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KR100298031B1 - Mechanical interface device - Google Patents

Mechanical interface device Download PDF

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KR100298031B1
KR100298031B1 KR1019920025081A KR920025081A KR100298031B1 KR 100298031 B1 KR100298031 B1 KR 100298031B1 KR 1019920025081 A KR1019920025081 A KR 1019920025081A KR 920025081 A KR920025081 A KR 920025081A KR 100298031 B1 KR100298031 B1 KR 100298031B1
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KR
South Korea
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port
door
pot
plate
potting
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KR1019920025081A
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Korean (ko)
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KR940016534A (en
Inventor
야마시다뎃베이
가와노히도시
무라다마사나오
다나가쓰요시
모리다데루야
Original Assignee
이노마다 시게오
신코덴키 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by 이노마다 시게오, 신코덴키 가부시키가이샤 filed Critical 이노마다 시게오
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting

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Abstract

본 발명 포트내의 가스치환이 용이하게 가능하고, 간단한 부재의 부가만으로 가스치환이 가능한 기계식 인터페이스장치를 제공함을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a mechanical interface device capable of easily replacing gas in a port, and capable of replacing gas by only adding a simple member.

본 발명 구성은 본체케이스(1)에 설치된 피처리물의 반입, 반출용 포오트(4)을 형성하는 포오트플레이트(3)위에 기밀히 적재, 배치되고, 상기 포오트(4)를 덮어씌운 개구플렌지가 달린 포트(10), 이 포트의 개구(11)를 기밀히 폐쇄 가능한 포트문(21), 상기본체케이스(1)내에 승강가능토록 지지되고 최상승시에 상기 포오트플레이트(3)에 계합하여 상기포오트(4)를 폐쇄하는 포오트 문(31)을 구비하며, 이 포오트문(31)이 상기 포트문(21)을 상기 포트내에서 본체 케이스(1)로 또 그 반대로 반송하는 기계식 인터페이스장치에 있어서, 상기 포오트문(31)이 소정높이 승강구동가능한 통상 공간을 내부에 구획함과 아울러 상기 포모트문의 아래면에 기밀히 계합 가능한 하접합주변부(33A)와 상기 포오트 플레이트의 아래면에 기밀히 계합 가능한 상접합주변부(33B)을 가지는 가동 포오트스카트(33), 상기 포오트문(31) 또는 당해 포포트문과 함께 승강하는 부재에 배설되어 상기 포오트 스카트(33)를 상기 포오트플레이트(3)로 행하여 부세하는 부세장치(37)을 구비하며, 상기 포오트 플레이트(3)는 내주면에 개구하는 배기구(3B)와 이 내주면에 개구함과 함께 N2가스원에 접속되는 급기구(3A)를 가진다.The configuration of the present invention is an airtightly loaded and disposed on the pot plate 3 forming the pot 4 for carrying in and taking out the object to be processed and installed in the main body case 1, and covering the pot 4 with an opening. Port 10 with a flange, port port 21 for hermetically closing the opening 11 of the port, supported to be liftable in the main body case 1, and engaged with the pot plate 3 at the highest level And a port door 31 for closing the port 4, and the port door 31 conveys the port door 21 to the body case 1 in the port and vice versa. In the mechanical interface device, the port door 31 partitions a normal space capable of elevating and driving a predetermined height therein, and a lower junction peripheral portion 33A and the port plate that can be hermetically engaged to the bottom surface of the form door. Has an upper junction periphery 33B which can be hermetically engaged on the underside of the A biasing device (37) disposed on the movable port port (33), the port port (31), or a member that moves up and down together with the port port door (3) for biasing the port port (33) by the port plate (3). And the pot plate 3 has an exhaust port 3B which opens on the inner circumferential surface, and an air supply port 3A which opens to the inner circumferential surface and is connected to the N 2 gas source.

상기 포트(10)내로 N2가스주입에 있어 상기 포오트문(31)이 상기 하접합주변부(33A)에 기밀히 계합될때까지 하강 구동되는 것을 특징으로하는 기계식 인터페이스장치.Mechanical interface device, characterized in that for driving the N 2 gas into the port (10) is lowered until the port door (31) is hermetically engaged to the lower junction portion (33A).

Description

기계식 인터페이스장치Mechanical interface

제1도는 본 발명의 실시예를 도시한 종단면도.1 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of the present invention.

제2도는 실시예의 N2가스 주입시에 상태를 도시한 종단면도.2 is a longitudinal sectional view showing a state at the time of N 2 gas injection in the embodiment.

제3도는 실시예에서 피처리물 로드/언로드 프로세스중의 상태를 도시한 종단면도.3 is a longitudinal sectional view showing a state during an object load / unload process in the embodiment;

제4도는 본 발명의 제2실시예를 도시한 종단면도.4 is a longitudinal sectional view showing a second embodiment of the present invention.

제5도는 본 발명의 제3실시예7를 도시한 종단면도.5 is a longitudinal sectional view showing a third embodiment 7 of the present invention;

제6도는 본 발명의 제4실시예를 도시한 종단면도.6 is a longitudinal sectional view showing a fourth embodiment of the present invention.

제7도는 종래의 기계식 인터페이스 장치의 개략도.7 is a schematic diagram of a conventional mechanical interface device.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 본체케이스 3 : 포오트 플레이트(Port plate)1: main body case 3: port plate

3A : 흡기구 3B : 배기구3A: intake port 3B: exhaust port

3C : 전자밸브 4 : 포오트(Port)3C: solenoid valve 4: port

10 : 포트(Pot) 11 : 포트의 개구10: Pot 11: Port opening

12 : 포트의 플렌지 13∼15 : 씰(Seal)재12 Port Flange 13-15 Seal Material

20 : 웨이퍼 카셋트(wafer cassette)20: wafer cassette

21 : 포트문 31 : 포오트 문21: Port Moon 31: Port Moon

32 : 승강축 33 : 포오트 스카트32: lifting shaft 33: pot scotch

33A : 포오트스카트의 하접합주변부(아래플렌지)33A: Lower joint area of lower port (bottom flange)

33B : 포오트스카트의 상접합주변부(위플렌지)33B: Upper junction of the potscat (weepange)

33b, 34 : 씰재 35 : 가이드간(杆)33b, 34: sealing material 35: between guides

36 : 가이드로울36: guide roller

37 : 부세장치인 매다는 기구()37: hanging mechanism as a taxing device ( )

37A : 코일스프링 40 : 록크기구37A: Coil Spring 40: Lock Mechanism

50, 51 : 벨로우즈(Bellows)50, 51: bellows

70 : 코일스프링(付勢裝置) 71 : 대(台)70: coil spring 71: large

71A : 통기공 72 : 호흡용 배관71A: Aeration hole 72: Breathing pipe

A : 밀봉공간A: Sealed space

본 발명은 반도체의 제조프로세스에 사용되는 기계식 인터페이스 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a mechanical interface device used in the manufacturing process of a semiconductor.

종래, 반도체의 처리는 반도체의 소재(partical)오염을 방지하기 위해서 특별히 설계한 크린룸내에서 행하여졌으나, 그것을 지킨다는 것이 비용이 너무 많이 든다는 문제가 있는 것 외에, 소재오염의 오염정도의 저하 및 감소에는 한계가 있어, 예를 들어 일본특개소 60-143623호 공보에 개시되어 있는 것과 같은 표준화된 기계식 인터페이스 장치가 개발되었다.Conventionally, semiconductor processing has been carried out in a clean room specially designed to prevent the partial contamination of semiconductors. However, there is a problem that it is too expensive to protect the semiconductors. There is a limitation, and for example, a standardized mechanical interface device such as that disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 60-143623 has been developed.

이 기계식 인터페이스장치는, 예를 들면 제7도에 도시된 바와 같이, 웨이퍼처리장치(도시하지 않았음)를 수납하고, 청정공기로 가득 채워져 있는 장치의 본체케이스(1)와 가반식(可搬式)타입의 박스(이하 "포트"라 한다)(10) 및 승강 장치(30)를 포함하고 있다.This mechanical interface device, for example, as shown in FIG. 7, accommodates a wafer processing device (not shown), and is equipped with a main body case 1 of a device filled with clean air and a portable type. A box type (hereinafter referred to as a "port") 10 and a lifting device 30 are included.

장치 본체의 본체케이스(1)의 천정판(2)에는 포오트 플레이트(3)에 의해 포오트[웨이퍼카셋트(20)의 반입 ·반출구](4)가 형성되어 있고, 파지부(10A)를 갖는 포트(10)는 이 포오트 플레이트(3)위에 적치된다.A port (carrying-in / out port of the wafer cassette 20) 4 is formed on the ceiling plate 2 of the main body case 1 of the apparatus main body by the port plate 3, and the holding part 10A is provided. A port 10 having is placed on the pot plate 3.

포트(10)는 그 개구(11)의 주위에 환상의 플렌지(12)를 가지는 형상으로 되어있다.The port 10 has a shape having an annular flange 12 around the opening 11.

승강장치(30)는 승강축(32)에 지지된 승강대(31)에 웨이퍼카셋트(20)를 적재하여 승강하지만, 이 승강대(31)는 포오트문으로 되어있고, 최대상승시에는 포오트 플레이트(3)에 아래로 부터 당접 또는 감합하여 포오트(4) ·본체케이스(1)를 외부에 대하여 밀폐하고, 또한 포오트 문(31)위에 있는 웨이퍼 카셋트(20)의 대(21)는 포트(10)의 개구(11) 주변부위에 맞닿아서 당해개구(11)를 밀폐한다.The lifting device 30 lifts and lifts the wafer cassette 20 on the lifting table 31 supported by the lifting shaft 32. However, the lifting device 31 is a port door, and at the maximum lift, the port plate ( 3) The port 21 of the wafer cassette 20 on the port door 31 is sealed in the port (4) and the main body case 1 from the outside by contacting or fitting from below. The opening 11 is sealed by contacting the peripheral portion of the opening 11 of 10).

이 대(21)를, 이하 포트 문이라 한다.This stand 21 is called port door hereafter.

포트(10)의 개구와 포트문(20)과의 사이를 씰재(13)로 밀봉하고 포트(10)의 플렌지(12)와 포오트 플레이트(3)와의 사이를 씰재(14)로 밀봉하고, 포오트 플레이트(3)와 포오트 문(31)과의 사이를 씰재(15)로 밀봉한다.Sealing between the opening of the port 10 and the port door 20 with a sealing material 13 and sealing between the flange 12 of the port 10 and the pot plate 3 with a sealing material 14, The sealing material 15 is sealed between the potting plate 3 and the potting door 31.

록크기구(40)는 도시하지 않은 기어드 모터(geard motor)에 의해 구동되는 록크레버(41)를 가지고, 포트(10)의 플렌지(12)를 포오트 플레이트(3)위로 내리 누르는 운동을 한다.The lock mechanism 40 has a lock lever 41 driven by a geared motor (not shown), and performs the movement of pressing the flange 12 of the port 10 onto the pot plate 3.

본 예에 있어서는 처리전의 웨이퍼(W)가 도시되지 않은 다른 쪽의 장소로부터 포오트 문(31)위로 이동 적재된 후, 포트(10)를 포오트 플레이트(3)위로 적재하고 록크레버(41)로 고정한다.In this example, the wafer W before processing is moved and stacked on the port door 31 from the other place not shown, and then the port 10 is loaded on the port plate 3 and the lock lever 41 is loaded. To be fixed.

록크레버(41)로 고정한후, 포오트 문(31)이 이동 적재하는 위치까지 하강한다.After fixing with the lock lever 41, the pot door 31 is lowered to the position to move and load.

포오트 문(31)이 옮겨 싣는 위치까지 하강하면, 도시하지 않은 이동적재 장치가 포오트 문(31)위의 웨이퍼 카셋트(20)를 처리기계로 반송한다.When the port door 31 is lowered to the position where the port door 31 is moved, the mobile stacker (not shown) conveys the wafer cassette 20 on the port door 31 to the processing machine.

그런데, 종래에는 웨이퍼(W)의 소재 오염이 문제로 되고있었지만, 반도체 집적회로의 고밀도화가 진보됨에 따라, 공기중의 산소에 의한 웨이퍼표면의 자연산화막의 영향이 문제로 되기 시작하여, 이 자연산화막의 성장을 방지하기 위해 웨이퍼(W)의 이동 ·반송 ·처리등을 불활성 가스(N2가스) 분위기 중에서 행할 필요가 생기고, 현재에는 02· H2O의 농도가 10ppm이하인 N2가스분위기가 요구되고 있다.By the way, in the past, material contamination of the wafer W has been a problem, but as the density of semiconductor integrated circuits is advanced, the influence of the natural oxide film on the wafer surface caused by oxygen in the air starts to become a problem. In order to prevent the growth of the wafer W, it is necessary to perform the transfer, conveyance, and processing of the wafer W in an inert gas (N 2 gas) atmosphere, and at present, the N 2 gas atmosphere having a concentration of 0 2 · H 2 O is 10 ppm or less. It is required.

상기한 기계식 인터페이스 장치를 사용하는 경우에는 본체 케이스(1)내의 공기를 N2가스로 치환하여 N2가스 분위기로 하고, 포트(10)내부는 N2가스 분위기로 유지되게 하고 있지만, 당해 포트(10)가 본체케이스(1)의 천정판(2)위에 세트(Set)되는 찰라에, 그 내부를 N2가스로 재치환하여 보다 고순도의 N2가스 분위기로 하는 것이 된다.When using the above-mentioned mechanical interface devices, the main body case (1) and by replacing the air with N 2 gas and a N 2 gas atmosphere, the port 10 interior is maintained in N 2 gas atmosphere in, but the art port ( 10) the main body case (1) in the top plate (2) on a set (set) which is momentary, by replacing the material therein as a N 2 gas is not more than the high-purity N 2 gas atmosphere.

가반타입으로 되는 포트(10)로의 N2가스의 주입은 본체케이스(1)측에 설치된 N2가스 봄베로부터 행할 필요가 있지만, 포트(10)를 포트문(21)으로 밀폐한채로 본체케이스(1)측으로부터 N2가스를 주입하는 것은 간단하지 않고 구조적으로 복잡하게 된다.Injection of the N 2 gas into the port 10 of the portable type needs to be performed from the N 2 gas cylinder provided on the main body case 1 side, but the main body case (with the port 10 being sealed by the port door 21) Injecting N 2 gas from the side 1) is not simple and structurally complicated.

본 발명은 이 문제를 해소하기 위하여 된 것으로서, 포트내의 가스치환이 용이하게 이루어지고, 간단한 부재를 부가하는 것만으로 이 가스치환이 가능한 기계식 인터페이스 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve this problem, and an object of the present invention is to provide a mechanical interface device capable of easily replacing a gas in a port and enabling this gas replacement by simply adding a simple member.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 청구범위 제1항에서는 포오트 문이 소정높이로 상승동작이 가능한 통모양 공간을 내부에 구획(區劃)함과 함께 상기 포오트 문의 아래면에 기밀(氣密)히 계합될 수 있는 하접합주변부와, 상기 포오트 플레이트의 아래면에 기밀히 계합될 수 있는 상접합주변부를 가지는 움직일 수 있는 포오트 스카트와, 상기 포오트 문 또는 당해 포오트 문과 함께 상승하는 부재에 배설되어 상기 포오트 스카드를 포오트 플레이트로 향하게 부세(付勢)하는 부세장치와를 설치하고, 상기 포오트 플레이트에 그 내주면이 개구하는 배기구와 그 내주면에 개구함과 함께 N2가스원에 접속되는 흡기구(氣區)를 형성하고, 상기 포트내의 N2가스 주입시에, 상기 포오트 문이 상기 하접합 주변부에 기밀히 계합하여 상기 포오트 스카트와의 사이에 상기 포트내와 연통하는 밀봉공간을 구획하기까지 하강구동하는 구성으로 하였다.In order to achieve the above object, the present invention, in claim 1 wherein the port door is divided into a cylindrical space capable of ascending operation to a predetermined height therein and airtight on the underside of the port door. Iii) a movable port scout having an underjoined periphery that can be engaged, a perforated periphery that can be hermetically engaged on the underside of the port plate, and an ascend with the port door or the port door disposed on the member directing the fabric Haute's card to Po Haute plate with a biasing (付勢) an exhaust port and one wanted to the inner peripheral surface of installing a biasing apparatus, and that the inner peripheral surface of the opening in the capsule Haute plate N 2 An inlet connected to a gas source, and at the time of injection of N 2 gas into the port, the port door is hermetically engaged with the lower junction peripheral part and It was set as the structure which drives down until it partitions the sealing space which communicates with the said port between.

청구범위 제2항에서는, 부세장치는 포오트 문에 보호유지된 매다는 기구(器具)로서, 한쪽끝이 코일스프링으로 되는 매다는 줄()이고, 이 매다는 줄의 코일스프링이 아닌 부분이 계합하는 계합 로울러를 가지고, 이 매다는 줄의 코일스프링측 끝은 포오트 문에 설치된 계지핀에 계지되고, 코일이 스프링이 아닌 부분은 상기 계합로울러에 계합하여 포오트 스카트의 하접합부에 수직으로 내려져 당해 하접합부에 계지되며, 상기 코일스프링은 미리 부하되어 있는 구성으로 하였다.In claim 2, the biasing device is a suspending device protected by a port door, the one end of which is a coil spring. The hanging spring has an engagement roller in which the non-coil spring portion of the hanging line engages, and the end of the coil spring side of this hanging line is held by a retaining pin installed in the port door, and the non-spring portion of the hanging spring coil The coil spring was loaded in the vertical direction at the lower joint portion of the port scatter and vertically connected to the lower joint portion.

청구범위 제3항에서는, 부세장치는 포오트 문의 지지축에 고착된 대와 포오트스카드의 하접합부와의 사이에 장치된 복수개의 미리 부하된 코일스프링으로 된 구성으로 하였다.In claim 3, the biasing device is constituted of a plurality of preloaded coil springs provided between a stand fixed to a support shaft of a port door and a lower junction of a port card.

청구범위 제4항에서는, 상기 각 미리 부하된 코일스프링은 벨로우즈로 덮여져 있고, 대에는 각 벨로우즈 내로 개구되는 호흡용 구멍이 형성되어 이 호흡용 구멍은 장치외부로 뻗어진 배관이 접속되어 있는 구성으로 하였다.In claim 4, each of the preloaded coil springs is covered with bellows, and a respiratory hole is formed in the table, and the respiratory hole is connected to a pipe extending out of the device. It was made.

청구범위 제5항에서는, 포오트 스카트의 하접합부가 구획하는 포오트 스카트의 아래 개구는 벨로우즈로 기밀히 밀폐되어 있는 구성으로 하였다.In Claim 5, the lower opening of the potting scaffold which the lower junction part of a potting scart partitions is made into the structure which is airtightly sealed by bellows.

청구범위 제6항에서는, 포오트 플레이트 위에 포트가 고정된 후에 포오트문이 소정의 높이 만큼 하강하고, 밀봉공간 형성후 배기구를 밀폐하여 흡기구로부터 N2가스 주입을 소정시간 행하고, 이 소정시간의 경과후 상기 포오트 문이 피처리물 이동적재위치로 하강하는 구성으로 하였다.In claim 6, after the port is fixed on the port plate, the port door descends by a predetermined height, and after the formation of the sealing space, the exhaust port is sealed to perform N 2 gas injection from the intake port for a predetermined time. After the passage, the port door descends to the workpiece loading position.

본 발명에서는, 포트내로의 가스주입시에는 포오트 문의 아랫면 외주변부가 포오트 스카드의 하접합부와의 사이에 씰재를 압축하는 위치까지 하강한다.In the present invention, at the time of gas injection into the port, the outer peripheral portion of the bottom surface of the port door is lowered to the position where the seal member is compressed between the bottom joint of the port scard.

포오트 문의 하강에 수반하여 부세장치의 스프링은 수축되지만, 포오트 스카트에 충분한 부세력이 작용하도록 상기 스프링을 미리 층분히 연신된 상태로 되어 있어서, 포오트 스카트는 포오트 플레이트에 소정 압력으로 접촉된 상태로 된다.As the spring of the potting device contracts with the lowering of the potting door, the spring is preliminarily stretched so that sufficient force is applied to the potting scotch, so that the potting stool contacts the potting plate at a predetermined pressure. It becomes the state that became.

이 포오트문의 하강에 의해 포트문도 포오트문과 함께 하강하므로 포트 개구가 열리지만, 포오트 스카트의 하단은 포오트 문으로 밀봉되고, 포오트 스카트내는 외부로부터 기밀히 밀폐되어 있으므로 포트내는 외부로 부터 기밀히 밀폐된 상태로 있고, 포오트 개구(11)가 열리므로 가스공급구·가스배기구가 포트내와 연통한다.The port opening also opens because the port door also descends with the port door by the lowering of the port door, but the bottom of the port scout is sealed by the port door, and the port port scaffold is hermetically sealed from the outside. Since the pot opening 11 is opened, the gas supply port and the gas exhaust port communicate with the inside of the port.

[실시예]EXAMPLE

이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

제1도에 있어서, 단통체(短筒體)의 포오트 스카트(33)는 포오트 문(31)이 내부를 승강할 수 있도록 내부공간(A)을 구획하고, 하단부에는 안쪽을 향한 하접합주변부(아래 플렌지)(33A)가 형성되고, 이 아래 플렌지(33A)에는 복수개의 가이드 구멍(33a)이 형성됨과 동시에 그 상면 외주변부에는 복수개의 가이드 구멍(33a)을 둘러쌓듯이 씰재(34)가 설치되어 있고, 이 씰재(예를 들면 0-링)(34)는 포오트 문(31)의 아래 외주변부에 대향되어 있다.In FIG. 1, the potting skat 33 of the single-cylinder body partitions the inner space A so that the potting door 31 can raise and lower the inside, and the lower part joins inward toward the inside. A peripheral portion (lower flange) 33A is formed, and a plurality of guide holes 33a are formed in the lower flange 33A, and the seal member 34 is surrounded by a plurality of guide holes 33a in the upper peripheral portion thereof. Is provided, and the seal member (for example, 0-ring) 34 is opposed to the outer peripheral portion of the bottom door 31.

또한, 포오트 스카트(33)의 상단부에 외향하는 상접합주변부(위 플렌지)(33B)가 형성되고, 그 표면에 씰재(예를 들면 0-링)(33b)가 설치되어 있다.In addition, an upper junction peripheral portion (upper flange) 33B outward is formed at the upper end portion of the port scout 33, and a seal member (for example, a 0-ring) 33b is provided on the surface thereof.

가이드 간(杆)(35)은 포오트 문(31)의 하면으로부터 아래로 수직으로 뻗어지고, 하단에 이탈방지(35a)를 갖추고 있고, 각각 대응하는 가이드구멍(33a)에 헐겁게 끼워져 있다.The guide section 35 extends vertically downward from the lower surface of the port door 31, has a separation prevention 35a at its lower end, and is loosely fitted in the corresponding guide hole 33a, respectively.

가이드 로울(36)은 포오트 문(31)의 내부공간(31A)에 설치되어있고, 부세장치인 매다는 기구(37)는 일부에 미리 부하된 코일스프링(37A)을 가지는 매다는 줄로 되어있고, 코일스프링 A측단은 상기 내부공간(31A)에 배설된 계지핀(38)에 계지되고, 타부는 가이드로우프(36)에 계합된 가운데, 포오트 문(31)의 가이드로울(36) 바로 아래에 형성되어 있는 구멍(39)으로부터 바깥으로 인출되어 늘어져 있고, 포오트 스카트(33)의 아래 플렌지(33A)의 내주변끝에 계지되어 있다.The guide roll 36 is installed in the interior space 31A of the port door 31, and the hanging mechanism 37, which is a biasing device, is a hanging rope having a coil spring 37A preloaded in part. The spring A side end is engaged by the locking pin 38 disposed in the internal space 31A, and the other part is engaged with the guide rope 36, and is formed directly below the guide roll 36 of the port door 31. It is drawn out and hangs out from the hole 39 which is made, and it is locked by the inner periphery edge of the flange 33A below the potting scar 33.

포오트 스카트(33)는 복수개의 매다는 기구(37)에 의해 위에 매달려지고 씰재(33b)를 개재하여 포오트 플레이트(3)의 아래면에 눌려져 닿아있다.The pot scout 33 is suspended by the plurality of hanging mechanisms 37 and pressed against the bottom surface of the pot plate 3 via the seal member 33b.

흡기구(3A)는 포오트 플레이트(3)의 하부측을 반경방향으로 관통하는 가스흡기구로서 배관(3a)을 통하여, 도시하지 않은 N2가스 봄베에 접속되어 있다.The inlet port 3A is a gas inlet port that radially passes through the lower side of the port plate 3 and is connected to an N 2 gas cylinder (not shown) via a pipe 3a.

배기구(3B)는 포오트 플레이트(3)의 하부측을 반경방향으로 관통하는 가스배기구이고, 전자밸브(3C)는 배관(3c)에 설치되어 있다.The exhaust port 3B is a gas exhaust port penetrating the lower side of the pot plate 3 in the radial direction, and the solenoid valve 3C is provided in the pipe 3c.

또한, 상자모양의 본체케이스(1)내에는 N2가스분위기중에 있고, 항상 20ℓ/분의 N2가스주입으로 예압되어 있다.Further, in the box-shaped main body case (1) and the N 2 gas atmosphere, there is always a preload to the N 2 gas inlet of 20ℓ / min.

다음에 실시예의 동작을 제2도와 제3도를 참조하여 설명한다.Next, the operation of the embodiment will be described with reference to FIG. 2 and FIG.

지금, 포트(10)가 장치 바깥으로부터 본체케이스(1)의 포오트플레이트(3)위로 이동적재되고, 도시하지 않았지만 상기 록크레버(41)로 포오트플레이트(3)위에 고정되어진 것으로 한다.Now, it is assumed that the port 10 is moved onto the pot plate 3 of the main body case 1 from the outside of the apparatus and is fixed to the pot plate 3 with the lock lever 41 although not shown.

이 상태에서는 포트(10)의 개구(11)와 포트문(21)과의 사이는 씰재(13)로 밀봉되고, 포트(10)의 플렌지와 포트플레이트(3)와의 사이는 썰재(14)로 밀봉되고, 포트플레이트(3)와 포트 문(21)과의 사이는 씰재로 밀봉되어 있다.In this state, the opening 11 of the port 10 and the port door 21 are sealed with a seal material 13, and the flange between the port 10 and the port plate 3 is a low-rise material 14. It is sealed and between the pot plate 3 and the port door 21 is sealed by the sealing material.

또, 포오트스카트(33)의 상단부와 포오트플레이트(3)와의 사이도 씰재(33b)로 밀봉되어 있다.Moreover, the sealing material 33b is also sealed between the upper end part of the pot scotch 33 and the pot plate 3.

다음에 포트(10)내에 N2가스를 주입하여 내부를 N2가스로 치환하지만, 가스주입전에 포오트 문(31)을 제2도에 도시한 바와같이 소정의 짧은 거리만, 즉 포오트 문(31)의 하면 외주변부가 아래 플렌지(33A)와의 사이에 씰재(34)를 압축하는 위치까지 하강시킨다.Next, N 2 gas is injected into the port 10 to replace the interior with N 2 gas, but before the gas injection, the port door 31 is only a predetermined short distance, as shown in FIG. The lower periphery of (31) is lowered to the position where the seal member 34 is compressed between the lower flange 33A.

포오트 문(31)의 하강에 수반하여 포오트스카트(33)와 가이드를(36)간의 거리가 축소되므로 매다는 기구(37)의 일단은 포오트스카트(33)에 계지되어 있으므로 코일스프링(37A)은 자체 탄성력에 의하여 수축되지만, 도시한 상태로서도 다른 부위에 인장력을 부여하고, 포오트스카트(33)에 충분한 매달아 올리는 힘이 작용하도록 코일스프링(37A)이 미리 탄력 지지되어 있기 때문에, 포오트스카트(33)는 포오트 플레이트(3)에 압축 접촉된 상태로 된다.As the distance between the potscat 33 and the guide 36 is reduced with the descending of the pott door 31, one end of the hanging mechanism 37 is locked to the potscat 33 so that the coil spring 37A ) Is contracted by its own elastic force, but the coil spring 37A is elastically supported in advance so that the tension force is applied to other parts even in the illustrated state, and a sufficient lifting force is applied to the pot scotch 33. The scart 33 is in compression contact with the potting plate 3.

즉, 짧은 통상체인 포오트스카트(33)는 부세장치인 매다는 기구(37)의 작용에 의해 포오트 플레이트(3) 아래쪽에 유지되고, 이는 포오트스카트(33)의 상접합주변부(33B) 위면이 씰재(33b)를 개재하여 포오트 플레이트(3) 하면에 밀착된다. 이 밀착상태는 포오트 문(31)이 하강하고, 포오트 문(31) 하면이 포오트 스카트(33) 하접합주변부(33A) 위면과 일체로 되어도, 상기 매다는 기구(37)의 스프링작용에 의해 계속 당겨진 상태로 유지된다.That is, the potting stool 33, which is a short body, is held under the potting plate 3 by the action of the hanging mechanism 37, which is a biasing device, which is on the upper surface of the upper junction 33B of the potting stool 33. It adheres to the lower surface of the pot plate 3 via this seal member 33b. In this close contact state, even if the pot door 31 is lowered and the lower face of the pot door 31 is integrated with the upper surface of the bottom joint 33A of the pot scout 33, the spring mechanism of the hanging mechanism 37 Is kept pulled by.

이 포오트문(31)의 하강으로 포트문(21)도 포오트문(31)과 함께 하강하므로 포트(10)의 개구(11)가 열리지만, 포오트스카트(33)의 하단은 포오트문(31)으로 밀봉되어 포오트스카트(33)내는 본체케이스(1)의 내부에 대하여 기밀히 차폐되는 상태가 되고, 포트(10)내의 공기가 본체 케이스(1)내에 침입할 우려는 없다.Since the port door 21 also descends together with the port door 31 by the lowering of the port door 31, the opening 11 of the port 10 opens, but the lower end of the port cart 33 is potted. Sealed with the door 31, the pot skat 33 is in a state of being hermetically shielded with respect to the inside of the main body case 1, and there is no fear that the air in the port 10 may enter the main body case 1.

포오트문(31) 및 포트문(21)의 하강에 의해 포트(10)의 개구(11)가 열리므로 가스흡기구(3A)·가스배기구(3B)가 포트(10)내와 연통한다.The opening 11 of the port 10 is opened by the lowering of the port door 31 and the port door 21 so that the gas intake port 3A and the gas exhaust port 3B communicate with the inside of the port 10.

본 실시예에서는 상기한 바와같이, 포오트문(31)을 하강시켜 포트(10)의 개구(11)를 연 후, 전자밸브(3C)를 열고, N2가스를 가스흡기구(3A)로부터 포트(10)내로, 예를들면 701/분·대략 5분간 주입하여, 포트(10)내의 공기를 가스배기구(3B)에서 배기시켜서 포트(10)내를 N2가스로 치환한다.In the present embodiment, as described above, the port door 31 is lowered to open the opening 11 of the port 10, the solenoid valve 3C is opened, and the N 2 gas is discharged from the gas intake port 3A. Into (10), for example, 701 / min, approximately 5 minutes is injected, and the air in the port 10 is exhausted from the gas exhaust port 3B to replace the inside of the port 10 with N 2 gas.

이 가스치환이 끝나면, 제3도에 도시한 바와같이 포오트문(31)을 소정의 위치(이동적재위치)까지 하강시킨다.After the gas replacement is completed, the port door 31 is lowered to a predetermined position (moving loading position) as shown in FIG.

이로인해 포트(10)는 본체케이스(1)내부와 연통되게 되지만, 포트(10)내가 이미 N2가스분위기중으로 되어 있으므로 본체케이스(1)내의 N2가스농도가 저하될 염려는 없다.This causes the port 10 to communicate with the inside of the main body case 1, but since the inside of the port 10 is already in the N 2 gas atmosphere, there is no fear that the N 2 gas concentration in the main body case 1 will be lowered.

포오트문(31)이 상기 이동적재위치까지 하강하면 포오트문(31)위의 웨이퍼 카셋트(20)는 도시하지 않은 이동적재위치에 의해 N2가스 분위기중이 처리기계측으로 운반되어진다.When the pot door 31 descends to the movable loading position, the wafer cassette 20 on the pot door 31 is transported to the processing machine side in the N 2 gas atmosphere by the movable loading position (not shown).

이 처리기계로 처리된 웨이퍼카셋트(20)는 상기 도시하지 않은 이동적재위치에 의해 포오트문(31)위로 이동적재되어 당해 포오트 문(31)에 의해 포트내로 운반되어지고, 포오트 문(31)이 최고 상승위치까지 상승하여 포오트(4)를 밀폐한후, 장치외로 운반된다.The wafer cassette 20 processed by this processing machine is moved onto the port door 31 by a moving loading position (not shown) and transported into the port by the port door 31. 31) ascends to the highest ascending position, seals the pot 4, and is then transported out of the device.

본 실시예에서는 포오트플레이트(3)위로 포트(처리전 웨이퍼가 장진된 웨이퍼카셋트를 수납)가 이동적재되고, 포오트(4)를 폐쇄하고 있는 포오트 문(31)위에 고정되면, 포오트문(31)이 소정의 짧은 거리만큼 하강하여 밀봉공간(A)이 형성되고, 그후 포트(10)안이 N2가스로 치환되고 N2가스분위기중으로 된 후에 포트(10)안이 본체케이스(1)안과 연통되므로 본체 케이스(1)안에 외부공기나 먼지가 묻어들어가는 염려는 전혀 없게 된다.In the present embodiment, when the port (receiving the wafer cassette loaded with the wafer before processing) is placed on the pot plate 3 and fixed on the pot door 31 closing the pot 4, the pot door 31 is a sealed space (a) formed by lowering by a predetermined short distance, then port 10 inside the inside main body case 1, the port 10 after being replaced with N 2 gas into the N 2 gas atmosphere. Since there is communication with the inside, there is no fear of the external air or dust in the main body case (1).

즉, 제1도에 도시된 바와 같이, 웨이퍼카셋트(20)가 수납되어 밀봉된 포트(10)가 포오트 문(31) 위에 적치되면, 제2도에 도시된 바와 같이, 포오트 문(31)이 약간 아래로 내려오는데, 이 상태에서는 포트(10)의 내부가 본체케이스(1)와는 밀폐되나 흡배기구(3A, 3B)와는 연통하게 되고, 흡기구(3A)는 N2가스붐베(도시하지 않음)에서 공급되는 N2가스가 공급되며, 이때 배기구(3B)의 전자벨브(3C)가 열려서 포트(10)내부를 N2가스로 치환한 후 전자벨브(3C)를 차단하면 포트(10)내부는 N2가스만으로 층만되게 되며, 이 상태에서 제3도에 도시된 바와 같이, 승강축(32)을 축소시켜서 웨이퍼카셋트(20)를 본체케이스(1)내부로 수납시켜서 처리한 후, 다시 승강축(32)을 연신시키면 웨이퍼카셋트(20)는 N2가스 분위기하에서만 처리가 되며, 따라서 외부공기나 먼지가 묻어들어갈 염려가 전혀 없는 것이다.That is, as shown in FIG. 1, when the wafer cassette 20 is accommodated and the sealed port 10 is deposited on the pot door 31, the pot door 31 is shown in FIG. 2. ) Is slightly lowered. In this state, the inside of the port 10 is sealed with the main body case 1, but communicates with the intake and exhaust vents 3A and 3B, and the inlet and outlet 3A are N 2 gas booms (not shown). N 2 gas supplied from the N2 gas is supplied, and at this time, the solenoid valve 3C of the exhaust port 3B is opened to replace the inside of the port 10 with the N 2 gas, and then the solenoid valve 3C is shut off. The inside is layered only with N 2 gas, and in this state, as shown in FIG. 3, the lifting and lowering shaft 32 is reduced so that the wafer cassette 20 is stored inside the body case 1 and processed. when stretched the lifting shaft 32 wafer cassettes 20 and the processing only with the N 2 gas atmosphere, and thus the air containing the foreign or clean. The concern is not at all.

제4도는 본 발명의 실시예 2를 도시한 것으로 포오트스카트(33)의 아래 플렌지(33A)와 포오트 문(31)의 승강축(32)과의 사이에 벨로우즈(50)를 둘러쳐서 포오트스카트(33)아래 개구를 페쇄한 점에서 제1도의 실시예와 상이하다.4 shows the second embodiment of the present invention, which surrounds the bellows 50 between the lower flange 33A of the portcoat 33 and the lifting shaft 32 of the port door 31. It differs from the embodiment of FIG. 1 in that the opening under the haute ska 33 is closed.

제1도의 실시예에서는 포오트 문(31)이 포오트 스카트(33)의 플렌지(33A)위로 내려갈때까지의 사이에, 포트(10)의 내부는 포트문(21)의 주변측면 및 포오트 문(31)의 주변측면과 포오트 스카트(22)와의 사이에 형성된 간극, 포오트스카트(33)의 아래 개구를 통하여, 본체케이스(1)내와 연통하므로 포트(10)내부에 있는 먼지등이 본체케이스(1)내로 들어갈 염려가 있지만, 본 실시예에서는 포오트 스카트(33)의 아래개구가 벨로우즈(50)로 폐쇄되어 있어서 이러한 염려는 없게되는 이점이 있다.In the embodiment of FIG. 1, the pot 10 is in the periphery side of the port door 21 and the pot until the pot door 31 descends onto the flange 33A of the pot scout 33. Through the gap formed between the peripheral side of the door 31 and the pot scotch 22, the lower opening of the pot scotch 33, the body communicates with the inside of the case 1, and the like. There is a risk of entering the main body case 1, but in this embodiment, since the lower opening of the pot scout 33 is closed by the bellows 50, there is an advantage that there is no such concern.

제5도는 본 발명의 실시예 3을 도시한 것이다.5 shows Embodiment 3 of the present invention.

이 실시예에 있어서는 상기 매닮(37)를 대신하여 눌러 올리기용의 코일스프링(70)을 사용하는 점에 있어서 상위하다.In this embodiment, it differs in that the coil spring 70 for pushing up is used instead of the said hawk 37.

포오트 문(37)의 승강측(32)에는 스프링자리가 되는 대(71)를 고정하고, 이 대(71)와 포오트스카트(33)의 아래플렌지(33A)와의 사이에 복수개의 코일스프링(70)을 미리 부하된 상태로 배설한다.A stand 71 serving as a spring seat is fixed to the lifting side 32 of the pot door 37, and a plurality of coil springs are provided between the stand 71 and the lower flange 33A of the pot seat 33. The 70 is discharged in a preloaded state.

제6도는 본 발명의 실시예 4를 도시한 것이다.6 shows Embodiment 4 of the present invention.

이 실시예는 밀어 올리기용의 코일스프링(70)을 사용하는 점에 있어서는 실시예 3과 동일하지만, 이 코일스프링(70)을 벨로우즈(51)로 덮어서 코일스프링(70)으로부터의 발생되는 먼지가 본체케이스(1)안에 날려들어가지 않도록 하였다.This embodiment is the same as the third embodiment in that the coil spring 70 for pushing up is used, but the dust generated from the coil spring 70 is covered by covering the coil spring 70 with the bellows 51. It did not blow into the main body case (1).

호흡용 배관(72)은, 일단은 대(71)에 형성된 통기공(71A)에 열동하고 타단은 본체케이스(1)밖으로 끌어내어져 있다.The breathing pipe 72 is inferior to the vent hole 71A formed in the base 71 at one end thereof, and the other end thereof is drawn out of the main body case 1.

본 발명은 이상 설명을 통하여 포오트 문(31)를 소정 높이로 하강하여, 포오트 문(31)과 포트 문(21)의 외주측에 포트(10)에 연통하는 밀봉공간을 형성시키고, 이 밀봉공간을 통하여 외부의 N2가스원으로부터 포트(10)안에 N2가스를 주입시키는 구조로 되어있어 포오트 문(31), 포트문(21)과 공동하여 상기 밀봉공간을 구획하는 부재를 설치하는 것만으로 족하고, 저렴한 가격으로 신뢰성 높은 포트(10)안에 가스치환시스템을 구축할 수 있다.The present invention lowers the port door 31 to a predetermined height through the above description, to form a sealing space in communication with the port 10 on the outer peripheral side of the port door 31 and the port door 21, It is structured to inject N 2 gas into the port 10 from the external N 2 gas source through the sealing space, and installs a member that partitions the sealing space in cooperation with the port door 31 and the port door 21. The gas replacement system can be constructed in the highly reliable port 10 at a low cost.

Claims (6)

본체 케이스(1)에 설치되어 피처리물의 반입·반출용 포오트(4)를 형성하는 포오트 플레이트(3)위에 기밀히 적치되는 상기 포오트(4)를 덮는 개구플렌지가 붙은 포트(10), 이 포트(10)의 개구를 기밀히 폐쇄 가능한 포트 문(21), 상기 본체케이스(1)내에 승강 가능하게 지지되어 최고 상승시에 상기 포오트플레이트(3)에 계합되어 상기 포오트(4)를 폐쇄하는 포오트 문(31)을 구비하고, 이 포오트 문(31)이 상기 포트 문(21)을 상기 포트(10)안으로부터 본체케이스(1)로 또 그 역으로 운송하는 기계식 인터페이스 장치에 있어서, 상기 포오트 문(31)이 소정높이로 승강운동이 가능한 통모양 공간을 내부에 구획함과 함께 상기 포오트 문(31)의 아래면에 기밀히 계합 가능한 하접합주변부(33B)와 상기 포오트플레이트의 아래에 기밀히 계합 가능한 상접합주변부를 가지는 움직일 수 있는 포오트 스카트(33), 상기 포오트 문(31) 또는 당해 포오트 문과 함께 상승하는 부재에 배설되어 상기 포오트 스카트(33)를 상기 포오트 플레이트(3)로 향하여 부세하는 부세장치(付勢裝置)를 구비하고, 상기 포오트 플레이트(3)는 내주면이 개구하는 배기구(3B)와 이 내주면에 개구함과 함께 N2가스원에 접속되는 흡기구(3A)를 가지며, 상기 포트(10)안으로 N2가스 주입시 상기 포오트 문(31)이 상기 하접합주변부(33A)에 기밀히 계합될때까지 소정 높이 하강구동시켜서 상기 포오트 문(31)과 상기 포오트 스카트(33)가 상기 포트(10)내와 연통하는 밀봉공간을 상기 포오트 플레이트(3)와의 사이에 구획하는 것을 특징으로 하는 기계식 인터페이스장치.A port 10 having an opening flange covering the pot 4, which is installed in the main body case 1 and is tightly stacked on the pot plate 3, which forms the pot 4 for carrying in / out of the workpiece. A port door 21 capable of closing the opening of the port 10 in an airtight manner, and being supported in the main body case 1 in such a manner as to be lifted and lowered so that the port 10 is engaged with the pot plate 3 at the time of the highest rise. And a port door 31 for closing the port door 31, wherein the port door 31 transports the port door 21 from the port 10 to the body case 1 and vice versa. In the above, the port door 31 partitions a cylindrical space capable of lifting and lowering to a predetermined height therein, and a lower junction peripheral portion 33B that can be hermetically engaged to the bottom surface of the port door 31. Umbilical recesses that can be hermetically engaged under the port plate A biasing device disposed on the potting scout 33, the potting door 31, or a member which rises together with the potting door, and biases the potting scout 33 toward the potting plate 3. And the pot plate 3 has an exhaust port 3B whose inner circumferential surface is opened, and an inlet port 3A which is connected to the N 2 gas source while being opened to the inner circumferential surface. 10) The potting door 31 and the potting scotch 33 are driven down by a predetermined height until the potting door 31 is tightly engaged with the lower joint portion 33A when N 2 gas is injected into the chamber. Mechanical interface device, characterized in that the sealing space in communication with the port (10) is partitioned between the port plate (3). 제1항에 있어서, 부세장치는 포오트 문(31)에 보호유지된 매다는 기구(37)로서, 한쪽끝이 코일스프링(37A)으로 되는 매다는 줄이고, 이 매다는 줄의 코일스프링이 아닌 부분이 계합하는 계합로울러를 가지고, 이 매다는 줄의 코일스프링(37A)측 끝은 포오트 문(31)에 설치된 계지핀에 계지되고, 코일스프링이 아닌 부분은 상기 계합로울러에 계합하여 포오트 스카트(33)의 하접합부(33A)에 수직으로 내려져 당해 하접합부에 계지되고, 상기 코일스프링은 미리 부하되어 있는 것을 특징으로 하는 기계식 인터페이스 장치.2. The hanging device (37) according to claim 1, wherein the biasing device is a hanging mechanism (37) which is protected and maintained in the port door (31), wherein one end thereof is reduced to a coil spring (37A), and the portion of the hanging string other than the coil spring is engaged The coil spring (37A) end of the hanging rope is engaged with the engaging pin provided in the port door 31, and the portion other than the coil spring is engaged with the engagement roller to form the pot scout (33). A mechanical interface device, characterized in that it is lowered perpendicularly to the lower junction portion (33A) of the lower junction portion and latched on the lower junction portion, and the coil spring is preloaded. 제1항에 있어서, 부세장치는 포오트문의 지지축에 고착된 대와 포오트 스카트와 하접합부와의 사이에 장치된 복수개의 미리 부하된 코일스프링으로 됨을 특징으로 하는 기계식 인터페이스 장치.2. The mechanical interface device of claim 1 wherein the biasing device comprises a plurality of preloaded coil springs mounted between the base secured to the support shaft of the port door and the port scout and the lower joint. 제3항에 있어서, 각기 미리 부하된 코일스프링은 벨로우즈로 덮여져 있고, 대에는 각 벨로우즈내로 개구되는 호흡용 구멍이 형성되어 이 호흡용 구멍은 장치밖으로 뻗어진 배관에 연결됨을 특징으로 하는 기계식 인터페이스 장치.4. The mechanical interface of claim 3, wherein each of the preloaded coil springs is covered with bellows, and the base is provided with a breathing hole for opening into each bellows, the breathing hole being connected to a tubing extending out of the device. Device. 제1항 내지 제3항중 어느 한항에 있어서, 포오트 스카트의 하접합부가 구획하는 포오트 스카트의 아래개구는 벨로우즈로 기밀히 밀폐되어 있음을 특징으로 하는 기계식 인터페이스 장치.4. The mechanical interface device according to any one of claims 1 to 3, wherein the lower opening of the port scout, which is defined by the bottom joint of the port scout, is hermetically sealed by a bellows. 제1항에 있어서, 포오트 플레이트위에 포트가 고정된 후 포트문이 소정높이로 하강하여 밀봉공간을 형성한후 배기구를 밀폐하여 흡기구에서 N2가스주입을 소정시간 행하고, 이 소정시간이 경과후 상기 포트문이 피처리물 이동적재위치로 하강함을 특징으로 하는 기계식 인터페이스장치.The port door is lowered to a predetermined height to form a sealed space after the port is fixed on the port plate, and then the exhaust port is sealed to perform N 2 gas injection at the inlet for a predetermined time. And the port door descends to a workpiece loading position.
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WO1990014273A1 (en) * 1989-05-19 1990-11-29 Asyst Technologies, Inc. Sealable transportable container having improved latch mechanism

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