KR100257521B1 - Signal delay circuit of a semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 신호 지연을 조절할 수 있는 반도체 메모리 장치의 신호 지연 회로에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a signal delay circuit of a semiconductor memory device capable of adjusting signal delay.
최근의 반도체 메모리 장치가 고집적화 및 고속화되어 가고 있다. 초고속화 메모리 장치는 이제 수백 MHz의 속도로 동작하게 되고 향후 초당 수 기가 바이트의 속도로 동작하는 시대가 곧 다가올 것이다.In recent years, semiconductor memory devices have become highly integrated and faster. Ultra-fast memory devices will now run at speeds of hundreds of MHz, and in the future, operating at speeds of gigabytes per second.
반도체 메모리 장치가 고속화되어 가면서 칩내부의 동작 사이클도 고속화되며 이에 따라 내부 신호들의 스큐(skew)를 제어하기가 매우 힘들어지고 이로 인해 여러번의 시행착오를 거친 후에야 원하는 장치를 획득할 수 있음으로 개발기간 및 원가상승의 주요원인이 된다. 또한, 종래의 반도체 메모리 장치의 테스트는 웨이퍼 상태에서도 테스트가 가능했으며 패키지상태와 큰 차이가 발생하지 않았다.As the semiconductor memory device becomes faster, the operation cycle inside the chip is also faster, which makes it very difficult to control skew of the internal signals, and thus, the desired device can be obtained after several trials and errors. And cost increases. In addition, the test of the conventional semiconductor memory device was able to test even in the wafer state and did not make a big difference with the package state.
그러나, 최근의 반도체 메모리 장치는 초고속화를 실현하기 위해 칩내에 메모리이외에 고속으로 동작하는 새로운 인터페이스 로직을 추가하고 있으며, 또한 클럭 스큐를 제거하기 위해 클럭 스큐 보상회로인 지연 동기 루프(DLL, delayed lock loop) 또는 위상 동기 루프(PLL, phase lock loop) 등을 칩내에 내장하고 있다.However, recent semiconductor memory devices add new interface logic that operates at high speed in addition to memory in the chip to realize ultra-high speed, and delayed lock (DLL) which is a clock skew compensation circuit to eliminate clock skew. loops or phase lock loops (PLLs) are built into the chip.
한편, 메모리 테스트 회로의 동작속도는 100MHz -250MHz정도이며 또한 메모리 장치만을 테스트하기에 유용하게 구성되어 있으며 인터페이스 로직 및 DLL 또는 PLL의 동작특성을 웨이퍼 상태에서 검증할 수 없다.On the other hand, the operating speed of the memory test circuit is about 100MHz-250MHz, and is useful for testing only the memory device. The interface logic and the operation characteristics of the DLL or PLL cannot be verified in the wafer state.
또한, 초당 수백 메가 바이트의 속도로 동작하는 메모리 장치는 스펙(specification)값들이 대단히 작으며 이는 칩내의 신호들의 정교한 제어를 더욱 더 요구하게 되며 패키지 상태의 완제품상태에서야 스펙값들을 체크할 수 있다.In addition, memory devices operating at speeds of hundreds of megabytes per second have very small specification values, which require even more sophisticated control of the signals in the chip and can only be checked in the finished state of the package.
그리고, 상기와 같은 이유로 칩내의 신호를 제어하기가 대단히 힘들게 된다. 따라서, 종래의 방법대로 고속 메모리 장치의 좋은 샘플을 획득하기 위해서는 웨이퍼 -> 패키지 조립 -> 1차 특성 검증 -> 정정 -> 패키지 조립 -> 2차 특성 검증 -> 정정 -> 패키지 조립 -> 3차 특성 검증을 하는 방법으로 계속해서 여러번의 시행 착오를 되풀이해야만 하므로 원가상승 및 개발기간의 증가를 가져오는 원인이 되었다.And, it is very difficult to control the signal in the chip for the same reason as above. Therefore, in order to obtain a good sample of the high speed memory device according to the conventional method, wafer-> package assembly-> primary characteristic verification-> correction-> package assembly-> secondary characteristic verification-> correction-> package assembly-> 3 As the method of verifying the difference characteristics has to be repeated several times, the cause of cost increase and development period is increased.
도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 신호 지연 회로의 실시예로서, PMOS트랜지스터들(P1, P2), NMOS트랜지스터들(N1, N2), 지연회로(10), 및 퓨즈(f)로 구성되어 있다. 지연 회로(10)는 일반적으로 저항 또는 캐패시턴스로 구성된다.1 is a diagram illustrating an example of a signal delay circuit of a conventional semiconductor memory device, and includes PMOS transistors P1 and P2, NMOS transistors N1 and N2, a
종래의 신호 지연 회로는 패키지 조립전인 웨이퍼 상태에서 레이저 절단기로 퓨즈(f)를 절단하는 방법을 택함으로써 메모리 장치의 패키지 상태의 특성과 무관하여 패키지 특성을 보장할 수 없다는 단점이 있었다. 즉, 만일 신호 지연이 필요한 경우에는 퓨즈(f)를 레이저 절단기로 절단하여 지연회로(10)에 의한 신호 지연이 되도록 하고 신호 지연이 필요없는 경우에는 퓨즈(f)를 절단하지 않고 그대로 두면된다.The conventional signal delay circuit has a disadvantage in that package characteristics cannot be guaranteed regardless of the package state characteristics of the memory device by selecting a method of cutting the fuse f with a laser cutter in a wafer state before package assembly. That is, if a signal delay is required, the fuse f may be cut by a laser cutting machine to be a signal delay by the
이와같은 종래의 반도체 메모리 장치의 신호 지연회로는 웨이퍼 상태에서의 신호 지연 조정방법이므로 패키지 조립 후에 그 특성이 바뀌었을 경우에는 여러번의 시행 착오를 되풀이해야만 원하는 특성의 반도체 메모리 장치를 얻을 수 있고 이는 또한 원가를 상승하고, 개발 기간을 증가하게 된다는 문제점이 있었다.Since the signal delay circuit of the conventional semiconductor memory device is a signal delay adjustment method in a wafer state, when the characteristic is changed after assembling the package, the semiconductor memory device having the desired characteristic can be obtained by repeating several trials and errors. There was a problem of increasing the cost and increasing the development period.
본 발명의 목적은 칩내의 신호 지연을 패키지 상태에서 제어할 수 있는 반도체 메모리 장치의 신호 지연 회로를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a signal delay circuit of a semiconductor memory device capable of controlling a signal delay in a chip in a package state.
이와같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 메모리 장치의 신호 지연 회로는 반도체 메모리 장치의 신호 선로들사이의 복수개의 신호 지연수단들, 상기 복수개의 신호 지연수단들의 각각의 입력단과 전원전압사이에 연결되고 각각의 반전 퓨즈 제어신호에 응답하여 온되는 복수개의 풀업 수단들, 상기 복수개의 지연수단들의 각각의 출력단과 접지전압사이에 연결되고 각각의 퓨즈 제어신호에 응답하여 온되는 복수개의 풀다운 수단들, 상기 복수개의 신호 지연수단의 각각의 입출력단사이에 연결된 복수개의 퓨즈들, 상기 복수개의 퓨즈 제어신호 및 반전 퓨즈 제어신호를 발생하고 퓨즈 컷팅 모드를 설정하기 위한 퓨즈 컷팅 모드 설정신호를 발생하기 위한 퓨즈 제어신호 발생 수단, 및 상기 퓨즈 컷팅 모드 설정신호에 응답하여 상기 반도체 메모리 장치의 신호 선로들의 퓨즈 컷팅 동작을 인에이블하기 위한 인에이블 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.The signal delay circuit of the semiconductor memory device of the present invention for achieving the above object is connected between a plurality of signal delay means between the signal lines of the semiconductor memory device, each input terminal of the plurality of signal delay means and the power supply voltage A plurality of pull-up means which are turned on in response to each inverted fuse control signal, a plurality of pull-down means which are connected between an output terminal of each of the plurality of delay means and a ground voltage and turned on in response to each fuse control signal, A fuse for generating a plurality of fuses connected between respective input / output terminals of the plurality of signal delay means, the plurality of fuse control signals and an inverted fuse control signal, and a fuse cutting mode setting signal for setting a fuse cutting mode; A control signal generating means, and the semiconductor in response to the fuse cutting mode setting signal; It characterized in that it includes the enabling means for enabling the fuse cutting operation of the signal line of the memory device.
도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 신호 지연 회로의 실시예이다.1 is an embodiment of a signal delay circuit of a conventional semiconductor memory device.
도 2는 본 발명의 반도체 메모리 장치의 신호 지연 제어회로의 실시예이다.2 is an embodiment of a signal delay control circuit of the semiconductor memory device of the present invention.
도 3은 본 발명의 반도체 메모리 장치의 신호 지연회로의 실시예이다.3 is an embodiment of a signal delay circuit of the semiconductor memory device of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 반도체 메모리 장치의 신호 지연 회로를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a signal delay circuit of a semiconductor memory device of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 반도체 메모리 장치의 신호 지연 제어회로의 실시예로서, 기준전압(Vref)을 반전하기 위한 인버터(22), 인버터(22)의 출력신호에 응답하여 인에이블되고 n개의 버스 데이타(D1 -Dn)를 병렬로 저장하고 출력하기 위한 n개의 병렬 연결된 플립플롭들(20), 플립플롭들(20)의 출력신호인 퓨즈 제어신호들(f1 -fn)을 반전하여 반전된 퓨즈 제어신호들(fb1 -fbn)을 출력하기 위한 n개의 병렬 연결된 인버터들로 구성된 반전회로(24), 및 퓨즈 제어신호들(f1 -fn, fb1 -fbn)을 입력하여 논리합하여 퓨즈 컷팅 모드신호(FM)를 출력하기 위한 논리합 회로(26)로 구성되어 있다.2 is an embodiment of a signal delay control circuit of the semiconductor memory device of the present invention, in which an
도 2의 제어회로는 메모리 칩내의 n개의 퓨즈들을 컷팅을 제어하고 정상 모드와 퓨즈 컷팅 모드를 구별하기 위한 회로이다. 기준전압(Vref)은 고속 인터페이스를 구현하기 위한 인터페이스 로직에서 반드시 사용되는 전압으로 항상 0V보다 큰 임의 전압을 갖는다. 도 2에 나타낸 제어회로의 플립플롭(20)은 기준전압(Vref)이 0V인 경우에만 동작하게 되므로 반도체 메모리 장치가 정상 모드에서 동작할 시에는 이 제어회로는 동작하지 않게 된다.2 is a circuit for controlling the cutting of the n fuses in the memory chip and distinguishing the normal mode from the fuse cutting mode. The reference voltage Vref is a voltage that is necessarily used in interface logic for implementing a high speed interface and always has a random voltage greater than 0V. Since the flip-
또한, 칩내의 n개의 퓨즈에 대한 선택을 위해 패키지 핀중에 임의의 n개의 핀을 선택하여 이들 신호를 이용하여 원하는 퓨즈를 선택적으로 컷팅할 수 있게 한다. 즉, 플립플롭(20)으로 입력되는 n개의 데이타는 임의의 n개의 핀으로 부터 입력되는 데이타이다. 그리고 이들 임의의 핀으로 입력되는 데이타는 퓨즈 컷팅 모드시에 "로우"레벨로 함으로 정상 모드와 퓨즈 컷팅 모드를 구별할 수 있다. 기준전압(Vref)이 0V일 때 플립플롭(20)이 인에이블되고 이때 데이타(D1 -Dn)를 저장하고 출력한다. 플립플롭(20)의 출력신호를 퓨즈 제어신호(f1 -fn)이 되며 또한 반전회로(24)는 이들 퓨즈 제어신호(f1 -fn)를 반전하여 반전 퓨즈 제어신호(fb1 -fbn)를 출력하나. 즉, 도2에 나타낸 제어회로는 기준전압(Vref)과 임의의 핀을 통해 손쉽게 정상 모드와 퓨즈 컷팅 모드를 구별하여 정상 모드시의 오동작을 막을 수 있다.In addition, any n pins among the package pins can be selected to select n fuses in the chip, and these signals can be used to selectively cut the desired fuses. That is, n data input to the flip-
도 3은 본 발명의 반도체 메모리 장치의 신호 지연회로의 실시예로서, 퓨즈 컷팅 모드신호(FM)가 인가되는 게이트 전극과 전원전압이 인가되는 소오스 전극을 가진 PMOS트랜지스터(P3), 퓨즈 컷팅 모드 신호(FM)를 반전하는 인버터(30), 입력신호(IN)가 인가되는 게이트 전극과 PMOS트랜지스터(P3)의 드레인 전극에 연결된 소오스 전극을 가진 PMOS트랜지스터(P4), 입력신호(IN)가 인가되는 게이트 전극과 PMOS트랜지스터(P4)의 드레인 전극에 연결된 드레인 전극을 가진 NMOS트랜지스터(N3), NMOS트랜지스터(N3)의 소오스 전극에 연결된 드레인 전극과 인버터(30)의 출력신호가 인가되는 게이트 전극과 접지전압이 인가되는 소오스 전극을 가진 NMOS트랜지스터(N4), PMOS트랜지스터(P4)의 드레인 전극으로 부터의 신호를 지연하기 위한 n개의 직렬 연결된 지연회로들(40-n, 40-(n-1), ..., 40-1), 지연회로들의 각각의 입출력 단자사이에 연결된 퓨즈들(50-n, 50-(n-1), ..., 50-1), 전원전압과 지연회로들의 각각의 입력단자사이에 연결되고 각각의 반전 퓨즈 제어신호들(fbn, fb(n-1), ..., fb1)에 응답하여 온되는 PMOS트랜지스터들(P5-n, P5-(n-1), ..., P5-1), 지연회로들의 각각의 출력단자와 접지전압사이에 연결되고 각각의 퓨즈 제어신호들(fn, f(n-1), ..., f1)에 응답하여 온되는 NMOS트랜지스터들(N5-n, N5-(n-1), ..., N5-1), 및 지연회로들의 최종 출력신호를 입력하여 반전하여 출력신호(OUT)를 발생하기 위한 PMOS트랜지스터(P6)와 NMOS트랜지스터(N6)로 구성된 인버터로 구성되어 있다.3 is a diagram illustrating a signal delay circuit of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, wherein a PMOS transistor P3 having a gate electrode to which a fuse cutting mode signal FM is applied and a source electrode to which a power supply voltage is applied, and a fuse cutting mode signal are illustrated in FIG. An
퓨즈 컷팅 모드이면 퓨즈 컷팅 모드 신호(FM)가 "하이"레벨이고, 정상 모드에서는 퓨즈 컷팅 모드신호(FM)가 "로우"레벨로 유지된다. 따라서, 퓨즈 컷팅 모드신호(FM)가 "하이"레벨이면 PMOS트랜지스터(P3)와 NMOS트랜지스터(N4)가 각각 오프되고 따라서 입력신호(IN)의 입력이 디스에이블된다. 그리고, 도2에 나타낸 데이타 신호의 조합에 의해서 발생되는 퓨즈 제어신호들(fn, f(n-1), ..., f1)이 모두 "하이"레벨이고 반전 퓨즈 제어신호들(fbn, fb(n-1), ..., f1)이 모두 "로우"레벨이라면 PMOS트랜지스터들(P5-n, P5-(n-1), ..., P5-1)과 NMOS트랜지스터들(N5-n, N5-(n-1), ..., N5-1)이 모두 턴온된다. 이때, PMOS트랜지스터(P5-n)를 통하여 흐르는 전류는 지연회로(40-n)와 퓨즈(50-n)로 분산하여 흐르게 되고 이 전류는 NMOS트랜지스터(N5-n)를 통해서 합산된다. 이때, 퓨즈(50-n)의 저항값이 작음으로 PMOS트랜지스터(P5-n)를 통하여 흐르는 전류는 모두 퓨즈(f1)를 통해 흐른다. 즉, 퓨즈(50-n)를 통하여 흐르는 전류에 의해서 퓨즈(50-n)는 끊어지게 된다.In the fuse cutting mode, the fuse cutting mode signal FM is at the "high" level, and in the normal mode, the fuse cutting mode signal FM is maintained at the "low" level. Therefore, when the fuse cutting mode signal FM is at the "high" level, the PMOS transistor P3 and the NMOS transistor N4 are turned off, respectively, and thus the input of the input signal IN is disabled. Then, the fuse control signals fn, f (n-1), ..., f1 generated by the combination of the data signals shown in FIG. 2 are all "high" level and the inverted fuse control signals fbn, fb If (n-1), ..., f1) are all at "low" levels, the PMOS transistors P5-n, P5- (n-1), ..., P5-1 and NMOS transistors N5- n, N5- (n-1), ..., N5-1) are all turned on. At this time, the current flowing through the PMOS transistor P5-n flows into the delay circuit 40-n and the fuse 50-n, and the current is summed through the NMOS transistor N5-n. At this time, since the resistance value of the fuse 50-n is small, all current flowing through the PMOS transistor P5-n flows through the fuse f1. That is, the fuse 50-n is cut off by the current flowing through the fuse 50-n.
여기서, 상기 퓨즈의 제조방법 및 퓨즈의 용량 및 커팅전압과 커팅 전류에 관한 사항들은 선행기술로서 미극특허번호 5,420,456호나 미국특허번호 4,089,734호에 개시되어진 내용을 참조할 수 있으며, 본 실시예의 경우에 상기 퓨즈를 폭 0.4μm, 길이 8μm 이하의 사이즈를 갖는 폴리실리콘 재질로 제조하고, 키팅전압은 5볼트로서 인가하고, 전류는 10mA밀리 암페어를 인가한다. 또한 상기 커팅 전압 및 전류는 반도체 기판의 두께 및 열저항, 산화막의 두께, 퓨즈재질의 용융점등에 의존하므로, 사안의 변경시 이를 고려하여 설정하여야 한다.Here, the manufacturing method of the fuse, the capacity of the fuse, the cutting voltage and the cutting current may be referred to the contents disclosed in US Pat. No. 5,420,456 or US Pat. No. 4,089,734 as prior art, in the case of the present embodiment The fuse is made of polysilicon material having a width of 0.4 mu m and a length of 8 mu m or less, the kitting voltage is applied as 5 volts, and the current is 10 mA milliamps. In addition, since the cutting voltage and current depend on the thickness and thermal resistance of the semiconductor substrate, the thickness of the oxide film, and the melting point of the fuse material, the cutting voltage and the current should be set in consideration of the change of the case.
이와 같이, 정상 모드 동작시에 입력신호는 지연회로(40-n)를 통하여 지연되게 된다. 이와 같은 방법으로 모든 퓨즈들(50-(n-1), ..., 50-1)이 끊어지게 되면 정상 모드 동작시에 입력신호는 지연회로들(40-n, 40-(n-1), ..., 40-1)을 통하여 최대한 지연되게 된다. 신호 지연 시간의 조절은 n개의 퓨즈들(50-n, 50-(n-1), ..., 50-1)중 몇개의 퓨즈를 끊느냐에 따라 조절할 수 있다. 즉, 도 2의 데이타 신호들중 몇개의 신호를 "하이"레벨로 하느냐에 따라 신호 지연시간이 조절된다.In this manner, in the normal mode operation, the input signal is delayed through the delay circuit 40-n. In this way, if all the fuses 50- (n-1), ..., 50-1 are blown, the input signal may be delayed by the delay circuits 40-n and 40- (n-1) in the normal mode operation. ), ..., 40-1) will be delayed as much as possible. The adjustment of the signal delay time may be adjusted according to the number of fuses blown out of the n fuses 50-n, 50-(n-1), ..., 50-1. That is, the signal delay time is adjusted depending on how many of the data signals in Fig. 2 are set to the "high" level.
따라서, 본 발명은 패키지상태에서 외부 핀의 조합으로 원하는 퓨즈를 선택적으로 컷팅함으로써 정상 메모리 장치 뿐만 아니라 특히 고속 메모리 장치에서의 셋 업/홀드 타임 등을 정정없이 좋은 샘플을 확보할 수 있으며 이로 인하여 개발 기간 단축 및 원가 절감의 효과가 있다.Accordingly, the present invention can secure a good sample without correcting the setup / hold time in not only a normal memory device but also a high-speed memory device by selectively cutting a desired fuse with a combination of external pins in a package state. It can reduce the time and cost.
따라서, 본 발명의 반도체 메모리 장치의 신호 지연 회로는 칩내의 신호 지연시간을 패키지 상태에서 조절할 수 있으므로 개발 기간 간축 및 원가 절감의 효과가 있다.Therefore, the signal delay circuit of the semiconductor memory device of the present invention can adjust the signal delay time in the chip in the package state, thereby reducing the development period and reducing the cost.
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