 투명 수지층은 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되어 상기 투명 수지층의 표면으로 향하는 빛의 입사각이 40°이내가 되도록 그 표면이 볼록렌즈의 형상으로 구현되는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드.The transparent resin layer is a light emitting diode, characterized in that the surface is implemented in the shape of a convex lens so that the incident angle of light emitted from the light emitting diode chip to the surface of the transparent resin layer is within 40 °. 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판; A printed circuit board having a thin film pattern formed thereon; 상기 인쇄회로기판에 실장되는 발광다이오드 칩; 및A light emitting diode chip mounted on the printed circuit board; And 상기 발광다이오드 칩을 덮도록 형성되며, 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루고, 내부에 형광체가 균일하게 분산된 투명 수지층을 포함하며,It is formed to cover the light emitting diode chip, forms a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip, and includes a transparent resin layer in which phosphors are uniformly dispersed therein, 상기 발광다이오드 칩은 플립 칩(flip chip) 방식으로 구현된 것을 특징으로 하는 발광 다이오드.The light emitting diode chip is a light emitting diode, characterized in that implemented in a flip chip (flip chip) method. 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판; A printed circuit board having a thin film pattern formed thereon; 상기 인쇄회로기판에 실장되는 발광다이오드 칩;A light emitting diode chip mounted on the printed circuit board; 상기 발광다이오드 칩을 덮도록 형성되며, 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루고, 내부에 형광체가 균일하게 분산된 투명 수지층; 및A transparent resin layer formed to cover the light emitting diode chip, having a thickness and a shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip, and having phosphors uniformly dispersed therein; And 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 빛이 40°이내로 입사되도록 상기 투명 수지층 상에 접합된 볼록렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드.And a convex lens joined to the transparent resin layer such that light emitted from the light emitting diode chip is incident within 40 °. 삭제delete 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 렌즈는 형석유리 또는 불화물 린산 글라스 중의 어느 하나로 구현되는 것을 특징으로 하는 발광 다이오드.The lens is a light emitting diode, characterized in that implemented by any one of fluorite glass or fluoride phosphate glass. 삭제delete 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판에 발광다이오드 칩을 실장하는 단계;Mounting a light emitting diode chip on a printed circuit board on which a thin film pattern is formed; 상기 발광다이오드 칩을 덮도록 투명 수지층을 몰딩하는 단계;Molding a transparent resin layer to cover the light emitting diode chip; 적어도 하나의 수지원료에 형광체를 혼합하는 단계;Mixing the phosphor with at least one support material; 상기 형광체가 혼합된 상기 수지를 고체상태로 성형하기 위하여 열경화하는 단계;Thermosetting the resin mixed with the phosphor to form a solid state; 상기 고체상태의 성형을 분말분쇄하는 단계; 및Powder grinding of the solid state molding; And 분말분쇄된 수지분말로부터 테블릿을 형성하는 단계를 포함하며, Forming a tablet from the powdered resin powder; 상기 투명 수지층은 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루며 그 내부에 형광체가 균일하게 분산되고, The transparent resin layer has a thickness and shape proportional to the amount of light emitted from the light emitting diode chip, the phosphor is uniformly dispersed therein, 상기 몰딩단계는, 형성된 상기 테블릿을 이용하여 구현되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드 제조방법.The molding step is a light emitting diode manufacturing method, characterized in that implemented using the formed tablet. 박막 패턴이 형성된 인쇄회로기판에 발광다이오드 칩을 실장하는 단계;Mounting a light emitting diode chip on a printed circuit board on which a thin film pattern is formed; 상기 발광다이오드 칩을 덮도록 투명 수지층을 몰딩하는 단계; 및Molding a transparent resin layer to cover the light emitting diode chip; And 상기 투명 수지층 상에, 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 빛이 40°이내로 입사되도록 렌즈를 접합시키는 단계를 포함하며,Bonding a lens on the transparent resin layer such that light emitted from the light emitting diode chip is incident within 40 °; 상기 투명 수지층은 상기 발광다이오드 칩으로부터 방출되는 광량에 비례하는 두께와 모양을 이루고 그 내부에 형광체가 균일하게 분산되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드 제조방법.The transparent resin layer has a thickness and shape in proportion to the amount of light emitted from the light emitting diode chip, and the phosphor is uniformly dispersed therein. 제 11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 렌즈는 형석유리 또는 불화물 린산 글라스 중의 어느 하나로 구현되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드 제조방법.The lens is a light emitting diode manufacturing method, characterized in that implemented in any one of fluorite glass or fluoride phosphate glass.
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