JPS6339962Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6339962Y2 JPS6339962Y2 JP11408983U JP11408983U JPS6339962Y2 JP S6339962 Y2 JPS6339962 Y2 JP S6339962Y2 JP 11408983 U JP11408983 U JP 11408983U JP 11408983 U JP11408983 U JP 11408983U JP S6339962 Y2 JPS6339962 Y2 JP S6339962Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heater wire
- furnace core
- core tube
- heat treatment
- heater
- Prior art date
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- Expired
Links
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
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- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
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Landscapes
- Furnace Details (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
イ 産業上の利用分野
この考案は外周にヒータ線を装備した炉芯管を
使つて半導体ウエーハ等を熱処理する装置に関す
る。
使つて半導体ウエーハ等を熱処理する装置に関す
る。
ロ 従来技術
例えば半導体ウエーハの不純物拡散や押し込み
拡散、酸化膜形成などの熱処理は一般に第1図に
示すような炉芯管1を有する熱処理装置が使用さ
れる。炉芯管1は両端開口の石英又は炭化シリコ
ン製のもので、その外周にコイル状のヒータ線2
が配設される。ヒータ線2は絶縁性ヒータ支持筒
3の内周にスパイラル状に形成した溝4に嵌入さ
れて支持され、このヒータ支持筒3に炉芯管1を
挿入してヒータ線2を炉芯管1から一定間隔で離
し保持している。
拡散、酸化膜形成などの熱処理は一般に第1図に
示すような炉芯管1を有する熱処理装置が使用さ
れる。炉芯管1は両端開口の石英又は炭化シリコ
ン製のもので、その外周にコイル状のヒータ線2
が配設される。ヒータ線2は絶縁性ヒータ支持筒
3の内周にスパイラル状に形成した溝4に嵌入さ
れて支持され、このヒータ支持筒3に炉芯管1を
挿入してヒータ線2を炉芯管1から一定間隔で離
し保持している。
炉芯管1内には複数の半導体ウエーハ5,5…
が石英製ボート6上に植立された状態で供給され
る。ヒータ線2に通電して炉芯管1内を高温加熱
すると共に炉芯管1の一端から他端へと熱処理に
必要なガス7を供給することにより半導体ウエー
ハ5,5…は一括して熱処理される。この熱処理
を均等に行うためヒータ線2は例えば3分割タイ
プのものが使用され、第2図に示すように両端
A,Bと両端から全長の約1/5程度の2箇所C,
Dに通電用の外部電極8a〜8dを接続して無負
荷状態での炉芯管1の内部の温度分布を第3図に
示す如く給電点AC間と給電点BD間で高く、給
電点CD間で少し低く設定して、炉芯管1内に半
導体ウエーハ5,5…を整列配置したときの両端
の半導体ウエーハの端冷効果を補償して、半導体
ウエーハ5,5…全体をより均一加熱するように
工夫している。
が石英製ボート6上に植立された状態で供給され
る。ヒータ線2に通電して炉芯管1内を高温加熱
すると共に炉芯管1の一端から他端へと熱処理に
必要なガス7を供給することにより半導体ウエー
ハ5,5…は一括して熱処理される。この熱処理
を均等に行うためヒータ線2は例えば3分割タイ
プのものが使用され、第2図に示すように両端
A,Bと両端から全長の約1/5程度の2箇所C,
Dに通電用の外部電極8a〜8dを接続して無負
荷状態での炉芯管1の内部の温度分布を第3図に
示す如く給電点AC間と給電点BD間で高く、給
電点CD間で少し低く設定して、炉芯管1内に半
導体ウエーハ5,5…を整列配置したときの両端
の半導体ウエーハの端冷効果を補償して、半導体
ウエーハ5,5…全体をより均一加熱するように
工夫している。
ところで上記ヒータ線2が通電により高温加熱
されると熱膨脹によるヒータ線2の伸びに起因す
るストレスが両端部に向かつて加わり、而もヒー
タ線2の両端部は給電点A,Bで固定されている
ので、その反動として、ヒータ線2の両端部が大
きく変形してヒータ支持筒3の天面にあるものが
垂れ下つて高温で導電性を増す炭化シリコン製の
炉芯管1にシヨートしたり、隣接するもの同士が
シヨートすることがあつた。このようなトラブル
発生のためヒータ線2の寿命が短くてヒータ線2
の交換頻度が高く不経済であり、且つ装置全体の
稼動率を悪くしていた。
されると熱膨脹によるヒータ線2の伸びに起因す
るストレスが両端部に向かつて加わり、而もヒー
タ線2の両端部は給電点A,Bで固定されている
ので、その反動として、ヒータ線2の両端部が大
きく変形してヒータ支持筒3の天面にあるものが
垂れ下つて高温で導電性を増す炭化シリコン製の
炉芯管1にシヨートしたり、隣接するもの同士が
シヨートすることがあつた。このようなトラブル
発生のためヒータ線2の寿命が短くてヒータ線2
の交換頻度が高く不経済であり、且つ装置全体の
稼動率を悪くしていた。
ハ 考案の目的
本考案は上記問題点に鑑み、これを改良除去し
た熱処理装置を提供することを目的とする。
た熱処理装置を提供することを目的とする。
ニ 考案の構成
本考案は炉芯管外周に配設するコイル状ヒータ
線を改良したもので、当該ヒータ線の両端部の給
電点より外方に数ターン延長巻回した形状の延長
端部を付設したことを特徴とする。このような延
長端部は通電されず自己発熱しないので変形し難
くて機械的に安定し、これがヒータ線の延長端部
外の有効部分の両端部を機械的に支持して変形防
止を図り、結果的にヒータ線の寿命が延びる。
線を改良したもので、当該ヒータ線の両端部の給
電点より外方に数ターン延長巻回した形状の延長
端部を付設したことを特徴とする。このような延
長端部は通電されず自己発熱しないので変形し難
くて機械的に安定し、これがヒータ線の延長端部
外の有効部分の両端部を機械的に支持して変形防
止を図り、結果的にヒータ線の寿命が延びる。
ホ 実施例
本考案を第1図の熱処理装置に適用した実施例
を第4図及び第5図から説明すると、第1図と同
一内容のものは同一符号を付し詳細は省略する。
相違するのはコイル状ヒータ線9とこれを支持す
るヒータ支持筒10のみである。ヒータ線9は炉
芯管1内の熱処理物である半導体ウエーハ5,5
…を均等加熱するための有効部分mと、その両端
の延長端部n,nに分かれ、有効部分mは上記ヒ
ータ線2と同じでその両端の給電点A,Bと内方
の給電点C,D点とに外部電極8a〜8dが接続
されて第3図と同じ温度分布で加熱される。両端
の延長端部n,nは両端給電点A,Bから外方に
数ターン巻き足し延長させた部分で、有効部分m
からの伝導熱で加熱される程度で、通電による自
己発熱は無い。ヒータ支持筒10は内面のスパイ
ラル状の溝11にヒータ線9を嵌めて支持するも
ので、従来との相違点は上記開放端部n,nの追
加に応じてこれを収納保持する溝11′,11′を
追加したことのみである。
を第4図及び第5図から説明すると、第1図と同
一内容のものは同一符号を付し詳細は省略する。
相違するのはコイル状ヒータ線9とこれを支持す
るヒータ支持筒10のみである。ヒータ線9は炉
芯管1内の熱処理物である半導体ウエーハ5,5
…を均等加熱するための有効部分mと、その両端
の延長端部n,nに分かれ、有効部分mは上記ヒ
ータ線2と同じでその両端の給電点A,Bと内方
の給電点C,D点とに外部電極8a〜8dが接続
されて第3図と同じ温度分布で加熱される。両端
の延長端部n,nは両端給電点A,Bから外方に
数ターン巻き足し延長させた部分で、有効部分m
からの伝導熱で加熱される程度で、通電による自
己発熱は無い。ヒータ支持筒10は内面のスパイ
ラル状の溝11にヒータ線9を嵌めて支持するも
ので、従来との相違点は上記開放端部n,nの追
加に応じてこれを収納保持する溝11′,11′を
追加したことのみである。
上記ヒータ線9の通電はAB間の有効部分mの
みで行われ、この通電によつて有効部分mの両端
部に熱的ストレスが加わる。しかし、この両端部
は機械的に安定した状態にある延長端部n,nに
連結されているので、この延長端部n,nの支持
により有効部分mの両端部の変形が抑制される。
このような変形抑制効果は延長端部n,nのター
ン数で決まる。
みで行われ、この通電によつて有効部分mの両端
部に熱的ストレスが加わる。しかし、この両端部
は機械的に安定した状態にある延長端部n,nに
連結されているので、この延長端部n,nの支持
により有効部分mの両端部の変形が抑制される。
このような変形抑制効果は延長端部n,nのター
ン数で決まる。
尚、本考案は上記実施例に限らず、例えばヒー
タ線は両端部の2箇所からのみ通電を受けるもの
であつてもよい。また本考案は半導体ウエーハの
熱処理装置に限るものでは無い。
タ線は両端部の2箇所からのみ通電を受けるもの
であつてもよい。また本考案は半導体ウエーハの
熱処理装置に限るものでは無い。
ヘ 考案の効果
以上説明したように、本考案によればヒータ線
の両端部の変形が延長端部で大幅に抑制されるの
で、ヒータ線の寿命が延びて経済的であり、また
ヒータ線交換頻度が減少して熱処理装置の稼動率
改善が図れる。
の両端部の変形が延長端部で大幅に抑制されるの
で、ヒータ線の寿命が延びて経済的であり、また
ヒータ線交換頻度が減少して熱処理装置の稼動率
改善が図れる。
第1図は従来の熱処理装置の一例を示す断面
図、第2図及び第3図は第1図におけるヒータ線
の概略図及び通電時の温度分布図、第4図は本考
案の一実施例を示す断面図、第5図は第4図にお
けるヒータ線の概略図である。 1……炉芯管、8a,8b……外部電極、9…
…ヒータ線、n,n……開放端部、A,B……両
端の給電点。
図、第2図及び第3図は第1図におけるヒータ線
の概略図及び通電時の温度分布図、第4図は本考
案の一実施例を示す断面図、第5図は第4図にお
けるヒータ線の概略図である。 1……炉芯管、8a,8b……外部電極、9…
…ヒータ線、n,n……開放端部、A,B……両
端の給電点。
Claims (1)
- コイル状のヒータ線を熱処理用炉芯管の外周に
一定間隔をもつてコイル状に配設したものにおい
て、前記ヒータ線の両端部の給電点より外方に数
ターン延長巻回した延長端部を設けたことを特徴
とする熱処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11408983U JPS6022831U (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11408983U JPS6022831U (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 熱処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6022831U JPS6022831U (ja) | 1985-02-16 |
JPS6339962Y2 true JPS6339962Y2 (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=30263860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11408983U Granted JPS6022831U (ja) | 1983-07-21 | 1983-07-21 | 熱処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6022831U (ja) |
-
1983
- 1983-07-21 JP JP11408983U patent/JPS6022831U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6022831U (ja) | 1985-02-16 |
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