상기와 같은 목적을 이루기 위해 제공되는 본 발명의 일 양상은, 광원과, 상기 광원에서 발산된 빛을 하향으로 반사하는 미러와, 상기 미러에서 반사되는 빛을 포커싱하여 스테이지상에 장착된 패널의 표면에 조사하는 렌즈부를 포함하는 평판 표시패널 검사용 광조사장치에 있어서, 상기 렌즈부는, 일정한 곡률반경을 갖도록 하향으로 볼록하게 만곡되어, 상면에 입사된 확산광을 모두 직선광으로 바꾸어 균일하게 조사되도록 굴절시키는 제1 프레넬 렌즈와; 상기 제1 프레넬 렌즈를 투과한 직선광을 단촛점으로 포커싱하는 제2 프레넬 렌즈로 구성되는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 곡률반경은 상기 광원의 촛점에서 상기 제1프레넬 렌즈 사이의 직선거리에 비례하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 양상은, 광원과, 상기 광원에서 발산된 빛을 하향으로 반사하는 미러와, 상기 미러에서 반사되는 빛을 포커싱하여 스테이지상에 장착된 패널의 표면에 조사하는 렌즈부를 포함하는 평판 표시패널 검사용 광조사장치에 있어서, 상기 렌즈부는, 일정한 곡률반경을 갖도록 하향으로 볼록하게 만곡되어 상면에 입사된 확산광을 집광하는 제1 프레넬 렌즈와; 상기 제1 프레넬 렌즈의 곡률반경을 조정하여 확산광을 모두 직선광으로 바꾸어 균일하게 조사되도록 굴절시키는 곡률조정수단과; 상기 제1 프레넬 렌즈를 투과한 직선광을 단촛점으로 포커싱하는 제2 프레넬 렌즈로 구성되는 것을 특징으로 한다.
상기와 같이 제1 프레넬 렌즈의 곡률를 조정하여 입사된 확산광을 직선광으로 균일하게 굴절시킬 수 있으므로, 광원의 촛점거리 변화에 관계없이 단촛점으로 포커싱하여 패널의 표면에 조사할 수 있게 된다.
이때, 상기 곡률조정수단의 일 양상은, 상기 제1 프레넬 렌즈의 양 측부를 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재 사이의 간격을 조정하는 조정부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 양상은, 광원과, 상기 광원에서 발산된 빛을 하향으로 반사하는 미러와, 상기 미러에서 반사되는 빛을 포커싱하여 스테이지상에 장착된 패널의 표면에 조사하는 렌즈부를 포함하는 평판 표시패널 검사용 광조사장치에 있어서, 상기 렌즈부는, 상기 광원의 촛점거리에 따라 상면에 입사된 확산광을 집광 또는 확산하는 제1 프레넬 렌즈와; 일정한 곡률반경을 갖도록 하향으로 볼록하게 만곡되어, 상기 제1 프레넬 렌즈를 투과한 빛을 단촛점으로 포커싱하는 제2 프레넬 렌즈로 구성되는 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 상기 제2 프레넬 렌즈를 투과한 광선 중 광축에서 멀리 떨어진 광선의 광경로가 길어지게 됨으로써, 빛의 집광면적이 축소되어 선명도가 향상된 다.
또한, 상기 제2 프레넬 렌즈의 곡률반경을 조정하는 곡률조정수단을 더 구비하여, 빛의 집광면적을 조정할 수 있도록 한 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 곡률조정수단의 일 양상은, 상기 제2 프레넬 렌즈의 양 측부를 지지하는 지지부재와, 상기 지지부재 사이의 간격을 조정하는 조정부재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상술한 본 발명의 양상은 첨부된 도면을 참조하여 설명되는 바람직한 실시예들을 통하여 더욱 명백해질 것이다. 이하에서는 바람직한 실시예를 통해 당업자가 본 발명을 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예를 보인 구성도이고, 도 2는 도 1의 광경로를 보인 개략도이다. 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 광조사장치는 광원(10)과, 상기 광원에서 발산된 빛을 하향으로 반사하는 미러(20)와, 상기 미러에서 반사된 빛을 포커싱하여 스테이지(S)상에 장착된 패널(P)의 표면에 조사하는 렌즈부가 구비된다.
광원(10)에는 빛을 발산하는 램프(11)와, 상기 램프에서 발산된 빛을 전방으로 포커싱하는 반구형의 반사경(12)이 구비된다. 따라서, 상기 램프에서 발산된 빛은 전방에 포커싱된 후 확산되어 미러(20)에 조사된다.
본 발명에 따른 렌즈부는 미러(20)에서 반사된 확산광을 직선광으로 굴절시켜 균일하게 조사하는 제1 프레넬 렌즈(30A)와, 상기 제1 프레넬 렌즈를 투과한 직선광을 단촛점으로 포커싱하는 제2 프레넬 렌즈(40A)로 구성된다.
제1,2 프레넬 렌즈(30A)(40A)는 투명한 사각의 패널로 구성되며, 일측 표면에 다수의 돌출턱이 형성되어 투과되는 빛을 굴절시켜 포커싱한다. 이때 상기 제1 프레넬 렌즈는 일정한 곡률반경(r)을 갖도록 하향으로 볼록하게 만곡된다.
이에 따라, 광원(10)의 촛점(f)을 거쳐 확산된 빛은 제1 프레넬 렌즈(30A)의 곡면에 입사되어 굴절되는데, 그 과정에서 상기 렌즈의 곡률에 따라 입사광은 각각 직선광으로 출사된다.
상기와 같이 광원에서 발산된 확산광이 제1 프레넬 렌즈(30A)를 통해 직선광으로 변환되어 제2 프레넬 렌즈(40A)에 입사됨으로써, 패널(P)의 표면에 빛을 포커싱하는 과정에서 촛점이 일치되지 않아 빛이 흐려지는 디포커싱(defocusing)현상을 방지할 수 있는 것이다.
한편, 제1 프레넬 렌즈(30A)의 곡률반경(r)을 광원(10)의 촛점(f)과 그 표면 사이의 직선거리에 비례하도록 형성하면, 확산광이 상기 프레넬 렌즈의 표면에 균일한 각도로 입사됨으로써, 직선광으로의 변환이 최적의 상태에서 이루어질 수 있게 된다.
도 3은 본 발명의 제2 실시예를 보인 구성도이다. 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 광조사장치는 광원(10)과, 상기 광원에서 발산된 빛을 하향으로 반사하는 미러(20)와, 상기 미러에서 반사된 빛을 포커싱하여 스테이지(S)상에 장착된 패널(P)의 표면에 조사하는 렌즈부가 구비된다.
광원(10)에는 빛을 발산하는 램프(11)와, 상기 램프에서 발산된 빛을 전방으로 포커싱하는 반구형의 반사경(12)이 구비된다. 따라서, 상기 램프에서 발산된 빛은 전방에 포커싱된 후 확산되어 미러(20)에 조사된다.
본 실시예에 따른 렌즈부는, 일정한 곡률반경을 갖도록 하향으로 볼록하게 만곡되어 상면에 입사된 확산광을 집광하는 제1 프레넬 렌즈(30A)와, 상기 제1 프레넬 렌즈의 곡률반경을 조정하여 확산광을 직선광으로 균일하게 굴절시키는 곡률조정수단과, 상기 제1 프레넬 렌즈를 투과한 직선광을 단촛점으로 포커싱하는 제2 프레넬 렌즈(40A)로 구성된다.
상기 곡률조정수단은 제1 프레넬 렌즈(30A)의 양 측부를 가압 및 해제함으로써 곡률반경을 조정하도록 구성된다. 본 실시예에 따른 곡률조정수단은 제1 프레넬 렌즈(30A)의 양 측부를 지지하는 지지부재(50a,50b)와, 상기 지지부재 사이의 간격을 조정하는 조정부재(미도시)로 구성된다. 상기 조정부재는 지지부재(50a,50b)를 동시에 이송하거나 각각 동일한 이송량으로 자동 혹은 수동으로 이동시킬 수 있도록 구성되며, 이는 당업자가 용이하게 실시할 수 있는 기술의 범주에 속하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.
이에 따라, 광원의 촛점거리가 변경되는 경우 제1 프레넬 렌즈(30A)에 입사되는 확산광의 입사각이 함께 변경되는데, 상술한 곡률조정수단을 이용하여 상기 제1 프레넬 렌즈의 곡률반경을 적절하게 조정함으로서, 상면에 입사된 확산광을 직선광으로 균일하게 굴절시켜 제2 프레넬 렌즈(40A)에 조사할 수 있게 된다.
도 4는 본 발명의 제3 실시예를 보인 구성도이다. 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 광조사장치는 광원(10)과, 상기 광원에서 발산된 빛을 하향으로 반사하는 미러(20)와, 상기 미러에서 반사된 빛을 포커싱하여 스테이지(S)상에 장착된 패널(P)의 표면에 조사하는 렌즈부가 구비된다.
광원(10)에는 빛을 발산하는 램프(11)와, 상기 램프에서 발산된 빛을 전방으로 포커싱하는 반구형의 반사경(12)이 구비된다. 따라서, 상기 램프에서 발산된 빛은 전방에 포커싱된 후 확산되어 미러(20)에 조사된다.
본 실시예에 따른 렌즈부는, 광원(10)의 촛점거리에 따라 상면에 입사된 확산광을 집광 또는 확산하는 제1 프레넬 렌즈(30B)와, 일정한 곡률반경을 갖도록 하향으로 볼록하게 만곡되어 상기 제1 프레넬 렌즈를 투과한 빛을 단촛점으로 포커싱하는 제2 프레넬 렌즈(40B)로 구성된다.
광원(10)의 촛점(f)과 제1 프레넬 렌즈(30B) 사이의 거리 즉 촛점거리가 변경되면, 그에 따라 상기 제1 프레넬 렌즈를 투과한 빛은 집광 또는 확산된 상태로 제2 프레넬 렌즈(40B)에 입사되며, 상기 제2 프레넬 렌즈에 입사된 빛은 곡률에 따라 단촛점으로 포커싱된다.
이때, 제2 프레넬 렌즈(40B)를 투과한 광선 중 광축에서 가장 멀리 떨어진 광선의 광경로(L2)는, 도 2에 도시된 평판형 제2 프레넬 렌즈(40A)의 광경로(L1)에 비해 길어진다. 즉, 본 실시예에 따른 프레넬 렌즈의 양측 끝부분이 상측으로 만곡됨으로써, 그 부분을 통과한 빛의 광경로가 평판형 프레넬 렌즈에 비해 길어지게 되는 것이다.
상기와 같이 최외곽 광선의 광경로가 길어지게 되면, 렌즈부를 통과한 빛의 집광면적이 축소됨으로써, 촛점이 보다 선명하게 형성된다.
한편, 제2 프레넬 렌즈(40B)의 곡률반경을 조정하는 곡률조정수단을 구비하 면, 최외곽 광선의 광경로(L2)를 조정할 수 있으므로, 빛의 집광면적을 조정할 수 있게 된다. 상기 곡률조정수단은 제2 프레넬 렌즈(40B)의 양 측부를 가압 및 해제함으로써 곡률반경을 조정하도록 구성된다.
본 실시예에 따른 곡률조정수단은 제2 프레넬 렌즈(40B)의 양 측부를 지지하는 지지부재(50a,50b)와, 상기 지지부재 사이의 간격을 조정하는 조정부재(미도시)로 구성된다. 상기 조정부재는 지지부재(50a,50b)를 동시에 이송하거나 각각 동일한 이송량으로 자동 혹은 수동으로 이동시킬 수 있도록 구성되며, 이는 당업자가 용이하게 실시할 수 있는 기술의 범주에 속하므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.