KR100292065B1 - Standard mechanical interface system having function for eliminating contamination particle - Google Patents
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Abstract
본 발명은 웨이퍼 이송 공정에 사용되는 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템(Standard Mechanical Interface 이하, SMIF라 약칭함)에 관한 것으로, 특히 SMIF 플레이트와 SMIF 파드의 부딪힘으로 발생하는 오염 입자를 제거하는 기능을 갖는 SMIF 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a standard mechanical interface system (hereinafter referred to as SMIF) for use in a wafer transfer process. In particular, the present invention relates to a SMIF system having a function of removing contaminant particles generated by a collision between a SMIF plate and a SMIF pod. It is about.
이를 위하여 본 발명에서는, SMIF 포트 플레이트의 각 모서리에 장착되어 SMIF 포트상의 소망하는 정위치에 SMIF 파드를 안내하는 가이드 레일의 각 측면에 다수의 진공 흡입구를 형성하고, 가이드 레일의 내부 공간에 배기관을 연결하고, 배기관에 진공 펌프를 연결시켜, 진공 펌프를 온시키는 스위치 조작이 이루어지면 SMIF 포트 플레이트상의 오염 입자를 흡입하므로써, 반도체 제조공정 생산라인의 청정도 레벨을 극대화시키고 웨이퍼 수율을 향상시키는 효과를 얻도록 한다.To this end, in the present invention, a plurality of vacuum inlets are formed on each side of the guide rail which is mounted at each corner of the SMIF port plate and guides the SMIF pod at a desired position on the SMIF port, and exhaust pipes are formed in the inner space of the guide rail. By connecting the vacuum pump to the exhaust pipe and switching on the vacuum pump to absorb contaminants on the SMIF port plate, thereby maximizing the cleanliness level of the semiconductor manufacturing process production line and improving wafer yield. Get it.
Description
본 발명은 웨이퍼 이송 공정에 사용되는 스탠더드 메커니컬 인터페이스 시스템(Standard Mechanical Interface 이하, SMIF라 약칭함)에 관한 것으로, 특히 SMIF 플레이트와 SMIF 파드의 부딪힘으로 발생하는 오염 입자를 제거하는 기능을 갖는 SMIF 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a standard mechanical interface system (hereinafter referred to as SMIF) for use in a wafer transfer process. In particular, the present invention relates to a SMIF system having a function of removing contaminant particles generated by a collision between a SMIF plate and a SMIF pod. It is about.
SMIF(Standard Mechanical Interface) 시스템은 좁은 공간의 청정실등에서의 대기 컨트롤 및 프로세스 처리시 인위적인 실수 등을 방지하기 위한 것으로, SMIF 시스템은 반도체 제조공정을 수행하는 반도체 장비의 주변장치로서 웨이퍼가 저장된 캐리어를 반도체 장비에 장전하거나 인출하는 데 이용된다.SMIF (Standard Mechanical Interface) system is to prevent human error during atmospheric control and process processing in a clean room such as a small room. SMIF system is a peripheral device of semiconductor equipment that performs semiconductor manufacturing process. Used to load or withdraw equipment.
이러한 SMIF 시스템은 반도체 제조공정실에서 웨이퍼 이동시 웨이퍼가 저장된 캐리어를 기밀이 유지되는 저장 용기에 담아 이동하는 SMIF 파드(pod)와, SMIF 파드를 그 위에 얹는 포트 플레이트(port plate)와, 포트 플레이트를 지지하는 SMIF 아암(arm)을 포함하여, 포트 도어와 파드 도어와 캐리어가 함께 움직여 SMIF 아암안으로 내려가거나 포트 위로 올라오도록 동작된다.The SMIF system includes a SMIF pod for transporting a carrier in which a wafer is stored in a semiconductor manufacturing process chamber in a hermetically sealed storage container, a port plate on which the SMIF pod is placed, and a port plate. Including a supporting SMIF arm, the port door, the pod door and the carrier are actuated to move together into the SMIF arm or to rise above the port.
도 1은 일반적인 SMIF 시스템(100)의 개략적인 사시도로서, 도 1a는 SMIF 파드의 사시도이고, 도 1b는 SMIF 파드의 저면도이다.1 is a schematic perspective view of a typical SMIF system 100, FIG. 1A is a perspective view of a SMIF pod, and FIG. 1B is a bottom view of the SMIF pod.
도 1a에 도시된 바와 같이, SMIF 파드(10)는 그의 하부에 마련된 파드 도어(pod door, 11), 파드 도어(11)의 상부의 다수의 슬롯(17) 각각에 웨이퍼가 정렬되어 탑재되어 있는 캐리어(15) 및 캐리어(15)를 덮고 있는 커버(16)를 포함한다.As shown in FIG. 1A, the SMIF pod 10 includes a pod door 11 provided at a lower portion thereof, and wafers are aligned and mounted in each of the plurality of slots 17 at the upper portion of the pod door 11. A carrier 15 and a cover 16 covering the carrier 15.
또한, SMIF 파드(10)의 내부는 진공상태를 유지하는 것이 바람직하므로, 파드 도어(11)에는 SMIF 파드(10)의 내부에 공기 등의 주입을 방지하기 위한 고무 재질로 이루어지는 밀봉재(12)가 마련되어 있다. 밀봉재(12)는 파드 도어(11)의 각 측면을 따라 대략 사각형 형상으로 배치되어 커버(16)가 파드 도어(11)와 선택적으로 체결될 때 커버(16)와 파드 도어(11) 사이의 간격을 밀봉하는 역할을 한다.In addition, since the inside of the SMIF pod 10 is preferably maintained in a vacuum state, the pod door 11 has a sealing material 12 made of a rubber material for preventing injection of air or the like into the SMIF pod 10. It is prepared. The sealant 12 is arranged in a substantially rectangular shape along each side of the pod door 11 so that the gap between the cover 16 and the pod door 11 when the cover 16 is selectively engaged with the pod door 11. It serves to seal the.
그리고, 도 1b에 도시된 바와 같이, 파드 도어(11)의 하면에는 3개의 삽입구멍(11a) 및 한 쌍의 구멍(14)이 형성된 회전판(13)이 마련되어 있다. 3개의 삽입구멍(11a)에는 후술하는 설명에서 알 수 있는 바와 같이 그에 대응하는 파드위치 결정핀(25)이 삽입되는 것에 의해 SMIF 파드(10)를 정위치에 위치시키는 역할을 하며, 회전판(13)의 한쌍의 구멍(14)은 후술하는 설명에서 알 수 있는 바와 같이 SMIF 포트(20)의 래치핀(27)과 체결되는 것에 의해 파드 도어(11)를 개폐하는 역할을 한다.As shown in FIG. 1B, the lower surface of the pod door 11 is provided with a rotating plate 13 on which three insertion holes 11a and a pair of holes 14 are formed. The three insertion holes 11a serve to position the SMIF pod 10 in position by inserting pod positioning pins 25 corresponding thereto, as can be seen in the following description, and the rotating plate 13 A pair of holes 14) open and close the pod door 11 by being engaged with the latch pin 27 of the SMIF port 20 as can be seen in the description below.
한편, SMIF 포트(20)는 포트 플레이트(21)와 'Ｌ'자 형상의 가이드 레일(22), 파드 래치(pod latch, 23) 및 포트 도어(24)를 포함한다. 포트 플레이트(21)는 SMIF 포트(20) 상에 SMIF 파드(10)가 위치할 때, SMIF 파드(10)의 하면을 수평으로 유지시키기 위한 것이고, 가이드 레일(22)은 포트 플레이트(21)의 각 꼭지점을 중심으로 마련되어 SMIF 포트(20) 상의 소망하는 정위치에 SMIF 파드(10)를 안내하는 역할을 하며, 파드 래치(23)는 L자 형상의 가이드 레일(22)의 코너부에 마련되어 SMIF 파드(10)를 SMIF 포트(20) 상의 소망하는 정위치에 기계적으로 고정시키는 역할을 한다.Meanwhile, the SMIF port 20 includes a port plate 21, a 'L' shaped guide rail 22, a pod latch 23, and a port door 24. The port plate 21 is for keeping the lower surface of the SMIF pod 10 horizontally when the SMIF pod 10 is positioned on the SMIF port 20, and the guide rails 22 may be formed on the port plate 21. It is provided around each vertex to guide the SMIF pod 10 to the desired position on the SMIF port 20, and the pod latch 23 is provided at the corner of the L-shaped guide rail 22 to SMIF. It serves to mechanically fix the pod 10 to the desired home position on the SMIF port 20.
또한, 포트 도어(24)는 파드 도어(11)상의 캐리어(15)를 운반하는 역할을 하며, 파드위치 결정핀(25), 파드 센서(26) 및 래치 핀(27)을 포함한다. 파드위치 결정핀(25)은 포트 도어(24)의 소정 위치에 배치되어 파드 도어(11)상의 3개의 삽입구멍(11a)에 각각 삽입되는 것에 의해 SMIF 파드(10)를 소망하는 정위치에 배치시키기 위한 것이고, 파드 센서(26)는 SMIF 파드(10)가 정위치에 배치되었는가를 체크하기 위한 것이며, 래치 핀(27)은 포트 도어(24)의 중앙부에 위치하여 파드 도어(11)의 회전판(13)에 형성된 한쌍의 구멍(14)과 선택적으로 체결되는 것에 의해 파드 도어(11)를 커버(16)로부터 선택적으로 개폐시키는 역할을 한다.In addition, the port door 24 serves to carry the carrier 15 on the pod door 11, and includes a pod positioning pin 25, a pod sensor 26 and a latch pin 27. The pod positioning pin 25 is disposed at a predetermined position of the port door 24 and inserted into the three insertion holes 11a on the pod door 11, respectively, so that the SMIF pod 10 is disposed at a desired position. The pod sensor 26 is for checking whether the SMIF pod 10 is disposed in the correct position. The latch pin 27 is located at the center of the port door 24 so that the swivel plate of the pod door 11 can be used. It selectively serves to open and close the pod door 11 from the cover 16 by being selectively engaged with a pair of holes 14 formed in (13).
이 때, 웨이퍼가 각 슬롯(17)에 정렬되어 있는 캐리어(15)가 수납된 SMIF 파드(10)가 SMIF 포트 플레이트(21)상에 안착되면 캐리어(15)를 하부로 인출 및 이송하여 이송된 캐리어는 캐리어 핸드(carrier hand, 도시하지 않음)에 의해 캐리어 이송 아암(도시하지 않음)이 캐리어(15)를 픽업하는 위치로 슬라이딩 이송된다.At this time, when the SMIF pod 10 containing the carrier 15 in which the wafers are aligned in each slot 17 is seated on the SMIF port plate 21, the carrier 15 is pulled out and transferred downward. The carrier is slid by a carrier hand (not shown) to a position where the carrier transfer arm (not shown) picks up the carrier 15.
상기한 바와 같은 반도체 제조 공정에 따른 웨이퍼 이송 공정을 수행하기 위하여 SMIF 포트 플레이트(21)에 SMIF 파드(10)를 올려 놓을 때, SMIF 파드(11) 핸들링의 반복적인 로딩 및 언로딩으로 인해 즉, 사용자가 SMIF 파드(11)를 SMIF 포트 플레이트(21)에 로딩시키거나 또는 사용자가 SMIF 파드(11)를 SMIF 플레이트(21)로부터 언로딩시키는 동작에 의해 SMIF 파드(11)의 재질인 가루성분 입자 예를 들어, 아크릴이나 SMIF 포트 플레이트(21)의 코팅 성분 입자 등에 의해 파티클(particle) 및 오염 등의 주위 입자들이 SMIF 포트 플레이트(21)의 모서리나 주변에서 육안으로 관찰될 뿐만 아니라, SMIF 파드(11)내의 웨이퍼나 장비내의 웨이퍼의 표면으로 용이하게 옮겨갈 수 있음에 따라 반도체 제조공정 생산라인의 청정도 레벨을 극소화시키고 또한 웨이퍼 수율(Yield)을 저하시키는 문제점이 있었다.When the SMIF pod 10 is placed on the SMIF port plate 21 to perform the wafer transfer process according to the semiconductor manufacturing process as described above, that is, due to the repeated loading and unloading of the handling of the SMIF pod 11, Powdered particles that are the material of the SMIF pod 11 by the user loading the SMIF pod 11 into the SMIF port plate 21 or the user unloading the SMIF pod 11 from the SMIF plate 21. For example, by surrounding particles of particles and contamination by the coating component particles of the acrylic or SMIF port plate 21 and the like, the particles are not only visually observed at the corners or the periphery of the SMIF port plate 21, but also SMIF pod ( 11) It can be easily transferred to the wafer surface in the wafer or equipment, thereby minimizing the cleanliness level of the semiconductor manufacturing process production line and lowering the wafer yield. The dots were.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 진공 배출 모듈을 이용하여 SMIF 포트 플레이트와 SMIF 파드 사이의 빈번한 부딪힘으로 발생하는 오염 입자를 제거하므로써, 반도체 제조공정 생산라인의 청정도 레벨을 극대화시킴과 동시에 웨이퍼 수율을 향상시키는 효과를 얻기 위한 오염 입자 제거 기능을 갖는 SMIF 시스템을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to produce a semiconductor manufacturing process by removing contaminating particles generated by frequent collisions between SMIF port plates and SMIF pods using a vacuum discharge module. To provide a SMIF system with contaminant removal to maximize the cleanliness level of the line and at the same time improve wafer yield.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 웨이퍼 이동에 따라 상기 웨이퍼가 저장된 캐리어를 기밀이 유지되는 저장 용기에 담아 이동하는 SMIF 파드와, 상기 SMIF 파드를 저장하거나 인출하는 SMIF 포트 플레이트와, 상기 SMIF 포트 플레이트를 지지하게 하여 상기 SMIF 파드로부터 캐리어를 인출하여 이송시키는 SMIF 아암(arm)을 포함하는 SMIF 시스템에 있어서, 상기 SMIF 포트 플레이트의 각 모서리에 장착되어 상기 SMIF 포트상의 소망하는 정위치에 상기 SMIF 파드를 안내하는 가이드 레일의 각 측면에 다수의 진공 흡입구를 형성하고, 상기 가이드 레일의 내부 공간에 배기관을 연결하고, 상기 배기관에 진공 펌프를 연결시키는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object, the SMIF pod to move the carrier in which the wafer is stored in the airtight storage container in accordance with the wafer movement, the SMIF port plate for storing or withdrawing the SMIF pod, and the SMIF A SMIF system comprising a SMIF arm for supporting a port plate to draw and transport a carrier from the SMIF pod, wherein the SMIF is mounted at each corner of the SMIF port plate and at the desired position on the SMIF port. A plurality of vacuum inlets are formed on each side of the guide rail for guiding the pod, and an exhaust pipe is connected to an inner space of the guide rail, and a vacuum pump is connected to the exhaust pipe.
도 1은 일반적인 스탠더드 메커니컬 인터페이스(SMIF) 시스템의 동작을 설명하는 사시도 및 파드의 저면도이고,1 is a perspective view and bottom view of a pod illustrating the operation of a typical Standard Mechanical Interface (SMIF) system,
도 2는 본 발명에 따른 오염 입자 제거 기능을 갖는 스탠더드 메커니컬 인터페이스 포트의 개략적 사시도이다.2 is a schematic perspective view of a standard mechanical interface port with a contaminant removal function in accordance with the present invention.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>
10 : 스탠더드 메커니컬 인터페이스(SMIF) 파드10: Standard Mechanical Interface (SMIF) Pod
11 : 파드 도어 11a : 삽입 구멍11: pod door 11a: insertion hole
12 : 밀봉재 13 : 회전판12 sealing material 13 rotating plate
14 : 구멍 15 : 캐리어14 hole 15 carrier
16 : 커버 17 : 슬롯16: cover 17: slot
20 : SMIF 포트 21 : 포트 플레이트20: SMIF port 21: port plate
22 : 가이드 레일 23 : 파드 래치22: guide rail 23: pod latch
24 : 파드 도어 25 : 파드 위치 결정핀24: Pod door 25: Pod positioning pin
26 : 파드 센서 27 : 래치핀26: Pod sensor 27: Latch pin
28 : 진공흡입구 30 : SMIF 아암28: vacuum suction port 30: SMIF arm
31 : Z축 아암31: Z axis arm
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예의 동작을 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the operation of the preferred embodiment according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 SMIF 포트 플레이트상에 발생하는 오염 입자를 제거할 수 있도록 형성된 SMIF 포트의 개략적인 사시도이다.2 is a schematic perspective view of a SMIF port formed to remove contaminant particles generated on the SMIF port plate according to the present invention.
동 도면에서 알 수 있는 바와 같이, SMIF 포트(20)는 SMIF 파드(10)가 SMIF 포트(21)상에 위치할 때, SMIF 파드(10)의 하면을 수평으로 유지시키는 SMIF 포트 플레이트(21), SMIF 포트 플레이트(21)의 각 모서리에 장착되어 SMIF 포트(20)상의 소정 위치에 SMIF 파드(10)를 안내하는 가이드 레일(22), 가이드 레일(22)의 코너부에 설치되어 SMIF 파드(10)를 SMIF 포트(20)상의 소정 위치에 기계적으로 고정시키는 파드 래치(23), 파드 도어(11)상의 캐리어(15)를 운반하는 포트 도어(24), SMIF 파드(10)를 소정 위치에 배치시키는 파드위치 결정핀(25), SMIF 파드(10)가 SMIF 포트 플레이트(21)상의 정위치에 배치되었는가를 체크하는 파드 센서(26), 포트 도어(24)의 중앙부에 위치하여 파드 도어(11)의 화전판(13)에 형성된 한 쌍의 구멍과 선택적으로 체결되어 파드 도어(11)를 커버(16)로부터 선택적으로 개폐시키는 래치핀(27)으로 구성되며, SMIF 포트 플레이트(21)의 각 모서리에 장착된 가이드 레일(22)의 측면에는 다수개의 진공 흡입구(28)가 형성되어 있다.As can be seen in the figure, the SMIF port 20 is a SMIF port plate 21 for keeping the lower surface of the SMIF pod 10 horizontally when the SMIF pod 10 is located on the SMIF port 21. And a guide rail 22 mounted at each corner of the SMIF port plate 21 and guiding the SMIF pod 10 at a predetermined position on the SMIF port 20 and a corner portion of the guide rail 22, The pod latch 23 for mechanically fixing the 10 to the predetermined position on the SMIF port 20, the port door 24 for carrying the carrier 15 on the pod door 11, and the SMIF pod 10 to the predetermined position. The pod positioning pin 25 to be arranged, the pod sensor 26 for checking whether the SMIF pod 10 is disposed at the correct position on the SMIF port plate 21, and the pod door ( Is selectively engaged with a pair of holes formed in the talker plate 13 of 11 to selectively remove the pod door 11 from the cover 16. Consists of a latch pin 27 to open and close, a plurality of vacuum inlet 28 is formed on the side of the guide rail 22 mounted on each corner of the SMIF port plate 21.
상기한 바와 같은 구조를 갖는 SMIF 포트(20)에 있어서, 웨이퍼가 정렬된 캐리어(15)가 수납된 SMIF 파드(10)가 SMIF 포트 플레이트(21)상에 안착된 후, 이루어지는 캐리어(15) 이송 과정은 다음과 같다.In the SMIF port 20 having the structure as described above, the carrier 15 is formed after the SMIF pod 10 containing the carrier 15 on which the wafer is aligned is seated on the SMIF port plate 21. The process is as follows.
SMIF 파드(10)가 SMIF 포트 플레이트(21)상에 안착된 상태는 도 1b에 도시된 삽입구멍(11a)과 파드위치 결정핀(25)의 상호 작용과 가이드 레일(2)에 의하여 SMIF 파드(10)가 소정의 위치로 안내되고 파드 래치(23)에 의해 기계적으로 고정된상태로서, 포트 도어(24)의 래치핀(27)이 파드 도어(11)의 회전판(13)의 구멍(14) (도 1b 참조)에 체결된 상태이다.The state in which the SMIF pod 10 is seated on the SMIF port plate 21 is defined by the interaction between the insertion hole 11a and the pod positioning pin 25 shown in FIG. 1B and the guide rail 2. 10 is guided to a predetermined position and mechanically fixed by the pod latch 23, so that the latch pin 27 of the port door 24 has a hole 14 in the rotating plate 13 of the pod door 11. (See FIG. 1B).
다음, SMIF 포트(20)의 파드 센서(26)가 SMIF 파드(10)의 위치를 체크하여 SMIF 파드(10)가 소정 위치에 위치된 경우, 래치핀(27)은 파드 도어(11)의 회전판(13)을 회전시켜 파드 도어(11)를 SMIF 파드(10)의 커버(16)로부터 분리시켜 SMIF 포트(20)의 포트 플레이트(21)가 이동할 때 SMIF 파드(10)의 파드 도어(11)도 함께 이동할 수 있게 한다.Next, when the pod sensor 26 of the SMIF port 20 checks the position of the SMIF pod 10 and the SMIF pod 10 is positioned at a predetermined position, the latch pin 27 is rotated on the pod door 11. Rotate (13) to separate pod door (11) from cover (16) of SMIF pod (10) so that the pod door (11) of SMIF pod (10) when port plate (21) of SMIF port (20) moves. Allow them to move with you.
이 후, SMIF 아암(30)에 포함되며, 포트 도어(24)와 연결되어 포트 도어(24)를 상,하 방향으로 이송시키는 역할을 하는 Z축 아암(31)의 이송에 의해 SMIF 포트(20)의 포트 도어(24)와 SMIF 0파드(10)의 파드 도어(11)가 동시에 아래로 이송되며, 파드 도어(11) 상의 캐리어(15)는 캐리어 핸드에 의해 도시되지 않은 캐리어 이송 아암의 픽업 위치로 이송된다.Subsequently, the SMIF port 20 is included in the SMIF arm 30 by being transferred to the Z-axis arm 31 which is connected to the port door 24 and serves to move the port door 24 in the up and down directions. The port door 24 and the pod door 11 of the SMIF 0 pod 10 are simultaneously transported down, and the carrier 15 on the pod door 11 is picked up by a carrier hand, not shown by the carrier hand. Is transported to position.
한편, 동 도면에는 도시되지 않았지만 다수개의 진공 흡입구(28)가 형성된 가이드 레일(22)의 내부는 배기관이 연결되어 있고, 또한 배기관에는 진공펌프가 연결되어 있다.On the other hand, the exhaust pipe is connected to the inside of the guide rail 22 in which the plurality of vacuum suction ports 28 are formed, although not shown in the drawing, and the vacuum pump is connected to the exhaust pipe.
따라서, 웨이퍼 이송 공정에 의하여 슬롯 각각에 웨이퍼가 정렬되어 탑재되어 있는 캐리어(15)가 수납되어 있는 SMIF 파드(10)를 SMIF 포트 플레이트(21)에 로딩시키거나 또는 언로딩시키는 동작에 의해 SMIF 포트 플레이트(21)상에 발생하는 오염 입자를 빨아들이는 역할을 수행한다.Therefore, the SMIF port 10 is loaded or unloaded into the SMIF port plate 21 by the SMIF pod 10 in which the carriers 15, in which the wafers are aligned and mounted in the slots, are stored. It serves to suck the contaminated particles generated on the plate 21.
즉, 도면에 도시되지 않은 진공 펌프는 사용자로부터 진공펌프를 동작시키기 위한 스위치 온 조작이 이루어지면 가이드 레일(22)의 측면에 형성된 다수개의 진공 흡입구(28) 및 배기관을 통하여 SMIF 포트 플레이트(21)상의 오염 입자를 빨아들임에 따라 SMIF 포트 플레이트(21)상의 오염 입자는 제거된다.That is, the vacuum pump not shown in the drawing is SMIF port plate 21 through a plurality of vacuum inlet 28 and exhaust pipe formed on the side of the guide rail 22 when the switch-on operation for operating the vacuum pump from the user is made Contaminant particles on the SMIF port plate 21 are removed as they soak up contaminant particles on the bed.
여기서, 진공 펌프의 구체적인 동작 설명은 이 기술 분야에 통상의 지식을 가진 자라면 용이하게 이해할 수 있으므로 생략한다.Here, the detailed description of the operation of the vacuum pump will be omitted since it is easily understood by those skilled in the art.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 오염 입자 제거 기능을 갖는 SMIF 시스템은, 진공 펌프를 통하여 웨이퍼 이송 공정에 의하여 슬롯 각각에 웨이퍼가 정렬되어 탑재되어 있는 캐리어가 수납되어 있는 SMIF 파드를 SMIF 포트 플레이트에 로딩시키거나 또는 언로딩 동작에 의하여 SMIF 포트 플레이트상에 발생하는 오염 입자를 빨아들이는 SMIF 포트 구조를 제공하므로써, 반도체 제조공정 생산라인의 청정도 레벨을 극대화시킴과 동시에 웨이퍼 수율을 향상시키는 효과를 제공한다.As described above, the SMIF system having the function of removing contaminants according to the present invention includes a SMIF pod containing an SMIF pod containing a carrier in which wafers are aligned and mounted in each slot by a wafer transfer process through a vacuum pump. By providing a SMIF port structure that absorbs contaminants generated on the SMIF port plate by loading on or unloading, it maximizes the cleanliness level of the semiconductor manufacturing process line and improves wafer yield. To provide.
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