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JPS6329947A - 回転テ−ブル - Google Patents

回転テ−ブル

Info

Publication number
JPS6329947A
JPS6329947A JP61173157A JP17315786A JPS6329947A JP S6329947 A JPS6329947 A JP S6329947A JP 61173157 A JP61173157 A JP 61173157A JP 17315786 A JP17315786 A JP 17315786A JP S6329947 A JPS6329947 A JP S6329947A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist
wafer
central shaft
rotating table
synthetic resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61173157A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Kamisuke
真一 紙透
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP61173157A priority Critical patent/JPS6329947A/ja
Publication of JPS6329947A publication Critical patent/JPS6329947A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、レジスト塗布装置又はレジスト現像装置の回
転テーブルの構造に関する。
〔従来の技術〕
従来のレジスト塗布装置又はレジスト現像装置の回転テ
ーブル12は、中・0部に第3図に示すような形状の突
起12aが、アルシミニウム途の金属で一体に形成され
ていたつ中心部に穴部13aを有するウェハ13にレジ
スト塗布又はレジストの現像を行う場合は第4図に示す
ようにウェハ13の中心部の穴部i3aを前記回転テー
プ/l/12の突起12aに通すことによりウェハ13
のセンタリング及び固定を行い、かつ、第4図に示した
0リング4を介して図示されていない真空チャックによ
りウェハ13を回転テーブル12に固定していた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、前述の従来技術ではウェハ15の中心部の穴部
13aと、回転テーブル12の突起12aの間には、わ
ずかな間隙が生じ、この間隙に、レジストやレジスト現
像液、リンス液等が毛細管現象により浸入し、レジスト
塗布後や現像後の高速回転による乾燥時に、徐々に前記
間隙中のレジストや現像液等がウェハ表面上に流出し、
−旦、清浄した該表面を汚染し、ウェハ13が流動する
プロセスでの歩留が低下するという問題点を有していた
。そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、
その目的とするところはウェハが流動するプロセスでの
歩留を向上させるところにあるO 〔問題点を解決するための手段〕 本発明の回転テーブルは、中心部に穴部を有するウェハ
のセンタリング及び固定を行うだめの中心軸を有してな
るレジスト塗布装置又はレジスト現像装置の回転テーブ
ルにおいて、少なくとも該中心軸が合成樹脂で形成され
ていることを特徴とする。
〔実施例〕
第1図は本発明の実施例における回転テープ〜の断面図
でおる。中心軸1は円筒形をしており、フッ素系樹脂で
出来ており、アルミニウムで出来ている回転テープ/V
 2に固着されている。本実施例で使用したウェハ5は
中心部に穴部3aを有する直径20crrL1厚さ6W
IEのガラス製のウェハである。前記がクス製ウェハ6
の中心部の穴部3aを中心軸1に通して、第2図に示す
ように同心円状に置かれたOリング4を介して図示され
ていない真空チャックによりガラスウェハ3を強固に回
転テープ/L/2に固定させる。第2図の状態において
レジスト塗布又はレジスト現像の工程を行う場合中心軸
1はフッ素系樹脂で形成されているので撥水性を有し、
レジストや、レジスト現像液等の液体をはじき、中心軸
1とウェハ5の中心部の穴部3aとの間隙に前記の液体
が侵入するのを妨げるため、以降の高速回転時に、−旦
、清浄に乾燥したウェハ表面を汚染することがない。又
、中心軸としてフッ素系圏脂以外の合成樹脂を用いる場
合や、回転テーブル全体を合成樹脂で作製する場合でも
同様の効果が得られる。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、中心部に穴部を有す
るウェハのセンタリング及び固定を行うだめの中心軸を
有してなるレジスト塗布装置又はレジスト現像装置の回
転テーブルの中心軸を合成樹脂で形成することによって
レジスト塗布又はレジスト現像時に、ウェハ表面が汚染
されないのでウェハ流動プロセスでの歩留が高くなると
いう効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明における回転テーブルの断面図、第2図
は本発明におけるウェハを装着した状態の回転テープp
の断面図、第5図は従来の回転チー2g12・・・・・
・回転テーブル 6.13・・・・・・ウニ/X 4・・・・・・0リング 以  上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  中心部に穴部を有するウェハのセンタリング及び固定
    を行うための中心軸を有してなるレジスト塗布装置又は
    レジスト現像装置の回転テーブルにおいて、少なくとも
    該中心軸が合成樹脂で形成されていることを特徴とする
    回転テーブル。
JP61173157A 1986-07-23 1986-07-23 回転テ−ブル Pending JPS6329947A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61173157A JPS6329947A (ja) 1986-07-23 1986-07-23 回転テ−ブル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61173157A JPS6329947A (ja) 1986-07-23 1986-07-23 回転テ−ブル

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6329947A true JPS6329947A (ja) 1988-02-08

Family

ID=15955157

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61173157A Pending JPS6329947A (ja) 1986-07-23 1986-07-23 回転テ−ブル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6329947A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5040994A (en) * 1988-12-23 1991-08-20 Sanyo Electric Co., Ltd. Connector structure for hybrid integrated circuit
US5134546A (en) * 1988-12-23 1992-07-28 Mazda Motor Corporation Vehicle control unit structure
US5283712A (en) * 1988-10-27 1994-02-01 Mazda Motor Corporation Integrated circuit for vehicle

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5283712A (en) * 1988-10-27 1994-02-01 Mazda Motor Corporation Integrated circuit for vehicle
US5040994A (en) * 1988-12-23 1991-08-20 Sanyo Electric Co., Ltd. Connector structure for hybrid integrated circuit
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