JPS63273230A - 光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はディスクメモリー等として用いられる光記録媒
体に関し、更に詳しくは、信号ピットや案内溝を形成し
た紫外線硬化樹脂層と基板の密着性が優れ、耐熱試験を
行なっても信号ピットや案内溝が変形することのない光
記録媒体に関するものである。

、〔従来技術の問題点〕 一般にデジタルオーディオディスク又はビデオディスク
用の情報記録担体はディスク表面に光情報を多数の微細
な信号ピットとして刻設したものである。

また、光情報の記録・再生、あるいは消去可能なディス
クメモリー用の情報記録担体は、通常。

光情報そのものをディスク表面にピットとして刻設され
たものではないが、光学ヘッドを高精細にトラッキング
させるための信号ピット又は案内溝（プレグルーブ）が
光デイスク表面に刻設されている。

−これら精細な信号ピットや案内溝が刻設された光情報
記録担体を量産する方法としては、従来。

先ず信号ピット又は案内溝の設けられた転写用母型を作
成し１次に、これを金型として、ｆラスチックスを射出
成形又は圧縮成形する方法が用いられている。

しかしながら、射出成形法又は圧縮成形法では成形機が
大型である上、転写精度が低いという欠点を有していた
。

これらの点を改善するため信号ピッ）１放射線硬化性樹
脂層に形成する転写方法がＩリグラム株式会社やフィリ
ップス株式会社で研究され、その内容は特開昭５１−１
４０６０１　（Ｊリグラム）、特開昭５３−１１６１０
５（フィリップス）、特開昭５４−１３０９０２　（フ
ィリップス）Ｓ特開昭５４−１３８４０６（フィリップ
ス）、特開昭５５−４７９３（フィリップス）等に開示
されている。

この方法は原盤またはスタン／母−（電鋳法により原盤
から転写されてできた金属成形型）などの転写用母型の
表面に液状の放射線硬化性樹脂層を薄く設け、この樹脂
層の上に無色透明なプラスチック基板を載せて、樹脂層
を挟持した状態で放射線を照射し文樹脂層を硬化させる
。次に信号ピットが転写されている硬化樹脂層と、これ
と一体に接合したプラスチック基板を転写用母型から剥
離して情報記録担体を製造していた（以下レプリカ取シ
という）。

ここに用いられる基板としては、ガラス、Ｉリメチルメ
タクリレート、エポキシなどが用いられる。しかしなが
ら、これらの基板材料と紫外線硬化樹脂層との密着性は
一般に悪い。この密着性を′改善する為には、紫外線硬
化樹脂としてガラス転移温度の低いものを用いると、密
着性は改善されるが、蒸着またはス／４ツタリング等の
手段で紫外線硬化樹脂層の上に金属系記録層（例えば光
磁気記録層）を設けな後に耐熱試験を行なうと原因は不
明であるが信号ピットや案内溝が変形し易い。

変形が発生すると記録再生を行なう時の雑音成分が増大
し、信号対雑音比を著しく低下させる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので。

信号ピットや案内溝が形成された紫外線硬化樹脂層と基
板との密着性に優れると共に、紫外線硬化樹脂層の上に
金属系記録層を設けた後に耐熱試験を行なりても信号ピ
ットや案内溝が変化せず、従って高い信号対雑音比が維
持される光記録媒体を提供するものである。

〔問題を解決する為の手段〕

本発明者らは、上記目的を達成すべく１種々検討の結果
、信号ピットや案内溝を形成する紫外線硬化樹脂として
特定のものを用い、金属系記録膜上に特定の第２の紫外
線硬化樹脂層を設けることにより、信号ピットや案内溝
が形成され九第１の紫外線硬化樹脂層と基板との密着性
が優れると共に、耐熱試験を行なっても信号ピットや案
内溝が変形しないという事実を見出し本発明を完成した
。

即ち、上記問題点を解決する為本発明忙係る光記録媒体
は、基板ｌ上に、所望の信号ピットや案内溝を形成した
紫外線硬化樹脂層２．金属系記録膜３．紫外線硬化樹脂
層４を順次積層してなる光記録媒体において、紫外線硬
化樹脂層２のガラス転移温度が１０℃以上７０℃以下。

紫外線硬化樹脂層４のガラス転移温度が１００℃以上１
５０℃以下であることを特徴とする。

本発明に使用する紫外線硬化樹脂層２及び４に用いる樹
脂としては、エポキシ樹脂のアクリル酸および／または
メタクリル酸エステル、ポリエステル樹脂のアクリル酸
および／またはメタクリル酸エステル、／１７エーテル
樹脂のアクリル酸および／またはメタクリル酸エステル
、？リプタジエン樹脂のアクリル酸および／またはメタ
クリル酸エステル、分子末端にアクリル基および／また
はメタクリル基を有するポリウレタン樹脂が含まれる。

これらの放射線の作用によシ硬化可能な末端にアクリル
基および／またはメタクリル基を有する反応性オリがマ
ー及びポリマーは粘度が高い為必要に応じアクリル基お
よび／またはメタクリル基を有する放射線に対する反応
性七ツマ−で希釈して用いられる。反応性七ツマ−とし
ては、例えは、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）ア
クリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メ′り）
アクリレート、フェニルセロソルブ（メタ）アクリレー
ト、ｎ−ビニルピロリドン、イソがルニル（メタ）アク
リレート、ジシクロ４ンタジエンオキシエチル（メタ）
アクリレート等の単官能性モノマー、ジエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタアクリレ−）、１．６−ヘキサンシオールゾメタ
アクリレート、ポリエチレングリコールジメタアクリレ
ート、２．２−ビス（４−メタアクリロイルオキシポリ
エチレンオキシフェニル）プロ／やン、２．２−ビス（
４−メタアクリロイルオキシポリプロピレンオキシフェ
ニル）、プロパン、等の２官能性七ツマ−、トリメチロ
ールゾロノヤントリメタアクリレート、トリメチロール
エタントリ（メタ）アクリレート等の３官能性モノマー
、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等
の４官能性七ツマ−等が挙げられる。かかる反応性オリ
ゴマー及び反応性？リマーと反応性モノマーを適切に組
み合わせることによシ紫外線硬化樹脂層のガラス転移温
度を任意に調整することができる。

紫外線硬化樹脂層２のガラス転移温度は、１０℃以上７
０℃以下に調整する必要がある。１０℃以下であれば信
号ピットや案内溝の形成が困難でアシ実用に供しない。

又、７０℃以上であれば。

基板と紫外線硬化樹脂層２との密着性が悪い。

紫外線硬化樹脂層４のガラス転移温度は、１００℃以上
１５０℃以下に調整する必要がある。１００℃以下であ
れば耐熱試験による信号ピットや案内溝の変形を防止で
きない、又、１５０℃以上であれば、紫外線硬化樹脂層
４を形成する際、全面にクラックが発生する。

紫外線硬化樹脂層２の厚みには特に制限は無いが、５μ
以上１００μ以下が好ましい。５μ以下であれば、信号
ピットや案内溝を形成することが困難である。又、１０
０μ以上であると紫外線硬化樹脂層４に耐熱試験による
クラックが発生し易い。

紫外線硬化樹脂層４の厚みには特に制限は無いが、１μ
以上１５μ以下の範囲にあることが好ましい。１μ以下
の厚みに紫外線硬化樹脂層を形成させるのは困難であシ
、１５μ以上であれば耐熱試験によシフラックが発生し
易い。本発明に使用する金属系記録膜としては、ピット
形成型でないものが適する。例えば光磁気記録膜または
相変化型記録膜などである。また、紫外線硬化樹脂層２
および／または紫外線硬化樹脂層４と金属系記録膜との
界面に記録膜を劣化から保護する為の誘電体膜または光
磁気効果を促進する為の誘電体膜等を設けてもかまわな
い。

本発明に使用する基板には特に制限はなく、ガラス基板
、ポリメチルメタクリレート基板、／リカーがネート基
板、エポキシ基板、エポキシビニルエステル基板などが
使用できる。

〔実施例〕

以下、本発明の光記録媒体につき実施例に沿って説明す
る。

〔実施例１〜７〕 表面に渦巻き状の案内溝を有した厚さ０．３　ｍｍのニ
ッケルスタンパ−上に表１に示した紫外線硬化樹脂層２
用樹脂を滴下し１表１に示した各種の透明基板によシ上
記紫外線硬化樹脂を押し広げる。

紫外線硬化樹脂層２の厚みが表１の厚みに達した後、ニ
ッケルスタン・ヤーと透明基板を固定する。

この状態で透明膜板を通して８０　Ｗ／ｃｍ高圧水銀ラ
ンプう−１５秒間照射した。次に紫外線硬化樹脂層２と
ニッケルスタン−母−の界面よシ脱型し案内溝付き基板
を得た。この時、紫外線硬化樹脂層２の１部を削シ取シ
ガラス転移温度の測定をＤｓｃ法によシ行なった。また
、得られた光デイスク基板上に光磁気記録層及び相変化
記録層及びこれらの各保護層を以下の条件で成膜した。

Ｔｂ　−Ｆｅ　−Ｃｏ系光磁気記録層成膜条件膜　　　
厚　　　　　　　　　１０００Ｘ成膜方法　　　　　　
　　　高周波マダネトロンスパッタ法チャンバー内真空
度　　　　５Ｘ１０　　Ｔｏｒｒ導入Ａｒ圧　　　　　
５Ｘ１０　　Ｔｏｒｒ高周波電力　　　　　２５０Ｗ ター１’ｙト組成　　　　　’ｒｂ　２７　”　Ｆｅ　
６８　”　Ｃｏ　ｓ　（ａ　ｔ％）８１、Ｎ４系保薩層
成膜条件 膜　　　厚　　　　　　　　　１０００Ｘ成膜方法　　
　　　　　　　　高周波マグネトロンスｔ４ツタ法チャ
ンバー内真空度　　５Ｘ１０　　Ｔｏｒｒ導入Ａｒ／Ｎ
圧　　　　Ｉ　Ｘ　１０−２Ｔｏｒｒ高周波電力　　　
　　６００Ｗ ターダット組成　　　Ｓ　１　、Ｎ４ Ｔｅ　−Ｇｏ　−ａｎ系相変化記録烏 膜　　　厚　　　　　　　　　８５０Ｘ成膜方法　　　
　　　蒸着法 チャンバー内真空度　　５×ｌＯ″″’Ｔｏｒｒ膜組成
　　　　Ｔｏ　ｓｓ’　Ｇｏ　１２”Ｓｎｓ　（ａｉ％
）ｓｉｏ系保護層成膜条件 膜　　　厚　　　　　　　　　１０００Ｘ成膜方法　　
　　　　蒸着法 チャンバー内真空度　　　　５Ｘ１０　　Ｔｏｒｒ膜組
成　　　　Ｓ　ｉＯ，２ 成膜した記録層上にスピンコード法によシ表ＩＫ示した
紫外ａ硬化樹脂層４用樹脂を塗布し、８０Ｗ／Ｉｎ高圧
水銀ランプ′ｆｒ５秒間照射し、上記紫外ＭＡ硬化樹脂
を硬化させ紫外線硬化樹脂層４を得た。この際、紫外線
硬化樹脂層４０１部を削り取ねガラス転移温度の測定を
ＤＳＣ法【０行なった。得られた光記録媒体にカッター
ナイフによ）基板にまで到達する基盤目を入れセロテー
プ剥離テストにより接着性を評価した。また、８５℃１
００時間。

１００℃１００時間の耐熱試験を実施し、シワ発生の有
無を調べた。

＊１　重量平均分子量ｓ、ｏｏｏの２官能性ウレタンア
クリレ−）３０部、シフ’ロピレングリコールジアクリ
レー）１０部、ヒドロキシエチルアクリレ−）３０部、
Ｎ−ビニルピロリドン３０部 ＊２　重量平均分子量３，０００の２官能性ウレタンア
クリレ一ト３０部、ジプロピレングリコールジアクリレ
ート３０部、ヒドロキシエチルアクリレート１０部、Ｎ
−ビニルピロリドン３０部 ＊３　ダイキュアクリヤＥｘ　−３大日本インキ化学工
業（株）製 ＊４　ダイキュアク、リヤ５Ｄ−１７大日本インキ化学
工業（株）製 ＊５２５個の基盤目によるセロハンチーブ剥離試験 ２５剥離なし Ｏ全部剥離 剥離は全て基板１と紫外線硬化樹脂ＮｌＩ２との界面で
剥離した。

〔比較例１〜６〕 表２に示した基板、紫外線硬化樹脂、記録層によ）実施
例１〜７と同様の工程によシ光記録媒体とし、実施例１
〜７と同じ耐熱試験及び接着性の評価を行なった１表２
に比較例１〜６の評価結果を示す。

＊６　重量平均分子量２，０００の２官能性ウレタンア
／　１３レ一ト３０部、ネオペンチルグリコール３１Ｂ
、ジプロピレングリコールジアクリレート３０部、Ｎ−
ビニルぎロリドン１０部実施例１〜７は、紫外線硬化樹
脂層２と基板との接着性は良好であシ８５℃１００時間
の耐熱性試験を行なっても信号ピットや案内溝の変形は
起こらない、又、１００℃１００時間の耐熱試験だおい
て紫外線硬化樹脂層及び記録層にクラックは発生しない
。

比較例１．２は、基板との接着性に優れるものの紫外線
硬化樹脂層４を設けていない為、８５℃１００時間の耐
熱試験によシ全面に皺が発生した。

比較例３は、紫外線硬化樹脂層２のガラス転移温度が７
０℃以上である為基板との接着が劣悪であシ、使用に耐
えない。

比較例４は紫外線硬化樹脂層４のガラス転移温度が１０
０℃以下である為８５℃１００時間の耐熱試験〈よシ全
面に皺が発生した。

比較例５及び比較例６は紫外線硬化樹脂層２及び４のガ
ラス転移温度については本発明の要件を満しているか１
層の厚みが大のものであシ、８５℃１００時間の耐熱試
験においては変形はみられないものの、１００℃１００
時間の耐熱試験においてはクラックが発生する。

実施例２によシ得られた光記録媒体の特性を評価した所
１８００ｒｐｍのディスク回転数、　Ｉ　ＭＨｚの信号
を６　ｍＷのレーザー光量で書き込み、１　ｍＷの再生
光量信号を発生し、バンド巾３０　ｋＨｚの条件でスペ
クトラムアナライザーによｆｉ　ＣＮ比を測定し５５　
ｄＢの値を得た。

８５℃１００時間の耐熱試験後もＣＮ比の劣化は見られ
なかりたが１００℃１００時間の耐熱試験においては、
わずかのＣＮ比劣化が見られたが実用上は問題がない。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかな通シ、本発明は、信号ピットや
案内溝が形成された紫外線硬化樹脂層と基板との密着性
に優れると共に、耐熱試験を行なっても信号ピットや案
内溝が変形せず従って高い信号対雑音比が維持される光
記録媒体を提供するものであシ、その産業上の利用価値
は極めて大きい・

【図面の簡単な説明】

第１図は１本発明の一実施例を示す光記録媒体の断面を
示し、 図中、１は基板、２及び４は紫外線硬化樹脂層。 ３は金属系記録膜を夫々示す。 代理人　弁理士　　高　橋　勝　別 箇　／ｒＩｉ 手続補正書（自発） 昭和６２年８月２Ｉ日 特許庁長官　小　川　邦　夫　殿 １、事件の表示 特願昭６２−１０６２５６号 事件との関係　　　特許出願人 〒１７４東京都板橋区坂下三丁目３５番５８号（２８８
）大日本インキ化学工業株式会社代表者用村茂邦 ４、代理人 〒１０３東京都中央区日本橋三丁目７番２０号大日本イ
ンキ化学工業株式会社内 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 １）明細書第４頁上から９行目、「・・・為には、」の
記載を「・・・為Ｋ、」Ｋ訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板１上に、所望の信号ピット又は案内溝を形成し
   た紫外線硬化樹脂層２、金属系記録層３、紫外線硬化樹
   脂層４を順次積層してなる光記録媒体において、紫外線
   硬化樹脂層２のガラス転移温度が１０℃以上７０℃以下
   、紫外線硬化樹脂層４のガラス転移温度が１００℃以上
   １５０℃以下であることを特徴とする光記録媒体。 ２、紫外線硬化樹脂層２の厚みが５μ以上１００μ以下
   であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の
   光記録媒体。 ３、紫外線硬化樹脂層４の厚みが１μ以上１５μ以下で
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の光
   記録媒体。