JPWO2005093465A1 - 反射防止膜を有する光学部材 - Google Patents

Abstract

本発明の光学部材は、プラスチック基材、硬化膜、真空蒸着で形成される多層反射防止膜、及び該反射防止膜上に施される撥水膜をこの順に有する光学部材であって、硬化膜は (A) 変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と(B) 有機珪素化合物を含有するコーティング組成物を原料とし、多層反射防止膜は、特定の無機物質と、常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層であり、撥水膜は、フッ素置換アルキル基含有有機珪素化合物を原料として形成される光学部材であり、審美性、密着性などの諸物性を満足し、耐擦傷性を向上させた光学部材である。【解決手段】

Description

本発明は、耐擦傷性を向上させた光学部材に関する。

従来、プラスチック成型品に耐擦傷性を付与する方法として、プラスチック基材表面に硬化膜を施すことが知られている。かかる硬化膜は、高屈折率化しているプラスチック基材との屈折率を合わせて審美性を高め、さらに、耐候性、耐湿性などの諸物性を向上させる提案がなされている。かかる提案の例として、特許文献１には、プラスチック基材と、硬化膜と、真空蒸着で形成された多層反射防止膜と、を有する光学部材が開示されている。かかる硬化膜のコーティング組成物の原料は、（A）金属スズと塩酸（無機酸）と過酸化水素との反応により得られた酸化第二スズのコロイド粒子と、酸化ジルコニウムのコロイド粒子とが、これらの酸化物の重量に基づいてＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の比率に結合した構造と４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を核として、その表面が０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と、０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比と２〜７ｎｍの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆されることによって形成される粒子径４．５〜６０ｎｍの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と、有機珪素化合物を含有している。反射防止膜は、真空蒸着法により二酸化珪素層、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化イットリウムの混合層を積層して形成されている。

ところで、膜の耐擦傷性を評価する方法として、スチールウールテストが用いられてきた。しかし、スチールウールテストは、数値で評価するものでないため、耐擦傷性を評価する方法として、近年、ベイヤ−（Bayer）試験が採用され始めている。特許文献１に開示されている光学部材についても、ベイヤ−（Bayer）試験で評価した場合において、更なる耐擦傷性の向上が望まれていた。

特開２０００−２８４１０１号公報

本発明は、かかる課題を解決するためになされたもので、その目的は、審美性、密着性などの諸物性を満足し、耐擦傷性を向上させた光学部材を提供することにある。

かかる課題は、以下の手段により解決された。その手段は、プラスチック基材、硬化膜、真空蒸着で形成された多層反射防止膜、及び該反射防止膜上に施される撥水膜をこの順に有する光学部材であって、硬化膜は、（A）金属スズと有機酸と過酸化水素との反応により得られた酸化第二スズのコロイド粒子と、酸化ジルコニウムのコロイド粒子とが、これらの酸化物の重量に基づいてＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の比率に結合した構造と４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を核として、その表面が０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と、０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比と２〜７ｎｍの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆されることによって製造される粒子径４．５〜６０ｎｍの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子、と（B）有機珪素化合物を含むコーティング組成物を原料とし、多層反射防止膜は、反射防止膜中の少なくとも1層が、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム及び酸化ニオブから選ばれる少なくとも1種の無機物質と、常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物とを蒸着原料として、形成されるハイブリッド層であり、撥水膜は、フッ素置換アルキル基含有有機珪素化合物を原料として形成される層より構成される光学部材である。

本発明によれば、密着性、透明性等の物性を損なわずに、耐擦傷性が顕著に向上する光学部材を提供することができる。

本発明における成膜装置を示す概略図である。

符合の説明

１：光学式膜厚モニター
２：基板
３：基板保持用ドーム
４：有機物質導入口Ａ
５：有機物質導入口Ｂ
６：蒸発源
７：ＲＦ型イオン銃
８：イオン化ガス導入口
９：排気系への接続部
１０：外部モノマー加熱（気化）装置への接続部

以下、本発明に関し、詳述する。
1.プラスチック基材について
本発明で使用できるプラスチック基材に関しては、特に限定されない。プラスチック基材の素材としては、例えばメチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと１種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと１種以上の他のモノマーとをモノマー成分とする共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタンなどを挙げることができる。
これらの中で、得られる硬化膜の屈折率、審美性（光学部材に関し、干渉縞が見られない特性）などの観点から、ポリイソシアネート化合物と、ポリチオール化合物とを原料とするポリチオウレタン系樹脂が好ましく、これらの素材を用いることで、屈折率1.58〜1.62程度のプラスチック基材を得ることができる。

2.硬化膜を形成するコーティング組成物について
（1）変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子について
変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子の組成は、前述の特許文献１によって知られている。本発明では、特許文献１に開示される変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子とは、異なる製法を用いて調製した複合体コロイド粒子を用いたものであり、核とする酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子において、金属スズと有機酸と過酸化水素との反応により得られた酸化第二スズコロイド粒子を使用し、さらに、他のコーティング組成物成分との組み合わせによる組成物を原料として硬化膜を得、これに特定の反射防止膜、及び撥水膜を施すことにより本発明の目的を達成しうる光学部材を得るものである。

変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子の製造方法としては、例えば下記（ａ）工程、（ｂ）工程、（ｃ）工程、（ｄ）工程、（ｅ）工程及び（ｆ）工程からなる製造方法が好ましい。
（ａ）工程：有機酸水溶液中において、過酸化水素水と金属スズをＨ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜４の範囲を保ち、酸化スズ濃度が４０重量％以下になるように反応させ、粒子径が４〜５０ｎｍの酸化第二スズのコロイド粒子を生成する工程、
（ｂ）工程：（ａ）工程で得た４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズのコロイド粒子をその酸化物ＳｎＯ₂として０．５〜５０重量％の濃度に含有する酸化第二スズ水性ゾルと、ＺｒＯ₂として０．５〜５０重量％濃度のオキシジルコニウム塩の水溶液とを、これらに基づくＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の重量比に混合する工程、
（ｃ）工程：（ｂ）工程によって得られた混合液を６０〜２００℃で、０．１〜５０時間加熱処理することにより、４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを生成させる工程、
（ｄ）工程：タングステン酸塩、スズ酸塩及び珪酸塩をＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００の比率に含有する水溶液を調製し、その水溶液中に存在する陽イオンを除去して得られる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルを生成させる工程、
（ｅ）工程：（ｃ）工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを、それに含まれるＺｒＯ₂とＳｎＯ₂の合計として１００重量部と、（ｄ）工程で得られた２〜７ｎｍの粒子径と０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルを、これに含まれるＷＯ₃とＳｎＯ₂とＳｉＯ₂の合計として２〜１００重量部の比率に０〜１００℃で混合することにより変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを生成させる工程、及び
（ｆ）工程：（ｅ）工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを陰イオン交換体と接触させることにより、当該ゾル中に存在する陰イオンを除去する工程。

本発明の硬化膜を形成するコーティング組成物で使用されるゾルの製造に用いられる核粒子としての酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルは、上記（ａ）工程、（ｂ）工程及び（ｃ）工程からなる方法で製造する事ができる。
（ａ）工程に用いられる酸化第二スズのコロイド粒子は、有機酸水溶液中で過酸化水素水と金属スズをＨ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜４の範囲を保ち、酸化スズ濃度が４０重量％以下になるように反応させ生成させることにより、粒子径が４〜５０ｎｍの酸化第二スズのコロイド粒子から得ることができる。
この際、有機酸水溶液中に、過酸化水素水と金属スズをＨ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜４の範囲に保ちながら添加するものである。過酸化水素水と金属スズはそれらの全量を一度に有機酸水溶液中に添加することもできるが、数回に分け、交互に添加する方法が好ましい。過酸化水素水と金属スズの添加順序に定めはないが、Ｈ₂Ｏ₂／Ｓｎモル比が２〜４の範囲に保たれていることが肝要である。通常は、過酸化水素水と金属スズを添加して、その反応が終了するのを待って次の過酸化水素水と金属スズの添加に移る。１回の反応時間は添加量にもよるが、通常５〜１０分程度であり、次の過酸化水素水と金属スズの添加を行う。

（ａ）工程に用いられる有機酸と過酸化水素と金属スズの重量割合は、通常有機酸：過酸化水素：金属スズ＝０．２１〜０．５３：０．５７〜１．１５：１．０である。
有機酸水溶液としては、シュウ酸水溶液又はシュウ酸を主成分として含む有機酸水溶液が好ましいが、シュウ酸水溶液のみを用いることで特に好ましく製造することができる。シュウ酸を主成分として含む有機酸水溶液とは、全有機酸中で８０重量％以上のシュウ酸を含む有機酸の水溶液であり、残部はギ酸、酢酸等の有機酸を含有することができる。これらの有機酸水溶液は好ましくは濃度１〜３０重量％、さらに好ましくは４〜１０重量％の範囲で使用することができる。

酸化第二スズゾルの媒体は、水、親水性有機溶媒のいずれでもよいが、媒体が水である水性ゾルが好ましい。また、ゾルのｐＨとしては、ゾルを安定ならしめる値がよく、通常、０．２〜１１程度がよい。本発明の目的が達成される限り、酸化第二スズゾルには、任意の成分、例えば、ゾルの安定化のためのアルカリ性物質、酸性物質、オキシカルボン酸等が含まれていてもよい。用いられる酸化第二スズゾルの濃度としては、酸化第二スズとして０．５〜５０重量％程度であるが、この濃度は低い方がよく、好ましくは１〜３０重量％である。

酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルは、上記酸化第二スズゾルにオキシジルコニウム塩をＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂重量比が０．０２〜１．０になるように、通常０〜１００℃で０．５〜３時間混合する（ｂ）工程、次いでこれを６０〜２００℃、０．１〜５０時間加熱処理する（ｃ）工程により得ることができる。
用いるオキシジルコニウム塩としては、オキシ塩化ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム、オキシ硫酸ジルコニウム、オキシ酢酸ジルコニウムなどのオキシ有機酸ジルコニウム、オキシ炭酸ジルコニウム等がある。これらのオキシジルコニウム塩は固体又は水溶液として用いることができるが、ＺｒＯ₂として０．５〜５０重量％程度の水溶液として用いるのが好ましい。オキシ炭酸ジルコニルのように、水に不溶の塩も混合する酸化第二スズが酸性ゾルの場合は使用することが可能である。
酸化第二スズゾルは特にアミンなどの有機塩基で安定化されたアルカリ性のゾルを用いるのが好ましく、オキシジルコニウム塩との混合は通常０〜１００℃、好ましくは室温〜６０℃程度がよい。そしてこの混合は撹拌下で酸化第二スズゾルにオキシジルコニウム塩を加えても、オキシジルコニウム塩水溶液に酸化第二スズゾルを加えてもよいが、後者の方が好ましい。この混合は充分行われる必要があり、０．５〜３時間程度が好ましい。

本発明において、被覆ゾルとして用いられ、（ｄ）工程で得られる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルに含まれるＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂複合体コロイド粒子は、電子顕微鏡によって粒子径を観測することができ、その粒子径は２〜７ｎｍ、好ましくは２〜５ｎｍである。このゾルのコロイド粒子の分散媒としては、水、親水性有機溶媒及びこれらの混合物のいずれも可能である。このゾルは、ＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂をＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００の比率に含有する。このゾルに含まれるＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂の合計の濃度は、通常４０重量％以下、実用上好ましくは２重量％以上、好ましくは５〜３０重量％である。このゾルは、１〜９のｐＨを示し、無色透明乃至僅かにコロイド色を有する液である。そして、室温では３ケ月以上、６０℃でも１ケ月以上安定であり、このゾル中に沈降物が生成することがなく、また、このゾルが増粘したり、ゲル化を起すようなことはない。

（ｄ）工程で得られる酸化タングステン（ＷＯ₃）、酸化第二スズ（ＳｎＯ₂）及び二酸化珪素（ＳｉＯ₂）の複合体コロイド粒子を含有する安定な酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルの製造方法は、例えば、
（ｄ−１）工程：タングステン酸塩、スズ酸塩及び珪酸塩をＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００の比率に含有した水溶液を調製する工程、及び
（ｄ−２）工程：（ｄ−１）工程で得られた水溶液中に存在する陽イオンを除去する工程、を施すことにより製造することができる。

（ｄ−１）工程で用いられるタングステン酸塩、スズ酸塩および珪酸塩の例としては、アルカリ金属、アンモニウム、アミン等のタングステン酸塩、スズ酸塩および珪酸塩等が挙げられる。これらアルカリ金属、アンモニウム及びアミンの好ましい例としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、ＮＨ₄ ⁺、あるいはエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン等のアルキルアミン；ベンジルアミン等のアラルキルアミン；ピペリジン等の脂環式アミン；モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミンなどが挙げられる。特に、タングステン酸ナトリウム（Ｎａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ）、スズ酸ナトリウム（Ｎａ₂ＳｎＯ₃・３Ｈ₂Ｏ）及び珪酸ナトリウム（水ガラス）が好ましい。また、酸化タングステン、タングステン酸、スズ酸、珪酸等をアルカリ金属水酸化物の水溶液に溶解したものも使用することが出来る。また珪酸塩として活性珪酸にエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン等のアルキルアミンを添加して得られるアミンシリケートや第４級アンモニウムシリケートも使用する事ができる。

（ｄ−１）工程の水溶液の調製方法としては、タングステン酸塩、スズ酸塩、珪酸塩の各粉末を水に溶解させ水溶液を調製する方法や、タングステン酸塩水溶液、スズ酸塩水溶液、及び珪酸塩水溶液を混合して水溶液を調製する方法や、タングステン酸塩とスズ酸塩の粉末及び珪酸塩の水溶液を水に添加して水溶液を調製する方法等が挙げられる。
（ｄ）工程のゾルの製造に用いられるタングステン酸塩の水溶液は、ＷＯ₃として０．１〜１５重量％の濃度のものが好ましいが、これ以上の濃度でも使用可能である。
（ｄ）工程のゾルの製造に用いられるスズ酸塩の水溶液としては、ＳｎＯ₂濃度０．１〜３０重量％程度が好ましいが、これ以上の濃度でも使用可能である。
また、（ｄ）工程のゾルの製造に用いられる珪酸塩の水溶液としては、ＳｉＯ₂濃度０．１〜３０重量％程度が好ましいが、これ以上の濃度でも使用可能である。
（ｄ−１）工程での水溶液の調製は攪拌下に、室温〜１００℃程度、好ましくは、室温〜６０℃位で行うのがよい。混合すべき水溶液は、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比として０．１〜１００になるように用いるのが好ましい。

（ｄ−２）工程は（ｄ−１）工程で得られた水溶液中に存在する陽イオンを除去する工程である。脱陽イオン処理の方法としては水素型イオン交換体と接触させる方法や塩析により行うことができる。ここで用いられる水素型陽イオン交換体としては、通常用いられるものであり、例えば市販品の水素型陽イオン交換樹脂を用いることが出来る。

（ｄ−１）工程及び（ｄ−２）工程を経て得られた水性ゾルは、濃度が低いときには所望に応じ、この水性ゾルを通常の濃縮方法、例えば、蒸発法、限外濾過法等により、ゾルの濃度を高めることができる。特に、限外濾過法は好ましい。この濃縮においても、ゾルの温度は約１００℃以下、特に６０℃以下に保つことが好ましい。
（ｄ）工程の水性ゾルの水を親水性有機溶媒で置換することによりオルガノゾルと呼ばれる親水性有機溶媒ゾルが得られる。

（ｄ）工程で得られた酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルは、酸化第二スズと酸化タングステンと二酸化珪素が原子レベルで均一に複合（固溶）して得られた酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素からなる複合体粒子を含有する。従って、酸化タングステンゾル、酸化第二スズゾル及び二酸化珪素ゾルの３種のゾルを単に混合して得られるものではない。
酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素の複合体ゾルは、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素の複合体粒子が固溶体を形成している為に、溶媒置換によっても酸化タングステン粒子、酸化第二スズ粒子及び二酸化珪素粒子に分解する事はない。
酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素の複合体ゾルは、酸化タングステン−酸化第二スズの複合ゾルに比べ、基材に被覆して被膜を形成した際に、耐水性、耐湿性、及び耐候性が向上する。

（ｄ）工程で得られたゾル中のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比は、上述のように０．１〜１００であることが好ましい。該重量比が０．１未満では、不安定である場合があり、また、この重量比が１００を越えると、やはりゾルは安定性を示さない場合がある。高いｐＨの水性ゾルから上記オルガノゾルをつくる際に加えられるオキシカルボン酸も、ゾルの安定化に貢献するが、その添加量がゾル中のＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂の合計に対し３０重量％以上と多いと、このようなゾルを用いて得られる乾燥塗膜の耐水性が低下する原因となる。用いられるオキシカルボン酸の例としては、乳酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、リンゴ酸、グリコール等が挙げられる。また、アルカリ成分としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ等のアルカリ金属水酸化物、ＮＨ₄ ⁺、あるいはエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−プロピルアミン等のアルキルアミン；ベンジルアミン等のアラルキルアミン；ピペリジン等の脂環式アミン；モノエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン等が挙げられる。これらは２種以上を混合して含有することができる。また、上記の酸性成分と併用することもできる。ゾル中のアルカリ金属、アンモニウム、アミン、オキシカルボン酸等の量に対応して、そのゾルのｐＨが変わる。ゾルのｐＨが１未満ではゾルは不安定であり、ｐＨが９を越えると、酸化タングステン、酸化第二スズおよび二酸化珪素の複合体コロイド粒子が液中で溶解し易い。ゾル中のＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂の合計濃度が４０重量％を超えると、ゾルはやはり安定性に乏しい。この濃度が薄すぎると非実用的であり、工業製品として好ましい濃度は５〜３０重量％である。
濃縮法として限外濾過法を用いると、ゾル中に共存しているポリアニオン、極微小粒子等が水と一緒に限外濾過膜を通過するので、ゾルの不安定化の原因であるこれらポリアニオン、極微小粒子等をゾルから除去することができる。

（ｅ）工程は、（ｃ）工程で得られた酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾルを、それに含まれるＺｒＯ₂とＳｎＯ₂の合計として１００重量部と、（ｄ）工程で得られた２〜７ｎｍの粒子径と０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルを、これに含まれるＷＯ₃とＳｎＯ₂とＳｉＯ₂の合計として２〜１００重量部の比率に０〜１００℃で混合する工程である。
（ｅ）工程により、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルのコロイド粒子を酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルのコロイド粒子表面に結合させて、当該表面を上記酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆することにより、そのコロイド粒子を核としてその表面が酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体の性質を有するように変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を生成させることができ、そしてこの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子が液媒体に安定に分散したゾルとして得ることができる。

酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子によって変性されたこれらの酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルは、この酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルをその金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）として１００重量部と、上記酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルをこのゾルのＷＯ₃、ＳｎＯ₂及びＳｉＯ₂の合計として２〜１００重量部の比率に、好ましくは強撹拌下に混合する（ｅ）工程、次いでこの混合ゾルからゾル中の陰イオンを除去する工程（ｆ）工程により得られる。

上記（ｅ）工程の混合によって得られたゾル中の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子は、電子顕微鏡によって観察することができ、ほぼ４．５〜６０ｎｍの粒子径を有する。上記混合によって得られたゾルはｐＨがほぼ１〜９を有しているが、改質のために用いたオキシジルコニウム塩に由来するＣｌ^-、ＮＯ₂ ^-、ＣＨ₃ＣＯＯ^-などのアニオンを多く含有しているために、コロイド粒子はミクロ凝集を起こしており、ゾルの透明性が低くなっている。
上記混合によって得られたゾル中のアニオンを（ｆ）工程の陰イオンを除去することにより、透明性の良い、安定な変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾルを得ることができる。

（ｆ）工程の陰イオン除去は上記混合によって得られたゾルを水酸基型陰イオン交換樹脂で、通常１００℃以下、好ましくは室温〜６０℃位の温度で処理することにより得られる。水酸基型陰イオン交換樹脂は市販品を用いることができるが、アンバーライトＩＲＡ−４１０のような強塩基型のものが好ましい。
（ｆ）工程の水酸基型陰イオン交換樹脂による処理は（ｅ）工程での混合によって得られたゾルの金属酸化物濃度が１〜１０重量％で行うのが特に好ましい。

（ａ）〜（ｆ）工程により得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの濃度を更に高めたいときには、最大約５０重量％まで常法、例えば蒸発法、限外濾過法等により濃縮することができる。またこのゾルのｐＨを調整したい時には、濃縮後に、前記アルカリ金属、アンモニウム等の水酸化物、前記アミン、オキシカルボン酸等をゾルに加えることによって行うことができる。特に、上記金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の合計濃度が１０〜５０重量％であるゾルは実用的に好ましい。
（ｆ）工程より得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル中のコロイド粒子は、エチルシリケート、メチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のシラン化合物又はその加水分解物で、部分的に又は全面的に表面を被覆する事ができる。

上記混合によって得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルが水性ゾルであるときは、この水性ゾルの水媒体を親水性有機溶媒で置換することによりオルガノゾルが得られる。この置換は、蒸留法、限外濾過法等通常の方法により行うことができる。この親水性有機溶媒の例としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール；ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアセトアミド等の直鎖アミド類；Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の環状アミド類；エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール等のグリコール類等が挙げられる。
上記水と親水性有機溶媒との置換は、通常の方法、例えば、蒸留置換法、限外濾過法等によって容易に行うことができる。

本発明で用いる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子によって表面が被覆され、変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子はゾル中で負に帯電している。上記酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子は陽に帯電しており、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子は負に帯電している。従って、（ｅ）工程での混合によりこの陽に帯電している酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子の周りに負に帯電している酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子が電気的に引き寄せられ、そして陽帯電のコロイド粒子表面上に化学結合によって酸化タングステン−酸化第二スズ複合体のコロイド粒子が結合し、この陽帯電の粒子を核としてその表面を酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子が覆ってしまうことによって、変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子が生成したものと考えられる。

但し、核ゾルとしての粒子径４〜５０ｎｍの酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と、被覆ゾルとしての酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子とを混合するときに、核ゾルの金属酸化物（ＺｒＯ₂とＳｎＯ₂）１００重量部に対し、被覆ゾルの金属酸化物（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の合計量が２重量部より少ないと、安定なゾルが得られにくい。このことは、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子の量が不足するときには、この複合体のコロイド粒子による酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を核とするその表面の被覆が不充分となり、生成コロイド粒子の凝集が起こり易く、生成ゾルを不安定ならしめるものと考えられる。従って、混合すべき酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子の量は、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合コロイド粒子の全表面を覆う量より少なくてもよいが、安定な変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合コロイド粒子のゾルを生成せしめるに必要な最小量以上の量である。この表面被覆に用いられる量を越える量の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子が上記混合に用いられたときには、得られたゾルは、酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子のゾルと、生じた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合コロイド粒子のゾルの安定な混合ゾルに過ぎない。
好ましくは、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合コロイド粒子をその表面被覆によって変性するには、用いられる酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子の量は、核ゾルの金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）１００重量部に対し、被覆ゾル中の金属酸化物（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の合計として１００重量部以下がよい。

本発明で使用される変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体の好ましい水性ゾルは、ｐＨ３〜１１程度を有することが好ましい。ｐＨが３より低いとそのようなゾルは不安定となり易く、また、このｐＨが１１を越えると、変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を覆っている酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体が液中に溶解し易い。更に変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子のゾル中の上記金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の合計濃度が６０重量％を越えるときにも、このようなゾルは不安定となり易い。工業製品として好ましい濃度は１０〜５０重量％程度である。
酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド粒子は高温で加水分解を受け易いことから、（ｅ）工程の混合、（ｆ）工程の陰イオン交換および（ｆ）工程後の濃縮、ｐＨ調整、溶媒置換等の際には１００℃以下が好ましい。

（２）有機珪素化合物について
本発明にかかる硬化膜を得るためのコーティング組成物においては、（Ｂ）成分として有機珪素化合物が用いられる。この有機珪素化合物としては、例えば一般式（Ｉ）
Ｒ¹¹ _kＳｉ（ＯＲ¹²）_4-k …（Ｉ）
（式中、Ｒ¹¹は官能基を有する若しくは有しない一価の炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｒ¹²は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のアシル基、kは０、１または２を示し、Ｒ¹¹が複数ある場合、複数のＲ¹¹はたがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＯＲ¹²はたがいに同一でも異なっていてもよい。）で表される化合物、一般式（II）

（式中、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ同一または異なる炭素数１〜４のアルキル基または炭素数２〜４のアシル基、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、それぞれ同一または異なる一価の炭素数１〜５の官能基を有する若しくは有しない炭化水素基、Ｙは炭素数２〜２０の二価の炭化水素基、ａおよびｂは、それぞれ０または１を示し、複数のＲ¹³Ｏは、たがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＯＲ¹⁴はたがいに同一でも異なっていてもよい。）で表される化合物およびそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。

前記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹¹で示される炭素数１〜２０の一価の炭化水素基としては、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、炭素数２〜２０の直鎖状、分岐状、環状のアルケニル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を挙げることができる。ここで、炭素数１〜２０のアルキル基としては、炭素数１〜１０のものが好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。また、炭素数２〜２０のアルケニル基としては、炭素数２〜１０のアルケニル基が好ましく、例えばビニル基、アリル基、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基などが挙げられる。炭素数６〜２０のアリール基としては、炭素数６〜１０のものが好ましく、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などが挙げられる。炭素数７〜２０のアラルキル基としては、炭素数７〜１０のものが好ましく、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基などが挙げられる。

これらの炭化水素基には官能基が導入されていてもよく、該官能基としては、例えばハロゲン原子、グリシドキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、シアノ基、（メタ）アクリロイルオキシ基などが挙げられる。これらの官能基を有する炭化水素基としては、該官能基を有する炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、例えばγ−クロロプロピル基、３，３，３−トリクロロプロピル基、クロロメチル基、グリシドキシメチル基、α−グリシドキシエチル基、β−グリシドキシエチル基、α−グリシドキシプロピル基、β−グリシドキシプロピル基、γ−グリシドキシプロピル基、α−グリシドキシブチル基、β−グリシドキシブチル基、γ−グリシドキシブチル基、δ−グリシドキシブチル基、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル基、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピル基、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチル基、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピル基、γ−アミノプロピル基、γ−メルカプトプロピル基、β−シアノエチル基、γ−メタクリロイルオキシプロピル基、γ−アクリロイルオキシプロピル基などが挙げられる。

一方、Ｒ¹²のうちの炭素数１〜８のアルキル基は直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、その例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、アリール基としては、例えばフェニル基、トリル基などが挙げられ、アラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。また、アシル基としては、例えばアセチル基などが挙げられる。
ｎは０、１または２であり、Ｒ¹¹が複数ある場合、複数のＲ¹¹はたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよく、また、複数のＯＲ¹²はたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよい。

前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例としては、メチルシリケート、エチルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｓｅｃ−ブチルシリケート、ｔｅｒｔ−ブチルシリケート、テトラアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリアミロキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、メチルトリベンジルオキシシラン、メチルトリフェネチルオキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリフェノキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシン、３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシランなどが挙げられる。

一方、前記一般式（II）において、Ｒ¹³およびＲ¹⁴のうちの炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ、炭素数２〜４のアシル基としては、アセチル基が好ましく挙げられる。このＲ¹³およびＲ¹⁴はたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶で示される一価の炭素数１〜５の炭化水素基としては、炭素数１〜５のアルキル基および炭素数２〜５のアルケニル基が挙げられる。これらは直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基などが挙げられ、アルケニル基としては、例えばビニル基、アリル基、ブテニル基などが挙げられる。

これらの炭化水素基には官能基が導入されていてもよく、該官能基および官能基を有する炭化水素基としては、前記一般式（Ｉ）のＲ¹¹の説明で例示したものと同じものを挙げることができる。このＲ¹⁵およびＲ¹⁶はたがいに同一であってもよいし、異なっていてもよい。Ｙで示される炭素数２〜２０の二価の炭化水素基としては、炭素数２〜１０のアルキレン基およびアルキリデン基が好ましく、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、エチリデン基、プロピリデン基などが挙げられる。
ａおよびｂは、それぞれ０または１を示し、複数のＲ¹³Ｏは、たがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＯＲ¹⁴はたがいに同一でも異なっていてもよい。

前記一般式（II）で表される化合物の例としては、メチレンビス（メチルジメトキシシラン）、エチレンビス（エチルジメトキシシラン）、プロピレンビス（エチルジエトキシシラン）、ブチレンビス（メチルジエトキシシラン）などが挙げられる。

本発明にかかる硬化膜を得るためのコーティング組成物においては、（Ｂ）成分の有機珪素化合物として、一般式（Ｉ）、（II）で表される化合物およびその加水分解物の中から適宜１種選択して用いてもよいし、２種以上を選択し、組み合わせて用いてもよい。また、加水分解物は、一般式（Ｉ）、（II）で表される有機珪素化合物に、水酸化ナトリウムやアンモニアの水溶液などの塩基性水溶液、酢酸水溶液やクエン酸水溶液などの酸性水溶液を添加し、攪拌することにより調製することができる。

本発明にかかる硬化膜を得るためのコーティング組成物における前記（Ａ）成分の変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子と（Ｂ）成分の有機珪素化合物の含有割合については、屈折率及び良好な透明性を得る観点から（Ｂ）成分１００重量部当たり、（Ａ）成分を、固形分として１〜５００重量部の割合で含有するのが好ましい。

（３）コロイド粒子と有機珪素化合物を含有したコーティング組成物について
本発明にかかる硬化膜を得るためのコーティング組成物には、所望により、反応を促進するために硬化剤を、種々の基材となるレンズとの屈折率をあわせるために微粒子金属酸化物を、また塗布時における濡れ性を向上させ、硬化膜の平滑性を向上させる目的で各種の有機溶剤や界面活性剤を含有させることもできる。さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤等も硬化膜の物性に影響を与えない限り添加することも可能である。

前記硬化剤の例としては、アリルアミン、エチルアミンなどのアミン類、またルイス酸やルイス塩基を含む各種酸や塩基、例えば有機カルボン酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、過塩素酸、臭素酸、亜セレン酸、チオ硫酸、オルトケイ酸、チオシアン酸、亜硝酸、アルミン酸、炭酸などを有する塩または金属塩、さらにアルミニウム、ジルコニウム、チタニウムを有する金属アルコキシドまたはこれらの金属キレート化合物などが挙げられる。特に好ましい硬化剤は耐擦傷性の観点から、アセチルアセトネート金属塩である。アセチルアセトネート金属塩としては、Ｍ¹(ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃ )n1（ＯＲ¹⁷ ）n2（式中、Ｍ¹はＺｎ(II)、Ｔｉ(IV)、Ｃｏ(II)、Ｆｅ(II)、Ｃｒ(III) 、Ｍｎ(II)、Ｖ(III) 、Ｖ(IV)、Ｃａ(II)、Ｃｏ(III) 、Ｃｕ(II)、Ｍｇ(II)、Ｎｉ(II)、Ｒ¹⁷は炭素数１〜８の炭化水素基、ｎ1 ＋ｎ2 はＭ¹の価数に相当する数字で２，３または４であり、ｎ2 は０，１または２である。）で表わされる金属錯体化合物が挙げられる。Ｒ¹⁷としては、前記一般式（Ｉ）において例示した炭素数１〜１０の炭化水素基のうち炭素数１〜８のものを挙げることができる。

また、前記微粒子状金属酸化物としては、従来公知のもの、例えば酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化珪素、酸化セリウム、酸化鉄などの微粒子が挙げられる。

コーティング組成物の硬化は、通常熱風乾燥または活性エネルギー線照射によって行われ、硬化条件としては、７０〜２００℃の熱風中にて行うのがよく、特に好ましくは９０〜１５０℃が望ましい。なお活性エネルギー線としては遠赤外線などがあり、熱による損傷を低く抑えることができる。

上述のコーティング組成物を用い、その硬化被膜を基材上に形成する方法としては、上述したコーティング組成物を基材に塗布する方法が挙げられる。塗布手段としてはディッピング法、スピンコーティング法、スプレー法など通常行われる方法が適用できるが、面精度の面からディッピング法、スピンコーティング法が特に望ましい。
さらに上述したコーティング組成物を基材に塗布する前に、基材に酸、アルカリ、各種有機溶剤による化学的処理、プラズマ、紫外線などによる物理的処理、各種洗剤を用いる洗剤処理、サンドブラスト処理、更には各種樹脂を用いたプライマー処理を施すことによって、基材と硬化膜との密着性などを向上させることができる。

3.反射防止膜について
本発明で使用する反射防止膜は、真空蒸着法で形成される。また、良好な膜強度及び密着性を得るためイオンアシスト法で形成されることが好ましい。該反射防止膜のハイブリッド層以外の膜構成層は特に限定されないが、良好な反射防止効果等の物性を得るため、低屈折率層としてＳｉＯ₂層、又はＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃との混合層、高屈折率層としてＮｂ₂Ｏ₅層、又はＴｉＯ₂層を有することが好ましい。本発明における、ハイブリッド層に使用される無機物質としては、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム及び酸化ニオブから選ばれる少なくとも1種であり、二酸化珪素を含有することが好ましい。これらは単独でもまた複数のものを使用してもよい。複数の無機物質を用いる場合は、それらを物理的に混合してもよいし、また複合酸化物であってもよく、具体的にはＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃等がある。

本発明における、ハイブリッド層に使用される有機物質としては、膜厚の制御、蒸着速度の制御の観点から、常温、常圧下で、液体状態にある有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物が用いられる。
前記有機珪素化合物としては、例えば、以下の一般式（ａ）〜（ｄ）のいずれかで表される構造を有することが好ましい。

一般式（ａ）：シランまたはシロキサン化合物

一般式（ｂ）：シラザン化合物

一般式（ｃ）：シクロシロキサン化合物

一般式（ｄ）：シクロシラザン化合物

一般式（ａ）〜（ｄ）において、式中のｍ、ｎは、それぞれ独立に０以上の整数を表す。また、X₁〜X₈はそれぞれ独立に水素、炭素数1〜6の炭化水素基（飽和・不飽和双方を含む）、−OR¹基、−CH₂OR²基、−COOR³基、−OCOR⁴基、−SR⁵基、−CH₂SR⁶基、−NR⁷ ₂基、または、−CH₂NR⁸ ₂基(R¹〜R⁸は水素または炭素数1〜6の炭化水素基（炭素原子間の結合において飽和・不飽和双方を含む）を表す。またX₁〜X₈は上記の任意の官能基であればよく、すべて同じ官能基でもよいし、一部またはすべてがそれぞれ異なるものでもよく限定されない。
前記R¹〜R⁸で示される炭素数１〜６の炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、フェニル基、シクロヘキシル基、プロピニル基、イソプロペニル基等が挙げられる。

一般式（a）で表せる具体的な化合物としては、トリメチルシラノール、ジエチルシラン、ジメチルエトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、メルカプトメチルトリメチルシラン、アミノメチルトリメチルシラン、ジメチルジメチルアミノシラン、エチニルトリメチルシラン、ジアセトキシメチルシラン、アリルジメチルシラン、トリメチルビニルシラン、メトキシジメチルビニルシラン、アセトキシトリメチルシラン、トリメトキシビニルシラン、ジエチルメチルシラン、エチルトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、ジエトキシメチルシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルアミノトリメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルシラン、フェニルシラン、ジメチルジビニルシラン、2-プロピニロキシトリメチルシラン、ジメチルエトキシエチニルシラン、ジアセトキシジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、アリロキシトリメチルシラン、エトキシジメチルビニルシラン、イソプロペノキシトリメチルシラン、アリルアミノトリメチルシラン、トリメチルプロピルシラン、トリメチルイソプロピルシラン、トリエチルシラン、ジエチルジメチルシラン、ブチルジメチルシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルイソプロポキシシラン、トリエチルシラノール、ジエトキシジメチルシラン、プロピルトリメトキシシラン、ジエチルアミノジメチルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、トリ（ジメチルアミノ）シラン、メチルフェニルシラン、メチルトリビニルシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、メチルトリアセトキシシラン、アリロキシジメチルビニルシラン、ジエチルメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルビニルシラン、ブチルジメチルヒドロキシメチルシラン、1-メチルプロポキシトリメチルシラン、イソブトキシトリメチルシラン、ブトキシトリメチルシラン、ブチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソプロピルアミノメチルトリメチルシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、メチルトリ（ジメチルアミノ）シラン、ジメチルフェニルシラン、テトラビニルシラン、トリアセトキシビニルシラン、テトラアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ジアリルジメチルシラン、1,1-ジメチルプロピニロキシトリメチルシラン、ジエトキシジビニルシラン、ブチルジメチルビニルシラン、ジメチルイソブトキシビニルシラン、アセトキシトリエチルシラン、トリエトキシビニルシラン、テトラエチルシラン、ジメチルジプロピルシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジメチルジプロポキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルフェニルビニルシラン、フェニルトリメチルシラン、ジメチルヒドロキシメチルフェニルシラン、フェノキシトリメチルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、フェニルトリメトキシシラン、アニリノトリメチルシラン、1-シクロヘキセニロキシトリメチルシラン、シクロヘキシロキシトリメチルシラン、ジメチルイソペンチロキシビニルシラン、アリルトリエトキシシラン、トリプロピルシラン、ブチルジメチル-3-ヒドロキシプロピルシラン、ヘキシロキシトリメチルシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ジメチルフェニルビニルシラン、トリメチルシリルベンゾネート、ジメチルエトキシフェニルシラン、メチルトリイソプロペノキシシラン、メトキシトリプロピルシラン、ジブトキシジメチルシラン、メチルトリプロポキシシラン、ビス（ブチルアミノ）ジメチルシラン、ジビニルメチルフェニルシラン、ジアセトキシメチルフェニルシラン、ジエチルメチルフェニルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、2-エチルヘキシロキシトリメチルシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ジフェニルシラン、フェニルトリビニルシラン、トリエチルフェニルシラン、フェニルトリエトキシシラン、テトラアリロキシシラン、フェニルトリ（ジメチルアミノ）シラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、ジフェニルメチルシラン、ジアリルメチルフェニルシラン、ジメチルジフェニルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジフェニルエトキシメチルシラン、トリペンチロキシシラン、ジフェニルジビニルシラン、ジアセトキシジフェニルシラン、ジエチルジフェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジフェニルシラン、テトラブチルシラン、テトラブトキシシラン、トリフェニルシラン、ジアリルジフェニルシラン、トリヘキシルシラン、トリフェノキシビニルシラン、1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、ペンタメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、1,3-ジメトキシテトラメチルジシロキサン、1,3-ジエチニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、1,3-ジエトキシテトラメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、1,3-ジブチル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンなどの化合物が挙げられる。

一般式（ｂ）で表される具体的な化合物としては、ヘキサメチルジシラザン、1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、1,1,3,3-テトラメチルジシラザン、などの化合物が挙げられる。
一般式（ｃ）で表される具体的な化合物としてはヘキサメチルシクロトリシロキサン、1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなどの化合物が挙げられる。
一般式（ｄ）で表される具体的な化合物としては1,1,3,3,5,5,7,7-オクタメチルシクロテトラシラザンなどの化合物が挙げられる。

これらの有機珪素化合物の数平均分子量は、ハイブリッド膜中の有機成分の制御、膜自体の強度の点から、好ましくは、48〜600、特に好ましくは、140〜500である。

次に、前記ハイブリッド層を構成する珪素非含有有機化合物としては、その側鎖または末端に反応性基を含有する炭素及び水素を必須成分とするもの、または二重結合を含むものが好ましく、具体的には一般式（e）〜(g)で表される化合物が好ましく用いられる。

一般式（e）：片末端にエポキシ基を有する炭素及び水素を必須成分とする珪素非含有有機化合物

一般式（f）：両末端にエポキシ基を有する炭素及び水素を必須成分とする珪素非含有有機化合物

一般式（g）：二重結合を含む、炭素及び水素を必須成分とする珪素非含有有機化合物

（一般式（e）、（f）において、Ｒ⁹は水素、または酸素を含んでいてもよい炭素数1〜10の炭化水素基、Ｒ¹⁰は酸素を含んでいてもよい炭素数1〜7の二価の炭化水素基を示し、一般式（g）において、Ｘ₉〜Ｘ₁₂はそれぞれ水素、炭素数1〜10の炭化水素基、または炭素数1〜10の炭素及び水素を必須成分とし、さらに酸素及び窒素の少なくとも一方を必須成分とする有機基を示す）

一般式（e）の化合物の具体例としては、メチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、p-sec-ブチルフェニルグリシジルエーテル、p-tert-ブチルフェニルグリシジルエーテル、2-メチルオクチルグリシジルエーテル、グリシドール、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。

一般式（ｆ）の化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。

一般式（ｇ）の化合物の具体例としては、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、フッ化ビニル、アクリルアミド、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、n-ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、メタクリル酸、グリシジルメタクリレート、酢酸ビニル、スチレンなどがあげられる。
また、前記一般式（e）〜(g)で表される化合物の数平均分子量は、ハイブリッド膜中の有機成分の制御及びハイブリッドの膜強度を考慮して、好ましくは、28〜400、特に好ましくは、140〜360である。

本発明の反射防止膜における常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物（以下「有機物質」ということがある）の成膜方法としては、図１に示すように、ハイブリッド層を形成する際に、無機物質、有機物質それぞれを別の蒸着源にて同時に蒸着して成膜するのが好ましい。具体的には、無機物質を電子銃等を用いて加熱することにより気化させ、有機物質を外部タンクに貯蔵し、該タンク内で該有機物質を気化させ、無機物質と有機物質を同時に蒸着させる方法が好ましい。
なお、蒸着速度の制御の観点から、有機物質を貯蔵する外部タンクを加熱・減圧して該有機物質をチャンバー内に供給し、酸素ガス及び／またはアルゴンガスを用いイオンアシスト成膜するのが好ましい。さらに、本発明では有機物質が常温・常圧で液体であり、溶媒を使用する必要がなく、直接加熱して蒸着することができる。また、有機物質の導入口は、図１に示すよう無機物質蒸発源真上に設けるのが対衝撃性、対摩耗性向上に効果的であり、反射防止膜における有機珪素化合物を下部より、珪素非含有有機化合物を上部より供給するのが好ましい。
外部タンクの加熱温度は、その有機物質の蒸発温度により異なるが、30〜200℃、好ましくは50〜150℃とすることが適当な蒸着速度を得るという点から好ましい。
本発明におけるハイブリッド層の有機物質の好ましい膜内含有率は、特に良好な物性改質効果が得られる点を考慮して、0.02質量％〜25質量％である。

本発明におけるプラスチック基材上に形成された多層反射防止膜の構成としては、膜構成の少なくとも１層にハイブリッド層を用いる。
ハイブリッド層は、多層反射防止膜中の任意の層に形成できる。また、前記ハイブリッド層は複数の層への形成も可能である。ハイブリッド層の好ましい位置としては、特に優れた耐衝撃性を得るために、レンズ基材から最も近い位置及び／またはレンズ基材から最も遠い位置に施すことが好ましい。また、特に優れた密着性を得るためイオンアシスト法で形成されていると好ましい。
イオンアシスト法において、出力に関し好ましい範囲は、特に、良好な反応を得るとの観点から、加速電圧50-700V 加速電流30-250mAである。前記イオンアシスト法を実施する際に使用されるイオン化ガスは、成膜中の反応性、酸化防止の点からアルゴン（Ａｒ）、又はアルゴンと酸素の混合ガスを用いるのが好ましい。

本発明における好ましい反射防止膜の好ましい膜厚及び屈折率の範囲は以下の通りである。なお、第1層は、プラスチック基材から最も近い層である。
第1層 0.005λ〜1.25λ 1.41〜1.50
第2層 0.005λ〜0.10λ 2.00〜2.35
第3層 0.005λ〜1.25λ 1.41〜1.50
第4層 0.05λ〜0.45λ 2.00〜2.35
第5層 0.005λ〜0.15λ 1.41〜1.50
第6層 0.05λ〜0.45λ 2.00〜2.35
第7層 0.2λ〜0.29λ 1.41〜1.50

さらに、耐擦傷性の観点から第1層から7層の好ましい組成は以下の通りである。
第１層：常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物と、二酸化珪素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
第2層：酸化タンタル層が第2層を基準にして、少なくとも50重量％含有している層
第３層：常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物と、二酸化珪素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
第4層：酸化タンタル層が第4層を基準にして、少なくとも50重量％含有している層
第5層：常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物と、二酸化珪素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
第6層：酸化タンタル層が第6層を基準にして、少なくとも50重量％含有している層
第7層：常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物と、二酸化珪素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層

4. 撥水膜について
撥水膜は、前記反射防止膜の最外層上に設けられ、フッ素置換アルキル基含有有機珪素化合物を原料として形成される。その原料及び形成方法は、欧州公開公報1351071号公報に記載されている方法が好ましい。その方法としては、溶媒で希釈したフッ素置換アルキル基含有有機珪素化合物を減圧下、該有機珪素化合物の蒸着開始温度以上から該有機珪素化合物の分解温度を超えない範囲で、加熱開始から蒸着を90秒以内、好ましくは10秒以内に完結させるものである。かかる蒸着時間を達成する方法としては、前記有機珪素化合物に電子ビームを照射する方法が好ましく用いられる。

フッ素置換アルキル基含有有機珪素化合物としては、下記一般式（ｈ）で表されるもの、又は下記単位式（ｉ）で表されるものが好ましい。

（式中、Rfは炭素数１〜１６の直鎖状のパーフルオロアルキル基、Ｘは水素または炭素数１〜５の低級アルキル基、Ｒ¹⁸は加水分解可能な基、tは１〜５０の整数、ｒは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数）
Ｃ_qＦ_2q+1ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＮＨ₂）₃ ・・・（ｉ）
（ただし、ｑは１以上の整数である）
ここで、上記Ｒ¹⁸で示される加水分解可能な基としてはアミノ基、アルコキシ基、特にアルキル部が炭素数１〜２であるアルコキシ基、塩素原子等が挙げられる。
また、上記式（ｉ）で表される化合物の具体例としては、ｎ−CF₃CH₂CH₂Si(NH₂)₃；ｎ−トリフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）プロピルシラザン、ｎ−C₃F₇CH₂CH₂Si(NH₂)₃；ｎ−ヘプタフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ペンチルシラザン、ｎ−C₄F₉CH₂CH₂Si(NH₂)₃；ｎ−ノナフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ヘキシルシラザン、ｎ−C₆F₁₃CH₂CH₂Si(NH₂)₃；ｎ−トリデオフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）オクチルシラザン、ｎ−C₈F₁₇CH₂CH₂Si(NH₂)₃；ｎ−ヘプタデカフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）デシルシラザン等を例示することができる。

また、撥水層の原料として、フッ素置換アルキル基含有有機珪素化合物と、珪素非含有のパーフルオロポリエーテルとの２成分を主成分とする原料を用いることもでき、さらにはこれらの原料からなる第１層を形成し、該第１層上に接して、珪素非含有のパーフルオロポリエーテルを主成分とする原料を用いて第２層を形成することにより、撥水層を形成することも好適である。

珪素非含有のパーフルオロポリエーテルは、珪素を含有しない以下の構造式（ｊ）
−（Ｒ¹⁹Ｏ）− ・・・（ｊ）
（式中、Ｒ¹⁹は炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基である）
で表される単位からなるものが好ましく用いられ、平均分子量が１０００〜１００００、特に２０００〜１００００のものが好ましい。Ｒは炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基であり、具体的にはＣＦ₂，ＣＦ₂−ＣＦ₂，ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂，ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂等の基が挙げられる。これらのパーフルオロポリエーテルは常温で液状であり、いわゆるフッ素オイルと称されるものである。

また、本発明の光学部材は、反射防止膜の下に、密着性を向上させるために、下地層として、後述するハイブリッド層形成の際に触媒作用のある金属、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、ニオブ（Ｎｂ）及びチタニウム（Ｔｉ）から選ばれる少なくとも１種類からなる層を施すことができる。特に好ましい下地層は、より良好な耐衝撃性を付与させるために、ニオブからなる金属層である。金属層を下地層として用いた場合、下地層の上に設けられるハイブリッド層の反応が進みやすくなり、分子内編み目構造を有する物質が得られ、耐衝撃性が向上する。

5.プライマー層について
本発明においては、特開昭63-141001号公報などに記載される、プラスチック基材と硬化膜との間に有機化合物よりなるプライマー層を施すことを否定するものでなく、更なる耐衝撃性向上のため、プラスチック基材と硬化被膜との間に、有機化合物を原料とするプライマー層を施してもよい。
このプライマー層の例としては、ポリイソシアネートとポリオールを原料として、ウレタン系の膜を形成するものが挙げられる。ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、4,4’-シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネートのそれぞれ数分子を種々の方法で結合させた付加物、イソシアヌレート、アロファネート、ビュウレット、カルボジイミドをアセト酢酸、マロン酸、メチルエチルケトオキシムなどでブロックしたものなどが挙げられ、一方、ポリオールとしては、水酸基を１分子内に複数個有するポリエステル、ポリエーテル、ポリカプロラクトン、ポリカーボネート、ポリアクリレートなどが挙げられる。また、プライマー層の屈折率向上のため、酸化チタン微粒子などの酸化金属微粒子をプライマー層に含有することができる。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、実施例及び比較例において得られた光学部材の物性評価は以下のようにして行った。
（1）視感透過率
プラスチックレンズの視感透過率Ｙ₁は、両面に反射防止膜を有するプラスチックレンズをサンプルとして、日立分光光度計Ｕ−３４１０を用い測定した。
（2）視感反射率
プラスチックレンズの視感反射率Ｙ₂は、両面に反射防止膜を有するプラスチックレンズをサンプルとして、日立分光光度計Ｕ−３４１０を用い測定した。
（3）密着性
プラスチックレンズの表面に剃刀にて１ｍｍ×１ｍｍの升目を１００個作成し、升目上にセロハンテープ（ニチバン社製造販売）を貼り、一気にテープをはがし、残った升目の数で評価した。表中、残った升目の数／１００で記載した。
（４）耐摩耗性
プラスチックレンズの表面にスチールウール（規格＃００００，日本スチールウール社製）にて９８ｋＰａ（１ｋｇｆ／ｃｍ²）の荷重をかけ、１０ストローク擦り、表面状態により以下の基準で評価した。
ＵＡ：殆ど傷なし
Ａ：細い傷数本あり
Ｂ：細い傷多数、太い傷数本あり
Ｃ：細い傷多数、太い傷多数あり
Ｄ：殆ど膜はげ状態
（５）耐熱性
プラスチックレンズをドライオーブンで６０℃から、５℃ずつ上昇させて１時間加熱処理し、クラックの発生温度を測定した。
（６）耐アルカリ性
プラスチックレンズをＮａＯＨ１０％水溶液に２０℃、１時間浸漬し、表面状態により以下の基準で評価した。
ＵＡ：殆ど変化なし
Ａ：点状の膜はげ数個あり
Ｂ：点状の膜はげが全面にあり
Ｃ：点状のはげが全面、面状のはげ数個あり
Ｄ：殆ど全面膜はげ
（７）Ｂａｙｅｒ値測定
摩耗試験機 BTE^TM Abrasion Tester（米COLTS社製）及び、ヘイズ値測定装置（村上色彩技術研究所）を使用し、基準レンズとのヘイズ値変化の差によりＢａｙｅｒ値を測定した。
（サンプル数、測定方法）
（ａ）基準レンズ（ＣＲ３９基材）３枚、サンプルレンズ３枚を用意した。
（ｂ）摩耗テスト前ヘイズ(haze)値の測定を行った。
（ｃ）BTE^TM Abrasion Testerにて、摩耗性テストを行った。
（砂による表面摩耗６００往復）
（ｄ）摩耗テスト後ヘイズ値を測定した。
（ｅ）Bayer値を算出した（３枚分の平均値とする）。ここでBayer値とは基準レンズの透過率変化／サンプルレンズの透過率変化で表されるものである。
（８）機械的強度試験(JIS静圧試験)
JIS（Japanese Industrial Standard）T 7331:2000の一般的要求事項に記載されている機械的強度を具備しているか、JIS T 7331:2000に記載されている方法で試験を行った。

製造例1
（1）変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子の製造
（ａ）工程
しゅう酸（（ＣＯＯＨ）₂・２Ｈ₂Ｏ）３７．５ｋｇを純水３６３ｋｇに溶解し、これを５００Ｌの容器にとり、攪拌下７０℃まで加温し、３５％過酸化水素水１５０ｋｇと金属スズ（山石金属社製、ＡＴ−ＳＮ、Ｎｏ２００Ｎ）７５ｋｇを添加した。
過酸化水素水と金属スズの添加は交互に行った。初めに３５％過酸化水素水１０ｋｇを次いで金属スズ５ｋｇを添加した。反応が終了するのを待って（５〜１０分）この操作を繰り返した。添加に要した時間は２．５時間で、添加終了後、３５％過酸化水素水１０ｋｇ更に添加し、９０℃で１時間加熱処理し、反応を終了させた。過酸化水素水と金属スズのモル比はＨ₂Ｏ₂／Ｓｎは２．６０であった。
得られた酸化スズゾルは非常に透明性が良好であった。この酸化スズゾルの収量は、６２６ｋｇで比重１．１５４、ｐＨ１．５６、ＳｎＯ₂濃度は１４．９％であった。また、得られたゾルを電子顕微鏡で観察したところ、１０〜１５ｎｍの球状の分散性の良い粒子であった。このゾルは放置によりやや増粘傾向を示したが、ゲル化は認められず安定であった。
得られたゾル６２６ｋｇを純水にてＳｎＯ₂として５重量％に希釈し、イソプロピルアミンを４．６６ｋｇ添加し、陰イオン交換樹脂（アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに通液、ついで９５℃で１ｈｒ加熱熟成、さらに陰イオン交換樹脂（Rohm&Haas社製、商品名：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに通液し、アルカリ性の酸化スズゾル２５３５ｋｇを得た。ついで、得られたゾルを１４０℃で５ｈｒ加熱処理した。

（ｂ）工程
オキシ塩化ジルコニウム水溶液（ＺｒＯ₂濃度は１７．６８重量％）を７８．２ｋｇ（ＺｒＯ₂として１３．８ｋｇ含有する。）に純水３００ｋｇおよび３５％塩酸３．３ｋｇを添加し、ついで撹拌下に、室温で、（ａ）工程で得られたアルカリ性の酸化第二スズ水性ゾル２５２９ｋｇ（ＳｎＯ₂として９１．０ｋｇ）を添加した。混合液はＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂重量比０．１５でコロイド色を有する透明性の良好なゾルであった。

（ｃ）工程
（ｂ）工程で調製した混合液を撹拌下に、９５℃で５時間加熱処理を行い、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル３４７１ｋｇを得た。このゾルはＳｎＯ₂として２．６２重量％、ＺｒＯ₂として０．４０重量％、ＳｎＯ₂＋ＺｒＯ₂として３．０１重量％でコロイド色を有するが、透明性は良好であった。

（ｄ）工程
３号珪そう（ＳｉＯ₂として２９．３重量％含有する。）４９．８ｋｇを純水８９８ｋｇに溶解し、ついでタングステン酸ナトリウムＮａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ（ＷＯ₃として６９．８重量％含有する）１０．５ｋｇおよびスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ₃・Ｈ₂Ｏ（ＳｎＯ₂として５５．７重量％含有する）１３．１ｋｇを溶解した。次いでこれを水素型陽イオン交換樹脂（Rohm&Haas社製、商品名：アンバーライトＩＲ−１２０Ｂ）のカラムに通すことにより酸性の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合ゾル（ｐＨ２．０、ＷＯ₃として０．６重量％、ＳｎＯ₂として０．６重量％、ＳｉＯ₂として１．２重量％を含有し、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比１．０、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比２．０であった。）１１７９ｋｇを得た。

（ｅ）工程
（ｄ）工程で調製した酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル１１７９ｋｇ（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂として２９．２ｋｇを含有する。）に撹拌下に、室温で（ｃ）工程で調製した酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル３４７１ｋｇ（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂として１０４．８ｋｇ含有する。）を６０分で添加し、１０分間撹拌を続行した。得られた混合液は酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の比は（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）／（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）重量比０．２５、全金属酸化物は２．９重量％であり、コロイド粒子のミクロ凝集による白濁傾向を示した。

（ｆ）工程
（ｅ）工程で得た混合液４６５０ｋｇにジイソブチルアミンを２．３ｋｇ添加し、水酸基型陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに室温で通液、次いで９０℃で１ｈｒ加熱熟成することにより変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合水性ゾル（希薄液）を得た。このゾルは、ｐＨ９．１０で、コロイド色は呈するが透明性は良好であった。

（ｆ）工程で得られた変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を、分画分子量１０万の限外濾過膜の濾過装置により４０〜５０℃で濃縮し、高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル３５８ｋｇを得た。このゾルは全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）３１．９重量％で、安定であった。
上記高濃度の変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合水性体ゾル３５８ｋｇに撹拌下に、室温で酒石酸１．１ｋｇ、ジイソブチルアミン１．７ｋｇ、消泡剤（サンノプコ社製、商品名：ＳＮディフォーマー４８３）１滴を加え、１時間撹拌した。このゾルを攪拌機付き反応容器で常圧下、メタノール５０１０リットルを添加しながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル２２０ｇを得た。このゾルは比重１．２８０、ｐＨ６．５９（水との等重量混合物）、粘度２．１ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）は４２．８重量％、水分０．４３重量％、電子顕微鏡観察による粒子径は１０〜１５ｎｍであった。
この水性ゾルを全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）濃度として、４６．８重量％まで濃縮したものを、１００ｃｃのメスシリンダーに入れ、Ｂ型粘度計のＮｏ．１ローターを用い６０ｒｐｍの回転数で測定した粘度は、６．３ｍＰａ・ｓであった。
このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で沈降物の生成、白濁、増粘などの異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は１．８５であった。

比較製造例１
変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの製造
＜酸化第二スズゾルの調製＞金属スズ粉末と塩酸水溶液と過酸化水素水溶液との反応により得られた比重１．４２０、ｐＨ０．４０、撹拌直後の粘度３２ｍＰａ・ｓ、ＳｎＯ₂含量３３．０重量％、ＨＣｌ含量２．５６重量％、電子顕微鏡による紡錘状コロイド粒子径１０ｎｍ以下、ＢＥＴ法による粒子の比表面積１２０ｍ²／ｇ、この比表面積からの換算粒子径７．２ｎｍ、米国コールター社製Ｎ4装置による動的光散乱法粒子径１０７ｎｍ、淡黄色透明の酸化第二スズ水性ゾル１２００ｇを水１０８００ｇに分散させた後、これにイソプロピルアミン４．８ｇを加え、次いで、この液を水酸基型陰イオン交換樹脂充填のカラムに通すことにより、アルカリ性の酸化第二スズ水性ゾル１３４４０ｇを得た。このゾルは、安定であり、コロイド色を呈しているが、透明性が非常に高く、比重１．０２９、ｐＨ９．８０、粘度１．４ｍＰａ・ｓ、ＳｎＯ₂含量２．９５重量％、イソプロピルアミン含量０．０３６重量％であった。

（ａ）工程
試薬のオキシ塩化ジルコニウム（ＺｒＯＣｌ₂・８Ｈ₂Ｏ）を水に溶解して調製したオキシ塩化ジルコニウム水溶液（ＺｒＯ₂として２．０重量％）３０４３ｇ（ＺｒＯ₂として６０．８７ｇ含有する。）に撹拌下に、室温で、上記調製したアルカリ性の酸化第二スズ水性ゾル１０７９１ｇ（ＳｎＯ₂として４０９．５ｇ）を添加し、二時間撹拌を続行した。混合液はＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂重量比０．１５、ｐＨ１．５０でコロイド色を有する透明性の良好なゾルであった。

（ｂ）工程(酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの作製)
（ａ）工程で調製した混合液を撹拌下に、９０℃で５時間加熱処理を行い、酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル１３８３４ｇを得た。このゾルはＳｎＯ₂として２．９６重量％、ＺｒＯ₂として０．４４重量％、ＳｎＯ₂＋ＺｒＯ₂として３．４０重量％、ｐＨ１．４５で、粒子径９．０ｎｍ、コロイド色を有するが、透明性は良好であった。

（ｃ）工程(酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾルの作製)
３号珪そう（ＳｉＯ₂として２９．０重量％含有する。）１１３ｇを水２３５３．７ｇに溶解し、次いでタングステン酸ナトリウムＮａ₂ＷＯ₄・２Ｈ₂Ｏ（ＷＯ₃として７１重量％含有する。）３３．３ｇおよびスズ酸ナトリウムＮａＳｎＯ₃・Ｈ₂Ｏ（ＳｎＯ₂として５５重量％含有する。）４２．４５ｇを溶解する。次いでこれを水素型陽イオン交換樹脂のカラムに通すことにより酸性の酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル（ｐＨ２．１、ＷＯ₃として０．７５重量％、ＳｎＯ₂として０．７５重量％、ＳｉＯ₂として１．００重量％を含有し、ＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比１．０、ＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比１．３３であり、粒子径２．５ｎｍであった。）３１５０ｇを得た。

（ｄ）工程
（ｃ）工程で調製した酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体ゾル３１５０ｇ（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂として７８．８３ｇを含有する。）に撹拌下に、室温で（ｂ）工程で調製した酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾル１１５９２．６ｇ（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂として３９４．１ｇ含有する。）を２０分で添加し、３０分間撹拌を続行した。得られた混合液は酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）と酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体コロイド（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）の比は（ＷＯ₃＋ＳｎＯ₂＋ＳｉＯ₂）／（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂）重量比０．２０、ｐＨ２．２６、全金属酸化物３．２重量％であり、コロイド粒子のミクロ凝集による白濁傾向を示した。

（ｅ）工程(変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体ゾルの作製)
（ｄ）工程で得た混合液１４７４２．６ｇにジイソブチルアミンを９．５ｇ添加し、次いで水酸基型陰イオン交換樹脂（前出：アンバーライトＩＲＡ−４１０）を充填したカラムに室温で通液、次いで８０℃で１時間加熱熟成することにより変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）１６２８８ｇを得た。このゾルは全金属酸化物２．９０重量％、ｐＨ１０．４３で、コロイド色は呈するが透明性は良好であった。

（ｅ）工程で得られた変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル（希薄液）を、分画分子量５万の限外濾過膜の濾過装置により室温で濃縮し、高濃度の変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル２１８２ｇを得た。このゾルはｐＨ８．７１、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）１８．３重量％で、安定であった。
上記高濃度の変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体水性ゾル２１８２ｇに撹拌下に、室温で酒石酸４．０ｇ、ジイソブチルアミン６．０ｇ、消泡剤（前出：ＳＮディフォーマー４８３）１滴を加え、１時間撹拌した。このゾルを攪拌機付き反応フラスコで常圧下、メタノール２０リットルを少しずつ加えながら水を留去することにより、水性ゾルの水をメタノールで置換した変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル１１７１ｇを得た。このゾルは比重１．１２４、ｐＨ７．４５（水との等重量混合物）、粘度２．３ｍＰａ・ｓ、全金属酸化物（ＺｒＯ₂＋ＳｎＯ₂＋ＷＯ₃＋ＳｉＯ₂）３２．７重量％、水分０．４７重量％、電子顕微鏡観察による粒子径は１０〜１５ｎｍであった。このゾルはコロイド色を呈し、透明性が高く、室温で３ケ月放置後も沈降物の生成、白濁、増粘などの異常は認められず安定であった。またこのゾルの乾燥物の屈折率は１．７６であった。

実施例１
（１）コーティング組成物の作製
５℃雰囲気下、製造例１で作製した（A）成分である変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾル４５重量部と（B）成分であるγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５重量部及びテトラエトキシシラン３重量部とを混合し、１時間攪拌した。その後、０.００１モル／Ｌ濃度の塩酸４．５重量部を添加し、５０時間攪拌した。その後、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）２５重量部、ダイアセトンアルコール（DAA）９重量部及び（C）成分であるアルミニウムトリスアセチルアセトネート（ＡＬ−ＡＡ）１．８重量部、過塩素酸アルミニウム０．０５重量部を順次添加し、１５０時間攪拌した。得られた溶液を０.５μｍのフィルターでろ過したものをコーティング組成物とした。

（２）硬化膜の形成
レンズ基材〔ＨＯＹＡ株式会社製，商品名：アイアス（ＥＹＡＳ、屈折率1.６０）（ポリチオウレタン系レンズ）〕を６０℃、１０重量％水酸化ナトリウム水溶液中に３００秒間浸漬し、その後、超音波２８ｋＨｚ印加の下、イオン交換水を用いて３００秒間洗浄した。最後に、７０℃雰囲気下、乾燥させる一連の工程を基材前処理とした。その後、前記コーティング液の中に浸漬させ、浸漬終了後、引き上げ速度２０ｃｍ／分で引き上げたプラスチックレンズを１２０℃で１〜２時間加熱処理して硬化膜（ハードコートＡ層）を形成した。

(３)イオン銃処理
硬化膜上に、表に記載したイオン加速電圧、照射時間、ガス雰囲気下の条件で、イオン銃にてイオン照射を行った。
(４)ハイブリッド膜を有する反射防止膜の形成
前記イオン照射したハードコート層の上に、第１表に示した条件で第１〜７層からなる反射防止膜を形成して、プラスチックレンズを得た。
なお、ハイブリッド層は、図１に示す装置を用いて、無機物質の蒸着と有機物質との蒸着との、二元蒸着として、ほぼ同時に蒸着するように条件を設定した。有機物質の蒸着の際は、外部加熱タンクにて気化し、気化した有機物を、ガスバルブ、マスフローコントローラを使用して、蒸着装置内に導入した。ハイブリッド層を形成する際には、アルゴンガス、酸素ガスとの混合ガスの雰囲気下にてイオンアシスト法を用いた。また、表中「−」と記載されているのは、イオンアシスト法を用いず、通常の真空蒸着法にて層を形成した。なお、表中、Ｍ1は無機酸化物、CM1は有機珪素化合物、CM2は珪素非含有有機化合物を表す。
なお、表中に記載されている有機化合物の詳細は次の通りである。
(a) エポライト 70P （プロピレングリコールジグリシジルエーテル、平均分子量約188、共栄社化学（株）製造）
(b) TM2（γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製造、商品名「KBM403」）とγ−アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製造、商品名「KBE903」）を１：１のモル比で混合したもの、混合物の構造は、（H₃CO）₃−Si−（CH₂）₃−O−CH₂−CH(OH)−CH₂−NH−(CH₂)₃−Si−(OC₂H₅)₃であり、分子量は約457である。）
(c) エピオールP200（ポリプロピレングリコールグリシジルエーテル、平均分子量約304、日本油脂（株）製造）
(d) デナコールEX920（ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、平均分子量354、長瀬ケムテックス（株）製造）
また、KY-130は防汚膜形成用の「フッ素置換アルキル基含有有機珪素化合物」（信越シリコーン（株）製造）である。

(５) 撥水膜の形成
フッ素置換アルキル基含有有機珪素化合物を含有したKY-130（信越シリコーン(株)製）を0.3mlしみ込ませたステンレス製焼結フィルター（メッシュ80〜100μｍ、18φ×3ｍｍ）を真空蒸着装置内にセットし、以下の条件で電子銃を用いて該焼結フィルター全体を加熱処理して、撥水膜を形成した。
（ａ）真空度：2.3×10^-6〜6.0×10^-6 Torr
（ｂ）電子銃の条件：加速電圧:6KV、印加電流：40mA、照射面積：3.5×3.5ｃｍ平方、蒸着時間：5秒
以上のようにして得た光学材料に関し、上述の物性評価を行った。結果を第２表に示す。

実施例2〜12
第１表に記載する条件で、反射防止膜を施した以外は、全て実施例1と同様にレンズを作製した。ただし、実施例5以降は、基材と硬化膜との間にプライマー層を施した。そのプライマー層の形成方法は次の通りである。
（プライマー層の形成）
ポリエステルタイプのポリオール（住友バイエルウレタン（株）社の商品名、デスモフェンＡ−６７０使用）６．６５重量部、ブロック型ポリイソシアネート（住友バイエルウレタン（株）社の商品名、ＢＬ−３１７５使用）６．０８重量部、硬化触媒としてジブチル錫ジラウレート０．１７重量部、レベリング剤としてフッ素系レベリング剤（住友スリーエム（株）社の商品名、フロラードＦＣ−４３０使用）０．１７重量部、および溶媒としてジアセトンアルコール９５．７１重量部からなる混合物を均一な状態になるまで充分攪拌して得た。かくして得られた液状のプライマーは、前処理としてのアルカリ処理された基体レンズ上に浸漬法（引き上げ速度：２４ｃｍ/分）にて塗布され、１００℃で４０分加熱して硬化され、厚さ２〜３μｍのプライマー層を形成した。
各実施例で得られた光学部材についての物性評価結果を第２表に記載する。
なお、実施例1〜12により得られたレンズは、干渉縞が発生しなかった。

比較例1
コーティング剤の調製回転子を備えた反応器に、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５重量部と、比較製造例１で得られた変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体メタノールゾル４９重量部を仕込み、４℃で３時間攪拌したのち、０．００１規定の塩酸３．５重量部を徐々に反応器中に滴下し、４℃で４８時間攪拌した。次に、これにプロピレングリコールモノメチルエーテル３０重量部およびシリコーン系界面活性剤０．０４重量部を添加混合し、４℃で３時間攪拌したのちアルミニウムアセチルアセトネート０．６０重量部および過塩素酸アルミニウム（アルドリッチ社製）０．０５重量部を添加混合した。４℃で３日間攪拌したのち、４℃で２日間静置することにより、コーティング剤を調製した。該コーティング剤を用いて、実施例１と同様にしてレンズ基材アイアスに硬化膜を形成した。さらに、実施例1と同様の反射防止膜を形成し、評価を行った。評価結果を表１に示す。Bayer値は3であった。

比較例2
比較例１において、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１５重量部の代わりに、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１５重量部を用いた以外は、比較例１と同様に実施した。評価結果を表１に示す。Bayer値は3であった。

本発明によれば、審美性、密着性などの諸物性を満足し、かつ、耐擦傷性を向上させた光学部材を得ることができ、かつ該光学部材を効率的に製造することができる。本発明の光学部材は眼鏡用レンズとして特に優れている。

Claims (11)

1. プラスチック基材、硬化膜、真空蒸着で形成される多層反射防止膜、及び該反射防止膜上に施される撥水膜をこの順に有する光学部材であって、硬化膜は、以下に記す(A)成分と(B)成分を含有するコーティング組成物を原料とし、多層反射防止膜は、反射防止膜中の少なくとも1層が、二酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム及び酸化ニオブから選ばれる少なくとも1種の無機物質と、常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層であり、かつ、撥水膜は、フッ素置換アルキル基含有有機珪素化合物を原料として形成される光学部材。
   （A）金属スズと有機酸と過酸化水素との反応により得られた酸化第二スズのコロイド粒子と、酸化ジルコニウムのコロイド粒子とが、これらの酸化物の重量に基づいてＺｒＯ₂／ＳｎＯ₂として０．０２〜１．０の比率に結合した構造と４〜５０ｎｍの粒子径を有する酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子を核として、その表面が０．１〜１００のＷＯ₃／ＳｎＯ₂重量比と、０．１〜１００のＳｉＯ₂／ＳｎＯ₂重量比、と２〜７ｎｍの粒子径を有する酸化タングステン−酸化第二スズ−二酸化珪素複合体のコロイド粒子で被覆されることによって形成される粒子径４．５〜６０ｎｍの変性された酸化第二スズ−酸化ジルコニウム複合体コロイド粒子
   （B）有機珪素化合物
2. 前記反射防止膜は、基材側から外気側に向って順に、以下の７層構成よりなる請求項1記載の光学部材。
   第１層：常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物と、二酸化珪素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
   第2層：酸化タンタルが第2層を基準にして、少なくとも50重量％含有している層
   第3層：常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物と、二酸化珪素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
   第4層：酸化タンタルが第４層を基準にして、少なくとも50重量％含有している層
   第5層：常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物と、二酸化珪素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
   第6層：酸化タンタルが第６層を基準にして、少なくとも50重量％含有している層
   第7層：常温、常圧下で液体である有機珪素化合物及び／又は常温、常圧下で液体である珪素非含有有機化合物と、二酸化珪素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
3. 前記ハイブリッド層は前記無機物質と前記有機珪素化合物及び／又は珪素非含有有機化合物をそれぞれ別の蒸着源にて同時に蒸着させることにより形成する請求項１又は２記載の光学部材。
4. 前記無機物質を、電子銃を用いて加熱することにより気化させ、前記有機珪素化合物及び／又は珪素非含有有機化合物をタンクに貯蔵し、該タンク内で該有機珪素化合物及び／又は珪素非含有有機化合物を加熱することにより気化させ、該無機物質と該有機珪素化合物及び／又は珪素非含有有機化合物を同時に蒸着させる請求項３記載の光学部材。
5. 前記有機珪素化合物の数平均分子量が、48〜600である請求項１〜４項のいずれか１記載の光学部材。
6. 前記珪素非含有有機化合物の数平均分子量が、28〜400である請求項１〜５項のいずれか１項記載の光学部材。
7. 前記有機珪素化合物が以下の一般式（ａ）〜（ｄ）のいずれかで表される構造を有する請求項１〜6項のいずれか１項記載の光学部材。
   一般式（ａ）：シランまたはシロキサン化合物
   

   

   一般式（ｂ）：シラザン化合物
   

   

   一般式（ｃ）：シクロシロキサン化合物
   

   

   一般式（ｄ）：シクロシラザン化合物
   

   

   （一般式（ａ）〜（ｄ）において、式中のｍ、ｎは、それぞれ独立に０以上の整数を表す。また、X₁〜X₈はそれぞれ独立に、水素、炭素数1〜6の炭化水素基（飽和・不飽和双方を含む）、−OR¹基、−CH₂OR²基、−COOR³基、−OCOR⁴基、−SR⁵基、−CH₂SR⁶基、−NR⁷ ₂基、または、−CH₂NR⁸ ₂基(R¹〜R⁸は水素または炭素数1〜6の炭化水素基（炭素原子間の結合において飽和・不飽和双方を含む）)
8. 前記珪素非含有有機化合物が、以下の一般式（e）〜（g）のいずれかで表される構造を有する請求項１〜7項のいずれか１項に記載の光学部材。
   一般式（e）：片末端にエポキシ基を有する炭素及び水素を必須成分とする珪素非含有有機化合物
   

   

   一般式（f）：両末端にエポキシ基を有する炭素及び水素を必須成分とする珪素非含有有機化合物
   

   

   一般式（g）：不飽和結合を含む、炭素及び水素を必須成分とする珪素非含有有機化合物
   

   

   （一般式（e）、（f）において、Ｒ⁹は水素、または酸素を含んでいてもよい炭素数1〜10の炭化水素基、Ｒ¹⁰は炭素数1〜7の酸素を含んでいてもよい二価の炭化水素基を示し、一般式（g）において、Ｘ₉〜Ｘ₁₂はそれぞれ水素、炭素数1〜10の炭化水素基、または炭素数1〜10の炭素及び水素を必須成分とし、さらに酸素及び窒素の少なくとも一方を必須成分とする有機基を示す）
9. 前記ハイブリッド層の有機珪素化合物及び／又は珪素非含有有機化合物の膜内含有率が、0.02質量％〜25質量％である請求項1〜8項のいずれか１項に記載の光学部材。
10. 有機珪素化合物は、一般式（Ｉ）
    Ｒ¹¹ _kＳｉ（ＯＲ¹²）_4-k …（Ｉ）
    （式中、Ｒ¹¹は官能基を有する若しくは有しない一価の炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｒ¹²は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のアシル基、kは０、１または２を示し、Ｒ¹¹が複数ある場合、複数のＲ¹¹はたがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＯＲ¹²はたがいに同一でも異なっていてもよい。）で表される化合物、及び一般式（II）
    

    

    （式中、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ同一または異なる炭素数１〜４のアルキル基または炭素数２〜４のアシル基、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、それぞれ同一または異なる一価の炭素数１〜５の官能基を有する若しくは有しない炭化水素基、Ｙは炭素数２〜２０の二価の炭化水素基、ａおよびｂは、それぞれ０または１を示し、複数のＲ¹³Ｏは、たがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のＯＲ¹⁴はたがいに同一でも異なっていてもよい。）で表される化合物およびそれらの加水分解物の中から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜9項のいずれか1項記載の光学部材。
11. プラスチック基材は、屈折率1.58〜1.62のポリチオウレタン系樹脂である請求項1〜10項のいずれか1項記載の光学部材。
    
    

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