KR100242481B1 - Liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 특히 투사형 액정 장치에 사용되는 액정 라이트 밸브에 관한 것으로, 표시 휘도를 향상시키고 스페이서에 의한 배향의 불균일성이나 불량을 방지하여 표시 품질을 향상시킨 투사형 액정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention relates in particular to a liquid crystal light valve used in a projection type liquid crystal device, and an object thereof is to provide a projection type liquid crystal device which has improved display quality by improving display brightness and preventing nonuniformity or poor alignment of a spacer.
실리콘 기판(2) 위에, 광반사막으로서의 알루미늄(Aℓ)박막으로 구성되는 표시 전극이 각 화소마다 형성된 화소 어레이 영역(4)이 형성되고 대향 기판인 유리 기판(14)에는 대향 전극(16)이 설치되어 있다. 실리콘 기판(2)과 유리 기판(4)은 대향하여, 화소 어레이 영역(4)의 외측 주위에 복수로 병렬 설치된 접착성 수지로 형성되는 띠형상 스페이서(6, 8, 10, 12)에 의해 합쳐져 있다. 화소 어레이 영역(4)과 대향 전극(16) 사이의 영역에 액정(18)이 봉입되어 있다. 화소 어레이 영역(4) 위에는 스페이서는 형성되어 있지 않다. 띠형상 스페이서(6~12)는 화소 어레이 영역(4)의 외주위에서 상하 기판을 합치고 또한 화소 어레이 영역(4)과 대향 전극(16) 사이의 두께(셀 갭)를 일정하게 하도록 구성한다.On the silicon substrate 2, a pixel array region 4 in which a display electrode composed of an aluminum (Al) thin film as a light reflection film is formed for each pixel is formed, and a counter electrode 16 is provided on a glass substrate 14, which is an opposing substrate. It is. The silicon substrate 2 and the glass substrate 4 face each other and are joined together by band-shaped spacers 6, 8, 10, 12 formed of an adhesive resin provided in parallel in a plurality around the outside of the pixel array region 4. have. The liquid crystal 18 is enclosed in the region between the pixel array region 4 and the counter electrode 16. The spacer is not formed on the pixel array region 4. The strip spacers 6 to 12 are configured to combine the upper and lower substrates around the pixel array region 4 and to make the thickness (cell gap) between the pixel array region 4 and the counter electrode 16 constant.
Description
제1도는 본 발명의 일 실시예에 따른 반사형 액정 라이트(light)밸브의 평면도.1 is a plan view of a reflective liquid crystal light valve according to an embodiment of the present invention.
제2도는 본 발명의 일 실시예에 따른 반사형 액정 라이트 밸브의 A-A 단면도.2 is a cross-sectional view A-A of the reflective liquid crystal light valve according to the exemplary embodiment of the present invention.
제3도는 본 발명의 일 실시예에 따른 반사형 액정 라이트 밸브의 단면도.3 is a cross-sectional view of a reflective liquid crystal light valve according to an embodiment of the present invention.
제4도는 본 발명의 일 실시예에 따른 반사형 액정 라이트 밸브를 사용한 투사형 액정 장치를 도시하는 도면.4 is a diagram showing a projection type liquid crystal device using a reflective liquid crystal light valve according to an embodiment of the present invention.
제5(a)도 및 제5(b)도는 본 발명의 일 실시예에 따른 띠형상 스페이서를 도시하는 현미경 사진.5 (a) and 5 (b) are micrographs showing a band-shaped spacer according to an embodiment of the present invention.
제6(a)도 및 제6(b)도는 본 발명의 일 실시예에 따른 띠형상 스페이서를 도시하는 현미경 사진.6 (a) and 6 (b) are micrographs showing a band-shaped spacer according to an embodiment of the present invention.
제7(a)도 및 제7(c)도는 본 발명의 일 실시예에 따른 띠형상 스페이서를 도시하는 현미경 사진.7 (a) and 7 (c) are micrographs showing a band-shaped spacer according to an embodiment of the present invention.
제8(a)도 및 제8(c)도는 실리콘 기판위의 스페이서와 대향 유리 기판의 접착 상태를 도시하는 현미경 사진.8 (a) and 8 (c) are micrographs showing the adhesion state of the spacer and the opposing glass substrate on the silicon substrate.
제9도는 종래의 반사형 액정 라이트 밸브의 단면도.9 is a cross-sectional view of a conventional reflective liquid crystal light valve.
제10도는 종래의 반사형 액정 라이트 밸브의 단면도.10 is a cross-sectional view of a conventional reflective liquid crystal light valve.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
2, 100 : 실리콘 기판 4 : 화소 어레이 영역2, 100: silicon substrate 4: pixel array region
6, 8, 10, 12 : 띠형상 스페이서 14 : 유리 기판6, 8, 10, 12: strip-shaped spacer 14: glass substrate
16 : 대향 전극 18 : 액정16: counter electrode 18: liquid crystal
20, 22, 24 : 액정 주입구 30 : 밀봉제20, 22, 24: liquid crystal injection port 30: sealant
32 : 스페이서구(spacer beads)32: spacer beads
34 : 기둥주식회사형상 스페이서(columnar spacer)34: Column spacer spacer
42 : 광원 44 : 편광 비임 스플리터42 light source 44 polarizing beam splitter
46 : 색분리 프리즘 48, 50, 52 : 반사형 액정 라이트 밸브46: color separation prism 48, 50, 52: reflective liquid crystal light valve
54 : 투영 렌즈 56 : 스크린54: projection lens 56: screen
102 : 실리콘 산화막 104 : 트랜지스터102 silicon oxide film 104 transistor
106 : 광 흡수층 108 : 실리콘 질화막106: light absorbing layer 108: silicon nitride film
110 : 스터드(stud) 112 : 광 반사막110 stud 112 light reflecting film
114 : 대향 전극 116 : 유리 보호기판114: counter electrode 116: glass protective substrate
118 : 블랙 매트릭스(black matrix) 120 : 액정층118 black matrix 120 liquid crystal layer
[산업상의 이용분야][Industrial use]
본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로, 특히 투사형 액정 표시 장치에 사용되는 액정 라이트 밸브(liquid crystal light valve)에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to liquid crystal displays, and more particularly to liquid crystal light valves used in projection type liquid crystal displays.
[종래의 기술][Prior art]
근래, CRT를 대신하는 초고선명 디스플레이 장치로서의 가능성을 내포하고 있는 투사형 액정 장치가 각광을 받고 있다. 이미 HDTV나 OHP의 표시 장치 등에 투사형 액정 장치가 사용되어 오고 있다.In recent years, a projection type liquid crystal device that has the potential as an ultra-high definition display device replacing CRT has been in the spotlight. Projection type liquid crystal devices have already been used for display devices of HDTV and OHP.
투사형 액정 장치의 투사 광학계는 광원, 라이트 밸브, 스크린 및 광학 필터, 투영렌즈 등으로 형성이 된다.The projection optical system of the projection liquid crystal device is formed of a light source, a light valve, a screen and an optical filter, a projection lens, and the like.
라이트 밸브에는 액정 표시 패널이 사용되고 광원으로부터의 광을 투사시켜서 스크린에 화상을 비추어내는 방식의 투사형 액정 라이트 밸브와 광원으로부터의 광을 반사시켜서 스크린에 화상을 비추어내는 반사형 액정 라이트 밸브가 있다.The light valve includes a projection type liquid crystal light valve in which a liquid crystal display panel is used and projects light from a light source to project an image onto a screen, and a reflection type liquid crystal light valve that reflects light from a light source to project an image onto a screen.
투사형에 한정되지 아니하고 일반적으로 액티브 매트릭스형의 액정 표시 장치는 스위칭 소자 및 스위칭 소자에 접속된 표시 전극이 형성된 어레이 기판과, 어레이 기판과 소정의 간격(셀 갭)을 거쳐 대향되게 설치된 대향 전극이 형성된 대향기판으로 형성되고, 어레이 기판과 대향 기판 사이의 영역에 액정이 봉입되어져 있다.In general, the active matrix type liquid crystal display device is not limited to a projection type but includes an array substrate on which a switching element and a display electrode connected to the switching element are formed, and an opposite electrode disposed to face the array substrate through a predetermined gap (cell gap). It is formed of an opposing substrate, and liquid crystal is enclosed in an area between the array substrate and the opposing substrate.
그래서 셀갭(cell gap)에 의해 액정층을 투과 혹은 반사하는 광의 파장 및 복굴절이 결정되기 때문에 그것의 두께 정도 및 그것의 면내의 균일성은 액정 표시 장치(LCD)의 성능을 좌우하는 매우 중요한 파라미터이다.Therefore, since the wavelength and birefringence of the light passing or reflecting the liquid crystal layer are determined by the cell gap, the degree of thickness thereof and the uniformity thereof in the plane are very important parameters that determine the performance of the liquid crystal display (LCD).
제9도 및 제10도에 종래의 투사형 액정 장치에 사용되는 반사형 액정 라이트 밸브의 구조를 도시한다. 실리콘 기판(2) 위에, 알루미늄(A1) 박막으로 이루어지고 광 반사막으로서의 기능을 구비한 표시 전극이 각 화소마다 형성된 화소 어레이 영역(4)이 형성되어 있다. 대향 기판으로서의 예를 들자면 유리 기판(14)에는 대향 전극(16)이 설치되어져 있다.9 and 10 show the structure of a reflective liquid crystal light valve used in a conventional projection liquid crystal device. On the silicon substrate 2, a pixel array region 4 formed of an aluminum (A1) thin film and having a function as a light reflection film is formed for each pixel. As an example of the counter substrate, the counter electrode 16 is provided on the glass substrate 14.
실리콘 기판(2)과 유리 기판(14)은 대향에서 밀봉재(30)에 의해 합쳐지고 화소 어레이 영역(4)과 대향 전극(16) 사이의 영역에 액정(18)이 봉입되어 있다. 또한, 액정(18)을 배향시키는 배향막은 도시를 생략하고 있으나 화소 어레이 영역(4) 위 및 대향 전극(16) 위의 액정과 접하는 쪽에 형성되어 있다.The silicon substrate 2 and the glass substrate 14 are joined by the sealing material 30 at opposite sides, and the liquid crystal 18 is enclosed in the region between the pixel array region 4 and the counter electrode 16. Although not shown, the alignment film for orienting the liquid crystal 18 is formed on the pixel array region 4 and the side in contact with the liquid crystal on the counter electrode 16.
액정 재료의 소정의 전기 광학적 특성을 얻기 위해서는 소정의 셀 갭을 패널의 표시면 전체에 걸쳐서 균일하게 얻을 필요가 있고 그 때문에 수 미크론 지름의 유리 수(glass bead) 혹은 플라스틱 구를 스페이서구(spacer bead)(32)로서 화소 어레이 영역(4)과 대향 전극(16) 사이의 영역에 다수 산포해서 균일한 셀 갭을 얻도록 하고 있는 것이다(제9도). 그러나 이 스페이서구(32)를 사용하는 방법은 스페이서구(32)의 지름의 균일성이나 스페이서구(32)를 패널에 균일하게 분산시키는 것이 매우 곤란하다는 공정상의 문제를 가지며, 또한 화소 어레이 영역(4) 위의 스페이서구(32)의 위치에 의해 배향 불균일성(표시 불균일성)이나 휘도/개구율의 저하가 생기는 문제를 가지고 있다.In order to obtain the desired electro-optic properties of the liquid crystal material, it is necessary to obtain a predetermined cell gap uniformly over the entire display surface of the panel, so that a glass bead or a plastic sphere of several microns in diameter is used as a spacer bead. (32) is distributed in a large number between the pixel array region 4 and the counter electrode 16 to obtain a uniform cell gap (FIG. 9). However, the method of using the spacer sphere 32 has a process problem that it is very difficult to uniformly disperse the diameter of the spacer sphere 32 or to uniformly disperse the spacer sphere 32 in the panel. 4) It has a problem that orientation nonuniformity (display nonuniformity) and fall of brightness | luminance / aperture rate generate | occur | produce by the position of the said spacer sphere 32 above.
상기 스페이서 구를 분산시키는 방법에 대신해서 셀갭에 절연막등으로 형성되는 기둥을 형성하여 스페이서로서 이용하는 방법이 제안되고 있다(제10도). 이것은 주로 반도체 장치의 제조 공정에서 일반적으로 사용되는 포토리소그래피 공정을 이용하며, 실리콘 산화막의 기둥을 스페이서(기둥주식회사형상 스페이서구(34))로서 화소 어레이 영역(4)과 대향 전극(16) 사이의 영역에 형성하므로서 소정의 셀갭을 얻도록 한 것이고, 종래의 스페이서구를 사용하는 경우와 비교해서 스페이서의 위치, 수, 높이를 자유롭게 제어할 수 있는 이점을 가지고 있다.Instead of the method of dispersing the spacer sphere, a method of forming a pillar formed of an insulating film or the like in a cell gap and using it as a spacer has been proposed (Fig. 10). This mainly uses a photolithography process generally used in the manufacturing process of semiconductor devices, and uses a pillar of a silicon oxide film as a spacer (column spacer sphere 34) between the pixel array region 4 and the counter electrode 16. The cell gap is formed in a region so as to obtain a predetermined cell gap, and has the advantage that the position, number, and height of the spacer can be freely controlled as compared with the case of using a conventional spacer sphere.
[발명이 해결할려고 하는 과제][Inventions trying to solve]
그러나 제10도에 도시한 반사형 액정 라이트 밸브에 있어서는 기둥 형상 스페이서(34)는 근처의 화소 어레이에 얹혀서 단차(도시아니함)를 형성하고 있고, Aℓ의 광 반사막의 광 반사 면적을 감소시키고 있기 때문에 부화소의 개구율(optical aperture of subpixels)을 낮추는 요인으로 되어 있다.However, in the reflective liquid crystal light valve shown in FIG. 10, the columnar spacers 34 are placed on adjacent pixel arrays to form a step (ditch), and thus reduce the light reflection area of the light reflecting film of Al. It is a factor for lowering the optical aperture of subpixels.
또한 이 단차의 영향을 받아서 기둥 형상 스페이서(34)단부에 오목부와 볼록부가 생기고, 셀(cell) 공정중에 이 볼록부 부분에 하중이 집중되기 쉬우므로 기둥 형상 스페이서(34)의 기둥이 파손하기 쉽다.In addition, concave and convex portions are formed at the end of the column spacer 34 due to the step difference, and the load of the convex portion is easily concentrated during the cell process, so that the column of the column spacer 34 is damaged. easy.
또한, 이 스페이서 기둥은 배향막(orientation film)의 배향 처리전에 형성되기 때문에 러빙(rubbing)시에 거치장 거리고 기둥 근처의 배향막이 배향 처리되지 못하는 원인으로 된다.In addition, since the spacer pillar is formed before the alignment treatment of the orientation film, the spacer pillar is mounted on rubbing and causes the alignment layer near the pillar not to be aligned.
이와 같이 스페이서 구이거나 스페이서 기둥이거나, 그것이 표시에 기여하는 화소 어레이 영역 위에 있기 때문에 그 부분의 화소의 액정 배향을 흐트러뜨리고 LCD를 구동할 때 흡사 스페이서가 보이는 것 같이 되어 버린다. 이들은 고선명 하고 또한 큰 화면의 프로젝터에 있어서는 표시화면이 커지면 커질수록 액정 배향이 흐트러짐이 확대 투사되어 눈에 띄게 되며 표시 품질이 열화가 발생되어 반드시 해결하지 아니하면 아니되는 문제가 된다.Thus, since it is a spacer sphere or a spacer column, or because it is on the pixel array area which contributes to display, it distorts the liquid crystal orientation of the pixel of the part and becomes like a spacer when the LCD is driven. In a high-definition and large-screen projector, the larger the display screen is, the more the liquid crystal alignment is disturbed and is projected by the enlarged projection, and the display quality is deteriorated, which is a problem that must be solved.
본 발명의 목적은 표시 휘도를 향상시키고 스페이서에 의한 배향의 불균일성이나 불량을 방지해서 표시 품질을 향상 시킨 액정 표시 장치를 제공함에 이 중 특히 표시 휘도를 향상 시켜 스페이서에 의한 배향의 불균일성이나 불량을 방지해서 표시 품질을 향상시킨 투사형 액정 장치를 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which improves display quality by improving display brightness and preventing nonuniformity or defects of alignment caused by spacers. Among them, display brightness is improved to prevent nonuniformity or defects caused by spacers. The present invention provides a projection type liquid crystal device with improved display quality.
[과제를 해결하기 위한 수단][Means for solving the problem]
본 발명의 목적은 복수의 표시 전극을 갖춘 화소 어레이 영역이 형성된 기판과, 화소 어레이 영역에 대향하는 투명 전극이 형성된 대향 투명 기판과, 기판의 화소 어레이 영역 외주변 영역 위에 형성되고 소정의 셀갭으로 기판과 대향 투명 기판을 접착하는 스페이서를 구비한 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치에 의해 달성된다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate on which a pixel array region having a plurality of display electrodes is formed, an opposing transparent substrate on which a transparent electrode opposing the pixel array region is formed, and a substrate formed over a peripheral region of the pixel array region of the substrate and having a predetermined cell gap. And a spacer for bonding the opposing transparent substrate to each other.
본 발명의 다른 목적은 스페이서가 화소 어레이 영역 외주변 영역에 띠형상으로 복수 병렬로 형성되므로써 달성된다.Another object of the present invention is achieved by forming a plurality of spacers in parallel in a band shape in the outer peripheral region of the pixel array region.
본 발명이 또다른 목적은 상기한 스페이서 중 외측의 스페이서가 액정을 봉입하는 밀봉재를 겸하고 있으므로써 달성된다.Another object of the present invention is achieved by the outer spacer of the above-mentioned spacers also serving as a sealing material for enclosing the liquid crystal.
본 발명의 또다른 목적은 복수의 표시 전극을 가지며 표시 전극 사이에 차광 영역을 갖춘 화소 어레이 영역이 형성된 기판과, 화소 어레이 영역에 대향하는 투명전극이 형성된 대향 투명 기판과, 기판의 차광 영역에, 차광 영역의 폭보다 좁은 폭이 형성되고 소정의 셀 갭으로 기판과 대향 투명 기판을 접착하는 스페이서를 구비한 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치에 의해 달성된다.Still another object of the present invention is to provide a substrate having a plurality of display electrodes and having a pixel array region having a light shielding region therebetween, an opposing transparent substrate having a transparent electrode opposed to the pixel array region, and a light shielding region of the substrate, A width narrower than the width of the light shielding region is formed, and is achieved by a liquid crystal display device comprising a spacer for adhering the substrate and the opposing transparent substrate to a predetermined cell gap.
본 발명의 또다른 목적은 상술한 액정 표시 장치에 있어서 스페이서가 접착성을 갖는 감광성 수지 재료로 형성되므로써 달성된다.Another object of the present invention is achieved by forming a spacer with a photosensitive resin material having adhesiveness in the above-described liquid crystal display device.
본 발명의 또다른 목적은 상술한 액정 표시 장치에 있어서 기판이 실리콘 기판이고, 복수의 표시 전극은 광반사 재료로 형성되므로써 달성된다.Another object of the present invention is achieved by the substrate in the above-described liquid crystal display device being a silicon substrate and the plurality of display electrodes formed of a light reflecting material.
[작용][Action]
본 발명에 의하면 기판의 화소 어레이 영역 외주 영역 상에 소정의 셀 갭으로 기판과 대향 투명 기판을 접착하는 스페이서를 형성하였으므로, 액정 표시 장치의 표시 휘도를 향상시키고 스페이서에 의한 배향의 불균일성이나 불량을 방지해서 표시 품질을 향상시킬 수가 있다.According to the present invention, since a spacer is formed on the outer periphery of the pixel array region of the substrate to bond the substrate and the opposing transparent substrate to a predetermined cell gap, the display brightness of the liquid crystal display device is improved and the nonuniformity or defect of alignment caused by the spacer is prevented. This can improve display quality.
또한 기판의 차광 영역에 차광 영역의 폭보다 좁은 폭의 소정의 셀갭으로 기판과 대향 투명 기판을 접착하는 스페이서를 형성하였으므로 액정 표시 장치의 표시 휘도를 향상시키고 스페이서에 의한 배향의 불균일성이나 불량을 방지해서 표시품질을 향상시킬 수가 있다.In addition, since spacers are formed in the light shielding area of the substrate to bond the substrate and the opposing transparent substrate with a predetermined cell gap that is narrower than the width of the light shielding area, the display brightness of the liquid crystal display device is improved and the nonuniformity or defect of the alignment by the spacer is prevented. The display quality can be improved.
[실시예]EXAMPLE
본 발명의 일 실시예에 따른 반사형 액정 라이트 밸브 및 그 제조 방법을 제1도 내지 제8(c)도를 사용해서 설명한다.A reflective liquid crystal light valve and a method for manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 8 (c).
먼저 제1도 및 제2도를 사용해서 본 실시예의 반사형 액정 라이트 밸브의 구조를 설명한다. 제1도는 본 실시예의 반사형 액정 라이트 밸브의 평면도. 제2도는 그것의 A-A 단면도이다.First, the structure of the reflective liquid crystal light valve of this embodiment will be described using FIG. 1 and FIG. 1 is a plan view of a reflective liquid crystal light valve of this embodiment. 2 is its A-A cross section.
실리콘(Si) 기판(2)위에 광 반사막으로서의 예를 들자면 알루미늄(Aℓ) 박막으로 형성되는 표시 전극이 각 화소마다 형성된 화소 어레이 영역(4)이 형성되고, 대향 기판으로서의 예를 들자면 유리 기판(14)에는 대향 전극(16)이 설치되어져 있다.For example, a pixel array region 4 in which a display electrode formed of an aluminum (Al) thin film is formed on each pixel is formed on a silicon (Si) substrate 2, and a glass substrate 14 is provided as an example of an opposing substrate. ), The counter electrode 16 is provided.
실리콘 기판(2)가 유리 기판(14)은 대향되고, 화소 어레이 영역(4)의 외측 주위에 복수 병렬로서 설치된 접착성 수지로 형성되는 띠형상 스페이서(6, 8, 10, 12)에 의해 마주 붙여져 있다.The silicon substrate 2 is opposed by the glass substrate 14 and is opposed by the band-shaped spacers 6, 8, 10, 12 formed of an adhesive resin provided in parallel in a plurality around the outside of the pixel array region 4. It is attached.
화소 어레이 영역(4)과 대향 전극(16) 사이의 영역에 액정(18)이 봉입되어 있다. 또한 액정(18)을 배향시키는 배향막은 도시를 생략하였으나 화소 어레이 영역(4) 위 및 대향 전극(16) 위의 액정(18)과 접하는 쪽에 형성되어 있다. 화소 어레이 영역(4) 이에는 스페이서는 형성되어 있지 않다.The liquid crystal 18 is enclosed in the region between the pixel array region 4 and the counter electrode 16. Although not shown, the alignment layer for orienting the liquid crystal 18 is formed on the pixel array region 4 and the side in contact with the liquid crystal 18 on the counter electrode 16. The spacer is not formed in the pixel array region 4.
화소 어레이 영역(4)의 외주위에 복수 병렬로서 설치된 띠 형상 스페이서(6~12)에는 각각 액정 주입구(20, 22, 24, 25)가 복수개 설치되어 있다. 도시는 생략하였으나 기둥 형상 스페이서의 외측에는 액정을 봉지하기 위해 밀봉재가 설치되어 있다. 본 실시예의 띠형상 스페이서(6~12)는 화소 어레이 영역(4)의 외주위에서 상하 기판을 마주 붙이고, 또한 화소 어레이 영역(4)과 대향 전극(16) 사이의 두께(셀 갭)를 일정하게 하도록 작용한다.A plurality of liquid crystal injection holes 20, 22, 24, and 25 are provided in the strip spacers 6-12 provided in parallel in the circumference of the pixel array area 4, respectively. Although not shown, a sealing material is provided on the outside of the columnar spacer to seal the liquid crystal. The strip-shaped spacers 6 to 12 of this embodiment face the upper and lower substrates around the pixel array region 4, and have a constant thickness (cell gap) between the pixel array region 4 and the counter electrode 16. To act.
이와 같이 화소 어레이 영역(4) 외주위에 복수 병렬되는 수지제의 기둥 형상 스페이서를 설치하였으므로 화소 어레이 영역(4)내에서 스페이서를 배제해도 소정의 셀 갭을 유지할 수 있도록 되고 따라서 표시 휘도를 향상시키고 스페이서에 의한 배향의 불균일성이나 불량을 방지해서 표시 품질을 향상시킨 투사형 액정 장치를 실현할 수가 있다.Thus, since the columnar spacers made of resin parallel to the outer periphery of the pixel array region 4 are provided, a predetermined cell gap can be maintained even when the spacers are removed in the pixel array region 4, thereby improving display brightness and increasing the spacer. It is possible to realize a projection type liquid crystal device in which the display quality is improved by preventing the nonuniformity and the defect of the alignment caused by the PSA.
본 실시예의 반사형 액정 라이트 밸브의 칫수는 실리콘 기판(2)의 거리 A는 종횡으로 약 20~35mm의 정방형 형상이고, 화소 어레이 영역(4)의 거리 B는 약 15~30mm의 거의 장방형 형상이고 예를 들자면 1600행 1280열의 매트릭스 형상으로 화소가 형성되어져 있다. 각 띠형상 스페이서이 두께 D, F, H는 약10㎛, 그들의 높이 I는 약 3.2㎛, 스페이서의 간격 C, E, G는 약 10㎛이고, 셀 갭 J는 3㎛이다.The dimension of the reflective liquid crystal light valve of this embodiment is that the distance A of the silicon substrate 2 is a square shape of about 20 to 35 mm in length and width, and the distance B of the pixel array region 4 is a substantially rectangular shape of about 15 to 30 mm. For example, pixels are formed in a matrix form of 1600 rows and 1280 columns. The thickness D, F and H of each strip | belt-shaped spacer is about 10 micrometers, their height I is about 3.2 micrometers, the space | intervals C, E, and G of the spacer are about 10 micrometers, and cell gap J is 3 micrometers.
본 실시예의 반사형 액정 라이트 밸브의 1화소의 구조를 제3도를 사용해서 설명한다.The structure of one pixel of the reflective liquid crystal light valve of this embodiment will be described using FIG.
실리콘 기판(100)위에 상세한 도시를 생략한 트랜지스터(104)가 형성되어 있다. 실리콘 기판(100) 및 트랜지스터(104)위에 두께 약 2㎛의 실리콘 산화막(102)이 형성되고 실리콘 산화막(102)위에는 광 흡수층(106)이 형성되어 있다. 광흡수층(100) 위에 두께 5000Å의 실리콘 질화막(108)이 형성되고 그 위에 Aℓ로 형성되는 두께 1500Å의 광반사막(112)이 형성 되어 있다.A transistor 104, not shown in detail, is formed on the silicon substrate 100. A silicon oxide film 102 having a thickness of about 2 μm is formed on the silicon substrate 100 and the transistor 104, and a light absorbing layer 106 is formed on the silicon oxide film 102. A 5000 nm thick silicon nitride film 108 is formed on the light absorption layer 100, and a 1500 nm thick light reflective film 112 is formed thereon.
광 반사막(112)은 실리콘 산화막(102), 실리콘 질화막(108)에 형성된 관통홀에 매립된 텅스텐(W)의 스터드(110)에 의해 트랜지스터(104)의 소스 전극(도시 아니함)에 접속되어서 액정을 구동하는 표시 전극으로서도 기능을 하도록 되어 있다.The light reflecting film 112 is connected to a source electrode (not shown) of the transistor 104 by a stud 110 of tungsten (W) embedded in a through hole formed in the silicon oxide film 102 and the silicon nitride film 108. It also functions as a display electrode for driving the.
1개의 광반사막(112)에서 1개의 표시화소의 부화소가 구성된다. 인접한 광 반사막(112) 사이(거리 약 1.7㎛)에는 Aℓ층이 형성되어 있지 아니하고, 따라서 광을 반사시키지 않는 차광영역인 블랙 매트릭스(118)로 되어 있다.In one light reflection film 112, a subpixel of one display pixel is formed. The Al layer is not formed between the adjacent light reflecting films 112 (a distance of about 1.7 mu m), and thus the black matrix 118 is a light shielding region that does not reflect light.
대향 기판으로서 유리 보호 기판(116)이 형성되고 유리 보호 기판(116)이 광반사막쪽에는 전체면에 대향 전극(114)이 형성되어 있다. 광 반사막(112)과 대향 전극(114)사이는 소정의 셀 갭으로 유지되고 그 사이에 액정이 봉입되어서 액정층(120)으로 되어 있다.The glass protection substrate 116 is formed as an opposing board | substrate, and the opposing electrode 114 is formed in the whole surface in the light reflection film side of the glass protection board 116. As shown in FIG. The light reflecting film 112 and the counter electrode 114 are maintained in a predetermined cell gap, and the liquid crystal is sealed therebetween to form the liquid crystal layer 120.
트랜지스터(104)는 소스 전극외에 데이터선에 접속된 드레인 전극 및 주사선에 접속된 게이트 전극(이상, 도시를 생략)이 형성된 FET(전계효과형 트랜지스터)이고, 게이트의 온 상태에서 데이터선에 인가된 전압을 표시 전극인 광반사막(112)에 인가하는 스위칭 소자로서 기능을 한다.The transistor 104 is a FET (field effect transistor) in which a drain electrode connected to a data line and a gate electrode (not shown) are formed in addition to the source electrode, and is applied to the data line in the on state of the gate. It functions as a switching element which applies a voltage to the light reflection film 112 which is a display electrode.
트랜지스터(104)의 온(on)시에 표시 전극인 광반사막(112)과 대향 전극(114) 사이에 인가되는 전압에 의해 액정 분자(122)의 방향을 변화시켜서 광의 투과율을 변화시키므로써 유리 보호기판(116)쪽으로 입사한 광을 광반사막(112)까지 투과시키고 반사시켜서 유리 보호 기판(116)에서 재출사시키거나 혹은 투과시키지 아니하도록 하여 표시를 한다. 본 도면에 있어서도 배향막은 도시를 생략하였다.Glass protection by changing the transmittance of light by changing the direction of the liquid crystal molecules 122 by the voltage applied between the light reflection film 112 and the counter electrode 114 which are display electrodes when the transistor 104 is on. The light incident on the substrate 116 is transmitted to the light reflection film 112 and reflected to display the light so as not to be re-emitted or transmitted from the glass protective substrate 116. Also in this figure, the alignment film is not shown.
다음에, 본 실시예에 따른 반사형 액정 라이트 밸브를 사용한 투사형 액정 표시 장치의 개략을 제4도를 사용해서 설명을 한다.Next, the outline of the projection type liquid crystal display device using the reflective liquid crystal light valve according to the present embodiment will be described using FIG.
광원(42)에서 출사한 직선 편광한 광은 편광 비임 스플리터(44)에서 반사되어 색분리 프리즘(46)에 입사되고 여기에서 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 3원색으로 분리되어 적색(R), 녹색(G), 청색(B)용의 반사형 액정 라이트 밸브(48, 50, 52)에 각각 입사된다. 각 반사형 액정 라이트 밸브에서 각 부화소에 대한 휘도 변조가 행해진 광은 반사해서 다시 색분리 프리즘(46)에 입사되고 원편광과는 90도 어긋나 직선편광의 광으로 되어 편광 비임 스플리터(44)에 입사된다.The linearly polarized light emitted from the light source 42 is reflected by the polarization beam splitter 44 and incident on the color separation prism 46, where the three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) are used. They are separated and incident on the reflective liquid crystal light valves 48, 50, and 52 for red (R), green (G), and blue (B), respectively. In each reflective liquid crystal light valve, the light subjected to the luminance modulation for each sub-pixel is reflected and incident on the color separation prism 46 again, shifted by 90 degrees from the circularly polarized light, and becomes linearly polarized light to the polarizing beam splitter 44. Incident.
반사형 액정 라이트 밸브(48, 50, 52)로부터의 반사광은 편광 비임 스플리터(44)를 통과해서 투영 렌즈(54)에 입사되고 확대 되어서 스크린(56)에 투영된다.Reflected light from the reflective liquid crystal light valves 48, 50, 52 passes through the polarizing beam splitter 44, enters the projection lens 54, is enlarged, and is projected onto the screen 56.
다음에, 본 실시예의 반사형 액정 라이트 밸브의 제조 방법을 제5(a)도 내지 제8(c)도를 사용해서 설명한다.Next, the manufacturing method of the reflection type liquid crystal light valve of this Example is demonstrated using FIG. 5 (a)-FIG. 8 (c).
본 실시예의 반사형 액정 라이트 밸브는 화소 어레이 영역(4)의 외주위에 형성된 수지제의 띠형상 스페이서(6~12)에 특징이 있고 그 밖의 구조는 원칙적으로서 종래의 제조 방법에 의해 제조되므로 띠형상 스페이서(6~12)의 제조 방법에 대해서 상술하기로 하고 다른 부분의 제조 방법의 설명은 생략한다.The reflective liquid crystal light valve of the present embodiment is characterized by the resin-shaped spacers 6-12 formed in the outer periphery of the pixel array region 4, and the other structure is, in principle, manufactured by a conventional manufacturing method. The manufacturing method of the spacers 6-12 is explained in full detail, and description of the manufacturing method of another part is abbreviate | omitted.
먼저, 띠형상 스페이서(6~12)의 형성 재료는 감광성과 접착성을 갖는 수지이다. 이 감광성과 접착성을 갖춘 수지는 네거(nega)형 포토레지스트 재료에 경화재를 일정한 비율로 혼합한 것을 사용한다. 예를 들면(이것에 한정되지 아니하나)도쿄오오가 제품 TPAR N-25 MB(주제)와 TPAR-경화제를 용제로서 30.6 : 6 으로 혼합한 수지등이 있다(참고문헌: K. Matsui, K. Utsumi, H. Ohkubo and C. Sugitani,“Resin and Flexible Metal Bumps for Chip-On-Glass Technology,”43rd Electronic Components and Technology Conference, pp. 205-210. Orlando, Florida, June, 1993). 상기한 참고문헌에서는 감광성과 접착성을 가진 수지가 전극 간격 수십 마크론 대응의 액정 표시 장치의 구동칩과 투명 도전막으로 배선된 액정 표시 장치의 유리 기판을 직접 접속하는 칩·온·그라스(COG: Chip On Glass)장착 기술에 사용되고 그것의 뛰어난 감광성과 접착성이 활용되고 있다.First, the forming material of the strip | belt-shaped spacers 6-12 is resin which has photosensitivity and adhesiveness. This resin with photosensitivity and adhesiveness uses what mixed the hardening | curing material in a fixed ratio with the nega type photoresist material. For example, but not limited to this, there is a resin obtained by Tokyo O. TPAR N-25 MB (topic) and TPAR-curing agent as a solvent at 30.6: 6 (Ref. K. Matsui, K.). Utsumi, H. Ohkubo and C. Sugitani, “Resin and Flexible Metal Bumps for Chip-On-Glass Technology,” 43rd Electronic Components and Technology Conference, pp. 205-210. Orlando, Florida, June, 1993). In the above-mentioned reference, a chip-on-glass (COG :) in which a resin having photosensitivity and adhesiveness directly connects a driving chip of a liquid crystal display device having an electrode gap of tens of macrons and a glass substrate of a liquid crystal display device wired with a transparent conductive film is used. Chip On Glass) technology and its excellent photosensitivity and adhesion.
일반적으로 감광성 접착 수지는 광조사나 가열의 조건에 따라 점착 상태에서 완전한 접착 경화 상태까지 각종의 상태를 취할 수 있는 이점이 있다. 이 특징을 활용하면 접착 공정을 반경화 상태의 프리큐어(precure)접착과 완전 경화의 포스트큐어(postcure)접착의 2단계로 구별되므로 리워크(rework)나 리페어(repair)가 가능해진다. 감광성막의 리워크에서는 그 두께 제어만이지만, 접착성이 가변이므로, 가설치(temporary bonding)후 리워크/리페어가 활용되어 고정밀도의 셀 갭 제어가 실현될 수 있다.In general, the photosensitive adhesive resin has an advantage that it can take a variety of conditions from the adhesive state to the complete adhesive curing state depending on the conditions of light irradiation or heating. Utilizing this feature, the bonding process can be divided into two stages: semi-cured precure bonding and fully cured postcure bonding, thereby enabling rework or repair. In the rework of the photosensitive film, only its thickness is controlled, but since the adhesiveness is variable, high precision cell gap control can be realized by utilizing rework / repair after temporary bonding.
다음에, 상술한 수지 재료를 실리콘 기판위에 형성하여 유리 기판과 접착하는 공정을 설명한다.Next, the process of forming the above-mentioned resin material on a silicon substrate and adhering to a glass substrate is demonstrated.
먼저, 주재(main component)와 경화제(hardening agent)를 일정한 비율로 혼합한 조액(예를 들자면 도쿄오오가 제 TPAR N-25 MB(주제)와 TPAR-경화제를 용제로서 30.6 : 6으로 혼합한 수지)을 스핀너 법으로서 실리콘 기판위에 매분 1500회전으로 막두께 3.0㎛로 도포한다. 다음으로, 이 실리콘 기판을 핫 플레이트(hot plate)위에서 90℃, 3분간 프리베이크한(pre-baked)후 미러 프로젝션(mirror projection)에 의해 노광량 75~150mJ/㎠로 노광한다. 노광후 현상액(5% 트리에타놀아민)을 사용 25℃에서 침지 요동법(immersion and agitation)으로 50초간 현상해서 패터닝하고 희망하는 스페이서를 형성한다.First, a crude liquid in which a main component and a hardening agent are mixed at a constant ratio (for example, Tokyo O is a resin obtained by mixing TPAR N-25 MB (topic) and TPAR-curing agent as a solvent at 30.6: 6). ) Is applied onto the silicon substrate at a film thickness of 3.0 mu m at 1500 revolutions per minute by the spinner method. Next, the silicon substrate is prebaked at 90 ° C. for 3 minutes on a hot plate, and then exposed to an exposure dose of 75 to 150 mJ / cm 2 by mirror projection. After exposure, the developer (5% triethanolamine) is developed at 25 ° C. by immersion and agitation for 50 seconds to pattern and form a desired spacer.
핫프레이트(hot plate)에서 80℃로 2분간 가열후, 1Kg, 30분의 조건으로 실리콘 기판에 형성된 스페이서와 유리 기판을 가압 접착한다. 다음에, 필요에 따라 핫플레이트에서 150℃, 30분의 가열 혹은 자외선(UV)조사의 경우는 2-3J/㎠으로 조사를 행하고 포스트베이크(post-baking)를 행한다.After heating at 80 ° C. for 2 minutes on a hot plate, the spacer formed on the silicon substrate and the glass substrate were press-bonded under conditions of 1 Kg and 30 minutes. Next, if necessary, the film is irradiated at a temperature of 150 ° C. for 30 minutes or in the case of ultraviolet (UV) irradiation at 2-3 J / cm 2, followed by post-baking.
상기 공정 조건으로 형성한 띠형상의 스페이서를 제5(a)도 내지 제6(c)도에 도시한다. 형성한 복수의 병렬의 스페이서의 폭 및 간격(핏치)는 10㎛이고, 스페이서이 두께는 3㎛이다.The strip | belt-shaped spacer formed on the said process conditions is shown to FIG. 5 (a)-6 (c). The width | variety and space | interval (pitch) of the formed parallel spacer are 10 micrometers, and the spacer is 3 micrometers in thickness.
노광 에너지를 바꾸므로서 띠형상 스페이서의 벽의 기울기를 바꿀수가 있다. 제5(a)도는 노광량을 75mJ/㎠로서 노광한 스페이서의 전자 현미경(SEM) 사진이고 제5(b)도는 그것의 확대 사진이다. 제6(a)도는 노광량을 100mJ/㎠로서 노광한 스페이서의 전자 현미경(SEM)사진이고, 제6(b)도는 그 확대 사진이다. 이들과 같은 노광량을 크게 하면 상대적으로 벽의 기울기를 급하게 할 수가 있다.The inclination of the wall of the strip-shaped spacer can be changed by changing the exposure energy. FIG. 5 (a) is an electron micrograph (SEM) photograph of the spacer which exposed the exposure amount as 75 mJ / cm <2>, and FIG. 5 (b) is an enlarged photograph thereof. 6 (a) is an electron micrograph (SEM) photograph of the spacer which exposed the exposure amount as 100mJ / cm <2>, and FIG. 6 (b) is the enlarged photograph. Increasing such exposure amounts can make the inclination of the wall relatively rapid.
제7(a), 제7(b) 및 제7(c)도는 실리콘 기판 위에 형성한 띠형 스페이서의 예이다. 이들의 띠형상 스페이서를 실리콘 기판 위에 형성한 후, 띠형상 스페이서와 대향 유리 기판을 가압 가열해서 접착시킨 SEM사진을 제8도에 도시한다. 제8(a)도, 제8(b)도, 제8(c)도의 순으로 확대해서 도시하고 있다.7 (a), 7 (b) and 7 (c) are examples of the band spacers formed on the silicon substrate. After forming these strip | belt-shaped spacers on a silicon substrate, the SEM photograph which bonded and bonded the strip | belt-shaped spacer and the opposing glass substrate by pressure is shown in FIG. The 8th (a), the 8th (b), and the 8th (c) figure are expanded and shown in order.
이와 같이해서 화소 어레이 영역(4) 외주위에 다수의 띠형상 스페이서를 병렬로 설치할 수가 있다. 감광성을 이용해서 희망하는 패턴을 자유롭게 형성할 수 있음과 동시에 접착성을 이용해서 어떤 열이라도 스페이서를 설치할 수 있으므로 충분한 기계적인 강도를 얻을 수가 있다. 상술한 띠형상 스페이서의 경우, 스페이서1열의 접착 강도는 0.5MPa(5Kgf/㎠)였었다. 또한 형성된 셀 갭의 면내의 분산은 9㎛±3%(900Å)로 되고, 유리의 두께와 총면적에 의존하는 유리의 느러짐 등을 회피해서 일정한 셀 갭을 얻으며 고정밀도로 셀 갭 제어를 실현할 수 있었다.In this manner, a plurality of strip-shaped spacers can be provided in parallel around the outer periphery of the pixel array region 4. The desired pattern can be freely formed using photosensitivity and the spacer can be provided in any heat using adhesiveness, so that sufficient mechanical strength can be obtained. In the case of the band-shaped spacer described above, the adhesive strength of the spacer 1 row was 0.5 MPa (5 Kgf / cm 2). In addition, the in-plane dispersion of the formed cell gap was 9 µm ± 3% (900 µs), and the cell gap control was achieved with high accuracy by avoiding the slowing down of the glass depending on the thickness and the total area of the glass. .
스페이서의 접착 강도는 가열 온도를 50℃~160℃의 범위에서, 또한 가압압력을 0.4Kg/㎠으로부터 5.5Kg/㎠의 범위로 바꿈으로써 혹은 자외선을 2J/㎠이상 조사함으로써 0.1~1.5MPa의 범위에서 변화시킬 수가 있다.The adhesive strength of the spacer is in the range of 0.1 to 1.5 MPa by changing the heating temperature in the range of 50 ° C. to 160 ° C., and by changing the pressurization pressure in the range of 0.4 Kg / cm 2 to 5.5 Kg / cm 2 or by irradiating ultraviolet rays at 2J / cm 2 or more. You can change from
이상의 예에 있어서는, 예를 들면 스페이서의 핏치를 10㎛로 하였으나 이들의 값은 마스크 패턴을 바꿈으로써 자유롭게 변경할 수가 있다.In the above example, the pitch of the spacer is set to 10 µm, for example, but these values can be freely changed by changing the mask pattern.
이와 같이 본 실시예에 의하면 수지 박막은 포토레지스트의 처리와 같이 그것의 두께 및 기판면내의 균일성을 높은 정밀도로 용이하게 처리할 수 있으므로 극히 고정밀도의 셀 갭의 제어가 가능해진다.As described above, according to the present embodiment, the resin thin film can be easily processed with high precision and its thickness and in-plane uniformity as in the processing of the photoresist, thereby making it possible to control the cell gap with extremely high precision.
이 수지 박막은 강한 접착성이 있으므로 바탕 물질은 실리콘 산화막 등의 절연막에 한정되지 아니하고 금속이나, 투명 전극으로서 사용되는 ITO(인듐·틴·옥사이드)또는 유리라도 좋으며, 어레이 기판쪽이나 대향 기판쪽의 어느 것에도 형성할 수가 있다.Since the resin thin film has strong adhesiveness, the base material is not limited to an insulating film such as a silicon oxide film, but may be a metal, ITO (indium tin oxide) or glass used as a transparent electrode, and either the array substrate side or the opposite substrate side may be used. It can also be formed.
또한, 이 띠형상 스페이서를 화소 어레이의 외측 주변에 병렬로 설치하므로써 충분한 기계적인 강도가 확보되므로 화소 어레이 위에는 스페이서가 없도록 하여도 고정밀도의 셀 갭 제어가 가능해진다. 따라서, 화소 위의 스페이서에 기인하는 액정 배향의 흐트러짐을 제거할 수 있으므로 종래의 기둥 형상 스페이서에 기인하는 문제도 해결할 수 있게 된다.In addition, since the band spacers are provided in parallel around the outer side of the pixel array, sufficient mechanical strength is ensured, so that high-precision cell gap control is possible even without the spacers on the pixel array. Therefore, since the disturbance of the liquid-crystal orientation resulting from the spacer on a pixel can be eliminated, the problem resulting from the conventional columnar spacer can also be solved.
본 실시예에 따른 띠형상 스페이서의 제조방법의 특징을 요약하면, 폭과 두께가 미크론 정도에서, 그것의 1/10이하의 가공 정밀도로 가공제어할 수 없으며 안된다고 하는 요청을 포토리소그래피 프로세스에 의한 보유되지 아니하면 아니된다는 요청을 스페이서에 접착성을 갖도록 하므로써 해결한 점이다. 이를 위해 감광성과 접착성을 동시에 갖는 수지를 스페이서 형성 재료로서 채용하고, 다시 접착 강도를 높이기 위해 띠형상이 패턴으로 한 스페이서를 다수 병렬로 화소 어레이 영역 주변에 설치한 점에 특징이 있다.Summarizing the features of the manufacturing method of the strip-shaped spacer according to the present embodiment, the photolithography process holds a request that the processing and control cannot be performed with a processing precision of less than 1/10 of its width and thickness in the order of microns. This problem was solved by making the spacer adhesive. To this end, a resin having both photosensitivity and adhesiveness is employed as a spacer forming material, and in order to increase the adhesive strength, a plurality of spacers having a band-like pattern are provided in parallel around the pixel array region.
본 발명은 상기한 실시예에 한하지 아니하고 각종의 변형이 가능하다.The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible.
예를 들자면 상기한 실시예에 있어서는 투사형 액정 장치에 사용되는 Si-LCD의 반사형 액정 라이트 밸브에 본 발명을 적용하였으나 다른 액정 표시 장치 예를 들면 투사형 액정 라이트 밸브, 혹은 유리 기판 위에 화소 영역을 형성한 액정 표시 장치에도 본 발명은 물론 적용할 수가 있다.For example, in the above-described embodiment, the present invention is applied to the reflective liquid crystal light valve of Si-LCD used in the projection liquid crystal device, but other liquid crystal display devices such as the projection liquid crystal light valve or the pixel region are formed on the glass substrate. The present invention can of course also be applied to one liquid crystal display device.
또한 상기한 스페이서의 제조 방법을 사용해서 화소 어레이 영역(4)내의 블랙 매트릭스의 영역 위에 이 블랙 매트릭스의 폭보다 좁은 폭으로 띠형상 스페이서를 형성할 수도 있다. 이 경우는 상기한 실시예에서 얻어지는 효과가 감소되나 종래의 스페이서와 비교하면 표시 품질을 한층 더 개선할 수 있다.In addition, a band-shaped spacer can be formed in a width narrower than the width of the black matrix on the area of the black matrix in the pixel array region 4 using the above-described spacer manufacturing method. In this case, the effect obtained in the above embodiment is reduced, but the display quality can be further improved as compared with the conventional spacer.
[발명의 효과][Effects of the Invention]
이상과 같이 본 발명에 의하면 셀 갭 정밀도 및 그의 기판 표면들 사이의 균일성을 현저히 향상시킨 액정 표시 장치를 실현할 수 있다.As mentioned above, according to this invention, the liquid crystal display device which remarkably improved the cell gap precision and the uniformity between the board | substrate surfaces can be implement | achieved.
또한 본 발명의 반도체 장치의 제조 방법에 의해 셀 갭을 용이하게 제어할 수가 있게 된다.Moreover, the cell gap can be easily controlled by the manufacturing method of the semiconductor device of this invention.
Claims (4)
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KR1019960010901A KR100242481B1 (en) | 1995-04-26 | 1996-04-12 | Liquid crystal display device |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR100242481B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4901134B2 (en) * | 2005-06-03 | 2012-03-21 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56117215A (en) * | 1980-02-21 | 1981-09-14 | Casio Comput Co Ltd | Manufacture of cell container |
JPS57171319A (en) * | 1981-04-15 | 1982-10-21 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display element |
-
1996
- 1996-04-12 KR KR1019960010901A patent/KR100242481B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56117215A (en) * | 1980-02-21 | 1981-09-14 | Casio Comput Co Ltd | Manufacture of cell container |
JPS57171319A (en) * | 1981-04-15 | 1982-10-21 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display element |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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KR960038462A (en) | 1996-11-21 |
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