JPS63501313A - Cleaning device for many pores - Google Patents
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- JPS63501313A JPS63501313A JP61504899A JP50489986A JPS63501313A JP S63501313 A JPS63501313 A JP S63501313A JP 61504899 A JP61504899 A JP 61504899A JP 50489986 A JP50489986 A JP 50489986A JP S63501313 A JPS63501313 A JP S63501313A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は多くぼみ、例えば微小滴定板の数列のくぼみの洗浄に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to the cleaning of multiple recesses, for example several rows of recesses in a microtitration plate.
従来の技術 診断的調査及び疫学的調査においては、微小滴定板のくぼみの中で多数の生化学 反応をまとめてテストするのが普通の慣行である。このようなテストの種々の段 階において、くぼみを洗い落とすことが必要である。例えば、酵素免疫検定(E 、1. A、 )(enzyme in+a+uno assay)において、 各段階の間で各くぼみを洗い落して未吸収又は未反応の物質を除去することが必 要である。Conventional technology In diagnostic and epidemiological investigations, a large number of biological chemicals can be analyzed in the wells of a microtitration plate. It is common practice to test reactions in bulk. Various stages of such testing On the floor, it is necessary to wash out the depressions. For example, enzyme immunoassay (E , 1. In A, ) (enzyme in + a + uno assay), It is necessary to wash each cavity between each step to remove unabsorbed or unreacted material. It is essential.
EIA技術の一部として微小滴定板のくぼみを一度に一列洗浄する手動操作式単 列洗浄機が現在入手可能である。洗浄工程は、くぼみの中の流体を真空排出(e vacuate) L、一定体積のすすぎ流体でそのくぼみを再び満し、浸漬時 間を与え、くぼみを再び洗浄し、この工程を3回又はそれ以上繰返すことによっ て、微小滴定板の個々のくぼみを注意深くすすぐことである。くぼみが再び満さ れる毎に、残っている解放された内容物はほぼ100対lに稀釈され、従って3 回のサイクルでは、解放された内容物は10’対lに稀釈される。付着された成 分がくぼみから少しでも剥ぎ取られないように洗浄を注意深く制御することが重 要である。また、くぼみ間に溢れる相互汚染に通ずる過剰充填があってはならな い。A manually operated unit that cleans the wells of a microtitration plate one row at a time as part of the EIA technique. Row washers are currently available. The cleaning process involves vacuum evacuation (e.g. vacuate) L, refill the cavity with a constant volume of rinsing fluid and during immersion By giving a period of time, cleaning the cavity again and repeating the process three or more times. and then carefully rinse each well of the microtitration plate. the hollow is filled again Each time the remaining liberated contents are diluted to approximately 100:1, thus 3 In one cycle, the released contents are diluted 10' to 1. attached structure It is important to carefully control the cleaning to avoid stripping any of the material from the recesses. It is essential. Also, there should be no overfilling that could lead to cross-contamination between the recesses. stomach.
このような手動操作式単列洗浄機の例は、Flow Laboratories Limitedにより製造されたTitertek Handivashである 。An example of such a manually operated single row washer is the Flow Laboratories Titertek Handivash manufactured by Limited .
周知の洗浄装置について起る1つの問題は、未だ真空排気(出)されていない流 体がくぼみの底部の隅に集まる傾向があることである。One problem that arises with known cleaning equipment is that the flow is not yet evacuated. The body tends to gather in the bottom corners of the depression.
発明の概要 本発明によれば、第1の観点において、微小滴定板のくぼみから流体を真空排出 するための方法が提供され、この方法は、微小滴定板のくぼみの中へ吸引ノズル を下降し、該ノズルに吸引を加え、吸引ノズルがくぼみの底部を横切るように吸 引ノズルに対して微小滴定板を水平に動かず、という段階を含んでいる。吸引ノ ズルにくぼみの底部を横切らせることにより、くぼみの隅の流体が効果的に除去 される。Summary of the invention According to the present invention, in a first aspect, the fluid is vacuum evacuated from the recess of the microtitration plate. A method is provided for , apply suction to the nozzle, and apply suction so that the suction nozzle crosses the bottom of the recess. It includes the step of not moving the microtitration plate horizontally with respect to the pulling nozzle. Suction no By running the slurry across the bottom of the cavity, fluid in the corners of the cavity is effectively removed. be done.
周知の洗浄装置のもう1つの問題は、くぼみが、吸引ノズルの外側で1つのくぼ みから次のくぼみへ横切って運ばれる流体により相互汚染されることがある、と いうことである。Another problem with the known cleaning device is that the recess is one recess outside the suction nozzle. There can be cross-contamination from fluids carried across from one cavity to the next. That's what I mean.
本発明によれば、第2の観点において、溜め槽から流体を除去するための装置が 提供され、この装置は、溜め槽周の支持体と、支持体上の溜め槽から流体を除去 するための吸引ノズルと、吸引ノズルに連結された吸引手段と、吸引ノズルを溜 め槽に向かって下降させるための手段と、吸引ノズルが溜め槽内の流体まで下降 される前に吸引ノズルに吸引を加えるための、及び溜め槽内の流体が吸引ノズル の中へ引き上げられるとき吸、引ノズルが溜め槽内の流体の表面を貫通しないよ うに十分ゆっくりと吸引ノズルを下降させるための制御手段と、を備えている。According to the invention, in a second aspect, a device for removing fluid from a reservoir is provided. The apparatus is provided with a support around the sump and for removing fluid from the sump on the support. a suction nozzle connected to the suction nozzle, and a suction means connected to the suction nozzle; means for lowering the fluid into the reservoir and a suction nozzle lowering the fluid into the reservoir; to apply suction to the suction nozzle before the fluid in the reservoir reaches the suction nozzle. Make sure that the suction nozzle does not penetrate the surface of the fluid in the reservoir when it is pulled up into the tank. and control means for lowering the suction nozzle slowly enough.
吸引ノズルが溜め槽内の流体まで下降される前に吸引ノズルに吸引を加えること により、溜め槽内の流体による吸引ノズルの外側の慣れが避けられ、この相互汚 染も避けられる。1つの用途においては、溜め槽は微小滴定板のくぼみである。Applying suction to the suction nozzle before it is lowered to the fluid in the reservoir This avoids acclimatization of the outside of the suction nozzle with the fluid in the reservoir and prevents this mutual contamination. You can also avoid staining. In one application, the reservoir is a well in a microtitration plate.
好ましい形態では、本装置は、充填ノズルと、充填ノズルにすすぎ流体を供給す るための手段と、吸引ノズルと、微小滴定板を支持するだめの支持体に対し吸引 ノズルを移動させるための手段と、微小滴定板の上側表面のレベルの丁度上に吸 引ノズルを位置決めし、下降位置にある吸引ノズルに吸引を加えている間に供給 手段を作動してすすぎ流体を充填ノズルを通して微小滴定板のくぼみに供給する ようになっている制御手段を備え、それによってすすぎ流体がくぼみから溢れる ことなくぼみをその縁まですすぎ流体で満すことを特徴とする。In a preferred form, the device includes a fill nozzle and a rinsing fluid for supplying the fill nozzle. a suction nozzle and a suction nozzle, and a suction nozzle and a suction A means for moving the nozzle and a suction tube just above the level of the upper surface of the microtitration plate. Position the pull nozzle and supply while applying suction to the suction nozzle in the lowered position. activating the means to supply rinsing fluid through the filling nozzle to the recess of the microtitration plate; control means adapted to cause the rinsing fluid to overflow from the recess. It is characterized by filling the recess with rinsing fluid to the brim without any problem.
成る洗浄サイクルにおいては、くぼみの中へ分配されるすすぎ流体の量を正確に 制御することが望ましい。この制御は、すすぎ流体が一定の割合で供給されるも のと仮定して、流量制御弁が開いている時間を制御することにより達成できる。The cleaning cycle consists of precisely controlling the amount of rinsing fluid dispensed into the cavity. It is desirable to control. This control also means that the rinsing fluid is supplied at a constant rate. This can be achieved by controlling the time that the flow control valve is open.
不幸にして、ポンプの出力は通常脈動するので、流量制御弁を通る流量は変動す る。Unfortunately, the output of the pump is usually pulsating, so the flow through the flow control valve is variable. Ru.
本発明によれば、第3の観点において、ポンプと、ポンプの出力側に連結された 可撓性かつ弾力性の材料の成る長さのチューブと、チューブを通してポンプの出 力を受入れるためチューブの下流端に連結された絞り弁と、を備え、チューブの 壁がポンプの出力の脈動を減衰するように弾性であること、を特徴とする液体供 給装置が提供される。According to the present invention, in a third aspect, the pump and the A length of tubing made of flexible, resilient material and a pump output through the tubing. a throttle valve connected to the downstream end of the tube for receiving the force; A liquid supply characterized in that the wall is elastic so as to damp pulsations in the output of the pump. A feeding device is provided.
図面の簡単な説明 本発明の特定の実施態様を、添付図面を参照して実施例として以下説明する。Brief description of the drawing Particular embodiments of the invention will now be described by way of example with reference to the accompanying drawings, in which: FIG.
第1図は本発明を組み込んだ滴定板洗浄装置の上から見た図である。FIG. 1 is a top view of a titration plate cleaning apparatus incorporating the present invention.
第2図は第1図の■−■線に沿う断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line ■-■ in FIG. 1.
第3図は第1図の装置の下側から見た底部切除の図である。FIG. 3 is a bottom cutout view from below of the device of FIG. 1;
第4図はスパイラルカム板の図である。FIG. 4 is a diagram of the spiral cam plate.
第5図は第1図の■−■線に沿う側面図で、明瞭のため若干の部品を省略しであ る。Figure 5 is a side view taken along the line ■-■ in Figure 1, with some parts omitted for clarity. Ru.
第6図は第1図の装置の平面図で、明瞭のためカバーを取外し、若干の部品を省 略しである。Figure 6 is a plan view of the device shown in Figure 1, with the cover removed and some parts omitted for clarity. This is an abbreviation.
第7図は供給ポンプの概略図である。FIG. 7 is a schematic diagram of the feed pump.
’18図〜第」3図はノズルの供給配置の種々の実施態様を示す断面図である。Figures '18 to '3 are cross-sectional views showing various embodiments of the nozzle supply arrangement.
第14図はヘッドとくぼみを通る部分図で、くぼみの真空排出(気)中のキャリ ジの二方向移動を示す。Figure 14 is a partial view passing through the head and the recess, showing the carrier in the recess's vacuum evacuation (air). This shows the two-way movement of the ji.
第15図はヘッドとくぼみを通る部分図で、くぼみを縁まで洗浄するためのサイ クルを示す。Figure 15 is a partial view of the head and the recess, showing the size for cleaning the recess to the edge. Shows the kuru.
好ましい実施態様の説明 添付図面を参照すると、微小滴定板洗浄用の装置は、液体分配ヘッド46の下を 移動するキャリジ16を備えている。すすぎ流体供給ノズル48と吸引ノズル5 0走が、ヘッド46から下方に突出している。ピボット55(第5図参照)を中 心としてヘッド46を移動させるこきにより、ノズルを板14の中の一列のくぼ みの中に下降させることができる。洗浄作業を行なうために、板14を収容する キャリジ16をノズルの下で移動させ、−列のくぼみをノズルの下に整列させる 。洗浄工程は、供給ノズル48からのすすぎ流体でくぼみを満し、吸引ノズル5 0によってこの流体を真空排出することを含む。分配ヘッドの昇降及びキャリジ の移動は、予めプログラムされたマイクロプロセッサで制御されるステッパモー タ36.57によって行なわれる。マイクロプロセッサはいくつかの異なる洗浄 サイクルを提供し、使用者はこれらの洗浄サイクルから自分の要求に適したもの を選択できる。Description of preferred embodiments Referring to the accompanying drawings, the apparatus for microtitration plate cleaning is shown below the liquid dispensing head 46. A moving carriage 16 is provided. Rinse fluid supply nozzle 48 and suction nozzle 5 A zero run projects downward from the head 46. Pivot 55 (see Figure 5) By moving the head 46 as a center, the nozzles are aligned in a row of depressions in the plate 14. It can be lowered into the sky. accommodating the plate 14 for cleaning operations; Move the carriage 16 under the nozzle to align the - row of recesses under the nozzle. . The cleaning process involves filling the recess with rinsing fluid from the supply nozzle 48 and filling the cavity with rinsing fluid from the suction nozzle 5. 0 to evacuate this fluid. Raising and lowering the dispensing head and carriage movement is achieved by a stepper motor controlled by a pre-programmed microprocessor. This is done by data 36.57. The microprocessor has several different washes cycles and users can select from these cleaning cycles the one that suits their requirements. You can choose.
第1図、第2図及び′M3図を参照すると、ハウジング9は前壁5、後壁6、及 び側壁7.8と連結されたベース部分1oを有し、従って剛性支持構造体を提供 し、この支持構造体上にくぼみ洗浄装置が構成される。カバー11が前壁5、後 壁6及び側壁8に載り、そして、第2図で見て装置の左半分に亘って延びている 。Referring to FIGS. 1, 2 and 'M3, the housing 9 includes a front wall 5, a rear wall 6, and and a base portion 1o connected to the side walls 7.8, thus providing a rigid support structure. A recess cleaning device is then constructed on this support structure. The cover 11 is attached to the front wall 5 and the rear rests on wall 6 and side wall 8 and extends over the left half of the device as viewed in FIG. .
微小滴定板14は、明瞭のため切欠いて示しであるが、キャリジ16上の適所に 保持される。この装置と共に用いるための微小滴定板14は、明るい透明な成型 プラスチック材料からなる普通の8×12列タイプである。各くぼみの中の反応 した物質を通過する光の量に従ってくぼろの中での反応の程度を光学的に測定し つるように、通常、各くぼみには平らな底が形成されている。The microtitration plate 14, shown cut away for clarity, is in place on the carriage 16. Retained. The microtitration plate 14 for use with this device is a bright transparent molded It is an ordinary 8x12 row type made of plastic material. Reaction inside each cavity The degree of reaction inside the hollow is measured optically according to the amount of light that passes through the material. Like a vine, each depression usually has a flat bottom.
キャリジ16は長方形で、その縁の周りに板を位置決めするための隆起したリッ プ15を備え、板からこぼれた液を集めるために中央ドレン孔13に向かって下 方に傾斜した浅い漏斗として形作られた上面17を有する。キャリジ16は、ハ ウジングの一方側で直線軌道上を前後に移動する。軌道は、レール18とハウジ ング」二に固定された溝19とを備えている。レール18は、ハウジングの側壁 に隣接し−CカバーIlに取付けられているが、キャリジ16の下側を一方の側 (第2図参照)に沿って支持するロッド18からなる。キャリジ16の反対側は キャリジアーム24の上部25に固定されている。アーム24の上部25は拡大 されかつカバーの溝19に係合して、キャリジをその右側で支持し、軌道に沿っ て直線移動するようにキャリジを案内する。アーム24に取付けられたばね27 はカバー11の下側を押圧して、カバー上にキャリジ16を保持し、アームの拡 大部分25を溝19の中に維持する。溝19とレール18との開で、カバー11 は浅い漏斗として形作られて、キャリジ16の移動長さにわたって延びる滴トレ イ26を形成している。トレイ26はキャリジからこぼれた流体を集め、次にポ ンプ(図示せず)を経て適当な槽に連結された中央ドレン孔20の中へ注ぐ。ガ ーゼフィルタ21がドレン孔20の内部に配置されている。The carriage 16 is rectangular with raised lips around its edges for positioning the board. 15, which extends downward toward the central drain hole 13 to collect liquid spilled from the plate. It has an upper surface 17 shaped as a shallow funnel sloping towards the side. The carriage 16 is Moves back and forth in a straight line on one side of the Uzing. The track consists of rail 18 and housing and a groove 19 fixed to the ring. The rail 18 is a side wall of the housing. is attached to the -C cover Il, but the underside of the carriage 16 is attached to one side. (See FIG. 2). The other side of carriage 16 is It is fixed to the upper part 25 of the carriage arm 24. The upper part 25 of the arm 24 is enlarged. and engages in the groove 19 of the cover to support the carriage on its right side and guide it along the track. guide the carriage so that it moves in a straight line. Spring 27 attached to arm 24 presses the underside of the cover 11 to hold the carriage 16 on the cover and expand the arm. Large portion 25 is maintained within groove 19. Due to the opening between the groove 19 and the rail 18, the cover 11 is a droplet tray shaped as a shallow funnel and extending over the length of travel of the carriage 16. A26 is formed. Tray 26 collects spilled fluid from the carriage and then via a pump (not shown) into a central drain hole 20 connected to a suitable tank. Ga A drain filter 21 is disposed inside the drain hole 20.
キャリジ16は、その直線軌道に沿って、ステッパモータ36によりリードねじ 機構28を介して動かされる。キャリジアーム24の狭い方の下方部分は、その 拡大された上方部分から滴トレイ26の横のカバー11のスロット29を通して 下方に延び、リードねじ機構28のリードねじスリーブ2゛3に固定されている 。The carriage 16 is moved along its linear trajectory by a stepper motor 36 to drive a lead screw. It is moved via mechanism 28. The narrow lower portion of the carriage arm 24 through the slot 29 in the cover 11 next to the drop tray 26 from the enlarged upper part. Extends downward and is fixed to the lead screw sleeve 2 3 of the lead screw mechanism 28 .
リードねじ30は、その一端がハウジング9の後壁6に取付けられた球レース軸 受32内に回転自在に取付けられ、その他端がハウジング9の前壁5に隣接して 取付けられたステッパモータ36の軸に取付けられている。リードねじスリーブ 23は、金属均等物の場合より滑らかな移動特性を与えるためスリーブ23の内 側に固定された一対の間隔をへだてたねじ付プラスチックブツシュ38を介して リードねじのねじ山に係合する。リードねじ30のねじ山をきれいに維持するた め、リードねじ30は、一端がスリロー状覆い40で、又一端がスリーブ23に 取付けられ、他端がステッパモータ36のスリーブ35に取付けられた第2のベ ローズ状覆い44で包囲されている。ステッパモータの軸の回転によりスリーブ 23をリードねじ30に沿って移動させるとき、各覆い40.44は伸縮してス リーブ23の位置の変化に順応する。The lead screw 30 has one end attached to a ball race shaft attached to the rear wall 6 of the housing 9. It is rotatably mounted in the receiver 32 and the other end is adjacent to the front wall 5 of the housing 9. It is attached to the shaft of an attached stepper motor 36. lead screw sleeve 23 is inside the sleeve 23 to provide smoother moving characteristics than with metal equivalents. Through a pair of spaced apart threaded plastic bushings 38 fixed to the side. Engages with the threads of the lead screw. To maintain the threads of the lead screw 30 cleanly, The female lead screw 30 has a threaded cover 40 at one end and a sleeve 23 at the other end. a second base with the other end attached to the sleeve 35 of the stepper motor 36; It is surrounded by a rose-like covering 44. The sleeve is rotated by the rotation of the stepper motor shaft. 23 along the lead screw 30, each shroud 40, 44 expands and contracts to Adapts to changes in the position of the rib 23.
キャリジ16はステッパモータ36により、カバー11の前部の“体止位FjR (home 5tation)”から分配ヘッド46の下方の後方作動位置へ移 動させることができる。すすぎ流体供給ノズル48と吸引ノズル50とは、対を なして分配ヘッドから下方に突出する。ノズルの対の間隔は、微小滴定板の列を なしたくぼみの間隔に相当する。この実施態様では、分配ヘッド46とキャリジ 16は、8×10列の整列をもつ前述した標準の微小滴定板上について用いられ るように構成されている。かくして、12対の洗浄液供給ノズル48と吸引ノズ ル50とが設けられる。ノズル対を一列により、多く或はより少く取つけてもよ いことは明らかである。The carriage 16 is moved to a "body rest position FjR" at the front of the cover 11 by a stepper motor 36. (home 5tation)” to the rear operating position below the distribution head 46. can be moved. The rinsing fluid supply nozzle 48 and the suction nozzle 50 are a pair. projecting downwardly from the dispensing head. The spacing between the pairs of nozzles corresponds to the rows of microtitration plates. Corresponds to the interval between the indentations made. In this embodiment, the dispensing head 46 and carriage 16 was used on the standard microtitration plate described above with an 8 x 10 array. It is configured to Thus, 12 pairs of cleaning liquid supply nozzles 48 and suction nozzles 50 is provided. More or fewer nozzle pairs can be installed in a row. It is clear that this is not the case.
分配ヘッドは互換性があり、例えば8対のノズルを有するヘッドと交換すること ができる。洗浄工程の速度を増大させるために、2列以上のノズルの対を設ける ことも可能である。The distribution head is compatible, e.g. can be replaced by a head with 8 pairs of nozzles Can be done. Provide two or more rows of nozzle pairs to increase the speed of the cleaning process It is also possible.
各吸引ノズル50は、分配へラド46が真空排出位置にあるとき分配ヘッドから 垂直下方に突出し、微小滴定板14のくぼみの底部から流体を吸引することがで きる程の長さである。各供給ノズル48はその対応する吸引ノズル50に対し僅 かな角度をなして取付けられ、該吸引ノズル50の手前で終っている。洗浄液の 洗浄作用を高めるため、洗浄液が供給ノズル48からくぼみに入るとき洗浄液に 渦巻き運動を起させるように、供給ノズル48を吸引ノズル50に対し角度をつ けて取付けるのがよい。Each suction nozzle 50 exits the dispensing head when the dispensing rad 46 is in the vacuum evacuation position. It protrudes vertically downward and can suck fluid from the bottom of the recess of the micro titration plate 14. It is long enough. Each supply nozzle 48 is slightly smaller than its corresponding suction nozzle 50. It is attached at a slight angle and ends in front of the suction nozzle 50. of cleaning solution To enhance the cleaning action, when the cleaning liquid enters the recess from the supply nozzle 48, The supply nozzle 48 is angled relative to the suction nozzle 50 to create a swirling motion. It is best to install the
第8図〜第11図は分配ヘッド46に使用しうる供給ノズル48の2つの形態を 示し、分配ヘッド46を、洗浄すべきくぼみに対し充填位置まで下降させである 。変形例では、第12図及び第13図に示すように、供給ノズルと吸引ノズルが 互に平行に位置するように供給ノズル48を配置することができる。8-11 illustrate two configurations of supply nozzle 48 that may be used in dispensing head 46. and the dispensing head 46 is lowered into the fill position relative to the cavity to be cleaned. . In a modified example, as shown in FIGS. 12 and 13, the supply nozzle and the suction nozzle are The supply nozzles 48 can be arranged parallel to each other.
分配ヘッド46は第5図に示す相互連結部52に着脱自在に連結され、分配ヘッ ド46の吸引孔54及び供給孔56が、相互連結部52を介して吸引ポンプ(図 示せず)及び供給ポンプ80と夫々連通するようになっている。吸引孔及び供給 孔は、分配ヘッド内で吸引ノズル50及び供給ノズル48に夫々連結される。相 互連結部524供給ノズル48とを連結する供給孔5Gの横断面は、ノズルの横 断面に対して十分大きい直径を有するので、異なるノズルの流体間には著しい圧 力差はない。The dispensing head 46 is removably connected to an interconnect 52 shown in FIG. A suction hole 54 and a supply hole 56 of the door 46 connect to a suction pump (see FIG. (not shown) and supply pump 80, respectively. Suction hole and supply The holes are connected to suction nozzle 50 and supply nozzle 48, respectively, within the dispensing head. phase The cross section of the supply hole 5G connecting the interconnection part 524 and the supply nozzle 48 is parallel to the side of the nozzle. Having a sufficiently large diameter relative to the cross section that there is no significant pressure between the fluids in different nozzles. There is no difference in strength.
相互連結部52はハウジング9の後壁6に固定された柱49で板はね55によっ て枢動可能に支持され、第2ステツパモータ57(第5図参照)によってこのピ ボットを中心として昇降される。第4図に示す渦巻形カム板60が第2ステツパ モータ57の軸58に取付けられている。第2ステツパモータ57から離れる方 に面するカム板60の表面には、カム板60のほぼ中心から進むスパイラル渦巻 溝62がある。相互連結部52のベースに固定された下降ストップアーム66か ら突出するピン64が、カム板60の溝62に係合する。第2ステツパモータ5 7を回転させることにより、溝62の経路が固定ピン64を通ると、固定ピン6 4が上下に移、動する。これにより下降ストップアーム66を上昇させ、従って 相互連結部52及び分配ヘッド46をピボット板ばね55の周りに傾ける。板ば ね55の利点は、分配ヘッド46の移動方向を変えたときバックラッシュが生じ ないことである。The interconnection 52 is a post 49 fixed to the rear wall 6 of the housing 9 and is connected by a plate 55. This pin is pivotably supported by a second stepper motor 57 (see FIG. 5). It is raised and lowered mainly by bots. The spiral cam plate 60 shown in FIG. It is attached to the shaft 58 of the motor 57. The direction away from the second stepper motor 57 On the surface of the cam plate 60 facing There is a groove 62. A lowering stop arm 66 fixed to the base of the interconnect 52 A pin 64 protruding from the cam plate 60 engages with a groove 62 of the cam plate 60. Second stepper motor 5 7, when the path of the groove 62 passes through the fixing pin 64, the fixing pin 6 4 moves up and down. This causes the lowering stop arm 66 to rise, thus Tilting the interconnect 52 and dispensing head 46 about the pivot leaf spring 55. Itaba The advantage of the thread 55 is that backlash occurs when the direction of movement of the dispensing head 46 is changed. There is no such thing.
分配ヘッド46の移動中、ピン64を溝62の一方の壁に押しつけた状態に維持 するために、相互連結/分配ヘッドの組立体68は、ハウジング9の後壁6に固 定したブラケット71と相互連結/分配ヘッド組立体68との間に固定されたば ね70によって下向きに付勢されている。カム板60のスパイラル溝62の内端 はその幅が末拡がりになっており、従って下降ストップアーム66、それ故分配 ヘッド46が真空排出位置へ下げられ、下降ストップアーム66の下面が調節可 能レバー72の上面73に当接するとき、自重及びばね70で及ぼされる付加的 な拘束力でピン640当っている溝62の前記壁からピン64を離脱する。レバ ー72は点76の周りに枢動できるので、側壁7に取付けられたねじ付軸74上 の目盛付ダイヤル98を回転させると、レバー72はピボット点76を中心とし て上方又は下方に引かれる。これにより、ピン64を溝62の側壁との接触から 離して第2ステツパモータ57の移動をプログラムし直す必要なしに、分配ヘッ ド46の下降した真空排出位置を調節することができる。分配ヘッド46を持上 げるためには、ステッパーモータ57でカム板60を回転させると遂にはピン6 4がスパイラル溝62の壁に係合し、スパイラル溝62は下降ストップアーム6 6をレバー72のアームとの当接位置から持上げる。これにより、分配へラド4 6が所定の微小滴定板17より上の高さに達するのに要する時間は、吸引ノズル 50の真空排出位置の調節とは無関係である。Pin 64 is maintained against one wall of groove 62 during movement of dispensing head 46 The interconnect/dispensing head assembly 68 is secured to the rear wall 6 of the housing 9 to a bracket 71 and the interconnect/dispensing head assembly 68. It is urged downward by a spring 70. Inner end of spiral groove 62 of cam plate 60 is tapering in its width, thus lowering the stop arm 66 and therefore distributing it. The head 46 is lowered to the vacuum evacuation position and the lower surface of the lowering stop arm 66 is adjustable. When it comes into contact with the upper surface 73 of the lever 72, the additional force exerted by its own weight and the spring 70 The pin 64 is released from the wall of the groove 62 against which the pin 640 is abutting with a sufficient restraining force. Reba -72 can pivot about point 76 so that When the graduated dial 98 is rotated, the lever 72 is centered at the pivot point 76. pulled upward or downward. This prevents the pin 64 from coming into contact with the sidewalls of the groove 62. dispense head without having to separate and reprogram the movement of the second stepper motor 57. The lowered vacuum evacuation position of door 46 can be adjusted. Lift the dispensing head 46 In order to move the pin 6, the stepper motor 57 rotates the cam plate 60. 4 engages the wall of the spiral groove 62, and the spiral groove 62 6 from the position of contact with the arm of the lever 72. This allows Rad4 to be distributed. 6 to reach the height above the predetermined micro titration plate 17 is the time required for the suction nozzle 50 is independent of the vacuum evacuation position adjustment.
このことは、ステッパモータ57の制御のプログラミングを著しく単純化する。This greatly simplifies programming of the control of stepper motor 57.
第6図をも参照すると、吸引孔54は、吸引ポンプの使用を制御するソレノイド 作動式吸引弁78を介して吸引ポンプと連結されている。この実施態様では、吸 引ポンプは装置の外側に配置された別のポンプであるが、他の実施態様では、吸 引ポンプはハウジングの内部でスペース79内に配置される。Referring also to FIG. 6, the suction hole 54 is connected to a solenoid that controls the use of the suction pump. It is connected to a suction pump via an actuated suction valve 78. In this embodiment, the suction The suction pump is a separate pump located outside the device, but in other embodiments, the The pull pump is arranged within the space 79 inside the housing.
第7図に概略的に示す供給ポンプ80は、シリンダ83内を移動するピストン8 1を備えている。ピストン81が右から左へ移動すると、ピストンクラウン内の 第1逆止弁85が閉じ、流体はピストン81の移動した空間に吸込まれ、第2逆 止弁87を経てピストン81の右へ引かれる。一旦、ピストン81が右から左へ シリンダ83の端まで移動してピストン81の右の空間が流体で満されたならば 、ピストンは、その原位置に復し、流体が第」逆止弁85を通してピストン81 の左の空間へ流入することができる。ピストンの右から左への移動を繰返すこと により、ピストン81の左の空間の流体がシリンダ83内の第3逆止弁87を通 して押し出され、ピストンの右の空間内の充填が繰返される。シリンダ83を包 囲するソレノイドを付勢して、ピストン81を前後に移動させる。The feed pump 80 shown schematically in FIG. 1. When the piston 81 moves from right to left, the inside of the piston crown The first check valve 85 closes, the fluid is sucked into the space in which the piston 81 has moved, and the second check valve 85 closes. It is pulled to the right of the piston 81 via the stop valve 87. Once the piston 81 moves from right to left If the space to the right of the piston 81 is filled with fluid after moving to the end of the cylinder 83, , the piston returns to its original position and fluid flows through the first check valve 85 to the piston 81. can flow into the space to the left of. Repeated movement of the piston from right to left As a result, the fluid in the space to the left of the piston 81 passes through the third check valve 87 in the cylinder 83. The space to the right of the piston is repeatedly filled. It covers the cylinder 83. The surrounding solenoid is energized to move the piston 81 back and forth.
始動時ポンプ80の送出し応答は瞬時である。時間について供給量が実質的に一 定であると仮定すると、これにより、供給ノズル48に供給された流体の量をポ ンプが作動中である時間の長さに基いて計算することができる。然しなから、こ の一定の供給量は、ポンプ48の出力特性の脈動性により危うくされる。これを 克服するため、供給ポンプ80の出力側を成る長さのシリコンゴムチューブ82 の一端と連結し、チコーブ82の他端を調節可能な絞り弁91と連結する。シリ コンゴムチューブ82は洗浄流体のパルスからエネルギを吸収し、従って絞り弁 91をチューブ82の長さに同調させることによって最適な円滑さが達成される 。The delivery response of the pump 80 at startup is instantaneous. The supply is virtually constant over time. This allows the amount of fluid delivered to supply nozzle 48 to be can be calculated based on the length of time the pump is in operation. Of course, this A constant supply of is compromised by the pulsatility of the output characteristics of pump 48. this To overcome this problem, a length of silicone rubber tubing 82 is provided on the output side of the feed pump 80. and the other end of the chicove 82 is connected to an adjustable throttle valve 91. Siri The con rubber tube 82 absorbs energy from the pulse of cleaning fluid and thus Optimal smoothness is achieved by matching 91 to the length of tube 82 .
円滑な洗浄流体の供給は、硬い壁のチューブ92によりソレノイド作動式充填制 御弁84に連iされる。硬い壁のチューブは、ソレノイド弁84が開かれたとき 直ちに流れサージ(a flow surge)を生じさせるような圧力が絞り 弁91とソレノイド弁84との間に閉じ込められるのを防ぐために用いられる。Smooth cleaning fluid delivery is provided by a solenoid-operated filling control via hard-walled tubing 92. It is connected to the control valve 84. The hard-walled tube is The pressure that immediately causes a flow surge is constricted. It is used to prevent being trapped between the valve 91 and the solenoid valve 84.
洗浄作業は、各列に対し所要なだけ多くの洗浄とすすぎのサイクルを含むことが できる。これらは、第1ステツパモータ36、第2ステツパモータ57、及びソ レノイド弁78.84に適当な命令を発するマイクロプロセッサ(図示せず)の ソフトウェアにプログラムされる。The cleaning operation may include as many cleaning and rinsing cycles as necessary for each row. can. These include the first stepper motor 36, the second stepper motor 57, and the A microprocessor (not shown) issues appropriate commands to the lenoid valves 78,84. programmed into software.
マイクロプロセッサは、まず装置にスイッチを入れると、ステッパモータ36と 57(各々は対応するマイクロスイッチと接続されている)の両方に検算ルーチ ンを行なわせるようにプログラムされている。When the device is first turned on, the microprocessor controls the stepper motor 36 and 57 (each connected with the corresponding microswitch) It is programmed to perform the
キャリジ16が後壁6へ向かってその移動の終りに達したとき、後壁6に取付け られたストップ(図示せず)にレバー92が当接することによってスリーブ23 に取付けられたマイクロスイッチ90が働く。分配ヘッド46の移動は、分配ヘ ッド46が完全に持上げられたとき閉じられる同様なマイクロスイッチ(図示せ ず)によ、り妨げられる。When the carriage 16 reaches the end of its travel towards the rear wall 6, it is attached to the rear wall 6. When the lever 92 comes into contact with a stopped stop (not shown), the sleeve 23 A microswitch 90 attached to the switch is activated. The movement of the dispensing head 46 A similar microswitch (not shown) is closed when the head 46 is fully raised. ).
このプログラムは、完全に持上げられている分配ヘッドに対応する閉じたマイク ロスイッチの存在をチェックする。もしもこの閉鎖が検知されないならば、分配 ヘッドは、第2ステツパモータの61ステップ即ち61インクリメントの最大値 まで上昇する。This program uses a closed microphone that corresponds to a fully raised distribution head. Check for existence of loss switch. If this closure is not detected, the distribution The head has a maximum value of 61 steps or 61 increments of the second stepper motor. rises to.
もう一度、マイクロスイッチが閉鎖状態について質問され、もしも閉鎖状態が来 つつあるならば、表示パネルに誤差状態が指示され、洗浄工程全体が阻止される 。然しなから、もしも閉鎖が検知されたならば、分配ヘッドは第2ステツパモー タの20ステツプ下方に動かされ、マイクロスイッチは開いた回路について質問 される。一旦、これが検知されたならば、分配ヘッドは、十分に持上げられた位 置の10ステツプの範囲内にもう一度持上げられる。Once again, the microswitch is asked about the closed state and if the closed state occurs. If it is, the error condition will be indicated on the display panel and the entire cleaning process will be blocked. . However, if closure is detected, the dispensing head will switch to the second step motor. When the microswitch is moved 20 steps downwards, the microswitch questions about an open circuit. be done. Once this is detected, the dispensing head is raised sufficiently. be lifted again within 10 steps of the position.
次に、マイクロプロセッサは、キャリジの移動について同様な検算ルーチンを行 なう。もしもキャリジの移動に対応するマイクロスイッチが閉じられていないな らば、キャリジは第1ステツノずモータの1549ステツプの最大値逆に移動さ れ、他方、マイクロプロセッサは、マイクロスイッチの閉鎖を検知するためマイ クロスイッチを探査する。一旦閉鎖が検知されると、キャリジは第1ステツパモ ータの20ステツプ前方へ動かされ、装置は、列の数と遂行すべき洗浄サイクル の性質に従ってプログラムされる準備が整う。The microprocessor then performs a similar check routine for carriage movement. Now. If the microswitch corresponding to carriage movement is not closed. If so, the carriage moves in the opposite direction to the maximum value of 1549 steps of the first step motor. On the other hand, the microprocessor uses a microprocessor to detect the closure of the microswitch. Explore the cross switch. Once closure is detected, the carriage moves to the first step The machine is moved forward 20 steps on the machine and the machine is moved forward 20 steps to determine the number of rows and wash cycles to be performed. ready to be programmed according to the nature of the
洗浄ルーチンの数は、ハウジング90カバー88上の表示パネル86の多数のス イッチによってマイクロブロセッザコントローラにブログラノ4される。適当な ボタンを選択することにより、洗浄サイクルのタイプを選択でき、サイク゛ルを 繰返ず回数を選択でき、各くぼみに対し用いられる洗浄流体を選択でき、くぼみ の洗浄と真空排出との間の浸漬時間をもプログラムすることができる。The number of cleaning routines is determined by the number of steps on the display panel 86 on the housing 90 cover 88. The program is sent to the microprocessor controller by the switch. Appropriate By selecting the button you can select the type of wash cycle and start the cycle. You can select the number of repetitions and select the cleaning fluid used for each cavity. The soak time between cleaning and vacuum evacuation can also be programmed.
マイクロプロセッサは、洗浄プログラムの以下のモードを提供する。The microprocessor provides the following modes of cleaning program:
a) 大抵の用途に適当な普通のサイクル。このサイクルでは、マイクロプロセ ッサは、各列のくぼみを交互にすすぎ流体で満し、浸漬できるようにする。すべ ての列が満された後、吸引ノズルを各列のくぼみの底部に下げ、くぼみを真空排 出する。このサイクルが多数回繰返される。a) A normal cycle suitable for most applications. In this cycle, the microprocessor The rinser alternately fills the recesses in each row with rinsing fluid to allow immersion. All After all rows are filled, lower the suction nozzle to the bottom of each row of wells and evacuate the wells. put out This cycle is repeated many times.
b)移動キャリジサイクル。このサイクルは、くぼみの真空排出中プログラムが サブルーチンに従いそれによって、微小板くぼみの一方側100を吸引ノズルま で上昇させ、次に微小板くぼみの他方側101を吸引ノズルまでもってくる(第 14図参照)、という点以外は普通のサイクルと同じでる。最後に、洗浄すべき 次の列へノズルを移動させる前に、ノズルをくぼみの中心にもってくるようにキ ャリジを動かす。これらの移動は、ステッパモータ36が、所要数のステップ後 方へ、前方へ、そして再び後方へ移動して微小滴定板を標準の微小滴定くぼみの 大きさに相当する距離だけ動かすように、ステッパモータ36に指示するマイク ロプロセッサによって行なわれる。b) Moving carriage cycle. This cycle is performed during vacuum evacuation of the recess. According to the subroutine, one side 100 of the platelet recess is connected to the suction nozzle. and then bring the other side 101 of the platelet recess up to the suction nozzle (No. (See Figure 14). Finally, it should be washed Before moving the nozzle to the next row, center the nozzle in the recess. Move the jariji. These movements are performed by the stepper motor 36 after the required number of steps. Move the microtitration plate towards the standard microtitration well by moving it forward, then back again. a microphone that instructs the stepper motor 36 to move a distance corresponding to the size of the microphone; Processor.
C) <ばみの頂部にある残留物の効率的な洗浄を可能にする特殊な洗浄サイク ル。装置は、吸引ノズルが上昇位置にあるとき(3315図参照)吸引ノズルが 微小滴定板の頂部のレベルより約2mm上方にあるように構成されている。微小 くぼみ板は、分配ヘッドがこの位置にある間過度に満されるが、溢流の可能性を 除去するため吸引ノズルに吸引が加えられる。従って、くぼみは頂部まで洗浄さ れる。C) Special cleaning cycle that allows efficient cleaning of residues at the top of the dirt Le. The device is designed so that when the suction nozzle is in the raised position (see Figure 3315), the suction nozzle It is configured to be approximately 2 mm above the level of the top of the microtitration plate. tiny The recess plate will overfill while the dispensing head is in this position, reducing the possibility of overflow. Suction is applied to the suction nozzle for removal. Therefore, the recess is cleaned to the top. It will be done.
d) −一列洗浄サイクル。このサイクルは、次の列へ移動する前に各列が全サ イクルについて洗浄される、という点を除き、普通のサイクルと同じである。d) - Single row wash cycle. This cycle ensures that each column is fully scanned before moving on to the next column. It is the same as a normal cycle, except that the cycle is cleaned.
分配ヘッド46を上昇させ、検算ルーチンをチェックし、そして洗浄モードをプ ログラムした洗浄サイクルをより詳細に説明すると、洗浄されるようにプログラ ムされたくぼみの最初の列が12対のノズルの列の下に整列するまで、キャリジ 16は微小滴定板17を分配ヘッド46の真下へ動かす。分配ヘッド46は、ノ ズルの対が洗浄流体の最終レベルより上にあるような分配位置へ下降され、洗浄 流体は、所定の時間の間ソレノイド作動式充填制御弁を開くマイクロプロセッサ からの命令に基き供給ノズル48に供給される。微小滴定板に対する各供給ノズ ル48の角度は、流体が前述のようにくぼみの周りで渦巻くことを可能とし、滑 らかにされたポンプ特性は、流量調節された流体の量が正確でかつ隣接するくぼ みの中へこぼれないことを保証する。供給ノズル48から出る流体のジェットの 力は、くぼみ壁に吸収された反応した抗原/抗体を洗い落すには不十分なように 配置されている。Raise the dispensing head 46, check the verification routine, and enter the wash mode. A more detailed description of the programmed wash cycle is the programmed wash cycle. the carriage until the first row of indentations is aligned below the row of 12 pairs of nozzles. 16 moves the microtitration plate 17 directly below the dispensing head 46 . The distribution head 46 The pair of drains are lowered into a dispensing position above the final level of cleaning fluid and the cleaning The fluid is controlled by a microprocessor that opens a solenoid-operated fill control valve for a predetermined period of time. It is supplied to the supply nozzle 48 based on the command from. Each supply nozzle to the microtitration plate The angle of the hole 48 allows the fluid to swirl around the recess as described above and The identified pump characteristics ensure that the amount of fluid being regulated is accurate and Guaranteed that it will not spill into the water. of the jet of fluid exiting the supply nozzle 48. The force may be insufficient to wash away the reacted antigen/antibody absorbed into the cavity walls. It is located.
浸漬時間の後、分配ヘッドは、微小滴定板のくぼみに向かって真空排出位置まで 下降される。これが終ると、各吸引ノズル50が対応するくぼみの中の流体の表 面と出会う前に、ソレノイド作動式吸引制御弁78が開かれて吸引作用を開始す る。この順序により、流体のレベルがノズルより大きい速度で下降するように分 配ヘッド46の下降速度を低くするとき、流体はノズルの側面に触れることなく (そして、それによってノズルの側面を汚染することなく)吸引ノズル50の中 へ引き入れられる。After the soak time, the dispensing head moves towards the recess of the microtitration plate to the vacuum evacuation position. be lowered. Once this is done, each suction nozzle 50 has a surface of fluid in its corresponding recess. Before encountering the surface, a solenoid-operated suction control valve 78 is opened to begin suction action. Ru. This sequence divides the fluid level so that it falls at a faster rate than the nozzle. When lowering the descending speed of the distributing head 46, the fluid does not touch the sides of the nozzle. inside the suction nozzle 50 (and thereby without contaminating the sides of the nozzle). be drawn into.
成る形態の微小滴定板の平坦な底部をもつくぼみの特徴は、成る割合の洗浄液が 表面張力のため隅に残ることである。くぼみの中に残る流体の量を最小にし、か くしてくぼみの中の未反応材料の稀釈を著しく改善するためには、キャリジを真 空排出位置にある分配ヘッド46と共に前後に動かして、吸引ノズル50がより 多量の流体を吸い上げることができるように、マイクロプロセッサをモード(C )に設定するのがよい。一旦、吸引作用が遂行されたならば、分配ヘッド46は 持上げられ、洗浄サイクルが同じくぼみの中で又は微小滴定板140次の列のく ぼみの中で繰返される。The feature of the flat bottom of the microtitration plate is that the proportion of the cleaning solution is It remains in the corner due to surface tension. Minimize the amount of fluid remaining in the cavity and To significantly improve the dilution of unreacted material in the wells, By moving back and forth with the dispensing head 46 in the empty discharge position, the suction nozzle 50 becomes more The microprocessor is placed in mode (C) so that large amounts of fluid can be drawn up. ) is recommended. Once the suction action has been performed, the dispensing head 46 The microtitration plate 140 is lifted and the washing cycle is carried out in the same recess or in the next row of microtitration plates. repeated in the hollow.
各供給ノズル48は対応する吸引ノズル50の傍に配置され、従ってくぼみの隅 に付着した流体の除去が、供給ノズル48の存在により制限されることなく、そ してそれ故眞空排出作用の完全さを損うことなく、キャリジの移動により可能で ある。Each supply nozzle 48 is located next to a corresponding suction nozzle 50 and thus The removal of fluid adhering to the fluid is not limited by the presence of the supply nozzle 48 Therefore, it is possible to move the carriage without compromising the integrity of the emptying action. be.
各くぼみの間隔は与えられたタイプの微小滴定板に対し同じであるが、工場内で 分配ヘッド46の姿勢を細かく調節できる必要がある。この調節は、相互連結部 を下降ストップ66に固定しているねじ93をゆるめて、この位置を水平面内で 調節することにより行なわれる。くぼみの中への吸引ノズル50の移動の深さを 変えることができるように、前述のように調節レバーが用いられる。このくぼみ の深さは、用いられる微小滴定板の性質に従って変りうる。もしもくぼみの底部 が平坦でなかったならば、吸引ノズル50の前後へのシャフリング(shuff ling)が、減少されるか又はそのサイクルからプログラムされ、それに応じ て吸引ノズル50の作動深さが変化するであろう。The spacing of each indentation is the same for a given type of microtitration plate, but It is necessary to be able to finely adjust the attitude of the dispensing head 46. This adjustment Loosen the screw 93 that fixes the This is done by adjusting. Determine the depth of movement of the suction nozzle 50 into the recess. In order to be able to change, an adjustment lever is used as described above. this hollow The depth of can vary according to the nature of the microtitration plate used. The bottom of the depression If the surface is not flat, the suction nozzle 50 may be shuffled back and forth. ling) is decreased or programmed from that cycle and accordingly The working depth of the suction nozzle 50 will change accordingly.
手続補正書(方式) 特許庁長官 小 川 邦 夫 殿 t〆一 %、q2ヌ/ 1、事件の表示 PCT/GB8610 O5522、発明の名称 多くぼみの 洗浄装置 3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 フロー ラボラトリーズ リミテッド4、代理人 5、補正命令の日付 昭和63年2月9日6、補正の対象 図面の翻訳文 国際調査報告Procedural amendment (formality) Mr. Kunio Kogawa, Commissioner of the Patent Office t〆1%, q2nu/ 1. Indication of incident PCT/GB8610 O5522, name of invention Many buds cleaning equipment 3. Person who makes corrections Relationship to the case: Applicant Name: Flow Laboratories Limited 4, Agent 5. Date of amendment order: February 9, 1985 6. Subject of amendment: Translation of drawings international search report
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