KR100711005B1

KR100711005B1 - Up/down lift system equipped with buffer conveyor

Info

Publication number: KR100711005B1
Application number: KR1020060021106A
Authority: KR
Inventors: 하승모; 이태희; 유대일
Original assignee: (주)에스티아이
Priority date: 2006-03-06
Filing date: 2006-03-06
Publication date: 2007-04-24

Abstract

본 발명의 버퍼 컨베이어가 구비된 물류의 상하 운반 시스템은 복수개의 엘리베이터 암(elevator arm)(201)으로 이루어지고 기판이 위치하여 상하로 반복하여 이동하는 엘리베이터, 및 복수개의 버퍼 암(buffer arm)(101)으로 이루어지고 상기 엘리베이터 암이 상하로 이동하도록 열려지고 기판을 수취하도록 닫혀지는 한 쌍의 버퍼로 이루어지는 버퍼 컨베이어를 포함하고, 상기 엘리베이터 암과 버퍼 암이 서로 엇갈려서 통과할 수 있도록 서로 엇갈리게 배열되는 것을 그 특징으로 한다.The up and down conveying system of logistics provided with a buffer conveyor of the present invention comprises a plurality of elevator arms (201), and the substrate is repeatedly moved up and down and the buffer arm (buffer arm) ( 101) and a buffer conveyor consisting of a pair of buffers, the elevator arms being opened to move up and down and closed to receive a substrate, arranged alternately so that the elevator arms and buffer arms can cross each other and pass through them. It is characterized by that.

버퍼 컨베이어, 상하 운반 시스템, 엘리베이터, 버퍼 암, LCD 기판 Buffer conveyor, vertical conveying system, elevator, buffer arm, LCD board

Description

Up / Down Lift System Equipped With Buffer Conveyor}

제1도는 본 발명에 따른 버퍼 컨베이어가 구비된 물류의 상하운반 시스템이 적용된 2층 구조의 LCD용 기판 세정기의 개략적인 정면도이다.FIG. 1 is a schematic front view of a two-layer LCD substrate cleaner having a logistic conveyor system equipped with a buffer conveyor according to the present invention.

제2도는 제1도의 기판 세정기의 개략적인 평면도이다.2 is a schematic plan view of the substrate cleaner of FIG.

제3도는 닫힌 상태의 버퍼 암의 개략적인 평면도이다.3 is a schematic plan view of the buffer arm in the closed state.

제4도 (A) 내지 (D)는 기판을 하강시키는 경우의 버퍼와 엘리베이터가 작동하는 순서를 개략적으로 나타낸 도면이다.4A to 4D are diagrams schematically showing the order in which the buffer and the elevator operate when the substrate is lowered.

제5도 (A) 내지 (D)는 기판을 상승시키는 경우의 버퍼와 엘리베이터가 작동하는 순서를 개략적으로 나타낸 도면이다.5A to 5D are diagrams schematically showing the order in which the buffer and the elevator operate when the substrate is raised.

* 도면의 주요부호에 대한 간단한 설명 *Brief description of the main symbols in the drawing

100: 버퍼 컨베이어 101: 버퍼 암(buffer arm) 100: buffer conveyor 101: buffer arm

201: 엘리베이터 암(elevator arm) 300: 기판 201: elevator arm 300: substrate

발명의 분야Field of invention

본 발명은 LCD 기판 세정기와 같은 2층 구조를 갖는 장비에 있어서 기판과 같은 물체를 상하로 운반하기 위한 물류의 상하운반 시스템에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 물류의 상하운반 시스템에서 종래의 엘리베이터 시스템에 버퍼 컨베이어(buffer conveyor)를 부가하여 상하 운반 시간을 조절함으로써 장비의 상하층에서의 공정시간을 조절할 수 있는 버퍼 컨베이어가 구비된 상하 운반 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a vertical transport system for logistics for transporting an object such as a substrate up and down in equipment having a two-layer structure such as an LCD substrate cleaner. More specifically, the present invention is a top and bottom with a buffer conveyor that can adjust the process time in the upper and lower layers of the equipment by adjusting the vertical transport time by adding a buffer conveyor to the conventional elevator system in the vertical transport system of logistics Relates to a conveying system.

발명의 배경 Background of the Invention

LCD 기판의 대형화 추세에 따라 이들을 처리하는 세정기와 같은 장비들은 대형화되고 있다. 이들 장비들이 대형화되면서 장비들이 차지하는 공간의 효율성을 높이기 위하여 상하 구조 즉 2층 구조를 갖는 장비들이 채택되고 있는 실정이다.With the trend toward larger LCD substrates, equipment such as scrubbers are becoming larger. As these devices become larger, equipment having a vertical structure, that is, a two-layer structure, is adopted to increase the efficiency of the space occupied by the equipment.

제1도는 2층 구조로 이루어진 LCD용 기판 세정기의 개략적인 정면도로서, 중앙부에는 기판을 투입하여 처리한 후 배출시키는 프로세스 존(process zone)이 설치되고, 그 좌우로 기판을 상하 이동하기 위한 업/다운 리프트(Up/Down lift)가 설치된다.FIG. 1 is a schematic front view of a LCD substrate cleaner having a two-layer structure. A process zone for inserting and treating a substrate and discharging the substrate is installed at a central portion thereof. Up / Down lifts are installed.

그런데 종래의 상하 운반 시스템인 업/다운 리프트는 엘리베이터 시스템으로 만 이루어져 있다. 엘리베이터는 일정한 속도로 상하 이동을 하기 때문에, 기판의 처리속도와 일치하지 않는 경우가 많고, 그럼으로써 프로세스 존에서의 작업시간과 엘리베이터에서의 운반시간이 서로 매칭되지 않는 불편을 초래하고 있다. 이러한 불편은 결국 작업의 지연을 가져와 수율을 떨어뜨리거나, 프로세스 존에서의 충분한 작업을 행하지 못하는 결과를 초래하여 생산품의 성능을 저하시켜 왔다.However, the up / down lift, which is a conventional up and down conveying system, consists only of an elevator system. Since elevators move up and down at a constant speed, they often do not coincide with the processing speed of the substrate, thereby causing inconvenience that the working time in the process zone and the transportation time in the elevator do not match with each other. This inconvenience has resulted in a delay in work, resulting in lowered yields, or incapable of performing sufficient work in the process zone, resulting in reduced performance of the product.

예를 들어, 엘리베이터만을 이용한 종래의 상하운반 시스템에서는, 기판이 아래층으로 이동할 때 엘리베이터가 위층으로 돌아오기 전에 다음 기판을 프로세스 존에서 저속으로 운반하거나 정지하여 대기시켜야 한다. 이에 따라 각층에 설치된 모듈(module)의 조건, 택 타임(tack time), 운반속도 등을 제한적으로 설정해야 한다. 이러한 결점을 해결하기 위한 방법으로, 아래층에는 모든 모듈을 설치하고 위층에는 트랜스퍼(transfer)를 설치하여 위층에서 기판을 고속으로 운반하는 방식을 함께 사용하여 왔다. 그러나 이러한 방식도 아래층의 필요 면적이 상대적으로 커지며, 트랜스퍼의 고속 운반에 의해 파티클(particle)이 다량 발생하는 문제점을 내포하고 있다.For example, in a conventional up and down conveying system using only an elevator, when the substrate moves downstairs, the next substrate must be transported or stopped at low speed in the process zone before the elevator returns upstairs. Accordingly, the conditions, tack time, transport speed, etc. of modules installed on each floor must be limited. In order to solve this drawback, all the modules are installed on the lower layer and transfers are installed on the upper layer to transfer the substrate at a high speed. However, this method also has a problem that the required area of the lower layer is relatively large, and a large amount of particles are generated by the high-speed transfer of the transfer.

본 발명자는 상기와 같은 물류의 상하 운반 시스템의 문제점을 해결하고자 엘리베이터와 버퍼 컨베이어를 구비한 본 발명의 새로운 시스템을 개발하기에 이른 것이다.The present inventors have come to develop a new system of the present invention having an elevator and a buffer conveyor to solve the problems of the above-mentioned up and down transport system of logistics.

본 발명의 목적은 엘리베이터와 버퍼 컨베이어를 구비하여 물류의 상하운반 시간을 조절함으로써 장비의 상하층에서의 공정시간을 조절할 수 있는 물류의 상하 운반 시스템을 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide an up and down transport system of logistics that can adjust the processing time in the upper and lower layers of the equipment by adjusting the up and down transport time of the logistics having an elevator and a buffer conveyor.

본 발명의 다른 목적은 기판이 상하로 이동하는 도중에도 다음 기판을 수취할 수 있도록 버퍼 컨베이어가 구비된 물류의 상하 운반 시스템을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a logistics system for transporting up and down equipped with a buffer conveyor to receive the next substrate even while the substrate moves up and down.

본 발명의 또 다른 목적은 위층과 아래층의 프로세스 존에서의 기판을 운반 속도를 감속하여 정지하여 대기시킬 필요가 없고 기판을 연속적으로 수취하여 상하로 이동시킬 수 있도록 버퍼 컨베이어가 구비된 물류의 상하 운반 시스템을 제공하기 위한 것이다.It is still another object of the present invention to move a substrate in a process zone of an upper layer and a lower layer to reduce the conveying speed, and to stop and wait, and to move the substrate up and down by a buffer conveyor so that the substrate can be continuously received and moved up and down. It is to provide a system.

본 발명의 또 다른 목적은 작업 효율을 높이고 생산품의 성능을 향상시킬 수 있는 버퍼 컨베이어가 구비된 상하 운반 시스템을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a vertical conveying system equipped with a buffer conveyor that can increase the work efficiency and improve the performance of the product.

본 발명의 또 다른 목적은 버퍼 컨베이어를 소형화하여 전체 장비를 컴팩트(compact)화 할 수 있는 상하 운반 시스템을 제공하기 위한 것이다.Still another object of the present invention is to provide a vertical conveying system capable of compactizing a buffer conveyor to compact the whole equipment.

본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 모두 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.The above and other objects of the present invention can all be achieved by the present invention described below.

발명의 요약Summary of the Invention

이하 첨부된 도면을 참고로 본 발명의 내용을 하기에 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the contents of the present invention.

발명의 구체예에 대한 상세한 설명Detailed Description of the Invention

제1도는 본 발명에 따른 버퍼 컨베이어가 구비된 물류의 상하 운반 시스템이 적용된 2층 구조의 LCD용 기판 세정기의 개략적인 정면도이고, 제2도는 그 평면도이다.FIG. 1 is a schematic front view of a two-layer LCD substrate cleaner with a logistics conveyor system equipped with a buffer conveyor according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view thereof.

제1도 및 제2도에서 보는 바와 같이, LCD 기판 세정기는 그 중앙부에 LCD 기판을 처리하는 프로세스 존(process zone)이 설치되고, 좌우측에 기판을 상하로 이동시키기 위한 업/다운 리프트(up/down lift)가 설치된다.As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the LCD substrate cleaner has a process zone for processing the LCD substrate at its center and an up / down lift for moving the substrate up and down on the left and right sides. down lift) is installed.

즉 카세트(casette)에 적재된 기판을 이재(離載) 로보트가 하나씩 수취하여 프로세스 존으로 투입시키고, 프로세스 존에서는 세정공정이 상층부에서 시작된다. 상층부에서의 작업이 완료되면 우측의 업/다운 리프트로 이동하여 하강한 후, 다시 하층부의 프로세스 존으로 투입된다. 하층부에서의 작업이 완료되면 좌측의 업/다운 리프트로 이동하여 상승한 후, 다시 상층부의 프로세스 존으로 투입된 후, 이재 로보트에 의하여 밖으로 배출된다. 카세트에 적재된 기판을 이재(離載) 로봇에 의하여 하나씩 수취하여 프로세스 존으로 투입시키고, 프로세스 존에서 처리된 기판 을 배출하는 것은 종래의 장치에서에서도 적용되어 왔던 기술로서 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자에 의하여 용이하게 실시될 수 있다.In other words, the substrates loaded on the cassette are received by the transfer robots one by one into the process zone, and the cleaning process starts at the upper layer. When the work on the upper floor is completed, it moves to the up / down lift on the right side and descends, and is then put into the lower process zone. When the work on the lower floor is completed, the motor moves to the up / down lift on the left side and ascends, and then is again put into the process zone of the upper floor, and then discharged out by the transfer robot. Receiving the substrates loaded in the cassette by the transfer robot one by one and introducing them into the process zone, and discharging the processed substrate from the process zone is a technique that has been applied in the conventional apparatus as well. It can be easily implemented by those skilled in the art.

본 발명에서는 업/다운 리프트로 표시되는 상하 운반 시스템의 상부에 버퍼 컨베이어를 설치한다.In the present invention, a buffer conveyor is installed on the upper and lower conveying systems represented by up / down lifts.

버퍼 컨베이어는 한 쌍의 버퍼로 이루어지는 데, 각 버퍼는 복수개의 버퍼 암(101)으로 구성된다. 제3도는 한 쌍의 버퍼가 닫힌(closed) 상태를 도시하는 개략적인 평면도이다. 한 쌍의 버퍼는 그 중앙부로 엘리베이터 암이 상하 이동하도록 열려지고(open), 기판을 수취하도록 수평 상태로 닫혀지는(closed) 구조를 갖는다. 한 쌍의 버퍼가 닫혀지고 열려지는 동작을 반복하는 것은 구동수단과 제어수단(도시되지 않음)에 의하여 행해지며, 이러한 수단들은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자에 의하여 용이하게 실시될 수 있다.The buffer conveyor consists of a pair of buffers, each buffer consisting of a plurality of buffer arms 101. 3 is a schematic plan view showing a state in which a pair of buffers are closed. The pair of buffers have a structure in which the elevator arm is opened to move up and down to the center thereof and closed in a horizontal state to receive the substrate. Repeating the operation of closing and opening the pair of buffers is performed by driving means and control means (not shown), which means can be easily implemented by those skilled in the art.

본 발명에 따른 물류의 상하 운반 시스템에 적용되는 엘리베이터는 상기 버퍼 컨베이어와 함께 작동하여 버퍼 컨베이어가 연속적으로 기판(300)을 수취하고, 엘리베이터는 그 수취된 기판을 연속적으로 상하 이동시킬 수 있도록 복수개의 엘리베이터 암(201)으로 이루어진다.An elevator applied to the up and down conveying system of logistics according to the present invention operates in conjunction with the buffer conveyor so that the buffer conveyor continuously receives the substrate 300, and the elevator can continuously move the received substrate up and down. Elevator arm 201.

우선 우측 업/다운 리프트에서 기판(300)을 하강시키는 원리를 설명하면 다음과 같다. 제4도 (A) 내지 (D)는 기판(300)을 하강시키는 경우의 버퍼와 엘리베이터가 작동하는 순서를 개략적으로 나타낸다.First, the principle of lowering the substrate 300 in the right up / down lift will be described. 4A to 4D schematically show the order in which the buffer and the elevator operate when the substrate 300 is lowered.

제4도는 (A)에서 보는 바와 같이, 한 쌍의 버퍼가 닫힌 상태에서 각 버퍼 암(101)의 사이에 엘리베이터 암(201)이 교대로 엇갈리게 위치한다. 이 상태에서의 버퍼 암(101)과 엘리베이터 암(201)은 동일 수평면상에 위치한다. 이 상태에서 프로세스 존으로부터 기판(300)이 운반되어 수취된다.4A, as shown in (A), elevator arms 201 are alternately positioned between each buffer arm 101 with a pair of buffers closed. In this state, the buffer arm 101 and the elevator arm 201 are located on the same horizontal plane. In this state, the substrate 300 is transported and received from the process zone.

기판이 완전히 수취되면, 한 쌍의 버퍼는 (B)도와 같이 좌우측에 수직방향으로 열려진다. 이때 기판(300)은 수평상태의 엘리베이터 암(201)에 의하여 지지된다.When the substrate is completely received, the pair of buffers are opened in the vertical direction on the left and right sides as shown in (B). At this time, the substrate 300 is supported by the elevator arm 201 in a horizontal state.

한 쌍의 버퍼가 완전히 열려지면, 기판을 수취한 엘리베이터는 하층부로 하강하여 (C)도와 같은 상태가 된다.When a pair of buffers are fully opened, the elevator which received a board | substrate descends to the lower floor part, and will be in the state like (C) degree.

하층부로 하강한 기판(300)은 하층부의 프로세스 존으로 투입될 준비를 하고, 한 쌍의 버퍼는 (D)도와 같이 닫혀져서 수평상태를 이룬다. 수평 상태를 이룬 버퍼는 다음 기판을 수취하게 되고, 기판이 배출된 엘리베이터는 상층부로 이동하여 (A)도 상태로 되돌아가 상기 동작을 반복한다.The substrate 300 lowered to the lower layer is prepared to be introduced into the lower process zone, and the pair of buffers are closed as shown in (D) to form a horizontal state. The buffer in the horizontal state receives the next substrate, and the elevator from which the substrate is discharged moves to the upper layer, and returns to the state (A), and repeats the above operation.

하층부의 프로세스 존에서 처리된 기판(300)은 좌측의 업/다운 리프트로 이동한다. 좌측의 업/다운 리프트에서 기판을 상승시키는 원리는 다음과 같다. 제5도 (A) 내지 (D)는 기판을 상승시키는 경우의 버퍼와 엘리베이터가 작동하는 순서를 개략적으로 나타낸다.The substrate 300 processed in the lower process zone moves to the up / down lift on the left side. The principle of raising the substrate in the up / down lift on the left is as follows. 5A to 5D schematically show the order in which the buffer and the elevator operate when the substrate is raised.

제5도 (A)에서 보는 바와 같이, 프로세스 존에서 처리된 기판(300)이 한 쌍의 버퍼가 열린 상태에서 엘리베이터 암(201) 위에 수취된다. As shown in FIG. 5A, the substrate 300 processed in the process zone is received on the elevator arm 201 with a pair of buffers open.

기판이 완전히 수취되면, 기판(300)은 엘리베이터에 의하여 상층부로 이동하여 (B)도와 같은 상태가 된다. (B)도 상태에서는 엘리베이터가 정지하고, 한 쌍의 버퍼가 닫혀진다. 한 쌍의 버퍼가 닫혀져서 상부쪽으로 이동하여 (C)도와 같은 상 태가 되면서 엘리베이터 암(201) 위에 얹혀있던 기판(300)이 버퍼 암(101) 위에 얹혀지게 한다. 이때 한 쌍의 버퍼가 닫힌 상태에서 각 버퍼 암(101)의 사이에 엘리베이터 암(201)이 교대로 엇갈리게 위치한다.When the substrate is completely received, the substrate 300 is moved to the upper layer portion by the elevator to be in a state as shown in FIG. In the state (B), the elevator stops and the pair of buffers are closed. The pair of buffers are closed and moved upwards to be in the state as shown in (C), so that the substrate 300, which was placed on the elevator arm 201, is placed on the buffer arm 101. At this time, the elevator arms 201 are alternately positioned between the buffer arms 101 while the pair of buffers are closed.

버퍼 위에 놓여진 기판(300)은 리프트 밖으로 배출되고, 엘리베이터는 하층부로 하강하여 다음 기판을 수취하게 되고, 기판을 수취한된 엘리베이터는 상층부로 이동하여 (A)도 상태로 되돌아가 상기 동작을 반복한다.The substrate 300 placed on the buffer is discharged out of the lift, the elevator descends to the lower floor to receive the next substrate, and the elevator which receives the substrate moves to the upper floor to return to the state (A) and repeats the above operation. .

본 발명은 상하층의 2층 구조로 이루어진 장비에 있어서, 반도체, FPD(LCD, PDP, 유기EL) 등을 상하로 운반하는 리프트에 모두 적용될 수 있다. 또한 본 발명의 버퍼 컨베이어가 구비된 상하 운반 시스템은 상기 기판 등을 세정하기 위한 세정기 뿐만 아니라 화학약품을 이용하여 상하층의 구조에서 처리하는 모든 장비에 적용될 수 있다. The present invention can be applied to both a lift carrying a semiconductor, FPD (LCD, PDP, organic EL) and the like in the equipment consisting of a two-layer structure of the upper and lower layers. In addition, the vertical conveying system equipped with the buffer conveyor of the present invention can be applied to all the equipment to process in the structure of the upper and lower layers by using a chemical as well as a cleaner for cleaning the substrate.

본 발명은 엘리베이터와 버퍼 컨베이어를 구비하여 물류의 상하 운반 시간을 조절함으로써 장비의 상하층에서의 공정시간을 조절할 수 있고, 기판이 상하로 이동하는 도중에도 다음 기판을 수취할 수 있으며, 위층과 아래층의 프로세스 존에서의 기판을 운반 속도를 감속하여 정지하여 대기시킬 필요가 없고 기판을 연속적으로 수취하여 상하로 이동시킬 수 있고, 작업효율을 높이고 생산품의 성능을 향상시킬 수 있는 버퍼 컨베이어가 구비된 상하 운반 시스템을 제공하는 발명의 효과를 갖는다. 또한 본 발명은 버퍼 컨베이어를 소형화하여 전체 장비를 컴팩트(compact) 화 할 수 있는 상하 운반 시스템을 제공하는 효과도 갖는다.The present invention is equipped with an elevator and a buffer conveyor can adjust the processing time in the upper and lower layers of the equipment by adjusting the up and down transport time of the logistic, can receive the next substrate even while the substrate is moving up and down, the upper and lower floors No need to slow down the transport speed to stop the substrate in the process zone of the process zone. The substrate can be continuously received and moved up and down, and the upper and lower buffer conveyors are provided to increase the work efficiency and improve the performance of the product. Has the effect of the invention to provide a delivery system. In addition, the present invention has the effect of providing a vertical conveying system that can compact the entire equipment by miniaturizing the buffer conveyor.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 이용될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다. Simple modifications and variations of the present invention can be readily used by those skilled in the art, and all such variations or modifications can be considered to be included within the scope of the present invention.

Claims

An elevator composed of a plurality of elevator arms 201 and the substrate is repeatedly moved up and down; And

A buffer conveyor consisting of a plurality of buffer arms 101 and consisting of a pair of buffers opened to move the elevator arm up and down and closed to receive a substrate;

And vertically and alternately arranged so that the elevator arm and the buffer arm can cross each other so as to cross each other.

The buffer conveyor of claim 1, wherein the elevator repeatedly moves up and down to move the substrate up and down, and the pair of buffers are closed on the same horizontal plane and open vertically to move the elevator. Up and down transport system of logistics equipped with.

The logistics system of claim 1, wherein the substrate is a semiconductor, an LCD, a PDP, or an organic EL.

Equipment with a vertical conveying system of logistics with a buffer conveyor according to any one of claims 1 to 3.