JPS6375669A - Icプローブ装置 - Google Patents
Icプローブ装置Info
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- JPS6375669A JPS6375669A JP62221806A JP22180687A JPS6375669A JP S6375669 A JPS6375669 A JP S6375669A JP 62221806 A JP62221806 A JP 62221806A JP 22180687 A JP22180687 A JP 22180687A JP S6375669 A JPS6375669 A JP S6375669A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/26—Testing of individual semiconductor devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
- G01B7/14—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
- G01B7/30—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
- G01B7/31—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
- G05B19/402—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by control arrangements for positioning, e.g. centring a tool relative to a hole in the workpiece, additional detection means to correct position
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
- G05B2219/30—Nc systems
- G05B2219/49—Nc machine tool, till multiple
- G05B2219/49117—Alignment of surfaces to get them parallel
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はICプローブ装置、特にウェハ状IC(集積回
路)の各部にテストプローブを接続しICの動作特性を
測定する装置に関する。
路)の各部にテストプローブを接続しICの動作特性を
測定する装置に関する。
〔従来の技術とその問題点こ
ICテストポイントは、−Gに多数のテストポイントを
有し、その端部又は先端はテストポイント面となってい
る。これろテストポイントとして16乃至400個のも
のが一般的である。ICウェハやチップ(以下総称して
ウェハという)のテスト中、これらテストポイントはI
Cウェハの面上のテスト位置と電気的接触をするよう移
動する。これらテストポイントとウェハ表面上のテスト
位置間で接触を行う際に直面する困難性は、テストポイ
ント面とウェハ面とが相互に平行でない場合に起こる。
有し、その端部又は先端はテストポイント面となってい
る。これろテストポイントとして16乃至400個のも
のが一般的である。ICウェハやチップ(以下総称して
ウェハという)のテスト中、これらテストポイントはI
Cウェハの面上のテスト位置と電気的接触をするよう移
動する。これらテストポイントとウェハ表面上のテスト
位置間で接触を行う際に直面する困難性は、テストポイ
ント面とウェハ面とが相互に平行でない場合に起こる。
従って、テストポイント面とプローブしたいICウェハ
表面間の平行度を効果的に確立する装置及び方法の必要
性があった。
表面間の平行度を効果的に確立する装置及び方法の必要
性があった。
従って、本発明の目的の1つはICプローブの多数のテ
ストポイント先端がなすテストポイント面がプローブさ
れるICウニハの表面と平行性を確立する改良されたI
Cプローブを提供することである。
ストポイント先端がなすテストポイント面がプローブさ
れるICウニハの表面と平行性を確立する改良されたI
Cプローブを提供することである。
本発明の他の目的は手動又は自動的に上述した平行度を
確立する装置及び方法を提供することである。
確立する装置及び方法を提供することである。
本発明の別の目的は平行度を確立する比較的簡単、効果
的、迅速且つ安価なICプローブを提供することである
。
的、迅速且つ安価なICプローブを提供することである
。
:発明の概要〕
プローブマウントは先端がテストポイント面をなす少く
とも3個のテストポイントを有するICプローブを有す
る。このプローブマウントは各々テストポイントの近く
にある第1、第2及び第3支持手段により3つの離間し
た位置に支持されている。これらプローブ支持手段は、
プローブマウントに接続され、夫々略平行線に沿う3つ
の位置の各々を独立してシフトできるようにする。これ
らの位置が本目互にシフトされると、テストポイント面
はプローブされるICウェハのウェハ面より成る第2面
と平行になる迄傾斜する。マイクロプロセッサ(up)
制御型ステッパモータは必要に応じてテストポイント面
を傾斜するのに使用される。
とも3個のテストポイントを有するICプローブを有す
る。このプローブマウントは各々テストポイントの近く
にある第1、第2及び第3支持手段により3つの離間し
た位置に支持されている。これらプローブ支持手段は、
プローブマウントに接続され、夫々略平行線に沿う3つ
の位置の各々を独立してシフトできるようにする。これ
らの位置が本目互にシフトされると、テストポイント面
はプローブされるICウェハのウェハ面より成る第2面
と平行になる迄傾斜する。マイクロプロセッサ(up)
制御型ステッパモータは必要に応じてテストポイント面
を傾斜するのに使用される。
本発明の別の側面に依ると、テスト面をテストポイント
面方向へ又はそれから遠ざかる方向へ移動できる。この
テスト面は一般に第2面に平行又は一致する面に位置さ
れる。3つのテストポイントとこのテスト面間の接触は
検知手段で検知して3つのテストポイントの各々がテス
ト面と接触する迄傾斜される。これが起こると、テスト
ポイント面と第2面間に平行度が確立する。
面方向へ又はそれから遠ざかる方向へ移動できる。この
テスト面は一般に第2面に平行又は一致する面に位置さ
れる。3つのテストポイントとこのテスト面間の接触は
検知手段で検知して3つのテストポイントの各々がテス
ト面と接触する迄傾斜される。これが起こると、テスト
ポイント面と第2面間に平行度が確立する。
本発明の更に別の側面によると、第1駆動メカニズムを
設け、第1位置を第1線に沿っていずれかの方向にシフ
トする。また第2駆動メカニズムを設け、第2位置を第
1線と平行の第2線に沿っていずれか一方向ヘシフトす
る。更に、第3駆動メカニズムを設は第3位置を第1及
び第2線に平行な第3線に沿っていずれかの方向ヘシフ
トする。
設け、第1位置を第1線に沿っていずれかの方向にシフ
トする。また第2駆動メカニズムを設け、第2位置を第
1線と平行の第2線に沿っていずれか一方向ヘシフトす
る。更に、第3駆動メカニズムを設は第3位置を第1及
び第2線に平行な第3線に沿っていずれかの方向ヘシフ
トする。
更にまた、第4駆動メカニズムを設けて、テスト面を第
1、第2及び第3線と略平行である第4線に沿ってテス
トポイント面に向かって、又はそれから遠ざかる方向ヘ
ンフトする。テスト面は第4駆動メカニズムによりテス
トポイントの1つがテスト面に接触するのを検知するま
で進める。次に、接触しているテストポイントに関連す
る駆動メカニズムはこの駆動メカニズムが接続されてい
るプローブマウント位置を、テスト面の残りの2つの非
接触テストポイントに向かって連続進行に調和してシフ
トする。次に、3つのテストポイントの次の接触を検出
する。これが行われると、今回接触したテストポイント
に関連する駆動メカニズムが作動され、2つのテストポ
イントが接触した位置がテスト面と調和して連続移動さ
せる。最終的には、3つのテストポイントの最後のもの
がテスト面に接触し、第1及び第2面間の平行度が確立
される。
1、第2及び第3線と略平行である第4線に沿ってテス
トポイント面に向かって、又はそれから遠ざかる方向ヘ
ンフトする。テスト面は第4駆動メカニズムによりテス
トポイントの1つがテスト面に接触するのを検知するま
で進める。次に、接触しているテストポイントに関連す
る駆動メカニズムはこの駆動メカニズムが接続されてい
るプローブマウント位置を、テスト面の残りの2つの非
接触テストポイントに向かって連続進行に調和してシフ
トする。次に、3つのテストポイントの次の接触を検出
する。これが行われると、今回接触したテストポイント
に関連する駆動メカニズムが作動され、2つのテストポ
イントが接触した位置がテスト面と調和して連続移動さ
せる。最終的には、3つのテストポイントの最後のもの
がテスト面に接触し、第1及び第2面間の平行度が確立
される。
不発明の更に別の側面に依ると、駆動メカニズムの各々
はup制御ステッピングモータより構成しもよい。更に
upは3つのテストポイントの総ての接触が行われた各
駆動モータ位置をストアしてもよい。次に、この情報を
用いて夫々の駆動モータを、テストポイント面と第2面
が所望の平行度が再度確立されるよう自動的に制御する
。
はup制御ステッピングモータより構成しもよい。更に
upは3つのテストポイントの総ての接触が行われた各
駆動モータ位置をストアしてもよい。次に、この情報を
用いて夫々の駆動モータを、テストポイント面と第2面
が所望の平行度が再度確立されるよう自動的に制御する
。
ICプローブ(12)を取付けるプローブマウント(1
0)の一形態を第1図に示す。このマウン) (10)
は環状板又はリング(14)を含み、平坦頂部円錐状中
心突起(16)がリング(14)の1面から外方に突出
する。このプローブ(12)は突起(16)の末端に取
付けられ、多数のテストポイントを含み、プロービング
したいICウェハのテスト位置と電気的接続を行う。こ
れらテストポイントのうちの3つであるテストポイント
(18)、 (20) 及び(22)を第1図及び第
3図に示す。しかし、典型的なICプローブは16乃至
400個以上ものテストポイントを含んでイル。これら
テストポイントは微小ピン又は突起が第3図に示す如く
テストポイント面(26)上に位置している。
0)の一形態を第1図に示す。このマウン) (10)
は環状板又はリング(14)を含み、平坦頂部円錐状中
心突起(16)がリング(14)の1面から外方に突出
する。このプローブ(12)は突起(16)の末端に取
付けられ、多数のテストポイントを含み、プロービング
したいICウェハのテスト位置と電気的接続を行う。こ
れらテストポイントのうちの3つであるテストポイント
(18)、 (20) 及び(22)を第1図及び第
3図に示す。しかし、典型的なICプローブは16乃至
400個以上ものテストポイントを含んでイル。これら
テストポイントは微小ピン又は突起が第3図に示す如く
テストポイント面(26)上に位置している。
プローブマウント(10)及び更に特定的にはリング(
14)が後述する如く3つの離間した場所(30)。
14)が後述する如く3つの離間した場所(30)。
(32)及び(34)にて支持される。更に、リング(
14)は位置(30)、 (32) 及び(34)が
リング(14〉に法線方向に且つ互に独立して移動して
、リング(14)の面、即ちテストポイント面(26)
を傾斜させる。図示の実施例では、位置(30)、 (
32) 及び(34)が夫々120゜リング(14)
の円周上且つプローブ(12)の中心から離れている。
14)は位置(30)、 (32) 及び(34)が
リング(14〉に法線方向に且つ互に独立して移動して
、リング(14)の面、即ちテストポイント面(26)
を傾斜させる。図示の実施例では、位置(30)、 (
32) 及び(34)が夫々120゜リング(14)
の円周上且つプローブ(12)の中心から離れている。
更に、位置(30)は隣りのテストポイン) (18)
から距離d1 だけ離れており、場所(32)はテスト
ポイン) (20)からd2の距離にあり、場所(34
)はテストポイント(22)からd3の距離にある。ま
た、距離d、、d2及びd3は一般的には互に等しい。
から距離d1 だけ離れており、場所(32)はテスト
ポイン) (20)からd2の距離にあり、場所(34
)はテストポイント(22)からd3の距離にある。ま
た、距離d、、d2及びd3は一般的には互に等しい。
また、この構成により、位置(30)、 (32)。
(34)を他のものに対してシフトすると、テストポイ
ント面を傾斜させることとなる。
ント面を傾斜させることとなる。
マウントサポートを設け、板体ないしリング(14)を
3つの位置(30)、 (32) 及び(34)で支
持する。
3つの位置(30)、 (32) 及び(34)で支
持する。
第2図に示す如く図示のマウントサポートは位置(30
)で板体(14)に接続した第1支持メカニズム(36
)を含んでいる。この第1技術メカニズムク36)は位
置(30)を一点鎖線(38)に沿う方向にシフト可能
である。同様の第2支持メカニズム(40)が板体(1
4)の位置(32)を支持し、この位置を一点鎖線(4
2)に沿う方向にシフト可能である。更に、第3取付け
(マウント)メカニズム(44)が板体(14)の位置
(34)に接続されて、この場所を線(46)に沿う方
向にシフト可能にする。線(38)、 (42) 及
び(46)は図示のとおり相互に略平行である。
)で板体(14)に接続した第1支持メカニズム(36
)を含んでいる。この第1技術メカニズムク36)は位
置(30)を一点鎖線(38)に沿う方向にシフト可能
である。同様の第2支持メカニズム(40)が板体(1
4)の位置(32)を支持し、この位置を一点鎖線(4
2)に沿う方向にシフト可能である。更に、第3取付け
(マウント)メカニズム(44)が板体(14)の位置
(34)に接続されて、この場所を線(46)に沿う方
向にシフト可能にする。線(38)、 (42) 及
び(46)は図示のとおり相互に略平行である。
更に特定的には、メカニズム<36)の図示例テは、回
転可能なジャックねじ(48)を有し、ねじで板体(1
4)に結合され、ジャックねじをいずれかの方向に線(
38)に沿って場所(30)をシフト可能にする。
転可能なジャックねじ(48)を有し、ねじで板体(1
4)に結合され、ジャックねじをいずれかの方向に線(
38)に沿って場所(30)をシフト可能にする。
また、支持メカニズム(40)及び(44)も同様のシ
マ/りねじ(50)、 (52) を有する。これら
ジャンクねじ(48)、 (50)及び(52)の各々
は夫々板体(14)にピボットしているブッシング(図
示せず)を介してねじ止め可能である。その結果、ジャ
ックねじの1つ以上を他のジャックねじに対して回転す
ることにより、板体(14)とプローブ(12)が傾斜
し、その結果テストポイント面(26)を調整する。
マ/りねじ(50)、 (52) を有する。これら
ジャンクねじ(48)、 (50)及び(52)の各々
は夫々板体(14)にピボットしているブッシング(図
示せず)を介してねじ止め可能である。その結果、ジャ
ックねじの1つ以上を他のジャックねじに対して回転す
ることにより、板体(14)とプローブ(12)が傾斜
し、その結果テストポイント面(26)を調整する。
ジャックねじ(4B)、 (50) 及び(52)は
手動で回転して板体(14)を夫々線(38)、 (4
2) 及び(46)に沿ってシフトさせられるが、駆動
メカニズムは一般的にはこの目的で設けられている。こ
れら駆動メカニズムは夫々ステッピングモータ(54)
、 (56) 及び〈58)より成り対応するジャック
ねじ(48)、 (50) 及び(52)を回転しても
よい。斯るジャックねじモータアセンブリは多くの会社
が市販しているが、例えばコネチカットチェシャイヤの
エアーパックス社があります。u p (60) は
これらモータの動作を制御する。up (60)はバス
(62)で従来のモータドライバ回路(64)更に導体
(66)、 (68) 及び(70)を介してモータ
(54)、 (56) 及び(58)に結合されてい
る。
手動で回転して板体(14)を夫々線(38)、 (4
2) 及び(46)に沿ってシフトさせられるが、駆動
メカニズムは一般的にはこの目的で設けられている。こ
れら駆動メカニズムは夫々ステッピングモータ(54)
、 (56) 及び〈58)より成り対応するジャック
ねじ(48)、 (50) 及び(52)を回転しても
よい。斯るジャックねじモータアセンブリは多くの会社
が市販しているが、例えばコネチカットチェシャイヤの
エアーパックス社があります。u p (60) は
これらモータの動作を制御する。up (60)はバス
(62)で従来のモータドライバ回路(64)更に導体
(66)、 (68) 及び(70)を介してモータ
(54)、 (56) 及び(58)に結合されてい
る。
up (60)からの駆動パルスに応じて、モータはス
テップ状にジャックねじを所望方向に回転する。これら
モータは図中(72)で示す/1ウジング又はベースに
強固に固定され、その結果板体(14) (も−タでは
ない)がジャックねじの回転により移動する。
テップ状にジャックねじを所望方向に回転する。これら
モータは図中(72)で示す/1ウジング又はベースに
強固に固定され、その結果板体(14) (も−タでは
ない)がジャックねじの回転により移動する。
この装置はICウェハ支持メカニズム(80)を含みプ
ローブしたいICウェハを支持する。斯るメカニズムの
1つは市販の真空チャック(82)より成り、ウェハ支
持面(84)を有し、その−面にICウェハ(94)を
取付けている。次に、取付けられたウェハ(94)の露
出表面はプローブク12)でプロービングする為に面(
84)に平行に位置される。ウェハ(94)を面(84
)上に位置させることにより、弁(86)が手動により
又は制御人力(88)においてup(60)からの制御
信号に応じてソフトして、真空ポンプ(90)をチャッ
ク(82)に結合する。これは面(84)から真空引き
して、ウェハ(94)を所定位置に保持する。ウェハ(
94)を取外すには、弁(86)をソフトしてベント(
92)を介して真空を解除(ベント)する。
ローブしたいICウェハを支持する。斯るメカニズムの
1つは市販の真空チャック(82)より成り、ウェハ支
持面(84)を有し、その−面にICウェハ(94)を
取付けている。次に、取付けられたウェハ(94)の露
出表面はプローブク12)でプロービングする為に面(
84)に平行に位置される。ウェハ(94)を面(84
)上に位置させることにより、弁(86)が手動により
又は制御人力(88)においてup(60)からの制御
信号に応じてソフトして、真空ポンプ(90)をチャッ
ク(82)に結合する。これは面(84)から真空引き
して、ウェハ(94)を所定位置に保持する。ウェハ(
94)を取外すには、弁(86)をソフトしてベント(
92)を介して真空を解除(ベント)する。
後述する如く、面(84)はテストポイント面(26)
とプロービングしたいICウェハの露出面間の平行度を
確立するのに使用されるテスト面より成る。
とプロービングしたいICウェハの露出面間の平行度を
確立するのに使用されるテスト面より成る。
これに代わって、プロービングするICウェハと同じ厚
さのテストウェハ(94)を面(84)上に位置する。
さのテストウェハ(94)を面(84)上に位置する。
この場合、このテストウェハの露出面(96)はテスト
面より成り、プロービングしたいICウェハの面と同一
面である。
面より成り、プロービングしたいICウェハの面と同一
面である。
駆動メカニズノ、はチャック面(84)のシフトの為に
設けられ、よってテスト面(96)を線(98)に沿っ
てプローブ(12)に向かって又はそれから遠ざかる方
向へ移動する。このチャンク駆動メカニズムはup (
60)の制御下でステッピングモータ(102) に
より回転するジャックねじ(100) を含んでいる
。これに代わって、ジャックねじ(100) は手動
回転してもよい。加えて、チャック(82)を等価的に
所定位置に固定し、平行度調整及び回路ブロービング動
作中、モータ(54)、 (56) 及び(58)に
より線(9B)に沿ってプローブ(12)を伸ばしたり
縮めたりする。
設けられ、よってテスト面(96)を線(98)に沿っ
てプローブ(12)に向かって又はそれから遠ざかる方
向へ移動する。このチャンク駆動メカニズムはup (
60)の制御下でステッピングモータ(102) に
より回転するジャックねじ(100) を含んでいる
。これに代わって、ジャックねじ(100) は手動
回転してもよい。加えて、チャック(82)を等価的に
所定位置に固定し、平行度調整及び回路ブロービング動
作中、モータ(54)、 (56) 及び(58)に
より線(9B)に沿ってプローブ(12)を伸ばしたり
縮めたりする。
しかし、ICウェハテストの速度及び精度はチャック(
82)を別の駆動メカニズムで駆動することにより強化
できる。
82)を別の駆動メカニズムで駆動することにより強化
できる。
一般に、第3図から判るとおり、テストポイント面(2
6)とテスト面(96)間には、平行度調整前には微少
角αが存する。この角αを減少して両面間の平行度を確
立する為に次のアプローチを使用する。
6)とテスト面(96)間には、平行度調整前には微少
角αが存する。この角αを減少して両面間の平行度を確
立する為に次のアプローチを使用する。
先ず、面(96)とプローブ(12)間の間隔はモータ
(102) を制御してテスト面〈96)を線(98
)に沿ってプローブ方向に進めることにより縮める。つ
いには、第3図に示す如く、3つの選択したテストポイ
ント(18)、 (20) 及び(22) (この場
合にはテストポイント(1g) )がテスト面(96)
に接する。これが起こると、この接触テストポイント(
18)に関連する駆動メカニズム(36)、即ちモータ
(54〉とジャックねじ(48)がLlll(60)の
制御下で動作して位置(30)を線(38)に沿って進
む。位ff1(30)は同じ割合で、テスト面(96)
が線(98)に沿って他の2つの非接触テストポイン)
(20>、 (22) に向かって継続移動に協調
してシフトする。位[(30)のシフトはテストポイン
ト面(26)がテスト面(96)に向かって傾斜する。
(102) を制御してテスト面〈96)を線(98
)に沿ってプローブ方向に進めることにより縮める。つ
いには、第3図に示す如く、3つの選択したテストポイ
ント(18)、 (20) 及び(22) (この場
合にはテストポイント(1g) )がテスト面(96)
に接する。これが起こると、この接触テストポイント(
18)に関連する駆動メカニズム(36)、即ちモータ
(54〉とジャックねじ(48)がLlll(60)の
制御下で動作して位置(30)を線(38)に沿って進
む。位ff1(30)は同じ割合で、テスト面(96)
が線(98)に沿って他の2つの非接触テストポイン)
(20>、 (22) に向かって継続移動に協調
してシフトする。位[(30)のシフトはテストポイン
ト面(26)がテスト面(96)に向かって傾斜する。
、最緯的には、2つの非接触テストポイントの一方例え
ばテストポイント(20)がテスト面(96)に接触す
る。次に、その関連駆動メカニズム(40)が駆動メカ
ニズム(36)と同様方法で動作する。即ち、モータ(
56)がup(60)の制御下でジャックねじ(50)
を回転し、位置(32)を線(42)に沿ってテスト面
(96)の進行に協調してシフトする。同時に、モータ
(54)は位置(30)の移動を継続する。最後に、3
つのテストポイントの最後の1つ、即ちテストポイント
(22)がテスト面(96)に接触する。これが起こる
と、テスト面(96)とテストポイント面(26)の平
行度が確立されてモータ(54) −(58)が停止す
る。
ばテストポイント(20)がテスト面(96)に接触す
る。次に、その関連駆動メカニズム(40)が駆動メカ
ニズム(36)と同様方法で動作する。即ち、モータ(
56)がup(60)の制御下でジャックねじ(50)
を回転し、位置(32)を線(42)に沿ってテスト面
(96)の進行に協調してシフトする。同時に、モータ
(54)は位置(30)の移動を継続する。最後に、3
つのテストポイントの最後の1つ、即ちテストポイント
(22)がテスト面(96)に接触する。これが起こる
と、テスト面(96)とテストポイント面(26)の平
行度が確立されてモータ(54) −(58)が停止す
る。
そして、テストポイント面とテストするICウェハ面間
の平行度が完成する。
の平行度が完成する。
勿論、もしテストポイント(18)、 (20) 及
び〈22)が同時にテスト面(96)に接触すると、板
体(14)上のそれらの関連位置及び接触テストポイン
トをチャックの異なる移動と調和してシフトすべく関連
駆動モータを作動する。再度、第3テストポイントがテ
スト面と接触すると、平行が確立される。
び〈22)が同時にテスト面(96)に接触すると、板
体(14)上のそれらの関連位置及び接触テストポイン
トをチャックの異なる移動と調和してシフトすべく関連
駆動モータを作動する。再度、第3テストポイントがテ
スト面と接触すると、平行が確立される。
テストポイントの総てがテスト面(96)と接触すると
き、参照(基準)面が確立される。up (60)はモ
ータ(54)〜(58)が平行度調整動作中にシフトし
た各位U(30)、 (32) 及び(34)の位置情
報をテストすることによりこの参照面の位置をストアし
てもよい。これにより、その後にICのブロービングを
行う際には、ジャックねじ(48)、 (50) 及
び(52)を同じ相対位置に単に工」整するのみで迅速
に平行度を確立することができる。
き、参照(基準)面が確立される。up (60)はモ
ータ(54)〜(58)が平行度調整動作中にシフトし
た各位U(30)、 (32) 及び(34)の位置情
報をテストすることによりこの参照面の位置をストアし
てもよい。これにより、その後にICのブロービングを
行う際には、ジャックねじ(48)、 (50) 及
び(52)を同じ相対位置に単に工」整するのみで迅速
に平行度を確立することができる。
更に、チャック(82)は平行度が確立された後に所定
距離だけ退却させてもよい。そ゛の後、テストウェハ(
94)をブロービングしたい■Cウエノ\と交換しても
よい。その後、チャックを所定距離だけプローブ(12
)に向かって移動させてテストポイントとICウェハと
の間の接触を確立してもよい。
距離だけ退却させてもよい。そ゛の後、テストウェハ(
94)をブロービングしたい■Cウエノ\と交換しても
よい。その後、チャックを所定距離だけプローブ(12
)に向かって移動させてテストポイントとICウェハと
の間の接触を確立してもよい。
面(84)をテストウェハ(94)のテスト面の代わり
に使用する場合には、ICウエノ(16)をチャック(
82)に装着した後、チャック(82)をプローブ(1
2)に向かって戻すが、その場合の戻し距離はプローブ
接点(18)、 (20) 及び(22)からウニ/
\の摩さ分を差引いた値とする。この手法により、チャ
・ツク(82)が線(98)に沿って伸び縮みする量を
調整するのみで、異なる厚さのICウェノ\の迅速なブ
ロービングが可能になる。更に、プローブ(12)はブ
ロービングしたいウェハ面から平行度が維持できる。
に使用する場合には、ICウエノ(16)をチャック(
82)に装着した後、チャック(82)をプローブ(1
2)に向かって戻すが、その場合の戻し距離はプローブ
接点(18)、 (20) 及び(22)からウニ/
\の摩さ分を差引いた値とする。この手法により、チャ
・ツク(82)が線(98)に沿って伸び縮みする量を
調整するのみで、異なる厚さのICウェノ\の迅速なブ
ロービングが可能になる。更に、プローブ(12)はブ
ロービングしたいウェハ面から平行度が維持できる。
加えて、Uρ(60)はモータ(102) を調整し
てチャ・ツク(82)を、例えばICチップ又はウエノ
〜のローディング(取付け)及びアンローディング(取
外し)用位置等の種々の位置にシフトできる。その後、
up(5Q)はモータ(102) を制御してテスト
ポイントに接触する位置にウェハをシフトすることがで
きる。
てチャ・ツク(82)を、例えばICチップ又はウエノ
〜のローディング(取付け)及びアンローディング(取
外し)用位置等の種々の位置にシフトできる。その後、
up(5Q)はモータ(102) を制御してテスト
ポイントに接触する位置にウェハをシフトすることがで
きる。
当業者には、特定のテストポイントとテスト面(96)
(又はテスト面の確立の為にチャック自体を使用した
場合には、面(84)) 間の初期接触を検出するには
種々の技法があることが理解できよう。
(又はテスト面の確立の為にチャック自体を使用した
場合には、面(84)) 間の初期接触を検出するには
種々の技法があることが理解できよう。
斯る技法の1つとして電子的にテストポイントとテスト
面間の接触を検出するアプローチを以下に説明する。典
型的にはu p (60) は導体にてブローブク1
2)の各テストポイントに接続される多くの人出力を有
する。これらのうちの3つを第2図では(104)、
(106) 及び(108) とラベルを付して夫々
導体(110)、 (112) 及び(114)
によりテストポイント(18)、 (20) 及び(
22) (第3図参照)に接続される。
面間の接触を検出するアプローチを以下に説明する。典
型的にはu p (60) は導体にてブローブク1
2)の各テストポイントに接続される多くの人出力を有
する。これらのうちの3つを第2図では(104)、
(106) 及び(108) とラベルを付して夫々
導体(110)、 (112) 及び(114)
によりテストポイント(18)、 (20) 及び(
22) (第3図参照)に接続される。
テストポイント面と基準面間の平行度を確立したい場合
には、up (60)が平行度制御信号を線(116)
からスイッチ(118) に送る。これはスイッチ接
点を閉じさせる。閉じると、正の電圧源が電流制限抵抗
(120) を介して入力(104) に接続され
る。この電圧はup (60)の論理高又はルベルであ
る。同様に、この電圧が夫々抵抗(122)、 (12
4) を介して線(112)、 (114) に結
合される。これは接点(18)。
には、up (60)が平行度制御信号を線(116)
からスイッチ(118) に送る。これはスイッチ接
点を閉じさせる。閉じると、正の電圧源が電流制限抵抗
(120) を介して入力(104) に接続され
る。この電圧はup (60)の論理高又はルベルであ
る。同様に、この電圧が夫々抵抗(122)、 (12
4) を介して線(112)、 (114) に結
合される。これは接点(18)。
(20)及び(22)を論理高又はルベルとする。加え
て、テストウェハ(94)は金メッキされ、線(126
)で示す如(電気的に接地した導電ウェハより成るかも
知れない。或いは、テストウェハ(94)を使用しない
場合には、図中点線(126) で示す如く接地され
た導電体面(84)であるかも知れない。
て、テストウェハ(94)は金メッキされ、線(126
)で示す如(電気的に接地した導電ウェハより成るかも
知れない。或いは、テストウェハ(94)を使用しない
場合には、図中点線(126) で示す如く接地され
た導電体面(84)であるかも知れない。
この様に接続していると、人力(104) はテスト
ポイント(18)が接地されたテスト面(96)又は(
84)に接触するときO論理レベルに低下する。同様に
して、up (60)の人力(106) もテストポ
イント(20)がテスト面(96)に接触すると0論理
レベルに低下する。更にまた、up人力(108)
も、テストポイン) (22)がテスト面に接触すると
0論理レベルに低下する。よって、LIp(60)はこ
の接触検出回路により、最初にテストポイントとテスト
面とが接触したことを検出する。接触が検出されると、
モータ(54)〜〈58)及び(102) は上述の
とおり自動的に制御されてテストポイント面(26)と
テスト面(96)との間の平行度を確立する。これによ
りテストポイント面(26)とプロービングするICウ
ェハ(又はチップ)の面間の平行導電が確立される。
ポイント(18)が接地されたテスト面(96)又は(
84)に接触するときO論理レベルに低下する。同様に
して、up (60)の人力(106) もテストポ
イント(20)がテスト面(96)に接触すると0論理
レベルに低下する。更にまた、up人力(108)
も、テストポイン) (22)がテスト面に接触すると
0論理レベルに低下する。よって、LIp(60)はこ
の接触検出回路により、最初にテストポイントとテスト
面とが接触したことを検出する。接触が検出されると、
モータ(54)〜〈58)及び(102) は上述の
とおり自動的に制御されてテストポイント面(26)と
テスト面(96)との間の平行度を確立する。これによ
りテストポイント面(26)とプロービングするICウ
ェハ(又はチップ)の面間の平行導電が確立される。
以上、本発明のICプローブを好適実施例に基づき図示
巳説明した。しかし、本発明は何ら斯る実施例のみに限
定する意図はな(、必要に応じて種々の変形変更がなし
得ること当業者には自明である。
巳説明した。しかし、本発明は何ら斯る実施例のみに限
定する意図はな(、必要に応じて種々の変形変更がなし
得ること当業者には自明である。
〔発明の効果コ
上述の説明の如く、本発明のICプローブに依ると、プ
ローブマウント又は板体の略等間隔の3点位置のテスト
ポイントを有するテストポイント面をこれと離間して固
定されるテスト面に対して移動させ、いずれか1つのテ
ストポイントとテス青 トポインドの接触を検出し、つぎに残りの2つのテスト
ポイントがテスト面に接触するように板体の当該テスト
ポイント対応位置をシフトさせて接触させ、残りのテス
トポイントについても同様にして、テストポイントとテ
スト面の平行度を正確に求める。また、一度求めた平行
位置情報はup内のメモリにストアしておき、後のIC
ウェハプロービングの際に迅速に且つ確実にプローブの
テストポイント面とテスト面との平行度を確立すること
ができる。よってICウェハのテストを自動的に迅速且
つ確実に行うことができるので、量産ICのテスト評価
用ICプローブとして実用上の効果が極めて大である。
ローブマウント又は板体の略等間隔の3点位置のテスト
ポイントを有するテストポイント面をこれと離間して固
定されるテスト面に対して移動させ、いずれか1つのテ
ストポイントとテス青 トポインドの接触を検出し、つぎに残りの2つのテスト
ポイントがテスト面に接触するように板体の当該テスト
ポイント対応位置をシフトさせて接触させ、残りのテス
トポイントについても同様にして、テストポイントとテ
スト面の平行度を正確に求める。また、一度求めた平行
位置情報はup内のメモリにストアしておき、後のIC
ウェハプロービングの際に迅速に且つ確実にプローブの
テストポイント面とテスト面との平行度を確立すること
ができる。よってICウェハのテストを自動的に迅速且
つ確実に行うことができるので、量産ICのテスト評価
用ICプローブとして実用上の効果が極めて大である。
第1図は本発明によるICプローブのプローブマウント
部の拡大側面図、第2図は本発明によるICプローブの
テストポイント面とテスト面間の平行度確立の為の装置
を示す図、第3図は本発明によるICプローブのプロー
ブマウント部の一例の拡大図である。 (10)はマウント、(12)はICプローブ、(14
)はリング、(18)、 (20) 及び(22)は
夫々テストポイント、(26)はテストポイント面、(
54)、 (56) 及び(58)は夫々ステッピン
グモータ、(60)はマイクロプロセッサ、(64)は
モータドライバ回路、(94)はICウェハ、(96)
はテスト面、(118) はスイッチである。 代 理 人 伊 藤 頁間
松 隈 秀 盛FIG、1 了−
部の拡大側面図、第2図は本発明によるICプローブの
テストポイント面とテスト面間の平行度確立の為の装置
を示す図、第3図は本発明によるICプローブのプロー
ブマウント部の一例の拡大図である。 (10)はマウント、(12)はICプローブ、(14
)はリング、(18)、 (20) 及び(22)は
夫々テストポイント、(26)はテストポイント面、(
54)、 (56) 及び(58)は夫々ステッピン
グモータ、(60)はマイクロプロセッサ、(64)は
モータドライバ回路、(94)はICウェハ、(96)
はテスト面、(118) はスイッチである。 代 理 人 伊 藤 頁間
松 隈 秀 盛FIG、1 了−
Claims (1)
- ICプローブの互に離間した第1、第2及び第3テスト
ポイントのなす第1面とプロービングしたいICウェハ
表面のなす第2面間の平行度を確立する装置であって、
プローブ取付け手段と、上記第2面に平行に取付けられ
たテスト面手段と、上記テストポイント及び上記テスト
面の接触検知手段と、該検知手段の検知に応じて上記プ
ローブ取付け手段の上記第1面を傾けて上記第1乃至第
3テストポイントが上記テスト面に接触するよう移動す
る平行度調整手段とを具えるICプローブ装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US905376 | 1986-09-08 | ||
US06/905,376 US4751457A (en) | 1986-09-08 | 1986-09-08 | Integrated circuit probe parallelism establishing method and apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6375669A true JPS6375669A (ja) | 1988-04-06 |
JPH0695127B2 JPH0695127B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=25420723
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62221806A Expired - Lifetime JPH0695127B2 (ja) | 1986-09-08 | 1987-09-04 | Icプロ−ブ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4751457A (ja) |
EP (1) | EP0260024A3 (ja) |
JP (1) | JPH0695127B2 (ja) |
KR (1) | KR880004325A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04361543A (ja) * | 1991-06-10 | 1992-12-15 | Mitsubishi Electric Corp | プローバ装置およびウエハの検査方法 |
JPH0677296A (ja) * | 1992-05-29 | 1994-03-18 | Eejingu Tesuta Kaihatsu Kyodo Kumiai | 集積回路素子ウエハー用測定電極 |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2690908B2 (ja) * | 1987-09-25 | 1997-12-17 | 株式会社日立製作所 | 表面計測装置 |
US4935694A (en) * | 1988-09-20 | 1990-06-19 | Electro Scientific Industries, Inc. | Probe card fixture |
US4906920A (en) * | 1988-10-11 | 1990-03-06 | Hewlett-Packard Company | Self-leveling membrane probe |
EP0402490B1 (de) * | 1989-06-10 | 1993-05-19 | Deutsche ITT Industries GmbH | Messspitzen-Manipulator für Wafermessgeräte |
US5065092A (en) * | 1990-05-14 | 1991-11-12 | Triple S Engineering, Inc. | System for locating probe tips on an integrated circuit probe card and method therefor |
US5321453A (en) * | 1991-08-03 | 1994-06-14 | Tokyo Electron Limited | Probe apparatus for probing an object held above the probe card |
DE4323435A1 (de) * | 1993-07-13 | 1995-01-19 | Ehlermann Eckhard | Prüfkarte für integrierte Schaltungen, deren Alter objektiv bestimmbar ist |
US5373286A (en) * | 1993-09-13 | 1994-12-13 | Xerox Corporation | Apparatus and method for establishing a predetermined gap between two surfaces |
US5600258A (en) * | 1993-09-15 | 1997-02-04 | Intest Corporation | Method and apparatus for automated docking of a test head to a device handler |
KR100248569B1 (ko) * | 1993-12-22 | 2000-03-15 | 히가시 데쓰로 | 프로우브장치 |
TW273635B (ja) * | 1994-09-01 | 1996-04-01 | Aesop | |
US5982182A (en) * | 1994-09-01 | 1999-11-09 | Chiu; Michael A. | Interface apparatus for automatic test equipment with positioning modules incorporating kinematic surfaces |
US5761823A (en) * | 1994-09-27 | 1998-06-09 | Williamson, Jr.; John S. | Relative planarity verification apparatus and method of use |
EP0811167B1 (en) * | 1995-02-23 | 2001-09-05 | Aesop Inc. | Manipulator for automatic test equipment test head |
US5621333A (en) * | 1995-05-19 | 1997-04-15 | Microconnect, Inc. | Contact device for making connection to an electronic circuit device |
SG55211A1 (en) * | 1995-07-05 | 1998-12-21 | Tokyo Electron Ltd | Testing apparatus |
US5656942A (en) * | 1995-07-21 | 1997-08-12 | Electroglas, Inc. | Prober and tester with contact interface for integrated circuits-containing wafer held docked in a vertical plane |
JPH0953929A (ja) * | 1995-08-14 | 1997-02-25 | Fuji Oozx Inc | 小径面の平面度測定装置 |
US6046599A (en) * | 1996-05-20 | 2000-04-04 | Microconnect, Inc. | Method and device for making connection |
US5861759A (en) * | 1997-01-29 | 1999-01-19 | Tokyo Electron Limited | Automatic probe card planarization system |
US6111419A (en) * | 1998-05-19 | 2000-08-29 | Motorola Inc. | Method of processing a substrate including measuring for planarity and probing the substrate |
US6343369B1 (en) * | 1998-09-15 | 2002-01-29 | Microconnect, Inc. | Methods for making contact device for making connection to an electronic circuit device and methods of using the same |
JP2000260852A (ja) | 1999-03-11 | 2000-09-22 | Tokyo Electron Ltd | 検査ステージ及び検査装置 |
US6496026B1 (en) | 2000-02-25 | 2002-12-17 | Microconnect, Inc. | Method of manufacturing and testing an electronic device using a contact device having fingers and a mechanical ground |
US7262611B2 (en) * | 2000-03-17 | 2007-08-28 | Formfactor, Inc. | Apparatuses and methods for planarizing a semiconductor contactor |
US6396296B1 (en) * | 2000-05-15 | 2002-05-28 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method and apparatus for electrical characterization of an integrated circuit package using a vertical probe station |
JP2001358204A (ja) | 2000-06-15 | 2001-12-26 | Tokyo Electron Ltd | 検査ステージ |
US6774621B2 (en) * | 2000-06-15 | 2004-08-10 | Tokyo Electron Limited | Inspection stage having a plurality of Z axes |
US6876211B2 (en) * | 2002-03-13 | 2005-04-05 | Seagate Technology Llc | Printed circuit board test fixture that supports a PCB to be tested |
US6870382B2 (en) * | 2002-05-03 | 2005-03-22 | Texas Instruments Incorporated | System and method for evaluating the planarity and parallelism of an array of probe tips |
US6841991B2 (en) * | 2002-08-29 | 2005-01-11 | Micron Technology, Inc. | Planarity diagnostic system, E.G., for microelectronic component test systems |
US7463042B2 (en) * | 2005-06-30 | 2008-12-09 | Northrop Grumman Corporation | Connector probing system |
US7368930B2 (en) * | 2006-08-04 | 2008-05-06 | Formfactor, Inc. | Adjustment mechanism |
US7764076B2 (en) * | 2007-02-20 | 2010-07-27 | Centipede Systems, Inc. | Method and apparatus for aligning and/or leveling a test head |
US7791361B2 (en) * | 2007-12-10 | 2010-09-07 | Touchdown Technologies, Inc. | Planarizing probe card |
US8004296B2 (en) * | 2008-08-19 | 2011-08-23 | Centipede Systems, Inc. | Probe head apparatus for testing semiconductors |
US8534302B2 (en) * | 2008-12-09 | 2013-09-17 | Microchip Technology Incorporated | Prober cleaning block assembly |
US9007084B2 (en) | 2010-06-15 | 2015-04-14 | International Business Machines Corporation | Support structure for installation of a component assembly housed in a rotating, translating carriage chassis |
CN110561434A (zh) * | 2019-09-12 | 2019-12-13 | 武汉宝悍焊接设备有限公司 | 一种激光焊机双刃剪下刀座直线垂直升降运动轨迹分析法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5982739A (ja) * | 1982-11-02 | 1984-05-12 | Telmec Co Ltd | 自動半導体ウエハ−プロ−バ−のオ−バ−ドライブ装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3996517A (en) * | 1975-12-29 | 1976-12-07 | Monsanto Company | Apparatus for wafer probing having surface level sensing |
DE2612012C3 (de) * | 1976-03-20 | 1979-02-08 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen | Elektronische Steuer- und Regelvorrichtung für den Abstand bzw. die Parallelität zweier Reflektoren eines optischen Gerätes |
US4195259A (en) * | 1978-04-04 | 1980-03-25 | Texas Instruments Incorporated | Multiprobe test system and method of using same |
US4457664A (en) * | 1982-03-22 | 1984-07-03 | Ade Corporation | Wafer alignment station |
US4660294A (en) * | 1985-11-13 | 1987-04-28 | General Electric Company | Surface parallelism measurement system |
-
1986
- 1986-09-08 US US06/905,376 patent/US4751457A/en not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-08-26 EP EP87307558A patent/EP0260024A3/en not_active Withdrawn
- 1987-09-04 JP JP62221806A patent/JPH0695127B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-09-07 KR KR870009868A patent/KR880004325A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5982739A (ja) * | 1982-11-02 | 1984-05-12 | Telmec Co Ltd | 自動半導体ウエハ−プロ−バ−のオ−バ−ドライブ装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04361543A (ja) * | 1991-06-10 | 1992-12-15 | Mitsubishi Electric Corp | プローバ装置およびウエハの検査方法 |
JPH0677296A (ja) * | 1992-05-29 | 1994-03-18 | Eejingu Tesuta Kaihatsu Kyodo Kumiai | 集積回路素子ウエハー用測定電極 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4751457A (en) | 1988-06-14 |
EP0260024A2 (en) | 1988-03-16 |
KR880004325A (ko) | 1988-06-03 |
EP0260024A3 (en) | 1989-09-13 |
JPH0695127B2 (ja) | 1994-11-24 |
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