JPS63241519A

JPS63241519A - 光ビ−ム記録装置

Info

Publication number: JPS63241519A
Application number: JP62077091A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Hiiro; 宏之日色
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1987-03-30
Filing date: 1987-03-30
Publication date: 1988-10-06
Anticipated expiration: 2012-02-26
Also published as: US4855761A; DE3883823T2; JP2584224B2; DE3883823D1; EP0285097A3; EP0285097A2; EP0285097B1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は光ビーム記録装置に係り、特に光ビームによっ
て文字等の情報を記録材料に記録する光ビーム記録装置
に関する。

（従来の技術〕光ビームによって文字等の情報を記録材料に記録させる
装置としては、例えばコンピュータ出力情報に基づいて
レーザビームを走査してマイクロフィルム等の記録材料
に文字等の情報を直接記録するレーザコンピュータアウ
トプットマイクロフィルマー（レーザコム）が知られて
いる（特開昭５５−６７７２２号公報）、このレーザコ
ムは、レーザビームを照射するアルゴンレーザと、文字
情報に応じてレーザビームを光変調する光変調器と、光
変調器によって変調されたレーザビームを主走査方向に
偏向させる回転多面鏡と、回転多面鏡からの反射光を副
走査方向に偏向させる偏向ミラーを備えたガルバノメー
タとを備えており、回転多面鏡とガルバノメータとによ
って光変調器から出力されたレーザビームを走査レンズ
を介して記録材料上に走査することによって文字等の情
報を記録材料上に記憶させるように構成されている。

上記の回転多面鏡は、モータによりて一定回転速度で回
転されてレーザビームを主走査方向に偏向させているが
、モータの軸の傾き等によって鏡面が傾く（以下、面倒
れという）ため、この鏡面の傾きによって副走査方向に
むらが発生し、この副走査方向のむらを補正する補正光
学系が必要となる。また、上記のガルバノメータは、レ
ーザビームと同一の光路上に照射され、かつこの光路の
途中で分岐される参照光線を検出することによって形成
される同期信号によって偏向ミラーの回転角が制御され
ている。

〔発明が解決しようとする問題点］しかしながら、上記の光ビーム記録装置の一例であるレ
ーザコムは、回転多面鏡を用いているため補正光学系が
必要となり、更に参照光線を発生するヘリウム−ネオン
レーザが必要となるため、コストが高くなるという問題
があった。

上記問題点を解決するために、回転多面鏡に換えて共振
型偏向鏡（レゾナントスキャナ）を用いて補正光学系を
省略することも考えられるが、共振型偏向鏡は正弦波振
動によって共振されるため鏡の最大振れ角付近の速度が
最小振れ角付近の速度より遅くなるため走査の速度が変
化し、記録材料にドツトで記録する場合、ドツトのピッ
チが異なって記録された情報に歪が生ずるという問題が
発生する。例えば、マイクロフィルムにドツトで文字情
報等を記録する場合、３３６０ドツ）／７．２Ｍ程度の
解像力を必要とし、極めて高い１度でドツトを記録する
ので、この歪が特に問題となる。

本発明は上記問題点を解決すべく成されたもので、低コ
ストでかつ記録情報に発生する歪が少ない光ビーム記録
装置を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するために本発明は、光ビームを発する
光源と、前記光源から照射された光ビームを正弦波振動
によって主走査方向に偏向させる光偏向手段と、前記偏
向手段によって偏向された光ビームの偏向角を主走査方
向に拡大するアフォーカルアナモルフィック光学系と、
前記アフォーカルアナモルフィック光学系を透過した光
ビームを記録材料上に結像させる走査レンズと、を含ん
で構成したものである。

〔作用〕

次に本発明の詳細な説明する。光ビーム光源から照射さ
れたビームは、正弦波振動する光偏向手段によって主走
査方向に偏向される。

ここで、アフォーカルアナモルフィック光学系に径Ｄ１
のビームを入射させたときの射出ビームの径をＤｉ　と
すると、入射ビームを光軸に対してω１だけ傾けた場合
の射出ビームの光軸と成す角ω２は次の（１）式に示す
関係を有することが知られている。

上記（１）弐から理解されるように、アフォーカルアナ
モルフィック光学系の前後でのビームの径と光軸に対す
る傾斜角との積は一定であるから、ビームの径が小さく
なれば傾斜角は大きくなる。この原理を応用すれば、入
射ビームの光軸と成す角ω、が小さくてもすなわち光偏
向手段の偏向角が小さくても、射出ビームの光軸と成す
角ω２を大きくしてアフォーカルアナモルフィック光学
系によって偏向角を拡大することができる。

従って、上記光偏向手段によって反射されたビームは、
アフォーカルアナモルフィック光学系によって偏向角が
走査方向に拡大するようにされる。

アフォーカルアナモルフィック光学系を透過したビーム
は、走査レンズによって記録材料上に結像される。

ここで、ビームを記録情報に応じて変調させ、また記録
材料を副走査方向に移動させるかまたはビームを副走査
方向に偏向する他の光偏向手段を用いて副走査を行なう
ことにより、記録材料への走査が行なわれ記録材料に記
録情報が記録される。

本発明によれば、アフォーカルアナモルフィック光学系
によって光ビームの偏向角を主走査方向に拡大している
ので、振れ角が最小値近傍のときに反射された歪の少な
い光ビームによって主走査を行なうことができ、これに
よって歪が大きい振れ角最大近傍の光ビームを使用せず
に記録を行なうことができる。

また、第７図に示すように、走査レンズに入射される光
ビームの径（開口径）をＤ、光ビームの波長をλ、けら
れ比によって定まる比例定数をＫ、記録材料上のドツト
の径をｄ、走査レンズの焦点距離をｆとすると、 λ Ｋ・　□・ｆ−ｄ　　・・・（２）となり、上記（２）式より走査レンズの焦点距離ｆは次
のように表わされる。

ここで、入射光ビームの径りは上記（１）式から理解さ
れるように、アフォーカルアナモルフィック光学系によ
ってＤ＋　／　Ｄｔ　−ｍ　（＜　１　）倍に縮少され
るから、Ｋ、ｄ、　　λを一定として光ビームの偏向角
を主走査方向に拡大しない場合と比較すると走査レンズ
の焦点距離はｍ倍小さくなる。

従って、本発明のようにアフォーカルアナモルフィック
光学系で光ビームの偏向角を拡大することにより、小さ
な焦点距離の走査レンズを用いることができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明によれば、アフォーカルアナ
モルフィック光学系で主走査方向の偏向角を拡大してい
るので主走査方向の走査角が大きくなり光偏向手段の振
れ角最小値付近で偏向された光ビームによって主走査を
行ない記録を行なうことができるので、記録情報に歪が
発生するのを低減することができ、更に焦点距離が小さ
い走査レンズを用いることができるので装置を小型化で
きる、という効果が得られる。

〔態様の説明〕

本発明は実施するにあたつて以下のＳ様を採り得る。第
１の態様は、アフォーカルアナモルフィック光学系によ
って光偏向手段で偏向された光ビームの偏向角を主走査
方向に拡大すると共に主走査方向の歪を補正するように
したものである。アフォーカルアナモルフィック光学系
は、パラメータを適当に定めることにより主走査方向の
歪を補正するための歪を持たせることができ、光偏向手
段で偏向された光ビームを上記の歪を備えたアナモルフ
ィック光学系を透過させることにより、光ビームの偏向
角を主走査方向に拡大すると共に主走査方向の歪を補正
することができる。このように本態様では、上記と同様
に歪の少ない光ビームを用い更にアフォーカルアナモル
フィック光学系で主走査方向の歪を補正しているので、
記録情報に歪が発生するのを防止することができる、と
いう効果が得られる。また、アフォーカルアナモルフィ
ック光学系で主走査方向の歪を補正しているため走査レ
ンズに主走査方向の歪を補正する歪を持たせる必要がな
く、これによって走査レンズを容易に設計することがで
きる、という効果が得られる。

また、第２の態様は、光偏向手段で偏向された光ビーム
の偏向角を主走査方向に拡大するアフォーカルアナモル
フィック光学系と前記アフォーカルアナモルフィック光
学系を透過した光ビームを記録材料上に結像させる走査
レンズとの少なくとも一方にアークサインの歪またはア
ークサインに近似した歪を持たせるようにしたものであ
る。この態様において、アフォーカルアナモルフィック
光学系にアークサインの歪またはアークサインに近似し
た歪を持たせた場合には、光軸に対する光ビームの入射
角をθ、結像点の光軸からの距離をｓ１焦点距離をｆと
するとき５＝ｆ−ｔａｎθの結像関係を有するｆ−ｔａ
ｎθレンズまたはｓ　−ｒ−ｔａｎθに近似した結像関
係を有するレンズが走査レンズとして用いられる。また
、アフォーカルアナモルフィック光学系にアークサイン
の歪またはアークサインに近似した歪を持たせない場合
には、走査レンズとしてアークサインレンズまたはアー
クサインレンズに近似したレンズが用いられる。なお、
アフォーカルアナモルフィック光学系の歪と走査レンズ
の歪とでアークサインの歪またはアークサインに近似し
た歪になるようにしてもよい。

ここで、ｒ−Ｌａｎθレンズを用いたときの面倒れ補正
について考察する。アフォーカルアナモルフィック光学
系によって光ビームは副走査方向には拡大されないから
、第８図（１）、（２）に示すように光偏向手段の面倒
れ角をψとすると、この面倒れ角ψによってｆ−ｔａｎ
θレンズから射出された光ビームは角２φだけ偏向する
。従って、記録材料上では光偏向手段の面倒れによって
ドツトの中心が以下の式で示される距離２だけ移動する
。

ｆｆ１＝ｆ−ｔａｎ（２ψ）　　　・（４）上記（４）
式をグラフに表わすと第９図に示すようになる。なお、
第９図ではＮ−０，２２μｍ１Ｎ−０，３３μｍの場合
について示した０図から理解されるようにｆ−ｔａｎθ
レンズの焦点距離と面倒れ角とは反比例しており、焦点
距離を小さくすれば面倒れ角が大きくても距離乏は変化
しない。また、上記で説明したように、アフォーカルア
ナモルフィック光学系によって主走査方向の偏向角を拡
大すれば走査レンズの焦点距離を短くすることができる
から、このアフォーカルアナモルフィック光学系とｆ−
ｔａｎθレンズとを組合せることによって面倒れ補正を
不要とするかまたは小さくすることができる。

〔実施例〕

以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。

第１図はマイクロフィルムに文字情報等を記録する本実
施例の光ビーム記録装置の光学系及び制御系を示すブロ
ック図である。この光ビーム記録装置の光学系は、記録
材料を走査する記録用のレーザビームを主走査方向に偏
向させるものであり、制御系は上記の光学系を制御する
と共に記録材料を副走査方向に所定速度−で搬送制御す
るものである。

まず、光学系について第１図及び第２図を参照して説明
する。この光学系はオン・オフ制御によってレーザビー
ムを発生する半導体レーザ１０を備えている。半導体レ
ーザ１０の射出側には半導体レーザ１０から射出された
レーザビームを平行光線束にすると共に主走査方向にレ
ーザビームの径を拡大するビーム整形光学系を備えたコ
リメータレンズ１２が配置されている。コリメータレン
ズ１２の射出側には、以下に示す（５）式による正弦波
振動によって偏向ミラーを共振させコリメータレンズ１
２から射出されたレーザビームを主走査方向に偏向する
偏向ミラーを備えたレゾナントスキャナ１４が配置され
ている。

φ−φ。ｓｉｎ　ωｔ　・・・（５）二こで、φは偏向ミラーの回転角、φ。は偏向ミラーの
振幅、ωは角周波数、ｔは時間である。

レゾナントスキャナ１４のレーザビーム反射側には、４
つのプリズムで構成されたアフォーカルアナモルフィッ
ク光学系１６が配置されている。

これらのプリズムの一実施例は、第３図に示すように、
頂角が１６°でかつ屈折率が１．８１のプリズム１６Ａ
と、プリズム１６Ａに対して頂角が反対方向を向くよう
に配置された頂角１６°でかつ屈折率１．８１のプリズ
ム１６Ｂと、プリズム１６Ｂと頂角が同一方向を向くよ
うに配置された頂角１５．２”で屈折率１．８１のプリ
ズム１６Ｃと、プリズム１６Ｃと頂角が反対方向を向く
ように配置された頂角１５．２°で屈折率１．８１のプ
リズム１６Ｄとから構成されている。また、これらのプ
リズム１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃ，１６Ｄは、プリズム１
６Ａの面に垂直に入射したレーザビームが、プリズム１
６Ｂ、１６Ｃ，１６Ｄの各々の面に垂直に入射するよう
に配置されている。

ここで、第４図に示すように頂角が反対方向を向くよう
に配置された２つのプリズムで構成されたアフォーカル
アナモルフィック光学系について考えると、この光学系
に径り、のビームを入射させたときの射出光線束のビー
ム径をり、とすると、入射光線束を光軸に対してω、た
け傾けた場合の射出光線束の光軸と成す角ω２は、上記
（１）式に示す関係を有することが知られている。

上記（１）式から理解されるように、アフォーカルアナ
モルフィック光学系の前後での光線束と光軸に対する傾
斜角との積は一定であるから、光線束の径が小さくなれ
ば傾斜角は大きくなる。この原理を応用すれば、レゾナ
ントスキャナＬ４の偏向ミラーの振れ角が小さくても、
上記のように４つのプリズムを配置したアフォーカルア
ナモルフィック光学系を透過させることにより主走査方
向の偏向角を拡大することができる。

また、プリズムで構成したアフォーカルアナモルフィッ
ク光学系においては、プリズムの頂角と屈折率とを適当
に定めることによりアークサインの歪を有することが知
られており、第３図のように屈折率と頂角とを定めたア
フォーカルアナモルフィック光学系の場合には、入射角
と射出角との関係は拡大率を１．５、歪を２．３％とし
た場合第５図（１）に示すようになる。なお、第５図（
２）、（３）に、第５図（１）のＡ、Ｂ部の拡大図を示
す。

ところで、−１％ｋに上記（５）式に示す正弦波振動で
共振する偏向ミラーを備えたレゾナントスキャナを用い
る場合には、走査レンズとして次の（６）式に示すアー
クサイ電ンの歪を備えたアークサインレンズを用いるの
が普通であるが、上記のようにアークサインの歪を備え
たアフォーカルアナモルフィック光学系を用いることに
より、アークサインの歪を備えた走査レンズは不要とな
る。また、上記のアークサインの歪を備えたアフォーカ
ルアナモルフィック光学系はプリズムで構成されている
ため設計が極めて容易である。

ここで、ｙは結像点の光軸からの距離、θは光軸に対す
る光ビームの入射角度、ｆは焦点距離である。

従って本実施例ではアフォーカルアナモルフィック光学
系１６の射出側に次の（７）式で示される結像関係を有
する走査レンズ１日を配置し、この走査レンズ１８の焦
点面に記録材料２０が位置するようにしている。

５＝ｆ−ｔａｎθ　　・（７）ただし、Ｓは結像点の光軸からの距離、ｆは焦点距離、
θは光軸に対するレーザビームの入射角である。

ここで、マイクロフィルムの納の主走査方向の長さは通
常７．２ｍｍであるから主走査の最大振幅は３．６麺と
なる。またアフォーカルアナモルフィック光学系の偏向
角の拡大率（１／　ｍ　）を１．５とし、偏向ミラーの
振幅φ。を１０°とすると、アフォーカルアナモルフィ
ック光学系とｒ・ｔａｎθレンズとによって上記（６）
式に示す関係で結像されるから、上記（６）式のφ。は
１０”Ｘｌ、、５＝１５”となる、また、（−ｔａｎθ
レンズから射出されたレーザビームの光軸近傍の走査角
５０％のレーザビームを記録用として使用すれば、θ＝
１５”　となるからｙ−３，６ｍｍとして走査レンズの
焦点距離ｆを求めるとｆ−１３，１３圓となる。そこで
、上記の数値を用いて以下の式に従って歪αを求めると
次のようになる。

主走査の最大振幅−ｒ−ｔａｎθ ３．６−１３．１３　ｘ　Ｏ，２６７９１３，１３ｘＯ
，２６７９＝０．０２３従って、歪αを２．３％と小さくすることができる。

次に上記光ビーム記録装置の制御系について説明する。

この制御系は、走査レンズ１８と記録材料２０との間に
配置された光電変換器２２を備えている。この光電変換
器２２は１．第２図に示すように、走査レンズ１８から
照射されたレーザビームの主走査の開始点に対応する光
路の外側に所定距離り離れて配置されている。光電変換
器２２は、光電変換器２２が走査レンズ１日から照射さ
れたレーザビームを受光してからレーザビームが上記所
定距離り移動する時間に対応する時間経過した後に所定
幅（例えば、３３６０ドツト／７．２ｍに対応する時間
幅）のパルス列から成る同期信号を発生する同期信号発
生器２８に接続されている。

この同期信号発生器２８は、文字情報をドツト信号に変
喚する印字ドライバ３６に接続されている。

印字ドライバ３６は、印字ドライバ３６から出力される
ドツト信号に応じて半導体レーザ１０をオン・オフ制御
する半導体レーザドライバ３４に接続され、半導体レー
ザドライバ３４は半導体レーザ１０に接続されている。

またこの電気系はマイクロコンピュータで構成された制
ｊ’ＪＪ回路３８を備えており、この制御回路３８はス
キャナドライバ３２を介してレゾナントスキャナ１４の
駆動部に接続されると共にオートフォーカス機構３０を
介して走査レンズ１８に接続され、また副走査ドライバ
２６を介して記録材料２０を副走査方向と逆方向に搬送
するモータ２４に接続されている。また、このモータ２
４は記録材料２０を主走査方向にも移動させて、記録が
終了した部分と隣接する部分へも記録を行なうようにし
ている。

次に、本発明の光ビーム記録装置に使用可能な記録材料
について説明する０本発明の光ビーム記録装置に使用可
能な記録材料としては、銀塩写真フィルム、帯電によっ
て情報を記録する電子写真フィルムおよびヒートモード
記録材料がある。本実施例ではこのヒートモード記録材
料を使用した。

ここでヒートモード記録材料は、金属薄膜のようにレー
ザ等の高密度エネルギーによって融解、蒸発、凝集など
の熱的変形を生ずる物質を記録層として用いたものであ
り、素材としては金属単位あるいは複数の金属の重層、
混合または合金が望ましいが、染料や顔料あるいは合成
樹脂等を用いるようにしてもよい、さらに記録層にはヒ
ートモード記録の感度を上げるための物質が含まれてい
てもよく、あるいは感度を高めるための層が別に存在し
てもよく、保護層等を設けるようにしてもよい、このよ
うなヒートモード記録材料は、公知の方法、例えば蒸着
、電気メッキ、無電解メッキ、スパッタリング、イオン
ブレーティング等によって記録層を形成して作成するこ
とができる。一般に、ヒートモード記録材料はしきい値
効果が大きく、しきい値以下のエネルギーでは記録でき
ないが、しきい値を少しでも越えるエネルギーによって
は完全に記録されるものである。このようなヒートモー
ド記録材料は、ガラスかＰＥＴの如き公知の支持体に例
えば、インジウムやビスマスのような低融点の金属を蒸
着して記録層を形成し、この記録層の上に保護層を形成
することにより構成される。そして、このように構成さ
れたヒートモード記録材料に、レンズによって微小光点
に収束されたレーザビームを照射すると、レーザビーム
の強度がしきい値以上である場合に記録層が熱的変形を
して照射部分の金属がなくなり透明になって記録される
。このようなヒートモード記録材料は、感度が低いため
大出力のレーザを用い、レーザ光点を数十ミクロンの微
小光点に絞って単位面積当りの光量を大きくする必要が
ある。しかしながら本実施例では、波長が長く焦点深度
が浅い低出力の半導体レーザを用いているため、オート
フォーカス機構３０を用いることによって記録材料テア
ルヒートモード記録材料上に１０ミクロン程度の径の光
点が常に形成されるようにしている。

次に本実施例の作用を第１図および第６図を参照して説
明する。まず、制御回路３８は、上記（５）式に示す正
弦波によってスキャナドライバ３２を介してレゾナント
スキャナ１４の偏向ミラーを共振させる。このとき半導
体レーザ１ｏがらレーザビームが照射されていれば、コ
リメータレンズ１２を介してレゾナントスキャナ１４に
主走査方向に径が拡大された平行光線束が照射され、レ
ゾナントスキャナ１４によって反射された平行光線束は
、アフォーカルアナモルフィック光学系１６によって主
走査方向に径が縮少されて走査レンズ１８を介して記録
材料２０に照射される。なお、コリメータレンズ１２、
アフォーカルアナモルフィック光学系１６および走査レ
ンズ１８から射出されたレーザビームの光軸と垂直な方
向に切断した断面形状を一点鎖線で示す、走査レンズ１
８と記録材料２０との間に配置された光電変換器２２が
レーザビームを受光すると光電変換器２２から第６図（
Ａ）に示す電気信号が出力される。この電気信号は同期
信号発生器２８に供給され、同期信号発生器２日は電気
信号の立上がりから所定時間ｔ（レゾナントスキャナ１
４の偏向ミラーの角速度と第２図の距離りとから定まる
）経過後から第６図（Ｂ）に示すパルス列から成る同期
信号を出力する。この同期信号は印字ドライバ３６に人
力される。印字ドライバ３６には、図示しないコンピュ
ータ等から文字情報が入力されており、この印字ドライ
バ３６は文字情報を１主走査当りのドツトに変換し、こ
の変換されたドツトと上記同期信号とに基づいて第６図
（Ｃ）に示すドツト信号を形成して出力する。このドツ
ト信号のハイレベル部分は文字の一部に対応している。

ドツト信号は半導体レーザドライバ３４を介して半導体
レーザ１０に供給されこの半導体レーザ１０をオン・オ
フ制御する。従って、ドツト信号がハイレベルのときは
半導体レーザ１０からレーザビームが照射される。同期
信号発生器２８から発生された同期信号は制御回路３日
にも入力されており、制御回路３８は同期信号に基づい
て主走査の開始時点からρ１走査ドライバ２６を介して
モータ２４を一定速度で回転させ副走査を行なう、この
副走査の速度は、１主走査が行なわれる間に記録材料２
０が２．７ミクロン移動する程度の速さである。

また、制御回路３８はオートフォーカス機構３０を介し
て走査レンズ１８の位置を自動的に制御し、記録材料２
０上に微小な光点が形成されるように制御する。

なお、上記ではアフォーカルアナモルフィック光学系と
して４つのプリズムを用いた例について説明したが、２
個または６個以上の偶数個のプリズムを配置してアフォ
ーカルアナモルフィック光学系を構成するようにしても
よく、ｉ（Ｉは整数）個のプリズムを配置するようにし
てもよい。

すなわち、第１０図に示すように、プリズムの頂角をθ
、屈折率をｎ、入射角をα、射出角をδ、入射角Ｏ°の
ときの射出角をδ。とすると、射出角δ、δ。は各々次
のように表わされる。

・・・（８）ｓｉｎδ６ｘｎ−Ｓｉｎθ　　　　　　　　・（９）従
って、次のプリズムへの入射角δ−δ。−ｇ（α、θ、
ｎ）は次のようになる。

ｇ（α、θ、ｎ） −ｃｏｓθ・　ｓｉｎα） −５ｉｎ−’　（ｎ−ｓｉｎθ）　　　　　　・００）
また、プリズムの角倍率ｄδ／ｄαをｒ（α、θ、ｎ）
とすると、次のようになる。

「（α、θ、ｎ）＝□　　・・・（１０ただし、＋　ｃｏｓα°ｓｉｎα−ｓｉｎθ 従って、ｉ＋１番目のプリズムへの入射角ｇ（α１１θ
ｉ　、ｎｌ）、１番目のプリズムの角倍率ｆ（ｃｘｌ、
θｉ　、ｎｉ）は上記０ω、００式のα、θ、ｎを各々
α１、θｉ、ｎｉ　とすれば求められ、これらのパラメ
ータを適当に定めることにより、レーザビームの偏向角
を主走査方向に拡大すると共にアークサインの歪または
その他の必要な歪を持たせることができる。

また、第１１図に示すように、２つのシリンドリカルレ
ンズＳＹＩ、ＳＹ２を所定距離離して配置してアフォー
カルアナモルフィック光学系を構成するようにしてもよ
い、また、上記では主走査をレゾナントスキャナで行な
い副走査を記録材料を移動させることによって行なった
が、副走査についても主走査と同様のレゾナントスキャ
ナを用いて行なうようにしてもよい。

更に上記実施例ではアフォーカルアナモルフィック光学
系にアークサインの歪を持たせてｒ−ｔａｎθレンズを
用いた例について説明したが、アフォーカルアナモルフ
ィック光学系に歪を持たせずに走査レンズとしてアーク
サインレンズを用いるようにしてもよく、また歪や走査
レンズの結像関係については上記に近似した歪や結像関
係であってもよい。

以上説明したように本実施例によれば、半導体レーザを
用いているのでアルゴンレーザで必要であった光変調器
が不要となり、またレゾナントスキャナを用いているた
め回転多面鏡で必要となった補正光学系が不要となり、
また光電変換素子によって検出した信号によって同期信
号を形成しているのでヘリウム−ネオンレーザ等の参照
光線が不要となり、これによってコストを大幅に低減す
ることができる。また、アークサインの歪を備えたアフ
ォーカルアナモルフィック光学系を用いているため走査
レンズとして通常の凸レンズを使用することができ、こ
れによってレンズの設計が容易になる。さらに、主走査
方向にレーザビームの径を拡大するアフォーカルアナモ
ルフィック光学系を用いているため歪が少ない振れ角最
小近傍の光線によって走査を行なうことができるため、
記録材料に記憶された情報の歪を低減することができる
。

なお、上述の実施例では半導体レーザを用いてオフ・オ
フ変調させる方式を説明したが、この事例に限らず、ア
ルゴンレーザ等を用い音響型光度１！器などによりオン
・オフ変調させてもよく、電気光学変調器、磁気光学変
調器や光吸収係数変化を利用する変調器を用いてもよい
、また、オン・オフ変調とは２位置のエネルギレベルを
とり得る変調をいうのであり、オフ状態とは記録材料の
しきい値を越えない範囲で任意に選択できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
上記実施例の光学系を示す線図、第３図は４つのプリズ
ムを用いたアフォーカルアナモルフィック光学系を示す
線図、第４図はアフォーカルアナモルフィック光学系の
射出光線が拡大されることを示す線図、第５図（１）は
入射角に対するアフォーカルアナモルフィック光学系の
射出角の変化を示す線図、第５図（２）、（３）は第５
図（１）のＡＳＢ部の拡大図、第６図は上記実施例の制
御系の各部の波形を示す線図、第７図は本発明の詳細な
説明するための線図、第８図（１）、（２）および第９
図は焦点距離と面倒れ補正との関係を説明するための線
図、第１０図はプリズムの入射角等を示す線図、第１１
図は本発明に適用可能な他のアフォーカルアナモルフィ
ック光学系を示す線図である。１０・・・半導体レーザ１４・・・レゾナントスキャナＩ６・・・アフォーカルアナモルフィック光学系１８・
・・走査レンズ２０・・・記録材料

Claims

【特許請求の範囲】

（１）光ビームを発する光源と、前記光源から照射され
た光ビームを正弦波振動によって主走査方向に偏向させ
る光偏向手段と、前記偏向手段によって偏向された光ビ
ームの偏向角を主走査方向に拡大するアフオーカルアナ
モルフイツク光学系と、前記アフオーカルアナモルフイ
ツク光学系を透過した光ビームを記録材料上に結像させ
る走査レンズと、を含む光ビーム記録装置。