JPS639187A - エキシマレ−ザの出力制御装置 - Google Patents
エキシマレ−ザの出力制御装置Info
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- JPS639187A JPS639187A JP15304286A JP15304286A JPS639187A JP S639187 A JPS639187 A JP S639187A JP 15304286 A JP15304286 A JP 15304286A JP 15304286 A JP15304286 A JP 15304286A JP S639187 A JPS639187 A JP S639187A
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- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 6
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はエキシマレーザの出カ一定制御を行なう出力
制御装置に関する。
制御装置に関する。
エキシマレーザは、希ガス(Ar、Kr。
Xe)、ハロゲン(Fe、HCN)およびバッファガス
(He、Ne)の混合ガスをレーザガスとしてチャンバ
内に封入し、全反射鏡と部分反射鏡から成る共振器間で
前記レーザガスをパルス放電等によって励起させること
によりレーザ発振を行なうものであり、高効率、高出力
発振を行なうことができ、特にその非コヒーレントな性
質からフォトリサグラフィー等への応用が進められてい
る。
(He、Ne)の混合ガスをレーザガスとしてチャンバ
内に封入し、全反射鏡と部分反射鏡から成る共振器間で
前記レーザガスをパルス放電等によって励起させること
によりレーザ発振を行なうものであり、高効率、高出力
発振を行なうことができ、特にその非コヒーレントな性
質からフォトリサグラフィー等への応用が進められてい
る。
しかし、従来のエキシマレーザにおいては、ガスの劣化
、電極の劣化、不純物の生成、放電回路の劣化等種々の
要因によりレーザ出力が安定化せず、このため産業用と
して例えばフォトリッグラフィーのステッパ装置等に適
用するには未だ問題が多いものであり、レーザ出力をで
きるだけ長期間一定に維持するための技術が要望されて
いる。
、電極の劣化、不純物の生成、放電回路の劣化等種々の
要因によりレーザ出力が安定化せず、このため産業用と
して例えばフォトリッグラフィーのステッパ装置等に適
用するには未だ問題が多いものであり、レーザ出力をで
きるだけ長期間一定に維持するための技術が要望されて
いる。
〔問題点を解決するための手段および作用〕 −こ
の発明では、レーザの出力に影響を与える例えば、パル
ス放電の電圧、パルス放電の繰返し周波数、バッフ7ガ
スへのネオンガスの追加量、レーザガスへのハロゲンガ
スの追加量、レーザガスの全圧、レーザガスの一部を新
しいガ5に変換する量およびレーザガスに含まれる不純
物の除去量等の複数の制御要素のうち少なくとも1つを
自動調整してレーザ出力を一定に保持する制御手段を具
え、該制御手段によってこれら複数の制御要素を適宜制
御するようにしてレーザ出力を常に一定に保持するよう
にする。
の発明では、レーザの出力に影響を与える例えば、パル
ス放電の電圧、パルス放電の繰返し周波数、バッフ7ガ
スへのネオンガスの追加量、レーザガスへのハロゲンガ
スの追加量、レーザガスの全圧、レーザガスの一部を新
しいガ5に変換する量およびレーザガスに含まれる不純
物の除去量等の複数の制御要素のうち少なくとも1つを
自動調整してレーザ出力を一定に保持する制御手段を具
え、該制御手段によってこれら複数の制御要素を適宜制
御するようにしてレーザ出力を常に一定に保持するよう
にする。
〔実施例〕
図はこの発明の一実施例を示すものであり、このエキシ
マレーザ装置においては、放電電極、共振器等を備えて
レーザ光を発生するレーザ主装置1と、蓄電器、サイラ
トロンスイッチ等を備えた充電回路2とでレーザ本体3
を構成する。このレーザ本体3においては、充電回路2
内のサイラトロンスイッチによるパルス放電によりレー
ザ主装置1の放電電極間で繰返し放電を起こし、これに
よりレーザガスを励起するようにしている。
マレーザ装置においては、放電電極、共振器等を備えて
レーザ光を発生するレーザ主装置1と、蓄電器、サイラ
トロンスイッチ等を備えた充電回路2とでレーザ本体3
を構成する。このレーザ本体3においては、充電回路2
内のサイラトロンスイッチによるパルス放電によりレー
ザ主装置1の放電電極間で繰返し放電を起こし、これに
よりレーザガスを励起するようにしている。
この装置においては、かかるレーザ本体3から、ガス循
環のためのブロア4、ガス冷却のための熱交換器5、除
塵用のフィルタ8、ガス中の不純物を除去するガス純化
装置9、レーザガス(ハロゲンと希ガスとバッファガス
とから成る混合ガス)の組成を一定に保つガス交換器1
0を分離し、これを供給ダクト6および排出ダクト7を
介して接続するようにして、レーザ本体3をコンパクト
にするようにしている。11は充電回路2用の直流電源
である。
環のためのブロア4、ガス冷却のための熱交換器5、除
塵用のフィルタ8、ガス中の不純物を除去するガス純化
装置9、レーザガス(ハロゲンと希ガスとバッファガス
とから成る混合ガス)の組成を一定に保つガス交換器1
0を分離し、これを供給ダクト6および排出ダクト7を
介して接続するようにして、レーザ本体3をコンパクト
にするようにしている。11は充電回路2用の直流電源
である。
かかる構成において、ブロア4から吐出されたレーザガ
スはガス交換器10.熱交換器5、供給ダクト7を介し
てレーザ主装置1に流入し、二二でレーザ光が発生され
る。レーザ発振後のレーザガスは排出ダクト7を介して
ブロア4に流入する。
スはガス交換器10.熱交換器5、供給ダクト7を介し
てレーザ主装置1に流入し、二二でレーザ光が発生され
る。レーザ発振後のレーザガスは排出ダクト7を介して
ブロア4に流入する。
バイパス路7aに流入したガスはフィルタ8、ガス純化
装置9を経由して精製された後ブロア4に流入する。
装置9を経由して精製された後ブロア4に流入する。
次に、レーザ出カ一定制御のための構成について説明す
る。
る。
この実施例装置においては、マイクロコンピュータ20
の制御によってレーザの出力に影響を及ぼす複数の異な
るパラメータを調整することにより、レーザ出力を常に
一定に維持するようにしている。出力センサ12はレー
ザ主装置1から発生されるレーザの出力を検出するもの
であり、その検出出力をマイクロコンピュータ20に入
力する。
の制御によってレーザの出力に影響を及ぼす複数の異な
るパラメータを調整することにより、レーザ出力を常に
一定に維持するようにしている。出力センサ12はレー
ザ主装置1から発生されるレーザの出力を検出するもの
であり、その検出出力をマイクロコンピュータ20に入
力する。
マイクロコン“ピユータ20は出力センサ12の検出出
力によりレーザ出力の低下を検出した場合、以下の制御
項目を制御する。
力によりレーザ出力の低下を検出した場合、以下の制御
項目を制御する。
[A]電源関係
(1)電源11の電圧を上げることにより1パルス当り
のレーザエネルギーを増大させる。
のレーザエネルギーを増大させる。
(2)充電回路2のす゛イラトロンによるパルス放電の
繰返し周波数を高くして、レーザ平均出力を増大する。
繰返し周波数を高くして、レーザ平均出力を増大する。
[B]ガス関係
(3)ガス純化装置9においてハロゲンガス例えばフッ
素(F2)を追加する。
素(F2)を追加する。
(4)ガス純化装置のガス循環量を制御することにより
不純物の除去量を調整する。
不純物の除去量を調整する。
(5)ガス交換310において、バッファガス(通常は
He)にネオン(Ne)ガスを追加する。
He)にネオン(Ne)ガスを追加する。
(6)ガス交換器10において、ガスの混合比を変えな
いでガスの全圧を高くする(この場合、装置全体として
の耐圧条件に制限があるので、増圧にも限りがある。通
常は全圧が一定になるように制御している。) (7)ガス交換器10において、混合ガスの一部を新し
いガスと交換する。
いでガスの全圧を高くする(この場合、装置全体として
の耐圧条件に制限があるので、増圧にも限りがある。通
常は全圧が一定になるように制御している。) (7)ガス交換器10において、混合ガスの一部を新し
いガスと交換する。
(8)ブロア4の回動速度等を制御し、ガス循環速度を
高くする。
高くする。
[C]その他
(9)熱交換器5を制御してガス温度を一定に保ちレー
ザ出力を安定化させる。
ザ出力を安定化させる。
この場合、これら9個の制御項目には所定の優先順位が
付けられており、マイクロコンピュータ20は出力セン
サ12の検出出力によりレーザ出力の低下を検出すると
、これら9個の制御項目による各制御を所定の優先順位
に従って1つずつ実行し7、レーザ出力が回復した時点
でこの制御動作を中止する。
付けられており、マイクロコンピュータ20は出力セン
サ12の検出出力によりレーザ出力の低下を検出すると
、これら9個の制御項目による各制御を所定の優先順位
に従って1つずつ実行し7、レーザ出力が回復した時点
でこの制御動作を中止する。
すなわち、通常の制御において、マイクロコンピュータ
20は、熱交換器5、ガス交換器10およびブロア4等
を制御することによりガス温度一定制御、ガス全圧一定
制御および循環速度一定制御等を行なっている。しかし
、マイクロコンピュータ20は出力センサ12の検出出
力が所定の目標値以下となったことを検出した場合、例
えば、第1のステップとして71iallの電圧を上げ
る制御を行なう。この制御によって、レーザ出力が上記
目標値以上となった場合、この時点で制御を終了する。
20は、熱交換器5、ガス交換器10およびブロア4等
を制御することによりガス温度一定制御、ガス全圧一定
制御および循環速度一定制御等を行なっている。しかし
、マイクロコンピュータ20は出力センサ12の検出出
力が所定の目標値以下となったことを検出した場合、例
えば、第1のステップとして71iallの電圧を上げ
る制御を行なう。この制御によって、レーザ出力が上記
目標値以上となった場合、この時点で制御を終了する。
しかし、レーザ出力が回復しない場合は、次に、例えば
ガス交換器10においてバッファガスにNeガスを追加
させる第2のステップの制御を行なう。このNeガス追
加制御によってレーザ出力が回復した場合、この時点で
制御を終了する。
ガス交換器10においてバッファガスにNeガスを追加
させる第2のステップの制御を行なう。このNeガス追
加制御によってレーザ出力が回復した場合、この時点で
制御を終了する。
しかし、この制御によってもレーザ出力が回復しない場
合は、次のステップの例えば、混合ガスにハロゲンガス
を追加する制御を行なう。以下、同様にして、レーザ出
力が回復するまで前記9個の制御項目による制御を順番
に実行するようにする。
合は、次のステップの例えば、混合ガスにハロゲンガス
を追加する制御を行なう。以下、同様にして、レーザ出
力が回復するまで前記9個の制御項目による制御を順番
に実行するようにする。
なお、上記優先順位は、各制御項目の制御の容易さ、費
用、レーザ出力に及ぼす影響力等を考慮して決定するよ
うにする。
用、レーザ出力に及ぼす影響力等を考慮して決定するよ
うにする。
また、前述した9個の制御項目を全て調整する必要はな
く、例えば電源には1つの制御項目、ガス関係には2つ
の制御項目を持たせるようにする等、制御項目を前記9
個の中から適宜に選択するようにしてもよい。
く、例えば電源には1つの制御項目、ガス関係には2つ
の制御項目を持たせるようにする等、制御項目を前記9
個の中から適宜に選択するようにしてもよい。
以上説明したようにこの発明によれば、エキシマレーザ
装置の出力に影響を与える複数のパラメータのうち少な
くとも1つを自動調整し、レーザ出力を常に一定に維持
する制御系を備えるようにしたので、安定したレーザ出
力を長期間得ることができ、また構成部品、ガス等の交
換時期を遅らせることができる。
装置の出力に影響を与える複数のパラメータのうち少な
くとも1つを自動調整し、レーザ出力を常に一定に維持
する制御系を備えるようにしたので、安定したレーザ出
力を長期間得ることができ、また構成部品、ガス等の交
換時期を遅らせることができる。
図は本発明にかかるエキシマレーザの出力制御装置の一
実施例を示すブロック図である。 1・・・レーザ主装置、2・・充電回路、3・・・レー
ザ本体、4・・・ブロア、5・・・熱交換器、6・・・
供給ダクト、7・・・排出ダクト、8・・・フィルタ、
9・・・ガス純化装置、10・・・ガス交換器、11・
・・電源、12・・・出力センサ、20・・・マイクロ
コンピュータ。
実施例を示すブロック図である。 1・・・レーザ主装置、2・・充電回路、3・・・レー
ザ本体、4・・・ブロア、5・・・熱交換器、6・・・
供給ダクト、7・・・排出ダクト、8・・・フィルタ、
9・・・ガス純化装置、10・・・ガス交換器、11・
・・電源、12・・・出力センサ、20・・・マイクロ
コンピュータ。
Claims (2)
- (1)少なくとも希ガス、ハロゲンガスおよびバッファ
ガスから成る混合ガスをレーザガスとして循環させ、該
レーザガスをパルス放電によって励起させることにより
、レーザ発振を行なうエキシマレーザの出力制御装置に
おいて、 前記レーザの出力に影響を与える複数の制御要素のうち
少なくとも1つを自動調整してレーザ出力を一定に保持
する制御手段を具えたエキシマレーザの出力制御装置。 - (2)前記複数の制御要素は、パルス放電の電圧、パル
ス放電の繰返し周波数、前記バッファガスへのネオンガ
スの追加量、前記レーザガスへのハロゲンガスの追加量
、前記レーザガスの全圧、前記レーザガスの新しいガス
への交換量、レーザガスに含まれる不純物の除去量であ
る特許請求の範囲第(1)項記載のエキシマレーザの出
力制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15304286A JPS639187A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | エキシマレ−ザの出力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15304286A JPS639187A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | エキシマレ−ザの出力制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS639187A true JPS639187A (ja) | 1988-01-14 |
Family
ID=15553699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15304286A Pending JPS639187A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | エキシマレ−ザの出力制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS639187A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0926785A1 (de) * | 1997-12-27 | 1999-06-30 | Trumpf GmbH & Co | Verfahren zur Steuerung einer Vorrichtung zum Lasergasaustausch an einem Gasentladungsraum einer Gaslaseranordnung sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
JP2010123665A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Shibuya Kogyo Co Ltd | ガスレーザ発振器とそれを備えたレーザ加工機 |
JP2011211233A (ja) * | 2011-06-24 | 2011-10-20 | Komatsu Ltd | 放電励起エキシマレーザ装置 |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP15304286A patent/JPS639187A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0926785A1 (de) * | 1997-12-27 | 1999-06-30 | Trumpf GmbH & Co | Verfahren zur Steuerung einer Vorrichtung zum Lasergasaustausch an einem Gasentladungsraum einer Gaslaseranordnung sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
JP2010123665A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Shibuya Kogyo Co Ltd | ガスレーザ発振器とそれを備えたレーザ加工機 |
JP2011211233A (ja) * | 2011-06-24 | 2011-10-20 | Komatsu Ltd | 放電励起エキシマレーザ装置 |
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