KR100234061B1 - An electron gun for color cathode ray tube - Google Patents
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Abstract
본 발명은 칼라수상관용 전자총에 관한 것으로, 특히 대형 TV 혹은 고정세도 산업용 모니터에 사용되는 전자총의 구조중 전자빔의 편향량에 따른 비점수차를 보정함으로서 화면 주변부에서의 해상도를 향상시킬 수 있는 전자총 구조를 제공하는데 목적이 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron gun for a color receiver, and in particular, an electron gun structure capable of improving the resolution at the periphery of a screen by correcting astigmatism according to the deflection amount of an electron beam in the structure of an electron gun used for a large TV or a high-definition industrial monitor. The purpose is to provide.
이를 실현하기 위하여 본 발명은 제 2 집속전극에 부착된 보정전극의 중앙 전자빔 통과공 상하에 형성되어 있는 수평 평판전극의 높이를 외측 전자빔 통과공 상하에 형성된 수평 평판전극의 높이보다 높게 구성시키는 등의 전극 구성을 제공한 것이다.In order to achieve this, the present invention is configured such that the height of the horizontal plate electrode formed above and below the center electron beam through hole of the correction electrode attached to the second focusing electrode is higher than the height of the horizontal plate electrode formed above and below the outside electron beam through hole. An electrode configuration is provided.
Description
본 발명은 칼라수상관에 관한 것으로서, 특히 음극에서 발생된 전자를 집속 및 가속시켜 스크린상의 형광체에 전자빔이 랜딩되도록 하는 전자총 내부의 전극구조에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
일반적으로 칼라수상관은 도 1 에 도시한 바와 같이 내측면에 형광면(3a)이 도포된 판넬(3)과, 상기 판넬(3)내측면에 결합되어 색선별 기능을 갖는 새도우 마스크(4)와, 상기 판넬(3)의 후단에 결합되는 펀넬(1)과, 상기 펀넬(1)의 네크부(5a)에 장착되는 전자총(6)과, 상기 전자총(6)에서 발사된 전자빔(9)을 편향시키는 편향요크(7)로 구성된다.In general, the color receiver includes a
그리고 도 2 에 나타낸 상기 전자총(6)의 내부구성은 삼극부와 주렌즈로 구성되는데, 삼극부는 히터(10)가 내장되어 전자를 방사하는 음극(11)과, 상기 음극(11)에서 방사되는 열전자를 제어 및 가속시키는 제어전극(12) 및 가속전극(13)으로 구성되고, 주렌즈부는 삼극부에서 생성된 전자빔(9)을 집속 및 최종 가속시키는 집속전극(14)과 양극(15)으로 구성된다.And the internal structure of the
여기서 제어전극(12)에는 접지되고, 가속전극(13)에는 500∼1000V, 양극(15)에는 25∼35KV의 고전압이 인가되고, 집속전극(14)에는 양극전압의 20∼30%의 중간전압이 인가된다.Here, the
이와같이 구성된 종래의 칼라수상관용 전자총은 각 전극에 소정의 전위가 인가됨에 따라 특히 집속전극(14)과 양극(15)의 전압차에 의해 정전렌즈가 형성되게 되어 삼극부에서 생성된 전자빔(9)이 형광면의 중앙에 집속되게 된다. 이때 형광면의 중앙에 집속된 전자빔을 화면 전영역으로 편향시키기 위해서는 펀넬(5)에 부착된 편향요크가 작용하게 된다. 통상 인라인형 전자총을 이용한 칼라 수상관에서는 적색, 녹색, 청색의 3개의 전자빔이 수평으로 나란하게 배열되게 때문에 3전자빔을 형광면의 한곳에 수렴시키기 위하여 편향요크(7)는 비균일자계를 이용한 자기집중형(Self-Convergence)을 적용하고 있다.In the conventional color water tube electron gun configured as described above, as a predetermined potential is applied to each electrode, an electrostatic lens is formed by a voltage difference between the
상기 자기 집중형을 적용한 편향요크에서 생성되는 자계의 분포는 도 3 의 (가)(나)에 도시된 바와같이 수평편향자계는 핀쿠션형으로 하고, 수직 편향 자계는 배럴(barrel)형으로 함으로서 형광면에서의 집중의 어긋남을 방지하게 된다.As shown in (a) of FIG. 3, the magnetic field generated in the deflection yoke to which the self-focusing type is applied has a horizontal deflection magnetic field as a pincushion type and a vertical deflection magnetic field as a barrel type, thereby forming a fluorescent surface. This prevents misalignment in the.
그러나 도 3 의 (다)(라)에 도시된 바와같이 상기 자계는 2극 성분과 4극성분으로 분리하여 설명할 수 있는데, 2극성분은 전자빔을 수평 및 수직방향으로 편향시키는 역할을 하고, 4극 성분은 전자빔을 수직방향으로 집속하고 수평방향으로는 발산시키는 역할을 함으로써 비점수차를 발생시켜 전자빔 스포트를 왜곡시킨다.However, as shown in FIG. 3C, the magnetic field can be described by dividing the bipolar component and the quadrupole component. The bipolar component serves to deflect the electron beam in the horizontal and vertical directions. The quadrupole component focuses the electron beam in the vertical direction and diverges in the horizontal direction to generate astigmatism and distort the electron beam spot.
비록 균일에 가까운 자계라도 미세한 핀쿠션이나 배럴자계 성분 때문에 형광면 주변부에서는 전자빔이 현저한 비점수차를 받게 되어 빔 스포트가 왜곡된다. 도 4 의 (가)(나)에서는 이러한 전자빔 스포트의 왜곡현상을 더욱더 구체적으로 나타내고 있다. 도 4 에 의하면 화면 중앙부에서는 편향자계가 가해지지 않으므로 전자빔 스포트가 정확한 형상을 갖지만, 그 주변부에서는 수평방향으로 발산되고 수직방향으로 과집속되어 왜곡된 고밀도의 횡장형 코어(17)와 그 상하로 저밀도의 상퍼짐 현상인 헤이즈(haze)(18)가 발생됨으로서 특히 화면 주변부에서의 해상도 열화를 초래하게 된다. 이러한 문제점은 수상관이 대형일수록, 또는 편향각이 클수록 더욱더 커지게 된다.Even if the magnetic field is close to uniform, the fine spots and barrel magnetic components cause the electron beam to undergo significant astigmatism at the periphery of the fluorescent surface, thereby distorting the beam spot. In Fig. 4A, the distortion of the electron beam spot is shown in more detail. According to FIG. 4, the electron beam spot has an accurate shape because a deflection magnetic field is not applied at the center of the screen, but at the periphery thereof, a high-density
상기의 문제점을 개선하기 위하여 전자빔이 화면 주변부로 편향될 때 편향 신호에 동기하여 비점수차를 보정해주는 방법이 많이 채용되고 있는데, 그 보정수단으로는 집속전극을 2분할하여 제 1 집속전극(80)과 제 2 집속전극(90)으로 구성하고, 그 둘 사이에 4극자 전극을 설치하여 4극자렌즈를 형성시킴으로써 비점수차를 보정한다.In order to improve the above problems, a number of methods for correcting astigmatism in synchronism with a deflection signal when the electron beam is deflected to the periphery of the screen have been adopted. And the second focusing
종래의 실시예를 통한 비점수차의 보정수단들을 첨부도면을 참조하여 간략히 설명하면 다음과 같다.The averaging correction means of the conventional embodiment will be briefly described with reference to the accompanying drawings.
도 5 의 (가)에서 보는 것 처럼 종래의 전자총은 전자빔을 생성시키는 삼극부와 이 전자빔을 집속시키는 주렌즈를 가지며, 주렌즈를 형성하는 집속전극(14)은 2분할되어 있다. 제 1 집속전극(80)과 제 2 집속전극(90)으로 구성되며, 제 2 집속전극(90)은 양극(15)측에 대향되고 제 1 집속전극(80)은 제 2 집속전극(90)과 대향되도록 구성한다. 제 1 집속전극(80)에 수직이 수평보다 큰 장공(801,802,803)이 형성되어 있고, 특히 전자빔의 이동을 방지하기 위한 수단 즉, 외측 전자빔 통과공(801,803)의 외측에 수직격벽 전극(82)을 설치하였으며, 제 1 집속전극(80) 내부에는 3전자빔 통과공을 갖는 가이드인너전극(81)이 설치되었으며, 제 2 집속전극(90)에는 3전자빔 통과공(901,902,903)을 갖고 3전자빔 통과공 상하에는 제 1 집속 전극(80) 방향으로 수평평판전극(101,102,103)이 설치되어 제 1 집속전극(80) 내부로 삽입되거나 대향하고 있는 형태를 띠고 있다.As shown in Fig. 5A, the conventional electron gun has a tripolar portion for generating an electron beam and a main lens for focusing the electron beam, and the focusing
또 다른 종래의 구성은 도 5 의 (나)에서 처럼 전자빔을 생성시키는 삼극부와 이 전자빔을 집속시키는 주렌즈를 가지며, 주렌즈를 형성하는 집속전극(14)은 제 1 집속전극(80)과 제 2 집속전극(90)으로 2분할 되어 구성된다. 제 2 집속전극(90)은 양극(15)측에 대향되고 제 1 집속전극(80)은 제 2 집속전극(90)과 대향되도록 구성한다. 제 1 집속전극(80)에 수직이 수평보다 큰 장공이 형성되어 있고, 외측 전자빔 통과공의 외측에 수직격벽전극(82)을 설치하였으며, 제 2 집속전극(90)에는 원과 사각공의 조합으로 이루어진 키홀 형의 3전자빔 통과공(904,905,906)과 3전자빔 통과공의 상하방향에 수평평판전극(104,105,106)이 절곡되고 제 2 집속전극(90)에 연이어 형성되어, 제 1 집속전극(80) 방향으로 돌출되어 있다. 또한 제 1 집속전극 내부에는 제 1 집속전극을 지지할수 있는 가이드인너전극(81)이 형성되어져 있다.Another conventional configuration has a tripolar portion for generating an electron beam and a main lens for focusing the electron beam, as shown in FIG. 5 (b), and the focusing
주변부의 해상도를 향상시키기 위한 칼라수상관용 전자총은 삼극부에서 생성된 전자빔이 2분할된 집속전극(80)과 제 2 집속전극(90)을 통과하고 특히, 4극자 전극부(82,801∼806)와 제 2 집속전극 전극측의 4극자전극(101∼106)을 통과하여 주렌즈에서 집속되고 스크린에 상을 맺게된다. 특히 전자빔이 주변부로 편향될 때, 제 1 집속전극 전압(스테틱전압)은 일정하게 고정되어 동작하지만 제 2 집속전극 전압(다이나믹전압)은 전자빔의 편향량에 따라서 변한다. 즉, 4극자전극에 의해 4극자렌즈가 동작하게 된다.The color gun tube for improving the resolution of the peripheral portion passes through the focusing
일반적으로 브라운관이 대형화 되거나 편향각이 크면 클수록 제 2 집속전극 전압은 제 1 집속전극 전압보다 높게 걸리게 된다. 제 2 집속전극 전압은 TV 혹은 모니터의 회로에서 파라볼라파형으로 공급하며 보통 제 1 집속전극 전압보다 300V 에서 1000V 정도 높게 인가된다. 제 2 집속전극 전압이 인가되었을 때 제 1 집속전극 전압과 제 2 집속전극 전압의 차이로 인하여 4극자 렌즈가 동작하여 전자빔의 형태가 종장형으로 변화하게 되고 주렌즈를 통과하여 편향요크의 비균일 자계에 의해 발생된 주변부의 헤이즈를 개선하는 방향으로 작용하게 된다. 4극자 렌즈에 대한 설명은 다음과 같다.In general, the larger the CRT or the larger the deflection angle, the higher the second focusing electrode voltage becomes than the first focusing electrode voltage. The second focusing electrode voltage is supplied in a parabolic waveform from a circuit of a TV or a monitor, and is generally applied at 300V to 1000V higher than the first focusing electrode voltage. When the second focusing electrode voltage is applied, due to the difference between the first focusing electrode voltage and the second focusing electrode voltage, the quadrupole lens is operated to change the shape of the electron beam into an elongated shape and the non-uniformity of the deflection yoke through the main lens. It serves to improve the haze of the peripheral portion generated by the magnetic field. The description of the quadrupole lens is as follows.
도 6 의 (가)는 전자빔이 편향되지 않을 때, 즉 화면 중앙에서는 수평/수직 방향에서 거의 정확하게 집속되지만, 주변부로 전자빔이 편향되었을 때는 그렇지 않다. 도 6 의 (가)에서 점선으로 나타낸 것이 주변부로 편향될때의 편향요크에 의한 비점수차 및 빔 궤도를 나타낸 설명도이다. 편향요크는 전자빔을 수평방향으로 발산시키고 수직방향으로는 집속시키는 역할을 하여 전자빔이 주변부로 편향되었을 때에 수평방향에서는 거리차에 의한 오버-포커싱 성분과 편향요크에 의한 언더-포커싱 성분이 서로 상쇄되어 거의 정확한 집속상태를 나타내고 있으나, 수직방향에서는 거리차에 의한 오버-포커싱 성분과 편향요크의 수직방향의 오버-포커싱 성분이 중첩되어 심한 오버-포커싱 현상을 나타내므로 전자빔이 주변부로 편향되었을 때 전자빔의 수직방향에서의 상퍼짐 현상은 심하게 나타나 주변부 해상도 열화를 가져온다.6A shows that when the electron beam is not deflected, that is, when the electron beam is deflected to the periphery almost exactly in the horizontal / vertical direction at the screen center, this is not the case. 6A is an explanatory diagram showing astigmatism and beam trajectory caused by the deflection yoke when deflected to the periphery. The deflection yoke diverges the electron beam in the horizontal direction and focuses in the vertical direction. When the electron beam is deflected to the periphery, the over-focusing component due to the distance difference and the under-focusing component due to the deflection yoke cancel each other. Although the focusing state is almost accurate, in the vertical direction, the over-focusing component due to the distance difference and the over-focusing component in the vertical direction of the deflection yoke overlap and show severe over-focusing phenomenon. Therefore, when the electron beam is deflected to the periphery, The spreading phenomenon in the vertical direction is severe, resulting in degradation of the peripheral resolution.
도 6 의 (나)는 이러한 상퍼짐 현상을 개선하기 위하여 4극자 전극을 적용하였을 때의 설명도이다. 주렌즈의 집속력을 동일하게 한 상태에서 4극자에 의한 편향요크 비점수차를 보상한 상태를 나타내고 있다. 편향요크의 수평방향의 발산력 만큼 4극자 렌즈가 수평방향으로 집속시켜 주고, 편향요크의 수직방향의 집속량 만큼 4극자 렌즈가 수직방향으로 발산시켜 주도록 구성한다. 여기에 주렌즈 약화성분(즉, 다이나믹전압)이 필요하며 이 주렌즈 약화 성분은 도 6 의 (나)에서 처럼 수평/수직 방향에서 일치된 전자빔을 필요로 하는 주변부의 위치에 집속되도록 하는 역할을 한다. 위와 같은 적절한 4극자렌즈와 인가 다이나믹전압으로서 화면 주변부의 최적 집속력을 갖도록 할 수 있다.FIG. 6B is an explanatory diagram when a four-pole electrode is applied in order to improve such spreading phenomenon. The state where the deflection yoke astigmatism caused by the quadrupole is compensated for with the same focusing force of the main lens is shown. The four-pole lens focuses in the horizontal direction by the horizontal divergence of the deflection yoke, and the four-pole lens diverges in the vertical direction by the amount of focus in the vertical direction of the deflection yoke. Here, the main lens weakening component (ie, the dynamic voltage) is required, and this main lens weakening component serves to focus at the position of the periphery where the coincidence electron beam is required in the horizontal / vertical direction as shown in (b) of FIG. 6. do. With the appropriate quadrupole lens and the applied dynamic voltage as above, it is possible to have the optimum focusing force around the screen.
일반적으로 4극자 전극은 어느 하나의 모델에만 적용되는 것이 아니라 여러 가지 크기의 칼라수상관에 적용될 수 있다. 4극자 전극의 설계는 집속전압비에 따라 다르게 설계될 수 있다. 이와같이 집속전압비가 다른 모델에 적용하기 위해서 가장 간단하게 설계할 수 있는 방법은 제 1 집속전압 전극의 내부에 설치된 가이드 인너전극(81)의 깊이(d1,d2,d3)를 조정하면 가능하다. 집속 전극(14)에 인가되는 집속전압은 양극 전압의 20∼30%정도된다. 이 집속 전압비가 낮을 경우 4극자 전극의 ACTION은 약해도 되지만 집속 전압이 높은 경우에는 주렌즈가 약화되기 때문에 렌즈경이 커지게 된다. 그러므로 4극자 렌즈 ACTION이 둔감하게 작용한다. 둔감하게 작용한다는 것은 조립 오차에 둔감하다는 말도 되지만 4극자 렌즈 ACTION이 강해야 된다. 종래의 전자총을 집속 전극 전압비가 낮은 모델에 적용하기 위하여 가장 쉬운 방법인 가이드인너전극(81) 깊이를 깊이하면서 전자빔 화소의 크기를 측정하였더니 도 9 의 (나)와 같은 결과를 얻었다.In general, the quadrupole electrode is not only applied to any one model, but may be applied to color water tubes of various sizes. The design of the quadrupole electrode can be designed differently according to the focusing voltage ratio. In this way, the simplest design method for applying to models having different focusing voltage ratios is possible by adjusting the depths d 1 , d 2 , and d 3 of the guide
일반적으로 4극자 전극의 설계 목표는 첫째, 전자빔의 수평방향의 집속전압 즉, 제 1 집속전극(고정전압)에 인가되는 전압을 화면 전영역에서 동일하게 작용하고, 전자빔의 수직방향의 집속전압 즉, 제 2 집속전극에 인가되는 전압은 구동회로에서 파라볼릭(Parabolic) 파형과 동일하게 인가되도록 설계하면 된다. 물론 3전자빔인 R(170,173), G(171,174), B(170,173)의 동일한 비율로 증가하여야 한다.In general, the design goal of the quadrupole electrode is first, the horizontal focusing voltage of the electron beam, that is, the voltage applied to the first focusing electrode (fixed voltage) equally in the entire area of the screen, the vertical focusing voltage of the electron beam The voltage applied to the second focusing electrode may be designed to be applied in the same manner as the parabolic waveform in the driving circuit. Of course, it should increase at the same ratio of three electron beams R (170,173), G (171,174), and B (170,173).
그러나 상기의 가이드인너전극(81)의 깊이를 증가시키면 도 9 의 (나)와 같은 현상이 발생한다. 도 9 의 (나)는 화면의 코너부에서 가이드 인너전극의 깊이를 증가[도 5의 (가)의 d1,d2,d3, 도 5 의 (나)의 d4,d5,d6을 도 7의 (가)의 d11,d31, 도 7의 (나)의 d41,d61로 증가]시켜서 R(173),B(173)을 최적화 시켰을때의 현상이다. 이때, 중앙 전자빔(174)의 수평방향의 제 1 집속전극 전압(VS174)은 R(173),B(173)의 수평방향의 제 1 집속전극 전압(VS173) 대비 코너로 가면 갈수록 낮아진다. 물론 이때의 G 전자빔의 제 2 집속전극 전압(Vd174)는 R,B 보다 높아진다. 이러한 현상으로 인해서 도 9 의 (나)와 같이 G전자빔의 형상이 수평의 크기가 증가하여 R, B 대비 횡장화된 전자빔이 되는데, 이것은 주변부에서 해상도 열화를 초래하게되는 문제점이 있었다.However, when the depth of the guide
본 발명은 상기한 바와같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 발명된 것으로서, 제 2 집속전극에 부착된 보정전극의 중앙 전자빔 통과공 상하에 형성되어 있는 수평평판전극의 높이를 외측 전자빔 통과공 상하에 형성된 수평 평판전극의 높이보다 높게 구성함으로서, 전자빔의 편향량에 따른 비점수차를 보정하고 특히 화면 주변부에서의 해상도를 향상시키도록 하는데 목적이 있다.The present invention has been invented to solve the problems of the prior art as described above, the height of the horizontal plate electrode formed above and below the center electron beam through hole of the correction electrode attached to the second focusing electrode above and below the outside electron beam through hole. It is intended to correct the astigmatism according to the deflection amount of the electron beam and to improve the resolution at the periphery of the screen, by configuring the height of the formed horizontal flat electrode.
도 1 은 일반적인 칼라수상관의 단면도.1 is a cross-sectional view of a general color water pipe.
도 2 는 일반적인 전자총 전극의 구조도.2 is a structural diagram of a typical electron gun electrode.
도 3 은 종래 편향요크에서 생성되는 자계의 분포도.3 is a distribution diagram of a magnetic field generated in a conventional deflection yoke.
도 4 는 종래 전자빔 스포트의 왜곡현상을 나타낸 도면.4 is a view showing a distortion phenomenon of a conventional electron beam spot.
도 5 의 (가)(나)는 종래 전자총의 집속전극부 상세 구조를 나타낸 실시예도.Figure 5 (a) (b) is an embodiment showing a detailed structure of the focusing electrode portion of the conventional electron gun.
도 6 은 전자빔의 화면 집속상태를 나타낸 것으로서,6 shows a screen focusing state of an electron beam;
(가)는 4극자렌즈를 적용하지 않았을때의 비다이나믹 상태도.(A) is a non-dynamic state diagram when no 4-pole lens is applied.
(나)는 4극자렌즈를 적용하였을때의 다이나믹 상태도.(B) is dynamic diagram when applying 4-pole lens.
도 7 의 (가)(나)는 각각 본 발명이 적용된 전자총의 집속전극부 상세 구조도 및 다른 실시예도.Figure 7 (a) (b) is a detailed structural diagram and another embodiment of the focusing electrode unit of the electron gun to which the present invention is applied, respectively.
도 8 은 본 발명에 의한 가이드 인너전극의 실시예도.8 is an embodiment of a guide inner electrode according to the present invention.
도 9 의 (가)는 스크린 위치에 따른 집속전압의 분포 상태도.9A is a distribution state diagram of focusing voltages depending on screen positions;
(나)는 종래 종래 G 전자빔의 횡장화현상을 나타낸 상태도.(B) is a state diagram showing the lateralization phenomenon of the conventional G electron beam.
(다)는 본 발명에 의한 전자빔의 집속상태를 나타낸 상태도.(C) is a state diagram showing the focused state of the electron beam according to the present invention.
*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for the main parts of the drawing ***
6 : 전자총 9 : 전자빔6
10 : 히터 11 : 음극10 heater 11 cathode
12 : 제어전극 13 : 가속전극12
14 : 집속전극 15 : 양극14: focusing electrode 15: anode
80 : 제 1 집속전극 81 : 가이드인너전극80: first focusing electrode 81: guide inner electrode
82 : 수직평판전극 90 : 제 2 집속전극82: vertical flat electrode 90: second focusing electrode
100 : 보정전극100: correction electrode
101,102,103,104,105,106 : 수평평판전극101,102,103,104,105,106: horizontal flat electrodes
801,802,803 : 장공801,802,803
901,902,903,904,905,906 : 전자빔 통과공901,902,903,904,905,906: electron beam through hole
본 발명을 도 7 을 참조하여 이하에서 상세히 설명한다.The present invention is described in detail below with reference to FIG.
중앙 전자빔 즉, G 전자빔의 해상도 열화현상은 가이드 인너깊이가 깊어지면서 G 전자빔에 작용하는 4극자 전극의 힘이 R,B 에 비해 약하게 작용하기 때문에 발생되는 것으로서 본 발명에서는 G전자빔의 작용이 강하게 될 수 있는 방안을 찾아야 한다.The resolution deterioration of the central electron beam, that is, the G electron beam, is caused by the fact that the force of the quadrupole electrode acting on the G electron beam is weaker than that of R and B as the guide inner depth becomes deeper. Find a way to do it.
먼저 구성을 살펴보면 도 7의 (가)에서와 같이 제 2 집속전극(90)에 부착된 보정전극(100)의 중앙 전자빔 통과공(902) 상하에 형성되어 있는 수평평판 전극(102)의 높이(L21)를 외측 전자빔(R,B) 통과공(901,903) 상하에 형성된 수평 평판전극(101,103)의 높이(L11,L31)보다 높게 구성하였다. 이때 가이드인너전극(81)과 수평보정전극의 길이는 종래(d1,d2,d3) 대비 d11,d31로 깊어졌으며 d11,d31〉d21인 상태가 된다. 바꾸어 말하면 제 2 집속전극에 부착된 보정전극의 중앙 전자빔 통과공 상하부의 수평 평판보정전극의 높이(L21)가 외측 전자빔 통과공 상하부의 수평평판보정전극의 높이(L11,L13)보다 크다. 즉 L11,L21〉L21인 관계가 된다First, as shown in FIG. 7A, the height of the horizontal
일반적으로 4극자 전극 주요 요인별 민감도를 보면,In general, if you look at the sensitivity of the four-pole electrode main factors,
상기의 데이터는 1mm당 요인별 치수가 증가하는 방향으로 변화시킬때의 현상이다. 상기에서 중앙 전자빔의 수평평판전극의 높이가 높아지므로 수평으로 집속력이 강해지고 수직으로 발산력이 증가되어 4극자 렌즈힘이 강해졌다. 그리고 가이드 인너깊이가 가까워진 결과가 되므로 수평 발산력이 약해지고(즉, 4극자렌즈 힘이 강해짐) 수직방향의 집속력이 약해져 2가지 요소 즉, 수평평판전극 높이와 가이드인너 깊이가 종래 대비 작아짐으로 4극자 렌즈는 강해진다. 이로 인해서 도 9의 (다)의 전자빔을 실현할 수 있다.The above data is a phenomenon when changing in the direction of increasing the dimension of each factor per mm. Since the height of the horizontal flat electrode of the central electron beam is increased, the focusing force is increased horizontally and the diverging force is increased vertically, thereby increasing the four-pole lens force. In addition, as the result of the guide inner depth becomes closer, the horizontal divergence force becomes weaker (that is, the four-pole lens force becomes stronger), and the focusing force in the vertical direction becomes weaker. The dipole lens becomes stronger. As a result, the electron beam shown in FIG. 9C can be realized.
도 7 의 (나)는 상기한 바와같이 도 7의 (가)와 동일한 설명으로 수평평판전극의 높이가 외측 전자빔 통과공 상하의 수평평판 전극의 높이보다 높게 구성하여 해상도를 향상시켰다.As shown in (a) of FIG. 7, the height of the horizontal plate electrode is higher than the height of the horizontal plate electrode above and below the outer electron beam through hole, thereby improving the resolution.
도 8 은 가이드 인너(81)의 중앙 전자빔 통과공(814,815)을 수직이 수평보다 크게 형성하여 중장 전자빔이 수평으로 집속력을 수직으로 발산력을 더욱더 받도록 하여 중앙 전자빔을 외측 전자빔과 동일하게 되도록 하였다. 중앙 전자빔 통과공의 형상이 도 8 의 (가)와 같이 원과 수직사각형의 조합으로 키홀 형의 전자빔 통과공을 형성하였다. 도 8 의 (나)에서 처럼 중앙 전자빔 통과공의 형상을 수직이 수평보다 큰 타원형의 공경으로 구성하였다. 도 8 의 (다)에서는 중앙 전자빔 통과공의 형상을 수직이 수평보다 직사각형으로 구성한 것이다.FIG. 8 shows that the central electron
이상 설명한 바와같이 본 발명의 전자총구조는 전자빔의 편향량에 따른 비점수차를 보정가능하도록 함으로서 특히 화면 주변부에서의 해상도를 향상시키는 효과가 있다.As described above, the electron gun structure of the present invention improves the resolution at the periphery of the screen by making it possible to correct astigmatism according to the deflection amount of the electron beam.
Claims (14)
Priority Applications (3)
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KR1019970007623A KR100234061B1 (en) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | An electron gun for color cathode ray tube |
US09/028,993 US6051920A (en) | 1997-02-28 | 1998-02-25 | Focusing electrode in electron gun for color cathode ray tube |
IDP980307A ID19981A (en) | 1997-02-28 | 1998-03-02 | ELECTRONIC FOCUSING IN ELECTRONIC RANGE FOR COLORED CATHED TUBE RAYS |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1019970007623A KR100234061B1 (en) | 1997-03-07 | 1997-03-07 | An electron gun for color cathode ray tube |
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Family
ID=19499009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019970007623A KR100234061B1 (en) | 1997-02-28 | 1997-03-07 | An electron gun for color cathode ray tube |
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-
1997
- 1997-03-07 KR KR1019970007623A patent/KR100234061B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR19980072699A (en) | 1998-11-05 |
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