[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

KR100211646B1 - 반도체장치 제조 공정시스템의 가스교환시기 체크장치 및 그 방법 - Google Patents

반도체장치 제조 공정시스템의 가스교환시기 체크장치 및 그 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100211646B1
KR100211646B1 KR1019960003582A KR19960003582A KR100211646B1 KR 100211646 B1 KR100211646 B1 KR 100211646B1 KR 1019960003582 A KR1019960003582 A KR 1019960003582A KR 19960003582 A KR19960003582 A KR 19960003582A KR 100211646 B1 KR100211646 B1 KR 100211646B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
weight
time
semiconductor device
pressure
Prior art date
Application number
KR1019960003582A
Other languages
English (en)
Other versions
KR970063467A (ko
Inventor
태희원
Original Assignee
윤종용
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 윤종용, 삼성전자주식회사 filed Critical 윤종용
Priority to KR1019960003582A priority Critical patent/KR100211646B1/ko
Publication of KR970063467A publication Critical patent/KR970063467A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100211646B1 publication Critical patent/KR100211646B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)

Abstract

가스 공급장치의 봄베에 설치된 복수의 용기 각각의 가스 수용상황을 체크하여 가스의 교환시기를 관리자에게 알려주는 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치 및 그 방법에 관한 것이다.
본 발명은, 가스 공급장치에 설치된 용기의 잔류가스량을 계산하는 가스 사용량 계산부 및 가스 교환시기를 알리는 경보메시지를 디스플레이하는 공정관리 컴퓨터를 구비하여 이루어지고, 소정 단위 시간별 공정설비의 로트(LOT) 수량과 그에 따라 감소되는 용기의 잔류가스 압력 및 중량을 계산하는 단계와, 단위시간이 시작되면 현재 용기의 잔류가스 압력 및 중량이 단위 시간별 변화되는 잔류가스 압력 및 중량 감소량 이하인지 확인하는 단계 및 용기의 잔류가스 압력 및 중량이 부족하면 가스 교환시기를 알리는 경보메시지를 공정관리 컴퓨터로 출력하는 단계로 이루어진다.
따라서, 용기의 교환시기를 미리 경보함으로써 공정수행을 원활히 하여 생산성을 향상시키고, 수율을 증가시키는 효과가 있다.

Description

반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치 및 그 방법
본 발명은 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가스 공급장치의 봄베에 설치된 복수의 용기 각각의 가스 수용상황을 체크하여 가스 교환시기를 공정 관리자에게 알려주는 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치 및 그 방법에 관한 것이다.
통상 반도체장치를 제조하기 위하여 확산설비, 증착설비 및 이온주입설비 등이 생산라인에 이용되고 있으며, 이들 각 설비에서 반도체장치 제조공정이 수행되기 위해서는 반응이나 세정 등을 위한 가스가 각각 공급되어야 한다.
반도체장치를 제조함에 있어서 공정이 정확히 수행되기 위해서는 공급되는 가스가 정량적으로 적시에 공급되어야 하고, 각 공정설비는 이를 제어하기 위한 보조적인 시스템을 겸비하고 있다. 그 중 가스가 정상적으로 공급되기 위해서는 가스 공급장치의 봄베(Bombe)에 설치되는 용기에 공정을 수행할 수 있을 정도의 양으로 가스가 수용되어 있어야 한다.
용기에 잔류가스가 부족한 경우 반응 및 세정 등에 필요한 가스가 충분하게 공급되지 않는 상태에서 공정이 진행되거나, 공정진행이 중에 가스의 공급이 중단되므로 수율이 저하되고 생산성이 떨어지는 등의 문제점이 있다.
그러므로, 항상 가스 공급장치의 봄베에 설치된 용기의 가스잔량은 항상 모니터링되어야 하며, 이를 위하여 종래에는 제1도와 같은 구성으로서 용기의 잔류가스량을 모니터링하였다.
제1도를 참조하면, 반응, 세정 등의 공정을 수행하는 공정설비로 가스를 공급하기 위한 복수의 가스 공급장치(10)(12)(13)는 모니터링장치(16)와 연결되어 있고, 가스 공급장치(10)(12)(14)에는 용기의 잔류가스의 최소 압력 및 최소 중량이 설정되어 있다.
이러한 구성에 의하여 가스를 공급하기 위하여 가스 공급장치(10)(12)(14)의 봄베에 용기가 설치되면, 가스 공급장치(10)(12)(14)는 용기의 압력 및 중량을 체크하고 체크된 용기의 현재 압력 및 중량이 미리 설정된 최소 압력 및 최소 중량에 미달되면 경보신호를 모니터링 장치(16)로 출력하여 가스의 교환시기를 알린다. 그러면 공정관리자는 모니터링장치(16)에서 경보된 상태로서 가스의 교환시기를 알고 가스가 충진된 용기를 교환 장착한다.
그러나, 전술한 종래의 가스 공급장치는 공정설비에서 이루어지는 공정에 따른 가스 사용량과 전혀 상관없이 일정 한계값으로 가스의 교환시기를 경고한다. 그러므로 특정 공정 수행 전에는 용기의 잔류가스가 상기 한계값 이상의 압력 및 중량으로 수용되었더라도 공정 중에 소진되어 교환해야 하는 경우가 발생된다. 그러면 공정관리자는 공정진행을 중지시키고 가스를 교환 및 보충한 후 공정을 재수행시키므로, 가스를 교환 및 보충하는 시간만큼 공정이 수행되지 않으므로 제조시간이 단축된다.
결국, 종래의 가스 공급장치는 공정 중 가스교환에 따른 제조시간 단축으로 인하여 생산성이 저하되며, 공정의 일시정지로 인하여 불량이 발생되어 수율이 저하되는 문제점이 있다.
상기한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 수행될 공정에 따른 가스 사용량과 현재 용기에 잔류된 가스량을 비교하여 가스 교환시기를 예측할 수 있는 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치 및 그 방법을 제공하는 데 있다.
제1도는 종래의 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 공급장치를 나타내는 블록도이다.
제2도는 본 발명에 따른 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치의 실시예를 나타내는 블록도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10, 12, 14, 20 : 가스 공급장치 16 : 모니터링장치
22 : 공정설비 24 : 가스 사용량 계산부
26 : 공정관리 컴퓨터
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치는, 반도체장치 제조를 위한 특정 공정설비와 상기 공정설비로 소정가스를 공급하도록 복수의 용기가 장착된 가스 공급장치를 구비하는 가스 공정시스템에 있어서, 상기 공정설비에서 제조된 로트(LOT) 수와 상기 용기의 잔류가스 압력 변화량 및 중량 변화량을 읽어서, 로트별 압력 및 중량의 감소량을 계산하여 현재 상기 용기에 수용된 잔류가스의 압력 및 중량이 상기 감소량 이하이면 경보신호를 출력하는 가스 사용량 계산수단; 및 상기 경보신호가 입력되면 가스 교환시기를 알리는 경보메시지를 디스플레이하는 공정관리 컴퓨터를 포함하여 이루어진다.
그리고, 상기 가스 사용량 계산수단은, 단위시간을 설정하여 상기 단위시간별 감소된 용기의 잔류가스의 압력 및 중량의 감소량이 단위 시간별 가스사용 예상량 이하이면 경보신호를 출력하도록 이루어지며, 상기 단위시간은 하루(24시간)로 설계되어 상기 경보신호를 아침 특정시간에 출력하도록 이루어질 수 있다.
그리고, 상기 공정관리 컴퓨터에 경보음 발생수단이 더 구성되어서 상기 경보신호가 입력되면 가스 교환시기를 알리는 경보음을 출력하도록 이루어질 수 있다.
그리고, 본 발명에 따른 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크방법은, 반도체장치 제조를 위한 특정 공정설비, 상기 공정설비로 소정 가스를 공급하도록 복수의 용기가 장착된 가스 공급장치, 상기 용기의 잔류가스량을 계산하는 가스 사용량 계산부 및 상기 가스 사용량 계산부의 경보신호가 입력되면 가스 교환시기를 알리는 경보메시지를 디스플레이하는 공정관리 컴퓨터를 구비한 공정시스템의 가스 교환시기 체크방법에 있어서,
소정 단위 시간별 상기 공정설비의 로트(LOT) 수량과 그에 따라 감소되는 상기 용기의 잔류가스 압력 및 중량을 계산하는 단계, 상기 단위시간이 시작되면 현재 용기의 잔류가스 압력 및 중량이 상기 단위 시간별 변화되는 잔류가스 압력 및 중량감소량 이하인지 확인하는 단계 및 상기 용기의 잔류가스 압력 및 중량이 부족하면 경보메시지를 상기 공정관리 컴퓨터로 출력하여 용기 교환메시지를 디스플레이시키는 단계를 포함하여 이루어진다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제2도를 참조하면, 본 발명의 실시예는 특정 가스를 정량 수용하는 용기(도시되지 않음)가 봄베에 설치된 가스 공급장치(20)로부터 반도체장치 제조공정을 수행하는 공정설비(22)로 가스가 공급되도록 연결되어 있고, 이 가스 공급장치(20)는 현재 설치된 용기의 압력 및 중량에 대한 정보를 가스 사용량 계산부(24)로 제공하도록 연결되어 있으며, 이 공정설비(22)는 제조된 로트(LOT)의 수량에 대한 정보를 제공하도록 연결되어 있다.
그리고, 가스사용량 계산부(24)는 단위 시간별로 제조된 로트의 수량과 그에 따른 가스의 압력 및 무게의 변화량(감소량)을 계산하며, 단위시간으로서는 임의 시간구간으로 설정될 수 있고 바람직하기로는 매일(24시간) 단위로 구분함이 적당하다. 가스 사용량 계산부(24)는 현재 가스 공급장치(20)에 설치된 용기에 수용된 가스량이 단위시간에 제조되는 로트의 수량을 충족시키기에 부족한 양이면 경보신호를 공정관리 컴퓨터(26)로 출력하도록 구성되고, 공정관리 컴퓨터(26)는 경보신호 입력에 따라 소정 경보메시지를 디스플레이하도록 구성되어 있고, 이에 부가되어 경보신호가 입력되면 경보음을 출력하도록 경보음 발생장치가 구성될 수 있다.
전술한 바와 같이 구성된 실시예의 작용 및 효과를 설명한다.
먼저, 가스 사용량 계산부(24)는 단위시간을 매일 즉 24시간으로 구분하여 가스 공급장치(20)로부터 제공되는 용기의 압력 및 중량 변화량을 단위시간별 변화량으로 계산하고, 공정설비(22)로부터 제공되는 로트 제조량을 단위시간별 생산량으로 계산한다.
그러면 단위시간으로 설정된 매일의 가스사용 예상량이 설정될 수 있고, 매일의 가스사용 예상량은 매일 제조량 및 가스사용량을 적산평균한 값을 적용할 수 있다.
이와 같이 계산된 단위 시간별 가스사용 예상량을 저장한 후 가스 사용량 계산부(24)는 단위공정 시작시점 또는 특정시간(단위시간이 매일이면 아침과 같은 일정시각)에 가스 공급장치(20)로부터 제공되는 현재 용기의 잔류가스의 압력 및 중량을 가스사용 예상량과 비교한다.
만약 가스사용 예상량 보다 현재 용기의 잔류가스의 압력 및 중량이 적으면, 가스 사용량 계산부(24)는 해당 단위시간 내의 공정수행 중에 가스를 교환해야 하므로, 이에 대하여 경고하기 위하여 공정관리 컴퓨터(26)로 경보신호를 출력하고, 공정관리 컴퓨터(26)는 경보 메시지를 디스플레이하여 공정관리자에게 단위시간에 평균 로트 수량을 제조하기에 현재 용기에 수용된 가스량이 부족함을 알린다.
그러면, 공정관리자는 적정한 시기에 용기를 교환하여 공정수행 중 용기의 가스가 떨어져서 공정수행이 중지되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라 공정수행 중단에 따른 불량이 발생되는 문제점도 해결된다.
따라서, 본 발명에 의하면, 용기의 교환시기를 미리 경보함으로써 공정수행을 원활히 하여 생산성을 향상시키고, 수율을 증가시키는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (5)

  1. 반도체장치 제조를 위한 특정 공정설비와 상기 공정설비로 소정가스를 공급하도록 복수의 용기가 장착된 가스 공급장치를 구비하는 반도체장치 제조 공정시스템에 있어서, 상기 공정설비에서 제조된 로트(LOT) 수와 상기 용기의 잔류가스 압력 변화량 및 중량 변화량을 읽어서, 로트별 압력 및 중량의 감소량을 계산하여 현재 용기에 수용된 잔류가스의 압력 및 중량이 상기 감소량 이하이면 경보신호를 출력하는 가스 사용량 계산수단; 및 상기 경보신호가 입력되면 가스 교환시기를 알리는 경보메시지를 디스플레이하는 공정관리 컴퓨터; 를 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체장치 제조 공정시스템의 가스교환시기 체크장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가스 사용량 계산수단은, 단위시간을 설정하여 상기 단위 시간별 감소된 용기의 잔류가스의 압력 및 중량의 감소량이 감소량이 단위 시간별 가스사용 예상량 이하이면 경보신호를 출력하도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 단위시간은 하루(24시간)로 설계되어 상기 경보신호를 아침 특정시간에 출력하도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 공정관리 컴퓨터에 경보음 발생수단이 더 구성되고, 상기 경보신호가 입력되면 경보음을 출력하도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크장치.
  5. 반도체 제조를 위한 특정 공정설비, 상기 공정설비로 소정 가스를 공급하도록 복수의 용기가 장착된 가스 공급장치, 상기 용기의 잔류가스량을 계산하는 가스 사용량 계산부 및 상기 가스 사용량 계산부의 경보신호가 입력되면 경보메시지를 디스플레이하는 공정관리 컴퓨터를 구비한 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크방법에 있어서, 소정 단위 시간별 상기 공정설비의 로트(LOT) 수량과 그에 따라 감소되는 상기 용기의 잔류가스 압력 및 중량을 계산하는 단계; 상기 단위시간이 시작되면 현재 용기의 잔류가스 압력 및 중량이 상기 단위 시간별 변화되는 잔류가스 압력 및 중량 감소량 이하인지 확인하는 단계 ; 및 상기 용기의 잔류가스 압력 및 중량이 부족하면 경보메시지를 상기 공정 관리 컴퓨터로 출력하여 용기 교환메시지를 디스플레이시키는 단계; 를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체장치 제조 공정시스템의 가스 교환시기 체크방법.
KR1019960003582A 1996-02-14 1996-02-14 반도체장치 제조 공정시스템의 가스교환시기 체크장치 및 그 방법 KR100211646B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960003582A KR100211646B1 (ko) 1996-02-14 1996-02-14 반도체장치 제조 공정시스템의 가스교환시기 체크장치 및 그 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019960003582A KR100211646B1 (ko) 1996-02-14 1996-02-14 반도체장치 제조 공정시스템의 가스교환시기 체크장치 및 그 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970063467A KR970063467A (ko) 1997-09-12
KR100211646B1 true KR100211646B1 (ko) 1999-08-02

Family

ID=19451242

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960003582A KR100211646B1 (ko) 1996-02-14 1996-02-14 반도체장치 제조 공정시스템의 가스교환시기 체크장치 및 그 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100211646B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160099389A (ko) * 2015-02-12 2016-08-22 주식회사 비스텔 반도체 제조 공정에서 통계적 방법을 이용하여, 가스 누출을 감지하는 방법 장치

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5776947B2 (ja) * 2013-06-12 2015-09-09 株式会社ダイフク 保管棚用の不活性ガス注入装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20160099389A (ko) * 2015-02-12 2016-08-22 주식회사 비스텔 반도체 제조 공정에서 통계적 방법을 이용하여, 가스 누출을 감지하는 방법 장치
KR101650887B1 (ko) 2015-02-12 2016-08-25 주식회사 비스텔 반도체 제조 공정에서 통계적 방법을 이용하여, 가스 누출을 감지하는 방법 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR970063467A (ko) 1997-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5983197A (en) Monitoring method and monitoring system for automatic transaction machine
US5327349A (en) Method and apparatus for analyzing and recording downtime of a manufacturing process
US5781448A (en) Control system and control method for uninterruptible power supply
US7065725B2 (en) Semiconductor manufacturing apparatus, management apparatus therefor, component management apparatus therefor, and semiconductor wafer storage vessel transport apparatus
US6711507B2 (en) Compressed air monitor system for monitoring leakage of compressed air in compressed air circuit
CN104583887A (zh) 监视装置、监视方法、程序及记录介质
EP1186980B1 (en) Method for supporting maintenance of facility and system
KR100211646B1 (ko) 반도체장치 제조 공정시스템의 가스교환시기 체크장치 및 그 방법
CN110427335B (zh) 用于数据中心的设备上架控制方法、计算设备及存储介质
CN211478944U (zh) 一种附属设备的控制装置
JPH04164399A (ja) 部品実装方法
JP2001266279A (ja) 自動検針システム
CN113902408A (zh) 印刷电路板生产流程异常管理方法、装置、设备及存储介质
JP2011233088A (ja) 保守管理システム
CN111123142A (zh) 一种物联网燃气表电源管理检测方法
CN112350889A (zh) 一种监控区块链节点运行状态的系统及方法
JP3153791B2 (ja) 自動通報装置におけるガス残量監視装置
JP4112742B2 (ja) 部品実装装置
CN118170434B (zh) 电能表的数据清除方法、系统以及介质
CN117172925B (zh) 一种交易处理方法、装置、设备及介质
JPH04341696A (ja) 潤滑集中管理システム
JP2001076269A (ja) 稼働管理装置および稼働管理方法
JP3593274B2 (ja) 貯蔵タンク内残量管理システム
JPH0756620A (ja) 生産設備の稼働管理装置
JP2003021299A (ja) ガス供給監視システム及びガス残量監視装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20070418

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee