KR100694559B1 - 유도가열에 의한 후판의 연속 열처리 방법 및 장치 - Google Patents
유도가열에 의한 후판의 연속 열처리 방법 및 장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
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- 후판의 열처리 방법에 있어서,열처리 대상물인 일반 구조용 강과 일반 기계구조용 탄소강 및 합금강 중 어느 하나의 재질로 형성된 판 형태의 후판(1)을 검사하고 이를 준비하는 소재 검사 및 준비공정(S1)과,상기 준비된 후판(1)을 연속 유도가열 소입로(10)에 장입하여 유도가열장치(11)에 의하여 800℃ 내지 1,000℃의 온도로 가열하는 연속 유도가열공정(S2)과,가열을 완료한 후판(1)을 냉각장치(20)로 이송시켜 냉각수를 분사하여 담금질(Quenching)을 완료하는 연속 냉각공정(S3)과,상기 담금질이 완료된 후판(1)을 상 · 하부 이송 롤러(31, 32)를 통해 배출시키는 이송공정(S4)과,상기 이송된 후판(1)의 변형 등을 검사하는 중간 검사공정(S5)과,상기 검사를 완료한 후판(1)을 구동 롤러(50)를 이용하여 연속 유도가열 소려로(40)에 장입한 후 500℃ 내지 700℃의 온도로 가열하여 뜨임(Tempering)을 완료하는 연속 유도가열 소려공정(S6)과,상기 뜨임(Tempering)이 완료된 후판(1)을 냉각시키고 경도 및 변형 검사 그리고 외관 검사를 하는 최종 검사공정(S7)으로 구성되어, 후판(1)을 연속적으로 열처리할 수 있음을 특징으로 하는 후판의 연속 열처리 방법.
- 후판의 열처리 장치에 있어서,내부에 직사각코일 형태의 유도가열장치(11)가 병렬의 형태로 나란하게 배열 · 형성되되, 각 유도가열장치(11) 사이에는 소재 처짐 방지레일(12)이 구비된 연속 유도가열 소입로(10)와,내부에 원통 형태의 상 · 하부 냉각수 헤드(21, 22)가 병렬의 형태로 나란하게 배열 · 형성되되, 상부 냉각수 헤드(21)의 하면과 하부 냉각수 헤드(22)의 상면에는 일정간격으로 스프레이 노즐(21a, 22a)이 형성되며, 하부 냉각수 헤드(22) 사이에는 소재 처짐 방지레일(12)이 구비된 냉각장치(20)와,상기 냉각장치(20)의 끝단 상 · 하부에 원통 형태의 상 · 하부 이송 롤러(31, 32)가 형성되되, 담금질이 완료된 후판(1)이 상 · 하부 이송 롤러(31, 32) 사이를 통과하여 배출되도록 구성된 이송 롤러(30)와,내부에 직사각코일 형태의 유도가열장치(41)가 병렬의 형태로 나란하게 배열 · 형성되되, 각 유도가열장치(41) 사이에는 소재 처짐 방지레일(42)이 구비된 연속 유도가열 소려로(40)로 구성되어, 후판(1)을 연속적으로 열처리할 수 있음을 특징으로 하는 후판의 연속 열처리 장치.
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