JPWO2018193732A1 - シラノール化合物及びシラノール化合物の製造方法 - Google Patents
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- -1 Silanol compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 125
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 68
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 claims abstract description 10
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 84
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 32
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 25
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 16
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 15
- 239000008247 solid mixture Substances 0.000 claims description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 claims description 11
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 claims description 11
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 9
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 8
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 claims description 6
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000007710 freezing Methods 0.000 claims description 4
- 230000008014 freezing Effects 0.000 claims description 4
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 98
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 75
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 60
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 51
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 46
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 42
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 33
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 30
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 28
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 22
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 19
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- GXHFUVWIGNLZSC-UHFFFAOYSA-N meldrum's acid Chemical compound CC1(C)OC(=O)CC(=O)O1 GXHFUVWIGNLZSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 14
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 14
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000004455 differential thermal analysis Methods 0.000 description 10
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012296 anti-solvent Substances 0.000 description 9
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 9
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 8
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 7
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000004896 high resolution mass spectrometry Methods 0.000 description 6
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 6
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 6
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 5
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241001408653 Siona Species 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- HSNUIYJWTSJUMS-UHFFFAOYSA-N sodium;trimethyl(oxido)silane Chemical compound [Na+].C[Si](C)(C)[O-] HSNUIYJWTSJUMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 3
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- BADXJIPKFRBFOT-UHFFFAOYSA-N dimedone Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(=O)C1 BADXJIPKFRBFOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 3
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N Azide Chemical compound [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N Heavy water Chemical compound [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M dimethyldioctadecylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC REZZEXDLIUJMMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YOMFVLRTMZWACQ-UHFFFAOYSA-N ethyltrimethylammonium Chemical compound CC[N+](C)(C)C YOMFVLRTMZWACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940006461 iodide ion Drugs 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- ZJBHFQKJEBGFNL-UHFFFAOYSA-N methylsilanetriol Chemical compound C[Si](O)(O)O ZJBHFQKJEBGFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N methyltrioctylammonium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- KCIKCCHXZMLVDE-UHFFFAOYSA-N silanediol Chemical compound O[SiH2]O KCIKCCHXZMLVDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940089952 silanetriol Drugs 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 2
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 2
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFZDLRVCXDBOPH-UHFFFAOYSA-N tetraheptylazanium Chemical compound CCCCCCC[N+](CCCCCCC)(CCCCCCC)CCCCCCC YFZDLRVCXDBOPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJSGYPDDPQRWPK-UHFFFAOYSA-N tetrapentylammonium Chemical compound CCCCC[N+](CCCCC)(CCCCC)CCCCC GJSGYPDDPQRWPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXAWRMKQZKPHNJ-UHFFFAOYSA-M tetrapentylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCC[N+](CCCCC)(CCCCC)CCCCC SXAWRMKQZKPHNJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N tetrapropylammonium Chemical compound CCC[N+](CCC)(CCC)CCC OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJHUXWBTVVFLQI-UHFFFAOYSA-N tributyl(methyl)azanium Chemical compound CCCC[N+](C)(CCCC)CCCC HJHUXWBTVVFLQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXFSUVJPEQYUGN-UHFFFAOYSA-N trimethyl(phenyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C1=CC=CC=C1 KXFSUVJPEQYUGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGBWXISUZXYULS-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butylpyridine Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CN=C1C(C)(C)C XGBWXISUZXYULS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPSVYNDQEVZTMB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,3,5-trinitrobenzene;1,3,5,7-tetranitro-1,3,5,7-tetrazocane Chemical compound CC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O.[O-][N+](=O)N1CN([N+]([O-])=O)CN([N+]([O-])=O)CN([N+]([O-])=O)C1 UPSVYNDQEVZTMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005133 29Si NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical compound CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJMAXCRRCJSCIE-UHFFFAOYSA-N N-acetylglycine-N-methylamide Chemical compound CNC(=O)CNC(C)=O FJMAXCRRCJSCIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQRJXIFKEAOKCU-UHFFFAOYSA-N O=C(C1=NC=CC=C1)[K] Chemical compound O=C(C1=NC=CC=C1)[K] SQRJXIFKEAOKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L Phosphate ion(2-) Chemical compound OP([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- HWYNRVXFYFQSID-UHFFFAOYSA-M benzo[a]phenoxazin-9-ylidene(dimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=C2C(N=C3C=CC(C=C3O3)=[N+](C)C)=C3C=CC2=C1 HWYNRVXFYFQSID-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- QSRFYFHZPSGRQX-UHFFFAOYSA-N benzyl(tributyl)azanium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 QSRFYFHZPSGRQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- ZJHQDSMOYNLVLX-UHFFFAOYSA-N diethyl(dimethyl)azanium Chemical compound CC[N+](C)(C)CC ZJHQDSMOYNLVLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N dimethyl malonate Chemical compound COC(=O)CC(=O)OC BEPAFCGSDWSTEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGQYPPBGSLZBEG-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dioctadecyl)azanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC OGQYPPBGSLZBEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N fenbutatin oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C[Sn](O[Sn](CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHHHONWQHHHLTI-UHFFFAOYSA-N hexachloroethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(Cl)(Cl)Cl VHHHONWQHHHLTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-O hexylazanium Chemical compound CCCCCC[NH3+] BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M hydrogensulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N protonated dimethyl amine Natural products CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N tetrahexylazanium Chemical compound CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N tetrasodium;silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- SEACXNRNJAXIBM-UHFFFAOYSA-N triethyl(methyl)azanium Chemical compound CC[N+](C)(CC)CC SEACXNRNJAXIBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
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- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
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Abstract
Description
結晶化工程における使用溶媒、結晶化時間(静置時間)等は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。使用する溶媒の沸点は、通常0℃以上、好ましくは10℃以上、より好ましくは30℃以上であり、通常300℃以下、好ましくは200℃以下、より好ましくは100℃以下である。使用する溶媒としては、Et2O、THF、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、DMAc、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド、DMSO、テトラメチル尿素等が挙げられる。結晶化時間(静置時間)は、通常720時間以下、好ましくは360時間以下、より好ましくは168時間以下であり、通常1時間以上、好ましくは5時間以上、より好ましくは10時間以上である。
す場合がある。))が生成していることが確認された。反応溶液を濃縮して、GPCによりQ8H8に帰属されるピーク部分を分取した。
Q8(TMA)8・54H2O、211mg(0.10mmol)をDMAc5mLに懸濁させた分散液にメルドラム酸121mg(0.84mmol)を加え、5分間攪拌することでQ8H8を含む無色透明の溶液を得た。この溶液の29Si−NMRを測定した。ビストリメチルシリルベンゼンを内標とすることでQ8H8の収率を求めた(収率:94%、29Si−NMR(Acetone−d6):−100.6ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、211mg(0.10mmol)をDMAc5mLに懸濁させた分散液に硝酸77mg(0.84mmol)を加え、15分間攪拌することでQ8H8を含む懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過した後、29Si−NMRを測定した。ビストリメチルシリルベンゼンを内標とすることでQ8H8の収率を求めた(収率:95%、29Si−NMR(Acetone−d6):−100.4ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、211mg(0.10mmol)をDMAc5mLに懸濁させた分散液に塩酸70μL(0.84mmol)を加え、10分間攪拌することでQ8H8を含む懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過した後、29Si−NMRを測定し、Q8H8の収率を求めた(収率:89%、29Si−NMR(Acetone−d6):−100.4ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、211mg(0.10mmol)をDMAc2mLに懸濁させた分散液にジメドン135mg(0.96mmol)を加え、5分間攪拌することでQ8H8を含む無色透明の溶液を得た。この溶液の29Si−NMRを測定し、Q8H8の収率を求めた(収率:32%、29Si−NMR(Acetone−d6):−101.2ppm)。
Q8(TMA)8・55.4H2O(Aldrich社製、製品番号522260−5G)、640mg(0.30mmol)をDMAc8mLに懸濁させた分散液にメルドラム酸363mg(2.52mmol)を加え、10分間攪拌することでQ8H8を含む無色透明の溶液を得た。反応溶液からGPCによりQ8H8に帰属されるピーク部分を分取した。Q8H8を含む溶液を濃縮し、貧溶媒法により2℃にて再結晶化することにより、Q8H8を36.3質量%含む組成物である無色固体(白色粉末)を収率85%(390mg)で単離した(1H−NMR(THF−d8):6.30ppm、29Si−NMR(THF−d8):−100.0ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、1055mg(0.50mmol)をDMAc20mLに懸濁させた分散液にメルドラム酸605mg(4.20mmol)を加え、7分間撹拌することで無色透明の溶液を得た。この溶液にエタノール/アセトニトリル(1/1体積比)混合溶媒200mLを添加した後、無水硫酸マグネシウム20gを加えて10分間撹拌し、フィルター濾過して溶液を得た。この溶液をシリカゲルカラム(展開溶媒としてエタノール/アセトニトリル(1/1体積比)混合溶媒)によってQ8H8のピーク部分を分取した。この分取したQ8H8を含む溶液を濃縮し、貧溶媒法により2℃にて再結晶化することにより、Q8H8を47質量%含む組成物である無色固体を収率61%(349mg)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.0ppm)。
実施例5で得られたQ8H8組成物20mgをTHF1mLに溶かし、微量の不溶物をフィルター濾過にて分離した。この溶液を−30℃にて再結晶化することにより、Q8H8を68.4質量%含む組成物である無色固体(角柱状結晶)を単離した。また、単結晶X線結晶構造解析により、得られた結晶は、1分子のQ8H8と、1分子のDMAcと、2分子のTHFからなる結晶構造を備えていることが明らかになった。
Q8(TMA)8・54H2O、212mg(0.10mmol)をDMAc4mLに懸濁させた分散液にメルドラム酸141mg(0.98mmol)を加え、10分間撹拌することで無色透明の溶液を得た。この溶液にTHF2mLを少しずつ添加した。室温で静置して、Q8H8を35.3質量%含む組成物である無色固体(板状結晶)を収率94%(147mg)で単離した。また、単結晶X線結晶構造解析により、得られた結晶は、1分子のQ8H8と、4分子のメルドラム酸−テトラメチルアンモニウム塩と、2分子のTHFからなる結晶構造を備えていることが明らかになった。この固体の熱重量示差熱分析の測定結果を図4に示す。なお、実線(−)が「TG %」を、破線(--)が「DTA μV」を、点線(・・)が「Temp Cel」をそれぞれ表している(以下同様)。
Q8(TMA)8・54H2O、423mg(0.20mmol)をDMAc8mLに懸濁させた分散液にメルドラム酸277mg(1.92mmol)を加え、10分間撹拌することで無色透明の溶液を得た。この溶液にTHF10mLとシリカゲル(シリカゲル60、pH6(関東化学))4.0gを加え5分間撹拌した。その後、シリカゲルをフィルター濾過(THF10mLで洗浄)にて分離し、濾液にシリカゲル(シリカゲル60、pH6(関東化学))2.0gを加え5分間撹拌した。シリカゲルをフィルター濾過(THF5mLで洗浄)にて分離した。濾液を減圧留去して濃縮し、貧溶媒法により−5℃にて再結晶化することにより、Q8H8を65質量%含む組成物である無色固体を収率40%(68mg)で単離した(1H−NMR(THF−d8):6.29ppm、29Si−NMR(THF−d8):−100.0ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、423mg(0.20mmol)をDMAc8mLとTHF2.5mLに懸濁させた分散液に塩酸0.141mL(1.67mmol)を加え、10分間撹拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF1mLで洗浄)した後、濾液にシリカゲル(シリカゲル60、pH6(関東化学))1.0gとTHF5mLを加え5分間撹拌した。その後、シリカゲルをフィルター濾過(THF7.5mLで洗浄)にて分離した。濾液を減圧留去して濃縮し、貧溶媒法により−5℃にて再結晶化することにより、Q8H8を47質量%含む組成物である無色固体を収率86%(202mg)で単離した(1H−NMR(Acetone−d6):6.37ppm、29Si−NMR(Acetone−d6):−100.0ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、845mg(0.40mmol)をTHF15mLとDMAc8mLに懸濁させた分散液に硝酸0.212mL(3.35mmol)を加え、10分間撹拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF2mLで洗浄)した後、濾液にシリカゲル(シリカゲル60、pH6(関東化学))2.0gを加え5分間撹拌した。その後、シリカゲルをフィルター濾過(THF6mLで洗浄)にて分離した。濾液を減圧留去して濃縮し、貧溶媒法により−5℃にて再結晶化することにより、Q8H8を44質量%含む組成物である無色固体を収率68%(341mg)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
硝酸の使用量を0.212mL(3.35mmol)から0.250mL(3.95mmol)に変更した以外は実施例19と同様の方法で、Q8H8を37質量%含む組成物である無色固体を収率72%(429mg)で単離した(Q8H8)(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
Q8(TMA)8・48.7H2O、8.062g(4.00mmol)をTHF150mLとDMAc80mLに懸濁させた分散液に硝酸2.12mL(33.5mmol)を加え、10分間撹拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF20mLで洗浄)した後、濾液にシリカゲル(シリカゲル60、pH6(関東化学))20.0gを加え5分間撹拌した。その後、シリカゲルをフィルター濾過(THF60mLで洗浄)にて分離した。濾液を減圧留去して濃縮し、貧溶媒法により−5℃にて再結晶化することにより、Q8H8を39質量%含む組成物である無色固体を収率63%(3.56g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
硝酸の使用量2.12mL(33.5mmol)から2.53mL(40.0mmol)に変更した以外は実施例21と同様の方法で、Q8H8を36質量%含む組成物である無色固体を収率62%(3.851g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、846mg(0.40mmol)をTHF20mLに懸濁させた分散液に硝酸0.212mL(3.35mmol)を加え、5分間撹拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF5mLで洗浄)した。濾液にDMAc8mLを加えてから減圧留去して濃縮し、貧溶媒法により−5℃にて再結晶化することにより、Q8H8を43質量%含む組成物である無色固体を収率73%(376mg)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
Q8(TMA)8・48.7H2O、8.062g(4.00mmol)をTHF200mLに懸濁させた分散液に硝酸2.12mL(33.5mmol)を加え、5分間撹拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF50mLで洗浄)した。濾液にDMAc80mLを加えてから減圧留去して濃縮し、貧溶媒法により−5℃にて再結晶化することにより、Q8H8を37質量%含む組成物である無色固体を収率33%(2.022g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
THFの使用量を200mLから150mLに変更した以外は実施例24と同様の方法で、Q8H8を40質量%含む組成物である無色固体を収率43%(2.427g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
THFの使用量を200mLから100mLに変更した以外は実施例24と同様の方法で、Q8H8を37質量%含む組成物である無色固体を収率50%(2.988g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
撹拌時間を5分間から30分間に変更した以外は実施例24と同様の方法で、Q8H8を37質量%含む組成物である無色固体を収率43%(2.552g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
撹拌時間を5分間から30分間に変更した以外は実施例25と同様の方法で、Q8H8を43質量%含む組成物である無色固体を収率63%(3.237g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
硝酸の使用量を2.12mL(33.5mmol)から2.53mL(40.0mmol)に変更した以外は実施例27と同様の方法で、Q8H8を36質量%含む組成物である無色固体を収率47%(2.872g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
硝酸の使用量を2.12mL(33.5mmol)から3.04mL(48.0mmol)に変更した以外は実施例27と同様の方法で、Q8H8を41質量%含む組成物である無色固体を収率86%(4.717g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
硝酸の使用量を2.12mL(33.5mmol)から3.55mL(56.0mmol)に変更した以外は実施例27と同様の方法で、Q8H8を37質量%含む組成物である無色固体を収率99%(5.889g)で単離した。この固体の29Si−NMRの測定結果を図5に示す(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。また、この固体の熱重量示差熱分析の測定結果を図6に示す。
硝酸の使用量を2.12mL(33.5mmol)から3.04mL(48.0mmol)に変更した以外は実施例28と同様の方法で、Q8H8を37質量%含む組成物である無色固体を収率85%(5.135g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
硝酸の使用量を2.12mL(33.5mmol)から3.04mL(48.0mmol)に変更した以外は実施例26と同様の方法で、Q8H8を37質量%含む組成物である無色固体を収率84%(4.926g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.1ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、845mg(0.40mmol)をTHF20mLに懸濁させた分散液に硫酸333mg(3.29mmol)を加え、5分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF5mLで洗浄)した。濾液にDMAc8mLを加えてから減圧留去して濃縮し、貧溶媒法により−5℃にて再結晶化することにより、Q8H8を36質量%含む組成物である無色固体を収率55%(333mg)で単離した(1H−NMR(Acetone−d6):7.32ppm、29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
Q8(TMA)8・48.7H2O、8.062g(4.00mmol)をTHF200mLに懸濁させた分散液に硫酸3.066g(30.3mmol)を加え、30分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF50mLで洗浄)した。濾液にDMAc80mLを加えてから減圧留去して濃縮し、貧溶媒法により−5℃にて再結晶化することにより、Q8H8を32質量%含む組成物である無色固体を収率47%(3.294g)で単離した(1H−NMR(Acetone−d6):6.67ppm、29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
硫酸の使用量を3.066g(30.3mmol)から3.274g(32.4mmol)に変更した以外は実施例35と同様の方法で、Q8H8を37質量%含む組成物である無色固体を収率70%(4.168g)で単離した(1H−NMR(Acetone−d6):6.67ppm、29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
硫酸の使用量を3.066g(30.3mmol)から3.492g(34.5mmol)に変更した以外は実施例35と同様の方法で、Q8H8を39質量%含む組成物である無色固体を収率91%(5.099g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
硫酸の使用量を硫酸3.066g(30.3mmol)から3.642g(36.0mmol)に変更した以外は実施例35と同様の方法で、Q8H8を38質量%含む組成物である無色固体を収率87%(5.104g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、845mg(0.40mmol)をTHF20mLに懸濁させた分散液にリン酸369mg(3.20mmol)を加え、5分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF5mLで洗浄)した。濾液にDMAc8mLを加えてから減圧留去して濃縮し、貧溶媒法により−5℃にて再結晶化することにより、Q8H8を11質量%含む組成物であるペースト状固体物を収率7%(143mg)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、845mg(0.40mmol)をTHF20mLに懸濁させた分散液に硝酸0.212mL(3.35mmol)を加え、5分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF5mLで洗浄)した。濾液を減圧留去し、Q8H8を69質量%、H2Oを24質量%含む組成物である無色固体を収率64%(207mg)で単離した(29Si−NMR(MeOD−d4):−100.1ppm)。
Q8(TMA)8・48.7H2O、8.062g(4.00mmol)をTHF200mLに懸濁させた分散液に硝酸3.04mL(48.0mmol)を加え、30分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF50mLで洗浄)した。濾液を減圧留去し、Q8H8を80質量%、H2Oを1質量%含む組成物である無色固体を収率95%(2.493g)で単離した。この固体の1H−NMRの測定結果を図7(a)に示す(1H−NMR(DMSO−d6):7.87ppm)。また、この固体の29Si−NMRの測定結果を図7(b)に示す(29Si−NMR(DMSO−d6):−100.6ppm)。また、この固体の熱重量示差熱分析の測定結果を図8に示す。
Q8(TMA)8・54H2O、845mg(0.40mmol)をTHF20mLに懸濁させた分散液に硝酸0.212mL(3.35mmol)を加え、5分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF5mLで洗浄)した。濾液を減圧留去して元の体積の1/3程度まで濃縮した。この濃縮溶液を減圧度23331Pa(175torr)の条件下で濃縮することで、Q8H8を70質量%、H2Oを2質量%含む組成物である無色固体(板状結晶)を単離した。この固体の1H−NMRの測定結果を図9(a)に示す(1H−NMR(DMF−d7):7.73ppm)。また、この固体の29Si−NMRの測定結果を図9(b)に示す(29Si−NMR(DMF−d7):−100.1ppm)。また、この固体の熱重量示差熱分析の測定結果を図10に示す。
Q8(TMA)8・54H2O、845mg(0.40mmol)をTHF20mLに懸濁させた分散液に硝酸0.212mL(3.35mmol)を加え、5分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF5mLで洗浄)した。濾液にジエチレングリコールジメチルエーテル3mLを加えてから減圧留去して濃縮することで、Q8H8を33質量%含む組成物であるペースト状固形物を収率86%(573mg)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
ジエチレングリコールジメチルエーテル3mLをトリエチレングリコールジメチルエーテル2mLに変更した以外は実施例43と同様の方法で、Q8H8を31質量%含む組成物であるペースト状固形物を収率87%(615mg)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
Q8(TMA)8・48.7H2O、8.062g(4.00mmol)をTHF150mLに懸濁させた分散液に硝酸3.04mL(48.0mmol)を加え、30分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF50mLで洗浄)した。濾液にジエチレングリコールジメチルエーテル30mLを加えてから減圧留去して濃縮することで、Q8H8を26質量%含む組成物であるペースト状固形物を収率95%(8.103g)で単離した(29Si−NMR(Acetone−d6):−100.2ppm)。
Q8(TMA)8・54H2O、845mg(0.40mmol)をTHF20mLに懸濁させた分散液に硝酸0.212mL(3.35mmol)を加え、5分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF5mLで洗浄)した。濾液にジエチレングリコールジメチルエーテル3mLを加えてから減圧留去して濃縮し、貧溶媒法(蒸気拡散)により室温にて再結晶化することで、Q8H8を78.9質量%含む組成物である無色固体(板状結晶)を収率65%(176mg)で単離した(1H−NMR(DMF−d7):7.73ppm、29Si−NMR(DMF−d7):−100.0ppm)。また、単結晶X線結晶構造解析により、得られた結晶は、1分子のQ8H8と、2分子のEt2Oからなる結晶構造を備えていることが明らかになった。
Q8(TMA)8・48.7H2O、8.062g(4.00mmol)をTHF200mLに懸濁させた分散液に硝酸2.12mL(33.5mmol)を加え、30分間攪拌することで懸濁液を得た。この懸濁液をフィルター濾過(THF50mLで洗浄)した。濾液にジエチレングリコールジメチルエーテル30mLを加えてから減圧留去して濃縮し、貧溶媒法(蒸気拡散)により室温にて再結晶化することで、Q8H8を77質量%含む組成物である無色固体を収率80%(2.309g)で単離した。この固体の1H−NMRの測定結果を図11(a)に示す(1H−NMR(DMF−d7):7.73ppm)。また、この固体の29Si−NMRの測定結果を図11(b)に示す(29Si−NMR(DMF−d7):−99.8ppm)。また、この固体の熱重量示差熱分析の測定結果を図12に示す。
Q8(TMA)8・54H2O、1055mg(0.50mmol)をエタノール100mLに溶かした溶液に、メルドラム酸605mg(4.20mmol)をアセトニトリル100mLに溶かした溶液を加え、5分間攪拌することで無色透明な溶液を得た。この溶液に無水硫酸マグネシウム10gを加え、10分間攪拌し、フィルター濾過して溶液を得た。この溶液をシリカゲルカラム(展開溶媒としてエタノール/アセトニトリル(1/1体積比)混合溶媒)によってQ8H8の二量化した成分を含むピーク部分を分取した。
Claims (16)
- 前記酸性化合物のジメチルスルホキシド(DMSO)中における酸解離定数pKaが12.6以下である、請求項1に記載のシラノール化合物の製造方法。
- 前記酸性化合物が無機酸である、請求項1又は2に記載のシラノール化合物の製造方法。
- 前記無機酸が硝酸又は硫酸である、請求項3に記載のシラノール化合物の製造方法。
- 前記酸性化合物が、前記式(b−2)〜(b−5)で表される構造からなる群より選択される少なくとも1種の構造を有する樹脂である、請求項5に記載のシラノール化合物の製造方法。
- 前記プロトン交換工程が、水、エーテル系液体、アルコール系液体、アミド系液体、エステル系液体、ハロゲン系液体、及び非プロトン性極性液体からなる群より選択される少なくとも1種の液体中で行われる、請求項1〜6の何れか1項に記載のシラノール化合物の製造方法。
- 前記プロトン交換工程で得られた生成物にアンモニウム塩を添加するアンモニウム塩添加工程をさらに含む、請求項1〜7の何れか1項に記載のシラノール化合物の製造方法。
- 前記プロトン交換工程で得られた生成物又は前記アンモニウム塩添加工程で得られた生成物を凍結させて、減圧下にさらす凍結乾燥工程をさらに含む、請求項1〜8の何れか1項に記載のシラノール化合物の製造方法。
- 前記プロトン交換工程で得られた生成物又は前記アンモニウム塩添加工程で得られた生成物から貧溶媒法又は蒸発法により結晶を析出させる結晶化工程をさらに含む、請求項1〜8の何れか1項に記載のシラノール化合物の製造方法。
- 請求項11に記載のシラノール化合物を含む固体組成物。
- 請求項11に記載のシラノール化合物を30質量%以上含む組成物。
- 請求項11に記載のシラノール化合物を65質量%以上含む組成物。
- 請求項11に記載のシラノール化合物とアミド化合物からなる結晶構造を備えている組成物。
- 請求項11に記載のシラノール化合物の脱水縮合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021089583A JP7198523B2 (ja) | 2017-04-20 | 2021-05-27 | シラノール化合物及びシラノール化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017083845 | 2017-04-20 | ||
JP2017083845 | 2017-04-20 | ||
PCT/JP2018/008434 WO2018193732A1 (ja) | 2017-04-20 | 2018-03-05 | シラノール化合物及びシラノール化合物の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021089583A Division JP7198523B2 (ja) | 2017-04-20 | 2021-05-27 | シラノール化合物及びシラノール化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018193732A1 true JPWO2018193732A1 (ja) | 2020-03-12 |
JP6894150B2 JP6894150B2 (ja) | 2021-06-23 |
Family
ID=63856275
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019513255A Active JP6894150B2 (ja) | 2017-04-20 | 2018-03-05 | シラノール化合物及びシラノール化合物の製造方法 |
JP2021089583A Active JP7198523B2 (ja) | 2017-04-20 | 2021-05-27 | シラノール化合物及びシラノール化合物の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021089583A Active JP7198523B2 (ja) | 2017-04-20 | 2021-05-27 | シラノール化合物及びシラノール化合物の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US20210061824A1 (ja) |
EP (1) | EP3613749A4 (ja) |
JP (2) | JP6894150B2 (ja) |
CN (2) | CN116354352A (ja) |
WO (1) | WO2018193732A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018193732A1 (ja) | 2017-04-20 | 2018-10-25 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | シラノール化合物及びシラノール化合物の製造方法 |
JP7141140B2 (ja) * | 2018-10-24 | 2022-09-22 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 結晶、結晶の製造方法、及びシラノール化合物を自己組織化させる方法 |
JP7360697B2 (ja) * | 2019-10-31 | 2023-10-13 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 化合物及びその製造方法 |
JP2023130962A (ja) * | 2022-03-08 | 2023-09-21 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | シラノール化合物及び該シラノール化合物の製造方法並びに該シラノール化合物を含む組成物 |
US11999625B2 (en) * | 2022-03-29 | 2024-06-04 | Nissan Chemical Corporation | Method of producing layered silicate, and application thereof in production of silica nanosheet and so on |
KR102656769B1 (ko) * | 2022-03-29 | 2024-04-11 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 바구니형 규산염 및 그 제조 방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3705333B2 (ja) * | 1999-05-12 | 2005-10-12 | 信越化学工業株式会社 | シラノール基を有する有機けい素化合物の製造方法 |
US6972312B1 (en) * | 1999-08-04 | 2005-12-06 | Hybrid Plastics Llc | Process for the formation of polyhedral oligomeric silsesquioxanes |
JP4265117B2 (ja) | 2001-06-01 | 2009-05-20 | 東亞合成株式会社 | 保護されたカテコール基を有する新規なシルセスキオキサンの製造方法 |
CN1291991C (zh) * | 2003-08-20 | 2006-12-27 | 胡立江 | 一种多羟基倍半硅氧烷的制备方法 |
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-
2018
- 2018-03-05 WO PCT/JP2018/008434 patent/WO2018193732A1/ja unknown
- 2018-03-05 JP JP2019513255A patent/JP6894150B2/ja active Active
- 2018-03-05 CN CN202310316125.4A patent/CN116354352A/zh active Pending
- 2018-03-05 US US16/606,487 patent/US20210061824A1/en not_active Abandoned
- 2018-03-05 CN CN201880025162.7A patent/CN110520430B/zh active Active
- 2018-03-05 EP EP18787977.0A patent/EP3613749A4/en active Pending
-
2021
- 2021-05-27 JP JP2021089583A patent/JP7198523B2/ja active Active
- 2021-09-10 US US17/472,421 patent/US12024532B2/en active Active
-
2024
- 2024-05-14 US US18/663,837 patent/US20240300984A1/en active Pending
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---|---|
CN110520430A (zh) | 2019-11-29 |
JP6894150B2 (ja) | 2021-06-23 |
CN116354352A (zh) | 2023-06-30 |
EP3613749A4 (en) | 2020-12-16 |
JP7198523B2 (ja) | 2023-01-04 |
US20220056056A1 (en) | 2022-02-24 |
US20240300984A1 (en) | 2024-09-12 |
EP3613749A1 (en) | 2020-02-26 |
JP2021127345A (ja) | 2021-09-02 |
US12024532B2 (en) | 2024-07-02 |
US20210061824A1 (en) | 2021-03-04 |
WO2018193732A1 (ja) | 2018-10-25 |
CN110520430B (zh) | 2023-09-05 |
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