KR100222330B1 - Dryer for metal thin plate - Google Patents
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Abstract
금속박판의 장척소재의 건조 시에, 장척소재의 주면에서의 금속염의 결정의 발생을 억제할 수 있도록 한다.When drying the elongated material of the thin metal sheet, it is possible to suppress the occurrence of crystals of the metal salt on the main surface of the elongated material.
건조장치(30)는, 긴쪽 방향으로 반송되는 면내기액이 부착되어 있는 장척소재(10)의 양주면을 건조시키는 장치로서, 희석장치(31)와, 제거장치(32)를 구비하고 있다. 희석장치(31)는 장척소재(10)에 접촉하여 대향 배치한 1쌍의 스폰지롤러(33)를 가지며, 장척소재(10)의 양 주면을 향하여 폭방향에 걸쳐 물을 공급하여 면내기액을 희석한다. 제거장치(32)는 희석장치(31)에서 반송방향 하류 측에 배치한 상하 1쌍의 에어나이프(50)를 가지며, 장척소재(10)의 양 주면의 잔류액을 불어날려 제거하는 것으로 장척소재(10)를 건조시킨다.The drying apparatus 30 is an apparatus for drying both main surfaces of the elongate material 10 to which the surface inside liquid conveyed in the longitudinal direction is attached, and is provided with the dilution apparatus 31 and the removal apparatus 32. As shown in FIG. The dilution apparatus 31 has a pair of sponge rollers 33 which are disposed in contact with the long material 10 so as to face each other. The dilution device 31 supplies water in the width direction toward both main surfaces of the long material 10 so that the surface liquid is discharged. Dilute. The removing device 32 has a pair of upper and lower air knives 50 arranged on the downstream side in the conveying direction of the dilution device 31, and blows away the residual liquids of both main surfaces of the long material 10 to remove the long material. (10) is dried.
Description
제1도는 본 발명의 한 실시예 및 다른 실시예가 채용한 에칭라인의 사시모식도이고,1 is a perspective view of an etching line employed in one embodiment and another embodiment of the present invention,
제2도는 본 발명의 한 실시예가 채용면을 낸 장치의 사시도이고,2 is a perspective view of an apparatus in which an embodiment of the present invention is provided,
제3도는 본 발명의 한 실시예의 측면모식도이고,3 is a schematic side view of an embodiment of the present invention,
제4도는 본 발명의 다른 실시예가 채용한 면을 낸 장치의 사시도이고,4 is a perspective view of a faced device employed by another embodiment of the present invention,
제5도는 본 발명의 다른 실시예의 측면모식도이다.5 is a schematic side view of another embodiment of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
10 : 장척소재 30 : 건조장치10: long material 30: drying device
31 : 희석장치 32 : 제거장치31 dilution device 32 removal device
33 : 스폰지롤러 35 : 물공급부33: sponge roller 35: water supply
36 : 물받이부 92 : 건조롤러36: drip tray 92: drying roller
47 : 진공펌프 50 : 에어나이프47: vacuum pump 50: air knife
본 발명은 건조장치, 특히 장척의 금속박판을 그 긴쪽 방향으로 반송시키면서 금속박판의 장척소재의 주면에 부착한 액체를 제거하여 금속박판을 건조시키는 금속박판의 건조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a drying apparatus, in particular a drying apparatus of a metal thin plate for drying a metal thin plate by removing a liquid attached to the main surface of the long material of the metal thin plate while conveying the long metal thin plate in the longitudinal direction thereof.
컬러 CRT용의 애퍼추어그릴 또는 새도우마스크에 형성되는 다수의 전자빔 투과용의 투공(透孔)은 장척대(長尺帶) 모양의 소재(이하 장척소재라 한다)를 그 길이 방향으로 반송하면서 이하의 공정을 거침으로써 형성된다.A large number of holes for electron beam transmission formed in the aperture grill or shadow mask for a color CRT are conveyed in the longitudinal direction of a long rod-shaped material (hereinafter referred to as a long material). It is formed by going through the process of.
니켈을 36함유하는 불변강재(invar 村)나 저탄소 알루미킬드강 등의 금속박판의 장척소재를 먼저 탈지하며 수세하여 정면(整面)한다. 다음에 장척소재의 양 주면에 수용성의 레지스트를 도포하여 두께가 수 ㎛레지스트막을 형성한다. 다음에 장척소재의 양 주면에 형성된 레지스트막의 표면에 형성하고자 하는 전자빔 통과용의 투공에 대응한 소정의 화상을 가지는 마스크재를 장척소재의 양주면에서 화상위치에 일치시켜 각각 밀착시켜 노광을 행한다. 이어, 노광 후의 레지스트막에 온수 등을 공급함으로써 현상을 행한다. 그후, 장척 소재를 무스크롬산의 용액 중에 침지시켜 다시 가열처리에 의해 레지스트막을 건조시켜 강화 시키는 버닝처리를 행한다. 버닝처리된 장척소재는 일단 롤러모양으로 감아 들여 에칭라인에 반송한다. 에칭라인에서는 에칭액인 염화 제2철 수용액을 내뿜는 에칭공정을 행하여 다수의 투공을 형성한다. 에칭공정을 끝내면 장척소재의 양주면에서 레지스트막 등을 박리하는 박막공정을 행한다.Nickel 36 Long-walled materials such as invar steel and low-carbon aluminized steels are first degreased and washed with water. Next, water-soluble resists are applied to both main surfaces of the elongate material to form a few μm thick resist film. Next, a mask material having a predetermined image corresponding to the hole for electron beam passage to be formed on the surface of the resist film formed on both main surfaces of the long material is matched to the image position on both main surfaces of the long material to be exposed in close contact with each other. Next, development is performed by supplying warm water or the like to the resist film after exposure. Thereafter, the long material is immersed in a solution of muscromic acid, followed by a burning process for drying and strengthening the resist film by heat treatment. The long material which has been burned is once wound in a roller shape and returned to the etching line. In the etching line, an etching process is performed in which the ferric chloride aqueous solution, which is an etching solution, is blown out to form a plurality of holes. After the etching step is completed, a thin film step of peeling the resist film or the like from both main surfaces of the long material is performed.
본래 레지스트막이 현상에 의해 제거되어 장척소재의 주면이 노출되어 있어야 할 면이며, 현상후의 장척소재의 에칭되어야 할 피에칭면에는, 극히 얇은 레지스트막이나 장척소재 금속의 산화막이 피착되어 있다. 이 산화막은 처리의 가열처리 시에 장척소재 금속의 조성분과 공기중의 산소가 결합함으로써 생긴다. 이와 같은 얇은 막이남겨진 채로 에칭을 행하면, 에칭처리가 불균일하게 된다.Originally, the resist film is removed by development and the main surface of the long material should be exposed. An extremely thin resist film or an oxide film of the long material metal is deposited on the etching target surface to be etched after the development. This oxide film is formed by the combination of a component of a long material metal and oxygen in the air during the heat treatment of the treatment. If etching is performed while such a thin film is left, the etching process becomes uneven.
그래서, 장척소재를 균일하게 에칭하기 위하여 에칭에 앞서 에칭되어야 할 장척소재의 피에칭면에 피착한 레지스트막 또는 산화막을 제거하는 면내기 처리가 행하여진다. 이 면내기 처리는 에칭장치의 법무부로 앞에 배치된 면내기 장치로 행하여진다. 면내기 장치는 면내기액(옥살산, 과산화수소수 및 황산을 포함하는 수용액)을 저유하는 면내기 탱크와, 면내기 탱크에 장척소재를 침지시키는 반송롤러로 구성된다. 이 면내기 장치에는 면내기액을 에칭공정에 가지고 들어가지 않도록 면내기액이 부착한 장척소재의 양 주면을 건조시키는 건조장치가 설치되어 있다. 이 종류의 건조장치로서는 흡수성을 가지는 스폰지롤러의 원주면을 장척소재의 양 주면에 접촉시켜 면내기액을 흡수하는 것이거나 장척소재의 양 주면에 에어나이프에 의해 공기를 내뿜어 건조시키는 것이 알려져 있다.Therefore, in order to uniformly etch the long material, an in-plane treatment for removing the resist film or the oxide film deposited on the etching target surface of the long material to be etched prior to etching is performed. This planarization process is performed by the planarizing apparatus arrange | positioned in front of the legal part of an etching apparatus. The surface planar apparatus is comprised with the surface planar tank which stores a surface planar liquid (an aqueous solution containing oxalic acid, hydrogen peroxide water, and sulfuric acid), and the conveyance roller which immerses a long material in a surface planar tank. The surface flattening device is provided with a drying device for drying both main surfaces of the long material to which the surface flat liquid adheres so that the surface flat liquid does not enter the etching process. As a drying apparatus of this kind, it is known that the peripheral surface of an absorbent sponge roller is brought into contact with both main surfaces of a long material to absorb surface liquid, or air is blown out by air knife on both major surfaces of a long material.
한편, 에칭장치의 뒤에는 에칭된 장척소재에 부착한 에칭액을 제거하기 위한 세정장치가 설치되어 있다. 이세정장치는 물을 장척소재의 양주면에 내뿜는 복수개의 노즐에 의해 구성되어 있다. 이 세정장치에도 세정후의 물과 에칭액이 부착한 장척소재를 건조시키는 상술한 것과 같은 건조장치가 설치되어 있다.On the other hand, behind the etching apparatus, a cleaning apparatus for removing the etching liquid adhering to the etched long material is provided. This cleaning device is constituted by a plurality of nozzles that spray water onto both main surfaces of a long material. This washing apparatus is also provided with a drying apparatus as described above for drying the long material with the water and the etching liquid after washing.
또, 일본국 특개평 5-9755호 공보에는, 컴퓨터용의 디스플레이 등의 고해상도 CRT에 사용되는 새도우마스크를 제조할 때의 에칭공정을 2회로 나누어 행하는 에칭방법에 개시되어 있다. 이 에칭방법은 우선 장척소재의 한쪽 또는 양쪽의 주면에 에칭액을 내뿜어 장척소재를 관통하지 않을 정도의 전자빔 통과구멍에 대응하는 오목부를 다수 형성하는 제1의 에칭공정과, 그후 장척소재의 한쪽 주면에 고압으로 물을 내뿜어 오목부의 가장 자리에서 중심방향으로 돌출한 레지스트막의 흠을 제거하는 홈 제거공정을 가진다. 이 흠 제거공정에 있어서, 장척소재의 다른 쪽의 주면에는 주면에 부착한 에칭액을 제거하기 위하여 저압으로 물을 내뿜는다. 다음에 상술과 같은 건조장치에 의해 소재의 양 주면을 건조시시킨 후, 흠이 제거된 장척소재의 주면에 자외선 경화수지 등의 내에칭성 피막을 도포하는 방지도포공정이 행하여진다. 그리고, 내에칭성 피막이 형성되지 않은 주면에 에칭액을 내뿜은 제2의 에칭공정을 행하여, 양 주면의 오목부를 관통시켜 투공을 형성한다고 하는 방법이다.Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-9755 discloses an etching method in which an etching process for producing a shadow mask used for a high resolution CRT such as a display for a computer is divided into two. This etching method firstly etches the etching solution on one or both main surfaces of the elongated material to form a plurality of concave portions corresponding to the electron beam through holes that do not penetrate the elongated material, and then on one main surface of the elongated material. There is a groove removing step of removing water from the resist film projecting in the center direction at the edge of the recess by flushing water at a high pressure. In this flaw removal process, water is blown out at a low pressure in order to remove the etching liquid adhering to the main surface on the other main surface of the long material. Next, after drying both main surfaces of a raw material with the above-mentioned drying apparatus, the prevention coating process of apply | coating a etch resistant film, such as an ultraviolet curable resin, is performed to the main surface of the elongate material from which the flaw was removed. Then, a second etching step is performed in which the etching liquid is blown out on the main surface on which the etch-resistant coating is not formed, thereby forming perforations through the concave portions of both main surfaces.
상기 종래의 건조장치에서는 장척소재의 금속이온과 면내기액이나 에칭액의 음이온이 결합하여 금속염이 생성된다. 예를 들면, 면내기액에서 인출된 장척소재의 주면에서는 장척소재가 인버(INVAR)재와 같은 철-니켈 합금의 경우, 장척소재 중의 니켈(Ni)이나 철(Fe)이 면내기액에 의해 각각 이온화한 Ni2+나 Fe2+과, 장척소재에 부착한 면내기액 중의 음이온(예를 들면 옥살산이온(C2O4 2-), 황산이온(SO4 2-))이 결합하여 금속염이 생성된다. 이 금속염을 상술의 건조장치에 의해 급격히 건조하면 금속염의 결정(예를 들면, 옥살산니켈, 옥살산철, 황산제1철)이 석출한다. 이 금속염의 결정이 부착한 장척소재에 에칭액을 내뿜어 피에칭면을 에칭하면, 피에칭 상에서 에칭액이 직접 접촉하는 부분과 에칭액에 결정에 차단되어 직접 접촉하지 않는 부분이 생기므로, 피에칭면을 균일하게 에칭할 수 없다.In the conventional drying apparatus, the metal ion of the long material and the anion of the noodle or etching solution combine to form a metal salt. For example, in the case of an iron-nickel alloy such as an INVAR material, the long surface material of the long material drawn out of the surface preparation liquid is nickel (Ni) or iron (Fe) in the long material by the surface preparation liquid. The metal salts of Ni 2+ or Fe 2+ ionized with each other and anions (eg, oxalate ions (C 2 O 4 2- ) and sulfate ions (SO 4 2- )) in the surface-treating solution adhered to the long material Is generated. When this metal salt is rapidly dried by the above-mentioned drying apparatus, crystals of the metal salt (for example, nickel oxalate, iron oxalate, ferrous sulfate) precipitate. Etching the surface to be etched by spraying the etching solution on the long material with the crystals of the metal salt formed thereon results in a portion where the etching liquid contacts directly on the etching target and a portion that is blocked by the crystal and does not directly contact the etching surface. Cannot be etched.
또, 상술한 에칭장치의 뒤에 설치된 세정장치에 의해 세정을 끝낸 장척소재의 주면을, 혹은 에칭공정을 2개로 나누어 행하는 상술의 에칭방법에서의 흠제거공정 후의 장척소재의 주면을 상술의 건조장치에 의해 급격히 건조시키면, 예를 들면 장척소재의 주 조성분(組成分)이 철의 경우, 장척소재 중의 철과 주면에 부착한 에칭액(예를 들면 염화 제2철 수용액)에 의해 결정(예를 들면 수산화 철)이 주면에 생긴다. 생긴결정이 레지스트막의 표면에 부착되어 있으면, 박막공정에서 장척소재를 알카리용액에 침지하여 주면에 피착한 레지스트막을 박리할 때, 결정이 부착되어 있는 레지스트막의 표면이 알카리용액에 침해되지 않으므로, 이 부분의 레지스트막을 충분히 박리할 수가 없다.The main surface of the long material after the flaw removal process in the above-described etching method in which the main surface of the long material which has been cleaned by the cleaning device provided behind the etching device described above or divided into two etching processes is provided to the above-mentioned drying device. When rapidly drying with water, for example, when the main composition of the long material is iron, crystallization (for example, hydroxide) is performed by iron in the long material and the etching solution (for example, ferric chloride aqueous solution) adhered to the main surface. Iron) occurs on the main surface. If the crystals formed are attached to the surface of the resist film, when the long material is immersed in the alkaline solution to peel off the resist film deposited on the main surface in the thin film process, the surface of the resist film to which the crystals are attached does not impinge on the alkaline solution. Cannot be sufficiently peeled off.
또, 장척소재를 그 긴쪽 방향을 반송할 때, 장척소재를 반송하기 위하여 설치된 원통 모양의 반송롤러의 원주표면에 상술한 금속염의 결정이 부착한다. 그 결정이 장척소재와 반송롤러와의 사이에 끼이면, 장척소재는 그 반송방향으로 일정한 장력이 가하여져 반송되고 있으므로, 장척소재에 국부적인 움푹 들어간 곳이 생겨 제품불량이 되어 버린다고 하는 문제가 발생한다.When the long material is conveyed in the longitudinal direction, the crystals of the metal salt described above adhere to the circumferential surface of the cylindrical conveying roller provided for conveying the long material. If the crystal is sandwiched between the long material and the conveying roller, the long material is conveyed under a constant tension in the conveying direction, causing a problem that a local depression is formed in the long material, resulting in a product defect. do.
본 발명의 목적은 금속박판의 장척소재의 건조 시에, 금속박판의 주면에서의 금속염의 결정의 발생을 억제할 수 있는 금속박판의 건조장치를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide an apparatus for drying a metal sheet, which can suppress the generation of crystals of metal salts on the main surface of the metal sheet at the time of drying the elongate material of the metal sheet.
청구항 1 기재의 금속박판의 건조장치는, 그 조성물과 결합하는 것에 의해 금속염을 생성하는 성분을 가지는 액체가 그 주면에 부착한 장척의 금속박판을, 그 긴쪽 방향으로 반송시키면서 건조시키는 금속박판의 건조장치에 있어서, 상기금속박판의 주면을 향하여 금속박판의 폭방향에 걸쳐 물을 공급하여 금속박판의 주면에 부착한 액체를 희석하는 희석수단과, 상기 희석수단에서 금속박판의 반송방향의 하류 측에 배치되며, 희석수단에 의해 희석된 액체를 금속박판의 주면에서 제거하여 건조시키는 제거수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.The drying apparatus of the metal thin plate of Claim 1 drys the metal thin plate which dries while conveying the elongate metal thin plate which the liquid which has a component which produces | generates a metal salt to the main surface by combining with the composition in the longitudinal direction. An apparatus comprising: dilution means for diluting a liquid attached to a main surface of a metal sheet by supplying water over the width direction of the metal sheet toward the main surface of the metal sheet, and on the downstream side of the conveying direction of the metal sheet in the dilution means. And removing means for removing the liquid diluted by the dilution means from the main surface of the metal sheet and drying the liquid.
청구항 2 기재의 금속박판의 건조장치는, 청구항 1기재의 금속박판의 건조장치에 있어서, 희석수단은 그 축방향이 상기 폭방향을 따르도록 상기 금속박판의 주면에 접촉하여 배치된 흡액성을 가지는 원통모양의 제1흡액롤러와, 상기 제1흡액롤러에 물을 공급하는 물공급 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.In the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 2, the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 1 WHEREIN: The dilution means has the liquid absorption property arrange | positioned in contact with the main surface of the said metal sheet so that the axial direction may follow the said width direction. And a cylindrical first suction roller and water supply means for supplying water to the first suction roller.
청구항 3 기재의 금속박판의 건조장치는 청구항 1 또는 청구항 2 기재의 금속박판의 건조장치에 있어서, 제거수단은 그 축방향이 상기 폭방향을서 따르도록 상기 금속박판의 주면에 접촉하여 배치된 흡액성을 가지는 원통모양의 제2흡액롤러를 구비하고 있는 것을 특징으로 한다.The drying apparatus of the metal thin plate of Claim 3 is a drying apparatus of the metal thin plate of Claim 1 or Claim 2 WHEREIN: The removal means is a suction apparatus arrange | positioned in contact with the main surface of the said metal sheet so that the axial direction may follow along the said width direction. It is characterized by including the second liquid absorption roller of the cylindrical shape having a liquidity.
청구항 4 기재의 금속박판의 건조장치는, 청구항 3 기재의 금속박판의 건조장치에 있어서, 제거수단은 제2흡액롤러에 빨아들인 액체를 흡인하는 흡인수단을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.In the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 4, the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 3 WHEREIN: The removal means is further provided with the suction means which sucks the liquid drawn in by the 2nd suction roller.
청구항 5 기재의 금속박판의 건조장치는, 청구항 1 또는 2 기재의 금속박판의 건조장치에 있어서, 제거수단은 금속박판의 주면을 향하여 금속박판의 폭방향에 걸쳐 기체를 내뿜는 에어나이프를 구비하는 것을 특징으로 한다.5. The apparatus for drying a sheet of metal sheet according to claim 5, wherein the drying apparatus for sheet metal sheet according to claim 1 or 2, wherein the removing means includes an air knife that blows gas over the width direction of the sheet of metal toward the main surface of the sheet. It features.
청구항 6 기재의 금속박판의 건조장치는, 청구항 1 기재의 어느 한 금속박판의 건조장치에 있어서, 희석수단 및 제거수단은 금속박판의 양 주면을 향하여 각각 배치되어 있는 것을 특징으로 한다.The drying apparatus of the metal thin plate of Claim 6 is a drying apparatus of any one of the metal thin plates of Claim 1 WHEREIN: The dilution means and the removal means are arrange | positioned toward the two main surfaces of a metal thin plate, respectively, It is characterized by the above-mentioned.
청구항 7 기재의 금속박판의 건조장치는, 청구항 1 또는 2 기재의 금속박판의 건조장치에 있어서, 희석수단에서 밑쪽으로 떨어지는 액체를 받는 액체받이 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 한다.The drying apparatus of the metal thin plate of Claim 7 is a drying apparatus of the metal thin plate of Claim 1 or 2 WHEREIN: It is characterized by further including the liquid receiving means which receives the liquid which falls down from a dilution means.
청구항 1 기재의 금속박판의 건조장치에서는, 긴쪽 방향으로 반송된 금속박판의 주면에, 희석수단에 의하여 폭방향에 걸쳐 물이 공급하며, 주면에 부착한 액체가 희석된다. 이 희석된 액체는 제거수단에 의해 금속박판의 주면에서 제거되어 금속박판이 건조된다.In the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 1, water is supplied to the main surface of the metal thin plate conveyed in the longitudinal direction over the width direction by a dilution means, and the liquid adhering to the main surface is diluted. This diluted liquid is removed from the main surface of the metal sheet by the removing means, and the metal sheet is dried.
청구항 2 기재의 금속박판의 건조장치에서는, 제1흡액롤러에 의하여, 금속박판의 주면에 부착한 액체가 흡수됨과 동시에, 물 공급수단에서 공급된 물이 제1흡액롤러를 통하여 금속박판에 공급되어 액체가 희석된다.In the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 2, the liquid adhered to the main surface of the metal thin plate is absorbed by the first absorption roller, and the water supplied from the water supply means is supplied to the metal thin plate through the first absorption roller. The liquid is diluted.
청구항 3 기재의 금속박판의 건조장치에서는, 제2흡액롤러에 의해 금속박판의 주면에서 희석수단에 의해 희석된 액체를 빨아들여 제거한다.In the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 3, the liquid diluted by the dilution means is sucked away by the 2nd absorption roller from the main surface of the metal thin plate.
청구항 4 기재의 금속박판의 건조장치에서는, 제2흡액롤러에 빨아들여진 액체가 흡인수단에 의해 흡인된다.In the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 4, the liquid sucked in the 2nd liquid absorption roller is attracted by a suction means.
청구항 5 기재의 금속박판의 건조장치에서는, 에어나이프에서 내뿜은 기체에 의해 희석된 액체가 금속박판의 주면에서 불어 날려 제거된다.In the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 5, the liquid diluted with the gas blown out by the air knife blows off at the main surface of the metal thin plate, and is removed.
청구항 6 기재의 금속박판의 건조장치에서는, 금속박판의 양 주면에서 희석수단 및 제거수단에 의해 금속박판의 주면에 부착한 액체가 희석된 후, 제거된다.In the drying apparatus of the metal thin plate of Claim 6, the liquid adhering to the main surface of the metal thin plate by dilution means and the removal means in both main surfaces of a metal thin plate is diluted, and is removed.
청구항 7 기재의 금속팍반의 건조장치에서는, 희석수단에서 밑쪽으로 떨어지는 액체가 액체받이 수단에 의해 받혀진다.In the drying apparatus of the metal paving plate of Claim 7, the liquid falling down from the dilution means is received by the liquid receiving means.
[실시예]EXAMPLE
제1도는 본 발명의 한 실시예에 의한 금속박판 건조장치가 채용된 섀도우마스크나 애퍼추어그릴을 제조할 때 사용되는 에칭라인을 나타내는 모식도이다.1 is a schematic diagram showing an etching line used when manufacturing a shadow mask or an aperture grill employing a metal thin plate drying apparatus according to an embodiment of the present invention.
제1도에 있어서, 에칭라인은 현상이 끝난, 예를 들면 인버재로 이루어지는 판 두께 0.1~0.3㎜의 장척소재(10)에 부여하는 장력을 조정하여 장척소재(10)를 축적하는 댄서롤러장치(11)와, 면내기장치(12)와, 에칭장치(13)와, 세정장치(14)와, 박막장치(15)와, 순수세정장치(16)와, 가열건조장치(17)와, 절단장치(18)를 주로 가지고 있다.In Fig. 1, the etching line adjusts the tension applied to the elongated material 10 having a sheet thickness of 0.1 to 0.3 mm made of an inverted material, for example, to accumulate the elongated material 10 by accumulating the elongated material 10. (11), a surface forming apparatus (12), an etching apparatus (13), a washing apparatus (14), a thin film apparatus (15), a pure water cleaning apparatus (16), a heating and drying apparatus (17), It mainly has a cutting device 18.
면내기장치(12)는 잔류한 극히 얇은 레지스트막이나 버닝처리에 의해 발생한 매우 얇은 산화막을 에칭 전에 제거하는 것이다. 에칭장치(13)는 장척소재(19)의 피에칭면에 에칭액인 염화 제2철 수용액을 공급하여 전자빔 통과용의 투공을 열리게 하는 것이다. 세정장치(14)는, 에칭된 장척소재(10)에서 에칭액을 제거하는 것이다. 박막장치(15)는, 세정된 장척소재에서 레지스트막이나 내에칭성 피막 등의 피막을 박리하는 것이다. 순수세정장치(16)는, 박리 후에 장척소재(10)를 순수 세정하는 것이다. 가열건조장치(17)는, 순수 세정된 장척소재(10)를 가열하여 건조시키는 것이다. 절단장치(18)는, 건조된 장척소재(10)를 1장씩의 섀도우마스크나 애퍼추어그릴로 절단하는 것이다.The planarizing device 12 removes the remaining extremely thin resist film or the very thin oxide film generated by the burning process before etching. The etching apparatus 13 supplies an aqueous ferric chloride solution as an etching solution to the etching target surface of the long material 19 to open the hole for electron beam passage. The cleaning device 14 removes the etching liquid from the etched long material 10. The thin film device 15 peels a film such as a resist film or a etch resistant film from the washed long material. The pure water cleaning device 16 cleans the long material 10 after peeling. The heat drying apparatus 17 heats and dries the elongate material 10 cleaned purely. The cutting device 18 cut | disconnects the dried elongate material 10 with the shadow mask or aperture grill one by one.
제2도는 본 발명의 한 실시예를 채용한 면내기장치(12)의 사시도이다. 제2도에 있어서 면내기장치(12)는, 예를 들면 옥살산, 과산화수소수 및 황산을 포함하는 산의 묽은 용액으로 이루어지는 면내기액(24)이 저유된 면내기탱크(20)와, 면내기탱크(20)내 및 면내기탱크(20)의 윗쪽에 측면으로 보아 V자 모양으로 배치되며, 면내기탱크(20)의 면내기액(24)에 장척소재(10)를 침지시키기 위한 3개의 스테인레스 롤러(21, 22, 23)를 가지고 있다. 또, 면내기장치(12)에는 면내기탱크(20)에서 반출되고, 장척소재(10)에 부착한 면내기액을 제거하여 건조시키기 위한 건조장치(30)가 설치되어 있다.2 is a perspective view of a planarizing device 12 employing an embodiment of the present invention. In FIG. 2, the planarizing apparatus 12 includes a planarizing tank 20 in which a surface forming solution 24 made of a dilute solution of an acid containing oxalic acid, hydrogen peroxide and sulfuric acid is stored. It is arranged in a V-shape viewed from the side of the tank 20 and the upper surface of the inner surface tank 20, three for immersing the long material 10 in the inner surface liquid 24 of the inner surface tank 20 It has the stainless rollers 21, 22, and 23. In addition, the surface planar device 12 is provided with a drying device 30 for carrying out the surface planar liquid, which is carried out from the surface planar tank 20 and attached to the long material 10, to be dried.
제3도는 본 발명의 한 실시예의 구성을 나타내는 단면 모식도이다. 제3도에 있어서, 건조장치(30)는 스테인레스롤러(21)와 스테린레스롤러(23)와의 사이에서 면내기액(24)의 액면의 윗쪽에 배치한 희석장치(31)와, 스테인레스롤러(23)의 반송방향 하류 측에 배치된 제거장치(32)를 가지고 있다. 희석장치(31)는 장척소재(10)의 앞뒤에 압접(壓接)배치된 흡액성을 가진 1쌍의 스폰지롤러(33, 33)와, 스폰지롤러(33, 33)의 윗쪽으로부터 스폰지롤러(33, 33)를 향하여 물을 떨어뜨리는 물공급부(35)와, 스폰지롤러(33, 33)에서 떨어지는 액체를 받는 물받이(36)를 가지고 있다. 스폰지롤러(33, 33)는 회전축(34)의 주위에 원통모양의 스폰지를 고착한 구조이며, 회전축(34)이 장척소재(10)의 축방향을 따라 배치되어 있다. 또, 스폰지롤러(33, 33)는 장척소재(10)의 반송에 종동(從動)하여 각각의 회전축(34, 34)을 중심으로 회전한다. 물받이(36)는 양 스폰지롤러(33, 33)의 및쪽 및 옆쪽을 둘러싸도록 배치되어 있며, 저부에 장척소재(10)를 통과시키기 위한 개구(37)와, 배수구(38)가 형성되어 있다. 물 공급부(35)는, 스폰지롤러(33, 33)의 제2도 앞쪽의 상면에 배치된 토출부(39, 40)를 가지고 있다. 토출부(39, 40)는 일괄 접속되어 있으며, 공업용수의 공급원에 스톱밸브(41)를 통하여 접속되어 있다.3 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of one embodiment of the present invention. In FIG. 3, the drying apparatus 30 is the dilution apparatus 31 arrange | positioned above the liquid level of the surface preparation liquid 24 between the stainless roller 21 and the stainless steel roller 23, and the stainless roller. It has the removal apparatus 32 arrange | positioned at the conveyance direction downstream side of (23). The dilution device 31 is a pair of sponge rollers 33 and 33 having liquid absorbency which are press-contacted to the front and rear of the long material 10, and a sponge roller (from the upper side of the sponge rollers 33 and 33). The water supply part 35 which drops water toward 33 and 33 and the drip tray 36 which receives the liquid falling from the sponge rollers 33 and 33 are provided. The sponge rollers 33 and 33 have a structure in which a cylindrical sponge is fixed around the rotary shaft 34, and the rotary shaft 34 is disposed along the axial direction of the long material 10. In addition, the sponge rollers 33 and 33 follow the conveyance of the elongate material 10, and rotate about the respective rotating shafts 34 and 34. As shown in FIG. The drip tray 36 is disposed so as to surround the sides and sides of the sponge rollers 33 and 33, and an opening 37 and a drain 38 for allowing the long material 10 to pass through the bottom are formed. The water supply part 35 has the discharge parts 39 and 40 arrange | positioned at the upper surface in front of FIG. 2 of the sponge rollers 33 and 33. As shown in FIG. The discharge parts 39 and 40 are collectively connected and connected to the supply source of industrial water through the stop valve 41.
제거장치(32)는 장척소재(10)를 끼워 배치한 상하 1쌍의 에어나이프(50, 50)를 가지고 있다. 각 에어나이프(50)는 각각 장척소재(10)의 앞뒷면을 향하여 공기를 내뿜는다. 이 에어나이프의 풍량은 1~6㎥/min이다.The removal device 32 has a pair of upper and lower air knifes 50 and 50 in which the long material 10 is inserted. Each air knife 50 blows air toward the front and back of the long material 10, respectively. The air volume of this air knife is 1-6 m <3> / min.
다음에, 상술의 실시예의 동작에 대하여 설명한다.Next, the operation of the above-described embodiment will be described.
금속박판(10)은 그 긴쪽 방향으로 반송수단(미도시됨)에 의해 반송되면서, 면내기 장치(12), 에칭장치(13), 세정장치(14), 박막장치(15), 순수세정장치(16), 가열건조장치(17) 및 절단장치(18)에 의해 각각 연속하여 처리된다.The metal thin plate 10 is conveyed by a conveying means (not shown) in the longitudinal direction thereof, while the planarizing device 12, the etching device 13, the cleaning device 14, the thin film device 15, and a pure water cleaning device. (16), the heat drying apparatus 17 and the cutting device 18 are continuously processed, respectively.
면내기장치(12)에서는 장척소재(10)가 스테인레스롤러(21~23)에 의해 면내기탱크(20)내의 면내기액(24)에 침지된다. 이 결과, 장척소재(10)의 피에칭면에 형성된 잔류레지스트막이나 산화막이 제거된다. 면내어진 장척소재(10)는 희석장치(31)의 스폰지롤러(33, 33)사이를 통과한다. 이 스폰지롤러(33, 33) 사이를 통과할 때, 물공급부(35)에 의해 스폰지롤러(33, 33)에 공급된 물에 의해 면내기탱크(20)에서 반출되어 장척소재(10)의 양주면에 부착한 면내기액이 희석된다. 그리고, 장척소재(10)의 양 주면에 부착한 희석된 면내기 액은 제거장치(32)의 에어나이프(50, 50)에 의해 불어날려 제거되며, 장척소재(10)가 건조한다. 또 스폰지롤러(33, 33)에서 떨어지는 물이나 희석된 면내기액은 물받이(36)에 회수된다. 이 결과, 장척소재(10)에 잔류한 면내기액의 농도가 물에 의해 희석되어 묽게 된다. 그리고 장척소재(10)의 주면에 잔류한 희석액은, 제거장치(32)의 상하 1쌍의 에어나이프(50)에 의해 불어날려 제거되며, 장척소재(10)가 건조된다.In the planarizing apparatus 12, the long material 10 is immersed in the planarizing liquid 24 in the planarizing tank 20 by the stainless rollers 21-23. As a result, the residual resist film or oxide film formed on the etching target surface of the long material 10 is removed. The in-plane long material 10 passes between the sponge rollers 33 and 33 of the dilution apparatus 31. When passing between the sponge rollers (33, 33), the water supplied to the sponge rollers (33, 33) by the water supply unit 35 is taken out of the surface tank (20), the amount of long material 10 The nasal solution adhering to the main surface is diluted. Then, the diluted planar liquid adhering to both main surfaces of the long material 10 is blown away by the air knife 50, 50 of the removal device 32, and the long material 10 is dried. In addition, water dripping from the sponge rollers 33 and 33 and the diluted surface liquid are collected in the drip tray 36. As a result, the concentration of the surface liquid remaining in the long material 10 is diluted with water and diluted. Then, the diluent remaining on the main surface of the long material 10 is blown away by the upper and lower pairs of air knives 50 of the removal device 32, and the long material 10 is dried.
여기서는, 장척소재(10)에 부착한 면내기액을 희석시킨 후에 제거하여 건조시키는 있으므로 장척소재(10)의 주면에서의 금속염의 결정의 발생을 억제할 수 있다.In this case, since the inner surface liquid adhering to the long material 10 is diluted and then removed and dried, the occurrence of crystals of the metal salt on the main surface of the long material 10 can be suppressed.
다음에, 제1도에 도시하는 에칭라인에 채용되는 본 발명의 그외의 실시예에 대하여 설명한다.Next, another embodiment of the present invention employed in the etching line shown in FIG. 1 will be described.
제4도는 이 실시예가 채용된 면내기장치(12)의 사시도이며, 제5도는 이 실시예를 나타내는 단면모식도이다. 제4도에 있어서, 희석장치(12)까지의 구성은 상술한 실시예와 같으므로 설명을 생략한다. 또, 상술한 실시예와 동일한 부호가 나타내는 것은 동일한 기능을 가지는 것이다.4 is a perspective view of a planarizing device 12 employing this embodiment, and FIG. 5 is a cross-sectional schematic diagram showing this embodiment. In FIG. 4, since the structure up to the dilution apparatus 12 is the same as that of the Example mentioned above, description is abbreviate | omitted. In addition, what the same code | symbol as the Example mentioned above has the same function.
제4도에 있어서, 제거장치(32)는 상하 1쌍의 건조롤러(42, 42)를 가지고 있다. 건조롤러(42, 42)는 그 축방향이 장척소재(10)의 폭방향을 따르도록 금속박판(10)를 끼워 장척소재(10)에 접촉하게 배치되어 있다. 또, 건조롤러(42, 42)는 장척소재(10)의 반송에 종동하여 각각의 회전축(45, 45)을 중심으로 회전한다. 제5도에 도시하는 것과 같이, 각 건조롤러(42)의 외주면에는 흡액성을 가진 사슴가죽(44)이 붙어있다. 각 건조롤러(42)의 내부에는 중공(中空)의 회전축(45)이 배치되어 있다. 또, 건조롤러(42)의 몸통부에는 중공의 회전축(45)의 내부와 건조롤러(42)의 외주면(사슴가죽(44)의 뒷면)을 연통하는 흡인구멍(46)이 형성되어 있다. 또 회전축(45)의 일단에는 진공펌프(47)가 접속되어 있다.In FIG. 4, the removal apparatus 32 has a pair of upper and lower drying rollers 42 and 42. As shown in FIG. The drying rollers 42 and 42 are arranged to be in contact with the long material 10 by sandwiching the metal thin plate 10 so that the axial direction thereof is along the width direction of the long material 10. Moreover, the drying rollers 42 and 42 follow the conveyance of the elongate material 10, and rotate around each rotating shaft 45 and 45, respectively. As shown in FIG. 5, the outer periphery of each drying roller 42 has the deerskin 44 which has a liquid absorption. Inside the drying rollers 42, a hollow rotating shaft 45 is arranged. Further, a suction hole 46 is formed in the trunk portion of the drying roller 42 to communicate the inside of the hollow rotating shaft 45 with the outer circumferential surface of the drying roller 42 (the back side of the deer leather 44). A vacuum pump 47 is connected to one end of the rotating shaft 45.
여기에서는, 희석장치(31)에 의해 희석되어 장척소재(10)의 양주면에 부착한 면내기액이 제거장치(32)의 건조롤러(42) 표면의 사슴가죽(44)에 의해 빨아들려지고, 빨아들여진 면내기액이 흡인구멍(46), 회전축(45)내의 통로를 거쳐 진공펌프(47)에 흡인된다. 이 결과, 장척소재(10)의 양주면이 건조된다.Here, the inner surface liquid diluted by the dilution device 31 and adhered to both main surfaces of the long material 10 is sucked by the deerskin 44 on the surface of the drying roller 42 of the removal device 32. The sucked in-plane liquid is sucked into the vacuum pump 47 via the suction hole 46 and the passage in the rotating shaft 45. As a result, both main surfaces of the elongate material 10 are dried.
또 장척소재(10)의 주 조성분과 에칭액에 의한 금속염의 결정의 석출을 방지하기 위하여 본 발명의 건조장치(30)를 이하에 나타내는 경우에 사용할 수가 있다.Moreover, in order to prevent the precipitation of the crystal of the metal salt by the main component of the long-length material 10, and etching liquid, it can be used when the drying apparatus 30 of this invention is shown below.
(a)제1도는 도시하는 세정장치(14)에 건조장치(30)를 배치하고, 수세처리후에 장척소재(10)의 주면에 부착한 에칭액을 희석장치(31)에 의해 희석하여, 이 희석한 에칭액을 제거장치(32)에 의해 장척소재(10)의 주면에서 제거한다.(a) FIG. 1 shows that the drying apparatus 30 is disposed in the washing apparatus 14 shown in FIG. 1, and after the washing process, the etching liquid attached to the main surface of the long material 10 is diluted with the dilution apparatus 31. One etchant is removed from the main surface of the long material 10 by the removal device 32.
(b) 에칭공정을 2개로 나누어 행하여 에칭방법에 있어서, 흠제거공정과 방지도포공정과의 사이에 건조장치(30)를 배치하고, 장척소재(10)의 주면에 부착한 에칭액을 희석수단(31)에 의해 희석하여, 이 희석된 에칭액을 제거수단(32)에 의해 장척소재(10)의 주면에서 제거한다.(b) The etching step is divided into two, and in the etching method, the drying apparatus 30 is disposed between the flaw removing step and the prevention coating step, and the etching solution attached to the main surface of the long material 10 is diluted with dilution means ( 31), the diluted etching solution is removed from the main surface of the long material 10 by the removal means 32.
청구항 1에 관한 금속박판 건조장치에 의하면, 금속박판에 부착한 액체가 희석된 후에 제거되어 건조되므로, 금속박판의 건조 시에 금속박판의 주 조성분과 액체에 의한 금속염의 결정의 발생을 억제하는 것이 가능하게 된다.According to the metal sheet drying apparatus according to claim 1, since the liquid adhering to the metal sheet is diluted and then removed and dried, it is possible to suppress the occurrence of crystals of the metal salt by the main composition of the metal sheet and the liquid during drying of the metal sheet. It becomes possible.
청구항 2에 관한 금속박판의 건조장치에 의하면, 장척소재의 폭방향에 걸쳐, 장척소재의 주면에 부착한 액체의 흡수와 희석을 동시에 행하고 있으므로, 장척소재의 주면의 전면의 액체를 효율 좋게 희석할 수 있다.According to the drying apparatus of the metal sheet according to claim 2, since the absorption and dilution of the liquid adhered to the main surface of the long material is carried out simultaneously in the width direction of the long material, the liquid on the entire surface of the main surface of the long material can be efficiently diluted. Can be.
청구항 3에 관한 금속박판의 건조장치에 의하면, 제2흡액롤러에 의해 장척소재의 주면에 부착한 희석된 액체를 빨아들여 장척소재를 확실히 건조시킬 수 있다.According to the drying apparatus of the metal sheet according to claim 3, the second liquid absorbing roller sucks up the diluted liquid attached to the main surface of the long material and can reliably dry the long material.
청구항 4에 관한 금속박판의 건조장치에 의하면, 흡인수단에 의해 제2흡액롤러에 빨아들인 액체를 흡인하여 제2흡액롤러를 항상 흡액성이 좋은 상태로 유지하는 것이 가능하게 된다.According to the drying apparatus of the metal thin plate according to claim 4, it is possible to suck the liquid sucked into the second liquid absorption roller by the suction means, so that the second liquid absorption roller can be always maintained in a good liquid absorption.
청구항 5에 관한 금속박판의 건조장치에 의하면, 에어나이프에 의해 장척소재의 주면에 부착한 희석된 액체를 불어날려, 장척소재를 확실히 건조시킬 수 있다.According to the drying apparatus of the metal sheet according to claim 5, the diluted liquid attached to the main surface of the long material can be blown out by the air knife, so that the long material can be reliably dried.
청구항 6에 관한 금속박판의 건조장치에 의하면, 금속염의 결정을 석출시키는 일없이, 장척소재의 양주면을 건조시킬 수 있다.According to the drying apparatus for metal thin plates according to claim 6, both main surfaces of the long material can be dried without depositing crystals of metal salts.
청구항 7에 환한 금속박판의 건조장치에 의하면, 액체받이 수단에 의해 희석수단에서 떨어지는 액체를 받아 회수됨으로써 액체에 의한 장치주위의 오염을 방지할 수 있다.According to the drying apparatus of the metal thin plate according to claim 7, it is possible to prevent the contamination around the apparatus by the liquid by receiving and recovering the liquid falling from the dilution means by the liquid receiving means.
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