KR100635222B1 - Apparatus for attaching ??? substrate and Method for attaching ??? substrate - Google Patents
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Abstract
본 발명은 PDP용 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 발광 가스로 채워지는 합착 챔버를 이용하여 PDP 용 기판을 신속하게 합착할 수 있는 PDP용 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate bonding apparatus and a substrate bonding method for a PDP, and more particularly, to a substrate bonding apparatus and a substrate bonding method for a PDP that can be quickly bonded to the substrate using a bonding chamber filled with a light emitting gas. It is about.
본 발명은, 기판 출납구 및 가스 주입구가 형성되어 있으며, 내부에 진공 분위기를 형성할 수 있는 합착 챔버; 상기 합착 챔버 내부에 마련되며, 기판을 부착하여 장착할 수 있는 상정반 및 하정반; 상기 기판 출납구를 개폐할 수 있는 게이트 밸브; 상기 가스 주입구에 연결되며, 상기 합착 챔버 내부에 발광가스를 공급하는 가스 공급부; 및 상기 합착 챔버 내에 마련되며, 상기 합착 챔버 내부를 발광가스로 채운 상태에서 상기 상부 기판 및 하부 기판을 합착하는 합착 수단;을 포함하는 PDP용 기판 합착 장치를 제공한다.The present invention, the substrate outlet and the gas injection port is formed, the bonding chamber capable of forming a vacuum atmosphere therein; It is provided inside the bonding chamber, the upper and lower plates that can be attached by mounting a substrate; A gate valve capable of opening and closing the substrate outlet; A gas supply unit connected to the gas inlet and supplying a light emitting gas into the coalescing chamber; And a bonding unit provided in the bonding chamber and bonding the upper substrate and the lower substrate in a state in which the inside of the bonding chamber is filled with a light emitting gas.
PDP, 기판 합착, 발광 가스, 발광 가스 주입PDP, Substrate Bonding, Emitting Gas, Emitting Gas Injection
Description
도 1은 종래의 PDP용 가스 주입 장치의 구조를 나타내는 모식 단면도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic cross section which shows the structure of the conventional PDP gas injection apparatus.
도 2는 종래의 PDP용 기판 합착 및 가스 주입 공정을 설명하는 공정도이다. 2 is a process diagram illustrating a conventional substrate bonding and gas injection process for a PDP.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 장치의 구조를 나타내는 단면도이다. 3 is a cross-sectional view showing the structure of a substrate bonding apparatus for a PDP according to an embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 장치의 구조를 나타내는 평면도이다. 4 is a plan view illustrating a structure of a substrate bonding apparatus for a PDP according to another embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 방법의 공정도이다. 5 is a process diagram of a substrate bonding method for a PDP according to an embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 방법의 공정을 나타내는 도면이다. 6 is a view showing a process of a substrate bonding method for a PDP according to an embodiment of the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
1 : 종래의 PDP용 가스 주입장치 10 : 진공 펌프1: conventional gas injection device for PDP 10: vacuum pump
20 : 흡입관 30 : 발광가스 공급관20: suction pipe 30: emitting gas supply pipe
40 : 발광가스 탱크 A : 양 기판 사이의 공간40: emitting gas tank A: space between both substrates
100 : 본 발명의 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 장치100: PDP substrate bonding apparatus according to an embodiment of the present invention
110 : 합착 챔버 120 : 상정반110: bonding chamber 120: upper plate
130 : 하정반 140 : 게이트 밸브130: lower plate 140: gate valve
150 : 가스 공급부 160 : 가스 감지부150: gas supply unit 160: gas detection unit
170 : 위치 감지부 180 : 위치 보정부170: position detection unit 180: position correction unit
190 : 기판 승강부재 TM : 반송 챔버190: substrate lifting member TM: transfer chamber
BM : 경화 챔버 S : 실링재BM: Curing Chamber S: Sealing Material
F : 발광 가스F: emitting gas
본 발명은 PDP용 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 발광 가스로 채워지는 합착 챔버를 이용하여 PDP 용 기판을 신속하게 합착할 수 있는 PDP용 기판 합착 장치 및 기판 합착 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate bonding apparatus and a substrate bonding method for a PDP, and more particularly, to a substrate bonding apparatus and a substrate bonding method for a PDP that can be quickly bonded to the substrate using a bonding chamber filled with a light emitting gas. It is about.
PDP(Plasma Display Panel)는, 미래형 디지털 영상 디스플레이로서 다양한 입력 신호(PC, Video, HDTV 등)와 연결가능하며, 기존 영상 디스플레이 장비보다 밝고 선명한 고화질의 영상을 재현할 수 있는 미래형 디스플레이 시스템이다. 특히 PDP는 40 인치 이상의 대형 화면을 10cm 이하의 얇은 두께로 구현할 수 있어서 공간 활용 및 미적 디자인면에서 매우 큰 장점을 가지고 있다. 따라서 최근 그 수요가 폭발적으로 증가하고 있다. PDP (Plasma Display Panel) is a futuristic digital video display that can be connected to various input signals (PC, Video, HDTV, etc.) and is a futuristic display system that can reproduce brighter and clearer high-definition images than conventional video display equipment. In particular, the PDP can realize a large screen of 40 inches or more in a thin thickness of 10 cm or less, which has great advantages in terms of space utilization and aesthetic design. Therefore, the demand has exploded in recent years.
이러한 PDP는, 전극이 형성되어 있는 상하 양 기판 사이의 공간에 Ne, Xe, Ar 등의 발광가스가 채워진 구조이며, 상하 양 기판 사이에 채워진 발광 가스가 방 전되어 방출하는 자외선이 형광체와 부딪혀 고유의 가시 광선을 방출하는 원리로 화면을 구현한다. 따라서 PDP의 제조과정에서는 양 기판 사이에 발광가스를 주입하는 공정이 필수적으로 요구된다. Such a PDP has a structure in which light emitting gases such as Ne, Xe, and Ar are filled in the space between the upper and lower substrates on which the electrodes are formed, and the ultraviolet light emitted by the discharged light emitted from the upper and lower substrates hits the phosphor. Embodies the screen on the principle of emitting visible light. Therefore, in the manufacturing process of PDP, a process of injecting a light emitting gas between both substrates is indispensable.
이하에서는 도 2를 참조하여 기판 합착 및 양 기판 사이의 공간에 발광가스(F)를 주입하는 종래의 방법을 설명한다. Hereinafter, referring to FIG. 2, a conventional method of injecting a light emitting gas F into a space between a substrate and a substrate is described.
우선 실링재 도포 공정(P10)이 진행된다. 즉, 상하 양 기판 중 어느 한 기판의 외주부에 실링재를 도포한다. First, the sealing material application process P10 advances. That is, a sealing material is apply | coated to the outer peripheral part of either board | substrate of a top and bottom board | substrate.
다음으로 기판 합착 공정(P20)이 진행된다. 즉, 어느 한 기판의 외주부에 도포된 실링재를 이용하여 양 기판을 합착하는 것이다. 따라서 양 기판 사이에는 일정한 부피의 밀폐공간(A)이 형성되는 것이다. Next, the substrate bonding process P20 advances. That is, both substrates are bonded together using a sealing material applied to the outer peripheral portion of any one substrate. Therefore, a certain volume of sealed space A is formed between both substrates.
다음으로 가스 흡입 공정(P30) 및 발광 가스 주입공정(P40)이 진행된다. 즉, 합착된 양 기판 중 소정 부분에 가스 주입공을 형성시키고, 도 1에 도시된 바와 같은 발광가스 주입장치(1)를 이용하여 양 기판 사이의 공간(A)에 존재하는 불순가스를 흡입하는 것이다. 따라서 양 기판 사이의 공간(A)은 거의 진공상태가 이루어진다. 그리고 이 공간(A)에 발광 가스(F)를 공급하는 것이다. Next, a gas suction process P30 and a light emission gas injection process P40 are performed. That is, gas injection holes are formed in predetermined portions of the bonded substrates, and the impurity gas existing in the space A between the substrates is sucked by using the light emitting gas injection apparatus 1 as shown in FIG. 1. will be. Therefore, the space A between both substrates is almost vacuumed. The light emitting gas F is supplied to the space A.
보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다. 즉, 가스 주입공(a)에 진공 펌프(10)와 연결되어 있는 흡입관(20)을 결합시킨다. 이때 이 흡입관(20)에는 도 1에 도시된 바와 같이, 그 소정 부분에 발광가스 공급관이 연결되며, 그 발광가스 공급관(30)은 발광가스를 저장하고 있는 발광가스 탱크(40)에 연결된다. 이러한 발광가스 주입장치(1)에서는 우선 진공 펌프(10)를 구동시켜 양 기판 사이의 공간(A) 에 존재하는 가스를 제거한다. 그리고 발광가스 공급관(30)을 이용하여 양 기판 사이의 공간(A)에 발광가스(F)를 공급한다. More specifically described as follows. That is, the
마지막으로 가스 주입공 미봉 공정(P50)이 진행된다. 즉, 양 기판 사이의 공간(A)에 수백 torr 정도의 발광가스(F)가 주입되면, 발광가스의 공급을 중단하고, 가스 주입공(a)을 밀봉하여 공정을 마무리하는 것이다. Finally, the gas injection hole unsealing process (P50) is performed. That is, when the light emitting gas F of several hundred torr is injected into the space A between both board | substrates, supply of light emitting gas is stopped and the gas injection hole a is sealed, and a process is completed.
그런데 종래와 같이 발광가스를 공급하는 경우에는 양 기판 사이의 공간(A)에 존재하는 가스를 제거하기 위하여 진공 펌프를 사용하는 가스 흡입공정(P30) 및 균일한 가스 공급을 위한 발광가스 주입 공정(P40)에 열 시간 이상의 장시간이 소요되는 문제점이 있다. However, in the case of supplying the light emitting gas as in the related art, a gas suction process P30 using a vacuum pump to remove the gas existing in the space A between both substrates and a light emitting gas injection process for uniform gas supply ( P40) has a problem that takes a long time more than ten hours.
또한 발광가스를 주입하기 위하여 기판 합착, 가스 주입공 형성, 가스 주입,가스 주입공 제거 등 복잡한 공정을 거치므로, PDP 모듈 제조공정이 복잡해지는 문제점이 있다. In addition, since the process of bonding the substrate, forming the gas injection hole, gas injection, gas removal hole removal to inject the light emitting gas, there is a problem that the manufacturing process of the PDP module is complicated.
본 발명의 목적은 발광 가스로 채워진 합착 챔버 내에서 양 기판을 합착함으로써, 발광가스를 신속하고 용이하게 주입하면서 동시에 양 기판을 합착할 수 있는 PDP용 기판 합착 장치를 제공함에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate bonding apparatus for a PDP capable of bonding the two substrates at the same time while injecting the emitting gases quickly and easily by bonding the two substrates in the bonding chamber filled with the emitting gas.
본 발명의 다른 목적은 발광 가스로 채워진 공간 내에서 양 기판을 합착함으로써, 발광가스를 신속하고 용이하게 주입하면서 동시에 양 기판을 합착할 수 있는 PDP용 기판 합착 방법을 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a substrate bonding method for a PDP that can bond both substrates at the same time while injecting the emitting gas quickly and easily by bonding both substrates in a space filled with the emission gas.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 기판 출납구 및 가스 주입구가 형성되어 있으며, 내부에 진공 분위기를 형성할 수 있는 합착 챔버; 상기 합착 챔버 내부에 마련되며, 기판을 부착하여 장착할 수 있는 상정반 및 하정반; 상기 기판 출납구를 개폐할 수 있는 게이트 밸브; 상기 가스 주입구에 연결되며, 상기 합착 챔버 내부에 발광가스를 공급하는 가스 공급부; 및 상기 합착 챔버 내에 마련되며, 상기 합착 챔버 내부를 발광가스로 채운 상태에서 상기 상부 기판 및 하부 기판을 합착하는 합착 수단;을 포함하는 PDP용 기판 합착 장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, the substrate outlet and the gas inlet is formed, the bonding chamber which can form a vacuum atmosphere therein; It is provided inside the bonding chamber, the upper and lower plates that can be attached by mounting a substrate; A gate valve capable of opening and closing the substrate outlet; A gas supply unit connected to the gas inlet and supplying a light emitting gas into the coalescing chamber; And a bonding unit provided in the bonding chamber and bonding the upper substrate and the lower substrate in a state in which the inside of the bonding chamber is filled with a light emitting gas.
또한 본 발명은 상정반 또는 하정반 중 어느 하나에 마련되거나, 상정반 및 하정반에 각각 마련되며, 상정반 또는 하정반 중 어느 하나를 상하 방향으로 이동시키거나, 상정반 및 하정반을 각각 상하 방향으로 이동시켜 기판을 합착시키는 수직 이동부로 이루어지도록 합착 수단을 구성함으로써 PDP용 기판 합착 장치의 구성이 간단하면서도 양 기판을 용이하게 합착할 수 있도록 한다. In addition, the present invention is provided in any one of the upper plate or lower plate, or provided in the upper plate and lower plate, respectively, to move any one of the upper plate or lower plate in the vertical direction, or the upper and lower plate respectively By configuring the bonding means so as to be a vertical moving portion for adhering the substrates by moving in the direction, the substrate bonding apparatus for the PDP is simple, but both substrates can be easily bonded.
또한 본 발명은 상정반의 하면에 마련되며, 상정반에 흡착된 상부 기판을 상정반으로부터 이탈시키는 이탈부로 이루어지도록 합착 수단을 구성함으로써 기판의 합착이 정확하고, 용이해지도록 한다. In addition, the present invention is provided on the lower surface of the upper surface plate, and the bonding means is configured so that the upper substrate adsorbed on the upper surface plate is separated from the upper surface plate, so that the bonding of the substrates is accurate and facilitated.
또한 본 발명은 상정반 또는 하정반 중 어느 하나에 마련되거나, 양자에 각각 마련되며, 상정반 또는 하정반 중 어느 하나를 상하 방향으로 이동시키거나, 양 자를 상하 방향으로 이동시켜 합착시키는 수직 이동부; 및 합착 챔버 내부 압력을 높이는 가압부; 로 이루어지도록 합착 수단을 구성함으로써 양 기판의 모든 부분이 동일한 간격을 유지하면서 합착되도록 한다. In addition, the present invention is provided in any one of the upper plate or the lower plate, or both are provided in each, vertical moving unit for moving any one of the upper plate or the lower plate in the vertical direction, or by moving both in the vertical direction ; And a pressurizing unit for raising a pressure inside the coalescing chamber; By configuring the bonding means so that all parts of both substrates are bonded while maintaining the same distance.
또한 본 발명은 상정반의 하면에 마련되며, 상정반에 흡착된 상부 기판을 상정반으로부터 이탈시키는 이탈부; 및 합착 챔버 내부 압력을 높이는 가압부; 로 이루어지도록 합착 챔버를 구성함으로써 양 기판의 모든 부분이 동일한 간격을 유지하면서 합착되도록 한다. In addition, the present invention is provided on the lower surface of the top plate, the leaving portion for leaving the upper substrate adsorbed on the top plate from the top plate; And a pressurizing unit for raising a pressure inside the coalescing chamber; By configuring the bonding chamber to be made so that all parts of both substrates to be bonded while maintaining the same distance.
이때 합착 수단에는, 합착 챔버 내부 소정 부분에 마련되며, 합착 챔버 내부의 기체를 흡입하여 합착 챔버 내부의 압력을 낮추는 흡입부가 더 마련될 수 있다. In this case, the coalescence means may be provided in a predetermined portion inside the coalescence chamber, and a suction unit for sucking the gas inside the coalescence chamber to lower the pressure in the coalescence chamber.
또한 본 발명은, 합착 챔버의 소정 부분에 마련되며, 합착 챔버 내부의 가스 조성을 감지하는 가스 감지부를 더 마련함으로써 합착 챔버 내부에 채워진 가스의 조성을 용이하게 감지할 수 있도록 한다. In addition, the present invention is provided in a predetermined portion of the coalescence chamber, and by further providing a gas detection unit for detecting the gas composition inside the coalescence chamber, it is possible to easily detect the composition of the gas filled in the coalescence chamber.
또한 본 발명은, 챔버 내부의 가스 조성이 기준값 이하인 경우 가스 공급부가 챔버 내부로 반응 가스를 더 공급하도록 제어하는 제어부를 더 마련함으로써 합착 챔버 내부가 적정한 가스 조성을 유지할 수 있도록 한다. In addition, the present invention, if the gas composition in the chamber is less than the reference value by providing a control unit for controlling the gas supply unit to further supply the reaction gas into the chamber to allow the interior of the coalescence chamber to maintain an appropriate gas composition.
또한 본 발명은, 상정반 또는 하정반에 결합되어 마련되며, 상정반 또는 하 정반에 장착된 기판의 위치를 보정할 수 있는 위치 보정부가 더 마련되도록 함으로써, 상하 양 기판이 정확하게 합착되도록 한다. In addition, the present invention is provided by being coupled to the upper plate or lower plate, by providing a position correction unit for correcting the position of the substrate mounted on the upper plate or lower plate, so that the upper and lower substrates are accurately bonded.
또한 본 발명은, 상정반에 장착된 기판과 하정반에 장착된 기판의 위치를 감지하는 위치 감지부가 더 마련되도록 함으로써, 기판의 정확한 위치를 감지하고, 기판의 위치가 정확하게 일치되도록 위치 조정할 수 있도록 한다. In another aspect, the present invention, by providing a position sensing unit for detecting the position of the substrate mounted on the upper plate and the lower plate, to detect the exact position of the substrate, so that the position of the substrate can be precisely matched do.
또한 본 발명은, 하정반의 소정 부분을 관통하여 형성되는 관통공을 통하여 상하 방향으로 운동할 수 있도록 마련되며, 하정반에 위치되는 기판을 들어 올리는 기판 승강부재가 더 마련되도록 함으로써, 합착 챔버 내로 기판을 반입하거나 합착 챔버 외로 기판을 반출하는 작업이 용이하게 한다. In addition, the present invention is provided so as to be able to move in the vertical direction through the through hole formed through the predetermined portion of the lower plate, by further providing a substrate lifting member for lifting the substrate positioned on the lower plate, the substrate into the bonding chamber It is easy to carry out the operation of bringing in or taking out the substrate out of the bonding chamber.
또한 본 발명은, 합착 챔버의 측벽 소정 부분에 마련되되, 서로 마주보는 측벽의 대향되는 위치에 각각 기판 출납구가 형성되도록 함으로써, 합착 챔버의 일 측에서 기판이 공급되고, 다른 측으로 기판이 반출되는 공정 흐름이 가능하도록 한다. In addition, the present invention is provided in the predetermined portion of the side wall of the bonding chamber, the substrate outlets are formed in the opposite position of the side walls facing each other, so that the substrate is supplied from one side of the bonding chamber, the substrate is carried out to the other side Enable process flow.
또한 본 발명은, 합착 챔버 중 기판 출납구가 형성되는 측벽에 접촉되어 마련되되, 기판 출납구 반대편 측벽 소정 부분에 외부로부터 기판을 도입할 수 있는 개구부가 형성되며, 기판을 전달할 수 있는 반송 챔버가 더 마련되도록 함으로써, 합착 챔버 내의 가스 조성을 그대로 유지하면서 기판의 반입 및 반출이 가능하게 한다. In addition, the present invention is provided in contact with the side wall in which the substrate outlet is formed in the bonding chamber, an opening for introducing the substrate from the outside is formed in a predetermined portion of the side wall opposite the substrate outlet, the transfer chamber capable of transferring the substrate By further providing, loading and unloading of the substrate are possible while maintaining the gas composition in the bonding chamber as it is.
또한 본 발명은, 반송 챔버를, 합착 챔버의 서로 마주보는 측벽에 각각 마련되도록 함으로써, 기판이 일정한 방향으로 흘러가면서 기판 합착 공정이 수행될 수 있도록 한다. In another aspect, the present invention, the transfer chamber is provided on the side walls facing each other of the bonding chamber, so that the substrate bonding process can be performed while the substrate flows in a constant direction.
또한 본 발명은, 반송 챔버의 소정 부분에 가스 주입구가 마련되며, 그 챔버 내부에 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급부가 더 마련되도록 함으로써, 반송 챔버를 통한 기판의 반입 및 반출 과정에 의하여 합착 챔버 내부가 다른 가스로 오염되지 않도록 한다. In addition, the present invention, the gas injection port is provided in a predetermined portion of the transfer chamber, by providing an inert gas supply unit for supplying an inert gas in the chamber, by the process of loading and unloading the substrate through the transfer chamber inside the coalescence chamber Should not be contaminated with other gases.
또한 본 발명은, 합착 챔버에 인접한 위치에 마련되며, 합착 챔버에 의하여 합착된 양 기판 사이에 개재되어 있는 실링재를 경화시키는 경화 챔버가 더 마련되도록 함으로써, 합착 챔버 내에서 합착된 양 기판이 완전하게 고정되도록 한다. In addition, the present invention is provided in a position adjacent to the bonding chamber, by further providing a curing chamber for curing the sealing material interposed between the two substrates bonded by the bonding chamber, whereby both substrates bonded in the bonding chamber completely To be fixed.
또한 본 발명은, 상정반 또는 하정반을, 정전척 또는 진공 흡착척 중에서 선택되는 어느 하나로 마련함으로써, 기판의 장착과 분리가 용이하게 이루어지도록 한다. 또한 상정반 또는 하정반에 정전척과 진공 흡착척이 동시에 마련되도록 함으로써, 기판이 보다 확실하게 장착되도록 하며 공정 수행중에 기판이 이탈되는 것을 방지한다. In addition, the present invention provides an upper plate or a lower plate by any one selected from an electrostatic chuck or a vacuum suction chuck, so that mounting and detaching of the substrate can be easily performed. In addition, the electrostatic chuck and the vacuum adsorption chuck are simultaneously provided on the upper plate or the lower plate, so that the substrate is more securely mounted and the substrate is prevented from being separated during the process.
또한 본 발명은, In addition, the present invention,
1) 상부 기판 또는 하부 기판 중 어느 한 기판의 외주부에 실링재를 도포하는 단계;1) applying a sealing material to the outer peripheral portion of any one of the upper substrate or the lower substrate;
2) 합착 챔버 내부를 발광가스로 채우는 단계;2) filling the interior of the coalescence chamber with light emitting gas;
3) 상기 상부 기판 및 하부 기판을 상기 합착 챔버 내로 반입하여 흡착하는 단계;3) bringing the upper substrate and the lower substrate into the bonding chamber and adsorbing them;
4) 상기 합착 챔버 내부를 밀폐시키는 단계;4) sealing the interior of the cementation chamber;
5) 상기 상부 기판 및 하부 기판을 합착하는 단계;5) bonding the upper substrate and the lower substrate;
6) 합착된 기판을 합착 챔버 외부로 배출하는 단계;6) ejecting the bonded substrate out of the bonding chamber;
를 포함하는 PDP용 기판 합착 방법을 제공한다.It provides a substrate bonding method for a PDP comprising a.
또한 본 발명은, 상기 3) 단계 수행 후에, 합착 챔버 내부의 가스 조성을 검사하고, 가스 조성이 부적절할 경우 가스 조성을 재조정하는 단계를 더 포함함으로써, 상하 기판 사이의 공간에 적절한 조성을 가진 발광가스가 주입되도록 한다. In addition, the present invention, after performing the step 3), further comprises the step of inspecting the gas composition inside the coalescence chamber, and if the gas composition is inappropriate by adjusting the gas composition, the light emitting gas having an appropriate composition is injected into the space between the upper and lower substrates Be sure to
또한 본 발명은, 상기 4) 단계 수행 전에, 상부 기판과 하부 기판의 위치를 보정하는 단계를 더 포함함으로써, 상하 양 기판이 정확하게 대응되는 상태에서 합착되도록 한다. In addition, the present invention further comprises the step of correcting the position of the upper substrate and the lower substrate before performing step 4), thereby allowing the upper and lower substrates to be bonded together in a precisely corresponding state.
또한 본 발명은, 상기 4) 단계에서는 상부 기판을 상기 합착 챔버 상부에 장착하고, 하부 기판을 상기 합착 챔버 상부에 장착한 후, 상기 기판을 자유 낙하시켜 양 기판을 접합함로써, 상하 양 기판의 모든 면이 동일한 정도의 힘을 받으면서 접합되도록 한다. In addition, in the step 4), the upper substrate is mounted on the upper part of the bonding chamber, and the lower substrate is mounted on the upper part of the bonding chamber. Make sure all sides are joined under the same amount of force.
또한 본 발명은, 상기 4) 단계를 수행한 후에, 접합된 양 기판에 압력을 가하여 양 기판을 견고하게 합착시키는 단계를 더 포함함으로써, 양 기판의 공간이 들뜨지 않고, 견고하게 합착되도록 하고, 이동 과정 등에서 그 위치가 변동되지 않도록 한다. In addition, the present invention, after performing the step 4), further comprising the step of firmly bonding the two substrates by applying pressure to the bonded both substrates, so that the space between the two substrates do not lift, firmly bonded, and moved Do not change its position in the process.
이때, 본 발명은, 접합된 양 기판 사이의 공간 내부 압력과 양 기판 외부의 압력이 다르게 하고, 그 압력차를 이용하여 양 기판에 압력을 가함으로써, 양 기판 중 어느 부분에 힘이 더 가해지는 등의 문제점이 발생하지 않도록 한다. At this time, in the present invention, the pressure inside the space between the bonded substrates and the outside pressure between the two substrates are different, and the pressure is applied to both substrates by using the pressure difference, whereby a force is further applied to any part of both substrates. Do not cause problems, such as.
또한 본 발명은, 양 기판을 접합한 후에 합착 챔버 내의 기체를 더 공급하여, 접합된 양 기판 사이의 압력과 양 기판 외부의 압력의 차이를 발생시키도록 함으로써, 양 기판의 모든 면에 동일한 힘을 용이하게 가할 수 있도록 한다. In addition, the present invention further supplies the gas in the bonding chamber after bonding the two substrates to generate a difference between the pressure between the bonded substrates and the pressure outside the two substrates, thereby applying the same force to all sides of both substrates. Make it easy.
또한 본 발명은, 상기 5) 단계 수행 후에, 양 기판 사이에 개재되어 있는 실 링재를 경화시키는 단계가 더 포함되도록 함으로써, 양 기판의 상대적 위치가 더 이상 변화되지 않고, 고정되도록 한다. In addition, the present invention, after performing the step 5) to further include the step of curing the sealing ring interposed between the two substrates, so that the relative position of both substrates is no longer changed, it is fixed.
또한 본 발명은, In addition, the present invention,
1) 상부 기판 또는 하부 기판 중 어느 한 기판의 외주부에 실링재를 도포하는 단계;1) applying a sealing material to the outer peripheral portion of any one of the upper substrate or the lower substrate;
2) 상기 상부 기판 및 하부 기판을 합착 챔버 내로 반입하여 흡착하는 단계;2) bringing the upper substrate and the lower substrate into the bonding chamber and adsorbing them;
3) 상기 합착 챔버 내부를 발광가스로 채우는 단계;3) filling the interior of the coalescence chamber with light emitting gas;
4) 상기 합착 챔버 내부를 밀폐시키는 단계;4) sealing the interior of the cementation chamber;
5) 상기 상부 기판 및 하부 기판을 합착하는 단계;5) bonding the upper substrate and the lower substrate;
6) 합착된 기판을 합착 챔버 외부로 배출하는 단계;6) ejecting the bonded substrate out of the bonding chamber;
를 포함하는 PDP용 기판 합착 방법을 제공한다.It provides a substrate bonding method for a PDP comprising a.
또한 본 발명은, In addition, the present invention,
1) 합착 챔버 내부를 발광가스로 채우는 단계;1) filling the interior of the coalescence chamber with light emitting gas;
2) 상부 기판 및 하부 기판을 상기 합착 챔버 내로 반입하여 상정반 및 하정반에 흡착시키는 단계;2) bringing the upper substrate and the lower substrate into the bonding chamber and adsorbing the upper and lower substrates;
3) 상부 기판 또는 하부 기판 중 어느 한 기판의 외주부에 실링재를 도포하는 단계;3) applying a sealing material to the outer circumference of any one of the upper substrate and the lower substrate;
4) 상기 합착 챔버 내부를 밀폐시키는 단계;4) sealing the interior of the cementation chamber;
5) 상기 상부 기판 및 하부 기판을 합착하는 단계;5) bonding the upper substrate and the lower substrate;
6) 합착된 기판을 합착 챔버 외부로 배출하는 단계;6) ejecting the bonded substrate out of the bonding chamber;
를 포함하는 PDP용 기판 합착 방법을 제공한다.It provides a substrate bonding method for a PDP comprising a.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, it will be described in detail a specific embodiment of the present invention.
본 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 장치(100)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 합착 챔버(110), 상정반(120), 하정반(130), 게이트 밸브(140), 가스 공급부(150), 합착 수단(도면에 미도시)으로 이루어진다. As shown in FIG. 2, the
먼저 합착 챔버(110)는 그 소정 부분에 기판 도입구(112) 및 가스 주입구(114)가 형성되어 있으며, 내부에 진공 분위기를 형성할 수 있는 구조로 마련된다. 즉, 합착 챔버(110)는 그 내부를 진공분위기로 형성한 후 가스 주입구(114)를 통하여 발광가스(F)를 챔버 내부에 채우도록 함으로써, 발광가스(F)로 채워진 공간내에서 양 기판의 합착 공정이 진행되도록 하는 것이다. 본 실시예에서는 발광가스가, 네온(Ne), 아르곤(Ar), 크세논(Xe) 등의 플라즈마 디스플레이 발광가스 중에서 선택되는 어느 하나로 이루어지거나 2가지 이상을 선택하고 혼합하여 이루어지도록 하는 것이 바람직하다. First, the
이때 기판 출납구(112)는 합착 챔버(110)의 일 측벽 소정 부분에 형성되며, 합착 챔버(110) 내로 기판을 반입하거나, 반출하는 통로 역할을 한다. 따라서 이 기판 출납구(112)는 기판이 통과할 수 있을 정도의 크기로 형성되면 족하다. 그리고 더 나아가서는 하나의 합착 챔버에 2개의 기판 출납구가 마련될 수도 있다. 즉, 도 2에 도시된 바와 같이, 합착 챔버(110)의 측벽 중 서로 마주보는 측벽에 대향되도록 각각 기판 출납구(112)를 형성시키는 것이다. 이렇게 기판 출납구를 2개 형성시키는 경우에는 기판이 한쪽 기판 출납구를 통하여 도입되고, 다른 기판 출납구를 통하여 반출되므로 기판이 일정한 방향으로 흘러가면서 공정이 연속적으로 이루어질 수 있는 장점이 있다. In this case, the
그리고 이 기판 출납구(112)의 외측에는 기판 출납구(112)를 개폐할 수 있는 게이트 밸브(140)가 마련된다. 즉, 기판 출납구(112)를 통하여 기판이 반입되거나 반출되는 동안에는 게이트 밸브(140)가 열려서 기판 출납구(112)를 개방하고, 기판의 반입이 완료된 후에는 게이트 밸브(140)가 기판 출납구(112)를 패쇄하여 합착 챔버(110)의 내부를 외부와 차단하는 것이다. 따라서 이 게이트 밸브(140)에 의하여 합착 챔버(110) 내부에 채워진 발광 가스가 외부로 배출되지 않고, 외부의 다른 기체가 유입되지 않아서, 합착 챔버(110) 내부가 발광 가스로 채워지는 상태가 유지될 수 있는 것이다. In addition, a
그리고 가스 주입구(114)는 합착 챔버(110) 내부로 발광가스를 도입하는 통로 역할을 한다. 본 실시예에서는 상하 양 기판의 합착 공정을 발광가스로 채워진 공간 내에서 수행함으로써, 발광 가스 주입 공정과 기판 합착 공정을 동시에 수행하면서도, 그 공정을 신속하고 용이하게 실시하기 위한 것이다. 따라서 합착 챔버(110) 내부를, 적정한 조성을 가진 발광가스로 채우기 위한 가스 주입구(114) 가 필요한 것이다. 이 가스 주입구(114)는 도 2에 도시된 바와 같이, 합착 챔버(110)의 외부에 마련되는 가스 공급부(150)에 연결되어 있어서, 필요한 경우에느 발광 가스가 합착 챔버 내부로 공급되도록 한다. In addition, the
다음으로 합착 챔버(110)의 상부 및 하부에는 상정반(120) 및 하정반(130)이 마련되는데, 그 상정반(120) 및 하정반(130)에는 기판이 부착되어 장착된다. 즉, 외부에서 합착 챔버(110) 내로 반입된 상하 양 기판이 각각 상정반(120) 및 하정반(130)에 부착되어 장착되는 것이다. 이때 상정반(120) 및 하정반(130)은 상하 방향으로 위치 이동이 가능하도록 마련되는 것이 바람직하다. 상하 양 기판이 합착 챔버(110) 내부로 최초 도입되고, 상정반(120) 및 하정반(130)에 장착되는 동안에는, 상정반(120)과 하정반(130) 사이가 소정 간격 이상으로 이격되어 있어야 기판의 장착 반입 및 장착 작업이 용이하고, 양 기판을 합착시키는 경우에는 양 기판 사이의 간격을 최대한 접근시키는 것이 기판 합착 작업에 유리하다. 따라서 상정반(120)과 하정반(130)은 상하 방향으로 이동하면서 양 기판 사이의 간격을 조정할 수 있는 구조인 것이 바람직한 것이다. Next, the upper and
또한 본 실시예에서는 전술한 상정반(120) 및 하정반(130)이 정전척 또는 진공 흡착척의 구조를 가지도록 한다. 정전척은 정전기를 발생시켜 기판을 부착시키는 방식이며, 진공 흡착척은 상정반 또는 하정반 표면에 다수의 미세한 흡착공을 형성시키고 이를 통해서 기판을 흡착하는 방식이다. 그리고 특정한 경우에는 하나의 상정반(120) 또는 하정반(130)에 정전척과 진공 흡착척 구조를 동시에 마련할 수도 있다. In addition, in the present embodiment, the above-described
그리고 전술한 합착 챔버(110)의 소정 부분에는 합착 챔버(110) 내부의 가스 조성을 감지할 수 있는 가스 감지부(160)가 더 마련된다. 이 가스 감지부(160)는 합착 챔버(110) 내부에 존재하는 가스의 조성 및 압력 등을 감지하여 제어부(도면에 미도시)에 데이타를 제공함으로써, 합착 챔버(110) 내부의 가스 조성이 적절하게 유지될 수 있도록 한다. In addition, a predetermined portion of the
또한 본 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 장치(100)에는 제어부(도면에 미도시)가 더 마련된다. 이 제어부는, 전술한 가스 감지부(160)에서 전달되는 가스 조성에 대한 측정값이 미리 설정된 기준값 이하인 경우, 가스 공급부(150)에서 챔버 내부로 발광가스를 더 공급하도록 제어한다. 즉, 가스 감지부(160)에서 측정되어 전달되는 측정값을 기준값과 비교하여 측정값이 기준값보다 낮은 경우에는 합착 챔버(110) 내부의 가스 조성이 부적절한 것으로 판단하여, 가스 공급부(150)로 하여금 발광가스를 더 공급하도록 제어하는 것이다. 이때 전술한 기준값은, PDP 모듈이 화면을 표시하기 위하여 양 기판 사이에 형성되는 공간에 존재하여야 하는 발광가스의 최소값으로 정해지는 것이 바람직하다. In addition, the PDP
그리고 PDP용 기판 합착 장치(100)에는, 상정반(120) 및 하정반(130)에 장착되는 기판의 위치를 감지할 수 있는 위치 감지부(170)가 더 마련되는 것이 바람직하다. 상하 양 기판을 합착할 때, 양 기판은 정확하게 서로 일치되도록 합착되어야만 PDP 모듈이 정확하게 구동된다. 따라서 기판의 합착과정을 수행하는 동안 양 기판의 서로 대응되는 위치가 정확하게 일치되도록 하기 위하여 그 기판의 위치를 감지할 수 있는 위치 감지부(170)가 마련되는 것이다. 본 실시예에서는, 위치 감지부(170)가 기판의 소정 부분에 마련되어 있는 마커를 감지하여 양 기판에 각각 마련되어 있는 마커가 서로 일치하는지 여부를 감지하는 방법으로 기판의 위치를 감지한다. In addition, the PDP
그리고 PDP용 기판 합착 장치(100)에는, 도 2에 도시된 바와 같이, 전술한 위치 감지부(170)에 의하여 기판의 위치를 감지한 결과 기판의 위치가 정확하게 일치하지 않는 경우 기판의 위치가 일치되도록 기판의 위치를 변동시킬 수 있는 위치 보정부(180)가 마련되는 것이 바람직하다. 이때 위치 보정부(180)는 상정반(120) 또는 하정반(130)에 결합되어 마련될 수 있으며, 상정반(120) 또는 하정반(130)의 위치를 변동시킴으로써 상정반(120) 또는 하정반(130)에 장착된 기판의 위치를 보정하는 방식을 취한다. 즉, 도 2에 도시된 바와 같이, 하정반(130)의 소정 부분에 연결되도록 위치 보정부(180)를 마련하고, 위치 보정부(180)를 구동시켜서 하정반(130)의 위치를 조금 씩 변동시킨다. 그러면, 상정반(120)에 고정되어 있는 상부 기판과 비교하여 하정반(120)에 고정되어 있는 하부 기판의 위치가 변경되므로, 상부 기판과 하부 기판의 불일치하는 부분이 보정되는 것이다. In the PDP
또한 본 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 장치(100)에는, 하정반(130)의 소정 부분을 관통하여 형성되는 관통공(132)을 통하여 상하 방향으로 운동할 수 있도록 마련되며, 하정반(130)에 위치되는 기판을 들어 올리고 내려 놓을 수 있는 기판 승강부재(190)가 더 마련되는 것이 바람직하다. 이러한 기판 승강부재(190)는, 외부에서 반입되는 하부 기판을 하정반(130)에 위치시키는 동안에는 외부로부터 반입된 하부 기판을 받아서 하정반(130)에 위치시키는 역할을 하며, 상하 양 기판이 합착 된 후에는 합착된 기판을 들어올려서, 합착 챔버(110) 외부로 반출하는 작업을 돕는 역할을 한다. 따라서 기판 승강부재(190)에 의하여 합착 챔버로의 기판의 반입이나 반출이 용이해진다. In addition, the
그리고 본 실시예에서는, 상부 기판 및 하부 기판을 기계적으로 접근시켜 합착시킬 수 있도록 합착 수단을 구성할 수 있다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이, 상정반 또는 하정반 중 어느 하나에 수직이동부(122)를 마련하거나, 상정반 및 하정반에 각각 수직이동부(122)를 마련하여, 상정반 및 하정반을 상하 방향으로 이동시킬 수 있도록 하는 것이다. 이때 수직이동부(122)는 모터로 구동이 가능한 실린더로 마련될 수 있다. 따라서 상부 기판 및 하부 기판을 소정 부분에 고정시킨 후 양 기판을 기계적으로 접근시키고, 양 기판이 접촉된 후에도 소정 크기의 힘을 계속 가하여 양 기판이 합착되도록 할 수 있는 것이다. In this embodiment, the joining means can be configured so that the upper substrate and the lower substrate can be mechanically approached and bonded. That is, as shown in Figure 3, by providing a vertical moving
또한 본 발명에서는, 상부 기판을 일정 높이 이상에서 하부 기판 상으로 자유 낙하시켜 합착시킬 수 있도록 합착 수단을 구성할 수 있다. 즉, 상정반의 하면에 흡착된 상부 기판을 일정 높이에서 이탈시키는 이탈부를 상정반에 더 마련한다. 이때 이탈부는, 상정반이 정전척인 경우에는 정전기 차단부로, 상정반이 진공흡착척인 경우 진공차단부로 구성될 수 있다. 따라서 상부 기판 및 하부 기판을 소정 부분에 고정시킨 후 상부 기판을 고정시키는 힘을 제거하여 상부 기판이 하부 기판 상에 자유 낙하시켜 상부 기판과 하부 기판을 부착시킴과 동시에 상부 기판이 가지는 중력에 의하여 양 기판이 합착되도록 합착 수단을 구성하는 것이다. 전술한 바와 같이 자유 낙하를 이용하여 합착 수단을 구성하는 경우에는 양 기판의 모든 부 분에 대하여 동일한 힘이 작용하여 모든 부분에 있어서, 간격이 동일한 모듈을 얻을 수 있는 장점이 있다. Further, in the present invention, the joining means can be configured so that the upper substrate can freely fall onto the lower substrate at a predetermined height or more and be bonded. That is, the upper part is further provided in the upper plate detachment portion for separating the upper substrate adsorbed on the lower surface of the upper plate at a predetermined height. In this case, the detachment part may be configured as an electrostatic blocker when the upper plate is an electrostatic chuck, and a vacuum interrupter when the upper plate is a vacuum suction chuck. Therefore, the upper substrate and the lower substrate are fixed to a predetermined portion, and then the force that fixes the upper substrate is removed so that the upper substrate freely falls on the lower substrate to attach the upper and lower substrates, and at the same time, due to the gravity of the upper substrate The bonding means is configured to bond the substrates together. As described above, in the case of forming the bonding means by using the free fall, the same force acts on all parts of both substrates, and thus there is an advantage that a module having the same spacing is obtained in all parts.
또한 본 발명에서는, 상부 기판 및 하부 기판을 부착시킨 후, 합착 챔버 내부의 압력을 높여서 상부 기판 및 하부 기판을 합착시킬 수 있도록 합착 수단을 구성할 수 있다. 즉, 상정반 또는 하정반에 수직이동부(122)를 마련하거나 상정반에 이탈부를 마련하며, 합착 챔버 의 소정부분에 합착 챔버 내부의 압력을 증가시킬 수 있는 가압부를 더 마련하는 것이다. 이때 가압부는 가스를 공급할 수 있는 일반적인 가스 펌프로 마련될 수 있고, 흡입부는 가스를 흡입할 수 있는 진공 펌프로 마련될 수 있다. In addition, in the present invention, after attaching the upper substrate and the lower substrate, the bonding means can be configured so that the upper substrate and the lower substrate can be bonded by increasing the pressure inside the bonding chamber. That is, the vertical moving
따라서 상부 기판과 하부 기판이 서로 부착되도록 접근시킨 후, 합착 챔버 내부에 발광가스를 더 주입시켜 합착 챔버 내부의 압력을 증가시키고 기판 내부의 압력과 외부 압력의 차이에 의하여 양 기판이 합착되도록 합착 수단을 구성하는 것이다. 전술한 바와 같이 압력차를 이용하여 합착 수단을 구성하는 경우에도 양 기판의 모든 부분에 대하여 동일한 힘이 작용하여 모든 부분에 있어서, 간격이 동일한 모듈을 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 양 기판 사이에 개재되어 있는 실링재와 양 기판이 잘 부착되도록 하는 장점이 있다. Therefore, after the upper substrate and the lower substrate is approached to adhere to each other, the light emitting gas is further injected into the bonding chamber to increase the pressure in the bonding chamber and the bonding means so that the two substrates are bonded by the difference between the pressure inside the substrate and the external pressure. To construct. As described above, even when the bonding means are formed by using the pressure difference, the same force acts on all portions of both substrates, so that not only a module having the same spacing in all portions can be obtained, but also interposed between the two substrates. There is an advantage that the sealing material and both substrates are attached well.
이때 전술한 합착 수단에는, 합착 챔버 내부의 기체를 흡입함으로써, 합착 챔버 내부의 압력을 낮출 수 있는 흡입구가 더 마련될 수도 있다. 따라서 기판을 접합시키기 전에 합착 챔버 내부의 압력을 약간 낮춘 후, 양 기판을 합착시키고 챔버 내부의 압력을 증가시켜 양 기판을 합착시키는 것이다. At this time, the above-mentioned coalescing means may further be provided with an inlet for lowering the pressure inside the coalescence chamber by sucking the gas inside the coalescence chamber. Therefore, before bonding the substrates, the pressure inside the bonding chamber is slightly lowered, and then the two substrates are bonded and the pressure inside the chamber is increased to bond the two substrates together.
그리고 본 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 장치(100)에는 합착 챔버(110)와 연결되는 반송 챔버(TM)가 더 마련되는 것이 바람직하다. 즉, 반송 챔버(TM)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 기판 도입구(112)가 형성되는 측벽에 접촉되어 마련된다. 그리고 이 반송 챔버(TM)에는, 기판 도입구(112) 반대편 측벽 소정 부분에, 외부로부터 기판을 도입할 수 있는 개구부가 형성된다. 이러한 반송 챔버(TM)는 합착 챔버(110)에 인접하게 마련되어, 기판을 외부로 부터 합착 챔버 내부로 공급하거나 공정이 완료된 기판을 외부로 반출하는 중간 통로 역할을 한다. In addition, the PDP
합착 챔버 내부는 발광가스로 채워져 있다. 따라서 기판을 반입 또는 반출하는 동안에 외부 공기와 접촉하여 합착 챔버 내부의 가스 조성이 달라질 수 있다. 따라서 합착 챔버 내부의 가스 조성이 일정하게 유지되도록 하기 위하여 합착 챔버에 인접하게 반송 챔버를 구비하고, 그 반송 챔버 내부를 불활성 가스로 채우고 공정을 진행하는 것이다. The interior of the coalescence chamber is filled with light emitting gas. Therefore, the gas composition inside the coalescing chamber may be changed in contact with the external air during the loading or unloading of the substrate. Therefore, in order to maintain a constant gas composition inside the coalescence chamber, a conveyance chamber is provided adjacent to the coalescence chamber, and the process chamber is filled with an inert gas.
이러한 반송 챔버를 이용한 기판의 교환 과정을 살펴보면 다음과 같다. 우선 합착 챔버(110)와 반송 챔버(TM) 사이에 개재되어 있는 게이트 밸브(140)를 사용하여 기판 출납구(112)를 패쇄한 후, 반송 챔버와 외부를 연결하는 개구부를 통해서 기판을 반입한다. 그리고 개구부를 패쇄한 후 기판 출납구를 개방하여 반송 챔버 내에 반입된 기판을 합착 챔버 내로 반입시킨다. 이때 합착 챔버 내의 가스 압력을 반송 챔버 내의 가스 압력보다 높게하여 반송 챔버 내의 가스가 합착 챔버 내로 진입하지 않도록 하는 것이 중요하며, 기판 출납구 개방시간을 짧게 하는 것이 합착 챔버 내의 가스 조성의 변화가 적어서 유리하다. Looking at the exchange process of the substrate using such a transfer chamber as follows. First, the
그리고 반송 챔버 내부에는 기판의 반송을 돕기 위한 반송 부재(도면에 미도시)가 구비되어 있어서, 외부에 적재된 기판을 반송 챔버 내로 반입하고, 그 기판을 합착 챔버로 옮기는 역할을 한다. 또한 반송 챔버의 소정 부분에는 가스 주입구(도면에 미도시)가 마련된다. 이 가스 주입구는 반송 챔버 내로 불활성 가스를 주입하기 위한 것으로 반송 챔버의 외부에 마련되는 불활성 가스 공급부(도면에 미도시)와 연결되어 있다. 따라서 반송 챔버 내부는 항상 불활성 가스로 채워진다. 이때 그 불활성 가스로는 질소(N2) 또는 아르곤(Ar) 등이 바람직하다. 이렇게 반송 챔버 내부에 불활성 가스를 채우는 이유는, 반송 챔버와 합착 챔버 사이의 게이트 밸브가 개방되어 양 챔버에 존재하는 기체가 서로 이동할 수 있을때 반송 챔버 내의 기체가 합착 챔버 내로 일부 이동하더라도 합착 내부 또는 기판에 대하여 영향을 미치지 않도록 하기 위함이다. 불활성 가스는 화학적으로 매우 안정한 가스로서 반응성이 거의 없기 때문이다. And inside the conveyance chamber, the conveyance member (not shown in figure) is provided in order to assist conveyance of a board | substrate, It carries in the board | substrate loaded in the inside into a conveyance chamber, and serves to move the said board | substrate to a bonding chamber. In addition, a gas injection port (not shown in the drawing) is provided at a predetermined portion of the transfer chamber. The gas injection port is for injecting inert gas into the transfer chamber and is connected to an inert gas supply unit (not shown) provided outside of the transfer chamber. Therefore, the inside of the conveying chamber is always filled with inert gas. At this time, the inert gas is preferably nitrogen (N 2 ) or argon (Ar). The reason for filling the inert gas inside the conveying chamber is that the gate valve between the conveying chamber and the adhering chamber is opened so that the gases present in both chambers can move with each other even if the gas in the conveying chamber partially moves into the adhering chamber. This is to prevent the effect on. This is because the inert gas is a chemically very stable gas with little reactivity.
이러한 반송 챔버는 합착 챔버에 하나만 마련되는 것이 아니라, 합착 챔버의 서로 마주보는 측벽에 각각 마련될 수도 있다. 즉, 합착 챔버의 일 측벽에 하나의 반송 챔버가 마련되고, 반대편 측벽에 다른 반송 챔버가 마련되는 것이다. 이렇게 반송 챔버를 마련하면, 합착 챔버의 일 측에서 반대편으로 기판이 이동되면서 기판 합착 공정이 이루어질 수 있다. 따라서 전체적으로 기판이 한 방향으로 이동되면서 수행되는 PDP 제조 공정에 있어서, 본 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 장치가 잘 부합될 수 있게 된다. These transfer chambers may be provided not only in the bonding chamber but also in the side walls facing each other of the bonding chamber. That is, one conveyance chamber is provided on one sidewall of the coalescing chamber, and another conveyance chamber is provided on the opposite sidewall. If the transfer chamber is provided in this way, the substrate bonding process may be performed while the substrate is moved from one side of the bonding chamber to the opposite side. Therefore, in the PDP manufacturing process performed as the substrate is moved in one direction as a whole, the PDP substrate bonding apparatus according to the present embodiment can be well matched.
다음으로 본 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 장치(100)에는, 경화 챔버(BM)가 더 마련될 수 있다. 경화 챔버(BM)는 합착 챔버에 의하여 합착이 완료된 양 기판 사이에 개재되어 있는 실링재(S)를 경화시키는 역할을 한다. 합착 챔버에 의하여 양 기판이 합착되기는 하였지만, 아직 실링재가 완벽하게 경화된 것이 아니므로 양 기판의 위치나 양 기판 사이의 간격이 변동될 수 있으므로 실링재를 완전하게 경화하여 모듈을 완성하는 것이다. 따라서 경화 챔버는 합착 챔버에 직접 연결되어 마련될 수도 있고, 반송 챔버에 연결될 수도 있다. 또한 합착 챔버 또는 반송 챔버와 분리되되, 이들과 인접한 위치에 마련될 수도 있다. 이러한 반송 챔버는 기판에 열을 가하는 방식으로 실링재를 경화시킬 수 있다. Next, in the PDP
이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 PDP용 기판 합착 방법을 설명한다. Hereinafter, a substrate bonding method for a PDP according to an embodiment of the present invention will be described.
본 실시예에서는 전술한 PDP용 기판 합착 장치(100)를 사용하여 기판을 합착하는 방법을 설명하지만, 본 발명의 PDP용 기판 합착 방법이 이에 한정되는 것은 아니다. In the present embodiment, a method of bonding the substrates using the above-described PDP
우선 실링재 도포 단계(P110)가 진행된다. 즉, 상부 기판 또는 하부 기판 중 어느 한 기판의 외주부에 소정 두께로 실링재를 도포한다. 이 실링재는 상부 기판 및 하부 기판을 접착시키는 접착제의 역할과 상부 기판 및 하부 기판을 접착 시킨 후 양 기판에 의하여 형성되는 내부 공간을 기판 외부 공간과 격리시키는 역할을 한다. First, the sealing material applying step P110 is performed. That is, the sealing material is apply | coated to the outer peripheral part of any one of an upper board | substrate or a lower board | substrate with a predetermined thickness. The sealing material serves as an adhesive for adhering the upper substrate and the lower substrate and insulates the inner space formed by both substrates from the outer space of the substrate after adhering the upper and lower substrates.
한편 이 실링재 도포 단계(P110)를 양 기판을 합착 챔버 내부로 반입한 후에 진행할 수도 있다. 즉, 합착 챔버 내부에 실링재 도포 수단을 구비한 후 합착 챔버 내에서 실링재를 기판의 외주부에 도포하는 것이다. On the other hand, the sealing material applying step (P110) may proceed after bringing both substrates into the bonding chamber. That is, after the sealing material applying means is provided in the bonding chamber, the sealing material is applied to the outer peripheral portion of the substrate in the bonding chamber.
그리고 발광가스 주입 단계(P120)가 진행된다. 즉, 도 5a에 도시된 바와 같이, 우선 합착 챔버 내부에 존재하는 다른 기체를 흡입하여 제거하고, 대신에 발광가스(F)를 가득 채운다. 이때 합착 챔버 내부에 채워지는 발광가스(F)의 압력은 합착 챔버에 연결되는 반송 챔버 내부의 가스 압력보다 약간 높게 형성되는 것이 바람직하다. 이는 반송 챔버로 부터의 기판 반입 또는 기판 반송 과정에서 반송 챔버 내에 존재하는 가스가 합착 챔버내로 진입하여 합착 챔버 내의 가스 조성이 달라지는 것을 방지하기 위한 것이다. In addition, the light emitting gas injection step P120 is performed. That is, as shown in FIG. 5A, first, the other gas existing in the coalescing chamber is sucked and removed, and the light emitting gas F is filled instead. At this time, it is preferable that the pressure of the light emitting gas F filled in the coalescence chamber is slightly higher than the gas pressure in the transport chamber connected to the coalescence chamber. This is to prevent the gas present in the conveying chamber from entering the coalescing chamber during the loading of the substrate from the conveying chamber or in the process of transporting the substrate to change the gas composition in the coalescence chamber.
다음으로 기판 반입 단계(P130)가 진행된다. 즉, 도 5b에 도시된 바와 같이, 합착 챔버 내부로 상부 기판 및 하부 기판을 반입한다. 합착 챔버 내로 반입된 상부 기판 및 하부 기판은, 각각 상정반 및 하정반에 흡착된다. 이때 상정반과 하정반 사이의 간격은 넓게 이격되는 것이 바람직하다. 즉, 상정반과 하정반 사이에 충분한 공간을 확보함으로써, 기판 반입 공정 및 기판 흡착 공정을 용이하게 하기 위함이다. Next, the substrate loading step P130 is performed. That is, as shown in FIG. 5B, the upper substrate and the lower substrate are brought into the bonding chamber. The upper substrate and the lower substrate carried into the bonding chamber are adsorbed to the upper and lower plates, respectively. At this time, the interval between the upper and lower plate is preferably spaced apart widely. That is, it is for facilitating a board | substrate loading process and a board | substrate adsorption process by ensuring sufficient space between an upper board and a lower board.
다음으로 합착 챔버 밀폐 단계(P140)가 진행된다. 즉, 기판 반입이 완료되면 기판 출납구를, 게이트 밸브를 사용하여 패쇄한다. 따라서 합착 챔버 내부는 외부와 격리되는 것이다. Next, the coalescence chamber sealing step P140 is performed. That is, when the board loading is completed, the board outlet is closed using the gate valve. Thus, the interior of the cementation chamber is isolated from the outside.
다음으로 가스 조성 감지 및 재조성 단계(P150)가 진행된다. 즉, 합착 챔버 밀폐 단계(P140)가 완료되면, 합착 챔버 내의 가스 조성이 적절한 지를 확인하기 위하여 가스 감지부를 이용하여 가스 조성을 확인하고, 가스 조성의 확인 결과 부적절하다면 가스 공급부를 가동시켜 합착 챔버 내로 발광 가스를 더 주입한다. 여기에서 합착 챔버 내의 가스 조성의 적절성이라 함은, PDP 용 기판이 정상적으로 구동하기 위하여 양 기판 사이의 내부 공간(A)에 존재하여야 할 발광 가스의 최소 조성 비율을 말하는 것이다. 본 실시예에서는 합착 챔버 내의 가스 조성이 그대로 PDP용 기판의 내부 공간(A)에 존재하는 가스 조성이 되는 것이므로, 그 조성이 매우 중요한 것이다. Next, the gas composition sensing and reforming step P150 is performed. That is, when the cementation chamber sealing step (P140) is completed, to confirm whether the gas composition in the coalescence chamber is appropriate, the gas composition is checked using a gas detector, and if the gas composition is inadequate, the gas supply unit is activated to emit light into the coalescence chamber. Inject more gas. The adequacy of the gas composition in the bonding chamber herein refers to the minimum composition ratio of the luminescent gas to be present in the internal space A between the two substrates in order for the PDP substrate to operate normally. In this embodiment, since the gas composition in the bonding chamber is the gas composition existing in the internal space A of the PDP substrate, the composition is very important.
따라서 가스 감지부가, 합착 챔버 내부 전체 기체 중 발광 가스가 차지하는 비율이 특정 값 이하로 내려가면 이를 감지하고, 그 데이타에 의하여 가스 공급부가 합착 챔버 내로 발광 가스를 더 공급하도록 제어하는 것도 가능하다. Therefore, the gas detector may detect when the ratio of the luminescent gas in the entire gas inside the coalescence chamber falls below a specific value and control the gas supply unit to further supply the emission gas into the coalescence chamber based on the data.
다음으로 기판 위치 감지 및 재조정 단계(P160)가 진행된다. 즉, 상부 기판과 하부 기판을 접합하기 전에 그 위치를 측정하여 양 기판의 위치가 정확하게 일치하지 않으면, 상부 기판 또는 하부 기판 중 어느 한 기판의 위치를 조정하여, 양 기판의 위치가 정확하게 일치하도록 보정하는 것이다. 물론 양 기판의 위치가 정확하게 일치된다면, 본 단계는 필요하지 않다. Subsequently, the substrate position sensing and readjustment step P160 is performed. That is, if the position of both substrates is not exactly matched by measuring the position before bonding the upper substrate and the lower substrate, the position of either the upper substrate or the lower substrate is adjusted to correct the position of both substrates exactly. It is. Of course, if the positions of both substrates are exactly matched, this step is not necessary.
다음으로 기판 합착 단계(P170)가 진행된다. 즉, 도 5c에 도시된 바와 같이, 상부 기판과 하부 기판을 견고하게 부착시키는 공정이 진행된다. 이때 상부 기판과 하부 기판은 서로 정확하게 일치된 상태에서 접합되어야 한다. 양 기판을 합착하는 방법으로는, 기계적인 방법으로 양 기판을 접근시켜서 합착하는 방법이 있을 수 있 다. Next, the substrate bonding step P170 is performed. That is, as shown in FIG. 5C, a process of firmly attaching the upper substrate and the lower substrate is performed. At this time, the upper substrate and the lower substrate should be bonded in a state of exactly matching each other. As a method of bonding both substrates, there may be a method of bringing the two substrates together by mechanical approach.
그리고 상부 기판을 하부 기판 방향으로 자유 낙하시켜서 양 기판을 합착하는 방법도 있을 수 있다. 본 실시예에서는 수직 이동부(122)를 이용하여 양 기판 사이의 간격을 최대한 접근시킨 후에 상부 기판을 자유 낙하시켜 하부 기판에 접합되도록 하는 방법을 사용한다. 따라서 기판을 장착하기 위하여 이격되었던 상정반과 하정반을 수직 이동부(122)를 이용하여 이동시켜 양 기판을 최대한 접근 시킨다. 그리고 상정반에 마련되어 있는 정전척 또는 진공 흡착척을 해제하여 상부 기판을 낙하시키는 것이다. 그러면 중력에 의하여 상부 기판이 하부 기판에 붙는다. There may also be a method of joining both substrates by freely dropping the upper substrate toward the lower substrate. In this embodiment, the vertical moving
또한 양 기판을 접근시켜 부착한 후에 양 기판에 압력을 가하여 합착할 수도 있다. 이때 양 기판에 압력을 가하는 방법으로 양 기판에 기체의 압력을 이용하여 압력을 가하는 방법이 바람직하다. 즉, 양 기판이 접합되어 양 기판 내부 공간과 외부 공간이 격리된 후에, 기판 외부 공간의 기체 압력을 높이면, 기판 내부와 외부, 양 공간 사이의 압력에 차이가 발생한다. 그러면 압력이 높은 외부에서 내부로 힘이 작용해서 양 기판의 전 면적이 동일한 압력을 받는 것이다. 이렇게 기체의 압력을 이용하면 기판의 전 면적이 물리적으로 완전히 동일한 압력을 받게 되므로, 양 기판의 특정 부분이 간격이 좁아지는 등의 문제가 발생하지 않는다. In addition, after the two substrates are brought close to each other, the two substrates may be bonded by applying pressure. At this time, a method of applying pressure to both substrates using a gas pressure is preferable. That is, after the two substrates are bonded to each other to separate the internal space between the substrate and the external space, if the gas pressure in the external space of the substrate is increased, a difference occurs in the pressure between the internal and external substrates and the both spaces. This forces the pressure from the outside to the inside, where the entire area of both substrates is subjected to the same pressure. By using the pressure of the gas, since the entire area of the substrate is subjected to the same physical pressure completely, there is no problem such that the specific portions of both substrates are narrowed.
물론 양 기판을 부착시키기 전에 합착 챔버 내의 압력을 감소시킨 후, 양 기판을 합착함으로써, 양 기판 내부의 압력이 낮아지도록 한후, 합착 챔버 내의 압력을 원상태로 복귀시키면 양 기판 내부의 압력이 외부의 압력보다 낮아져서 양 기판에 일정한 압력이 가해지도록 할 수도 있다. 즉, 양 기판을 접합한 후에 합착 챔버 내부로 발광가스(F)를 더 주입하여 합착 챔버 내부의 압력을 상승시킨다. 이때 양 기판 사이의 내부 공간의 압력을 대기압과 비슷하게 유지함으로써 합착 챔버 내부의 압력 운용이 용이하게 하는 것이 바람직하다. Of course, after the pressure in the bonding chamber is reduced before attaching both substrates, the two substrates are bonded together so that the pressure in both substrates is lowered, and then the pressure in the bonding chamber is returned to its original state. It may be lowered such that a constant pressure is applied to both substrates. That is, after bonding both substrates, the light emitting gas F is further injected into the bonding chamber to increase the pressure inside the bonding chamber. At this time, it is preferable to facilitate the pressure operation inside the bonding chamber by maintaining the pressure of the internal space between both substrates to be similar to the atmospheric pressure.
다음으로 기판 반출 단계(P180)가 진행된다. 즉, 양 기판이 완벽하게 합착되면, 완성된 기판을 합착 챔버 외부로 배출하는 것이다. Next, the substrate carrying out step P180 is performed. That is, when both substrates are completely bonded, the finished substrate is discharged out of the bonding chamber.
그리고 실링재 경화 단계(P190)가 진행된다. 즉, 외부로 배출된 기판에 열을 가하는 등의 처리를 실시하여 실링재를 경화시키는 것이다. 따라서 양 기판 사이에 개재되어 있는 실링재가 완전히 경화되어 양 기판이 더 이상 움직이지 않게 된다. And sealing material curing step (P190) proceeds. That is, the sealing material is hardened by performing a process such as applying heat to the substrate discharged to the outside. Therefore, the sealing material interposed between the two substrates is completely cured so that both substrates no longer move.
한편, 전술한 발광가스 주입 단계(P120)와 기판 반입 단계(P130)는 역순으로 진행될 수도 있다. 즉, 합착 챔버 내로 기판을 먼저 반입한 후, 합착 챔버 내를 발광 가스로 채울수도 있는 것이다. Meanwhile, the above-described light emitting gas injection step P120 and the substrate loading step P130 may be performed in the reverse order. That is, the substrate may be first introduced into the bonding chamber, and then the inside of the bonding chamber may be filled with the light emitting gas.
본 발명에 따르면 발광가스로 채워진 공간내에서 양 기판을 합착하므로, 기판 합착 공정과 발광가스 주입공정이 하나의 공정에 의하여, 신속하고 용이하게 이루어지는 장점이 있다. According to the present invention, since both substrates are bonded together in the space filled with the light emitting gas, the substrate bonding process and the light emitting gas injection process are quickly and easily performed by one process.
또한 양 기판 사이를 기체의 압력에 의하여 합착하므로 양 기판이 동일한 힘에 의하여 합착되어 양 기판 사이의 모든 부분이 동일한 간격을 유지할 수 있는 장점이 있다. In addition, since the two substrates are bonded together by the pressure of the gas, both substrates are bonded by the same force, so that all parts between the two substrates can maintain the same distance.
또한 본 발명은, 기판 합착 공정을 대기압 근처의 압력에서 진행하므로 기판 합착 장치의 운용이 용이하고, 챔버 내부의 압력을 진공으로 유지하기 위한 고가의 장치가 요구되지 않는 장점이 있다. In addition, the present invention has an advantage that the substrate bonding process is performed at a pressure near atmospheric pressure, so that the operation of the substrate bonding device is easy, and an expensive device for maintaining the pressure inside the chamber in a vacuum is not required.
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