KR100492729B1 - 인쇄방식에 의한 패턴형성방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (19)
- 형성하고자 하는 패턴 위치에 대응하는 클리체의 홈내부에 박리 촉진제를 도포하는 단계;상기 홈내부에 잉크를 충진하는 단계;상기 클리체의 홈내부에 충진된 잉크를 피가공층에 전사시키는 단계; 및상기 피가공층에 전사된 잉크패턴을 마스크로 하여 상기 피가공층을 식각하는 단계로 구성된 패턴형성방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 피가공층에 잉크를 전사시키는 단계는 상기 잉크가 충진된 클리체를 피가공층 상에 접촉시키는 단계;및상기 클리체를 피가공층로부터 떼어낸 후, 피가공층에 잉크를 전사시키는 단계로 구성된 패턴형성방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 피가공층에 잉크를 전사시키는 단계는 전사롤을 상기 클리체 상에 회전시켜 홈내에 충진된 잉크를 전사롤의 표면으로 전사하는 단계;및상기 전사롤을 기판의 피가공층상에 회전시켜 전사롤 표면의 잉크를 상기 피가공층에 재전사하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제3항에 있어서, 상기 클리체는 롤형상으로 이루어져 전사롤과 접촉하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 클리체는 실리콘계 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 피가공층은 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 피가공층은 SiOx 또는 SiNx로 이루어진 절연층을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 피가공층은 반도체층인 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 피가공층은 점착력 강화제에 의해 표면 처리된 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제10항에 있어서, 상기 접착력 강화제는 피가공층은 HMDS(Hexa Methyl Disilazane)인 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제10항에 있어서, 상기 피가공층은 HMDS(Hexa Methyl Disilazane)에 의해 표면 처리된 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제10항에 있어서, 상기 피가공층은 폴리에틸렌이민, 이소시아네이트계 화합물, 폴리에스테르계 수지, 초산비닐계 수지로 이루어진 일군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 피가공층은 플라즈마 방법에 의해 그 표면이 처리된 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 피가공층은 UV 방법에 의해 그 표면이 처리된 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 피가공층은 샌드블러스트(sandblast) 방법에 의해 그 표면이 처리된 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 제1항에 있어서, 피가공층에 재전사된 잉크를 건조하여 잉크패턴을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
- 형성하고자 하는 패턴 위치에 대응하는 클리체의 홈내부에 박리 촉진제를 도포하는 단계;상기 홈내부에 잉크를 충진하는 단계;전사롤을 상기 클리체 상에 회전시켜 홈내에 충진된 잉크를 전사롤의 표면으로 전사하는 단계;상기 전사롤을 기판의 피가공층에 접촉시킨 상태에서 회전하여 전사롤 표면의 잉크를 상기 피가공층에 재전사하는 단계; 및상기 피가공층에 전사된 잉크패턴을 마스크로 하여 상기 피가공층을 식각하는 단계로 구성된 패턴형성방법.
- 형성하고자 하는 패턴 위치에 대응하는 클리체의 홈내부에 박리 촉진제를 도포하는 단계;상기 홈내부에 잉크를 충진하는 단계;상기 잉크가 충진된 클리체를 기판에 접촉시키는 단계;상기 클리체를 피가공층로부터 떼어냄으로써, 피가공층에 잉크를 전사시키는 단계; 및상기 피가공층에 전사된 잉크패턴을 마스크로 하여 상기 피가공층을 식각하는 단계로 구성된 패턴형성방법.
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5766419A (en) * | 1980-10-13 | 1982-04-22 | Sharp Corp | Forming method for orientation controlling flim of liquid crystal cell |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5766419A (en) * | 1980-10-13 | 1982-04-22 | Sharp Corp | Forming method for orientation controlling flim of liquid crystal cell |
KR19980047073A (ko) * | 1996-12-13 | 1998-09-15 | 손욱 | 액정표시소자의 패턴 형성방법 |
JPH10206625A (ja) * | 1997-01-22 | 1998-08-07 | Alps Electric Co Ltd | カラーフィルタの製造方法および液晶表示装置 |
KR19990075032A (ko) * | 1998-03-17 | 1999-10-05 | 윤종용 | 씨오지 실장형 엘씨디 모듈의 배선라인 형성방법 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101121976B1 (ko) * | 2009-02-16 | 2012-03-09 | 조영래 | 입체무늬 인쇄용 인쇄장치 |
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