JPWO2019069960A1 - Methods for producing compounds, latent UV absorbers, compositions, cured products and cured products - Google Patents
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Abstract
下記一般式(I−1)で表される化合物。(式中、Aは紫外線吸収能を有する原子団を表し、Bは光脱離基を表し、kは1〜10の整数を表す。)下記一般式(I−2)で表される化合物と、光脱離基由来の脱離物とを含む組成物。(式中、Aは紫外線吸収能を有する原子団を表し、kは1〜10の整数を表す。)A compound represented by the following general formula (I-1). (In the formula, A represents an atomic group having an ultraviolet absorbing ability, B represents a photoleaving group, and k represents an integer of 1 to 10.) With a compound represented by the following general formula (I-2). , A composition comprising a leaving product derived from a photoleaving group. (In the formula, A represents an atomic group capable of absorbing ultraviolet rays, and k represents an integer of 1 to 10.)
Description
本発明は、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物に関するものである。 The present invention relates to a compound that has little curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to a cured product.
硬化性組成物の紫外線吸収能や耐熱性を向上させるために、硬化性組成物中に紫外線吸収剤や酸化防止剤を添加して安定化させる方法が知られている(特許文献1〜3)。 In order to improve the ultraviolet absorbing ability and heat resistance of the curable composition, a method of adding an ultraviolet absorber or an antioxidant to the curable composition to stabilize it is known (Patent Documents 1 to 3). ..
しかしながら、特許文献1〜3に記載の紫外線吸収剤は硬化性組成物の硬化を阻害する場合があるという課題があった。
このような課題に対して、本発明者等は、紫外線吸収剤が硬化性組成物を硬化させるために照射される光を吸収する作用があること、及び、このような作用を有するために、紫外線吸収剤を重合系内に添加すると、硬化阻害を生じる場合があることを見出した。However, the ultraviolet absorbers described in Patent Documents 1 to 3 have a problem that they may inhibit the curing of the curable composition.
In response to such problems, the present inventors have an effect that the ultraviolet absorber has an action of absorbing the light irradiated to cure the curable composition, and because it has such an action, It has been found that the addition of an ultraviolet absorber into a polymerization system may cause curing inhibition.
上記課題の解決手段として、重合系内では上述の光を吸収する作用が不活性化され、硬化後に活性化可能な潜在性添加剤が知られている。
しかしながら、硬化後に活性化可能な潜在性添加剤の活性化には、加熱等が必要な場合があるところ、より容易な活性化が要求される場合があった。As a means for solving the above problems, there is known a latent additive in which the above-mentioned light-absorbing action is inactivated in the polymerization system and can be activated after curing.
However, in some cases, heating or the like is required for activation of the latent additive that can be activated after curing, and in some cases, easier activation is required.
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a compound which has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to a cured product.
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、保護基として光脱離基を用いて、該光脱離基で紫外線吸収剤に含まれるフェノール性水酸基を保護することで、紫外線吸収能を発現させる時期の調整が容易となり、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have used a photoleaving group as a protecting group and protected the phenolic hydroxyl group contained in the ultraviolet absorber with the photoleaving group. , It has been found that the timing of developing the ultraviolet absorbing ability can be easily adjusted and the above-mentioned problems can be solved, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明は、下記一般式(I−1)で表される化合物を提供する。 That is, the present invention provides a compound represented by the following general formula (I-1).
(式中、Aは紫外線吸収能を有する原子団を表し、Bは光脱離基を表し、kは1〜10の整数を表す。) (In the formula, A represents an atomic group capable of absorbing ultraviolet rays, B represents a photoleaving group, and k represents an integer of 1 to 10.)
また、本発明は、上記一般式(I−1)で表される化合物を含む潜在性紫外線吸収剤を提供する。 The present invention also provides a latent ultraviolet absorber containing the compound represented by the above general formula (I-1).
また、本発明は、上記一般式(I−1)で表される化合物を含む組成物を提供する。 The present invention also provides a composition containing the compound represented by the above general formula (I-1).
また、本発明は、上記一般式(I−1)で表される化合物と、重合性化合物とを含む組成物の硬化物を提供する。 The present invention also provides a cured product of a composition containing the compound represented by the above general formula (I-1) and a polymerizable compound.
また、本発明は、前記一般式(I−1)で表される化合物と重合性化合物とを含む組成物を硬化させて硬化物を形成する工程と、前記硬化物に対して光を照射して、前記一般式(I−1)で表される化合物に含まれる光脱離基を脱離する工程とを有する硬化物の製造方法を提供する。 Further, the present invention comprises a step of curing a composition containing the compound represented by the general formula (I-1) and a polymerizable compound to form a cured product, and irradiating the cured product with light. The present invention provides a method for producing a cured product, which comprises a step of removing a photoleaving group contained in the compound represented by the general formula (I-1).
また、本発明は、下記一般式(I−2)で表される化合物(以下、「化合物I−2と称する場合がある。)と、光脱離基由来の脱離物(以下、「化合物B´」と称する場合がある。)とを含む組成物(以下、「第2組成物」と称する場合がある。)を提供する。 Further, in the present invention, a compound represented by the following general formula (I-2) (hereinafter, may be referred to as “Compound I-2”) and a desorbed product derived from a photoleaving group (hereinafter, “Compound”). A composition containing (may be referred to as "B'") (hereinafter, may be referred to as "second composition") is provided.
(式中、Aは、紫外線吸収能を有する原子団であり、kは1〜10の整数を表す。) (In the formula, A is an atomic group having an ultraviolet absorbing ability, and k represents an integer of 1 to 10.)
本発明は、化合物並びにそれを用いた紫外線吸収剤、組成物、その硬化物、硬化物の製造方法及び第2組成物に関するものである。以下、これらについて詳細に説明する。 The present invention relates to a compound, an ultraviolet absorber using the compound, a composition, a cured product thereof, a method for producing the cured product, and a second composition. These will be described in detail below.
A.化合物
まず、本発明の化合物について説明する。
本発明の化合物は下記一般式(I−1)で表される(以下、本発明の化合物を化合物I−1ともいう)。A. Compounds First, the compounds of the present invention will be described.
The compound of the present invention is represented by the following general formula (I-1) (hereinafter, the compound of the present invention is also referred to as compound I-1).
(式中、Aは、紫外線吸収能を有する原子団であり、Bは光脱離基であり、kは1〜10の整数を表す。) (In the formula, A is an atomic group capable of absorbing ultraviolet rays, B is a photoleaving group, and k represents an integer of 1 to 10.)
本発明の化合物I−1は、原子団Aが紫外線吸収能を有するものである。本発明の化合物I−1は、光脱離基Bの脱離前は紫外線吸収能が低いが、光脱離基Bの脱離後は、原子団Aに基づき優れた紫外線吸収能を示す。
よって、光脱離基Bが脱離前の化合物I−1を、例えば、重合系内に添加した場合、化合物I−1は紫外線吸収能が低いため、重合のために照射される光の吸収能が低く、重合系の硬化を阻害しづらい。
一方、本発明の化合物I−1は、光を照射することで、光脱離基が離脱し、優れた紫外線吸収能を発現する。よって、化合物I−1を含む硬化物に対して光照射することで、該硬化物に容易に紫外線吸収能を付与できる。化合物I−1はその紫外線吸収能を発現させるために加熱処理する必要がないことから、硬化物及び基材等のその周辺部材に対する加熱によるダメージを与えづらいという利点を有する。
以上の理由により、上記化合物I−1は、例えば、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できるのである。In the compound I-1 of the present invention, the atomic group A has an ultraviolet absorbing ability. The compound I-1 of the present invention has a low ultraviolet absorbing ability before the desorption of the photoleaving group B, but exhibits an excellent ultraviolet absorbing ability based on the atomic group A after the desorption of the photoleaving group B.
Therefore, when the compound I-1 before the photoleaving group B is eliminated is added into the polymerization system, for example, the compound I-1 has a low ability to absorb ultraviolet rays, so that the light absorbed for the polymerization is absorbed. The ability is low and it is difficult to inhibit the curing of the polymerization system.
On the other hand, the compound I-1 of the present invention is exposed to light to release photoleaving groups and exhibits excellent ultraviolet absorbing ability. Therefore, by irradiating the cured product containing the compound I-1 with light, the cured product can be easily imparted with an ultraviolet absorbing ability. Since compound I-1 does not need to be heat-treated in order to exhibit its ultraviolet absorbing ability, it has an advantage that it is difficult to damage the cured product and its peripheral members such as a base material by heating.
For the above reasons, the compound I-1 has little curing inhibition, for example, and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product.
また、本発明の化合物I−1は、光脱離基Bの脱離前は、感光性発現のために照射される光の吸収能が低い。そのため、化合物I−1を、光照射によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する感光性組成物に添加した場合、感光性を安定的に発現可能となる。また、上記化合物I−1は、感光性組成物に対して、光脱離基が脱離可能な光照射を実施することで、紫外線吸収能等を容易に付与できる。
このように、上記化合物I−1は、感光性組成物に対して、感光性の発現阻害が少なく、感光性組成物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できるのである。Further, the compound I-1 of the present invention has a low ability to absorb light irradiated for photosensitivity before desorption of the photoleaving group B. Therefore, when compound I-1 is added to a photosensitive composition whose solubility in an alkaline developer changes by light irradiation, the photosensitivity can be stably exhibited. Further, the compound I-1 can be easily imparted with an ultraviolet absorbing ability or the like by irradiating the photosensitive composition with light capable of desorbing a photoleaving group.
As described above, the compound I-1 has less inhibition of the expression of photosensitive with respect to the photosensitive composition, and can easily impart ultraviolet absorbing ability and the like to the photosensitive composition.
更に、本発明の化合物I−1は、光脱離基Bを有することにより、例えば、組成物中での分散又は溶解安定性を容易に調整できる。
化合物I−1は、組成物に含まれる他の成分との親和性が向上するように、光脱離基Bを選択することで、組成物中での優れた分散性を付与できる。
したがって、上記化合物I−1は、組成物に対して優れた紫外線吸収能を付与できるとともに、使用前の保存時等における優れた分散安定性も付与できる。Further, the compound I-1 of the present invention can easily adjust the dispersion or dissolution stability in the composition, for example, by having the photoleaving group B.
Compound I-1 can be imparted with excellent dispersibility in the composition by selecting the photoleaving group B so as to improve the affinity with other components contained in the composition.
Therefore, the compound I-1 can impart excellent ultraviolet absorbing ability to the composition and also can impart excellent dispersion stability during storage before use.
以下、本発明の化合物I−1について詳細に説明する。 Hereinafter, the compound I-1 of the present invention will be described in detail.
1.光脱離基B
本発明の化合物I−1は、光脱離基Bを有する。
本発明における光脱離基は、特定の波長の光が照射されることより化合物I−1から脱離可能な基とすることができる。化合物I−1に特定の波長の光を照射すると、化合物I−1から光脱離基Bが脱離し、下記一般式(I−2)で表される、水酸基と紫外線吸収能を有する原子団Aとを有する化合物が生成する。1. 1. Photoleaving group B
Compound I-1 of the present invention has a photoleaving group B.
The photoleaving group in the present invention can be a group that can be desorbed from compound I-1 by being irradiated with light of a specific wavelength. When compound I-1 is irradiated with light of a specific wavelength, the photoleaving group B is desorbed from compound I-1, and an atomic group having a hydroxyl group and an ultraviolet absorbing ability represented by the following general formula (I-2) A compound having A is produced.
(式中、Aは、紫外線吸収能を有する原子団を表し、kは1〜10の整数を表す。) (In the formula, A represents an atomic group capable of absorbing ultraviolet rays, and k represents an integer of 1 to 10.)
光脱離基Bが化合物I−1から脱離する光の波長は、例えば、紫外線又は可視光線の波長域である。具体的には、365nmの波長を含むものとすることができ、より具体的には、250nm以上450nm以下の波長の光を含むものとすることができ、好ましくは280nm以上380nm以下の波長の光を含むものとすることができる。
上記化合物I−1から光脱離基Bを脱離するために照射される光の積算光量は、例えば、1000mJ/cm2以上10000mJ/cm2以下とすることができ、1000mJ/cm2以上5000mJ/cm2以下であることが好ましく、2000mJ/cm2以上4000mJ/cm2以下であることがより好ましい。重合性化合物等を含む組成物の硬化のために照射される光の積算光量としては、通常、1000mJ/cm2未満とすることができる。したがって、積算光量が上述の範囲であることで、例えば、光硬化性組成物への適用が容易となるからである。
なお、光脱離基Bが脱離するとは、所望の紫外線吸収能を付与できるものであればよく、例えば、光脱離基の脱離率が50%以上となることとすることができ、なかでも、80%以上となることが好ましい。光硬化性組成物への適用が容易となるからである。
一方、上記化合物I−1は、光脱離が抑制される積算光量としては、所望の硬化阻害抑制効果が得られるものであればよく、1000mJ/cm2未満とすることができる。光硬化性組成物への適用が容易となるからである。
また、光脱離が抑制されるとは、所望の硬化阻害抑制効果が得られるものであればよく、例えば、光脱離基Bの脱離率が50%未満となることとすることができ、なかでも、20%以下となることが好ましい。光硬化性組成物への適用が容易となるからである。
上記積算光量は、化合物I−1の0.01質量%アセトニトリル溶液を調製し、実施例に記載の脱離率の測定方法と同様の方法を用いて測定することができる。The wavelength of light that the photoleaving group B desorbs from compound I-1 is, for example, the wavelength range of ultraviolet rays or visible light. Specifically, it can contain a wavelength of 365 nm, more specifically, it can contain light having a wavelength of 250 nm or more and 450 nm or less, and preferably it contains light having a wavelength of 280 nm or more and 380 nm or less. Can be done.
Integrated light quantity of the light irradiated to detach the light leaving group B from above Compound I-1, for example, it is a 1000 mJ / cm 2 or more 10000 mJ / cm 2 or less, 1000 mJ / cm 2 or more 5000mJ It is preferably 2 / cm or less, and more preferably 2000 mJ / cm 2 or more and 4000 mJ / cm 2 or less. The integrated amount of light irradiated for curing the composition containing the polymerizable compound and the like is usually less than 1000 mJ / cm 2 . Therefore, when the integrated light amount is in the above range, it can be easily applied to, for example, a photocurable composition.
The photoleaving group B is desorbed as long as it can impart a desired ultraviolet absorbing ability. For example, the desorption rate of the photoleaving group can be 50% or more. Above all, it is preferably 80% or more. This is because it can be easily applied to a photocurable composition.
On the other hand, the integrated light amount for which photodesorption is suppressed may be less than 1000 mJ / cm 2 as long as the desired effect of suppressing hardening inhibition can be obtained. This is because it can be easily applied to a photocurable composition.
Further, the fact that photoresorption is suppressed means that a desired effect of suppressing hardening inhibition can be obtained, and for example, the desorption rate of the photoleaving group B can be less than 50%. Above all, it is preferably 20% or less. This is because it can be easily applied to a photocurable composition.
The integrated light amount can be measured by preparing a 0.01 mass% acetonitrile solution of compound I-1 and using the same method as the method for measuring the desorption rate described in Examples.
上述の要件を満たす光脱離基Bとしては、具体的には、下記一般式(B−1)、(B−2)、(B−3)、(B−4)、(B−5)、(B−6)(B−7)及び(B−8)で表される基を挙げることができる。なかでも、下記一般式(B−1−a)、(B−2−a)、(B−3−a)、(B−4)、(B−5)、(B−6)、(B−7−a)、(B−7―b)及び(B−8−a)で表される基であることが好ましく、下記一般式(B−1−a)で表される基であることが好ましい。これらの光脱離基を採用することにより、化合物I−1から容易に脱離し、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できるからである。また、上述の要件を満たす光脱離基Bとしては、具体的には、下記一般式(B−9)及び(B−10)で表される基も挙げることができる。 Specific examples of the photoleaving group B satisfying the above requirements include the following general formulas (B-1), (B-2), (B-3), (B-4), and (B-5). , (B-6), (B-7) and (B-8). Among them, the following general formulas (B-1-a), (B-2-a), (B-3-a), (B-4), (B-5), (B-6), (B) It is preferably a group represented by -7-a), (B-7-b) and (B-8-a), and is a group represented by the following general formula (B-1-a). Is preferable. This is because by adopting these photoleaving groups, the compound I-1 can be easily desorbed and the cured product can be easily imparted with an ultraviolet absorbing ability or the like. Further, as the photoleaving group B satisfying the above-mentioned requirements, specifically, groups represented by the following general formulas (B-9) and (B-10) can be mentioned.
(式中、R11、R13、R16、R18、R19、R20、R23、R26及びR28は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R12、R14、R17、R21、R22、R24、R25、R27、R29及びR30は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R15は、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29及びR30で表されるアルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−CO−O−、−O−CO−S−、−CO−NH−、−NH−CO−、−NH−CO−O−、−NR'−、>P=O、−S−S−、−SO2−又はこれらの組み合わせで置き換わっている場合があり、
R’は、水素原子又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、
複数のR11同士、複数のR13同士、複数のR16同士、複数のR18同士、複数のR19同士、複数のR20同士、複数のR23同士、複数のR26同士及び複数のR28同士は、それぞれ結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成している場合があり、
複数のR11、R12、R13、R14、R16、R17、R18、R19、R20、R23、R25、R26、R27、R28、R29及びR30は、それぞれ同じである場合があり、異なる場合があり、
b1、b2、b3、b6、b7、b8及びb9は、それぞれ独立に0〜4の整数を表し、
b4及びb5は、それぞれ独立に0〜5の整数を表し、
**は、前記A−O−との結合位置を表す。)(In the formula, R 11 , R 13 , R 16 , R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 26 and R 28 are independently halogen atoms, cyano groups, hydroxyl groups, nitro groups, carboxyl groups, respectively. Represents an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
R 12 , R 14 , R 17 , R 21 , R 22 , R 24 , R 25 , R 27 , R 29 and R 30 are independently hydrogen atom, halogen atom, cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl. Represents a group, an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
R 15 represents an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aryl alkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 and R 30 are represented by alkyl groups and arylalkyl groups in which the methylene group is a carbon-carbon double bond, −O−, −S−, −CO−, −O—CO−,. -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-,> P = O, -SS-, -SO 2 -or a combination thereof may be replaced. Yes,
R'represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
A plurality of R 11 to each other, a plurality of R 13 to each other, between a plurality of R 16, together a plurality of R 18, together a plurality of R 19, a plurality of R 20 to each other, between a plurality of R 23, a plurality of R 26 to each other and a plurality of each other R 28 is may each combine together to form a benzene ring or a naphthalene ring,
A plurality of R 11, R 12, R 13 , R 14, R 16, R 17, R 18, R 19, R 20, R 23, R 25, R 26, R 27, R 28, R 29 and R 30 , Each may be the same, may be different,
b1, b2, b3, b6, b7, b8 and b9 each independently represent an integer of 0 to 4.
b4 and b5 each independently represent an integer of 0 to 5, respectively.
** represents the bonding position with the AO−. )
(式中、R31及びR40は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R32、R33、R41、R42、R43、R44は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R31、R32、R33、R40、R41、R42、R43及びR44で表されるアルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−CO−O−、−O−CO−S−、−CO−NH−、−NH−CO−、−NH−CO−O−、−NR’−、>P=O、−S−S−、−SO2−又はこれらの組み合わせで置き換わっている場合があり、
前記アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び複素環含有基は、置換基を有している場合があり、
c1は0〜5の整数を表し、
c2は0〜4の整数を表し、
**は、前記A−O−との結合位置を表す。)(In the formula, R 31 and R 40 are independently halogen atom, cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and carbon. Represents an arylalkyl group having 7 to 20 atoms or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms.
R 32 , R 33 , R 41 , R 42 , R 43 , and R 44 are independently hydrogen atoms, halogen atoms, cyano groups, hydroxyl groups, nitro groups, carboxyl groups, and alkyl groups having 1 to 40 carbon atoms. Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
The methylene groups in the alkyl and arylalkyl groups represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 and R 44 are carbon-carbon double bonds, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S -CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-,> P = O, -S-S-, It may be replaced by -SO 2- or a combination of these.
The alkyl group, aryl group, arylalkyl group and heterocyclic group may have a substituent and may have a substituent.
c1 represents an integer from 0 to 5,
c2 represents an integer from 0 to 4 and represents
** represents the bonding position with the AO−. )
上記R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R40、R41、R42、R43及びR44(以下、これらの官能基をまとめてR11等と称する場合がある。)で表される炭素原子数1〜40のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、iso−プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、iso−ブチル基、アミル基、iso−アミル基、tert−アミル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、2−ヘキシル基、3−ヘキシル基、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、2−ヘプチル基、3−ヘプチル基、iso−ヘプチル基、tert−ヘプチル基、1−オクチル基、iso−オクチル基、tert−オクチル基及びアダマンチル基等を挙げることができる。Said R 11, R 12, R 13 , R 14, R 15, R 16, R 17, R 18, R 19, R 20, R 21, R 22, R 23, R 24, R 25, R 26, R 27 , R 28 , R 29 , R 30 , R 31 , R 32 , R 33 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 and R 44 (hereinafter, these functional groups are collectively referred to as R 11 etc. ), Examples of the alkyl group having 1 to 40 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an iso-propyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an iso-butyl. Group, amyl group, iso-amyl group, tert-amyl group, cyclopentyl group, hexyl group, 2-hexyl group, 3-hexyl group, cyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl group, heptyl group, 2-heptyl group, 3- Examples thereof include a heptyl group, an iso-heptyl group, a tert-heptyl group, a 1-octyl group, an iso-octyl group, a tert-octyl group and an adamantyl group.
上記R11等で表される炭素原子数6〜20のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基等を挙げることができる。Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 11 or the like, for example, a phenyl group, a naphthyl group and anthracenyl group.
上記R11等で表される炭素原子数7〜20のアリールアルキル基としては、例えば、ベンジル基、フルオレニル基、インデニル基及び9−フルオレニルメチル基等を挙げることができる。Examples of the arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms represented by R 11 or the like, for example, a benzyl group, a fluorenyl group, an indenyl group and 9-fluorenylmethyl group.
上記R11等で表される炭素原子数2〜20の複素環含有基としては、例えば、ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピペリジル基、ピラニル基、ピラゾリル基、トリアジル基、ピロリル基、キノリル基、イソキノリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、トリアゾリル基、フリル基、フラニル基、ベンゾフラニル基、チエニル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、インドリル基、2−ピロリジノン−1−イル基、2−ピペリドン−1−イル基、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル基及び2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル基等を挙げることができる。Examples of the heterocyclic ring-containing group having 2 to 20 carbon atoms represented by R 11 or the like, for example, a pyridyl group, pyrimidyl group, pyridazyl group, piperidyl group, pyranyl group, a pyrazolyl group, a triazyl group, a pyrrolyl group, a quinolyl group , Isoquinolyl group, imidazolyl group, benzoimidazolyl group, triazolyl group, furyl group, furanyl group, benzofuranyl group, thienyl group, thiophenyl group, benzothiophenyl group, thiadiazolyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, oxazolyl group, benzoxazolyl group. , Isothiazolyl group, isooxazolyl group, indolyl group, 2-pyrrolidinone-1-yl group, 2-piperidone-1-yl group, 2,4-dioxyimidazolidine-3-yl group and 2,4-dioxyoxazolidine- 3-Il group and the like can be mentioned.
上記R’で表される炭素原子数1〜8のアルキル基としては、R11等で表されるアルキル基として例示したものうち、炭素原子数が1〜8であるものを挙げることができる。As the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R', among those exemplified as the alkyl group represented by R 11 or the like, those having 1 to 8 carbon atoms can be mentioned.
上記アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び複素環含有基は、置換基を有している場合がある。本発明の化合物I−1は、特に断りがない限り、置換基を有していないもの及び置換基を有しているものを含む。 The alkyl group, aryl group, arylalkyl group and heterocyclic group may have a substituent. Unless otherwise specified, the compound I-1 of the present invention includes those having no substituent and those having a substituent.
アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び複素環含有基等の水素原子を置換する場合がある置換基としては、例えば、ビニル基、アリル基、アクリル基及びメタクリル基等のエチレン性不飽和基;フッ素、塩素、臭素及びヨウ素等のハロゲン原子;アセチル基、2−クロロアセチル基、プロピオニル基、オクタノイル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、フェニルカルボニル(ベンゾイル)基、フタロイル基、4−トリフルオロメチルベンゾイル基、ピバロイル基、サリチロイル基、オキザロイル基、ステアロイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、n−オクタデシルオキシカルボニル基及びカルバモイル基等のアシル基;アセチルオキシ基及びベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基;アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、N−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基,ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、ホルミルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、カルバモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ基、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチル−メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基及びフェニルスルホニルアミノ基等の置換アミノ基;スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、リン酸基又はカルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基、リン酸基の塩等を挙げることができる。 Examples of the substituent that may substitute a hydrogen atom such as an alkyl group, an aryl group, an arylalkyl group and a heterocyclic group include an ethylenically unsaturated group such as a vinyl group, an allyl group, an acrylic group and a methacryl group; Halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; acetyl group, 2-chloroacetyl group, propionyl group, octanoyl group, acryloyl group, methacryloyl group, phenylcarbonyl (benzoyl) group, phthaloyl group, 4-trifluoromethylbenzoyl group. , Pivaloyl group, salicyloyl group, oxaloyl group, stearoyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-octadecyloxycarbonyl group, carbamoyl group and other acyl groups; acetyloxy group and benzoyloxy group and the like. Acyloxy group; amino group, ethylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anirino group, chlorophenylamino group, toluidino group, anisidino group, N- Methyl-anilino group, diphenylamino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, acetylamino group, benzoylamino group, formylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino group, carbamoylamino group , N, N-dimethylaminocarbonylamino group, N, N-diethylaminocarbonylamino group, morpholinocarbonylamino group, methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, t-butoxycarbonylamino group, n-octadecyloxycarbonylamino group, Substituent amino groups such as N-methyl-methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, N, N-dimethylaminosulfonylamino group, methylsulfonylamino group, butylsulfonylamino group and phenylsulfonylamino group; Sulfonamide group, sulfonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfo group, hydroxyl group, nitro group, mercapto group, imide group, carbamoyl group, sulfonamide group, phosphonic acid group, phosphoric acid group or carboxyl group, sulfo group, phosphonic acid Examples include salts of groups and phosphate groups.
本発明において、基の炭素原子数は、基中の水素原子が置換基で置換されている場合、その置換後の基の炭素原子数を規定する。例えば、上記炭素原子数1〜40のアルキル基の水素原子が置換されている場合、炭素原子数1〜40とは、水素原子が置換された後の炭素原子数を指し、水素原子が置換される前の炭素原子数を指すのではない。 In the present invention, the number of carbon atoms of a group defines the number of carbon atoms of the group after the hydrogen atom in the group is substituted with a substituent. For example, when the hydrogen atom of the alkyl group having 1 to 40 carbon atoms is substituted, the carbon atom number 1 to 40 refers to the number of carbon atoms after the hydrogen atom is substituted, and the hydrogen atom is substituted. It does not refer to the number of carbon atoms before.
本発明において、基の炭素原子数は、基中のメチレン基が上記2価の基で置き換わっている場合、その置換後の基の炭素原子数を規定する。例えば、本明細書中、炭素原子数1〜40のアルキル基中のメチレン基が上記2価の基で置き換わっている場合、該「炭素原子数1〜40」とは、メチレン基が置き換わった後の炭素原子数を指し、メチレン基が置き換わる前の炭素原子数を指すのではない。従って、「−O−C40H81」は、「末端のメチレン基が−O−で置き換えられている、炭素原子数40のアルキル基(=炭素原子数40のアルコキシ基)」に該当するものである。同様に、「−CO−O−C39H79」は、「末端のメチレン基が−CO−O−で置き換えられている、炭素原子数40のアルキル基」に該当するものである。In the present invention, the number of carbon atoms of a group defines the number of carbon atoms of the group after the methylene group in the group is replaced by the above divalent group. For example, in the present specification, when the methylene group in the alkyl group having 1 to 40 carbon atoms is replaced by the divalent group, the “1 to 40 carbon atoms” means after the methylene group is replaced. It refers to the number of carbon atoms in the above, not the number of carbon atoms before the replacement of the methylene group. Therefore, "-OC 40 H 81 " corresponds to "an alkyl group having 40 carbon atoms (= an alkoxy group having 40 carbon atoms) in which the methylene group at the terminal is replaced with -O-". Is. Similarly, "-CO-O-C 39H 79 " corresponds to "an alkyl group having 40 carbon atoms in which the terminal methylene group is replaced with -CO-O-".
R11等に用いられるアルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−CO−O−、−O−CO−S−、−CO−NH−、−NH−CO−、−NH−CO−O−、−NR'−、>P=O、−S−S−、−SO2−又はこれらの組み合わせで置き換わっている場合があるものである。
なお、上記メチレン基を置換する組み合わせは、酸素原子が隣り合わない条件での組み合わせとすることができる。Methylene group of the alkyl group and in the arylalkyl group used in R 11 or the like, a carbon - carbon double bond, -O -, - S -, - CO -, - O-CO -, - CO-O -, - O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-,- It may be replaced by NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-,> P = O, -SS-, -SO 2- or a combination thereof.
The combination for substituting the methylene group can be a combination under the condition that the oxygen atoms are not adjacent to each other.
R11等で表される炭素原子数1〜40のアルキル基は、基端側の末端のメチレン基が−O−で置き換えられ、アルコキシ基が形成される場合がある。そのようなアルコキシ基としては、例えば、炭素原子数1〜10のアルコキシ基が挙げられる。具体的には、メチルオキシ基、エチルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、アミルオキシ基、iso−アミルオキシ基、tert−アミルオキシ基、ヘキシルオキシ基、2−ヘキシルオキシ基、3−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−メチルシクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、2−ヘプチルオキシ基、3−ヘプチルオキシ基、iso−ヘプチルオキシ基、tert−ヘプチルオキシ基、1−オクチルオキシ基、iso−オクチルオキシ基及びtert−オクチルオキシ基等が挙げられる。In the alkyl group having 1 to 40 carbon atoms represented by R 11 or the like, the methylene group at the terminal end side may be replaced with —O— to form an alkoxy group. Examples of such an alkoxy group include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, methyloxy group, ethyloxy group, iso-propyloxy group, butyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, iso-butyloxy group, amyloxy group, iso-amyloxy group, tert-amyloxy group, hexyl. Oxy group, 2-hexyloxy group, 3-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, 4-methylcyclohexyloxy group, heptyloxy group, 2-heptyloxy group, 3-heptyloxy group, iso-heptyloxy group, tert- Examples thereof include a heptyloxy group, a 1-octyloxy group, an iso-octyloxy group and a tert-octyloxy group.
上記R11、R13、R16、R18、R19、R20、R23、R26及びR28は、水酸基以外の基であることが好ましく、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基等であることが好ましい。水酸基以外の基とすることで、光脱離基Bが化合物I−1から容易に脱離するものとなり、且つ化合物I−1の合成が容易となるからである。
上記R11及びR23は、ニトロ基、メトキシ基等の炭素原子数1〜10のアルコキシ基、メチル基等の炭素原子数1〜40のアルキル基、ハロゲン原子等であることが特に好ましい。光脱離基Bが化合物I−1から容易に脱離するものとなり、且つ化合物I−1の合成が容易となるからである。
上記R11は、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数1〜10のアルキル基又はハロゲン原子であることが好ましく、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数1〜5のアルキル基又はハロゲン原子であることがより好ましく、炭素原子数1〜5のアルコキシ基又はハロゲン原子であることが更に好ましく、炭素原子数1〜3のアルコキシ基、塩素原子又は臭素原子であることが特に好ましい。光脱離基Bが化合物I−1から容易に脱離するものとなり、且つ化合物I−1の合成が容易となるからである。
上記R13、R18、R19、R20、R26及びR28は、炭素原子数1〜40のアルキル基であることが好ましい。光脱離基Bが化合物I−1から容易に脱離するものとなり、且つ化合物I−1の合成が容易となるからである。
上記R16は、隣接する2つのR16同士が結合してベンゼン環を形成することが好ましい。光脱離基Bが化合物I−1から容易に脱離するものとなり、且つ化合物I−1の合成が容易となるからである。
上記R31及びR40は、水酸基以外の基であることが好ましく、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基等であることが好ましい。水酸基以外の基とすることで、光脱離基Bが化合物I−1から容易に脱離するものとなり、且つ化合物I−1の合成が容易となるからである。
上記R31は、炭素原子数1〜40のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数1〜10のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数1〜5のアルキル基であることが更に好ましく、炭素原子数1〜3のアルキル基であることが特に好ましい。The R 11 , R 13 , R 16 , R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 26 and R 28 are preferably groups other than hydroxyl groups, and are preferably halogen atoms, cyano groups, nitro groups and carboxyl groups. , An alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocyclic group containing 2 to 20 carbon atoms is preferable. This is because by using a group other than the hydroxyl group, the photoleaving group B is easily eliminated from the compound I-1, and the synthesis of the compound I-1 is facilitated.
It is particularly preferable that R 11 and R 23 are an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a nitro group and a methoxy group, an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms such as a methyl group, and a halogen atom. This is because the photoleaving group B is easily desorbed from compound I-1 and the synthesis of compound I-1 is facilitated.
The R 11 is preferably an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and has an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms and 1 to 5 carbon atoms. It is more preferably an alkyl group or a halogen atom, further preferably an alkoxy group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms, and further preferably an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, a chlorine atom or a bromine atom. Especially preferable. This is because the photoleaving group B is easily desorbed from compound I-1 and the synthesis of compound I-1 is facilitated.
The R 13 , R 18 , R 19 , R 20 , R 26 and R 28 are preferably alkyl groups having 1 to 40 carbon atoms. This is because the photoleaving group B is easily desorbed from compound I-1 and the synthesis of compound I-1 is facilitated.
The R 16 is preferably by bonding two R 16 adjacent to each other to form a benzene ring. This is because the photoleaving group B is easily desorbed from compound I-1 and the synthesis of compound I-1 is facilitated.
The R 31 and R 40 are preferably groups other than a hydroxyl group, and are a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and a carbon atom number. It is preferably an arylalkyl group having 7 to 20 or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms. This is because by using a group other than the hydroxyl group, the photoleaving group B is easily eliminated from the compound I-1, and the synthesis of the compound I-1 is facilitated.
The R 31 is preferably an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and further preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. It is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably.
上記R18及びR19で表されるアルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基が−O−置き換わっている場合、上記メチレン基を置き換わる−O−は、アルキル基及びアリールアルキル基をそれぞれ中断するように含まれる場合、すなわち、アルキル基及びアリールアルキル基の端部以外のメチレン基に置き換わっている場合がある。When the methylene group in the alkyl group represented by R 18 and R 19 and the aryl alkyl group is replaced with -O-, the -O- replacing the methylene group interrupts the alkyl group and the aryl alkyl group, respectively. In other words, it may be replaced with a methylene group other than the ends of the alkyl group and the arylalkyl group.
上記R12は、水素原子、カルボキシル基、炭素原子数1〜5のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基であることが特に好ましい。光脱離基Bが化合物I−1から容易に脱離するものとなり、且つ化合物I−1の合成が容易となるからである。
上記R14、R17、R21、R24、R25、R27、R29及びR30は、なかでも、水素原子、炭素原子数1〜40のアルキル基であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。光脱離基Bが化合物I−1から容易に脱離するものとなり、且つ化合物I−1の合成が容易となるからである。
上記R15及びR22は、炭素原子数1〜5のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することができるからである。
上記R32及びR33は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基又は炭素原子数1〜5のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することができるからである。
上記R41〜R44は、それぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基又は炭素原子数1〜5のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することができるからである。The R 12 is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. This is because the photoleaving group B is easily desorbed from compound I-1 and the synthesis of compound I-1 is facilitated.
The above R 14 , R 17 , R 21 , R 24 , R 25 , R 27 , R 29 and R 30 are preferably hydrogen atoms and alkyl groups having 1 to 40 carbon atoms, and are preferably hydrogen atoms. It is particularly preferable to have. This is because the photoleaving group B is easily desorbed from compound I-1 and the synthesis of compound I-1 is facilitated.
The R 15 and R 22 are preferably alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably methyl groups. This is because it is possible to provide a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
The R 32 and R 33 are each independently preferably a hydrogen atom, a carboxyl group or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and are hydrogen atoms. Is particularly preferable. This is because it is possible to provide a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
Each of the above R 41 to R 44 is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and is a hydrogen atom. Is particularly preferable. This is because it is possible to provide a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
上記b1、b2、b3、b6、b7、b8及びb9は、それぞれ独立に0〜4の整数とすることができるが、合成の容易さの観点から、0〜3の整数であることが好ましく、0〜2の整数であることがより好ましく、0〜1であることが更に好ましく、0であることが特に好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することができるからである。
上記b4及びb5は、それぞれ独立に0〜5の整数とすることができるが、合成の容易さの観点から、0〜3の整数であることが好ましく、0〜2の整数であることがより好ましく、0〜1であることが更に好ましく、0であることが特に好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することができるからである。
上記c1は、0〜5の整数とすることができるが、合成の容易さの観点から、0〜3の整数であることが好ましく、0〜2の整数であることがより好ましく、0〜1の整数であることが更に好ましく、1であることが特に好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することができるからである。
上記c2は、0〜4の整数とすることができるが、合成の容易さの観点から、0〜3の整数であることが好ましく、0〜2の整数であることがより好ましく、0〜1の整数であることが更に好ましく、0であることが特に好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することができるからである。The above b1, b2, b3, b6, b7, b8 and b9 can each be independently an integer of 0 to 4, but from the viewpoint of ease of synthesis, it is preferably an integer of 0 to 3. It is more preferably an integer of 0 to 2, further preferably 0 to 1, and particularly preferably 0. This is because it is possible to provide a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
The above b4 and b5 can be independently set to an integer of 0 to 5, but from the viewpoint of ease of synthesis, it is preferably an integer of 0 to 3, and more preferably an integer of 0 to 2. It is preferably 0 to 1, more preferably 0, and particularly preferably 0. This is because it is possible to provide a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
The above c1 can be an integer of 0 to 5, but from the viewpoint of ease of synthesis, it is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and 0 to 1. It is more preferably an integer of 1, and particularly preferably 1. This is because it is possible to provide a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
The above c2 can be an integer of 0 to 4, but from the viewpoint of ease of synthesis, it is preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and 0 to 1. It is more preferably an integer of, and particularly preferably 0. This is because it is possible to provide a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
本発明の化合物I−1に含まれる光脱離基Bの種類は、kが2以上である場合、化合物I−1当たり1種類である場合があり、2種類以上である場合があるが、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与でき、且つ、化合物I−1の合成を容易にする観点から、1種類であることが好ましい。 The type of photoleaving group B contained in the compound I-1 of the present invention may be one type per compound I-1 when k is 2 or more, and may be two or more types. From the viewpoint of less inhibition of curing, easy imparting ultraviolet absorbing ability to the cured product, and facilitating the synthesis of compound I-1, one type is preferable.
上記光脱離基の含有数kは、1〜10の整数であるが、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与でき、且つ、合成の容易さの観点から、1〜5の整数であることが好ましく、1〜4の整数であることがより好ましく、1〜3の整数であることが特に好ましい。 The content k of the photoleaving group is an integer of 1 to 10, but from the viewpoint of less curing inhibition, easy imparting ultraviolet absorbing ability to the cured product, and easiness of synthesis. It is preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 4, and particularly preferably an integer of 1 to 3.
2.紫外線吸収能を有する原子団A
原子団Aは、紫外線吸収能を有する原子団である。
本発明の化合物I−1は特定の波長の光が照射されることで、光脱離基Bが脱離し、水酸基を有する化合物I−2が生成される。そして、原子団Aが紫外線吸収能を有することにより、化合物I−2が紫外線吸収能を発揮する。2. 2. Atomic group A capable of absorbing ultraviolet rays
Atomic group A is an atomic group having an ultraviolet absorbing ability.
When the compound I-1 of the present invention is irradiated with light having a specific wavelength, the photoleaving group B is eliminated to produce the compound I-2 having a hydroxyl group. Then, since the atomic group A has an ultraviolet absorbing ability, the compound I-2 exerts an ultraviolet absorbing ability.
「紫外線吸収能を有する」とは、例えば、紫外線吸収能を有する化合物、具体的には光脱離基Bの脱離後の化合物I−1、即ち、化合物I−2が、波長が250nm以上450nm以下の範囲の光を吸収できるものとすることができる。本発明において紫外線吸収能を有する原子団は、紫外線吸収能を有する基又は紫外線吸収能を有する基を少なくとも一つ有する原子の集合体とすることができる。
紫外線吸収能を有するとは、より具体的には、光脱離基Bの脱離後の化合物I−1、即ち、化合物I−2が、波長250nm以上600nm以内の範囲で、最大吸収波長が250nm以上400nm以下である光を吸収することができ、最大吸収波長が260nm以上390nm以下の光を吸収することができることが好ましく、最大吸収波長が280nm以上380nm以下の光を吸収することが特に好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することができるからである。
光脱離基Bの脱離後の化合物I−1、即ち、化合物I−2の最大吸収波長は、例えば、以下の測定方法で測定することができる。
評価用サンプルとして、例えば、光脱離基Bの脱離後の化合物I−1、即ち、化合物I−2を溶媒(アセトニトリル)中に0.01質量%の濃度となるように溶解したものを用いる。そして、評価用サンプルを、石英セル(光路長10mm、厚み1.25mm)に充填し、吸光光度計(例えば、U−3900(日立ハイテクサイエンス社製)を用いて吸光度を測定することで得ることができる。“Having an ultraviolet absorbing ability” means that, for example, a compound having an ultraviolet absorbing ability, specifically, compound I-1 after desorption of a photoleaving group B, that is, compound I-2 has a wavelength of 250 nm or more. It can absorb light in the range of 450 nm or less. In the present invention, the atomic group having an ultraviolet absorbing ability can be an aggregate of atoms having at least one group having an ultraviolet absorbing ability or a group having an ultraviolet absorbing ability.
More specifically, the compound I-1 after desorption of the photoremoving group B, that is, the compound I-2 has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 250 nm or more and 600 nm or less. It is preferable to be able to absorb light having a maximum absorption wavelength of 250 nm or more and 400 nm or less, preferably to absorb light having a maximum absorption wavelength of 260 nm or more and 390 nm or less, and particularly preferably to absorb light having a maximum absorption wavelength of 280 nm or more and 380 nm or less. .. This is because it is possible to provide a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
The maximum absorption wavelength of compound I-1, that is, compound I-2 after elimination of the photoleaving group B can be measured by, for example, the following measuring method.
As an evaluation sample, for example, compound I-1 after elimination of the photoleaving group B, that is, compound I-2 dissolved in a solvent (acetonitrile) at a concentration of 0.01% by mass was used. Use. Then, the evaluation sample is filled in a quartz cell (optical path length 10 mm, thickness 1.25 mm), and the absorbance is measured using an absorptiometer (for example, U-3900 (manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation)). Can be done.
また、本発明の化合物I−1は、光脱離基Bの脱離前の化合物I−1の最大吸収波長と光脱離基Bの脱離後の化合物I−1(化合物I−2)の最大吸収波長を比較したときに、250nm以上600nm以内の範囲で、光脱離基Bの脱離前の化合物I−1の最大吸収波長が、化合物I−2の最大吸収波長よりも短波長であることが好ましい。光硬化性組成物への適用が容易となるからである。
上記化合物I−1の、上記光脱離基Bの脱離後の化合物I−2との最大吸収波長の差は、1nm以上であることが好ましく、1nm以上100nm以下であることがより好ましく、1nm以上50nm以下であることが特に好ましい。光硬化性組成物への適用が容易となるからである。Further, the compound I-1 of the present invention contains the maximum absorption wavelength of the compound I-1 before the desorption of the photoremoval group B and the compound I-1 (compound I-2) after the desorption of the photoremoval group B. In the range of 250 nm or more and 600 nm or less, the maximum absorption wavelength of compound I-1 before the desorption of the photoremoving group B is shorter than the maximum absorption wavelength of compound I-2. Is preferable. This is because it can be easily applied to a photocurable composition.
The difference in the maximum absorption wavelength of the compound I-1 from that of the compound I-2 after desorption of the photoleaving group B is preferably 1 nm or more, more preferably 1 nm or more and 100 nm or less. It is particularly preferably 1 nm or more and 50 nm or less. This is because it can be easily applied to a photocurable composition.
このような原子団Aとしては、フェノール性水酸基を有する紫外線吸収剤に一般的に用いられる原子団と同様とすることができる。すなわち、上記化合物I−2は、フェノール性水酸基を有する紫外線吸収剤として一般的に用いられるものである。
具体的には、上記化合物I−2として、特開2017−008221号公報に記載の2−ヒドロキシベンゾフェノン類、2−(2'−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類、ベンゾエート類及びトリアリールトリアジン類等や、特開2002−97224号公報に記載のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤等を用いることができる。Such an atomic group A can be the same as the atomic group generally used for an ultraviolet absorber having a phenolic hydroxyl group. That is, the compound I-2 is generally used as an ultraviolet absorber having a phenolic hydroxyl group.
Specifically, as the compound I-2, 2-hydroxybenzophenones, 2- (2'-hydroxyphenyl) benzotriazoles, benzoates, triaryltriazines and the like described in JP-A-2017-008221 are used. , Benzotriazole-based ultraviolet absorbers and benzophenone-based ultraviolet absorbers described in JP-A-2002-97224 can be used.
上記原子団Aとしては、例えば、光脱離基Bによりフェノール性水酸基が保護されているフェノール構造、すなわち、上記B−O−が直接結合しているベンゼン環を含むものが挙げられる。具体的には、B−O−が直接結合するベンゼン環とベンゾトリアゾール環とを含む原子団;B−O−が直接結合するベンゾフェノン環を含む原子団;及びB−O−が直接結合するベンゼン環とトリアジン環を含む原子団を挙げることができる。ベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基及びトリアジン基の少なくとも1種の基が、上記フェノール構造に含まれるベンゼン環に直接結合している構造を含むものであることが好ましく、なかでも、ベンゾトリアゾール基、ベンゾフェノン基及びトリアジン基の少なくとも1種の基のベンゼン環への結合位置が、上記B−O−の結合位置に対して、オルト位であるものであることが好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物とすることが容易だからである。 Examples of the atomic group A include a phenol structure in which a phenolic hydroxyl group is protected by a photoleaving group B, that is, a substance containing a benzene ring to which the BO— is directly bonded. Specifically, an atomic group containing a benzene ring and a benzotriazole ring to which BO- is directly bonded; an atomic group containing a benzophenone ring to which BO- is directly bonded; and benzene to which BO- is directly bonded. Atomic groups including rings and triazine rings can be mentioned. It is preferable that at least one group of the benzotriazole group, the benzophenone group and the triazine group contains a structure directly bonded to the benzene ring contained in the phenol structure, and among them, the benzotriazole group, the benzophenone group and the triazine group. It is preferable that the bond position of at least one group to the benzene ring is the ortho position with respect to the bond position of BO-. This is because it is easy to prepare a compound that has little curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product.
本願発明の化合物I−1としては、例えば、下記一般式(A−1)、(A−2)及び(A−3)で表されるものを挙げることができる。 Examples of the compound I-1 of the present invention include those represented by the following general formulas (A-1), (A-2) and (A-3).
(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、炭素原子数2〜20の複素環含有基又は前記−O−Bを表し、
R1及びR2の少なくとも一方は、前記−O−Bであり、
R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8で表されるアルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−CO−O−、−O−CO−S−、−CO−NH−、−NH−CO−、−NH−CO−O−、−NR'−、>P=O、−S−S−、−SO2−又はこれらの組み合わせで置き換わっている場合もあり、
R’は、水素原子又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、
複数のR3同士、複数のR4同士、複数のR5同士、複数のR6同士及び複数のR7同士は、それぞれ結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成している場合があり、
複数のR3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じ場合があり、異なる場合があり、
m1及びm2は、それぞれ独立に、1〜10の整数を表し、
nは、1〜3の整数を表し、
a1は、0〜4の整数を表し、
a2は、0〜2の整数を表し、
a3は、0〜4の整数を表し、
a4は、0〜3の整数を表し、
a5は、0〜3の整数を表し、
a6は、0〜3−nの整数を表し、
X1及びX2は、それぞれm1価及びm2価の結合基を表す。)(In the formula, R 1 and R 2 are independently hydrogen atom, halogen atom, cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, and aryl having 6 to 20 carbon atoms, respectively. Represents a group, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, or the above-OB.
At least one of R 1 and R 2 is the above-OB.
R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 independently have a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, and a carbon atom number. Represents an aryl group of 6 to 20, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms.
The methylene group in the alkyl group or arylalkyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 is a carbon-carbon double bond, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S -CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-,> P = O, -S-S-, It may be replaced by -SO 2- or a combination of these.
R'represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
A plurality of R 3 to each other, a plurality of R 4 with each other, a plurality of R 5 to each other, a plurality of R 6 to each other and a plurality of R 7 each other, might be combined with each other to form a benzene ring or a naphthalene ring,
Multiple R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different, respectively.
m1 and m2 each independently represent an integer of 1 to 10.
n represents an integer from 1 to 3 and represents
a1 represents an integer from 0 to 4 and represents
a2 represents an integer from 0 to 2 and represents
a3 represents an integer from 0 to 4 and represents
a4 represents an integer from 0 to 3 and represents
a5 represents an integer from 0 to 3 and represents
a6 represents an integer of 0 to 3-n and represents
X 1 and X 2 represent m1-valent and m-valent binding groups, respectively. )
上記R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8で表される炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、炭素原子数2〜20の複素環含有基、及びR’で表される炭素原子数1〜8のアルキル基としては、上記「1.光脱離基B」の項に記載のR11等及びR’として例示したものを挙げることができる。Alkyl groups having 1 to 40 carbon atoms, aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, and carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 above. Examples of the arylalkyl group having the number 7 to 20, the heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms, and the alkyl group having the carbon number 1 to 8 represented by R'are the above-mentioned "1. Photoremoving group B". It may be mentioned those exemplified as R 11 or the like and R 'according to the section.
上記R1及びR2は、少なくとも一方が、上記−O−Bである。
上記R1及びR2は、合成容易の観点からは、一方が上記−O−Bであることが好ましい。
上記R1及びR2は、紫外線吸収能の変化を大きいものとする観点からは、R1及びR2の両者が上記−O−Bであることが好ましい。
上記R1及びR2は、一方のみが上記−O−Bである場合、他方は、水素原子、水酸基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基であることが好ましく、水素原子又は炭素原子数1〜40のアルキル基であることがより好ましい。上記R1及びR2の他方が、上記官能基であることで、上記化合物I−1は、紫外線吸収能の変化が大きいものとなるからである。また、上記化合物I−1は、硬化阻害が少ないものとなるからである。
また、上記アルキル基及びアリールアルキル基等としては、例えば、メチレン基が−O−、−CO−等により中断されているもの等も好ましく用いることができる。At least one of R 1 and R 2 is −OB.
From the viewpoint of ease of synthesis, it is preferable that one of R 1 and R 2 is −OB.
It said R 1 and R 2, from the viewpoint of the larger the change in ultraviolet absorbing ability, it is preferable both R 1 and R 2 are the -O-B.
When only one of R 1 and R 2 is −OB, the other is a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and a carbon atom. It is preferably an arylalkyl group having a number of 7 to 20 or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms. This is because the other of R 1 and R 2 is the functional group, so that the compound I-1 has a large change in the ultraviolet absorbing ability. Further, the compound I-1 has less inhibition of curing.
Further, as the above-mentioned alkyl group, arylalkyl group and the like, for example, one in which the methylene group is interrupted by -O-, -CO- or the like can be preferably used.
上記R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、シアノ基、水酸基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基であることが好ましく、シアノ基、水酸基、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数7〜10のアリールアルキル基であることがより好ましく、なかでも、炭素原子数3〜20のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数3〜10のアルキル基であることがより好ましい。本発明の化合物I−1の合成が容易となり、化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮するからである。The R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are preferably cyano groups, hydroxyl groups, alkyl groups having 1 to 40 carbon atoms, and aryl alkyl groups having 7 to 20 carbon atoms. , Cyano group, hydroxyl group, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, arylalkyl group having 7 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 3 to 20 carbon atoms. It is preferably an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, more preferably. This is because the compound I-1 of the present invention can be easily synthesized, and the compound I-1 exhibits an excellent ultraviolet absorbing ability after elimination of the photoleaving group B.
また、光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮可能とする観点からは、R4は、炭素原子数3〜15の分岐構造を有するアルキル基であることが好ましく、炭素原子数5〜12の分岐構造を有するアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数6〜11の分岐構造を有するアルキル基であることが更に好ましく、炭素原子数7〜10の分岐構造を有するアルキル基であることが特に好ましい。
R4のベンゼン環中の結合箇所としては、結合可能ないずれの位置に結合するものであってもよいが、−O−Bの結合箇所に対して、パラ位であることが好ましい。化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮するからである。Further, the light from the viewpoint of enabling excellent ultraviolet absorptivity after elimination of the leaving group B, R 4 is preferably an alkyl group having a branched structure having a carbon number of 3 to 15, carbon atoms It is more preferably an alkyl group having a branched structure of several 5 to 12, further preferably an alkyl group having a branched structure having 6 to 11 carbon atoms, and an alkyl having a branched structure having 7 to 10 carbon atoms. It is particularly preferable that it is a group.
The bond site of R 4 in the benzene ring may be any position at which it can be bonded, but it is preferably in the para position with respect to the bond site of −OB. This is because compound I-1 exhibits an excellent ultraviolet absorbing ability after elimination of the photoleaving group B.
光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮可能とする観点からは、R5及びR6は、ベンゼン環側末端のメチレン基が−O−で置き換わっている炭素原子数1〜20のアルキル基、すなわち、炭素原子数1〜20のアルコキシ基であることが好ましく、なかでも、炭素原子数3〜15のアルコキシ基であることが好ましく、炭素原子数5〜12のアルコキシ基であることが特に好ましい。
R5及びR6のベンゼン環中の結合箇所としては、結合可能ないずれの位置に結合するものであってもよいが、−O−Bの結合箇所に対して、メタ位であることが好ましい。化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮するからである。From the viewpoint of enabling excellent ultraviolet absorptivity after elimination of the light leaving group B, R 5 and R 6 carbon atoms 1 methylene group on the benzene ring side ends are replaced by -O- It is preferably an alkyl group of 20, that is, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably an alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms, and an alkoxy group having 5 to 12 carbon atoms. It is particularly preferable to have.
The bonding site of R 5 and R 6 in the benzene ring may be any position that can be bonded, but it is preferably in the meta position with respect to the bonding site of −OB. .. This is because compound I-1 exhibits an excellent ultraviolet absorbing ability after elimination of the photoleaving group B.
光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮可能とする観点からは、R7は、ベンゼン環側末端のメチレン基が−O−で置き換わっている炭素原子数1〜20のアルキル基、すなわち、炭素原子数1〜20のアルコキシ基であることが好ましく、なかでも、ベンゼン環側末端以外のメチレン鎖が、−O−、−O−CO−で置き換えられた炭素原子数3〜20のアルコキシ基であることが好ましく、特に、ベンゼン環側末端以外のメチレン鎖が−O−、−O−CO−で置き換えられた炭素原子数3〜15のアルコキシ基であることが好ましく、特に、ベンゼン環側末端以外のメチレン鎖が−O−、−O−CO−で置き換えられた炭素原子数6〜15のアルコキシ基であることが好ましく、なかでも特に、ベンゼン環側末端以外のメチレン鎖が−O−、−O−CO−で置き換えられた炭素原子数8〜13のアルコキシ基であることが好ましい。
R7のベンゼン環中の結合箇所としては、結合可能ないずれの位置に結合するものであってもよいが、−O−Bの結合箇所に対して、メタ位であることが好ましい。化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮するからである。
光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮可能とする観点からは、R8は、炭素原子数6〜20のアリール基であることが好ましく、なかでも、炭素原子数6〜12のアリール基であることが好ましく、特に、置換基を有している場合があるフェニル基であることが好ましい。From the viewpoint of enabling excellent ultraviolet absorption ability after desorption of the photoleaving group B, R 7 is an alkyl having 1 to 20 carbon atoms in which the methylene group at the terminal on the benzene ring side is replaced with −O−. It is preferably a group, that is, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and among them, a methylene chain other than the terminal on the benzene ring side is replaced with -O- or -O-CO- and has 3 to 3 carbon atoms. It is preferably an alkoxy group of 20, and particularly preferably an alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms in which the methylene chain other than the terminal on the benzene ring side is replaced with -O- or -O-CO-. , The methylene chain other than the benzene ring side terminal is preferably an alkoxy group having 6 to 15 carbon atoms in which -O- and -O-CO- are replaced, and in particular, the methylene chain other than the benzene ring side end. Is preferably an alkoxy group having 8 to 13 carbon atoms substituted with −O− or −O—CO−.
The bond site of R 7 in the benzene ring may be any position where it can be bonded, but it is preferably in the meta position with respect to the bond site of −OB. This is because compound I-1 exhibits an excellent ultraviolet absorbing ability after elimination of the photoleaving group B.
From the viewpoint of enabling excellent ultraviolet absorption ability after desorption of the photo-eliminating group B, R8 is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and among them, 6 to 12 carbon atoms. It is preferably an aryl group of, and particularly preferably a phenyl group which may have a substituent.
また、上記アルキル基及び上記アリールアルキル基としては、メチレン基が中断されていないもの、及び−O−、−CO−等により中断されているものいずれも好ましく用いることができる。 Further, as the alkyl group and the arylalkyl group, those in which the methylene group is not interrupted and those in which the methylene group is interrupted by -O-, -CO- or the like can be preferably used.
上記m1及びm2は、1〜10の整数を表す。合成の容易さの観点から、上記m1及びm2は、それぞれ独立に、1〜6の整数であることが好ましく、1〜4の整数であることがより好ましく、1〜3の整数であることが特に好ましく、なかでも特に、1〜2の整数であることが好ましい。上記化合物I−1の合成が容易となり、化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮するからである。
また、化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮する観点からは、m2は、1の整数であることが好ましい。The above m1 and m2 represent integers of 1 to 10. From the viewpoint of ease of synthesis, m1 and m2 are preferably integers of 1 to 6, more preferably integers of 1 to 4, and preferably integers of 1 to 3, respectively. It is particularly preferable, and in particular, it is preferably an integer of 1 to 2. This is because the synthesis of the compound I-1 becomes easy, and the compound I-1 exhibits an excellent ultraviolet absorbing ability after the elimination of the photoleaving group B.
Further, from the viewpoint that compound I-1 exhibits an excellent ultraviolet absorbing ability after elimination of the photoleaving group B, m2 is preferably an integer of 1.
上記nは、1〜3の整数を表す。化合物I−1が紫外線吸収能の変化が大きいものとなる観点から、上記nは2〜3の整数であることが好ましく、3であることが特に好ましい。化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮する観点からは、上記nは、1〜2の整数であることが好ましく、1であることが特に好ましい。 The above n represents an integer of 1 to 3. From the viewpoint that the change in the ultraviolet absorbing ability of the compound I-1 is large, the above n is preferably an integer of 2 to 3, and particularly preferably 3. From the viewpoint that compound I-1 exhibits an excellent ultraviolet absorbing ability after desorption of the photoleaving group B, the above n is preferably an integer of 1 to 2, and particularly preferably 1.
上記a1及びa3は、それぞれ独立に、0〜4の整数を表す。合成の容易さの観点から、上記a1及びa3は、それぞれ独立に、0〜3の整数であることが好ましく、0〜2の整数であることがより好ましく、0〜1の整数であることが特に好ましい。化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮する化合物とすることができるからである。
上記a2は、0〜2の整数の整数を表す。溶解性の観点から、上記a2は1〜2の整数であることが好ましい。また、化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮する観点からは、上記a2は、1であることが好ましい。
上記a4及びa5は、それぞれ独立に、0〜3の整数を表す。合成の容易さの観点から、上記a4及びa5は0〜2の整数であることが好ましく、1〜2の整数であることが特に好ましく、特に1であることが好ましい。化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮する化合物とすることができるからである。
上記a6は、0〜3−nの整数を表す。上記a6は、化合物I−1が光脱離基Bの脱離後に優れた紫外線吸収能を発揮する観点、合成の容易さの観点から、0〜1の整数であることが好ましく、0であることが好ましい。The above a1 and a3 independently represent an integer of 0 to 4. From the viewpoint of ease of synthesis, the above a1 and a3 are each independently preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and preferably an integer of 0 to 1. Especially preferable. This is because compound I-1 can be a compound that exhibits excellent ultraviolet absorbing ability after elimination of the photoleaving group B.
The above a2 represents an integer of 0 to 2. From the viewpoint of solubility, the above a2 is preferably an integer of 1 to 2. Further, from the viewpoint that compound I-1 exhibits excellent ultraviolet absorbing ability after desorption of photoleaving group B, the above a2 is preferably 1.
The above a4 and a5 each independently represent an integer of 0 to 3. From the viewpoint of ease of synthesis, the above a4 and a5 are preferably an integer of 0 to 2, particularly preferably an integer of 1 to 2, and particularly preferably 1. This is because compound I-1 can be a compound that exhibits excellent ultraviolet absorbing ability after elimination of the photoleaving group B.
The above a6 represents an integer of 0 to 3-n. The a6 is preferably an integer of 0 to 1 from the viewpoint of the compound I-1 exhibiting an excellent ultraviolet absorbing ability after elimination of the photoleaving group B and the ease of synthesis, and is 0. Is preferable.
上記一般式(A−1)及び(A−2)で表される化合物I−1は、X1及びX2(以下、Xと称する場合がある。)で表されるm1価又はm2価(以下、m価と称する場合がある。)の特定の原子又は基に、m1個又はm2個(以下、m個と称する場合がある。)の特定の基が結合した構造を有する。このm個の特定の基は、互いに同じである場合があり、異なる場合がある。The compound I-1 represented by the general formulas (A-1) and (A-2) has an m1 valence or an m2 valence (hereinafter, may be referred to as X) represented by X 1 and X 2 (hereinafter, may be referred to as X). It has a structure in which m1 or m2 (hereinafter, may be referred to as m) specific groups are bonded to a specific atom or group of m-valence (hereinafter, may be referred to as m-valent). The m specific groups may be the same or different from each other.
上記Xは、m価の結合基を表すものである。
上記結合基Xとしては、具体的には、直接結合、水素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子、下記(II−a)若しくは(II−b)で表される基、>C=O、>NR53、−OR53、−SR53、−NR53R54又はmと同数の価数を有する炭素原子数1〜120の脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基若しくは炭素原子数2〜35の複素環含有基を表し、R53及びR54は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数2〜35の複素環含有基を表し、該脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基及び複素環含有基は、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−CO−O−、−O−CO−S−、−CO−NH−、−NH−CO−、−NH−CO−O−、−NH−CO−O−、−NR’−、−S−S−、−SO2−、窒素原子又はこれらの組み合わせで中断されている場合もあり、上記芳香環又は複素環は、他の環と縮合されている場合もある。
但し、Xが窒素原子、リン原子又は下記(II−a)又は(II−b)で表される結合基の場合、mは3であり、Xが酸素原子又は硫黄原子、>C=O、−NH−CO−、−CO−NH−又は>NR53の場合、mは2であり、Xが−OR53、−SR53又は−NR53R54の場合、mは1であり、Xは、ベンゼン環と一緒になって環を形成している場合もある。The X represents an m-valent binding group.
Specific examples of the bonding group X include a direct bond, a hydrogen atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, a group represented by the following (II-a) or (II-b),> C. = O,> NR 53 , -OR 53 , -SR 53 , -NR 53 R 54 or m, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 120 carbon atoms and an aromatic group having 6 to 35 carbon atoms. It represents a ring-containing hydrocarbon group or a heterocyclic group having 2 to 35 carbon atoms, and R 53 and R 54 are independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 35 carbon atoms, and a carbon atom number. The aromatic ring-containing hydrocarbon group of 6 to 35 or the heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms is represented, and the aliphatic hydrocarbon group, the aromatic ring-containing hydrocarbon group and the heterocyclic ring-containing group are −O−, −. S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S- CO-O -, - O- CO-S -, - CO-NH -, - NH-CO -, - NH-CO-O -, - NH-CO-O -, - NR '-, - S-S It may be interrupted by −, −SO 2− , a nitrogen atom or a combination thereof, and the aromatic ring or heterocycle may be fused with another ring.
However, when X is a nitrogen atom, a phosphorus atom or a bonding group represented by the following (II-a) or (II-b), m is 3, X is an oxygen atom or a sulfur atom,> C = O, If -NH-CO-, -CO-NH- or> NR 53 , m is 2, and if X is -OR 53 , -SR 53 or -NR 53 R 54 , m is 1 and X is. In some cases, the ring is formed together with the benzene ring.
(*は、*部分で隣接する基と結合することを意味する。) (* Means that it binds to an adjacent group at the * part.)
上記結合基Xで表される、mと同数の価数を有する炭素原子数1〜120の脂肪族炭化水素基は、mが1価のものとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、第三アミル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、2−ヘキシル基、3−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ビシクロヘキシル基、1−メチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、2−ヘプチル基、3−ヘプチル基、イソヘプチル基、第三ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、第三オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、イソノニル基及びデシル基等のアルキル基;メチルオキシ基、エチルオキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、第二ブチルオキシ基、第三ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、アミルオキシ基、イソアミルオキシ基、第三アミルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、第三ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、第三オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基及びデシルオキシ基等のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、第二ブチルチオ基、第三ブチルチオ基、イソブチルチオ基、アミルチオ基、イソアミルチオ基、第三アミルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、イソヘプチルチオ基、第三ヘプチルチオ基、n−オクチルチオ基、イソオクチルチオ基、第三オクチルチオ基及び2−エチルヘキシルチオ基等のアルキルチオ基;ビニル基、1−メチルエテニル基、2−メチルエテニル基、2−プロペニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、イソブテニル基、3−ペンテニル基、4−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、ビシクロヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ぺンタデセニル基、エイコセニル基及びトリコセニル基等のアルケニル基;並びにこれらの基が後述する置換基により置換された基等が挙げられる。 The aliphatic hydrocarbon group having the same number of valences as m and having 1 to 120 carbon atoms represented by the binding group X has, for example, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group as those having a monovalent m. , Isopropyl group, cyclopropyl group, butyl group, secondary butyl group, tertiary butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, tertiary amyl group, cyclopentyl group, hexyl group, 2-hexyl group, 3-hexyl group. , Cyclohexyl group, bicyclohexyl group, 1-methylcyclohexyl group, heptyl group, 2-heptyl group, 3-heptyl group, isoheptyl group, tertiary heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, tertiary octyl group, 2- Alkyl groups such as ethylhexyl group, nonyl group, isononyl group and decyl group; methyloxy group, ethyloxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butyloxy group, secondary butyloxy group, tertiary butyloxy group, isobutyloxy group, amyloxy group , Isoamyloxy group, tertiary amyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, isoheptyloxy group, tertiary heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, tertiary octyloxy group, Alkoxy groups such as 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group and decyloxy group; methylthio group, ethylthio group, propylthio group, isopropylthio group, butylthio group, second butylthio group, tertiary butylthio group, isobutylthio group, amylthio group, isoamyl. Alkylthio groups such as thio group, tertiary amylthio group, hexylthio group, cyclohexylthio group, heptylthio group, isoheptylthio group, tertiary heptylthio group, n-octylthio group, isooctylthio group, tertiary octylthio group and 2-ethylhexylthio group. Vinyl group, 1-methylethenyl group, 2-methylethenyl group, 2-propenyl group, 1-methyl-3-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, isobutenyl group, 3-pentenyl group, Alkenyl groups such as 4-hexenyl group, cyclohexenyl group, bicyclohexenyl group, heptenyl group, octenyl group, decenyl group, pentadecenyl group, eicosenyl group and tricosenyl group; and groups in which these groups are substituted with substituents described later. And so on.
上記結合基Xで表される、mと同数の価数を有する炭素原子数1〜120の脂肪族炭化水素基は、mが2価のものとしては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基及びブチルジイル基等のアルキレン基;上記アルキレン基のメチレン鎖が−O−、−S−、−CO−O−、−O−CO−で置き換えられたもの;エタンジオール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール等のジオール基の残基;エタンジチオール、プロパンジチオール、ブタンジチオール、ペンタンジチオール、ヘキサンジチオール等のジチオール基の残基及びこれらの基が後述する置換基により置換された基等が挙げられる。 The aliphatic hydrocarbon group having the same number of valences as m and having 1 to 120 carbon atoms represented by the bonding group X has a methylene group, an ethylene group, a propylene group and a butylene as having a divalent m. An alkylene group such as a group and a butyldiyl group; the methylene chain of the alkylene group is replaced with -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-; ethanediol, propanediol, butanediol, Residues of diol groups such as pentandiol and hexanediol; residues of dithiol groups such as ethanedithiol, propanedithiol, butanedithiol, pentandithiol and hexanedithiol and groups in which these groups are substituted with substituents described later are included. Can be mentioned.
上記結合基Xで表される、mと同数の価数を有する炭素原子数1〜120の脂肪族炭化水素基は、mが3価のものとしては、例えば、プロピリジン基及び1,1,3−ブチリジンプロピリジン基等のアルキリジン基;並びにこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられる。 The aliphatic hydrocarbon group having the same number of valences as m and having 1 to 120 carbon atoms represented by the above-mentioned bonding group X has, for example, a propyridine group and 1,1, as those having a trivalent m. Examples thereof include an alkylidine group such as a 3-butylidine propyridine group; and a group in which these groups are substituted with a substituent described later.
上記結合基Xで表される、mと同数の価数を有する、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基は、mが1価のものとしては、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、スチリル基及びシンナミル基等のアリールアルキル基;フェニル基及びナフチル基等のアリール基;フェノキシ基及びナフチルオキシ基等のアリールオキシ基;フェニルチオ基及びナフチルチオ基等のアリールチオ基:並びに、これらの基が後述する置換基により置換された基等が挙げられる。 The aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms and having the same number of valences as m, which is represented by the above-mentioned bonding group X, has a benzyl group, a phenethyl group or a diphenylmethyl as a monovalent m. Arylalkyl groups such as groups, triphenylmethyl groups, styryl groups and cinnamyl groups; aryl groups such as phenyl groups and naphthyl groups; aryloxy groups such as phenoxy groups and naphthyloxy groups; arylthio groups such as phenylthio groups and naphthylthio groups: In addition, a group in which these groups are substituted with a substituent described later can be mentioned.
上記結合基Xで表される、mと同数の価数を有する、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基は、mが2価のものとしては、フェニレン基及びナフチレン基等のアリーレン基;カテコール基、ビスフェノール基等の二官能フェノール基の残基;2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン基;並びにこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられる。 The aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms and having the same number of valences as m, which is represented by the above-mentioned bonding group X, has an arylene such as a phenylene group and a naphthylene group as having a divalent m. Group; Residue of bifunctional phenol group such as catechol group, bisphenol group; 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane group; and group in which these groups are substituted with substituents described later. Can be mentioned.
上記結合基Xで表される、mと同数の価数を有する、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基は、mが3価のものとしては、フェニル−1,3,5−トリメチレン基及びこの基が後述する置換基により置換された基が挙げられる。 The aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms and having the same number of valences as m, which is represented by the above-mentioned bonding group X, has phenyl-1,3,5- as a trivalent m. Examples thereof include a trimethylene group and a group in which this group is substituted with a substituent described later.
上記結合基Xで表される、mと同数の価数を有する炭素原子数2〜35の複素環含有基は、mが1価のものとしては、ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピペリジル基、ピラニル基、ピラゾリル基、トリアジル基、ピロリル基、キノリル基、イソキノリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、トリアゾリル基、フリル基、フラニル基、ベンゾフラニル基、チエニル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基、チアジアゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、インドリル基、2−ピロリジノン−1−イル基、2−ピペリドン−1−イル基、2,4−ジオキシイミダゾリジン−3−イル基、2,4−ジオキシオキサゾリジン−3−イル基及びベンゾトリアゾイル基等、並びにこれらの基が後述する置換基により置換された基等が挙げられる。 The heterocyclic group having the same number of valences as m and having 2 to 35 carbon atoms represented by the above-mentioned bonding group X has a pyridyl group, a pyrimidyl group, a pyridadyl group, and a piperidyl group as those having a monovalent m. , Pyranyl group, pyrazolyl group, triazil group, pyrrolyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, imidazolyl group, benzoimidazolyl group, triazolyl group, frill group, furanyl group, benzofuranyl group, thienyl group, thiophenyl group, benzothiophenyl group, thiadiazolyl group , Thiazolyl group, benzothiazolyl group, oxazolyl group, benzoxazolyl group, isothiazolyl group, isooxazolyl group, indolyl group, 2-pyrrolidinone-1-yl group, 2-piperidone-1-yl group, 2,4-dioxyimidazole Examples thereof include a lysine-3-yl group, a 2,4-dioxyoxazolidine-3-yl group, a benzotriazoyl group and the like, and a group in which these groups are substituted with a substituent described later.
上記結合基Xで表される、mと同数の価数を有する炭素原子数2〜35の複素環含有基は、mが2価のものとしては、ピリジン環、ピリミジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、トリアジン環、フラン環、チオフェン環及びインドール環等を有する2価の基、並びにこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられる。 The heterocyclic group having the same number of valences as m and having 2 to 35 carbon atoms represented by the above-mentioned bonding group X has a pyridine ring, a pyrimidine ring, a piperidine ring, and a piperazin ring as those having a divalent m. , A divalent group having a triazine ring, a furan ring, a thiophene ring, an indole ring and the like, and a group in which these groups are substituted with a substituent described later.
上記結合基Xで表される、mと同数の価数を有する炭素原子数2〜35の複素環含有基は、mが3価のものとしては、イソシアヌル環を有する3価の基、トリアジン環を有する3価の基及びこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられる。 The heterocyclic group having the same number of valences as m and having 2 to 35 carbon atoms represented by the bonding group X is a triazine ring having an isocyanul ring as a trivalent group having m. Examples thereof include a trivalent group having the above and a group in which these groups are substituted with a substituent described later.
R53及びR54で表される炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基としては、上記Xで表される脂肪族炭化水素基又は該脂肪族炭化水素基が後述する置換基により置換された基のうち、炭素原子数が1〜35のものが挙げられる。
R53及びR54で表される炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数2〜35の複素環含有基としては、上記Xで表される炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基若しくは炭素原子数2〜35の複素環含有基又はこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられる。As the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 35 carbon atoms represented by R 53 and R 54 , the aliphatic hydrocarbon group represented by X or the aliphatic hydrocarbon group is substituted with a substituent described later. Among the groups, those having 1 to 35 carbon atoms can be mentioned.
The aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms or the heterocyclic group having 2 to 35 carbon atoms represented by R 53 and R 54 has a carbon atom number of 6 to 35 represented by X. Examples thereof include an aromatic ring-containing hydrocarbon group, a heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms, or a group in which these groups are substituted with a substituent described later.
上記脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基及び複素環含有基等の各官能基は、置換基を有している場合がある。本発明の化合物I−1は、特に断りがない限り、置換基を有していないもの及び置換基を有しているものを含む。
このような脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基及び複素環含有基等の置換基としては、例えば、R11等に用いられるアルキル基等の水素原子を置換する置換基と同じものを挙げることができる。Each functional group such as the aliphatic hydrocarbon group, the aromatic ring-containing hydrocarbon group and the heterocyclic ring-containing group may have a substituent. Unless otherwise specified, the compound I-1 of the present invention includes those having no substituent and those having a substituent.
Such aliphatic hydrocarbon group, the substituent group such as an aromatic ring-containing hydrocarbon group and heterocyclic ring-containing group, for example, the same as the substituents replacing a hydrogen atom and alkyl groups used for R 11 or the like Can be mentioned.
上記一般式(A−1)及び(A−2)において、mが2であるとき、Xは、下記一般式(1)で表される基を表す場合がある。 In the above general formulas (A-1) and (A-2), when m is 2, X may represent a group represented by the following general formula (1).
(上記一般式(1)中、Y1は、単結合、−CR55R56−、−NR57−、二価の炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基、二価の炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基、二価の炭素原子数2〜35の複素環含有基、又は、下記(1−1)〜(1−3)で表されるいずれかの基を表し、該脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基及び炭素原子数2〜35の複素環含有基は、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−若しくは−NH−又はこれらの組み合わせの基で中断されている場合もあり、
R55及びR56は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基又は炭素原子数7〜20のアリールアルキル基を表し、
Z1及びZ2は、それぞれ独立に、直接結合、−O−、−S−、>CO、−CO−O−、−O−CO−、−SO2−、−SS−、−SO−、>NR57又は>PR58を表し、
R57及びR58は、水素原子、炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数2〜35の複素環含有基を表し、
*は、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)(In the general formula (1), Y 1 represents a single bond, -CR 55 R 56 -, - NR 57 -, a divalent aliphatic hydrocarbon group having a carbon number of 1 to 35, divalent carbon atoms Represents an aromatic ring-containing hydrocarbon group of 6 to 35, a heterocyclic ring-containing group having a divalent carbon atom number of 2 to 35, or any of the groups represented by (1-1) to (1-3) below. , The aliphatic hydrocarbon group, the aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms, and the heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms are: -O-, -S-, -CO-, -COO-. , -OCO- or -NH- or a combination thereof may be interrupted.
R 55 and R 56 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aryl alkyl group having 7 to 20 carbon atoms.
Z 1 and Z 2 are independently bonded directly, -O-, -S-,> CO, -CO-O-, -O-CO-, -SO 2- , -SS-, -SO-, respectively. Represents> NR 57 or> PR 58
R 57 and R 58 represent a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 35 carbon atoms, an aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms, or a heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms. ,
* Means that the * portion is attached to an adjacent group. )
(上記式中、R59は水素原子、置換基を有している場合もあるフェニル基、又は置換基を有している場合もある炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を表し、
R60は炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜10のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、上記アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は置換基を有している場合もあり、
c1は0〜5の整数を表す、
*は、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)(In the above formula, R 59 represents a hydrogen atom, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms which may have a substituent.
R 60 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms or a halogen atom, and the alkyl group, the alkoxy group and the alkenyl group are substituents. May have
c1 represents an integer from 0 to 5,
* Means that the * portion is attached to an adjacent group. )
(*は、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。) (* Means that it is bonded to an adjacent group at the * part.)
(上記式中、R61及びR62は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数6〜20のアリールオキシ基、炭素原子数6〜20のアリールチオ基、炭素原子数6〜20のアリールアルケニル基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基、炭素原子数2〜20の複素環含有基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は不飽和結合、−O−又は−S−で置き換わっている場合もあり、
R61は、隣接するR61同士で環を形成している場合もあり、
c2は0〜4の数を表し、
c3は0〜8の数を表し、
c4は0〜4の数を表し、
c5は0〜4の数を表し、
c4とc5の数の合計は2〜4であり、
*は、*部分で、隣接する基と結合することを意味する。)(In the above formula, R 61 and R 62 are independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, respectively. Represents an arylthio group of 6 to 20, an arylalkenyl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms or a halogen atom, and the alkyl group and The methylene group in the arylalkyl group may be replaced by an unsaturated bond, -O- or -S-.
R 61 may form a ring between adjacent R 61s .
c2 represents a number from 0 to 4,
c3 represents a number from 0 to 8
c4 represents a number from 0 to 4,
c5 represents a number from 0 to 4,
The total number of c4 and c5 is 2-4,
* Means that the * portion is attached to an adjacent group. )
(上記一般式(2)中、Y11は、三価の炭素原子数3〜35の脂肪族炭化水素基、炭素原子数3〜35の脂環族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数2〜35の複素環含有基を表し、
Z1、Z2及びZ3は、それぞれ独立に、直接結合、−O−、−S−、>CO、−CO−O−、−O−CO−、−SO2−、−SS−、−SO−、>NR62、PR62、炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数2〜35の複素環含有基を表し、
R62は、水素原子、炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数2〜35の複素環含有基を表し、
該脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基及び炭素原子数2〜35の複素環含有基は、炭素−炭素二重結合、−O−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−又は−SO2−で中断されている場合がある。)(In the above general formula (2), Y 11 is a trivalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 35 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 35 carbon atoms, and 6 to 35 carbon atoms. Represents an aromatic ring-containing hydrocarbon group or a heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms.
Z 1 , Z 2 and Z 3 are independently bonded directly, -O-, -S-,> CO, -CO-O-, -O-CO-, -SO 2- , -SS-,-. Represents SO-,> NR 62 , PR 62 , an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 35 carbon atoms, an aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms, or a heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms. ,
R 62 represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 35 carbon atoms, an aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms, or a heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms.
The aliphatic hydrocarbon group, the aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms and the heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms are carbon-carbon double bonds, −O−, −CO−, −. It may be interrupted by O-CO-, -CO-O- or -SO 2- . )
(上記一般式(3)中、Y12は、炭素原子、四価の炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基、四価の炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基、又は四価の炭素原子数2〜35の複素環含有基を表し、該脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数2〜35の複素環含有基は、−COO−、−O−、−OCO−、−NHCO−、−NH−又は−CONH−で中断されている場合があり、Z1〜Z4は、それぞれ独立に、上記一般式(2)におけるZ1〜Z3で表される基と同じ範囲の基を表す。)(In the above general formula (3), Y 12 is a carbon atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 35 tetravalent carbon atoms, an aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 tetravalent carbon atoms, or A tetravalent heterocyclic group having 2 to 35 carbon atoms is represented, and the aliphatic hydrocarbon group, an aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms, or a heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms is used. , -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH- or -CONH- may be interrupted, and Z 1 to Z 4 are independently represented by the above general formula (2). Represents a group in the same range as the group represented by Z 1 to Z 3 in.)
(上記一般式(4)中、Y13は、五価の炭素原子数2〜35の脂肪族炭化水素基、五価の炭素原子数6〜30の芳香環含有炭化水素基又は五価の炭素原子数2〜30の複素環含有基を表し、該脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基若しくは炭素原子数2〜35の複素環含有基は、−COO−、−O−、−OCO−、−NHCO−、−NH−又は−CONH−で中断されている場合もあり、Z1〜Z5は、それぞれ独立に、上記一般式(2)におけるZ1〜Z3で表される基と同じ基を表す。)(In the above general formula (4), Y 13 is an aliphatic hydrocarbon group having a pentavalent carbon atom number of 2 to 35, an aromatic ring-containing hydrocarbon group having a pentavalent carbon atom number of 6 to 30, or a pentavalent carbon. The aliphatic hydrocarbon group having 2 to 30 atoms, the aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms, or the heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms is −COO−. , -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH- or -CONH- may be interrupted, and Z 1 to Z 5 are independently Z 1 to Z 1 to the above general formula (2). Represents the same group as the group represented by Z 3. )
(上記一般式(5)中、Y14は、単結合、六価の炭素原子数2〜35の脂肪族炭化水素基、六価の炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は六価の炭素原子数2〜35の複素環含有基を表し、該脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基若しくは炭素原子数2〜35の複素環含有基は、−COO−、−O−、−OCO−、−NHCO−、−NH−又は−CONH−で中断されている場合があり、Z1〜Z6は、それぞれ独立に、上記一般式(7)におけるZ1〜Z3で表される基と同じ基を表す。)(In the above general formula (5), Y 14 is a single bond, an aliphatic hydrocarbon group having hexavalent carbon atoms of 2 to 35, an aromatic ring-containing hydrocarbon group having hexavalent carbon atoms of 6 to 35, or six. The aliphatic hydrocarbon group, the aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms, or the heterocyclic ring-containing group having 2 to 35 carbon atoms represents a heterocyclic group having a valence of 2 to 35 carbon atoms. -COO -, - O -, - OCO -, - NHCO -, - may NH- or -CONH- is interrupted by, Z 1 to Z 6 are each independently, in the general formula (7) Represents the same group as the group represented by Z 1 to Z 3. )
上記一般式(1)で表される基におけるY1で表される二価の炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基としては、メタン、エタン、プロパン、iso−プロパン、ブタン、sec−ブタン、tert−ブタン、iso−ブタン、ヘキサン、2−メチルヘキサン、3−メチルヘキサン、ヘプタン、2−メチルヘプタン、3−メチルヘプタン、iso−ヘプタン、tert−ヘプタン、1−メチルオクタン、iso−オクタン、tert−オクタン、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、2,4−ジメチルシクロブタン、4−メチルシクロヘキサン等が、Z1及びZ2で置換された二価の基が挙げられる。これらの基は、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−NH−又はこれらを組み合わせた基で中断されている場合がある。Examples of the divalent aliphatic hydrocarbon group represented by Y1 in the group represented by the general formula (1) having 1 to 35 carbon atoms include methane, ethane, propane, iso-propane, butane, and sec-. Butane, tert-butane, iso-butane, hexane, 2-methylhexane, 3-methylhexane, heptane, 2-methylheptane, 3-methylheptan, iso-heptane, tert-heptane, 1-methyloctane, iso-octane , Tart-octane, cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, 2,4-dimethylcyclobutane, 4-methylcyclohexane and the like, and divalent groups in which Z 1 and Z 2 are substituted. These groups may be interrupted by -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- or a combination of these.
上記一般式(1)で表される基におけるY1で表される二価の炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基としては、フェニレン、ナフチレン、ビフェニル等の基が、Z1及びZ2で置換された二価の基等が挙げられる。The divalent aromatic ring-containing hydrocarbon group having a carbon number of 6 to 35 represented by Y 1 in the group represented by the general formula (1), phenylene, naphthylene, a group of biphenyl, Z 1 and Examples thereof include a divalent group substituted with Z 2 .
上記一般式(1)で表される基におけるY1で表される二価の炭素原子数2〜35の複素環含有基としては、ピリジン、ピラジン、ピペリジン、ピペラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、ヘキサヒドロトリアジン、フラン、テトラヒドロフラン、クロマン、キサンテン、チオフェン、チオラン等が、Z1及びZ2で置換された二価の基が挙げられる。The divalent heterocyclic ring-containing group having a carbon number of 2 to 35 represented by Y 1 in the group represented by the general formula (1), pyridine, pyrazine, piperidine, piperazine, pyrimidine, pyridazine, triazine, hexa hexahydrotriazine, furan, tetrahydrofuran, chroman, xanthene, thiophene, thiolane, etc. may be mentioned divalent groups substituted with Z 1 and Z 2.
上記一般式(1)で表される基におけるY1で表される脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基及び複素環含有基は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基又は炭素原子数1〜8のアルコキシ基で置換されている場合がある。
上記脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基及び複素環含有基等の各官能基は、置換基を有している場合があるものであり、特に断りがない限り、置換基を有していない無置換である又は置換基を有しているものである。
このような脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基及び複素環含有基等の置換基としては、R11等に用いられるアルキル基等の水素原子を置換する置換基と同じものが挙げられる。Aliphatic hydrocarbon group represented by Y 1 in the group represented by the general formula (1), aromatic ring-containing hydrocarbon group and heterocyclic ring-containing group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group or a C 1 -C It may be substituted with ~ 8 alkoxy groups.
Each functional group such as the aliphatic hydrocarbon group, the aromatic ring-containing hydrocarbon group and the heterocyclic ring-containing group may have a substituent, and unless otherwise specified, each functional group has a substituent. It is not substituted or has a substituent.
Such aliphatic hydrocarbon group, the substituent group such as an aromatic ring-containing hydrocarbon group and heterocyclic ring-containing group include the same as the substituents replacing a hydrogen atom and alkyl groups used for R 11 or the like ..
上記一般式(1)で表される基におけるR55及びR56で表される炭素原子数1〜8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソブチル基、アミル基、イソアミル基、t−アミル基、ヘキシル基、2−ヘキシル基、3−ヘキシル基、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、ヘプチル基、2−ヘプチル基、3−ヘプチル基、イソヘプチル基、t−ヘプチル基、1−オクチル基、イソオクチル基及びt−オクチル基等が挙げられる。Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 55 and R 56 in the group represented by the general formula (1), a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, s- Butyl group, t-butyl group, isobutyl group, amyl group, isoamyl group, t-amyl group, hexyl group, 2-hexyl group, 3-hexyl group, cyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl group, heptyl group, 2-heptyl group. Examples include a group, a 3-heptyl group, an isoheptyl group, a t-heptyl group, a 1-octyl group, an isooctyl group and a t-octyl group.
上記一般式(1)で表される基におけるR55及びR56で表される炭素原子数6〜20のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、4−ビニルフェニル基、3−iso−プロピルフェニル基、4−iso−プロピルフェニル基、4−ブチルフェニル基、4−iso−ブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、4−ヘキシルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、4−オクチルフェニル基、4−(2−エチルヘキシル)フェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル基、2,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、2,6−ジ−tert−ブチルフェニル基、2,4−ジ−tert−ペンチルフェニル基、2,5−ジ−tert−アミルフェニル基及び2,4,5−トリメチルフェニル基等が挙げられる。
上記一般式(1)で表される基におけるR55及びR56で表される炭素原子数7〜20のアリールアルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、2−フェニルプロパン−2−イル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、スチリル、シンナミル等が挙げられる。Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 55 and R 56 in the group represented by the general formula (1), a phenyl group, a naphthyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group , 4-Methylphenyl group, 4-Vinylphenyl group, 3-iso-propylphenyl group, 4-iso-propylphenyl group, 4-butylphenyl group, 4-iso-butylphenyl group, 4-tert-butylphenyl group , 4-hexylphenyl group, 4-cyclohexylphenyl group, 4-octylphenyl group, 4- (2-ethylhexyl) phenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethyl Phenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2,4-di-tert-butylphenyl group, 2,5-di-tert-butylphenyl group , 2,6-di-tert-butylphenyl group, 2,4-di-tert-pentylphenyl group, 2,5-di-tert-amylphenyl group, 2,4,5-trimethylphenyl group and the like. ..
The aryl alkyl group having 7 to 20 carbon atoms represented by R 55 and R 56 in the group represented by the general formula (1), benzyl group, phenethyl group, 2-phenyl-2-yl group, Examples thereof include a diphenylmethyl group, a triphenylmethyl group, styryl, and cinnamyl.
上記一般式(1)で表される基におけるR57及びR58で表される炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数2〜35の複素環含有基は、R53及びR54として例示したものと同じものを挙げることができる。An aliphatic hydrocarbon group having 1 to 35 carbon atoms represented by R 57 and R 58 , an aromatic ring-containing hydrocarbon group having 6 to 35 carbon atoms, or a carbon atom in the group represented by the general formula (1). Examples of the heterocyclic group having the number 2 to 35 are the same as those exemplified as R 53 and R 54 .
上記一般式(1−1)で表される基における、R59で表される炭素原子数3〜10のシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへブチル基、シクロオクチル基等及びこれらの基が炭素原子数1〜10のアルキル基若しくは炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された基等が挙げられる。Among the groups represented by the above general formula (1-1), the cycloalkyl group represented by R 59 having 3 to 10 carbon atoms includes a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohebutyl group, and a cyclo. Examples thereof include an octyl group and a group in which these groups are substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.
上記一般式(1−1)で表される基における、R60で表される炭素原子数1〜10のアルキル基としては、上記「1.光脱離基B」の項においてR11等で表されるアルキル基として例示したもののうち、炭素原子数が1〜10であるものが挙げられる。
上記一般式(1−1)で表される基における、R60で表される炭素原子数1〜10のアルコキシ基としては、上記「1.光脱離基B」の項においてR11等で表されるアルコキシ基として例示したもののうち、炭素原子数が1〜10のものが挙げられる。
上記一般式(1−1)で表される基における、R60で表される炭素原子数2〜10のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基、2−ブテニル基、1,3−ブタジエニル基、2−ペンテニル基及び2−オクテニル等が挙げられる。
上記R60で表されるアルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基はハロゲン原子で置換されている場合もあり、その置換位置は制限されない。In the group represented by the general formula (1-1), the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 60 is represented by R 11 or the like in the above section “1. Photoleaving group B”. Among those exemplified as the represented alkyl groups, those having 1 to 10 carbon atoms can be mentioned.
In the group represented by the general formula (1-1), the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 60, in the section of "1. light leaving group B" in R 11 or the like Among those exemplified as the represented alkoxy groups, those having 1 to 10 carbon atoms can be mentioned.
In the group represented by the general formula (1-1), as the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms represented by R 60, a vinyl group, an allyl group, a 1-propenyl group, isopropenyl group, 2- Butenyl group, 1,3-butadienyl group, 2-pentenyl group, 2-octenyl and the like can be mentioned.
The alkyl group represented by R 60, alkoxy and alkenyl groups may have been substituted with a halogen atom, the substituted position is not limited.
上記一般式(1−3)で表される基における、R61及びR62で表される炭素原子数1〜10のアルキル基、炭索原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基としては、上記「1.光脱離基B」の項にR11等として例示したものうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられる。Among the groups represented by the above general formula (1-3), an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 61 and R 62 , an aryl group having 6 to 20 carbon cord atoms, and 7 to 7 carbon atoms. the arylalkyl group 20, in the section of "1. light leaving group B" among those exemplified as R 11 or the like, include those satisfying a predetermined number of carbon atoms.
上記一般式(1−3)で表される基における、R61及びR62で表される炭素原子数6〜20のアリールオキシ基としては、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、2−メチルフェニルオキシ基、3−メチルフェニルオキシ基、4−メチルフェニルオキシ基、4−ビニルフェニル二オキシ基、3−iso−プロピルフェニルオキシ基、4−iso−プロピルフェニルオキシ基、4−ブチルフェニルオキシ基、4−tert−ブチルフェニルオキシ基、4−へキシルフェニルオキシ基、4−シクロヘキシルフェニルオキシ基、4−オクチルフェニルオキシ基、4−(2−エチルヘキシル)フェニルオキシ基、2,3−ジメチルフェニルオキシ基、2,4−ジメチルフェニルオキシ基、2,5−ジメチルフェニルオキシ基、2,6−ジメチルフェニルオキシ基、3,4−ジメチルフェニルオキシ基、3,5−ジメチルフェニルオキシ基、2,4−ジーtert−ブチルフェニルオキシ基、2,5−ジーtert−ブチルフェニルオキシ基、2,6−ジーtert−ブチルフェニルオキシ基、2,4−ジーtert−ペンチルフェニルオキシ基、2,5−tert−アミルフェニルオキシ基、4−シクロへキシルフェニルオキシ基、2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基及びフェロセニルオキシ基及びこれらの基がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。Among the groups represented by the above general formula (1-3), the aryloxy groups having 6 to 20 carbon atoms represented by R 61 and R 62 include phenyloxy group, naphthyloxy group and 2-methylphenyloxy. Group, 3-methylphenyloxy group, 4-methylphenyloxy group, 4-vinylphenyldioxy group, 3-iso-propylphenyloxy group, 4-iso-propylphenyloxy group, 4-butylphenyloxy group, 4 -Tert-Butylphenyloxy group, 4-hexylphenyloxy group, 4-cyclohexylphenyloxy group, 4-octylphenyloxy group, 4- (2-ethylhexyl) phenyloxy group, 2,3-dimethylphenyloxy group, 2,4-Dimethylphenyloxy group, 2,5-dimethylphenyloxy group, 2,6-dimethylphenyloxy group, 3,4-dimethylphenyloxy group, 3,5-dimethylphenyloxy group, 2,4-G tert-butylphenyloxy group, 2,5-di tert-butylphenyloxy group, 2,6-di tert-butylphenyloxy group, 2,4-di tert-pentylphenyloxy group, 2,5-tert-amyl Examples thereof include a phenyloxy group, a 4-cyclohexylphenyloxy group, a 2,4,5-trimethylphenyloxy group and a ferrosenyloxy group, and a group in which these groups are substituted with halogen atoms.
上記一般式(1−3)で表される基における、R61及びR62で表される炭素原子数6〜20のアリールチオ基としては、上記ハロゲン原子で置換されている場合がある炭素原子数6〜20のアリールオキシ基の酸素原子を硫黄原子に置換したものが挙げられる。In the group represented by the general formula (1-3), the arylthio group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 61 and R 62 may be substituted with the halogen atom. Examples thereof include those in which the oxygen atom of 6 to 20 aryloxy groups is replaced with a sulfur atom.
上記一般式(1−3)で表される基における、R61及びR62で表される炭素原子数8〜20のアリールアルケニル基としては、上記ハロゲン原子で置換されている場合もある炭素原子数6−20のアリールオキシ基の酸素原子をビニル、アリル、1−プロペニル、イソプロペニル、2−ブテニル、1,3−ブタジエニル、2−ペンテニル、2−オクテニル等のアルケニル基で置換した基等が挙げられる。The arylalkenyl group having 8 to 20 carbon atoms represented by R 61 and R 62 in the group represented by the general formula (1-3) may be substituted with the halogen atom. A group in which the oxygen atom of the aryloxy group of number 6-20 is replaced with an alkenyl group such as vinyl, allyl, 1-propenyl, isopropenyl, 2-butenyl, 1,3-butadienyl, 2-pentenyl, 2-octenyl, etc. Can be mentioned.
上記一般式(1−3)で表される基における、R61及びR62で表される炭素原子数2〜20の複素環含有基としては、ピリジン基、ピラジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピリミジン基、ピリダジン基、トリアジン基、ヘキサヒドロトリアジン基、フラン基、テトラヒドロフラン基、クロマン基、キサンテン基、チオフェン基及びチオフラン基並びにこれらの基がハロゲン原子で置換された基等が挙げられる。Examples of the heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms represented by R 61 and R 62 in the group represented by the general formula (1-3) include a pyridine group, a pyrazine group, a piperidine group and a piperazine group. Examples thereof include a pyrimidine group, a pyridazine group, a triazine group, a hexahydrotriazine group, a furan group, a tetrahydrofuran group, a chromane group, a xanthene group, a thiophene group and a thiofuran group, and a group in which these groups are substituted with halogen atoms.
上記一般式(1−3)で表される基における、R61及びR62で表されるアリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルケニル基、複素環含有基等の各官能基は、置換基を有している場合があるものであり、特に断りがない限り、置換基を有していない無置換なものであるか又は置換基を有しているものである。
アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルケニル基、複素環含有基等の水素原子を置換する置換基としては、R11等に用いられるアルキル基等の水素原子を置換する置換基と同様の内容とすることができる。In the group represented by the above general formula (1-3), each functional group such as the aryloxy group represented by R 61 and R 62 , the arylthio group, the arylalkenyl group, and the heterocycle-containing group has a substituent. Unless otherwise specified, it is an unsubstituted product having no substituent or a product having a substituent.
Aryloxy group, arylthio group, arylalkenyl group, the substituents replacing a hydrogen atom, such as heterocyclic ring-containing group, is similar to those in the substituents replacing a hydrogen atom and alkyl groups used for R 11 or the like be able to.
上記一般式(2)で表される基におけるY11で表される三価の炭素原子数3〜35の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した脂肪族炭化水素基が、Z1、Z2及びZ3で置換された三価の基が挙げられ、これらの基は、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−SO2−、−NH−又はこれらを組み合わせた基で置き換えられている場合がある。As the trivalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 35 carbon atoms represented by Y 11 in the group represented by the general formula (2), the fat exemplified in the explanation of X in the general formula (1). Examples include trivalent groups in which the group hydrocarbon groups are substituted with Z 1 , Z 2 and Z 3 , and these groups are -O-, -S-, -CO-, -CO-O-,-. It may be replaced by O-CO-, -SO 2- , -NH- or a combination of these groups.
上記一般式(2)で表される基におけるY11で表される三価の炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した芳香環含有炭化水素基が、Z1、Z2及びZ3で置換された三価の基が挙げられる。The aromatic ring-containing hydrocarbon group having a trivalent carbon atom number of 6 to 35 represented by Y 11 in the group represented by the general formula (2) is exemplified in the description of X in the general formula (1). aromatic ring-containing hydrocarbon group include trivalent groups substituted with Z 1, Z 2 and Z 3.
上記一般式(2)で表される基におけるY11で表される三価の炭素原子数2〜35の複素環含有基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した複素環含有基が、Z1、Z2及びZ3で置換された三価の基が挙げられる。The heterocyclic group having a trivalent carbon atom number of 2 to 35 represented by Y 11 in the group represented by the general formula (2) is the heterocycle exemplified in the explanation of X in the general formula (1). Examples thereof include trivalent groups in which the contained group is substituted with Z 1 , Z 2 and Z 3 .
上記一般式(2)で表される基におけるZ1、Z2及びZ3並びにR62で表される炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基、炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数2〜35の複素環含有基としては、上述したR53及びR54として例示したものと同じものを挙げることができる。The group represented by the general formula (2) contains Z 1 , Z 2 and Z 3 and an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 35 carbon atoms represented by R 62 and an aromatic ring having 6 to 35 carbon atoms. Examples of the hydrocarbon group or the heterocyclic group having 2 to 35 carbon atoms include the same groups as those exemplified as R 53 and R 54 described above.
上記一般式(3)で表される基におけるY12で表される四価の炭素原子数1〜35の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した脂肪族炭化水素基が、Z1、Z2、Z3及びZ4で置換された四価の基が挙げられ、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−NH−又はこれらを組み合わせた基で中断されている場合がある。As the aliphatic hydrocarbon group having tetravalent carbon atoms 1 to 35 represented by Y 12 in the group represented by the general formula (3), the fat exemplified in the explanation of X in the general formula (1). Examples include tetravalent groups in which group hydrocarbon groups are substituted with Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 , and include -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-,-. It may be interrupted by NH- or a combination of these.
上記一般式(3)で表される基におけるY12で表される四価の炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した芳香環含有炭化水素基が、Z1、Z2、Z3及びZ4で置換された四価の基が挙げられる。The aromatic ring-containing hydrocarbon group having a tetravalent carbon atom number of 6 to 35 represented by Y 12 in the group represented by the general formula (3) is exemplified in the description of X in the general formula (1). Examples thereof include tetravalent groups in which the aromatic ring-containing hydrocarbon group is substituted with Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 .
上記一般式(3)で表される基におけるY12で表される四価の炭素原子数2〜35の複素環含有基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した複素環含有基が、Z1、Z2、Z3及びZ4で置換された四価の基が挙げられる。As the heterocyclic group having a tetravalent carbon atom number of 2 to 35 represented by Y 12 in the group represented by the general formula (3), the heterocycle exemplified in the explanation of X in the general formula (1) is used. Examples thereof include tetravalent groups in which the contained group is substituted with Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 .
上記一般式(4)で表される基におけるY13で表される五価の炭素原子数2〜35の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した脂肪族炭化水素基が、Z1、Z2、Z3、Z4及びZ5で置換された五価の基が挙げられ、−O−、−S−、−CO−、−CO−O−、−O−CO−、−SO2−、−NH−又はこれらを組み合わせた基で置き換えられている場合がある。The pentavalent aliphatic hydrocarbon group having a carbon number of 2 to 35 represented by Y 13 in the group represented by the general formula (4), exemplified in the description of X in the general formula (1) Fat Examples include pentavalent groups in which the group hydrocarbon groups are substituted with Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 and Z 5 , and include -O-, -S-, -CO-, -CO-O-,. It may be replaced by -O-CO-, -SO 2- , -NH- or a combination of these groups.
上記一般式(4)で表される基におけるY13で表される五価の炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した芳香環含有炭化水素基が、Z1、Z2、Z3、Z4及びZ5で置換された五価の基が挙げられる。The pentavalent aromatic ring-containing hydrocarbon group having a carbon number of 6 to 35 represented by Y 13 in the group represented by the general formula (4), exemplified in the description of X in the general formula (1) Examples thereof include pentavalent groups in which aromatic ring-containing hydrocarbon groups are substituted with Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 and Z 5 .
上記一般式(4)で表される基におけるY13で表される五価の炭素原子数2〜35の複素環含有基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した複素環含有基が、Z1、Z2、Z3、Z4及びZ5で置換された五価の基が挙げられる。The pentavalent heterocyclic containing group having a carbon number of 2 to 35 represented by Y 13 in the group represented by the general formula (4), a heterocyclic ring exemplified in the description of X in the general formula (1) Examples thereof include pentavalent groups in which the contained groups are substituted with Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 and Z 5 .
上記一般式(5)におけるY14で表される六価の炭素原子数2〜35の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した脂肪族炭化水素基が、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6で置換された六価の基が挙げられ、該基は−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO2−、−NH−又はこれらを組み合わせた基で中断されている場合がある。As the aliphatic hydrocarbon group having hexavalent carbon atoms of 2 to 35 represented by Y 14 in the general formula (5), the aliphatic hydrocarbon group exemplified in the explanation of X in the general formula (1) is used. , Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 , Z 5 and Z 6 substituted hexavalent groups, the groups being -O-, -S-, -CO-, -COO-,-. It may be interrupted by OCO-, -SO 2- , -NH- or a combination of these.
上記一般式(5)におけるY14で表される六価の炭素原子数6〜35の芳香環含有炭化水素基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した芳香環含有炭化水素基が、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6で置換された六価の基が挙げられる。As the aromatic ring-containing hydrocarbon group having a hexavalent carbon atom number of 6 to 35 represented by Y 14 in the general formula (5), the aromatic ring-containing hydrocarbon exemplified in the explanation of X in the general formula (1). Examples include hexavalent groups in which the groups are substituted with Z 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 , Z 5 and Z 6 .
上記一般式(5)におけるY14で表される六価の炭素原子数2〜35の複素環含有基としては、上記一般式(1)におけるXの説明で例示した複素環含有基が、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6で置換された六価の基が挙げられる。As the heterocyclic group having hexavalent carbon atoms of 2 to 35 represented by Y 14 in the general formula (5), the heterocycle-containing group exemplified in the explanation of X in the general formula (1) is Z. Hexavalent groups substituted with 1 , Z 2 , Z 3 , Z 4 , Z 5 and Z 6 can be mentioned.
上記結合基Xは、mが2である場合、炭素原子数1〜120の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、アルキレン基又はジオールの残基であることがより好ましく、炭素原子数1〜10のアルキレン基又は炭素原子数1〜10のジオール残基であることが好ましく、なかでも、炭素原子数1〜5のアルキレン基又は炭素原子数1〜5のジオール残基であることが好ましく、特に、炭素原子数1〜3のアルキレン基であることが好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物とすることができ、更に、化合物I−1の製造が容易だからである。 When m is 2, the bonding group X is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 120 carbon atoms, more preferably a residue of an alkylene group or a diol, and has 1 to 1 carbon atoms. It is preferably an alkylene group of 10 or a diol residue having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or a diol residue having 1 to 5 carbon atoms. In particular, it is preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms. This is because it is possible to obtain a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product, and further, it is easy to produce compound I-1.
上記結合基Xのベンゼン環との結合位置としては、ベンゼン環内の結合し得るいずれの位置であってもよいが、例えば、R2に対して、オルト位又はメタ位であることが好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物とすることができるからである。The bonding position of the bonding group X with the benzene ring may be any position in the benzene ring that can be bonded, but for example, it is preferably the ortho position or the meta position with respect to R 2 . This is because it is possible to obtain a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
上記Xは、m=1のとき、水素原子又はR2と同様の基であることが好ましい。 When m = 1, the X is preferably a hydrogen atom or a group similar to R2.
上記原子団Aは、フェノール性水酸基を含むもの、すなわち、化合物I−1が光脱離基Bにより保護されていないフェノール性水酸基を含むものであってもよいが、フェノール性水酸基の数は2個以下であることが好ましく、0個であることがより好ましい。上記化合物I−1は、硬化阻害が少ないものとなるからである。 The atomic group A may contain a phenolic hydroxyl group, that is, a compound I-1 may contain a phenolic hydroxyl group not protected by a photoleaving group B, but the number of phenolic hydroxyl groups is 2. The number is preferably less than, and more preferably 0. This is because the compound I-1 has less inhibition of curing.
3.化合物
本発明の化合物は、上記一般式(I−1)で表されるものであればよいが、上記一般式(A−1)、(A−2)又は(A−3)で表される化合物であり、光脱離基Bとして、上記一般式(B−1−a)で表されるものを含むことが好ましい。合成が容易であり、更に、光脱離が容易だからである。また、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できるからである。また、化合物I−1が、一般式(A−1)、(A−2)又は(A−3)で表される化合物であるため、光脱離基Bの脱離により紫外線領域の光を安定的に吸収する化合物を生成可能だからである。3. 3. Compound The compound of the present invention may be represented by the above general formula (I-1), but is represented by the above general formula (A-1), (A-2) or (A-3). It is a compound, and it is preferable that the photoleaving group B contains a compound represented by the above general formula (B-1-a). This is because it is easy to synthesize and further, it is easy to photodesorb. Further, it is possible to easily impart an ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product. Further, since the compound I-1 is a compound represented by the general formula (A-1), (A-2) or (A-3), the light in the ultraviolet region is emitted by the elimination of the photoleaving group B. This is because it is possible to produce a compound that absorbs stably.
上記化合物I−1の具体例としては、例えば、下記に表される化合物が挙げられる。 Specific examples of the above-mentioned compound I-1 include compounds represented by the following.
上記化合物I−1の分子量は、化合物I−1の用途等に応じて設定することができる。上記化合物I−1の分子量は、例えば、250以上5000以下が好ましく、300以上2500以下がより好ましく、350以上1500以下とすることが特に好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物とすることができるからである。
なお、上記化合物I−1の分子量は、化合物I−1がその構造として繰り返し構造を含む重合体である場合には、重量平均分子量(Mw)で表すものとする。重量平均分子量(Mw)は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレン換算値として求めることができる。The molecular weight of the compound I-1 can be set according to the use of the compound I-1 and the like. The molecular weight of the compound I-1 is, for example, preferably 250 or more and 5000 or less, more preferably 300 or more and 2500 or less, and particularly preferably 350 or more and 1500 or less. This is because it is possible to obtain a compound that has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorption ability or the like to the cured product.
When the compound I-1 is a polymer having a repeating structure as its structure, the molecular weight of the compound I-1 is expressed by the weight average molecular weight (Mw). The weight average molecular weight (Mw) can be determined as a standard polystyrene equivalent value by gel permeation chromatography (GPC).
上記重量平均分子量Mwは、例えば、東ソー(株)製のHLC−8120GPCを用い、溶出溶剤を0.01モル/リットルの臭化リチウムを添加したN−メチルピロリドンとし、校正曲線用ポリスチレンスタンダードをMw377400、210500、96000、50400、20650、10850、5460、2930、1300、580(以上、Polymer Laboratories社製 Easi PS−2シリーズ)及びMw1090000(東ソー(株)製)とし、測定カラムをTSK−GEL ALPHA−M×2本(東ソー(株)製)として測定して得ることができる。また、測定温度は40℃とすることができ、流速は1.0mL/分とすることができる。 For the weight average molecular weight Mw, for example, HLC-8120GPC manufactured by Tosoh Corporation was used, the elution solvent was N-methylpyrrolidone added with 0.01 mol / liter lithium bromide, and the polystyrene standard for the calibration curve was Mw377400. , 210500, 96000, 50400, 20650, 10850, 5460, 2930, 1300, 580 (above, Easi PS-2 series manufactured by Polymer Laboratories) and Mw1090000 (manufactured by Tosoh Corporation), and the measurement column was TSK-GEL ALPHA- It can be obtained by measuring as M × 2 (manufactured by Tosoh Corporation). The measurement temperature can be 40 ° C. and the flow velocity can be 1.0 mL / min.
上記化合物I−1の製造方法は、所望の構造を得ることができる方法であれば特に限定されないが、例えば、特開昭57−111375号公報、特開平3−173843号公報、特開平6−128195号公報、特開平7−206771号公報、特開平7−252191号公報又は特表2004−501128号公報に記載された方法により製造されたフェノール系化合物と、アルキルハライド化合物を反応させて得ることができる。 The method for producing the compound I-1 is not particularly limited as long as it can obtain a desired structure, and for example, JP-A-57-11135, JP-A-3-173843, JP-A-6- Obtained by reacting an alkyl halide compound with a phenolic compound produced by the method described in JP-A-128195, JP-A-7-206771, JP-A-7-252191 or JP-A-2004-501128. Can be done.
上記化合物I−1は、光照射前は不活性であり、光照射することで光脱離基が脱離し、フェノール性水酸基を有する化合物I−2を生成するものである。
また、上記化合物I−2は、紫外線吸収能を発揮するものである。
このような化合物I−1の用途としては、光照射により紫外線吸収能を発揮することが要求される用途であることが好ましく、例えば、組成物に添加して用いられる紫外線吸収剤等を挙げることができる。The compound I-1 is inactive before light irradiation, and the photoleaving group is eliminated by light irradiation to produce compound I-2 having a phenolic hydroxyl group.
Further, the compound I-2 exhibits an ultraviolet absorbing ability.
The application of such compound I-1 is preferably an application that is required to exhibit an ultraviolet absorbing ability by light irradiation, and examples thereof include an ultraviolet absorber used in addition to a composition. Can be done.
B.潜在性紫外線吸収剤
次に、本発明の潜在性紫外線吸収剤について説明する。
本発明の潜在性紫外線吸収剤は、本発明の化合物I−1を含む。B. Latent UV absorber Next, the latent UV absorber of the present invention will be described.
The latent UV absorber of the present invention comprises the compound I-1 of the present invention.
本発明の潜在性紫外線吸収剤は、本発明の化合物I−1を含むことで、例えば、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる。 By containing the compound I-1 of the present invention, the latent ultraviolet absorber of the present invention, for example, has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product.
本発明の潜在性紫外線吸収剤における化合物I−1の含有量は、特に制限はなく、潜在性紫外線吸収剤の用途等に応じて適宜設定することができる。
本発明の潜在性紫外線吸収剤は、潜在性紫外線吸収剤100質量部中、化合物I−1が100質量部含まれるもの、すなわち、上記潜在性紫外線吸収剤が上記化合物I−1のみからなるものとすることができる。
また、本発明の潜在性紫外線吸収剤は、化合物I−1に加え、その他の成分を含有する場合がある。本発明の潜在性紫外線吸収剤がその他の成分を含有する場合、化合物I−1の含有量は、潜在性紫外線吸収剤100質量部中、例えば、20質量部超99質量部以下とすることができ、25質量部以上99質量部以下であることが好ましく、50質量部以上99質量部以下であることがより好ましく、80質量部以上99質量部以下であることが特に好ましい。上記潜在性紫外線吸収剤は、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できるとの効果を効果的に発揮できるからである。The content of compound I-1 in the latent ultraviolet absorber of the present invention is not particularly limited and can be appropriately set according to the use of the latent ultraviolet absorber and the like.
The latent ultraviolet absorber of the present invention contains 100 parts by mass of compound I-1 in 100 parts by mass of the latent ultraviolet absorber, that is, the latent ultraviolet absorber is composed of only the compound I-1. Can be.
Further, the latent ultraviolet absorber of the present invention may contain other components in addition to compound I-1. When the latent ultraviolet absorber of the present invention contains other components, the content of the compound I-1 may be, for example, more than 20 parts by mass and 99 parts by mass or less in 100 parts by mass of the latent ultraviolet absorber. It is possible, preferably 25 parts by mass or more and 99 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or more and 99 parts by mass or less, and particularly preferably 80 parts by mass or more and 99 parts by mass or less. This is because the latent ultraviolet absorber has less inhibition of curing and can effectively exert the effect of easily imparting an ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product.
上記潜在性紫外線吸収剤に含まれる上記化合物I−1の種類は、1種類のみである場合があり、2種類以上である場合がある。上記潜在性紫外線吸収剤が数種類の化合物I−1を含有する場合、種類数は、例えば、2種類以上5種類以下とすることができる。 The type of the compound I-1 contained in the latent ultraviolet absorber may be only one type, or may be two or more types. When the latent ultraviolet absorber contains several kinds of compounds I-1, the number of kinds can be, for example, two or more and five or less.
なお、上述の化合物I−1については、「A.化合物」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 Since the above-mentioned compound I-1 can be the same as the content described in the section of "A. compound", the description thereof is omitted here.
上記潜在性紫外線吸収剤に含まれる上記その他の成分としては、例えば、後述する「C.組成物」の「2.その他の成分」の項に記載のものと同一のものを用いることができる。
上記潜在性紫外線吸収剤は、その他の成分として、重合性基を有しない重合体等の樹脂成分を含有することが好ましい。上記化合物I−1を安定的に保持可能となるからである。As the other components contained in the latent ultraviolet absorber, for example, the same components as those described in the section "2. Other components" of "C. Composition" described later can be used.
The latent ultraviolet absorber preferably contains a resin component such as a polymer having no polymerizable group as another component. This is because the compound I-1 can be stably retained.
上記潜在性紫外線吸収剤の形状は、粉末状である場合があり、ペレット状である場合がある。
ペレット状である場合、上記潜在性紫外線吸収剤の製造方法としては、例えば、押出機等を用いて、上記化合物I−1及び樹脂成分を混合した後、ペレット状に成型する方法を用いることができる。The shape of the latent UV absorber may be powdery or pelletized.
In the case of pellets, as a method for producing the latent ultraviolet absorber, for example, a method of mixing the compound I-1 and the resin component using an extruder or the like and then molding into pellets can be used. it can.
C.組成物
次に、本発明の組成物について説明する。
本発明の組成物は、化合物I−1を含むものである。C. Composition Next, the composition of the present invention will be described.
The composition of the present invention comprises compound I-1.
本発明の組成物によれば、例えば、硬化阻害が少なく、優れた紫外線吸収能硬化物が得られる組成物を提供することができる。以下、上記組成物の各成分について説明する。 According to the composition of the present invention, for example, it is possible to provide a composition capable of obtaining an excellent ultraviolet absorbing ability cured product with less curing inhibition. Hereinafter, each component of the above composition will be described.
1.化合物
本発明の組成物における化合物I−1の含有量は、組成物に対して所望の紫外線吸収能等を付与できる量であれば特に限定されるものではない。本発明の組成物における化合物I−1の含有量は、例えば、組成物の固形分100質量中、0.001質量部以上20質量部以下とすることができ、0.005質量部以上10質量部以下であることが好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を容易に付与できる組成物とすることが容易だからである。
なお、固形分とは、溶剤以外の全ての成分を含むものである。
また、本明細書において特に断りがない場合には、含有量は質量基準である。
上記化合物I−1の含有量は、溶剤等の含有量によって異なるものであるが、例えば、組成物100質量部中に、0.001質量部以上20質量部以下とすることができ、なかでも、0.005質量部以上10質量部以下であることが好ましい。硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を容易に付与できる組成物とすることが容易だからである。1. 1. Compound The content of compound I-1 in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it can impart a desired ultraviolet absorbing ability or the like to the composition. The content of compound I-1 in the composition of the present invention can be, for example, 0.001 part by mass or more and 20 parts by mass or less, and 0.005 parts by mass or more and 10 parts by mass, based on 100% by mass of the solid content of the composition. It is preferably less than a part. This is because it is easy to prepare a composition that does not hinder curing and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product.
The solid content includes all components other than the solvent.
Unless otherwise specified in the present specification, the content is based on mass.
The content of the compound I-1 varies depending on the content of the solvent and the like, and can be, for example, 0.001 part by mass or more and 20 parts by mass or less in 100 parts by mass of the composition. , 0.005 part by mass or more and preferably 10 parts by mass or less. This is because it is easy to prepare a composition that does not hinder curing and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product.
上記組成物に含まれる上記化合物I−1の種類は、1種類のみであってもよく、2種類以上であってもよい。上記種類は、例えば、2種類以上5種類以下とすることができる。 The type of the compound I-1 contained in the composition may be only one type or two or more types. The above types can be, for example, two or more types and five or less types.
なお、上述の化合物I−1については、「A.化合物」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 Since the above-mentioned compound I-1 can be the same as the content described in the section of "A. compound", the description thereof is omitted here.
2.その他の成分
上記組成物は、その用途等に応じて、上記化合物I−1以外の他の成分を含む場合がある。
上記他の成分としては、例えば、樹脂成分が挙げられる。本発明の組成物が、化合物I−1に加え、樹脂成分を含むことで、例えば、上記組成物に硬化性等を容易に付与できるからである。
また、本発明の組成物は、他の成分としては、上記樹脂成分と共に重合開始剤を含むことが好ましい。本発明の組成物が、他の成分として樹脂成分及び重合開始剤を含むことにより、組成物に硬化性等を容易に付与できるからである。2. 2. Other Ingredients The composition may contain other ingredients other than the above-mentioned compound I-1 depending on its use and the like.
Examples of the other components include a resin component. This is because the composition of the present invention contains, for example, curability and the like can be easily imparted to the composition by containing a resin component in addition to the compound I-1.
In addition, the composition of the present invention preferably contains a polymerization initiator together with the above resin component as another component. This is because the composition of the present invention can easily impart curability and the like to the composition by containing the resin component and the polymerization initiator as other components.
(1)樹脂成分
上記樹脂成分としては、上記化合物I−1を保持できるものが挙げられ、組成物の用途等に応じて適宜設定されるものであるが、例えば、重合性基を有する重合性化合物及び重合性基を有しない重合体等を挙げることができる。
上記樹脂成分として重合性化合物を含むことにより、上記組成物は、例えば、光硬化性組成物又は熱硬化性組成物として用いることができる。(1) Resin component Examples of the resin component include those capable of retaining the compound I-1, which are appropriately set according to the use of the composition and the like. For example, the resin component has a polymerizable group and is polymerizable. Examples thereof include compounds and polymers having no polymerizable group.
By containing a polymerizable compound as the resin component, the composition can be used, for example, as a photocurable composition or a thermosetting composition.
(a)重合性化合物
重合性化合物は、重合性基の種類、すなわち、重合反応の種類により異なるものであり、例えば、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等を挙げることができる。
上記重合性化合物は、硬化阻害が少なくなるとの効果を効果的に発揮する観点からはラジカル重合性化合物を含むことが好ましい。(A) Polymerizable compound The polymerizable compound differs depending on the type of polymerizable group, that is, the type of polymerization reaction, and examples thereof include radical polymerizable compounds, cationically polymerizable compounds, and anionic polymerizable compounds. it can.
The above-mentioned polymerizable compound preferably contains a radically polymerizable compound from the viewpoint of effectively exerting the effect of reducing curing inhibition.
(i)ラジカル重合性化合物
上記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能な重合性基を1以上有するものであればよく、2以上含むものであってもよい。
上記ラジカル重合性化合物は、通常、ラジカル重合開始剤と共に用いられるものである。
ラジカル重合可能な重合性基としては、例えば、(メタ)アクリル基、ビニル基等のエチレン性不飽和二重結合基を挙げることができる。
なお、(メタ)アクリルは、アクリル及びメタクリルを含む意味で用いるものである。また、(メタ)アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートを含む意味で用いるものである。(I) Radical Polymerizable Compound The radically polymerizable compound may have one or more radically polymerizable groups and may contain two or more.
The radically polymerizable compound is usually used together with a radical polymerization initiator.
Examples of the radically polymerizable polymerizable group include an ethylenically unsaturated double bond group such as a (meth) acrylic group and a vinyl group.
In addition, (meth) acrylic is used in the meaning including acrylic and methacrylic. Further, (meth) acrylate is used in the sense of including acrylate and methacrylate.
また、ラジカル重合性化合物としては、酸価を有する化合物であってもよく、酸価を有しない化合物であってもよい。
酸価を有する化合物としては、例えば、カルボキシル基を有する化合物等を挙げることができる。
上記組成物は、ラジカル重合性化合物として酸価を有する化合物を含むことにより、光照射部位のアルカリ現像液への溶解性が低下する。このため、上記組成物は、例えば、アルカリ現像液等の溶媒への溶解性が光照射前後で変化する感光性組成物として用いることができる。より具体的には、上記組成物は、酸価を有する化合物を含むことで、ネガ型組成物として用いることができる。
アルカリ現像液としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)水溶液や、水酸化カリウム水溶液等のアルカリ現像液として一般的に使用されているものを用いることができる。Further, the radically polymerizable compound may be a compound having an acid value or a compound having no acid value.
Examples of the compound having an acid value include a compound having a carboxyl group and the like.
Since the composition contains a compound having an acid value as a radically polymerizable compound, the solubility of the light-irradiated portion in an alkaline developer is lowered. Therefore, the above composition can be used, for example, as a photosensitive composition whose solubility in a solvent such as an alkaline developer changes before and after light irradiation. More specifically, the above composition can be used as a negative type composition by containing a compound having an acid value.
As the alkaline developer, a tetramethylammonium hydroxide (TMAH) aqueous solution, a potassium hydroxide aqueous solution, or the like which is generally used as an alkaline developer can be used.
上記ラジカル重合性化合物は、例えば、エチレン性不飽和二重結合基を有し、酸価を有する化合物としては、(メタ)アクリル酸、α―クロルアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸、フマル酸、ハイミック酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、アリル酢酸、桂皮酸、ソルビン酸、メサコン酸、コハク酸モノ[2−(メタ)アクリロイロキシエチル]、フタル酸モノ[2−(メタ)アクリロイロキシエチル]及びω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ(メタ)アクリレート;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート・マレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート或いは1個のカルボキシル基と2個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する多官能(メタ)アクリレート等の不飽和一塩基酸;フェノール及び/又はクレゾールノボラックエポキシ樹脂、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格を有するノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物、多官能エポキシ基を有するポリフェニルメタン型エポキシ樹脂、下記一般式(III)で表されるエポキシ化合物等のエポキシ樹脂のエポキシ基に不飽和一塩基酸を作用させた樹脂、下記一般式(III)で表されるエポキシ化合物等のエポキシ樹脂のエポキシ基に不飽和一塩基酸を作用させ、更に多塩基酸無水物を作用させて得られた樹脂、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有多官能アクリレートと無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水物の反応物である酸価を有する多官能アクリレート等が挙げられる。 The radically polymerizable compound has, for example, an ethylenically unsaturated double bond group, and examples of the compound having an acid value include (meth) acrylic acid, α-chloroacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, and citraconic acid. Fumaric acid, epoxy acid, crotonic acid, isocrotonic acid, vinyl acetic acid, allyl acetic acid, cinnamic acid, sorbic acid, mesaconic acid, monosuccinate [2- (meth) acryloyloxyethyl], mono phthalate [2- (meth) ) Acryloyloxyethyl] and ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, a polymer mono (meth) acrylate having a carboxy group and a hydroxyl group at both ends; hydroxyethyl (meth) acrylate malate, hydroxypropyl (meth) ) Unsaturated monobasic acids such as acrylate malate, dicyclopentadiene malate or polyfunctional (meth) acrylate with one carboxyl group and two or more (meth) acryloyl groups; phenol and / or cresol novolac epoxy. Novolac epoxy resin having resin, biphenyl skeleton, naphthalene skeleton, novolak type epoxy compound such as bisphenol A novolak type epoxy compound, dicyclopentadiene novolac type epoxy compound, polyphenylmethane type epoxy resin having polyfunctional epoxy group, the following general formula An unsaturated monobasic acid is allowed to act on the epoxy group of an epoxy resin such as an epoxy compound represented by (III), and the epoxy group of an epoxy resin such as an epoxy compound represented by the following general formula (III) is unsaturated. A resin obtained by allowing a monobasic acid to act and then a polybasic acid anhydride to act, a hydroxyl group-containing polyfunctional acrylate such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, and succinic anhydride, phthalic anhydride, and tetrahydroan anhydride. Examples thereof include a polyfunctional acrylate having an acid value, which is a reaction product of a dibasic acid anhydride such as phthalic acid.
(式中、X41は直接結合、炭素原子数1〜4のアルキリデン基、炭素原子数3〜20の脂環式炭化水素基、−O−、−S−、−SO2−、−SS−、−SO−、−CO−、−OCO−又は上記(1−1)〜(1−3)で表される置換基を表し、
R41、R42、R44及びR44は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、炭素原子数2〜5のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、
dは0〜10の整数である。)(In the formula, X 41 is a direct bond, an alkylidene group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, -O-, -S-, -SO 2- , -SS-. , -SO-, -CO-, -OCO- or the substituents represented by the above (1-1) to (1-3).
R 41 , R 42 , R 44 and R 44 are independently hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 8 carbon atoms, alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms or Represents a halogen atom
d is an integer from 0 to 10. )
R41、R42、R44及びR44で表される炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基及び炭素原子数2〜5のアルケニル基としては、上記「A.化合物」の項にR11等として例示したもののうち、所定の炭素原子数を満たすものを挙げることができる。
X41で表される炭素原子数1〜4のアルキリデン基としては、例えば、メチリデン基、エチリデン基、プロピリデン基及びブチリデン基等を挙げることができる。
X41で表される炭素原子数3〜20の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基及びシクロヘプチレン基等が挙げられる。
上記アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキリデン基及び脂環式炭化水素基は、置換基を有している場合があるものであり、特に断りがない限り、置換基を有していない無置換である又は置換基を有しているものである。該アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキリデン基及び脂環式炭化水素基の水素原子を置換する置換基としては、R11等に用いられるアルキル基等の水素原子を置換する置換基と同様の内容とすることができる。Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms and the alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms represented by R 41 , R 42 , R 44 and R 44 include the above-mentioned "A". . of the term compound "those exemplified as R 11 or the like, can include those satisfying a predetermined number of carbon atoms.
Examples of the alkylidene group having 1 to 4 carbon atoms represented by X 41 include a methylidene group, an ethylidene group, a propylidene group and a butylidene group.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms represented by X 41 include a cyclopropylene group, a cyclopentylene group, a cyclohexylene group and a cycloheptylene group.
The alkyl group, alkoxy group, alkenyl group, alkylidene group and alicyclic hydrocarbon group may have a substituent, and unless otherwise specified, the above-mentioned alkyl group, alkoxy group, alkenyl group, and alicyclic hydrocarbon group do not have a substituent and are not substituted. Or has a substituent. The alkyl group, alkoxy group, alkenyl group, examples of the substituent group for substituting a hydrogen atom of the alkylidene group and alicyclic hydrocarbon group, similar to the substituents replacing a hydrogen atom and alkyl groups used for R 11 or the like Can be content.
上記ラジカル重合性化合物は、例えば、エチレン性不飽和二重結合基を有し、酸価を有しない化合物としては、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸グリシジル、下記化合物No.A1〜No.A4、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸−t−ブチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノメチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸アミノプロピル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノプロピル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル、(メタ)アクリル酸ポリ(エトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸ブトキシエトキシエチル、(メタ)アクリル酸エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸テトラヒドロフリル、(メタ)アクリル酸ビニル、(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸ベンジル、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、トリ[(メタ)アクリロイルエチル]イソシアヌレート、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー等の不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステル;(メタ)アクリル酸亜鉛、(メタ)アクリル酸マグネシウム等の不飽和多塩基酸の金属塩;マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等の不飽和多塩基酸の酸無水物;(メタ)アクリルアミド、メチレンビス−(メタ)アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の不飽和一塩基酸及び多価アミンのアミド;アクロレイン等の不飽和アルデヒド;(メタ)アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン、シアン化アリル等の不飽和ニトリル;スチレン、4−メチルスチレン、4−エチルスチレン、4−メトキシスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニル安息香酸、ビニルフェノール、ビニルスルホン酸、4−ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル等の不飽和芳香族化合物;メチルビニルケトン等の不飽和ケトン;ビニルアミン、アリルアミン、N−ビニルピロリドン、ビニルピペリジン等の不飽和アミン化合物;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のビニルエーテル;マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類;インデン、1−メチルインデン等のインデン類;1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類;ポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ−n−ブチル(メタ)アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ(メタ)アクリロイル基を有するマクロモノマー類;(メタ)アクリロニトリル、エチレン、プロピレン、ブチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル等のその他のビニル化合物、及びポリメチルメタクリレートマクロモノマー、ポリスチレンマクロモノマー等のマクロモノマー類、トリシクロデカン骨格のモノメタクリレート、N−フェニルマレイミド、メタクリロイルオキシメチル−3−エチルオキセタン等と、(メタ)アクリル酸との共重合体及びこれらに昭和電工(株)社製カレンズMOI、AOIのような不飽和結合を有するイソシアネート化合物を反応させた(メタ)アクリル酸の共重合体や、ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、ジビニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホスファート、トリアリルイソシアヌラート、ビニルチオエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾリン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、水酸基含有ビニルモノマー及びポリイソシアネート化合物のビニルウレタン化合物、水酸基含有ビニルモノマー及びポリエポキシ化合物のビニルエポキシ化合物、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有多官能アクリレートとトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の多官能イソシアネートの反応物等が挙げられる。 The radically polymerizable compound has, for example, an ethylenically unsaturated double bond group, and examples of the compound having no acid value include -2-hydroxyethyl (meth) acrylate and -2-hydroxy (meth) acrylate. Propyl, glycidyl (meth) acrylate, the following compound No. A1 to No. A4, methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, -t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, ( Isooctyl acrylate, isononyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, dimethylaminomethyl (meth) acrylate, dimethyl (meth) acrylate Aminoethyl, Aminopropyl (Meta) Acrylate, Dimethylaminopropyl (Meta) Acrylate, ethoxyethyl (Meta) Acrylate, Poly (ethoxy) Ethyl (Meta) Acrylate, Butoxyethoxyethyl (Meta) Acrylate, (Meta) ) Ethylhexyl acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, vinyl (meth) vinyl acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, Diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol Di (meth) acrylate, trimethylol ethanetri (meth) acrylate, trimethylol propanthry (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, Unsaturated monobasic acids such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, tricyclodecanedimethylol di (meth) acrylate, tri [(meth) acryloyl ethyl] isocyanurate, polyester (meth) acrylate oligomer, and polyhydric alcohols or polyvalents. Esters of phenols; metal salts of unsaturated polybasic acids such as zinc (meth) acrylate, magnesium (meth) acrylate; maleic acid anhydride, itaconic acid anhydride, citraconic acid anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydro Acrylate, TrialkyltetrahydroAcrylate, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, trialkyltetrahydrophthaliclate-anhydrous Acid anhydrides of unsaturated polybasic acids such as laine acid adduct, dodecenyl anhydride succinic acid, methylhymic anhydride; (meth) acrylamide, methylenebis- (meth) acrylamide, diethylenetriaminetris (meth) acrylamide, xylylenebis (meth) Amidos of unsaturated monobasic acids and polyvalent amines such as acrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide; unsaturated aldehydes such as achlorine; (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, cyanide Unsaturated nitriles such as vinylidene and allyl cyanide; styrene, 4-methylstyrene, 4-ethylstyrene, 4-methoxystyrene, 4-hydroxystyrene, 4-chlorostyrene, divinylbenzene, vinyltoluene, vinyl benzoic acid, vinylphenol , Vinyl sulfonic acid, 4-vinylbenzene sulfonic acid, vinylbenzyl methyl ether, vinylbenzyl glycidyl ether and other unsaturated aromatic compounds; unsaturated ketones such as methylvinyl ketone; vinylamine, allylamine, N-vinylpyrrolidone, vinylpiperidin and the like. Unsaturated amine compounds; vinyl ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, allylglycidyl ether; unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide; inden, 1 -Indens such as methyl inden; aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene; polymer molecules such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, polysiloxane Macromonomers having a mono (meth) acryloyl group at the end of the chain; other vinyl compounds such as (meth) acrylonitrile, ethylene, propylene, butylene, vinyl chloride, vinyl acetate, polymethylmethacrylate macromonomer, polystyrene macromonomer, etc. Macromonomers, monomethacrylates of tricyclodecane skeleton, N-phenylmaleimide, methacryloyloxymethyl-3-ethyloxetane, etc., copolymers of (meth) acrylic acid, and Karenz manufactured by Showa Denko Co., Ltd. Copolymers of (meth) acrylic acid reacted with unsaturated bonds such as MOI and AOI, vinyl chloride, vinylidene chloride, divinyl succinate, Dialyl phthalate, triallyl phosphate, triallyl isocyanurate, vinyl thioether, vinyl imidazole, vinyl oxazoline, vinyl carbazole, vinyl pyrrolidone, vinyl pyridine, hydroxyl group-containing vinyl monomer and polyisocyanate compound vinyl urethane compound, hydroxyl group-containing vinyl monomer Examples thereof include vinyl epoxy compounds of polyepoxy compounds, hydroxyl group-containing polyfunctional acrylates such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate, and polyfunctional isocyanates such as tolylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate.
上記ラジカル重合性化合物は、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。また、ラジカル重合性化合物は、エチレン性不飽和二重結合基を有し、酸価を有する化合物及びエチレン性不飽和二重結合基を有し、酸価を有しない化合物を組み合わせて使用することができる。
ラジカル重合性化合物は、2種以上を混合して使用する場合には、それらを予め共重合して共重合体として使用してもよい。
上記ラジカル重合性化合物の含有量としては、組成物の用途等に応じて適宜設定できるが、例えば、組成物100質量部中に、1質量部以上99質量部以下とすることができ、10質量部以上90質量部以下であることが好ましく、なかでも、40質量部以上80質量部以下であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲であることで、例えば、上記組成物は、感度に優れたネガ型組成物として用いることができるからである。また、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を容易に付与できる組成物を提供することができるからである。
上記重合性化合物の含有量は、上記組成物を硬化性組成物として使用可能となるものであればよいが、化合物I−1及び重合性化合物の合計100質量部中に、1質量部以上99質量部以下とすることができ、50質量部以上99質量部以下であることが好ましく、なかでも、80質量部以上99質量部以下であることが好ましく、90質量部以上98質量部以下であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲であることにより、上記組成物は、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を容易に付与できる組成物を提供することができるからである。
また、上記化合物I−1及びラジカル重合性化合物の含有量としては、組成物の用途等に応じて適宜設定できるが、例えば、組成物100質量部中に、1質量部以上99質量部以下とすることができ、10質量部以上90質量部以下であることが好ましく、なかでも、40質量部以上80質量部以下であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲であることで、例えば、上記組成物は、感度に優れたネガ型組成物として用いることができるからである。また、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を容易に付与できる組成物を提供することができるからである。The radically polymerizable compound may be used alone or in combination of two or more. Further, the radically polymerizable compound shall be used in combination with a compound having an ethylenically unsaturated double bond group and having an acid value and a compound having an ethylenically unsaturated double bond group and having no acid value. Can be done.
When two or more kinds of radically polymerizable compounds are mixed and used, they may be copolymerized in advance and used as a copolymer.
The content of the radically polymerizable compound can be appropriately set according to the intended use of the composition, and can be, for example, 1 part by mass or more and 99 parts by mass or less in 100 parts by mass of the composition, and 10 parts by mass. The amount is preferably 40 parts by mass or more and 90 parts by mass or less, and more preferably 40 parts by mass or more and 80 parts by mass or less. This is because, for example, the above composition can be used as a negative type composition having excellent sensitivity when the above content is in the above range. Further, it is possible to provide a composition which has less curing inhibition and can easily impart an ultraviolet absorbing ability or the like to a cured product.
The content of the polymerizable compound may be such that the composition can be used as a curable composition, but is 1 part by mass or more and 99 parts by mass in a total of 100 parts by mass of the compound I-1 and the polymerizable compound. It can be 5 parts by mass or less, preferably 50 parts by mass or more and 99 parts by mass or less, and more preferably 80 parts by mass or more and 99 parts by mass or less, and 90 parts by mass or more and 98 parts by mass or less. Is preferable. This is because when the content is in the above range, the composition can provide a composition which has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product.
The contents of the compound I-1 and the radically polymerizable compound can be appropriately set according to the intended use of the composition, and for example, 1 part by mass or more and 99 parts by mass or less in 100 parts by mass of the composition. It is preferably 10 parts by mass or more and 90 parts by mass or less, and more preferably 40 parts by mass or more and 80 parts by mass or less. This is because, for example, the above composition can be used as a negative type composition having excellent sensitivity when the above content is in the above range. Further, it is possible to provide a composition which has less curing inhibition and can easily impart an ultraviolet absorbing ability or the like to a cured product.
(ii)カチオン重合性化合物及びアニオン重合性化合物
上記カチオン重合性化合物は、カチオン重合可能な重合性基を1以上有するものであればよい。
上記カチオン重合性化合物は、通常、カチオン重合開始剤と共に用いられるものである。
カチオン重合可能な重合性基としては、例えば、エポキシ基及びオキセタン基等の環状エーテル基並びにビニルエーテル基等を挙げることができる。
すなわち、カチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物及びオキセタン化合物等の環状エーテル化合物並びにビニルエーテル化合物等が挙げられる。(Ii) Cationicly polymerizable compound and anionically polymerizable compound The above-mentioned cationically polymerizable compound may have one or more cationically polymerizable polymerizable groups.
The cationically polymerizable compound is usually used together with a cationic polymerization initiator.
Examples of the cationically polymerizable polymerizable group include a cyclic ether group such as an epoxy group and an oxetane group, a vinyl ether group, and the like.
That is, examples of the cationically polymerizable compound include cyclic ether compounds such as epoxy compounds and oxetane compounds, and vinyl ether compounds.
上記エポキシ化合物としては、例えば、メチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、C12〜13混合アルキルグリシジルエーテル、フェニル−2−メチルグリシジルエーテル、セチルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、p−sec−ブチルフェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、イソプロピルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、2−メチルオクチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、4−n−ブチルフェニルグリシジルエーテル、4−フェニルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、ジブロモクレジルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、メトキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、エトキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、ブトキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,5−ペンタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,1,2,2−テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン及びペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル化物;グリシジルアセテート、グリシジルステアレート等のグリシジルエステル類;2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタジオキサン、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、プロパン−2,2−ジイル−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパン、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシル 3,4−エポキシ−1−メチルヘキサンカルボキシレート、6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル 6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン、1,2−エポキシ−2−エポキシエチルシクロヘキサン、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、α−ピネンオキシド、スチレンオキシド、シクロヘキセンオキサイド及びシクロペンテンオキサイド等のエポキシシクロアルキル型化合物及びN−グリシジルフタルイミド等が挙げられる。 Examples of the epoxy compound include methyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, decyl glycidyl ether, C12-13 mixed alkyl glycidyl ether, phenyl-2-methyl glycidyl ether, cetyl glycidyl ether, stearyl glycidyl ether, and the like. p-sec-Butylphenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, isopropyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, 2-methyloctyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, 4-n-butylphenyl Glysidyl ether, 4-phenylphenol glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, dibromocresyl glycidyl ether, decyl glycidyl ether, methoxypolyethylene glycol monoglycidyl ether, ethoxypolyethylene glycol monoglycidyl ether, butoxypolyethylene glycol monoglycidyl ether, phenoxypolyethylene glycol mono Glycidyl ether, dibromophenyl glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,5-pentanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,1,2 Glycidyl ethers such as 2-tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane and pentaerythritol tetraglycidyl ether; glycidyl esters such as glycidyl acetate and glycidyl stearate; 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-) 3,4-Epoxy) cyclohexane-metadioxane, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), propane-2,2-diyl-bis (3,4-epoxycyclohexane), 2,2-bis (3,4-epoxy) Cyclohexyl) propane, ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy -1-Methylcyclohexyl 3,4-epoxy-1-methylhexanecarboxylate, 6-methyl-3,4-epoxycyclohexyl Methyl 6-methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-3-methylcyclohexanemethyl 3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-5-methylcyclohexanemethyl 3 , 4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, 1,2-epoxy-2-epoxyethylcyclohexane, dicyclopentadienediepoxiside, 3,4-epoxy-6- Examples thereof include epoxycycloalkyl-type compounds such as methylcyclohexylcarboxylate, α-pineneoxide, styrene oxide, cyclohexene oxide and cyclopentene oxide, and N-glycidylphthalimide and the like.
また上記エポキシ化合物としては、エポキシ化ポリオレフィンを用いることもできる。エポキシ化ポリオレフィンとは、ポリオレフィンをエポキシ基含有単量体で変性して、エポキシ基を導入したポリオレフィンである。エチレン又は炭素数3〜20のα−オレフィン、エポキシ基含有単量体、及び必要に応じて他のモノマーを、共重合法及びグラフト法のいずれかにより共重合させることによって製造することができる。エチレン又は炭素数3〜20のα−オレフィン、エポキシ基含有単量体及び他のモノマーは、それぞれ単独で重合させてもよく、他の単量体と複数で重合させてもよい。また、末端に水酸基を有する非共役のポリブタジエンの二重結合を、過酢酸法によりエポキシ化して得ることもでき、分子内に水酸基を持つものを使用してもよい。また、水酸基をイソシアネートでウレタン化し、ここに1級水酸基含有エポキシ化合物を反応させてエポキシ基を導入することもできる。 Further, as the epoxy compound, an epoxidized polyolefin can also be used. The epoxidized polyolefin is a polyolefin in which an epoxy group is introduced by modifying the polyolefin with an epoxy group-containing monomer. It can be produced by copolymerizing ethylene or an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, an epoxy group-containing monomer, and if necessary, another monomer by either a copolymerization method or a graft method. Ethylene or an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, an epoxy group-containing monomer, and other monomers may be polymerized alone or in combination with other monomers. Further, a double bond of non-conjugated polybutadiene having a hydroxyl group at the terminal can be obtained by epoxidation by a peracetic acid method, and one having a hydroxyl group in the molecule may be used. Further, it is also possible to urenate the hydroxyl group with isocyanate and react it with a primary hydroxyl group-containing epoxy compound to introduce an epoxy group.
上記エチレン又は炭素数3〜20のα−オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、1,3−ブタジエン、1,4−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、ピペリレン、3−ブチル−1,3−オクタジエン及びイソプレン等が挙げられる。 Examples of the ethylene or α-olefin having 3 to 20 carbon atoms include ethylene, propylene, butylene, isobutylene, 1,3-butadiene, 1,4-butadiene, 1,3-pentadiene, and 2,3-dimethyl-1,3. -Butadiene, piperylene, 3-butyl-1,3-octadien, isoprene and the like can be mentioned.
上記エポキシ基含有単量体としては、例えばα,β−不飽和酸のグリシジルエステル、ビニルベンジルグリシジルエーテル及びアリルグリシジルエーテル等が挙げられる。α,β−不飽和酸のグリシジルエステルとしては、具体的にはアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル及びエタクリル酸グリシジル等が挙げられ、特にメタクリル酸グリシジルが好ましい。 Examples of the epoxy group-containing monomer include glycidyl ester of α, β-unsaturated acid, vinylbenzyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether and the like. Specific examples of the glycidyl ester of α, β-unsaturated acid include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate and glycidyl etacrilate, and glycidyl methacrylate is particularly preferable.
上記他のモノマーとしては、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン及びテトラフルオロエチレン等の不飽和脂肪族炭化水素;(メタ)アクリル酸、α―クロルアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸、フマル酸、ハイミック酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、アリル酢酸、桂皮酸、ソルビン酸、メサコン酸、コハク酸モノ[2−(メタ)アクリロイロキシエチル]、フタル酸モノ[2−(メタ)アクリロイロキシエチル]、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート・マレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート及び1個のカルボキシル基と2個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する多官能(メタ)アクリレート等の不飽和多塩基酸;(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸−t−ブチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノメチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸アミノプロピル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノプロピル、(メタ)アクリル酸エトキシエチル、(メタ)アクリル酸ポリ(エトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸ブトキシエトキシエチル、(メタ)アクリル酸エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸テトラヒドロフリル、(メタ)アクリル酸ビニル、(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸ベンジル、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、トリ[(メタ)アクリロイルエチル]イソシアヌレート及びポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー等の不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステル;(メタ)アクリル酸亜鉛、(メタ)アクリル酸マグネシウム等の不飽和多塩基酸の金属塩;マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸及び無水メチルハイミック酸等の不飽和多塩基酸の酸無水物;(メタ)アクリルアミド、メチレンビス−(メタ)アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の不飽和一塩基酸及び多価アミンのアミド;アクロレイン等の不飽和アルデヒド;(メタ)アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン、シアン化アリル等の不飽和ニトリル;スチレン、4−メチルスチレン、4−エチルスチレン、4−メトキシスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニル安息香酸、ビニルフェノール、ビニルスルホン酸、4−ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンジルメチルエーテル及びビニルナフタレン等の不飽和芳香族化合物;メチルビニルケトン等の不飽和ケトン;ビニルアミン、アリルアミン、N−ビニルピロリドン及びビニルピペリジン等の不飽和アミン化合物;アリルアルコール及びクロチルアルコール等のビニルアルコール;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、n−ブチルビニルエーテル及びイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル;マレイミド、N−フェニルマレイミド及びN−シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類;インデン及び1−メチルインデン等のインデン類;ポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ−n−ブチル(メタ)アクリレート及びポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ(メタ)アクリロイル基を有するマクロモノマー類;ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、ジビニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホスファート、トリアリルイソシアヌラート、ビニルチオエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾリン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、水酸基含有ビニルモノマー及びポリイソシアネート化合物のビニルウレタン化合物、水酸基含有ビニルモノマー及びポリエポキシ化合物のビニルエポキシ化合物、ペンタエリスリトールトリアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有多官能アクリレート;トリレンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシアネート等の多官能イソシアネートの反応物;ペンタエリスリトールトリアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有多官能アクリレートと無水コハク酸、無水フタル酸及びテトラヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水物の反応物である酸価を有する多官能アクリレートが挙げられる。 Examples of the other monomers include unsaturated aliphatic hydrocarbons such as vinyl chloride, vinylidene chloride, vinylidene fluoride and tetrafluoroethylene; (meth) acrylic acid, α-chloroacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, citraconic acid, etc. Fumaric acid, hymic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, vinyl acetic acid, allyl acetic acid, cinnamic acid, sorbic acid, mesaconic acid, succinic acid mono [2- (meth) acrylicyloxyethyl], phthalic acid mono [2- (meth) ) Acryloyloxyethyl], ω-carboxypolycaprolactone Mono (meth) acrylate, etc. Polymer mono (meth) acrylate having carboxy groups and hydroxyl groups at both ends, hydroxyethyl (meth) acrylate malate, hydroxypropyl (meth) ) Unsaturated polybasic acids such as acrylate malate, dicyclopentadiene malate and polyfunctional (meth) acrylate having one carboxyl group and two or more (meth) acryloyl groups; (meth) acrylic acid-2 -Hydroxyethyl, -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, -t-butyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Cyclohexyl acid, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, (meth) ) Dimethylaminomethyl acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, aminopropyl (meth) acrylate, dimethylaminopropyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, poly (ethoxy) poly (ethoxy) acrylate Ethyl, butoxyethoxyethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, vinyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, (meth) ) Acrylic acid benzyl, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butane Didiole (meth) acrylate, 1,6-hexanedioldi (meth) acrylate, trimeticro Ruetantri (meth) acrylate, trimethylolpropantri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tri Cyclodecanedimethylol di (meth) acrylate, tri [(meth) acryloylethyl] isocyanurate and unsaturated monobasic acids such as polyester (meth) acrylate oligomers and esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols; (meth) acrylic acid. Metal salts of unsaturated polybasic acids such as zinc and magnesium (meth) acrylate; maleic acid anhydride, itaconic acid anhydride, citraconic acid anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride Acids, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride-maleic anhydride adduct, dodecenyl anhydride succinic acid and Acid anhydrides of unsaturated polybasic acids such as methylhymic anhydride; (meth) acrylamide, methylenebis- (meth) acrylamide, diethylenetriaminetris (meth) acrylamide, xylylenebis (meth) acrylamide, α-chloroacrylamide, N-2 -Amid of unsaturated monobasic acids such as hydroxyethyl (meth) acrylamide and polyvalent amines; unsaturated aldehydes such as achlorein; unsaturated nitriles such as (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylamide, vinylidene cyanide, allyl cyanide, etc. Styrene, 4-methylstyrene, 4-ethylstyrene, 4-methoxystyrene, 4-hydroxystyrene, 4-chlorostyrene, divinylbenzene, vinyltoluene, vinyl benzoic acid, vinylphenol, vinylsulfonic acid, 4-vinylbenzenesulfone Unsaturated aromatic compounds such as acids, vinylbenzylmethyl ethers and vinylnaphthalene; unsaturated ketones such as methylvinylketones; unsaturated amine compounds such as vinylamine, allylamine, N-vinylpyrrolidone and vinylpiperidin; allylalcohol and crotylalcohol Vinyl alcohols such as vinyl methyl ethers, vinyl ethyl ethers, n-butyl vinyl ethers and vinyl ethers such as isobutyl vinyl ethers; Unsaturated imides such as nylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide; indens such as inden and 1-methylinden; polymer molecules such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate and polysiloxane Macromonomonics having a mono (meth) acryloyl group at the end of the chain; vinyl chloride, vinylidene chloride, divinyl succinate, diallyl phthalate, triallyl phosphate, triallyl isocyanurate, vinyl thioether, vinyl imidazole, vinyl oxazoline , Vinylcarbazole, vinylpyrrolidone, vinylpyridine, hydroxyl group-containing vinyl monomer and polyisocyanate compound vinyl urethane compound, hydroxyl group-containing vinyl monomer and polyepoxy compound vinyl epoxy compound, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate and other hydroxyl groups Polyfunctional acrylate; Reaction product of polyfunctional isocyanate such as tolylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; hydroxyl group-containing polyfunctional acrylate such as pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate and succinic anhydride, phthalic anhydride and tetrahydrophthalic anhydride Examples thereof include polyfunctional acrylates having an acid value which is a reaction product of a dibasic acid anhydride such as.
上記エポキシ化ポリオレフィンとしては、市販品を用いることもでき、例えば、エポリードPB3600、エポリードPB4700(ダイセル社製);BF−1000、FC−3000(ADEKA社製);ボンドファースト2C、ボンドファーストE、ボンドファーストCG5001、ボンドファーストCG5004、ボンドファースト2B、ボンドファースト7B、ボンドファースト7L、ボンドファースト7M、ボンドファーストVC40(住友化学社製);JP−100、JP−200(日本曹達社製);Poly bd R−45HT、Poly bd R−15HT(出光興産社製)及びRicon657(アルケマ社製)等が挙げられる。 Commercially available products can also be used as the epoxidized polyolefin, for example, Epolide PB3600, Epolide PB4700 (manufactured by Daicel); BF-1000, FC-3000 (manufactured by ADEKA); Bond First 2C, Bond First E, Bond. First CG5001, Bond First CG5004, Bond First 2B, Bond First 7B, Bond First 7L, Bond First 7M, Bond First VC40 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.); JP-100, JP-200 (manufactured by Nippon Soda); Poly bd R -45HT, Poly bd R-15HT (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), Ricon 657 (manufactured by Arkema Corporation) and the like can be mentioned.
耐熱性が良好なことから、上記エポキシ化合物としては、上記一般式(II)で表されるカルド骨格を有する化合物を使用することがより好ましい。 Since the heat resistance is good, it is more preferable to use a compound having a cardo skeleton represented by the general formula (II) as the epoxy compound.
上記オキセタン化合物としては、例えば、3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサ−ノナン、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,2−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]エタン、1,3−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、1,4−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ブタン、1,6−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ヘキサン、3―エチル―3−[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3―エチル―3−(ヘキシロキシメチル)オキセタン、3―エチル―3−(2−エチルヘキシロキシメチル)オキセタン、3―エチル―3−(ヒドロキシメチル)オキセタン及び3―エチル―3−(クロロメチル)オキセタン等が挙げられる。 Examples of the oxetane compound include 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxa-nonane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, and 1,2-bis. [(3-Ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ethane, 1,3-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] propane, ethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, Triethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetraethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane, 1 , 6-Bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) hexane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-( Examples thereof include 2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (hydroxymethyl) oxetane, and 3-ethyl-3- (chloromethyl) oxetane.
上記ビニルエーテル化合物としては、例えば、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、n−ドデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、1,6−シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル及び1,6−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等が挙げられる。 Examples of the vinyl ether compound include diethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, n-dodecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, triethylene glycol vinyl ether, and 2-. Examples thereof include hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 1,6-cyclohexanedimethanol monovinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether and 1,6-cyclohexanedimethanol divinyl ether.
上記アニオン重合性化合物としては、アニオン重合可能な重合性基を1以上有するものであればよい。
上記アニオン重合性化合物は、通常、アニオン重合開始剤と共に用いられるものである。
上記アニオン重合可能な重合性基としては、例えば、エポキシ基、ラクトン基、(メタ)アクリル基等を挙げることができる。
すなわち、上記アニオン重合性化合物としては、エポキシ化合物、ラクトン化合物、(メタ)アクリル基を有する化合物等が挙げられる。
上記ラクトン化合物としては、β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン等を挙げることができる。
なお、エポキシ化合物については、上記カチオン重合性化合物として例示したエポキシ化合物を用いることができる。また、(メタ)アクリル基を有する化合物としては、上記ラジカル重合性化合物として例示したものを用いることができる。The anionic polymerizable compound may be any compound having one or more anionic polymerizable groups.
The anionic polymerizable compound is usually used together with an anionic polymerization initiator.
Examples of the anionic polymerizable polymerizable group include an epoxy group, a lactone group, and a (meth) acrylic group.
That is, examples of the anionic polymerizable compound include epoxy compounds, lactone compounds, and compounds having a (meth) acrylic group.
Examples of the lactone compound include β-propiolactone and ε-caprolactone.
As the epoxy compound, the epoxy compound exemplified as the above-mentioned cationically polymerizable compound can be used. Further, as the compound having a (meth) acrylic group, those exemplified as the above-mentioned radically polymerizable compound can be used.
上記カチオン重合性化合物及びアニオン重合性化合物は、それぞれ単独で又は2種以上を混合して使用することができる。 The above-mentioned cationically polymerizable compound and anionically polymerizable compound can be used alone or in combination of two or more.
(b)重合性基を有しない重合体
本発明の組成物に用いることができる樹脂として、上述した通り、重合性基を有しない重合体を用いることができる。
上記重合性基を有しない重合体の重量平均分子量(Mw)は、組成物の用途等に応じて適宜設定されるものであるが、例えば、1500以上とすることができ、1500以上300000以下とすることができる。
このような重合体としては、繰り返し構造を含むものであればよく、感光性を有する感光性樹脂、感光性を有さない非感光性樹脂等を挙げることができる。
本発明の組成物は、例えば、樹脂成分として感光性樹脂を含むことにより、感光性組成物として用いることができる。(B) Polymer having no polymerizable group As the resin that can be used in the composition of the present invention, a polymer having no polymerizable group can be used as described above.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer having no polymerizable group is appropriately set according to the use of the composition and the like, but can be, for example, 1500 or more, and 1500 or more and 300,000 or less. can do.
Examples of such a polymer may be any polymer containing a repeating structure, and examples thereof include a photosensitive resin having photosensitivity and a non-photosensitive resin having no photosensitivity.
The composition of the present invention can be used as a photosensitive composition, for example, by containing a photosensitive resin as a resin component.
(i)感光性樹脂
上記感光性樹脂は、感光性を有するものであり、例えば、酸発生剤と共に用いられ、酸の作用でエステル基又はアセタール基等の化学結合の切断等、現像液に対する溶解性が増加する方向に変化するポジ型樹脂を挙げることができる。
上記組成物は、樹脂成分としてポジ型樹脂を含むことにより、光照射部位のアルカリ現像液への溶解性が増加する。
このため、上記組成物は、例えば、アルカリ現像液等の溶媒への溶解性が光照射前後で変化する感光性組成物として、より具体的には、ポジ型組成物として用いることができる。(I) Photosensitive resin The above photosensitive resin has photosensitivity, and is used together with an acid generator, for example, and is dissolved in a developing solution by the action of an acid to break a chemical bond such as an ester group or an acetal group. A positive resin that changes in the direction of increasing properties can be mentioned.
By containing a positive resin as a resin component in the above composition, the solubility of the light-irradiated portion in the alkaline developer is increased.
Therefore, the composition can be used, for example, as a photosensitive composition in which the solubility in a solvent such as an alkaline developer changes before and after light irradiation, and more specifically, as a positive composition.
上記ポジ型樹脂としては、高分子重合体を、アルカリ溶解制御能を有する酸不安定基に部分的に置換したものを用いることができる。
上記高分子重合体としては、ポリヒドロキシスチレン及びその誘導体;ポリアクリル酸及びその誘導体;ポリメタクリル酸及びその誘導体;ヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの誘導体から選ばれ形成される2以上の共重合体;ヒドロキシスチレン、スチレン及びそれらの誘導体から選ばれ形成される2以上の共重合体;シクロオレフィン及びその誘導体、無水マレイン酸、並びに、アクリル酸及びその誘導体から選ばれる3以上の共重合体;シクロオレフィン及びその誘導体、マレイミド、並びに、アクリル酸及びその誘導体から選ばれる3以上の共重合体;ポリノルボルネン;メタセシス開環重合体からなる一群から選択される1種以上の高分子重合体等を挙げることができる。
上記高分子重合体に導入される酸不安定基としては、三級アルキル基、トリアルキルシリル基、オキソアルキル基、アリール基置換アルキル基、テトラヒドロピラン−2−イル基等の複素脂環基、三級アルキルカルボニル基、三級アルキルカルボニルアルキル基、アルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。As the positive resin, a polymer polymer partially replaced with an acid unstable group having an alkali dissolution control ability can be used.
The polymer polymer includes two or more selected from polyhydroxystyrene and its derivatives; polyacrylic acid and its derivatives; polymethacrylic acid and its derivatives; hydroxystyrene, acrylic acid, methacrylic acid and their derivatives. Copolymers; 2 or more copolymers selected from hydroxystyrene, styrene and their derivatives; cycloolefins and their derivatives, maleic anhydride, and 3 or more copolymers selected from acrylic acid and its derivatives Combined; 3 or more copolymers selected from cycloolefin and its derivatives, maleimide, and acrylic acid and its derivatives; polynorbornene; one or more polymer polymers selected from the group consisting of metathesis ring-opening polymers. And so on.
Examples of the acid unstable group introduced into the above polymer polymer include heterolipid ring groups such as tertiary alkyl group, trialkylsilyl group, oxoalkyl group, aryl group substituted alkyl group and tetrahydropyran-2-yl group. Examples thereof include a tertiary alkylcarbonyl group, a tertiary alkylcarbonylalkyl group and an alkyloxycarbonyl group.
上記ポジ型樹脂の詳細な具体例は、例えば、特開2003−192665号公報、特開2004−323704号公報の請求項3、特開平10−10733号公報等に記載の内容と同様とすることができる。 A detailed specific example of the positive resin shall be the same as that described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-192665, Claim 3 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-323704, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-10733. Can be done.
上記ポジ型樹脂と共に用いられる酸発生剤としては、公知の酸発生剤を用いることができる。上記酸発生剤としては、具体的には、後述する光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤等を挙げることができる。 As the acid generator used together with the positive resin, a known acid generator can be used. Specific examples of the acid generator include a photocationic polymerization initiator and a thermal cationic polymerization initiator described later.
(ii)非感光性樹脂
上記非感光性樹脂は、感光性を有しないものであればよく、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−エチルアクリレート共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸、スチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)アクリル酸−メチルメタクリレート共重合体、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル樹脂、ABS樹脂、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、ウレタン樹脂、ポリカーボネートポリビニルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエステル、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
上記非感光性樹脂は、例えば、上述の重合性化合物の重合物も用いることができる。(Ii) Non-photosensitive resin The non-photosensitive resin may be any non-photosensitive resin, for example, polystyrene, polymethylmethacrylate, methylmethacrylate-ethylacrylate copolymer, poly (meth) acrylic acid, and styrene. -(Meta) acrylic acid copolymer, (meth) acrylic acid-methyl methacrylate copolymer, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl copolymer, polyvinyl chloride resin, ABS resin, nylon 6, nylon 66 , Nylon 12, urethane resin, polycarbonate polyvinyl butyral, cellulose ester, polyacrylamide, saturated polyester, phenol resin, phenoxy resin, polyamideimide resin, polyamic acid resin, epoxy resin and the like.
As the non-photosensitive resin, for example, a polymer of the above-mentioned polymerizable compound can also be used.
(c)樹脂成分
本発明の組成物における上記樹脂成分の含有量は、組成物の用途等に応じて適宜決定することができるが、例えば、組成物の固形分100質量部中、1質量部以上99質量部以下とすることが好ましく、20質量部以上95質量部以下であることがより好ましく、30質量部以上90質量部以下であることが特に好ましい。上記含有量が上述の範囲であることにより、上記組成物は、例えば、上記化合物I−1を安定的に保持可能だからである。
上記樹脂成分の含有量としては、組成物の用途等に応じて適宜設定できるが、例えば、組成物100質量部中に、1質量部以上99質量部以下とすることができ、10質量部以上90質量部以下であることが好ましく、なかでも、40質量部以上80質量部以下であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲であることで、例えば、上記組成物は、感度に優れたネガ型組成物として用いることができるからである。また、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を容易に付与できる組成物を提供することができるからである。
上記樹脂成分の含有量は、組成物の用途等に応じて異なるものであるが、化合物I−1及び樹脂成分の合計100質量部中に、1質量部以上99質量部以下とすることができ、50質量部以上99質量部以下であることが好ましく、なかでも、80質量部以上99質量部以下であることが好ましく、90質量部以上98質量部以下であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲であることにより、上記組成物は、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を容易に付与できる組成物を提供することができるからである。
また、上記化合物I−1及び樹脂成分の含有量としては、組成物の用途等に応じて適宜設定できるが、例えば、組成物100質量部中に、1質量部以上99質量部以下とすることができ、10質量部以上90質量部以下であることが好ましく、なかでも、40質量部以上80質量部以下であることが好ましい。上記含有量が上述の範囲であることで、例えば、上記組成物は、感度に優れたネガ型組成物として用いることができるからである。また、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を容易に付与できる組成物を提供することができるからである。(C) Resin component The content of the resin component in the composition of the present invention can be appropriately determined depending on the use of the composition and the like. For example, 1 part by mass in 100 parts by mass of the solid content of the composition. It is preferably 99 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more and 95 parts by mass or less, and particularly preferably 30 parts by mass or more and 90 parts by mass or less. This is because, when the content is in the above range, the composition can stably retain, for example, the compound I-1.
The content of the resin component can be appropriately set according to the intended use of the composition, and can be, for example, 1 part by mass or more and 99 parts by mass or less in 100 parts by mass of the composition, and 10 parts by mass or more. It is preferably 90 parts by mass or less, and more preferably 40 parts by mass or more and 80 parts by mass or less. This is because, for example, the above composition can be used as a negative type composition having excellent sensitivity when the above content is in the above range. Further, it is possible to provide a composition which has less curing inhibition and can easily impart an ultraviolet absorbing ability or the like to a cured product.
The content of the resin component varies depending on the use of the composition and the like, but can be 1 part by mass or more and 99 parts by mass or less in the total of 100 parts by mass of the compound I-1 and the resin component. , 50 parts by mass or more and 99 parts by mass or less, and more preferably 80 parts by mass or more and 99 parts by mass or less, and 90 parts by mass or more and 98 parts by mass or less. This is because when the content is in the above range, the composition can easily provide a composition capable of easily imparting an ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product.
The content of the compound I-1 and the resin component can be appropriately set according to the intended use of the composition, and is, for example, 1 part by mass or more and 99 parts by mass or less in 100 parts by mass of the composition. It is preferably 10 parts by mass or more and 90 parts by mass or less, and more preferably 40 parts by mass or more and 80 parts by mass or less. This is because, for example, the above composition can be used as a negative type composition having excellent sensitivity when the above content is in the above range. Further, it is possible to provide a composition which has less curing inhibition and can easily impart an ultraviolet absorbing ability or the like to a cured product.
本発明の組成物に含まれる上記樹脂成分の種類は、1種類のみであってもよく、2種類以上の組み合わせであってもよい。
上記樹脂成分は、例えば、重合性化合物及び重合体のいずれか一方のみを含むもの又は両者を含むものとすることができる。
上記樹脂成分が重合性化合物及び重合性基を有しない重合体の両者を含む場合、上記重合性化合物の含有量としては、組成物の用途等に応じて適宜設定することができるが、例えば、重合性化合物及び重合体100質量部中、1質量部以上99質量部以下とすることができる。The type of the resin component contained in the composition of the present invention may be only one type or a combination of two or more types.
The resin component may contain, for example, only one of a polymerizable compound and a polymer, or may contain both.
When the resin component contains both a polymerizable compound and a polymer having no polymerizable group, the content of the polymerizable compound can be appropriately set depending on the use of the composition and the like. It can be 1 part by mass or more and 99 parts by mass or less in 100 parts by mass of the polymerizable compound and the polymer.
(2)重合開始剤
上記重合開始剤は、硬化性成分として含まれるものであり、通常、重合性化合物等と共に用いられるものである。
上記重合開始剤としては、重合性化合物を重合可能なものであればよく、例えば、光照射を受けることにより重合性化合物を重合可能な光重合開始剤、加熱することにより重合性化合物を重合可能な熱重合開始剤等を挙げることができる。
上記重合開始剤は、上記化合物I−1が、紫外線吸収剤として機能するとの効果を効果的に発揮する観点からは、光重合開始剤であることが好ましい。(2) Polymerization Initiator The above-mentioned polymerization initiator is contained as a curable component and is usually used together with a polymerizable compound or the like.
The polymerization initiator may be any one that can polymerize the polymerizable compound. For example, a photopolymerization initiator that can polymerize the polymerizable compound by being irradiated with light, and a polymerizable compound that can be polymerized by heating. Thermal polymerization initiators and the like can be mentioned.
The polymerization initiator is preferably a photopolymerization initiator from the viewpoint of effectively exerting the effect that the compound I-1 functions as an ultraviolet absorber.
(a)光重合開始剤
上記光重合開始剤としては、光照射を受けることにより重合性化合物を重合可能なものであればよく、例えば、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、光アニオン重合開始剤等を挙げることができる。(A) Photopolymerization Initiator The photopolymerization initiator may be any as long as it can polymerize a polymerizable compound by being irradiated with light. For example, a photoradical polymerization initiator, a photocationic polymerization initiator, and a photoanion. Examples thereof include a polymerization initiator.
上記光ラジカル重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生するものであれば特に制限されず従来既知の化合物を用いることができる。
上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物及びオキシムエステル系化合物等を好ましいものとして例示することができる。The photoradical polymerization initiator is not particularly limited as long as it generates radicals by light irradiation, and conventionally known compounds can be used.
As the photoradical polymerization initiator, for example, acetophenone-based compounds, benzyl-based compounds, benzophenone-based compounds, thioxanthone-based compounds, oxime ester-based compounds and the like can be exemplified as preferable ones.
上記アセトフェノン系化合物としては例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−ヒドロキシメチル−2−メチルプロピオフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ターシャリブチルジクロロアセトフェノン、p−ターシャリブチルトリクロロアセトフェノン、p−アジドベンザルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル及び1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン等が挙げられる。 Examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, and 2-hydroxymethyl-. 2-Methylpropiophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, p-dimethylaminoacetophenone, p-tershalibutyldichloroacetophenone, p-tershaributyltrichloroacetophenone, p-azidoben Zaracetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) ) -Butanone-1, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2 -Methyl-1-propane-1-one and the like can be mentioned.
上記ベンジル系化合物としては、ベンジル等が挙げられる。 Examples of the benzyl compound include benzyl and the like.
上記ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーケトン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン及び4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。 Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, Michler ketone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide and the like. Be done.
上記チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。 Examples of the thioxanthone-based compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone and the like.
上記オキシム系化合物としては、例えば、下記一般式(IV)で表される化合物を挙げることができる。 Examples of the oxime-based compound include compounds represented by the following general formula (IV).
(式中、R71及びR72は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R73及びR74は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基、R75、OR76、SR77、NR78R79、COR80、SOR81、SO2R82又はCONR83R84を表し、R73及びR74は、互いに結合して環を形成している場合もあり、
R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82、R83及びR84は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
X3は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、CR85R86、CO、NR87又はPR88を表し、
X4は、単結合又はCOを表し、
R85、R86、R87及びR88は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基又は炭素原子数7〜20のアリールアルキル基を表し、該アルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基又は複素環含有基で置換されている場合もあり、−O−で置き換えられている場合もあり、
R73及びR74は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成している場合もあり、
e1は、0〜4の整数を表し、
e2は、0〜5の整数を表す。)(In the formula, R 71 and R 72 are independently hydrogen atom, cyano group, alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and aryl alkyl having 7 to 30 carbon atoms, respectively. Represents a group or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
R 73 and R 74 are independently halogen atoms, nitro groups, cyano groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, R 75 , OR 76 , SR 77 , NR 78 R 79 , COR 80 , SOR 81 , SO 2 R 82 or Representing CONR 83 R 84 , R 73 and R 74 may combine with each other to form a ring.
R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 , R 83 and R 84 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and 6 to 20 carbon atoms. Represents an aryl group of 30, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms.
X 3 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, CR 85 R 86 , CO, NR 87 or PR 88 .
X 4 represents a single bond or CO
R 85 , R 86 , R 87 and R 88 are independently hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, or aryl alkyl groups having 7 to 20 carbon atoms. The methylene group in the alkyl group or arylalkyl group may be substituted with a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxyl group or a heterocycle-containing group, and is replaced with −O−. In some cases,
R 73 and R 74 may independently form a ring together with either adjacent benzene ring.
e1 represents an integer from 0 to 4 and represents
e2 represents an integer from 0 to 5. )
上記一般式(IV)中のR71、R72、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R85、R86、R87及びR88に用いられる炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基並びにこれらの置換基としては、上記「1.光脱離基B」の項にR11等として例示した内容のうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられる。The number of carbon atoms used in R 71 , R 72 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 85 , R 86 , R 87 and R 88 in the above general formula (IV) is 1. Examples of the above-mentioned "1. Alkyl group of ~ 20, aryl group of 6 to 30 carbon atoms, arylalkyl group of 7 to 30 carbon atoms or heterocycle-containing group of 2 to 20 carbon atoms, and substituents thereof. among the terms of the light leaving group B 'of the content exemplified as R 11 or the like, include those satisfying a predetermined number of carbon atoms.
上記オキシム系化合物としては、例えば、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、1−〔9−エチル−6−ベンゾイル−9H−カルバゾール−3−イル−オクタン−1−オンオキシム−O−アセテート、1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、1−〔9−n−ブチル−6−(2−エチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−( 2−メチル−4−テトラヒドロピラニルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロフラニルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)等のカルバゾール構造を有するカルバゾール系オキシムエステル化合物が挙げられる。 Examples of the oxime compound include etanone-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl-9H-carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), 1- [9-ethyl). -6-benzoyl-9H-carbazole-3-yl-octane-1-one oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl] -ethane- 1-onexime-O-benzoate, 1- [9-n-butyl-6- (2-ethylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl] -ethane-1-oneoxime-O-benzoate, etanone-1- [ 9-Ethyl-6- (2-Methyl-4-tetrahydrofuranylbenzoyl) -9H-Carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), Etanone-1- [9-Ethyl-6- (2-) Methyl-4-tetrahydropyranylbenzoyl) -9H-carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), Etanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylbenzoyl)) -9H-carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), etanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl)) Methoxybenzoyl} -9H-carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), etanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9H-carbazole- Examples thereof include a carbazole-based oxime ester compound having a carbazole structure such as 3-yl] -1- (O-acetyloxime).
上記オキシム系化合物としては、例えば、インドール構造を有するインドール系オキシムエステル化合物も用いることができる。
インドール系オキシムエステル化合物としては、例えば、国際公開第2017/051680号に記載される下記一般式(V)で表されるオキシムエステル化合物等を挙げることができる。As the oxime compound, for example, an indole-based oxime ester compound having an indole structure can also be used.
Examples of the indole-based oxime ester compound include an oxime ester compound represented by the following general formula (V) described in International Publication No. 2017/051680.
(式中、R201及びR202は、それぞれ独立に、R211、OR211、COR211、SR211、CONR212R213又はCNを表し、
R211、R212及びR213は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R211、R212及びR213で表される基の水素原子は、更にR221、OR221、COR221、SR221、NR222R223、CONR222R223、NR222OR223、NCOR222OCOR223、NR222COR221、OCOR221、COOR221、SCOR221、OCSR221、COSR221、CSOR221、水酸基、ニトロ基、CN、ハロゲン原子、又はCOOR221で置換されている場合もあり、
R221、R222及びR223は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R221、R222及びR223で表される基の水素原子は、更に水酸基、ニトロ基、CN、ハロゲン原子、水酸基又はカルボキシル基で置換されている場合もあり、
R211、R212、R213、R221、R222及びR223で表される基のアルキレン部分のメチレン基は、−O−、−S−、−COO−、−OCO−、−OCOO−、−CONR224−、−NR224−、−NR224CO−、−NR224COO−、−OCONR224−、−SCO−、−COS−、−OCS−又は−SCOO−により置き換えられている場合もあり、
R224は、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R211、R212、R213、R221、R222、R223及びR224で表される基のアルキル部分は、分岐側鎖がある場合もあり、環状アルキルである場合もあり、
R203は、水素原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、R203で表される基のアルキル部分は、分岐側鎖がある場合もあり、環状アルキルである場合もあり、また、R203とR207及びR203とR208はそれぞれ一緒になって環を形成している場合もあり、
R203で表される基の水素原子は、更にR221、OR221、COR221、SR221、NR222R223、CONR222R223、NR222OR223、NCOR222OCOR223、NR222COR221、OCOR221、COOR221、SCOR221、OCSR221、COSR221、CSOR221、水酸基、ニトロ基、CN、ハロゲン原子、又はCOOR221で置換されている場合もあり、
R204、R205、R206及びR207は、それぞれ独立に、R211、OR211、SR211、COR214、CONR215R216、NR212COR211、OCOR211、COOR214、SCOR211、OCSR211、COSR214、CSOR211、水酸基、CN又はハロゲン原子を表し、R204とR205、R205とR206及びR206とR207はそれぞれ一緒になって環を形成している場合もあり、
R204、R205、R206及びR207で表される基の水素原子は、更にR221、OR221、COR221、SR221、NR222R223、CONR222R223、NR222OR223、NCOR222OCOR223、NR222COR221、OCOR221、COOR221、SCOR221、OCSR221、COSR221、CSOR221、水酸基、ニトロ基、CN、ハロゲン原子又はCOOR221で置換されている場合もあり、
R214、R215及びR216は、水素原子又は炭素原子数1〜20のアルキル基を表し、
R214、R215及びR216で表される基のアルキル部分は、分岐側鎖がある場合もあり、環状アルキルである場合もあり、
R208は、R211、OR211、SR211、COR211、CONR212R213、NR212COR211、OCOR211、COOR211、SCOR211、OCSR211、COSR211、CSOR211、水酸基、CN又はハロゲン原子を表し、
n1は、0又は1を表す。)(In the formula, R 201 and R 202 independently represent R 211 , OR 211 , COR 211 , SR 211 , CONR 212 R 213 or CN, respectively.
R 211 , R 212 and R 213 independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or a carbon atom. Represents a heterocyclic group of the number 2 to 20
The hydrogen atoms of the groups represented by R 211 , R 212 and R 213 are further R 221 and OR 221 and COR 221 and SR 221 and NR 222 R 223 , CONR 222 R 223 , NR 222 OR 223 and NCOR 222 OCOR 223. , NR 222 COR 221 , OCOR 221 , COOR 221 , SCOR 221 , OCSR 221 , COSR 221 , CSO R 221 may be substituted with hydroxyl group, nitro group, CN, halogen atom or COOR 221 .
R 221, R 222 and R 223 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group or a carbon atom having 7 to 30 carbon atoms Represents a heterocyclic group of the number 2 to 20
The hydrogen atom of the group represented by R 221 and R 222 and R 223 may be further substituted with a hydroxyl group, a nitro group, a CN, a halogen atom, a hydroxyl group or a carboxyl group.
The methylene group of the alkylene moiety of the group represented by R 211 , R 212 , R 213 , R 221 and R 222 and R 223 is -O-, -S-, -COO-, -OCO-, -OCOO-, -CONR 224 -, - NR 224 - , - NR 224 CO -, - NR 224 COO -, - OCONR 224 -, - SCO -, - COS -, - OCS- or -SCOO- by sometimes replaced ,
R224 contains a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms. Represent,
The alkyl moieties of the groups represented by R 211 , R 212 , R 213 , R 221 and R 222 , R 223 and R 224 may have branched side chains or may be cyclic alkyls.
R 203 contains a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms. Represented, the alkyl moiety of the group represented by R 203 may have a branched side chain or a cyclic alkyl, and R 203 and R 207 and R 203 and R 208 may be together, respectively. It may form a ring,
The hydrogen atoms of the group represented by R 203 are further R 221 and OR 221 and COR 221 and SR 221 and NR 222 R 223 , CONR 222 R 223 , NR 222 OR 223 , NCOR 222 OCOR 223 and NR 222 COR 221 and It may be substituted with OCOR 221 or COOR 221 or SCOR 221 or OCSR 221 or COSR 221 or CSO R 221 as a hydroxyl group, nitro group, CN, halogen atom or COOR 221 .
R 204 , R 205 , R 206 and R 207 are independently R 211 , OR 211 , SR 211 , COR 214 , CONR 215 R 216 , NR 212 COR 211 , OCOR 211 , COOR 214 , SCOR 211 , OCSR 211 , respectively. , COSR 214 , CSOR 211 , hydroxyl group, CN or halogen atom, R 204 and R 205 , R 205 and R 206 and R 206 and R 207 may be combined to form a ring, respectively.
The hydrogen atoms of the groups represented by R 204 , R 205 , R 206 and R 207 are further R 221 and OR 221 and COR 221 and SR 221 and NR 222 R 223 , CONR 222 R 223 , NR 222 OR 223 and NCOR. It may be replaced with 222 OCOR 223 , NR 222 COR 221 , OCOR 221 , COOR 221 , SCOR 221 or OCSR 221 or COSR 221 or CSO R 221 or hydroxyl group, nitro group, CN, halogen atom or COOR 221 .
R 214 , R 215 and R 216 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
The alkyl moieties of the groups represented by R 214 , R 215 and R 216 may have branched side chains or may be cyclic alkyls.
R 208 is R 211 , OR 211 , SR 211 , COR 211 , CONR 212 R 213 , NR 212 COR 211 , OCOR 211 , COOR 211 , SCOR 211 , OCSR 211 , COSR 211 , CSOR 211 , hydroxyl group, CN or halogen atom. Represents
n1 represents 0 or 1. )
上記一般式(V)中のR203、R211、R212、R213、R214、R215、R216、R221、R222、R223及びR224に用いられる炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基としては、上記「1.光脱離基B」の項にR11等として例示した内容のうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられる。The number of carbon atoms 1 to 20 used in R 203 , R 211 , R 212 , R 213 , R 214 , R 215 , R 216 , R 221 and R 222 , R 223 and R 224 in the above general formula (V). Examples of the alkyl group, the aryl group having 6 to 30 carbon atoms, the arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or the heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms are described in the above section "1. Photoremoving group B". while the contents exemplified as R 11 or the like, include those satisfying a predetermined number of carbon atoms.
その他のラジカル重合開始剤としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物及びビス(シクロペンタジエニル)−ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)]チタニウム等のチタノセン系化合物等が挙げられる。 Other radical polymerization initiators include phosphine oxide compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis (cyclopentadienyl) -bis [2,6-difluoro-3- (pill-1). -Il)] Titanosen-based compounds such as titanium can be mentioned.
市販のラジカル重合開始剤としては、アデカオプトマーN−1414、N−1717、N−1919、アデカアークルズNCI−831、NCI−930(ADEKA社製)、IRGACURE184、IRGACURE369、IRGACURE651、IRGACURE907、IRGACURE OXE 01、IRGACURE OXE 02、OXE 03、OXE 04、IRGACURE784(BASF社製)、TR−PBG−304、TR−PBG−305、TR−PBG−309及びTR−PBG−314(Tronly社製)等が挙げられる。 Commercially available radical polymerization initiators include ADEKA PUTMER N-1414, N-1717, N-1919, ADEKA ARCULS NCI-831, NCI-930 (manufactured by ADEKA), IRGACURE184, IRGACURE369, IRGACURE651, IRGACURE907, IRGACURE ORE. 01, IRGACURE OXE 02, OXE 03, OXE 04, IRGACURE784 (manufactured by BASF), TR-PBG-304, TR-PBG-305, TR-PBG-309 and TR-PBG-314 (manufactured by Trolly), etc. Be done.
これらの光ラジカル重合開始剤は1種或いは2種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。
上記光ラジカル重合開始剤の含有量としては、所望の硬化性や感光性を付与できるものであればよいが、例えば、重合性化合物100質量部に対して、0.001質量部以上20質量部以下とすることができ、0.1質量部以上30質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以上10質量部以下であることが好ましい。上記含有量であることで、組成物は、硬化性等に優れ、また、分散性等にも優れるからである。One or more of these photoradical polymerization initiators can be blended and used according to desired performance.
The content of the photoradical polymerization initiator may be any as long as it can impart desired curability and photosensitivity. For example, 0.001 part by mass or more and 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound. It can be as follows, preferably 0.1 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, and preferably 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less. This is because the composition has excellent curability and the like, and also has excellent dispersibility and the like because of the above content.
上記光カチオン重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出させることが可能な化合物であれば特に制限されず、既存の化合物を用いることが可能であり、好ましくは、エネルギー線の照射によってルイス酸を放出するオニウム塩である複塩、又はその誘導体である。かかる化合物の代表的なものとしては、下記一般式、
[A1]r+[B1]r−
で表される陽イオンと陰イオンの塩を挙げることができる。The photocationic polymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound capable of releasing a substance that initiates cationic polymerization by light irradiation, and an existing compound can be used, preferably an energy ray. It is a double salt, which is an onium salt that releases Lewis acid upon irradiation, or a derivative thereof. Typical examples of such compounds include the following general formulas.
[A1] r + [B1] r-
Examples of salts of cations and anions represented by.
上記陽イオン[A1]r+はオニウムであることが好ましく、その構造は、例えば、下記一般式で表すことができる。
[(R101)f1Q]r+ The cation [A1] r + is preferably onium, and its structure can be represented by, for example, the following general formula.
[(R 101 ) f1 Q] r +
更にここで、R101は炭素原子数が1〜60であり、炭素原子以外の原子をいくつも含んでいる場合もある有機の基である。f1は1〜5のいずれかの整数である。e個のR58は各々独立で、同一でも異なっている場合もある。また、R101の少なくとも1つは、芳香環を有する上記の如き有機の基であることが好ましい。例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルコキシ基、ハロゲン原子、ベンジル基、チオフェノキシ基、4−ベンゾイルフェニルチオ基、2−クロロ−4−ベンゾイルフェニルチオ基等で置換されている場合もあるフェニル基が挙げられる。QはS,N,Se,Te,P,As,Sb,Bi,O,I,Br,Cl,F,N=Nからなる群から選ばれる原子或いは原子団である。また、陽イオン[A1]r+中のQの原子価をqとしたとき、r=f1−qなる関係が成り立つことが必要である(但し、N=Nは原子価0として扱う)。Further, here, R 101 is an organic group having 1 to 60 carbon atoms and may contain a number of atoms other than carbon atoms. f1 is any integer from 1 to 5. The e R 58s are independent and may be the same or different. Further, at least one of R 101 is preferably an organic group as described above having an aromatic ring. For example, it may be substituted with an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, a hydroxyalkoxy group, a halogen atom, a benzyl group, a thiophenoxy group, a 4-benzoylphenyl thio group, a 2-chloro-4-benzoyl phenyl thio group, or the like. There is a phenyl group. Q is an atom or atomic group selected from the group consisting of S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, F, N = N. Further, when the valence of Q in the cation [A1] r + is q, it is necessary that the relationship r = f1-q holds (however, N = N is treated as 0 valence).
また、陰イオン[B1]r-は、ハロゲン化物錯体であることが好ましく、その構造は、例えば、下記一般式、[LXf2]r-で表すことができる。Further, the anion [B1] r- is preferably a halide complex, and its structure can be represented by, for example, the following general formula, [LX f2 ] r- .
更にここで、Lはハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属(Metalloid)であり、B,P,As,Sb,Fe,Sn,Bi,Al,Ca,In,Ti,Zn,Sc,V,Cr,Mn及びCo等である。
Xf2は、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子やアルコキシ基等で置換されている場合もあるフェニル基である。f2は3〜7なる整数である。
また、陰イオン[B1]r-中のLの原子価をpとしたとき、r=f2−pなる関係が成り立つことが必要である。Further, here, L is a metal or metalloid that is the central atom of the halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co and the like.
X f2 is a halogen atom, or a phenyl group that may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group, or the like. f2 is an integer of 3 to 7.
Further, when the valence of L in the anion [B1] r- is p, it is necessary that the relationship r = f2-p is established.
上記一般式の陰イオン[LXf2]r−の具体例としては、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラ(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)ボレート、テトラフルオロボレート(BF4)−、ヘキサフルオロフォスフェート(PF6)−、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF6)−、ヘキサフルオロアルセネート(AsF6)−及びヘキサクロロアンチモネート(SbCl6)−等を挙げることができる。Specific examples of the anion [LX f2 ] r- of the above general formula include tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tetra (3,5-difluoro-4-methoxyphenyl) borate, tetrafluoroborate (BF 4 ) - , Hexafluoroborate (PF 6 ) − , hexafluoroantimonate (SbF 6 ) − , hexafluoroarsenate (AsF 6 ) − and hexachloroantimonate (SbCl 6 ) − and the like can be mentioned.
また、陰イオン[B1]r−は、下記一般式、
[LXf2−1(OH)]r−
で表される構造のものも好ましく用いることができる。L,X,f2は上記と同様である。また、その他用いることのできる陰イオンとしては、過塩素酸イオン(ClO4)−、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3SO3)−、フルオロスルホン酸イオン(FSO3)−、トルエンスルホン酸陰イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸陰イオン、カンファースルフォネート、ノナフロロブタンスルフォネート、ヘキサデカフロロオクタンスルフォネート、テトラアリールボレート及びテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等を挙げることができる。The anion [B1] r- is a general formula below.
[LX f2-1 (OH)] r-
The structure represented by is also preferably used. L, X, f2 are the same as above. Other anions that can be used include perchlorate ion (ClO 4 ) − , trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 ) − , fluorosulfonic acid ion (FSO 3 ) − , and toluene sulfonic acid anion. , Trinitrobenzene sulfonic acid anion, camphor sulfonate, nonafluorobutane sulfonate, hexadecafluorooctane sulfonate, tetraarylborate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate and the like.
本発明では、このようなオニウム塩の中でも、下記の(ホ)〜(ト)の芳香族オニウム塩を使用することが特に有効であり、好ましい。これらの中から、その1種を単独で、又は2種以上を混合して使用することができる。 In the present invention, among such onium salts, it is particularly effective and preferable to use the following aromatic onium salts (e) to (g). From these, one of them can be used alone, or two or more of them can be mixed and used.
(ホ)フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、4−メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート及び4−メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩。 (E) Aryldiazonium salts such as phenyldiazonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyldiazonium hexafluoroantimonate and 4-methylphenyldiazonium hexafluorophosphate.
(へ)ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート及びトリルクミルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等のジアリールヨードニウム塩。 (F) Diaryls such as diphenyliodonium hexafluoroantimonate, di (4-methylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate and trilcmil iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate. Iodonium salt.
(ト)下記群I又は群IIで表されるスルホニウムカチオンとヘキサフルオロアンチモンイオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートイオン等のスルホニウム塩。 (G) A sulfonium salt such as a sulfonium cation represented by the following group I or group II, a hexafluoroantimony ion, and a tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion.
また、その他好ましいものとしては、(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)〔(1,2,3,4,5,6−η)−(1−メチルエチル)ベンゼン〕−アイアン−ヘキサフルオロホスフェート等の鉄−アレーン錯体;トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム、トリス(エチルアセトナトアセタト)アルミニウム、トリス(サリチルアルデヒダト)アルミニウム等のアルミニウム錯体;トリフェニルシラノール等のシラノール類との混合物:等も挙げることができる。 Other preferred ones are (η5-2,4-cyclopentadiene-1-yl) [(1,2,3,4,5,6-η)-(1-methylethyl) benzene] -iron-. Iron-arene complex such as hexafluorophosphate; aluminum complex such as tris (acetylacetonato) aluminum, tris (ethylacetonatoacetato) aluminum, tris (salityl aldehyde) aluminum; mixture with silanols such as triphenylsilanol : Etc. can also be mentioned.
上記光カチオン重合開始剤としては、市販品を用いることもでき、例えば、IRUGACURE261(BASF社製)、アデカオプトマーSP−150、SP−151、SP−152、SP−170、SP−171、SP−172(ADEKA社製)、UVE−1014(ゼネラルエレクトロニクス社製)、CD−1012(サートマー社製)、CI−2064、CI−2481(日本曹達社製)、Uvacure1590、1591(ダイセルUCB)、CYRACURE UVI−6990(ユニオンカーバイド社製)、BBI-103、MPI-103、TPS-103、MDS-103、DTS-103、NAT-103及びNDS-103(ミドリ化学社製)等が挙げられる。 As the photocationic polymerization initiator, a commercially available product can also be used. For example, IRUGACURE261 (manufactured by BASF), ADEKA PUTMER SP-150, SP-151, SP-152, SP-170, SP-171, SP. -172 (manufactured by ADEKA), UVE-1014 (manufactured by General Electronics), CD-1012 (manufactured by Sartmer), CI-2064, CI-2481 (manufactured by Nippon Soda), Uvacure 1590, 1591 (Dycel UCB), CYRACURE UVI-6990 (manufactured by Union Carbide), BBI-103, MPI-103, TPS-103, MDS-103, DTS-103, NAT-103, NDS-103 (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
これらの中でも、実用面と光感度の観点から、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、鉄−アレーン錯体を用いることが好ましい。 Among these, it is preferable to use an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, or an iron-arene complex from the viewpoint of practical use and photosensitivity.
上記光アニオン重合開始剤としては、光により塩基を発生するものを用いることができ、光アニオン重合開始剤として公知のものを用いることができる。
上記光アニオン重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン O−アロイルオキシム(acetophenone O-aroyloxime)、ニフェジピン(nifedipine)等を挙げることができる。As the photoanionic polymerization initiator, one that generates a base by light can be used, and a known photoanionic polymerization initiator can be used.
Examples of the photoanionic polymerization initiator include acetophenone O-aroyloxime and nifedipine.
(b)熱重合開始剤
上記熱重合開始剤としては、加熱することにより重合性化合物を重合可能なものであればよく、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、アニオン重合開始剤等を挙げることができる。(B) Thermal Polymerization Initiator The thermal polymerization initiator may be any one capable of polymerizing a polymerizable compound by heating, and examples thereof include a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, and an anionic polymerization initiator. Can be done.
上記熱ラジカル重合開始剤としては、加熱によりラジカルを発生するものを用いることができ、熱ラジカル重合開始剤として公知のものを用いることができる。
上記熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾ系化合物、過酸化物及び過硫酸塩等を好ましいものとして例示することができる。As the thermal radical polymerization initiator, one that generates radicals by heating can be used, and a known thermal radical polymerization initiator can be used.
As the thermal radical polymerization initiator, for example, azo compounds, peroxides, persulfates and the like can be exemplified as preferable ones.
上記アゾ系化合物としては、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビス(メチルイソブチレ−ト)、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)等が挙げられる。 Examples of the azo compound include 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (methylisobutyrate), 2,2'-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, and 1,1'. -Azobis (1-acetoxy-1-phenylethane) and the like can be mentioned.
過酸化物としては、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシピバレート及びジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート等が挙げられる。 Examples of the peroxide include benzoyl peroxide, di-t-butylbenzoyl peroxide, t-butylperoxypivalate and di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate.
上記過硫酸塩としては、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及び過硫酸カリウム等の過硫酸塩等が挙げられる。 Examples of the persulfate include persulfates such as ammonium persulfate, sodium persulfate and potassium persulfate.
上記熱カチオン重合開始剤としては、加熱によりカチオン種又はルイス酸を発生するものを用いることができ、熱カチオン重合開始剤として公知のものを用いることができる。
上記熱カチオン重合開始剤としては、具体的には、スルホニウム塩、チオフェニウム塩、チオラニウム塩、ベンジルアンモニウム、ピリジニウム塩及びヒドラジニウム塩等の塩;ジエチレントリアミン、トリエチレントリアミン及びテトラエチレンペンタミン等のポリアルキルポリアミン類;1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−3,6−ジエチルシクロヘキサン及びイソホロンジアミン等の脂環式ポリアミン類;m−キシリレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン及びジアミノジフェニルスルホン等の芳香族ポリアミン類;上記ポリアミン類と、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル及びビスフェノールF−ジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類又はカルボン酸のグリシジルエステル類等の各種エポキシ樹脂とを常法によって反応させることによって製造されるポリエポキシ付加変性物;上記有機ポリアミン類と、フタル酸、イソフタル酸及びダイマー酸等のカルボン酸類とを常法によって反応させることによって製造されるアミド化変性物;上記ポリアミン類とホルムアルデヒド等のアルデヒド類及びフェノール、クレゾール、キシレノール、第三ブチルフェノール及びレゾルシン等の核に少なくとも一個のアルデヒド化反応性場所を有するフェノール類とを常法によって反応させることによって製造されるマンニッヒ化変性物;多価カルボン酸(シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、2−メチルコハク酸、2−メチルアジピン酸、3−メチルアジピン酸、3−メチルペンタン二酸、2−メチルオクタン二酸、3,8−ジメチルデカン二酸、3,7−ジメチルデカン二酸、水添ダイマー酸及びダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸類;フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸及びナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸類;シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸類;トリメリット酸、トリメシン酸及びひまし油脂肪酸等の三量体等のトリカルボン酸類;ピロメリット酸等のテトラカルボン酸類等)の酸無水物;ジシアンジアミド、イミダゾール類、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル及びアミンイミド等を挙げることができる。
上記熱カチオン重合開始剤としては、市販品を用いることもでき、例えば、アデカオプトンCP−77、アデカオプトンCP−66(ADEKA社製)、CI−2639、CI−2624(日本曹達社製)、サンエイドSI−60L、サンエイドSI−80L、サンエイド SI−100L(三新化学工業社製)等が挙げられる。As the thermal cationic polymerization initiator, one that generates a cationic species or Lewis acid by heating can be used, and a known thermal cationic polymerization initiator can be used.
Specific examples of the thermal cationic polymerization initiator include salts such as sulfonium salt, thiophenium salt, thiolanium salt, benzylammonium, pyridinium salt and hydrazinium salt; and polyalkylpolyamine such as diethylenetriamine, triethylenetriamine and tetraethylenepentamine. Classes; alicyclic polyamines such as 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diamino-3,6-diethylcyclohexane and isophoronediamine; aromatic polyamines such as m-xylylene diamine, diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone. The above polyamines are reacted with various epoxy resins such as glycidyl ethers such as phenylglycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A-diglycidyl ether and bisphenol F-diglycidyl ether, or glycidyl esters of carboxylic acid by a conventional method. Polyepoxy addition-modified product produced by reacting; an amidated modified product produced by reacting the above-mentioned organic polyamines with carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and dimeric acid by a conventional method; the above-mentioned polyamines. Mannig modified product produced by reacting with aldehydes such as formaldehyde and phenols having at least one aldehyde reaction reaction site in the nucleus such as phenol, cresol, xylenol, tertiary butylphenol and resorcin by a conventional method. Polyvalent carboxylic acids (succinic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimeric acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, 2-methylsuccinic acid, 2-methyladipic acid, 3- Aliphatic dicarboxylic acids such as methyladipic acid, 3-methylpentanedioic acid, 2-methyloctanedioic acid, 3,8-dimethyldecanedioic acid, 3,7-dimethyldecanedioic acid, hydrogenated dimer acid and dimer acid; Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and naphthalenedicarboxylic acid; alicyclic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid; tricarboxylic acids such as trimesters such as trimellitic acid, trimesic acid and castor oil fatty acid; Acid anhydrides of (tetracarboxylic acids such as merit acids); dicyandiamides, imidazoles, carboxylic acid esters, sulfonic acid esters, amineimides and the like can be mentioned.
Commercially available products can also be used as the thermal cationic polymerization initiator, for example, ADEKA OPTON CP-77, ADEKA OPTON CP-66 (manufactured by ADEKA), CI-2369, CI-2624 (manufactured by Nippon Soda), Sun Aid SI. -60L, Sun Aid SI-80L, Sun Aid SI-100L (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
上記熱アニオン重合開始剤としては、熱により塩基を発生するものを用いることができ、熱アニオン重合開始剤として公知のものを用いることができる。
上記アニオン重合開始剤としては、具体的には、脂肪族アミン系化合物、芳香族アミン系化合物、二級又は三級アミン系化合物、イミダゾール系化合物、ポリメルカプタン系化合物、三フッ化ホウ素−アミン錯体、ジシアンジアミド、有機酸ヒドラジッド等を用いることができる。As the thermal anionic polymerization initiator, one that generates a base by heat can be used, and a known thermal anionic polymerization initiator can be used.
Specific examples of the anion polymerization initiator include an aliphatic amine compound, an aromatic amine compound, a secondary or tertiary amine compound, an imidazole compound, a polymercaptan compound, and a boron trifluoride-amine complex. , Diciandiamide, organic acid hydrazide and the like can be used.
(c)重合開始剤の含有量
上記重合開始剤の含有量としては、所望の硬化性等を付与できるものであればよいが、例えば、固形分100質量部中、0.1質量部以上30質量部以下とすることができ、0.5質量部以上10質量部以下であることが好ましい。上記含有量であることで、組成物は、硬化性等に優れ、また、分散性等にも優れるからである。
上記重合開始剤の含有量としては、所望の硬化性や感光性を付与できるものであればよいが、例えば、重合性化合物100質量部に対して、0.001質量部以上20質量部以下とすることができ、0.1質量部以上30質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以上10質量部以下であることが好ましい。上記含有量であることで、組成物は、硬化性等に優れ、また、分散性等にも優れるからである。(C) Content of Polymerization Initiator The content of the polymerization initiator may be any as long as it can impart desired curability and the like. For example, 0.1 part by mass or more of 30 parts by mass of solid content is 30 parts by mass. It can be less than or equal to parts by mass, preferably 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less. This is because the composition has excellent curability and the like, and also has excellent dispersibility and the like because of the above content.
The content of the polymerization initiator may be any as long as it can impart desired curability and photosensitivity. For example, the content of the polymerization initiator is 0.001 part by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound. It is preferable that the amount is 0.1 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, and 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less. This is because the composition has excellent curability and the like, and also has excellent dispersibility and the like because of the above content.
(3)その他
上記他の成分としては、樹脂成分、重合開始剤以外に、必要に応じて、着色剤、溶剤、連鎖移動剤、増感剤、界面活性剤、シランカップリング剤、メラミン化合物等を含むことができる。
また、上記他の成分は、これら以外にも必要に応じて、p−アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、t−ブチルカテコール、フェノチアジン等の熱重合抑制剤;可塑剤;接着促進剤;充填剤;消泡剤;レベリング剤;表面調整剤;フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤等の酸化防止剤;上記化合物I−1で表される化合物以外の紫外線吸収剤;分散助剤;凝集防止剤;触媒;効果促進剤;架橋剤;増粘剤等の添加剤を含むことができる。(3) Others In addition to the resin component and the polymerization initiator, the other components include a colorant, a solvent, a chain transfer agent, a sensitizer, a surfactant, a silane coupling agent, a melamine compound and the like, if necessary. Can be included.
In addition to these, the other components may be heat polymerization inhibitors such as p-anisole, hydroquinone, pyrocatechol, t-butylcatechol, and phenothiazine; plasticizers; adhesion promoters; fillers; erasables, if necessary. Foaming agent; Leveling agent; Surface conditioner; Phenolic antioxidant, Phosphite antioxidant, Antioxidant such as thioether antioxidant; Ultraviolet absorber other than the compound represented by the above compound I-1; Additives such as dispersion aids; anti-aggregation agents; catalysts; effect promoters; cross-linking agents; thickeners can be included.
(a)着色剤
上記着色剤としては、例えば組成物又はその硬化物等に所望の着色を付与できるものであればよく、染料又は顔料が挙げられる。
染料としては、380〜1200nmに吸収を有する化合物を用いることができ、例えば、アゾ化合物、アントラキノン化合物、インジゴイド化合物、トリアリールメタン化合物、キサンテン化合物、アリザリン化合物、アクリジン化合物、スチルベン化合物、チアゾール化合物、ナフトール化合物、キノリン化合物、ニトロ化合物、インダミン化合物、オキサジン化合物、フタロシアニン化合物、シアニン化合物、ジインモニウム化合物、シアノエテニル化合物、ジシアノスチレン化合物、ローダミン化合物、ペリレン化合物、ポリエンナフトラクタム化合物、クマリン化合物、スクアリリウム化合物、クロコニウム化合物、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、メロシアニン化合物、オキソノール化合物、スチリル化合物、ピリリウム化合物、ローダニン化合物、オキサゾロン化合物、フタルイミド化合物、シンノリン化合物、ナフトキノン化合物、アザアントラキノン化合物、ポルフィリン化合物、アザポルフィリン化合物、ピロメテン化合物、キナクリドン化合物、ジケトピロロピロール化合物、インジゴ化合物、アクリジン化合物、アジン化合物、アゾメチン化合物、アニリン化合物、キナクリドン化合物、キノフタロン化合物、キノンイミン化合物、イリジウム錯体化合物、ユーロピウム錯体化合物等の染料等が挙げられ、これらは複数を混合して用いてもよい。(A) Colorant As the colorant, for example, a dye or a pigment may be used as long as it can impart a desired color to the composition or a cured product thereof.
As the dye, a compound having an absorption at 380 to 1200 nm can be used, for example, an azo compound, an anthraquinone compound, an indigoid compound, a triarylmethane compound, a xanthene compound, an alizarin compound, an acridin compound, a stilben compound, a thiazole compound, and naphthol. Compounds, quinoline compounds, nitro compounds, indamine compounds, oxazine compounds, phthalocyanine compounds, cyanine compounds, diimmonium compounds, cyanoethenyl compounds, dicyanostyrene compounds, rhodamine compounds, perylene compounds, polyennaphtholactum compounds, coumarin compounds, squarylium compounds, croconium compounds, Spiropyran compound, spiroxazine compound, merocyanine compound, oxonol compound, styryl compound, pyrylium compound, rodonine compound, oxazolone compound, phthalimide compound, cinnoline compound, naphthoquinone compound, azaanthraquinone compound, porphyrin compound, azaporphyrin compound, pyromethene compound, quinacridone compound , Diketopyrrolopyrrole compounds, indigo compounds, aclysine compounds, azine compounds, azomethine compounds, aniline compounds, quinacridone compounds, quinophthalone compounds, quinoneimine compounds, iridium complex compounds, europium complex compounds and other dyes. It may be mixed and used.
顔料としては、無機顔料或いは有機顔料を用いることができ、例えば、ニトロソ化合物、ニトロ化合物、アゾ化合物、ジアゾ化合物、キサンテン化合物、キノリン化合物、アントラキノン化合物、クマリン化合物、フタロシアニン化合物、イソインドリノン化合物、イソインドリン化合物、キナクリドン化合物、アンタンスロン化合物、ペリノン化合物、ペリレン化合物、ジケトピロロピロール化合物、チオインジゴ化合物、ジオキサジン化合物、トリフェニルメタン化合物、キノフタロン化合物、ナフタレンテトラカルボン酸;アゾ染料、シアニン染料の金属錯体化合物;レーキ顔料;ファーネス法、チャンネル法、サーマル法によって得られるカーボンブラック、或いはアセチレンブラック、ケッチェンブラック又はランプブラック等のカーボンブラック;上記カーボンブラックをエポキシ樹脂で調整、被覆したもの、上記カーボンブラックを予め溶媒中で樹脂により分散処理し、20〜200mg/gの樹脂を吸着させたもの、上記カーボンブラックを酸性又はアルカリ性表面処理したもの、平均粒径が8nm以上でDBP吸油量が90ml/100g以下のもの、950℃における揮発分中のCO、CO2から算出した全酸素量が、カーボンブラックの表面積100m2当たり9mg以上であるもの;黒鉛、黒鉛化カーボンブラック、活性炭、炭素繊維、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル、フラーレン;アニリンブラック、ピグメントブラック7、チタンブラック;疎水性樹脂、酸化クロム緑、ミロリブルー、コバルト緑、コバルト青、マンガン系、フェロシアン化物、リン酸塩群青、紺青、ウルトラマリン、セルリアンブルー、ピリジアン、エメラルドグリーン、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、合成鉄黒、アンバー等の無機含量又は有機顔料を用いることができる。これらの顔料は単独で、或いは複数を混合して用いることができる。As the pigment, an inorganic pigment or an organic pigment can be used, for example, a nitroso compound, a nitro compound, an azo compound, a diazo compound, a xanthene compound, a quinoline compound, an anthraquinone compound, a coumarin compound, a phthalocyanine compound, an isoindolinone compound, and an iso. Indoline compounds, quinacridone compounds, antanthurone compounds, perinone compounds, perylene compounds, diketopyrrolopyrrole compounds, thioindigo compounds, dioxazine compounds, triphenylmethane compounds, quinophthalone compounds, naphthalenetetracarboxylic acids; metal complex compounds of azo dyes and cyanine dyes; Lake pigment; carbon black obtained by furnace method, channel method, thermal method, or carbon black such as acetylene black, ketjen black or lamp black; the above carbon black adjusted and coated with an epoxy resin, the above carbon black is prepared in advance. A compound that is dispersed with a resin in a solvent and adsorbs 20 to 200 mg / g of resin, an acidic or alkaline surface-treated carbon black, an average particle size of 8 nm or more and a DBP oil absorption of 90 ml / 100 g or less. The total amount of oxygen calculated from CO and CO 2 in the volatile matter at 950 ° C is 9 mg or more per 100 m 2 of carbon black surface; graphite, graphite carbon black, activated carbon, carbon fiber, carbon nanotube, carbon. Microcoil, carbon nanohorn, carbon aerogel, fullerene; aniline black, pigment black 7, titanium black; hydrophobic resin, chromium oxide green, milloli blue, cobalt green, cobalt blue, manganese, ferrocyanide, phosphate ultramarine blue, dark blue , Ultramarine, Cerulean Blue, Pyridian, Emerald Green, Lead Sulfate, Yellow Lead, Zinc Yellow, Bengara (Red Iron Oxide (III)), Cadmium Red, Synthetic Iron Black, Amber, etc. it can. These pigments can be used alone or in combination of two or more.
上記無機顔料又は有機顔料としては、市販の顔料を用いることもでき、例えば、ピグメントレッド1、2、3、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48、49、88、90、97、112、119、122、123、144、149、166、168、169、170、171、177、179、180、184、185、192、200、202、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、254;ピグメントオレンジ13、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、65、71;ピグメントイエロー1、3、12、13、14、16、17、20、24、55、60、73、81、83、86、93、95、97、98、100、109、110、113、114、117、120、125、126、127、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、166、168、175、180、185;ピグメントグリ−ン7、10、36;ピグメントブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:5、15:6、22、24、56、60、61、62、64;ピグメントバイオレット1、19、23、27、29、30、32、37、40、50等が挙げられる。 As the above-mentioned inorganic pigment or organic pigment, a commercially available pigment can also be used. For example, Pigment Red 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254; Pigment Orange 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185; Pigment Green 7, 10, 36; Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 5, 15: 6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64; Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50 and the like.
上記着色剤の含有量としては、組成物の固形分100質量部に対して0.01質量部以上50質量部以下とすることができる。
上記着色剤の含有量としては、組成物100質量部中に0.01質量部以上20質量部以下とすることができる。The content of the colorant may be 0.01 part by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the solid content of the composition.
The content of the colorant can be 0.01 part by mass or more and 20 parts by mass or less in 100 parts by mass of the composition.
(b)溶剤
上記溶剤としては、上記の各成分を溶解又は分散し得るものであればよく、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン等のケトン類;エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、テキサノール等のエステル系溶媒;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶媒;メタノール、エタノール、イソ−又はn−プロパノール、イソ−又はn−ブタノール、アミルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール系溶媒;エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート(PGMEA)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、1−t−ブトキシ−2−プロパノール、3−メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテート等のエーテルエステル系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等のBTX系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒;テレピン油、D−リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油;ミネラルスピリット、スワゾール#310(コスモ松山石油(株))、ソルベッソ#100(エクソン化学(株))等のパラフィン系溶媒;四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;カルビトール系溶媒、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられ、これらの溶媒は1種又は2種以上の混合溶媒として使用することができる。
上記溶剤の含有量としては、上記組成物の用途等に応じて異なるものであるが、組成物100質量部中に1質量部以上99質量部以下とすることができ、10質量部以上70質量部以下であることが好ましい。塗布性等に優れたものとすることが容易だからである。(B) Solvent The solvent may be any solvent that can dissolve or disperse each of the above components. For example, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, diethyl ketone, acetone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2- Ketones such as heptanone; ether solvents such as ethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, dipropylene glycol dimethyl ether; methyl acetate, ethyl acetate, -n-propyl acetate, Ester solvents such as isopropyl acetate, n-butyl acetate, cyclohexyl acetate, ethyl lactate, dimethyl succinate, texanol; cellosolve solvents such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; methanol, ethanol, iso- or n- Alcohol-based solvents such as propanol, iso- or n-butanol, amyl alcohol, diacetone alcohol; ethylene glycol monomethyl acetate, ethylene glycol monoethyl acetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate (PGMEA), dipropylene glycol Ether ester solvents such as monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethoxyethyl propionate, 1-t-butoxy-2-propanol, 3-methoxybutyl acetate, cyclohexanol acetate; BTX such as benzene, toluene, xylene Solvents; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane, cyclohexane; terpene hydrocarbons such as terepine oil, D-lymonen, pinen; mineral spirit, swazole # 310 (Cosmo Matsuyama Oil Co., Ltd.), Paraffin-based solvent such as Solbesso # 100 (Exxon Chemical Co., Ltd.); Halogenated aliphatic hydrocarbon solvent such as carbon tetrachloride, chloroform, trichloroethylene, methylene chloride, 1,2-dichloroethane; Halogenized aromatic solvent such as chlorobenzene Carbitol-based solvent; carbitol-based solvent, aniline, triethylamine, pyridine, acetic acid, acetonitrile, carbon disulfide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, water, etc. These solvents can be used as one kind or a mixed solvent of two or more kinds.
The content of the solvent varies depending on the use of the composition and the like, but can be 1 part by mass or more and 99 parts by mass or less in 100 parts by mass of the composition, and 10 parts by mass or more and 70 parts by mass. It is preferably less than a part. This is because it is easy to make it excellent in coatability and the like.
(c)連鎖移動剤及び増感剤
上記連鎖移動剤、増感剤としては、組成物の感度等を調整できるものとすることができ、一般的に硫黄原子含有化合物が用いられる。例えばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−[N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル]プロピオン酸、3−[N−(2−メルカプトエチル)アミノ]プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−メルカプトプロパンスルホン酸、4−メルカプトブタンスルホン酸、ドデシル(4−メチルチオ)フェニルエーテル、2−メルカプトエタノール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メルカプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−メルカプトイミダゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジノール、2−メルカプトベンゾチアゾール、メルカプト酢酸、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)等のメルカプト化合物、該メルカプト化合物を酸化して得られるジスルフィド化合物、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホン酸等のヨード化アルキル化合物、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトイソブチレート)、ブタンジオールビス(3−メルカプトイソブチレート)、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、1,4−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、下記化合物No.C1、トリメルカプトプロピオン酸トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等の脂肪族多官能チオール化合物、昭和電工社製カレンズMT BD1、PE1、NR1等が挙げられる。(C) Chain Transfer Agent and Sensitizer As the chain transfer agent and sensitizer, the sensitivity of the composition and the like can be adjusted, and a sulfur atom-containing compound is generally used. For example, thioglycolic acid, thioapple acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N- (2-mercaptopropionyl) glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3-[N-( 2-Mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) amino] propionic acid, N- (3-mercaptopropionyl) alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutansulfonic acid, dodecyl (4-methylthio) phenyl ether, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-propanol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol , 2-Mercaptoethylamine, 2-Mercaptoimidazole, 2-Mercaptobenzoimidazole, 2-Mercapto-3-pyridinol, 2-Mercaptobenzothiazole, Mercaptoacetic acid, Trimethylolpropanthris (3-mercaptopropionate), Pentaerythritoltetrakis A mercapto compound such as (3-mercaptopropionate), a disulfide compound obtained by oxidizing the mercapto compound, iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid. Alkyliodated compounds such as, trimethylolpropanetris (3-mercaptoisobutyrate), butanediol bis (3-mercaptoisobutyrate), hexanedithiol, decandithiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediol bisthio. Propionate, Butanediol Bisthioglycolate, Ethethylene Glycol Bisthioglycolate, Trimethylol Propanetristhioglycolate, Butanediol Bisthiopropionate, Trimethylol Propanetristhiopropionate, Trimethylol Propanetristhioglycolate , Pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol tetraxthioglycolate, trishydroxyethyl tristhiopropionate, the following compound No. Examples thereof include aliphatic polyfunctional thiol compounds such as C1, tris (2-hydroxyethyl) trimercaptopropionate, isocyanurate, and Karenz MT BD1, PE1, NR 1 manufactured by Showa Denko KK.
(d)界面活性剤
上記界面活性剤としては、組成物の分散安定性、塗工性等を改善できるものを用いることができ、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤、高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤、高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いてもよい。(D) Surfactant As the surfactant, one that can improve the dispersion stability, coatability, etc. of the composition can be used, and fluorine such as perfluoroalkyl phosphate and perfluoroalkyl carboxylate can be used. Surfactants, higher fatty acid alkali salts, alkyl sulfonates, anionic surfactants such as alkyl sulfates, higher amine halides, cationic surfactants such as quaternary ammonium salts, polyethylene glycol alkyl ethers, polyethylene Nonionic surfactants such as glycol fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, and fatty acid monoglyceride, and surfactants such as amphoteric surfactant and silicone-based surfactant can be used, and these may be used in combination.
(e)シランカップリング剤
上記シランカップリング剤としては、ガラスなどの無機材料と化学結合する反応基と、合成樹脂などの有機材料と化学結合する反応基と、を有するシラン化合物であり、組成物又はその硬化物の密着性等を改善できるものを用いることができる。シランカップリング剤としては、例えば信越化学社製シランカップリング剤を用いることができ、その中でもKBE−9007、KBM−502、KBE−403等、イソシアネート基、メタクリロイル基、エポキシ基を有するシランカップリング剤が好適に用いられる。(E) Silane Coupling Agent The silane coupling agent is a silane compound having a reactive group that chemically bonds with an inorganic material such as glass and a reactive group that chemically bonds with an organic material such as a synthetic resin, and has a composition. A substance or a cured product thereof that can improve the adhesion and the like can be used. As the silane coupling agent, for example, a silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used, among which silane couplings having an isocyanate group, a methacryloyl group, an epoxy group, etc. such as KBE-9007, KBM-502, and KBE-403 can be used. The agent is preferably used.
(f)メラミン化合物
上記メラミン化合物としては、硬化性を改善できるものを用いることができ、例えば、(ポリ)メチロールメラミン、(ポリ)メチロールグリコールウリル、(ポリ)メチロールベンゾグアナミン、(ポリ)メチロールウレア等の窒素化合物中の活性メチロール基(CH2OH基)の全部又は一部(少なくとも2つ)がアルキルエーテル化された化合物を挙げることができる。ここで、アルキルエーテルを構成するアルキル基としては、メチル基、エチル基又はブチル基が挙げられ、互いに同一である場合もあるし、異なる場合もある。また、アルキルエーテル化されていないメチロール基は、一分子内で自己縮合していてもよく、二分子間で縮合して、その結果オリゴマー成分が形成されていてもよい。具体的には、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラブトキシメチルグリコールウリル等を用いることができる。これらの中でも、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン等のアルキルエーテル化されたメラミンが好ましい。(F) Melamine compound As the melamine compound, a compound capable of improving curability can be used, for example, (poly) methylol melamine, (poly) methylol glycol uryl, (poly) methylol benzoguanamine, (poly) methylol urea and the like. Examples thereof include compounds in which all or part (at least two) of active methylol groups (CH 2 OH groups) in the nitrogen compound of the above are alkyl etherified. Here, examples of the alkyl group constituting the alkyl ether include a methyl group, an ethyl group and a butyl group, which may be the same or different from each other. Further, the methylol group which has not been alkyl etherized may be self-condensed within one molecule, or may be condensed between two molecules to form an oligomer component as a result. Specifically, hexamethoxymethylmelamine, hexabutoxymethylmelamine, tetramethoxymethylglycol uryl, tetrabutoxymethyl glycol uryl and the like can be used. Among these, alkyl etherified melamines such as hexamethoxymethylmelamine and hexabutoxymethylmelamine are preferable.
3.組成物
上記組成物の粘度としては、例えば、塗工性を有するものとする観点からは、例えば、200mPa・s以下とすることができ、1mPa・s以上200mPa・s以下とすることができる。上記組成物は、塗工性に優れるからである。
上記粘度は、JIS Z 8803:2011に準じて、回転式粘度計(例えば、アントンパール社製、Physica MCR301等)を用いて、測定される値のことを指す。また、本明細書で、特に、温度の指定がない処理、測定は、25℃で行うものとすることができる。3. 3. Composition The viscosity of the composition can be, for example, 200 mPa · s or less, and 1 mPa · s or more and 200 mPa · s or less, from the viewpoint of having coatability. This is because the above composition is excellent in coatability.
The viscosity, JIS Z 8803: according to the 2011, rotational viscometer (e.g., Anton Paar, Physica MCR 3 01, etc.) using, refers to the measured values. Further, in the present specification, in particular, the processing and measurement without specifying the temperature can be performed at 25 ° C.
上記組成物の製造方法は、上記各成分を所望の含有量で配合可能な方法であればよく、上記各成分を同時に添加して混合する方法であってもよく、各成分を順次添加しながら混合する方法であってもよい。 The method for producing the above composition may be any method as long as the above-mentioned components can be blended in a desired content, or a method in which the above-mentioned components are simultaneously added and mixed, while each component is sequentially added. It may be a mixing method.
上記組成物の用途は、熱硬化性塗料、光硬化性塗料或いはワニス、熱硬化性接着剤、光硬化性接着剤、プリント基板、或いはカラーテレビ、PCモニタ、携帯情報端末、デジタルカメラ等のカラー表示の液晶表示パネルにおけるカラーフィルタ、CCDイメージセンサのカラーフィルタ、フォトスペーサ、ブラックカラムスペーサ、プラズマ表示パネル用の電極材料、タッチパネル、タッチセンサ、粉末コーティング、印刷インク、印刷版、接着剤、歯科用組成物、光造形用樹脂、ゲルコート、電子工学用のフォトレジスト、電気メッキレジスト、エッチングレジスト、液状及び乾燥膜の双方、はんだレジスト、種々の表示用途用のカラーフィルタを製造するための或いはプラズマ表示パネル、電気発光表示装置、及びLCDの製造工程において構造を形成するためのレジスト、電気及び電子部品を封入するための組成物、ソルダーレジスト、磁気記録材料、微小機械部品、導波路、光スイッチ、メッキ用マスク、エッチングマスク、カラー試験系、ガラス繊維ケーブルコーティング、スクリーン印刷用ステンシル、ステレオリトグラフィによって三次元物体を製造するための材料、ホログラフィ記録用材料、画像記録材料、微細電子回路、脱色材料、画像記録材料のための脱色材料、マイクロカプセルを使用する画像記録材料用の脱色材料、印刷配線板用フォトレジスト材料、UV及び可視レーザー直接画像系用のフォトレジスト材料、プリント回路基板の逐次積層における誘電体層形成に使用するフォトレジスト材料、3D実装用フォトレジスト材料或いは保護膜等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はない。
また、上記用途としては、製品としての使用時等に紫外線に対する耐久性が要求される用途に限定されず、例えば、製造過程において紫外線照射等を受ける部材にも好適に用いることができる。
製造過程において紫外線照射等を受ける部材としては、例えば、表面の濡れ性向上、密着性向上等の表面改質を図るために、紫外線等の照射を受ける部材を挙げることができる。
上述の濡れ性向上、密着性向上等が要求される部材としては、他の部材と積層される部材を挙げることができ、例えば、プラズマ表示パネル、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等の各種画像表示、タッチパネル等の各種センサ、回路基板等を構成する部材としてカラーフィルタ、フォトスペーサ、輝度向上板、導光板、TFT基板、配向膜、液晶層、絶縁膜、スピーカーなどの音響素子、撮像用レンズ、キーパッド、HDD用磁気ヘッドなどの製造過程での表面改質や部材の劣化防止が要求される部材が挙げられる。
上述の製造過程での表面改質や部材の劣化防止が要求される部材としては、接着剤を介して他の部材と積層される部材、塗料等により他の部材により被覆される部材も挙げることができ、例えば、自動車、航空機の内外装部材等の運搬機器、冷蔵庫、洗濯機等の家電製品、住宅建材等の各種用途の構成部材も挙げることができる。
また、基材上にパターン状の部材を形成した後、露出する基材の表面改質等のために基材と共に上記部材に対して紫外線照射等を実施する場合がある。上記用途としては、このような製造過程において表面改質等が要求される部材と共に用いられる部材にも好ましく用いることができる。上記用途としては、例えば、プラスチックフィルムやガラス、シリコンウエハー、各種エンジニアリングプラスチック、光学レンズ、金属表面、メッキ、セラミック、金型などの表面洗浄や表面改質などが要求される部材と共に用いられる部材が挙げられる。The above compositions are used for heat-curable paints, photo-curable paints or varnishes, heat-curable adhesives, photo-curable adhesives, printed substrates, or colors for color televisions, PC monitors, mobile information terminals, digital cameras, etc. Color filter for display liquid crystal display panel, color filter for CCD image sensor, photo spacer, black column spacer, electrode material for plasma display panel, touch panel, touch sensor, powder coating, printing ink, printing plate, adhesive, dental Compositions, photoforming resins, gel coats, electronic engineering photo resists, electroplating resists, etching resists, both liquid and dry films, solder resists, for manufacturing color filters for various display applications or for plasma display. Resists for forming structures in the manufacturing process of panels, electroluminescent indicators, and LCDs, compositions for encapsulating electrical and electronic components, solder resists, magnetic recording materials, micromechanical components, waveguides, optical switches, Plating mask, etching mask, color test system, glass fiber cable coating, screen printing stencil, material for manufacturing three-dimensional objects by stereolithography, holography recording material, image recording material, microelectronic circuit, decolorizing material , Decolorizing material for image recording material, Decolorizing material for image recording material using microcapsules, Photo resist material for printed wiring board, Photo resist material for UV and visible laser direct imaging system, Sequential stacking of printed circuit boards It can be used for various purposes such as a photoresist material used for forming a dielectric layer in the above, a photoresist material for 3D mounting, a protective film, and the like, and the use is not particularly limited.
Further, the above-mentioned applications are not limited to applications that require durability against ultraviolet rays when used as a product, and can be suitably used, for example, for members that receive ultraviolet irradiation or the like in the manufacturing process.
Examples of the member to be irradiated with ultraviolet rays in the manufacturing process include a member to be irradiated with ultraviolet rays in order to improve the wettability and adhesion of the surface.
Examples of the members required to improve wettability and adhesion as described above include members laminated with other members, for example, various types such as a plasma display panel, an organic electroluminescence display device, and a liquid crystal display device. Color filters, photo spacers, brightness improving plates, light guide plates, TFT substrates, alignment films, liquid crystal layers, insulating films, acoustic elements such as speakers, for imaging as members that make up various sensors such as image displays and touch panels, circuit boards, etc. Examples of members such as lenses, key pads, and magnetic heads for HDDs are required to be surface-modified and to prevent deterioration of the members in the manufacturing process.
Examples of the members required to modify the surface and prevent deterioration of the members in the above-mentioned manufacturing process include members that are laminated with other members via an adhesive and members that are covered with other members by paint or the like. For example, transportation equipment such as interior / exterior members of automobiles and aircraft, home appliances such as refrigerators and washing machines, and constituent members for various purposes such as housing building materials can also be mentioned.
In addition, after forming a patterned member on the base material, the above member may be irradiated with ultraviolet rays together with the base material in order to modify the surface of the exposed base material. As the above application, it can also be preferably used for a member used together with a member that requires surface modification or the like in such a manufacturing process. The above applications include, for example, members used together with members such as plastic films, glass, silicon wafers, various engineering plastics, optical lenses, metal surfaces, plating, ceramics, and molds that require surface cleaning and surface modification. Can be mentioned.
D.硬化物
次に、本発明の硬化物について説明する。
本発明の硬化物は、本発明の化合物I−1と重合性化合物とを含有する組成物の硬化物である。D. Hardened product Next, the cured product of the present invention will be described.
The cured product of the present invention is a cured product of a composition containing the compound I-1 of the present invention and a polymerizable compound.
本発明の組成物は、上述の組成物を用いているため、良好な紫外線吸収能等を有する。 Since the composition of the present invention uses the above-mentioned composition, it has a good ultraviolet absorbing ability and the like.
本発明の硬化物は、上述の組成物を用いるものである。
以下、本発明の硬化物について詳細に説明する。The cured product of the present invention uses the above-mentioned composition.
Hereinafter, the cured product of the present invention will be described in detail.
上記組成物は、上記化合物I−1と、重合性化合物と、を含むものである。また、上記組成物は、上記化合物I−1及び重合性化合物以外の成分を含むものであってもよい。
このような組成物の各成分の内容については、上記「C.組成物」の「2.その他の成分」の項に記載の内容と同様とすることができる。The composition contains the compound I-1 and a polymerizable compound. Further, the composition may contain components other than the compound I-1 and the polymerizable compound.
The content of each component of such a composition can be the same as the content described in the section "2. Other components" of the above "C. composition".
上記組成物に含まれる上記化合物I−1は、硬化物中で、光脱離基Bの脱離前であっても、脱離後であってもよいが、脱離後であることが好ましい。上記硬化物は、優れた紫外線吸収能を有するものとなるからである。 The compound I-1 contained in the composition may be in the cured product before or after the desorption of the photoleaving group B, but it is preferably after the desorption. .. This is because the cured product has an excellent ultraviolet absorbing ability.
上記硬化物は、通常、重合性化合物の重合物を含むものである。
上記硬化物に含まれる重合性化合物の残存量としては、硬化物の用途等に応じて適宜設定されるものであるが、例えば、硬化物100質量部中、10質量部以下であり、1質量部以下であることが好ましい。The cured product usually contains a polymer of a polymerizable compound.
The residual amount of the polymerizable compound contained in the cured product is appropriately set according to the intended use of the cured product, and is, for example, 10 parts by mass or less in 100 parts by mass of the cured product, and 1 mass by mass. It is preferably less than a part.
上記硬化物としては、溶剤を実質的に含まないものとすることができる。
上記硬化物に含まれる溶剤の含有量としては、例えば、硬化物100質量部中、1質量部以下とすることができ、0.5質量部以下とすることができる。The cured product may be substantially free of solvents.
The content of the solvent contained in the cured product can be, for example, 1 part by mass or less, or 0.5 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the cured product.
上記硬化物の弾性率は、通常、上記組成物より高いものであり、例えば、10−3M以上とすることができ、10MPa以上とすることができる。上記弾性率であることで、上記硬化物は、安定的に化合物I−1等を保持できるからである。
上記弾性率の上限については、硬化物の用途等に応じて適宜設定できるが、例えば、106MPa以下とすることができる。
なお以下、弾性率は、圧縮弾性率をいうものであり、JIS K7181に準拠して、23℃で、測定することができる。
測定サンプルについては、例えば、一辺の長さが6mmの立方体の試験片を作成又は切り出し、JISK7181に準じ、試験速度1±0.2mm/分の条件で測定することができる。The elastic modulus of the cured product is usually higher than that of the composition, and can be, for example, 10-3 M or more, and 10 MPa or more. This is because the cured product can stably retain the compound I-1 and the like because of the elastic modulus.
The upper limit of the elastic modulus, can be appropriately set depending on the application of the cured product, for example, be a 10 6 MPa or less.
Hereinafter, the elastic modulus refers to the compressive elastic modulus, and can be measured at 23 ° C. in accordance with JIS K7181.
As for the measurement sample, for example, a cubic test piece having a side length of 6 mm can be prepared or cut out, and the measurement can be performed under the condition of a test speed of 1 ± 0.2 mm / min according to JIS K7181.
上記硬化物の製造方法としては、上述の組成物を硬化させることができる方法であればよく、例えば、後述する「F.硬化物の製造方法」の項に記載の方法と同様とすることができる。 The method for producing the cured product may be any method that can cure the composition described above, and may be the same as the method described in the section "F. Method for producing a cured product" described later. it can.
上記硬化物の用途等については、上記「C.組成物」の項に記載の内容と同様とすることができる。 The uses of the cured product and the like can be the same as those described in the section of "C. Composition".
E.組成物
次に、本発明の第2組成物について説明する。
本発明の第2組成物は、下記一般式(I−2)で表される化合物(以下、「化合物I−2と称する場合がある。)と、光脱離基由来の脱離物(以下、「化合物B´」と称する場合がある。)と、を含むことを特徴とするものである。E. Composition Next, the second composition of the present invention will be described.
The second composition of the present invention comprises a compound represented by the following general formula (I-2) (hereinafter, may be referred to as "Compound I-2") and a desorbed product derived from a photoleaving group (hereinafter, referred to as "Compound I-2"). , "Sometimes referred to as" Compound B'"), and.
(式中、Aは、紫外線吸収能を有する原子団であり、kは1〜10の整数を表す。) (In the formula, A is an atomic group having an ultraviolet absorbing ability, and k represents an integer of 1 to 10.)
本発明によれば、上記第2組成物は、例えば、上述の組成物を用いて、容易に形成できる。また、上記第2組成物は、容易に紫外線吸収能等を付与できる。 According to the present invention, the second composition can be easily formed by using, for example, the above composition. In addition, the second composition can easily impart ultraviolet absorbing ability and the like.
本発明の第2組成物は、化合物I−2及び化合物B´を有するものである。
以下、本発明の第2組成物について詳細に説明する。The second composition of the present invention comprises compound I-2 and compound B'.
Hereinafter, the second composition of the present invention will be described in detail.
1.化合物I−2
上記化合物I−2は、紫外線吸収能を発揮するものである。
上記化合物I−2は、上記化合物I−1における上記B−O−が−OH基に置換されたものである。
このような化合物I−1の内容については、上記「A.化合物」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。1. 1. Compound I-2
The compound I-2 exhibits an ultraviolet absorbing ability.
The compound I-2 is obtained by substituting the B—O— in the compound I-1 with an −OH group.
Since the content of such compound I-1 can be the same as the content described in the above-mentioned "A. compound" section, the description thereof is omitted here.
上記化合物I−2の組成物中の含有量としては、所望の紫外線吸収能等を付与できるものであればよいが、例えば、化合物I−2及び化合物B´の合計が、上記「C.組成物」の項に記載の上記化合物I−1の固形分中の含有量と同じとすることができる。 The content of the compound I-2 in the composition may be any as long as it can impart a desired ultraviolet absorbing ability or the like. For example, the total of the compound I-2 and the compound B'is the above-mentioned "C. composition. It can be the same as the content of the above-mentioned compound I-1 in the solid content described in the section "Product".
2.化合物B´
上記化合物B´は、光脱離基由来の脱離物である。
また、光脱離基は、フェノール性水酸基に対して保護基として結合可能な基であればよく、上記「A.化合物」の「1.光脱離基B」に記載の内容と同様とすることができる。
このような化合物B´としては、上記光脱離基がフェノール性水酸基から脱離した後にとり得るものであればよい。
なお、フェノール性水酸基から脱離した後の光脱離基Bは、通常、反応性が高く、様々な構造をとり得る。
上記化合物B´としては、光脱離基Bが、上記一般式(B−1−a)、(B−2)、(B−3)、(B−4)、(B−5)、(B−6)、(B−7)等で表されるものである場合には、それぞれ例えば、下記一般式(B−111−a)、(B−112)、(B−113)、(B−114)、(B−115)、(B−116)、(B−117)で表される化合物等を含むことができる。2. 2. Compound B'
The compound B'is a leaving product derived from a photoleaving group.
Further, the photoleaving group may be a group that can be bonded to a phenolic hydroxyl group as a protecting group, and is the same as the content described in "1. Photoleaving group B" of the above "A. compound". be able to.
Such compound B'may be any compound that can be obtained after the photoleaving group is eliminated from the phenolic hydroxyl group.
The photoleaving group B after desorption from the phenolic hydroxyl group is usually highly reactive and can have various structures.
As the compound B', the photoleaving group B is the general formula (B-1-a), (B-2), (B-3), (B-4), (B-5), (B-5), ( When it is represented by B-6), (B-7), etc., for example, the following general formulas (B-111-a), (B-112), (B-113), (B), respectively. -114), (B-115), (B-116), (B-117) and the like can be included.
上記化合物B´に含まれるR11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26及びR27並びにb1、b2、b3、b4、b5、b6、b7及びb8については、上記「A.化合物」の項に記載の内容と同じであるもで、ここでの説明は省略する。R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R contained in the above compound B'. 25 , R 26 and R 27 and b1, b2, b3, b4, b5, b6, b7 and b8 are the same as those described in the above section "A. Compound", and the description thereof is described here. Omit.
上記化合物B´の種類は、1種類のみであってもよく、2種類以上の組み合わせであってもよい。 The type of the compound B'may be only one type or a combination of two or more types.
3.その他
上記第2組成物は、化合物I−2及び化合物B´を有するものであるが、通常、その他の成分を含むものである。
このようなその他の成分としては、上記「C.組成物」の「2.その他の成分」の項に記載の内容等を挙げることができる。
上記その他の成分は、なかでも、樹脂成分を含むことが好ましく、特に、重合性化合物の重合物等の重合性基を有しない重合体を含むことが好ましい。上記第2組成物は、例えば、硬化物等に対して容易に紫外線吸収能等を付与できるとの効果を効果的に発揮できるからである。
なお、樹脂成分の種類は、1種類のみであってもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。3. 3. Others The above-mentioned second composition has compound I-2 and compound B', but usually contains other components.
Examples of such other components include the contents described in the section “2. Other components” of the above “C. composition”.
The other components preferably contain a resin component, and particularly preferably contain a polymer having no polymerizable group, such as a polymer of a polymerizable compound. This is because the second composition can effectively exert the effect of easily imparting an ultraviolet absorbing ability or the like to a cured product or the like, for example.
The type of resin component may be only one type, or two or more types may be used in combination.
上記第2組成物は、溶剤、重合性化合物等を含み、塗工性を有するものであってもよく、その場合の粘度としては、上記「C.組成物」の項に記載の内容と同様とすることができる。
また、上記第2組成物は、重合性化合物の重合物を含む硬化物である場合、上記第2組成物の弾性率については、上記「D.硬化物」の項に記載の内容と同様とすることができる。The second composition may contain a solvent, a polymerizable compound, and the like and may have coatability, and the viscosity in that case is the same as that described in the above section "C. Composition". Can be.
When the second composition is a cured product containing a polymer of a polymerizable compound, the elastic modulus of the second composition is the same as that described in the section "D. Cured product". can do.
上記第2組成物の用途等については、上記「D.硬化物」の項に記載の内容と同様とすることができる。 The uses of the second composition and the like can be the same as those described in the section of "D. Hardened product".
F.硬化物の製造方法
次に、本発明の硬化物の製造方法について説明する。
本発明の硬化物の製造方法は、上述の化合物I−1と重合性化合物とを含む組成物を硬化させて硬化物を形成する工程と、上記硬化物に対して光を照射して、上記化合物に含まれる光脱離基Bを脱離する工程とを有するものである。F. Method for producing cured product Next, the method for producing the cured product of the present invention will be described.
The method for producing a cured product of the present invention comprises a step of curing a composition containing the above-mentioned compound I-1 and a polymerizable compound to form a cured product, and a step of irradiating the cured product with light to obtain the above-mentioned cured product. It has a step of removing the photoleaving group B contained in the compound.
本発明によれば、上記製造方法は、上述の組成物を用い、且つ、上記工程を有することにより、硬化が容易であり、また、容易に紫外線吸収能等を付与できる。 According to the present invention, in the above-mentioned production method, by using the above-mentioned composition and having the above-mentioned steps, curing is easy, and ultraviolet absorbing ability and the like can be easily imparted.
本発明の製造方法は、硬化物を形成する工程及び脱離する工程を含むものである。
以下、本発明の製造方法の各工程について詳細に説明する。The production method of the present invention includes a step of forming a cured product and a step of desorbing the cured product.
Hereinafter, each step of the production method of the present invention will be described in detail.
1.硬化物を形成する工程
上記硬化物を形成する工程は、上述の組成物の硬化物を形成する工程である。1. 1. Step of Forming a Hardened Product The step of forming the cured product is a step of forming a cured product of the above-mentioned composition.
本工程における組成物の硬化物を形成する方法としては、所望の硬度の硬化物を形成可能な方法であればよく、組成物に含まれる成分に応じて異なるものである。
上記硬化方法は、例えば、組成物が、重合性化合物と共に重合開始剤として光重合開始剤を含む場合には、組成物に対して光照射を行い、重合性化合物同士を重合する方法を用いることができる。
組成物に照射される光としては、波長300nm〜450nmの光を含むものとすることができる。
上記光照射の光源としては、例えば、超高圧水銀、水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キセノンアーク等を挙げることができる。
上記照射される光としては、レーザー光を用いてもよい。レーザー光としては、波長340〜430nmの光を含むものを用いることができる。
レーザー光の光源としては、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、YAGレーザー、及び半導体レーザー等の可視から赤外領域の光を発するものも用いることができる。
なお、これらのレーザーを使用する場合には、上記組成物は、可視から赤外の当該領域を吸収する増感色素を含むことができる。The method for forming the cured product of the composition in this step may be any method capable of forming a cured product having a desired hardness, and is different depending on the components contained in the composition.
As the curing method, for example, when the composition contains a photopolymerization initiator as a polymerization initiator together with the polymerizable compound, the composition is irradiated with light to polymerize the polymerizable compounds. Can be done.
The light irradiated to the composition may include light having a wavelength of 300 nm to 450 nm.
Examples of the light source for light irradiation include ultra-high pressure mercury, mercury vapor arc, carbon arc, xenon arc and the like.
Laser light may be used as the light to be irradiated. As the laser light, one containing light having a wavelength of 340 to 430 nm can be used.
As the light source of the laser light, an argon ion laser, a helium neon laser, a YAG laser, a semiconductor laser, or the like that emits light in the visible to infrared region can also be used.
When these lasers are used, the composition may contain a sensitizing dye that absorbs the visible to infrared region.
上記照射される光の合計光量としては、光脱離基Bの脱離を抑制できるものであることが好ましく、例えば、1000mJ/cm2未満とすることができ、800mJ/cm2以下とすることができ、500mJ/cm2以下とすることができる。The total amount of the emitted light is preferably one that can suppress the desorption of the photoleaving group B, for example, it can be less than 1000 mJ / cm 2 and 800 mJ / cm 2 or less. It can be 500 mJ / cm 2 or less.
上記硬化方法は、例えば、組成物が、重合性化合物と共に重合開始剤として熱重合開始剤を含む場合には、組成物に対して加熱処理を行い、重合性化合物同士を重合する方法を用いることができる。
加熱温度としては、上記組成物を安定的に硬化できるものであればよく、60℃以上、好ましくは100℃以上300℃以下とすることができる。
なお、加熱温度は、組成物の塗膜表面の温度とすることができる。
加熱時間としては、10秒〜3時間程度行うことができる。As the above-mentioned curing method, for example, when the composition contains a thermal polymerization initiator as a polymerization initiator together with the polymerizable compound, the composition is heat-treated and the polymerizable compounds are polymerized with each other. Can be done.
The heating temperature may be 60 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, as long as the composition can be stably cured.
The heating temperature can be the temperature of the coating film surface of the composition.
The heating time can be about 10 seconds to 3 hours.
上記硬化方法の種類は、1種類のみを含むものであってもよく、2種類以上を含むものであってもよい。 The type of the curing method may include only one type, or may include two or more types.
本工程に用いられる組成物は、上記化合物I−1と、重合性化合物と、を含むものである。
また、上記組成物は、上記化合物I−1及び重合性化合物以外のその他の成分を含むものであってもよい。
このような組成物の各成分の内容については、上記「C.組成物」の「2.その他の成分」の項に記載の内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。The composition used in this step contains the above-mentioned compound I-1 and a polymerizable compound.
In addition, the composition may contain other components other than the compound I-1 and the polymerizable compound.
Since the content of each component of such a composition can be the same as the content described in the section "2. Other components" of the above "C. composition", the description thereof is omitted here. ..
2.脱離する工程
上記脱離する工程は、上記化合物I−1に含まれる光脱離基Bを脱離する工程である。
上記化合物I−1に含まれる光脱離基Bを脱離する方法としては、上記硬化物に対して光照射する方法であればよい。
硬化物に対して照射される光及びその合計光量としては、光脱離基Bを脱離可能なものであれば特に限定されるものではないが、上記「A.化合物」の「1.光脱離基B」の項に記載の内容と同様とすることができる。
なお、光照射の光源としては、照射される光の波長に応じて適宜選択されるものであるが、例えば、上記「1.硬化物を形成する工程」の項に記載の内容と同様とすることができる。2. 2. Desorption Step The desorption step is a step of desorbing the photoleaving group B contained in the compound I-1.
The method for removing the photoleaving group B contained in the compound I-1 may be a method of irradiating the cured product with light.
The light irradiated to the cured product and the total amount of light thereof are not particularly limited as long as they can desorb the photoleaving group B, but are not particularly limited as long as they can desorb the photoleaving group B. The contents can be the same as those described in the section of "Leaving group B".
The light source for light irradiation is appropriately selected according to the wavelength of the irradiated light, and is the same as the content described in the above section "1. Step of forming a cured product". be able to.
本工程における硬化物の温度としては、硬化物や硬化物を支持する基材の耐熱性等に応じて適宜設定することができるが、例えば、200℃以下とすることができ、0℃以上、150℃以下であることが好ましく、なかでも、0℃以上100℃以下であることが好ましい。上記温度が上述の範囲であることで、光脱離基Bの脱離が容易となるからである。また、その結果、例えば、硬化物及び基材等のその周辺部材に対して加熱によるダメージの少ないものとすることができるからである。
なお、上記硬化物の温度は、硬化物表面の温度である。The temperature of the cured product in this step can be appropriately set according to the heat resistance of the cured product and the base material supporting the cured product, and can be, for example, 200 ° C or lower, and 0 ° C or higher. The temperature is preferably 150 ° C. or lower, and more preferably 0 ° C. or higher and 100 ° C. or lower. This is because when the temperature is in the above range, the photoleaving group B can be easily desorbed. Further, as a result, for example, it is possible to reduce the damage caused by heating to the peripheral members such as the cured product and the base material.
The temperature of the cured product is the temperature of the surface of the cured product.
3.その他の工程
上記製造方法は、硬化物を形成する工程及び脱離する工程を含むものであるが、必要に応じてその他の工程を含むものであってもよい。
上記その他の工程としては、例えば、上記組成物を基材上に塗布する工程等を挙げることができる。
組成物を塗布する方法としては、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の方法を用いることができる。
上記基材としては、硬化物の用途等に応じて適宜設定することができ、ソーダガラス、石英ガラス、半導体基板、金属、紙、プラスチック等を含むものを挙げることができる。
また、上記硬化物は、基材上で形成された後、基材から剥離して用いても、基材から他の被着体に転写して用いてもよい。3. 3. Other Steps The above-mentioned production method includes a step of forming a cured product and a step of desorbing the cured product, but may include other steps as necessary.
Examples of the other steps include a step of applying the composition onto a substrate.
As a method for applying the composition, known methods such as a spin coater, a roll coater, a bar coater, a die coater, a curtain coater, various types of printing, and immersion can be used.
The base material can be appropriately set according to the intended use of the cured product, and examples thereof include soda glass, quartz glass, semiconductor substrates, metals, paper, plastics, and the like.
Further, the cured product may be formed on a substrate and then peeled off from the substrate, or transferred from the substrate to another adherend and used.
4.その他
上記製造方法により製造される硬化物及び用途等については、上記「D.硬化物」の項に記載の内容と同様とすることができる。4. Others, the cured product produced by the above-mentioned production method, the intended use, and the like can be the same as those described in the above-mentioned "D. Cured product" section.
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above embodiment is an example, and any one having substantially the same configuration as the technical idea described in the present invention and exhibiting the same action and effect is the technical scope of the present invention. Included in.
以下、実施例等を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and the like, but the present invention is not limited to these Examples.
[実施例1]
下記のスキーム1中のフェノール化合物(化合物I−2)0.005mol、炭酸カリウム0.005mol及びDMF12gを混合し、窒素雰囲気下、室温でo−ニトロベンジルクロリド0.0075molを滴下し、80℃で2時間撹拌し、下記反応により化合物I−1に該当する化合物I−1−2を得た。反応液に酢酸エチル50g、イオン交換水50gを加えて油水分離を行った。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、メタノールで晶析を行った。得られた白色固体を45℃で2時間減圧乾燥させ、目的物(化合物I−1−2)を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMR、IRにて確認した。[Example 1]
0.005 mol of the phenol compound (Compound I-2), 0.005 mol of potassium carbonate and 12 g of DMF in the following scheme 1 were mixed, 0.0075 mol of o-nitrobenzyl chloride was added dropwise at room temperature under a nitrogen atmosphere, and the mixture was added dropwise at 80 ° C. After stirring for 2 hours, compound I-1-2 corresponding to compound I-1 was obtained by the following reaction. 50 g of ethyl acetate and 50 g of ion-exchanged water were added to the reaction solution to perform oil-water separation. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off, and crystallization was performed with methanol. The obtained white solid was dried under reduced pressure at 45 ° C. for 2 hours to obtain the desired product (Compound I-1-2). It was confirmed by 1 H-NMR and IR that the obtained white solid was the target product.
[実施例2〜7]
o−ニトロベンジルクロリドを変更した以外は、実施例1と同様にして下記化合物I−1−3、I−1−40、I−1−32、I−1−35、I−1−28、I−1−34を得た。具体的には、下記の方法で実施例2〜7の化合物I−1−3、I−1−40、I−1−32、I−1−35、I−1−28及び1−34を製造した。
また、実施例2〜7で得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例2]
2−エチルニトロベンゼンに対して、1.1当量のN−ブロモスクシンイミドと0.01当量のAIBNを使用し、クロロベンゼン溶媒中、90℃で4時間加熱撹拌した。酢酸エチルで油水分離し、水洗後、シリカカラムにて精製し、ベンジルブロマイド化合物を得た。このベンジルブロマイド化合物をo−ニトロベンジルクロリドの代わりに用いた以外は実施例1と同様にして、化合物I−1−3を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例3]
2−エチルニトロベンゼンの代わりに、4−クロロ−2−ニトロトルエンを用いた以外は実施例2と同様にして、化合物I−1−40を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例4]
o−ニトロベンジルクロリドの代わりに4'-メトキシフェナシルブロミドを用いた以外は実施例1と同様にして、化合物I−1−32を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例5]
o−ニトロベンジルクロリドの代わりに2−ブロモ−2−フェニルアセトフェノンを用いた以外は実施例1と同様にして、化合物I−1−35を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例6]
o−ニトロベンジルクロリドの代わりに2−ブロモ−2’−ニトロアセトフェノンを用いた以外は実施例1と同様にして、化合物I−1−28を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例7]
o−ニトロベンジルクロリドの代わりに4−ブロモメチル−7−メトキシクマリンを用いた以外は実施例1と同様にして、化合物I−1−34を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。[Examples 2 to 7]
The following compounds I-1-3, I-1-40, I-1-32, I-1-35, I-1-28, in the same manner as in Example 1 except that the o-nitrobenzyl chloride was changed. I-1-34 was obtained. Specifically, the compounds I-1-3, I-1-40, I-1-32, I-1-35, I-1-28 and 1-34 of Examples 2 to 7 are prepared by the following methods. Manufactured.
Further, it was confirmed by 1 H-NMR that the white solid obtained in Examples 2 to 7 was the target product.
[Example 2]
To 2-ethylnitrobenzene, 1.1 equivalents of N-bromosuccinimide and 0.01 equivalents of AIBN were used and heated and stirred at 90 ° C. for 4 hours in a chlorobenzene solvent. The mixture was separated into oil and water with ethyl acetate, washed with water, and purified on a silica column to obtain a benzyl bromide compound. Compound I-1-3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that this benzyl bromide compound was used in place of o-nitrobenzyl chloride. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 3]
Compound I-1-40 was obtained in the same manner as in Example 2 except that 4-chloro-2-nitrotoluene was used instead of 2-ethylnitrobenzene. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 4]
Compound I-1-32 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4'-methoxyphenacil bromide was used instead of o-nitrobenzyl chloride. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 5]
Compound I-1-35 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2-bromo-2-phenylacetophenone was used instead of o-nitrobenzyl chloride. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 6]
Compound I-1-28 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2-bromo-2'-nitroacetophenone was used instead of o-nitrobenzyl chloride. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 7]
Compound I-1-34 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4-bromomethyl-7-methoxycoumarin was used instead of o-nitrobenzyl chloride. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[実施例8]
4−メトキシ−2−ニトロトルエンに対して、1.1当量のN−ブロモスクシンイミドと0.01当量のAIBNを使用し、クロロベンゼン溶媒中で90℃で4時間加熱撹拌した。酢酸エチルで油水分離し、水洗後、シリカカラムにて精製し、対応するベンジルブロマイド化合物を得た。このベンジルブロマイド化合物をo−ニトロベンジルクロリドの代わりに用いた以外は実施例1と同様にして、化合物I−1−4を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例9]
4−メトキシ−2−ニトロトルエンの代わりに3−クロロ−2−ニトロトルエンを用いた以外は実施例8と同様にして、化合物I−1−41を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例10]
4−メトキシ−2−ニトロトルエンの代わりに3−メトキシ−2−ニトロトルエンを用いた以外は実施例8と同様にして、化合物I−1−42を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例11]
4−メトキシ−2−ニトロトルエンの代わりに3−メトキシ−2−ニトロ−6−ブロモトルエンを用いた以外は実施例8と同様にして、化合物I−1−43を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。
[実施例12]
o−ニトロベンジルクロリドの代わりに2−ブロモ−2‘−メチルアセトフェノンを用いた以外は実施例1と同様にして、化合物I−1−44を得た。得られた白色固体が目的物であることは、H−NMRにて確認した。[Example 8]
1.1 equivalents of N-bromosuccinimide and 0.01 equivalents of AIBN were used with respect to 4-methoxy-2-nitrotoluene, and the mixture was heated and stirred at 90 ° C. for 4 hours in a chlorobenzene solvent. The mixture was separated into oil and water with ethyl acetate, washed with water, and purified on a silica column to obtain the corresponding benzyl bromide compound. Compound I-1--4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that this benzyl bromide compound was used in place of o-nitrobenzyl chloride. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 9]
Compound I-1-4-1 was obtained in the same manner as in Example 8 except that 3-chloro-2-nitrotoluene was used instead of 4-methoxy-2-nitrotoluene. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 10]
Compound I-1-42 was obtained in the same manner as in Example 8 except that 3-methoxy-2-nitrotoluene was used instead of 4-methoxy-2-nitrotoluene. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 11]
Compound I-1-43 was obtained in the same manner as in Example 8 except that 3-methoxy-2-nitro-6-bromotoluene was used instead of 4-methoxy-2-nitrotoluene. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 12]
Compound I-1-44 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2-bromo-2'-methylacetophenone was used instead of o-nitrobenzyl chloride. It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[実施例13]
o−ニトロベンジルクロリドの代わりに4−(2−ブロモアセチル)フェニルt-ブチルカーボネートを用いた以外は実施例1と同様にして中間体化合物を得た。該中間体化合物0.0035molを酢酸エチル5mlに溶解させ、4M HCl酢酸エチル溶液5mL入れ、50℃で10時間加熱撹拌した。反応液の溶媒を留去し、シリカカラム(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)にて単離し、目的物(化合物I−1−45)を得た。得られた白色固体が目的物であることを、H−NMRで確認した。
[実施例14]
フェノール化合物(スキーム1中のフェノール化合物)0.004molをピリジン40mLに溶解させ、NPPOC−Cl(2−(2−ニトロフェニル)プロピルクロロホルメ−ト)0.006molを滴下し、6時間室温で撹拌した。反応液に酢酸エチル200g、イオン交換水50gを加えて油水分離を行った。有機層を希塩酸で2回、イオン交換水で3回洗浄し、溶媒を留去し、シリカカラム(酢酸エチル:ヘキサン=1:4)にて単離した。得られた白色固体をヘキサンで分散後、45℃で2時間減圧乾燥させ、目的物(化合物I−1−46)を得た。得られた白色固体が目的物であることを、H−NMRにて確認した。
[実施例15〜17]
フェノール化合物として下記式(1)〜(3)の化合物を用いた以外は、実施例1と同様にして下記化合物I−1−8、I−1−47及びI−1−48を得た。[Example 13]
An intermediate compound was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4- (2-bromoacetyl) phenyl t-butyl carbonate was used instead of o-nitrobenzyl chloride. The intermediate compound 0.0035 mol was dissolved in 5 ml of ethyl acetate, 5 mL of a 4M HCl ethyl acetate solution was added, and the mixture was heated and stirred at 50 ° C. for 10 hours. The solvent of the reaction solution was distilled off, and the mixture was isolated on a silica column (ethyl acetate: hexane = 1: 2) to obtain the desired product (Compound I-1-45). It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Example 14]
0.004 mol of the phenol compound (phenolic compound in Scheme 1) was dissolved in 40 mL of pyridine, 0.006 mol of NPPOC-Cl (2- (2-nitrophenyl) propylchloroformate) was added dropwise, and the mixture was added dropwise at room temperature for 6 hours. Stirred. 200 g of ethyl acetate and 50 g of ion-exchanged water were added to the reaction solution for oil-water separation. The organic layer was washed twice with dilute hydrochloric acid and three times with ion-exchanged water, the solvent was distilled off, and the mixture was isolated on a silica column (ethyl acetate: hexane = 1: 4). The obtained white solid was dispersed with hexane and then dried under reduced pressure at 45 ° C. for 2 hours to obtain the desired product (Compound I-1-46). It was confirmed by 1 H-NMR that the obtained white solid was the target product.
[Examples 15 to 17]
The following compounds I-1-8, I-1-47 and I-1-48 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the compounds of the following formulas (1) to (3) were used as the phenol compound.
[評価]
実施例1、2、5〜9、12〜14及び16(化合物I−1−2、I−1−3、I−1−35、I−1−28、I−1−34、I−1−4、I−1−41、I−1−44、I−1−45、I−1−46及びI−1−47)の0.01質量%アセトニトリル溶液を調製し、1cm角石英セルに入れた。超高圧水銀ランプUL750(HOYA製)を20mW/cm2に調整し、溶液で満たされた石英セルに100mJ/cm2、3000mJ/cm2、10000mJ/cm2の光量を照射した。
照射後の液を高速液体クロマトグラフィー(HPLC)にて、分析し、脱離率を以下の式から算出した。結果を下記表3に示す。
なお、HPLCによる分析では、化合物I−1に由来する230nmのピークが全て消失した場合に100%脱離したと仮定して算出した。
脱離率(%)=フェノール化合物(化合物I−2)/フェノール化合物(化合物I−2)+化合物I−1)×100[Evaluation]
Examples 1, 2, 5-9, 12-14 and 16 (Compounds I-1-2, I-1--3, I-1-35, I-1-28, I-1-34, I-1 -4, I-1-41, I-1-44, I-1-45, I-1-46 and I-1-47) prepared 0.01 mass% acetonitrile solution and put into a 1 cm square quartz cell. I put it in. Ultra-high pressure mercury lamp UL750 (manufactured by HOYA) was adjusted to 20 mW / cm 2, in a quartz cell filled with the solution was irradiated with light quantity of 100mJ / cm 2, 3000mJ / cm 2, 10000mJ / cm 2.
The liquid after irradiation was analyzed by high performance liquid chromatography (HPLC), and the desorption rate was calculated from the following formula. The results are shown in Table 3 below.
In the analysis by HPLC, it was calculated on the assumption that 100% elimination was performed when all the peaks at 230 nm derived from compound I-1 disappeared.
Elimination rate (%) = phenol compound (Compound I-2) / phenol compound (Compound I-2) + Compound I-1) × 100
また、また、実施例1、2及び7(化合物I−1−2、I−1−3及びI−1−34)について、光照射前(0mJ/cm2)及び光照射後(10000mJ/cm2)に、波長250nm以上450nm以下の範囲の光の吸収スペクトルを確認した。その結果、光照射前と比較し、光照射後は、波長250nm以上450nm以下の範囲で長波長側の光を幅広く吸収できることが確認できた。また、最大吸収波長(nm)の測定結果を下記表3及び4に示す。Further, with respect to Examples 1, 2 and 7 (Compounds I-1-2, I-1-3 and I-1-34), before light irradiation (0 mJ / cm 2 ) and after light irradiation (10000 mJ / cm). In 2 ), the absorption spectrum of light in the wavelength range of 250 nm or more and 450 nm or less was confirmed. As a result, it was confirmed that after the light irradiation, the light on the long wavelength side can be widely absorbed in the wavelength range of 250 nm or more and 450 nm or less as compared with the case before the light irradiation. The measurement results of the maximum absorption wavelength (nm) are shown in Tables 3 and 4 below.
表3及び4より、化合物I−1は、光照射により光脱離基Bが脱離することが確認できた。
また、表3より、上記化合物I−1は、光照射により、波長250nm以上450nm以下の範囲の幅広い波長の紫外線を効率的に吸収できることが確認できた。また、それに伴って、最大吸収波長の長波長側へのシフトが確認された。
以上より、化合物I−1は、光照射前ではフェノール性水酸基が光脱離基Bにより保護され紫外線吸収能が抑制されており、硬化阻害を抑制できるとともに、光照射により容易に紫外線吸収能を付与できることが確認できた。From Tables 3 and 4, it was confirmed that the photoleaving group B was eliminated from the compound I-1 by light irradiation.
Further, from Table 3, it was confirmed that the compound I-1 can efficiently absorb ultraviolet rays having a wide wavelength range of 250 nm or more and 450 nm or less by light irradiation. Along with this, a shift of the maximum absorption wavelength to the longer wavelength side was confirmed.
From the above, in compound I-1, the phenolic hydroxyl group is protected by the photoleaving group B before light irradiation, and the ultraviolet absorbing ability is suppressed, so that curing inhibition can be suppressed, and the ultraviolet absorbing ability can be easily obtained by light irradiation. It was confirmed that it could be granted.
下記表5に示す成分を、表5に示す割合で混合し、実施例18〜20並びに比較例1及び2の組成物を得た。表5中の符号は下記の化合物を示す。なお、表中の数値は、質量部を表す。 The components shown in Table 5 below were mixed at the ratios shown in Table 5 to obtain the compositions of Examples 18 to 20 and Comparative Examples 1 and 2. The reference numerals in Table 5 indicate the following compounds. The numerical values in the table represent parts by mass.
A−1:重合性化合物(新中村化学工業社製NKオリゴEA−1020(ビスフェノールA型エポキシアクリレート)
A−2:ラジカル重合性化合物(日本化薬社製カヤラッドDPHA(ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレートの混合物))
B−1:BASF社製イルガキュア907(ラジカル重合開始剤)
C−1:信越化学工業社製シランカップリング剤KBE−403
D−1:2−ブタノン
E−1:下記式(1)で表される化合物(紫外線吸収剤)
F−1:化合物I−1−3
F−2:化合物I−1−35
F−3:化合物I−1−47A-1: Polymerizable compound (NK oligo EA-1020 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. (bisphenol A type epoxy acrylate))
A-2: Radical polymerizable compound (Kayarad DPHA (mixture of dipentaerythritol penta and hexaacrylate) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
B-1: BASF's Irgacure 907 (radical polymerization initiator)
C-1: Silane coupling agent KBE-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
D-1: 2-butanone E-1: Compound represented by the following formula (1) (ultraviolet absorber)
F-1: Compound I-1-3
F-2: Compound I-1-35
F-3: Compound I-1-47
得られた実施例18〜20並びに比較例1及び2の組成物の硬化性及び耐光性を下記の方法で評価した。 The curability and light resistance of the obtained compositions of Examples 18 to 20 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated by the following methods.
[硬化性]
実施例18〜20並びに比較例1及び2の組成物をそれぞれ、PETフィルムにバーコーターで約3μmの厚さに塗布した。次いで、80℃で3分間プリベークを行った後、光源として超高圧水銀ランプ(UL750)を用いて露光した(20mW/cm2)。なお、露光は、露光光量が、500mJ/cm2となるように行った。この際、光感度を測定できるように、光透過率が段階的に少なくなるように作られたネガフィルム(光学密度0.05を1段目とし、1段毎に光学密度が0.15ずつ増加するステップタブレット)を用いた。次いで、イソプロパノール(IPA)を用いて、25℃の環境下、10秒間かけ洗いを行って現像した後、80℃で30分間乾燥した。そして、PETフィルム上に形成された硬化物のステップタブレットの段数を測定することにより光感度を評価した。ステップタブレットの段数が高いほど光感度が高く、硬化性が良好なことを示す。結果を下記表5に示す。[Curable]
The compositions of Examples 18 to 20 and Comparative Examples 1 and 2 were respectively applied to a PET film with a bar coater to a thickness of about 3 μm. Then, after prebaking at 80 ° C. for 3 minutes, exposure was performed using an ultra-high pressure mercury lamp (UL750) as a light source (20 mW / cm 2 ). The exposure was performed so that the amount of exposure light was 500 mJ / cm 2 . At this time, a negative film made so that the light transmittance is gradually reduced so that the light sensitivity can be measured (optical density 0.05 is set as the first stage, and the optical density is 0.15 for each stage. An increasing step tablet) was used. Then, using isopropanol (IPA), the mixture was washed over 10 seconds in an environment of 25 ° C. for development, and then dried at 80 ° C. for 30 minutes. Then, the light sensitivity was evaluated by measuring the number of stages of the cured product step tablet formed on the PET film. The higher the number of steps of the step tablet, the higher the light sensitivity and the better the curability. The results are shown in Table 5 below.
[耐光性]
実施例18〜20並びに比較例1及び2の組成物をそれぞれガラス基板にスピンコーターで塗布し、80℃で3分間プリベークを行った後、光源として超高圧水銀ランプ(UL750)を用いて露光した(20mW/cm2)。露光は、露光光量が、100mJ/cm2となるように行った。その後、更に3000mJ/cm2照射し、耐光性評価用サンプルを作製した。スガ試験機製キセノン耐光性試験機テーブルサンXT−1500Lを用いて、評価用サンプルに対して24時間耐光性試験を実施した。評価用サンプルの耐光性試験前後の波長470nmでの透過率(%)の差((耐光性試験前の透過率(%)−耐光性試験後の透過率(%))を測定し、以下の基準で耐光性評価を行った。
〇:透過率差(%)が耐光性試験前の透過率に対して5%未満である。
×:透過率差(%)が耐光性試験前の透過率に対して5%以上である。
耐光性評価が「〇」であると、硬化物が耐光性に優れることを示す。その結果を下記表5に示す。[Light resistance]
The compositions of Examples 18 to 20 and Comparative Examples 1 and 2 were each applied to a glass substrate with a spin coater, prebaked at 80 ° C. for 3 minutes, and then exposed using an ultrahigh pressure mercury lamp (UL750) as a light source. (20 mW / cm 2 ). The exposure was performed so that the amount of exposure light was 100 mJ / cm 2 . Then, it was further irradiated with 3000 mJ / cm 2 to prepare a sample for light resistance evaluation. A 24-hour light resistance test was carried out on the evaluation sample using a xenon light resistance tester Table Sun XT-1500L manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. The difference in transmittance (%) at a wavelength of 470 nm before and after the light resistance test of the evaluation sample ((transmission (%) before the light resistance test-transmittance (%) after the light resistance test)) was measured and described as follows. Light resistance was evaluated based on the standard.
〇: The transmittance difference (%) is less than 5% with respect to the transmittance before the light resistance test.
X: The transmittance difference (%) is 5% or more with respect to the transmittance before the light resistance test.
When the light resistance evaluation is "◯", it indicates that the cured product has excellent light resistance. The results are shown in Table 5 below.
表5から、化合物I−1を含有する実施例18〜20の組成物は、紫外線吸収剤を含有しない比較例1の組成物に比べて耐光性が良好なものである。また、実施例18〜20の組成物は、公知の紫外線吸収剤を含有する比較例2の組成物に比べて硬化性が良好なものである。このことから、本発明によれば、硬化阻害が少なく、優れた耐光性を有する組成物が得られることが分かる。 From Table 5, the compositions of Examples 18 to 20 containing Compound I-1 have better light resistance than the compositions of Comparative Example 1 containing no ultraviolet absorber. Further, the compositions of Examples 18 to 20 have better curability than the composition of Comparative Example 2 containing a known ultraviolet absorber. From this, it can be seen that according to the present invention, a composition having less hardening inhibition and excellent light resistance can be obtained.
本発明の化合物によれば、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる化合物を提供することができる。
本発明の潜在性紫外線吸収剤は、硬化阻害が少なく、硬化物に対して容易に紫外線吸収能等を付与できる。
本発明の組成物によれば、硬化阻害が少なく、優れた紫外線吸収能を有する硬化物が得られる組成物を提供することができる。
本発明の硬化物によれば、優れた紫外線吸収能を有する硬化物を提供することができる。
本発明の硬化物の製造方法によれば、硬化阻害を起こすことなく、優れた紫外線吸収能等を有する硬化物を製造することができる。
本発明の第2組成物によれば、硬化阻害を起こさずに、優れた紫外線吸収能を有する硬化物が得られる組成物を提供すことができる。According to the compound of the present invention, it is possible to provide a compound which has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to a cured product.
The latent ultraviolet absorber of the present invention has less curing inhibition and can easily impart ultraviolet absorbing ability or the like to the cured product.
According to the composition of the present invention, it is possible to provide a composition capable of obtaining a cured product having less curing inhibition and excellent ultraviolet absorption ability.
According to the cured product of the present invention, it is possible to provide a cured product having an excellent ultraviolet absorbing ability.
According to the method for producing a cured product of the present invention, a cured product having excellent ultraviolet absorbing ability and the like can be produced without causing curing inhibition.
According to the second composition of the present invention, it is possible to provide a composition capable of obtaining a cured product having an excellent ultraviolet absorbing ability without causing curing inhibition.
Claims (9)
R12、R14、R17、R21、R22、R24、R25、R27、R29及びR30は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R15は、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29及びR30で表されるアルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−CO−O−、−O−CO−S−、−CO−NH−、−NH−CO−、−NH−CO−O−、−NR'−、>P=O、−S−S−、−SO2−又はこれらの組み合わせで置き換わっている場合があり、
前記アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び複素環含有基は、置換基を有している場合があり、
R’は、水素原子又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、
複数のR11同士、複数のR13同士、複数のR16同士、複数のR18同士、複数のR19同士、複数のR20同士、複数のR23同士、複数のR26同士及び複数のR28同士は、それぞれ結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成している場合があり、
複数のR11、R12、R13、R14、R16、R17、R18、R19、R20、R23、R25、R26、R27、R28、R29及びR30は、それぞれ同じである場合があり、異なる場合があり、
b1、b2、b3、b6、b7、b8及びb9は、それぞれ独立に0〜4の整数を表し、
b4及びb5は、それぞれ独立に0〜5の整数を表し、
**は、前記A−O−との結合位置を表す。)
R32、R33、R41、R42、R43及びR44は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R31、R32、R33、R40、R41、R42、R43及びR44で表されるアルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−CO−O−、−O−CO−S−、−CO−NH−、−NH−CO−、−NH−CO−O−、−NR'−、>P=O、−S−S−、−SO2−又はこれらの組み合わせで置き換わっている場合があり、
前記アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び複素環含有基は、置換基を有している場合があり、
c1は、0〜5の整数を表し、
c2は、0〜4の整数を表し、
**は、前記A−O−との結合位置を表す。)B in the general formula (I-1) is the following general formula (B-1), (B-2), (B-3), (B-4), (B-5), (B-6). , (B-7), (B-8), (B-9) and (B-10). The compound according to claim 1, which comprises at least one of the groups represented by.
R 12 , R 14 , R 17 , R 21 , R 22 , R 24 , R 25 , R 27 , R 29 and R 30 are independently hydrogen atom, halogen atom, cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl. Represents a group, an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
R 15 represents an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an aryl alkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 and R 30 are represented by alkyl groups and arylalkyl groups in which the methylene group is a carbon-carbon double bond, −O−, −S−, −CO−, −O—CO−,. -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-,> P = O, -SS-, -SO 2 -or a combination thereof may be replaced. Yes,
The alkyl group, aryl group, arylalkyl group and heterocyclic group may have a substituent and may have a substituent.
R'represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
A plurality of R 11 to each other, a plurality of R 13 to each other, between a plurality of R 16, together a plurality of R 18, together a plurality of R 19, a plurality of R 20 to each other, between a plurality of R 23, a plurality of R 26 to each other and a plurality of each other R 28 is may each combine together to form a benzene ring or a naphthalene ring,
A plurality of R 11, R 12, R 13 , R 14, R 16, R 17, R 18, R 19, R 20, R 23, R 25, R 26, R 27, R 28, R 29 and R 30 , Each may be the same, may be different,
b1, b2, b3, b6, b7, b8 and b9 each independently represent an integer of 0 to 4.
b4 and b5 each independently represent an integer of 0 to 5, respectively.
** represents the bonding position with the AO−. )
R 32 , R 33 , R 41 , R 42 , R 43 and R 44 are independently hydrogen atom, halogen atom, cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group and alkyl group having 1 to 40 carbon atoms. Represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
The methylene groups in the alkyl and arylalkyl groups represented by R 31 , R 32 , R 33 , R 40 , R 41 , R 42 , R 43 and R 44 are carbon-carbon double bonds, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S -CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-,> P = O, -S-S-, It may be replaced by -SO 2- or a combination of these.
The alkyl group, aryl group, arylalkyl group and heterocyclic group may have a substituent and may have a substituent.
c1 represents an integer from 0 to 5 and represents
c2 represents an integer from 0 to 4 and represents
** represents the bonding position with the AO−. )
前記光脱離基Bとして、下記一般式(B−1−a)を含む、請求項2に記載の化合物。
R1及びR2の少なくとも一方は、前記−O−Bであり、
R3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及びR8で表されるアルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−CO−O−、−O−CO−S−、−CO−NH−、−NH−CO−、−NH−CO−O−、−NR'−、>P=O、−S−S−、−SO2−又はこれらの組み合わせで置き換わっている場合もあり、
前記アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び複素環含有基は、置換基を有している場合があり、
R’は、水素原子又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、
複数のR3同士、複数のR4同士、複数のR5同士、複数のR6同士及び複数のR7同士は、それぞれ結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成している場合があり、
複数のR3、R4、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じ場合があり、異なる場合があり、
m1及びm2は、それぞれ独立に、1〜10の整数を表し、
nは、1〜3の整数を表し、
a1は、0〜4の整数を表し、
a2は、0〜2の整数を表し、
a3は、0〜4の整数を表し、
a4は、0〜3の整数を表し、
a5は、0〜3の整数を表し、
a6は、0〜3−nの整数を表し、
X1及びX2は、それぞれm1価及びm2価の結合基を表す。)
R11は、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、炭素原子数1〜40のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜20のアリールアルキル基又は炭素原子数2〜20の複素環含有基を表し、
R11及びR12で表されるアルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、−O−、−S−、−CO−、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−O−CO−O−、−S−CO−、−CO−S−、−S−CO−O−、−O−CO−S−、−CO−NH−、−NH−CO−、−NH−CO−O−、−NR'−、>P=O、−S−S−、−SO2−又はこれらの組み合わせで置き換わっている場合があり、
前記アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び複素環含有基は、置換基を有している場合があり、
R’は、水素原子又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、
複数のR11同士は結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成している場合があり、
R11及びR12は、それぞれ同じ場合があり、異なる場合があり、
b1は、0〜4の整数を表し、
**は、前記A−O−との結合位置を表す。)The compound represented by the general formula (I-1) is a compound represented by the following general formulas (A-1), (A-2) or (A-3).
The compound according to claim 2, wherein the photoleaving group B includes the following general formula (B-1-a).
At least one of R 1 and R 2 is the above-OB.
R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 independently have a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, and a carbon atom number. Represents an aryl group of 6 to 20, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms.
The methylene group in the alkyl group or arylalkyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 is a carbon-carbon double bond, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S -CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-,> P = O, -S-S-, It may be replaced by -SO 2- or a combination of these.
The alkyl group, aryl group, arylalkyl group and heterocyclic group may have a substituent and may have a substituent.
R'represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
A plurality of R 3 to each other, a plurality of R 4 with each other, a plurality of R 5 to each other, a plurality of R 6 to each other and a plurality of R 7 each other, might be combined with each other to form a benzene ring or a naphthalene ring,
Multiple R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different, respectively.
m1 and m2 each independently represent an integer of 1 to 10.
n represents an integer from 1 to 3 and represents
a1 represents an integer from 0 to 4 and represents
a2 represents an integer from 0 to 2 and represents
a3 represents an integer from 0 to 4 and represents
a4 represents an integer from 0 to 3 and represents
a5 represents an integer from 0 to 3 and represents
a6 represents an integer of 0 to 3-n and represents
X 1 and X 2 represent m1-valent and m-valent binding groups, respectively. )
R 11 is a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, a carboxyl group, an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms, or carbon. Represents a heterocyclic group with 2 to 20 atoms
The methylene group in the alkyl group or arylalkyl group represented by R 11 and R 12 is a carbon-carbon double bond, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O. -, -O-CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH -, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR'-,> P = O, -S-S-, -SO 2 -or or a combination thereof may be replaced.
The alkyl group, aryl group, arylalkyl group and heterocyclic group may have a substituent and may have a substituent.
R'represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
The plurality of R 11 together may form a benzene or naphthalene ring,
R 11 and R 12 may be the same or different, respectively.
b1 represents an integer from 0 to 4 and represents
** represents the bonding position with the AO−. )
前記硬化物に対して光を照射して、前記化合物に含まれる光脱離基を脱離する工程と、
を有する硬化物の製造方法。A step of curing a composition containing the compound according to any one of claims 1 to 3 and a polymerizable compound to form a cured product.
A step of irradiating the cured product with light to remove photoleaving groups contained in the compound, and
A method for producing a cured product having.
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Families Citing this family (2)
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CN116419795A (en) * | 2020-11-16 | 2023-07-11 | Agc株式会社 | Adsorption material |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5212165A (en) * | 1975-07-16 | 1977-01-29 | Idemitsu Kosan Co Ltd | Process for preparation of benzotriazoles |
US4321396A (en) * | 1980-01-17 | 1982-03-23 | Gaf Corporation | Copolymerizable, ultraviolet light absorber allyloxy-2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-alkylbenzenes |
JPS61109778A (en) * | 1984-11-01 | 1986-05-28 | チバ‐ガイギー アクチエンゲゼルシヤフト | Coating material and compound contained in coating material |
JPS62134642A (en) * | 1985-12-02 | 1987-06-17 | イーストマン コダック カンパニー | Photographic element |
JPH06191155A (en) * | 1992-12-25 | 1994-07-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Recording material |
JPH07191462A (en) * | 1993-02-05 | 1995-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive resin composition and image forming method |
JPH08225679A (en) * | 1994-11-14 | 1996-09-03 | Ciba Geigy Ag | Latent light stabilizer |
JPH0925360A (en) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Ultraviolet-absorber precursor compound, photosensitive resin composition containing the same, and image formation method |
WO1998043952A1 (en) * | 1997-03-31 | 1998-10-08 | Daikin Industries, Ltd. | Process for producing perfluorovinyl ethersulfonic acid derivatives and copolymer of the same |
JP2000063313A (en) * | 1998-07-31 | 2000-02-29 | Ausimont Spa | Hydro-fluoroalkyl vinyl ethers and their production |
JP2002160452A (en) * | 2000-11-27 | 2002-06-04 | Mitsui Chemicals Inc | Optical recording medium |
JP2004018454A (en) * | 2002-06-14 | 2004-01-22 | Daikin Ind Ltd | Method for producing fluorine-containing fluorosulfonylalkyl vinyl ether |
JP2005532273A (en) * | 2002-03-12 | 2005-10-27 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | UV absorber composition comprising hydroxyphenyltriazine compound |
JP2006008953A (en) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating composition for protection and coated product |
JP2009514925A (en) * | 2005-11-09 | 2009-04-09 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | Light latent system |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5773663A (en) * | 1996-05-01 | 1998-06-30 | American Cyanamid Company | Fungicidal methods, compounds and compositions containing benzophenones |
JP2011048382A (en) | 2010-10-01 | 2011-03-10 | Kodak Japan Ltd | Photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and method for forming lithographic printing plate |
JP6049521B2 (en) | 2013-03-29 | 2016-12-21 | 富士フイルム株式会社 | Photosensitive resin composition, cured film, image forming method, solid-state imaging device, color filter, and ultraviolet absorber |
JP2015108649A (en) | 2013-12-03 | 2015-06-11 | 凸版印刷株式会社 | Blue photosensitive composition and color filter substrate |
-
2018
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- 2018-10-04 TW TW112108971A patent/TW202325698A/en unknown
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5212165A (en) * | 1975-07-16 | 1977-01-29 | Idemitsu Kosan Co Ltd | Process for preparation of benzotriazoles |
US4321396A (en) * | 1980-01-17 | 1982-03-23 | Gaf Corporation | Copolymerizable, ultraviolet light absorber allyloxy-2-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-alkylbenzenes |
JPS61109778A (en) * | 1984-11-01 | 1986-05-28 | チバ‐ガイギー アクチエンゲゼルシヤフト | Coating material and compound contained in coating material |
JPS62134642A (en) * | 1985-12-02 | 1987-06-17 | イーストマン コダック カンパニー | Photographic element |
JPH06191155A (en) * | 1992-12-25 | 1994-07-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Recording material |
JPH07191462A (en) * | 1993-02-05 | 1995-07-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive resin composition and image forming method |
JPH08225679A (en) * | 1994-11-14 | 1996-09-03 | Ciba Geigy Ag | Latent light stabilizer |
JPH0925360A (en) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | Ultraviolet-absorber precursor compound, photosensitive resin composition containing the same, and image formation method |
WO1998043952A1 (en) * | 1997-03-31 | 1998-10-08 | Daikin Industries, Ltd. | Process for producing perfluorovinyl ethersulfonic acid derivatives and copolymer of the same |
JP2000063313A (en) * | 1998-07-31 | 2000-02-29 | Ausimont Spa | Hydro-fluoroalkyl vinyl ethers and their production |
JP2002160452A (en) * | 2000-11-27 | 2002-06-04 | Mitsui Chemicals Inc | Optical recording medium |
JP2005532273A (en) * | 2002-03-12 | 2005-10-27 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | UV absorber composition comprising hydroxyphenyltriazine compound |
JP2004018454A (en) * | 2002-06-14 | 2004-01-22 | Daikin Ind Ltd | Method for producing fluorine-containing fluorosulfonylalkyl vinyl ether |
JP2006008953A (en) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating composition for protection and coated product |
JP2009514925A (en) * | 2005-11-09 | 2009-04-09 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | Light latent system |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE, vol. 28(3), JPN6022045728, 1983, pages 1159 - 1165, ISSN: 0004909804 * |
JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY, vol. 13(1), JPN6022045726, 2003, pages 9 - 15, ISSN: 0004909802 * |
ORGANIC COATINGS AND PLASTICS CHEMISTRY, vol. 43, JPN6022045729, 1980, pages 808 - 813, ISSN: 0004909805 * |
SHIKIZAI KYOKAISHI, vol. 72(12), JPN6022045727, 1999, pages 739 - 747, ISSN: 0004909803 * |
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