JPS6366791A - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory deviceInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、半導体記憶装置の改良に関し、特に、高集
積化のためのビット線構造の改良に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to improvements in semiconductor memory devices, and particularly to improvements in bit line structures for higher integration.
[従来の技術]
第3図は、たとえば、1986年の国際固体回路会議(
I 5SCC86)の講演番号FAM19゜5において
提案された高集積ダイナミック型半導体記憶装置のビッ
ト線の接続構造を示す回路図である。[Prior Art] Figure 3 shows, for example, the 1986 International Solid State Circuit Conference (
15 is a circuit diagram showing a bit line connection structure of a highly integrated dynamic semiconductor memory device proposed in Lecture No. FAM19.5 of I5SCC86); FIG.
第3図において、la、lbはメモリセル、2a、
2b、2c、2dはメモリセルに接続された1層目のビ
ット線(以下「セグメントビット線」という) 、3a
、3b、3c、3dはセンスアンプとセグメントビット
線とを接続する2層目のビット線(以下「グローバルビ
ット線」という)、4.5,6.7.8,9.10.1
1はスイッチング素子、12a、12bはセンスアンプ
、13゜14、.15.16.17.18はワード線、
19゜20はセグメントセレクト信号、51はダミーセ
ルである。In FIG. 3, la and lb are memory cells, 2a,
2b, 2c, 2d are first layer bit lines (hereinafter referred to as "segment bit lines") connected to memory cells, 3a
, 3b, 3c, and 3d are second-layer bit lines (hereinafter referred to as "global bit lines") that connect the sense amplifier and the segment bit line. 4.5, 6.7.8, 9.10.1
1 is a switching element, 12a, 12b are sense amplifiers, 13°14, . 15.16.17.18 are word lines,
19 and 20 are segment select signals, and 51 is a dummy cell.
一方、第4図は、従来の通常の折返しビット線構造のメ
モリセルの平面図である。図において、21は1ビツト
のメモリセル、22はビット線、23.24はワード線
である。第4図の構成では、メモリセル1ビツトの領域
に、2本のワード線を通す必要があり、このことがメモ
リセルの平面積の縮小を制限していた。On the other hand, FIG. 4 is a plan view of a conventional memory cell having a normal folded bit line structure. In the figure, 21 is a 1-bit memory cell, 22 is a bit line, and 23 and 24 are word lines. In the configuration of FIG. 4, it is necessary to pass two word lines through the region of one bit of the memory cell, which limits the reduction in the planar area of the memory cell.
これに対して、第3図の構成では、折返しビット線構造
の利点を損なわずに、ワード線とビット線との交点ごと
にセルを形成することによって高集積化を目脂している
。第3図において、メモリセルはスイッチング素子5と
7とで2つのブロックに分割されている。メモリセルは
セグメントビット線とワード線との交点ごとに配置され
ている。On the other hand, the configuration shown in FIG. 3 achieves high integration by forming cells at each intersection of a word line and a bit line without sacrificing the advantages of the folded bit line structure. In FIG. 3, the memory cells are divided into two blocks by switching elements 5 and 7. In FIG. Memory cells are arranged at each intersection of a segment bit line and a word line.
ワード線13で左側のブロックのメモリセルが選択され
ると、メモリセルla、lbの記憶情報は、セグメント
ビット線2a、2bに読出される。このとき、スイッチ
ング素子4.6,10.11を遮断状態にし、スイッチ
ング素子5. 7. 8. 9を導通状態にすると、メ
モリセル1aはセンスアンプ12aに、メモリセル1b
はセンスアンプ12bに、それぞれ、接続される。した
がって、メモリセルla、lbの情報は、それぞれ、セ
ンスアンプ12a、12bによって増幅され、読出しと
再書込みが行なわれる。メモリセルの左側のブロックを
選択するときには、スイッチング素子4゜6.10.1
1を導通状態にし、スイッチング素子5. 7. 8.
9を遮断状態にすると、同様にして、選択された2つ
のメモリセルの情報が両側のセンスアンプによって増幅
される。When the memory cells of the left block are selected by the word line 13, the storage information of the memory cells la and lb is read out to the segment bit lines 2a and 2b. At this time, switching elements 4.6 and 10.11 are turned off, and switching elements 5. 7. 8. 9 becomes conductive, the memory cell 1a connects to the sense amplifier 12a, and the memory cell 1b connects to the sense amplifier 12a.
are connected to the sense amplifier 12b, respectively. Therefore, information in memory cells la and lb is amplified by sense amplifiers 12a and 12b, respectively, and read and rewritten. When selecting the left block of memory cells, switching element 4゜6.10.1
1 is made conductive, and switching element 5. 7. 8.
9 is turned off, the information in the two selected memory cells is similarly amplified by the sense amplifiers on both sides.
センスアンプ12aは、2つの入力端子25゜26に生
じた電位差を増幅する機能を持つ。一方、ビット線にチ
ップ内のクロック信号等のカップリングノイズが乗って
も、ビット線3e、3fは互いに近接しているため、ビ
ット線3e、3fの拾うカップリングノイズは同相とな
り、センスアンプ12aの動作を妨げない。つまり、こ
の第3図に示す構成の回路は、ビット線とワード線の交
点にメモリセルが形成できるというオーブンビット線構
造と同様の高集積性と、ノイズに強いという折返しビッ
ト線構造の特徴とを兼備することを狙いとしている。The sense amplifier 12a has a function of amplifying the potential difference generated between the two input terminals 25 and 26. On the other hand, even if coupling noise such as a clock signal in the chip is placed on the bit line, since the bit lines 3e and 3f are close to each other, the coupling noise picked up by the bit lines 3e and 3f will be in phase, and the sense amplifier 12a does not interfere with the operation of the In other words, the circuit shown in FIG. 3 has the characteristics of high integration similar to the oven bit line structure, in which memory cells can be formed at the intersections of bit lines and word lines, and the folded bit line structure, which is resistant to noise. The aim is to have both.
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、センスアンプ12aの入力端子25には
グルーパルビット線3eとセグメントビット線2aの2
つのビット線が接続され、入力端子26にはグルーパル
ビット線3fだけが接続された構造であるため、セグメ
ントビット線2aで□拾ったカップリングノイズは相殺
されない。したがって、上記説明した構成のものは、従
来の通常の折返しビット線構造の回路に比べてノイズ耐
性において劣り、また、センスアンプの2つの端子に付
く負荷容量がアンバランスとなるため、センスアンプ感
度が劣化するという問題がある。[Problems to be Solved by the Invention] However, the input terminal 25 of the sense amplifier 12a has two lines, the groupal bit line 3e and the segment bit line 2a.
Since the structure is such that two bit lines are connected and only the groupal bit line 3f is connected to the input terminal 26, the coupling noise picked up by the segment bit line 2a is not canceled out. Therefore, the configuration described above is inferior in noise resistance compared to a conventional circuit with a normal folded bit line structure, and the load capacitance attached to the two terminals of the sense amplifier becomes unbalanced, so the sense amplifier sensitivity There is a problem of deterioration.
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、オーブンビット線構成と同様の集積度を保
ったまま、上記従来例のようなビット線のアンバランス
を軽減し、センスアンプの感度およびノイズ耐性が改善
された半導体記憶装置を提供することを目的とする。This invention was made to solve the above-mentioned problems, and while maintaining the same degree of integration as the oven bit line configuration, it reduces the bit line imbalance as in the conventional example, and improves the sense An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device with improved amplifier sensitivity and noise resistance.
[問題点を解決するための手段]
この発明に係る半導体記憶装置は、センスアンプの2つ
の入力端子に、選択されたメモリセルを含んだセグメン
トビット線が接続されたグローバルビット線と、非選択
のメモリセルを含んだセグメントビット線が接続したグ
ローバルビット線とを接続するようなスイッチング素子
を付けたものである。[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory device according to the present invention includes a global bit line to which a segment bit line including a selected memory cell is connected to two input terminals of a sense amplifier, and a global bit line to which a segment bit line including a selected memory cell is connected to two input terminals of a sense amplifier. A switching element is provided to connect a segment bit line containing memory cells to a connected global bit line.
[作用]
この発明における半導体記憶装置は、センスアンプの2
つの入力端子に、それぞれ、同じ長さのグローバルビッ
ト線とセンスアンプとを接続するようにしたので、セン
スアンプの2つの入力負荷のバランスがとれる。したが
って、従来の折返しビット線構造と同様のノイズ耐性、
センスアンプ感度を保ったまま、オーブンビット線構造
と同様の集積度を達成することができる。[Function] The semiconductor memory device according to the present invention has two sense amplifiers.
Since the global bit line and the sense amplifier having the same length are connected to each of the two input terminals, the two input loads of the sense amplifier can be balanced. Therefore, noise immunity similar to traditional folded bit line structure,
It is possible to achieve the same degree of integration as an oven bit line structure while maintaining sense amplifier sensitivity.
[発明の実施例コ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。[Embodiments of the invention] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図において、la、lb、lc、ld、1e、if
、Ig、lhはメモリセル、2a、2b。In Figure 1, la, lb, lc, ld, 1e, if
, Ig, lh are memory cells, 2a, 2b.
2C,2d、2e、2f、2g、2hはセグメントビッ
ト線、3a、3b、3c、3d、3e、3f、3g、3
hはグローバルビット線、φ1.φ2、ψ1.ψ2は制
御信号、30.31はφ1によって、32.33はφ2
によって、34. 35゜36.37はψ1によって、
3g、 39. 40゜41はψ2によって、それぞ
れ制御されるスイッチング素子、Wl、W2.W3.W
4はワード線、12a、12bはセンスアンプである。2C, 2d, 2e, 2f, 2g, 2h are segment bit lines, 3a, 3b, 3c, 3d, 3e, 3f, 3g, 3
h is a global bit line, φ1. φ2, ψ1. ψ2 is the control signal, 30.31 is due to φ1, 32.33 is due to φ2
By, 34. 35°36.37 is due to ψ1,
3g, 39. 40°41 are switching elements Wl, W2 ., respectively controlled by ψ2. W3. W
4 is a word line, and 12a and 12b are sense amplifiers.
第1図では、メモリセルは、A、 B、 C,Dの
4ブロツクに分割されている場合を例示している。各ブ
ロックには、実際には、複数のワード線が備わっている
が、図には1本ずつだけ示しである。メモリセルは、オ
ープンビット線構成の場合と同様に、ワード線とセグメ
ントビット線との交点ごとに形成されている。In FIG. 1, the memory cells are divided into four blocks A, B, C, and D. Each block actually has a plurality of word lines, but only one is shown in the figure. A memory cell is formed at each intersection of a word line and a segment bit line, as in the case of the open bit line configuration.
次に動作について説明をする。メモリセルの選択に先立
って制御信号φ1.φ2.ψ1.ψ2を“H”レベルと
して、すべてのセグメントビット線2a〜2hおよびグ
ローバルビット線3a〜3hを接続し、これらの電位を
すべて一定電位にイコライズまたはプリチャージしてお
く。Next, the operation will be explained. Prior to selecting a memory cell, control signal φ1. φ2. ψ1. With ψ2 set to "H" level, all segment bit lines 2a to 2h and global bit lines 3a to 3h are connected, and their potentials are all equalized or precharged to a constant potential.
次に、たとえば、Bブロック中のメモリセルを選択する
ときには、ψ1−“H”、ψ2−“L“。Next, for example, when selecting a memory cell in block B, ψ1-“H”, ψ2-“L”.
φ1−“L″、φ2−“H”とし、ワード線W2を“H
“ レベルとする。このとき、ワード線W2によって選
択されるメモリセルIC,ldは、それぞれ、センスア
ンプ12bおよびセンスアンプ12gに接続されて、検
知増幅される。φ1-“L”, φ2-“H”, word line W2 “H”
" level. At this time, the memory cells IC and ld selected by the word line W2 are connected to the sense amplifier 12b and the sense amplifier 12g, respectively, and are sensed and amplified.
このとき、センスアンプ12aの一方の入力端子には、
グローバルビット線3aとセグメントビット線2aが、
もう一方の入力端子にはグローバルビット線3bとセグ
メントビット線2bが、それぞれ、接続される。また、
センスアンプ12bの一方の入力端子には、グローバル
ビット線3c。At this time, one input terminal of the sense amplifier 12a has
The global bit line 3a and the segment bit line 2a are
The other input terminal is connected to the global bit line 3b and the segment bit line 2b, respectively. Also,
A global bit line 3c is connected to one input terminal of the sense amplifier 12b.
3e、3gとセグメントビット線2cが接続され、もう
一方の入力端子にはグローバルビット線3d。3e and 3g are connected to the segment bit line 2c, and the other input terminal is connected to the global bit line 3d.
3f、3hとセグメントビット線2bが接続される。し
たがって、センスアンプに入力される2つのビット線の
容量はバランスがとれている。また、2つのビット線が
拾うカップリングノイズの大きさも同等となるので、ノ
イズ耐性が劣化することもない。3f and 3h are connected to segment bit line 2b. Therefore, the capacitances of the two bit lines input to the sense amplifier are balanced. Further, since the magnitude of coupling noise picked up by the two bit lines is also the same, noise resistance does not deteriorate.
メモリセルアレイの他のブロックのセルを選択する場合
には、信号ψ1.ψ2.φ1.φ2を下の表のようにす
ることによって、上述と同様の動作を行なわせることが
できる。When selecting cells in another block of the memory cell array, the signal ψ1. ψ2. φ1. By setting φ2 as shown in the table below, the same operation as described above can be performed.
第2図は、第1図の構成の各ビット線のレイヤの例を示
した図で、たとえば、グローバルビット線3a〜3hに
アルミニウム(Aα)を、セグメントビット線2a、2
d、2e、2hに第3層目のポリシリコンを、セグメン
トビット線2b、2c、2f、2gに第4層目のポリシ
リコンを用いる。そして、たとえば、ワード線W2を“
H″レベルして、メモリセルlc、ldを選択すると、
センスアンプ12aには、第3層目のポリシリコンから
なるセグメントビット線2a、2dが接続され、センス
アンプ12bには第4層目のポリシリコンからなるセグ
メントビットUA2b、2cが接続される。したがって
、センスアンプに接続される2本のセグメントビット線
は、同じ配線材料によって形成されているので、対称性
が良い。FIG. 2 is a diagram showing an example of the layers of each bit line in the configuration of FIG. 1. For example, aluminum (Aα) is used for the global bit lines 3a to 3h,
Third layer polysilicon is used for segment bit lines 2b, 2c, 2f, and 2g, and fourth layer polysilicon is used for segment bit lines 2b, 2c, 2f, and 2g. Then, for example, the word line W2 is set to “
When the memory cells lc and ld are selected by raising the level to H'',
Segment bit lines 2a and 2d made of third layer polysilicon are connected to sense amplifier 12a, and segment bit lines UA2b and 2c made of fourth layer polysilicon are connected to sense amplifier 12b. Therefore, since the two segment bit lines connected to the sense amplifier are formed of the same wiring material, they have good symmetry.
なお、上記実施例では、セグメントビット線がグローバ
ルビット線の1/4の長さを持つ場合について示したが
、セグメントビット線がグローバルビット線の偶数骨の
1の長さを持った場合でも同様に適用できる。In the above embodiment, the case where the segment bit line has a length of 1/4 of the global bit line is shown, but the same applies when the segment bit line has a length of 1 of the even numbered bones of the global bit line. Applicable to
また、第1図の実施例では、下側のグローバルビット線
だけに交差したスイッチ素子を作っているが、境界部ご
とに、交差したスイッチ素子を有するグローバルビット
線に代えてもよい。Further, in the embodiment shown in FIG. 1, switch elements are made that cross only the lower global bit line, but each boundary may be replaced with a global bit line that has a switch element that crosses.
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、従来の折返しビット
線構造と同様のノイズ耐性およびセンスアンプ感度を保
ったまま、オーブンビット線構造と同様の集積度が達成
可能な半導体記憶装置とすることができる。[Effects of the Invention] As described above, the present invention provides a semiconductor that can achieve the same degree of integration as the oven bit line structure while maintaining the same noise resistance and sense amplifier sensitivity as the conventional folded bit line structure. It can be a storage device.
第1図は、この発明の一実施例の構造を示す回路図であ
る。第2図は、第1図の構造の各ビット線のレイヤの例
を示した図である。第3図は、この発明に興味深い従来
の半導体記憶装置のビット線の構造を示す回路図である
。第4図は、従来の通常の折返しビット線構成のメモリ
セルの平面図である。
図において、1a〜1hはメモリセル、2a〜2hはセ
グメントビット線、3a〜3hはグローバルビット線、
φ1.φ2.ψ1.ψ2は制御信号、30〜41はスイ
ッチング素子、W1〜W4はワード線、12a、12b
はセンスアンプを示す。FIG. 1 is a circuit diagram showing the structure of an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing an example of layers of each bit line in the structure of FIG. 1. FIG. 3 is a circuit diagram showing the structure of a bit line of a conventional semiconductor memory device which is interesting to the present invention. FIG. 4 is a plan view of a memory cell having a conventional normal folded bit line configuration. In the figure, 1a to 1h are memory cells, 2a to 2h are segment bit lines, 3a to 3h are global bit lines,
φ1. φ2. ψ1. ψ2 is a control signal, 30-41 are switching elements, W1-W4 are word lines, 12a, 12b
indicates a sense amplifier.
Claims (1)
セルアレイと、各ブロックごとに設けられた、メモリセ
ルとコンタクトを持つ第1種のビット線およびメモリセ
ルとコンタクトを持たない第2種のビット線とを備えた
半導体記憶装置において、 各ブロックの境界部のうち、メモリセルアレイの端部か
ら奇数番目の境界部には、センスアンプの一方の入力端
子に接続される第2種のビット線とこの第2種のビット
線と同一のブロックにある第1種のブロックとを接続す
るスイッチ素子、センスアンプの他方の入力端子に接続
される第2種のビット線とこの第2種のビット線と境界
部を挟んで隣り合うブロック内にある第1種のビット線
とを接続するスイッチ素子、および、境界部を挟んで隣
り合うブロック内の第2種のビット線同士を接続するス
イッチ素子を備え、 各ブロックの境界部のうち、メモリセルアレイの端部か
ら偶数番目の境界部では、境界部を挟んで隣り合うブロ
ック内の第2種のビット線同士のみを接続したことを特
徴とする、半導体記憶装置。[Claims] A memory cell array equally divided into a plurality of blocks in the bit line direction, a first type bit line provided for each block and having contacts with the memory cells, and a first type bit line having contacts with the memory cells. In a semiconductor memory device equipped with a type 2 bit line that does not have a second type bit line, among the boundaries between each block, an odd-numbered boundary from the end of the memory cell array has a second type bit line connected to one input terminal of the sense amplifier. A switch element that connects two types of bit lines and a first type block in the same block as this second type bit line, a second type bit line connected to the other input terminal of the sense amplifier, and a second type bit line connected to the other input terminal of the sense amplifier. A switch element that connects a second type bit line with a first type bit line in an adjacent block across a boundary, and between second type bit lines in adjacent blocks across a boundary. At even-numbered boundaries from the end of the memory cell array among the boundaries between each block, only the second type bit lines in adjacent blocks across the boundary are connected to each other. A semiconductor memory device characterized by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61213103A JPS6366791A (en) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61213103A JPS6366791A (en) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6366791A true JPS6366791A (en) | 1988-03-25 |
Family
ID=16633622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61213103A Pending JPS6366791A (en) | 1986-09-09 | 1986-09-09 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6366791A (en) |
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1986
- 1986-09-09 JP JP61213103A patent/JPS6366791A/en active Pending
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