JPS63122659A - α，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、α、β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有す
る特定物質の製造方法に関し、さらに詳しくは、デヒド
ロアミノ酸残基を構成要素又は前駆体とする生理活性ペ
プチドの製造あるいはＮ−保護−デヒドロアミノ酸エス
テルの製造に有用な新規の製造方法に関する。

［従来の技術］ 天然より発見されたデヒドロアミノ酸残基を構成要素又
は前駆体とする生理活性ペプチド（例えばテロマイシン
、カブレオマイシン、セファロスポリンＣ、ホモプシン
、アントリマイシンなど）は、はとんどが抗菌、抗腫瘍
性、植物毒素あるいは酵素阻害作用などの生理活性を有
していることが知られている。これは、デヒドロアミノ
酸残基又はこれを前駆体としたアミノ酸残基が立体構造
の２次、３次構造に大きな影響を及ぼし、立体構造の保
持や生理活性発現の重要な部位をなしている。さらに、
動物由来の蛋白構成アミノ酸からなる生理活性ペプチド
の一部をデヒドロアミノ酸残基で置き替えることによっ
て、抗蛋白分解酵素作用を示し、活性の持続性の向上に
重要な役割を果たしていると考えられている０例えば、
血圧降下作用や腸管収縮作用のあるブラジキニンは、５
位フェニルアラニンのかわりにデヒドロフェルアラニン
を導入すると、もとの降圧作用の２０数倍もの高い活性
を示すことが知られている。（ｊｃ献：Ｙ、Ｓｈｉｍｏ
ｈｉｇａｓｈｉ、　ａｎｄ　Ｎ、　Ｉｚｕｍｉｙａ、　
”Ｔｈｅ　ｐｅｐｔｉｄｅｓ、　Ｖｏｌ、　　５″、　
ｅｄ　Ａｃａｄｅａ＋ｉｃ　Ｐｒｅｓｓ　ｂｙ　Ｅ、　
Ｇｒｏｓｓａｎｄ　Ｊ、　Ｍｅｉｅｎｈｏｆｅｒ、　１
９８３　）。

従来、デヒドロアミノ酸残基を構成要素とするペプチド
の製造方法としては、［１ルて２種の方法があった。１
つはデヒドロアミノ酸とアミノ酸の直接縮合による方法
、他は脱離基をもつペプチドから、それらを脱離してデ
ヒドロペプチドを合成する方法である。前者には、アズ
ラクトン法、アジド法、混合酸無水物法、酸クロライド
法等がある。しかし、各法には次のごとき欠点があった
・アズラクトン法 α−デヒドロアミノ酸のアミノ基の保護及びα−デヒド
ロアミノ酸残基が限定されてしまう。

・アジド法 他の光学活性アミノ酸残基への悪影響はないが、賜率が
悪い。

会混合酸無水物法 副反応の危険性が高い、したがって収率が悪いΦ酸クロ
ライド法 反応条件が厳しく、他のアミノ酸残基等が限定される。

番α−１β−又はα、β−説敲による方法脱離基を有す
るものでなければならないこと、あるいは芳香族系置換
基を有するアミノ酸の場合にあっては脱水素化剤により
合成すること等のため、生成されるデヒドロアミノ酸残
基に限定がある。

このように、上記製造方法にあっては、汎用性の点で問
題があった。また、これらの製造方法は概して収率が低
いという欠点があった。さらに、光学活性アミノ酸残基
の一部がラセミ化するため、他の光学活性アミノ酸残基
への悪影容があるという欠点があった。さらに、アミン
成分として反応させるアミノ酸に関しては、アルコール
、フェノール系水酸基をもつアミノ酸、メルカプト基を
もつアミノ酸など、側鎖に官能基をもつアミノ酸である
場合、従来の製造方法では、側鎖保護基が必要であった
。さらに従来の製造方法は概して反応条件が厳しい等の
点で問題のあるものがあった次に、Ｎ−保護−α、β−
デヒドロ−α−アミノ酸エステルの製造方法としては、
デヒドロアズラクトンの分解による方法、β−置換基の
脱離による方法、α−ケト酸エステルとＲ−ＣＯＮＨ２
との縮合による方法、デヒドロアミノ酸エステルからア
ミン基を保護する方法があった。しかし、各法には次の
如き欠点があった。

・デヒドロアズラクトンの分解による方法Ｎ位の保護基
に限定があり、かつその保護基では脱保護が難しい、等
汎用性がない。

・β−置換基の脱離による方法 β位に脱離基をもつか又はこの脱離基を導入しなければ
ならないことと、そのｍ時に条件により、アミン基やカ
ルボン酸の保護基に限定がある。汎用性がない。

・α−ケト酸エステルとＲ−ＣＯＮＨ２との縮合による
方法 アミノ基の保護基が限定される。

このように上記３法はいずれも汎用性がなく。

かつ収率が悪かった。

拳デヒドロアミノ酸エステルからアミン基を保護する方
法 二重結合の影響によりアミン基の求核性が低下し、目的
物ができないか、収率が悪い。

このように上記各製造方法はいずれも汎用性がなく、か
つ収率が悪い等の欠点があった。

以上詳述した如く、従来の各種製造方法では、デヒドロ
アミノ酸残基を構成要素又は前駆体とするペプチドの製
造あるいはＮ−保護−デヒドロアミノ酸エステルの製造
に当たって、汎用性、収率、光学活性アミノ酸への鰻、
簡便性、反応条件係の全てを満足させる方法はなかった
。

［発明が解決しようとする開維ｍ１ 本発明は上記欠点を解決し、デヒドロアミノ酸残基を構
成要素又は前駆体とするペプチドの製造あるいはＮ−保
護−デヒドロアミノ酸エステルの製造に当たって、汎用
性、収率、光学活性アミノ酸への影響、簡便性、反応条
件等の全てを満足させる製造方法を供することを目的と
する。

（以下余白） ［問題点を解決するための手段］ 上記目的達成のため、本発明は、α、β−デヒドロ−α
−アミノ酸残基を有する特定化合物を製造する方法にお
いて、所定の溶媒中、 （式中、Ｒ，、Ｒ２はそれぞれ水素原子、適宜に置換さ
れたカルボキシル基又は適宜置換されてもよいアルキル
基もしくはアリール基からなる同−又は異なる置換基を
表わす。但し、Ｒ１とＲ２が同時に水素原子であること
はない。）にて示されるＮ−カルボキシ−α、β−デヒ
ドロ−α−アミノ酸無水物に、アミン基の保護化剤又は
Ｎ−保護−α−アミノ酸もしくはＮ−保護−α−アミノ
酸ハライドからなる物質ａ■工工程デポを加え、所定の
塩基又は所定の縮合斉１と所定の塩基の存在下反応させ
、上記反応により合成された（式中、Ｒ，、Ｒ２は前記
同様、Ｘは所定のα−アミン基の保護基又はＮ−保護−
α−アミノ酸残基を表わす、）にて示されるＮ−Ｘ−Ｎ
−カルボキシ−α、β−デヒドロ−α−アミノ酸無水物
に求核性を有する物質からなる所定の物質悌２工程物質
）を加え、所定の塩基存在下反応させる工程からなり、
前記２つの工程が同一系内で行なわれることを特徴とす
るα、β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物
質の製造方法を供する特に、本発明製造方法においては
、特定物質がＸ＋　　ＮＨＣＣＯＯＹ＋ （式中、Ｒτ、Ｒ２は前記同様、ｘｌはα−アミノ酸の
α−アミノ基のアシル型保護基を表わす。

Ｙｌは第３級アルキル基を除く低級アルキル基を表わす
、）にて示されるＮ−保護−α、β−デヒドロ−α−ア
ミノ酸エステル誘導体のとき、第１工程物質がアミノ基
の保甜ヒ剤であってアシル型となるものであり、第２工
程物質が第３級アルキルアルコールを除く低級アルキル
アルコールである点、 Ｘ＋　　ＮＨＣＣ００Ｙ２ 吠中、Ｒ，、Ｒ２及びＸ、は前記同様、Ｙｌは水素原子
を表わす。）にて示されるＮ−保護−α、β−デヒドロ
−α−アミノ酸のとき、第１工程物質がアミン基の保護
化剤であってアシル型となるものであり、第２工程物質
が水である点、特定Ｘ２　ＮＨＣＣＯＯＹ＋ （式中、Ｒ，、Ｒ２及びＹｌは前記同様、　ｘ２　ハα
−アミノ酸のα−アミン基のウレタン型保護基を表わす
。）にて示されるＮ−保護−α、β−デヒドロ−α−ア
ミノ酸エステル誘導体のとき、第１工程物質がアミン基
の保護化剤であってウレタン型となるものであり、第２
工程物質が第３級アルキルアルコールを除く低級アルキ
ルアルコールである点、 特定物質が一般式　Ｒ，Ｒ２ ゝ。／ Ｘ２　ＮＨＣＣＯＯＹ２ （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ２及びＹｌは前記同様。

）にて示されるＮ−保護−α、β−デヒドロ−α−アミ
ノ酸のとき、第１工程物質がアミン基の保護化剤であっ
てウレタン型となるものであり、第２工程物質が水であ
る点、 特定物質が一般式　Ｒ，Ｒ２ ゝ。′ Ｘｌ　ＮＨＣＣＯＡＡｌ　０Ｙ：１ （式中、Ｒ，、Ｒ２及びｘｌは前記同様、Ｙ３は低級ア
ルキル基を表わす、　ＡＡ、はα−アミノ酸残基を表わ
す。）にて示されるＮ端のアミノ酸残基がα、β−デヒ
ドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ
保護されたデヒドロジベブチド（Ｎ端はペプチドのアミ
ン末端を示し、Ｃ端はペプチドのカルボキシ末端を示す
、）のとき、第１工程物質がアミン基の保護化剤であっ
てアシル型となるものであり、第２工程物質がα−アミ
ノ酸アルキルエステルである点、 Ｘｓ　　　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　　　０Ｙ３（式中、Ｒ，
、Ｒ２、Ｘ、、Ｙ３及びＡＡ、は前記同様、）にて示さ
れるＮ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α−アミ
ノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒ
ドロジペプチドのとき、第１工程物質がアミ７基の保護
化剤であってアシル型となるものであり、第２工程物質
がα−アミノ酸アルキルエステル塩化合物である点Ｘ２
　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　０Ｙ３ （式中、Ｒ＋　、Ｒ２、Ｘ２　、Ｙ３及びＡＡ＋　ハ前
記同様、）にて示されるＮ端のアミノ酸残基がα、β−
デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれ
ぞれ保護されたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物
質がアミン基の保護化剤であってウレタン型となるもの
であり、＄２工程物質がα−アミノ酸アルキルエステル
である点、特定Ｘ２　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　０Ｙ３ （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ２　、Ｙ３及びＡＡ、は前記同
様。）にて示されるＮ端のアミノ酸残基がα、β−デヒ
ドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ
保護されたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質が
アミノ基の保護化剤であってウレタン型となるものであ
り、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエステル塩化
合物である点、 特定物質が一般式　Ｒ，Ｒ２ ゝ。／ Ｘ３　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＯＹ＋ （式中、Ｒ，、Ｒ２は前記同様、ｘ３はα−アミノ基の
アシル型保護基を表わす。、ＡＡ２はα−アミノ酸残基
を表わす、Ｙｌは前記同様。）にて示されるＣ端のアミ
ノ酸残基がα、β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり
、Ｎ、　ＣＰ？端がそれぞれ保護されたデヒドロジペプ
チドのとき、第１工程物質がα−アミノ基がアシル型保
護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程物質が第３
級アルキルアルコールを除く低級アルキルアルコールで
ある点、 特定物質が一般式　Ｒ，Ｒ２ Ｘ３　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＯＹ２ （式中、Ｒ１、Ｒ２，Ｘ３．Ｙ２及びＡＡ２は前記同様
。）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒド
ロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護されたデヒド
ロジペプチドのとき、第１工程物質がα−アミノ基がア
シル型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程物
質が水である点特定物質が一般式　Ｒ，Ｒ２ Ｘ２　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＯＹ＋ （式中、Ｒ１，Ｒ２、Ｘ２、Ｙｌ及びＡＡ２は前記同様
。）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒド
ロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保
護されたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質がα
−アミン基がウレタン型保護基で保護されたアミノ酸で
あり、第２工程物質が第３級アルキルアルコールを除く
低級アルキルアルコールである点、 Ｉ Ｘ２　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＯＹ２ （式中、Ｒ，、Ｒ２、Ｘ２．Ｙｌ及びＡＡ２は前記同様
、）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒド
ロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護されたデヒド
ロジペプチドのとき、第１工程物質がα−アミン基がウ
レタン型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程
物質が水である点、 特定物質が一般式　Ｒ，Ｒ２ ｊ Ｘ３　ＡＡ：Ｉ　ＮＨＣＣＯＯＹＩ （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｘ３及びＹｌは前記同様。

ＡＡ３はα−アミノ酸残基を表わす。）にて示されるＣ
端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α−アミノ酸残
基であり、Ｎ、　Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロ
ジペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保護−α−アミ
ノ酸ハライドであってα−アミン基の保護基がアシル型
であり、第２工程物質が第３級アルキルアルコールを除
く低級アルキルアルコールである点、 特定物質が一般式　Ｒ，Ｒ２ Ｘ３　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＯＹ２ 拭中、Ｒ，、Ｒ２，Ｘ３、Ｙｌ及びＡＡ３は前記同様。

）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ
−α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護されたデヒドロ
ジペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保護−α−アミ
ノ酸ハライドであってα−アミン基の保護基がアシル型
であり、第２工程物質が水である点。

Ｘ４　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＯＹＩ （式中、Ｒ，、Ｒ２、Ｙ、及びＡＡ３は前記同様。Ｘ４
はα−アミン基のウレタン型保護基を表わす。）にて示
されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α−ア
ミノ酸歿基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデ
ヒドロジペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保護−α
−アミノ酸ハライドであってα−アミン基の保護基がウ
レタン型であり、第２工程物質が第３級アルキルアルコ
ールを除く低級アルキルアルコールである点、特定物質
が一般式　Ｒ，Ｒ２ Ｘ４　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＯＹ２ （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｘ４、Ｙｌ及びＡＡ３は前記同様
、）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒド
ロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護されたデヒド
ロジペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保護−α−ア
ミノ酸ハライドであってα−アミン基の保護基がウレタ
ン型であり、第２工程物質が水である点、 Ｘ３　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　０Ｙ３（式中、Ｒ，
、Ｒ２，Ｘ３．Ｙ３、ＡＡ、及びＡＡ２は前記同様。）
にて示されるＮ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−
デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれ
ぞれ保護されたデヒドロトリペプチドのとき、第１工程
物質がα−アミノ基がアシル型保護基で保護されたアミ
ノ酸であり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエス
テルである点、 Ｘ３　　ＡＡ２　　　ＮＨＣＣＯＡＡ、　　　ｏｙ３（
式中、Ｒ１，Ｒ２、Ｘ３、Ｙ３、ＡＡ、及びＡＡ２は前
記同様、）にて示されるＮ端から２番目のアミノ酸残基
がα、β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ
両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリペプチドのとき
、第１工程物質がα−アミノ基がアシル型保護基で保護
されたアミノ酸であり、第２工程物質がα−アミノ酸ア
ルキルエステル塩化合物である点、 Ｘ２　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　０Ｙ３（式中、Ｒ，
、Ｒ２，Ｘ２、Ｙ３．ＡＡ、及びＡＡ２は前記同様。）
にて示されるＮ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−
デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、　ＣＴＲ端が
それぞれ保護されたデヒドロトリペプチドのとき、第１
工程物質がα−アミン基がウレタン型保護基で保護され
たアミノ酸であり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキ
ルエステルである点、 特定物質が一般式　Ｒ，Ｒ２ Ｘ２　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＡＡ、０Ｙ３（式中、Ｒ，、
Ｒ２，Ｘ２、Ｙ３、ＡＡ、及びＡＡ２は前記同様。）に
て示されるＮ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−デ
ヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞ
れ保護されたデヒドロトリペプチドのとき、第１工程物
質がα−アミノ基がウレタン型保護基で保護されたアミ
ノ酸であり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエス
テル塩化合物である点、 Ｘ３　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　０Ｙ３（式中、Ｒ，
、Ｒ２，Ｘ３、Ｙ３、ＡＡ、及びＡＡ３は前記同様、）
にて示されるＮ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−
デヒドロ−α−アミン酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれ
ぞれ保護されたデヒドロトリペプチドのとき、第１工程
物質がＮ−保護−α−アミノ酸ハライドであって、α−
アミノ基の保護基がアシル型であり、第２工程物質がα
−アミノ酸アルキルエステルである点。

Ｘ３　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　０Ｙ３（式中、Ｒ１
，Ｒ２，Ｘ３、Ｙ３、ＡＡ盲及びＡＡ３は前記同様。）
にて示されるＮ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−
デヒドロ−α−アミン酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれ
ぞれ保護されたデヒドロトリペプチドのとき、第１工程
物質がＮ−保護−α−アミノ酸ハライドであってα−ア
ミノ基の保護基がアシル型であり、第２工程物質がα−
アミノ酸アルキルエステル塩化合物である点Ｘ４　ＡＡ
３　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　０Ｙ３（式中、Ｒ，、Ｒ２，Ｘ
４、Ｙ３、ＡＡ、及びＡＡ３は前記同様。）にて示され
るＮ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−
α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護さ
れたデヒドロトリペプチドのとき、第１工程物質がＮ−
保護−α−アミノ酸ハライドであってα−アミノ基の保
護基がウレタン型であり、第２工程物質がα−アミノ酸
アルキルエステルである点。

Ｘ４　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＡＡｔ　０Ｙ３（式中、Ｒ１
，Ｒ２、Ｘ４、Ｙ３、ＡＡ、及びＡＡ３は前記同様。）
にて示されるＮ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−
デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれ
ぞれ保護されたデヒドロトリペプチドのとき、第１工程
物質がＮ−保護−α−アミノ酸ハライドであってα−ア
ミン基の保護基がウレタン型であり、第２工程物質がα
−アミノ酸アルキルエステル塩化合物である点に特徴が
ある。

［発明の効果］ 本発明にかかる製造方法によれば、デヒドロアミノ酸残
基を構成要素又は前駆体とするペプチドの製造あるいは
Ｎ−保護−デヒドロアミノ酸エステルの製造に当たって
、汎用性、収率、光学活性アミノ酸への影響、簡便性、
反応条件等の全てを満足させることができる。以下詳述
する。

■汎用性について α、βデヒドローα−アミノ酸のアミン基は。

二重結合部分と共役性をとるため、アミノ基の求核性が
低下して、Ｎ−保護−α−アミノ酸及びＮ−保護化剤と
の反応性が従来極めて低く、かつ不安定で種種の副反応
を起こしていた。

しかし、本願発明にかかる製造方法によれば、５−アル
キリデン−２，４−オキサシリジンジオン構造（Ｎ−カ
ルボキシ−α、β−デヒドロ−α−アミノ酸無酸無水物
全色ることによって、安定化し、アミノ基の保詔ヒ剤又
はＮ−保護−α−アミノ酸等と反応することができる。

また、α、β位間に二重結合が存在することによって、
近似物質であるＮ−カルボキシ−α−アミノ酸無水物に
比し、目的物の安定性が増加し、かつアミン成分やカル
ボキシ成分の反応のコントロールが容易になった。これ
により、各種アミノ酸、アルコール類等との反応が容易
になり、ペプチド鎖中にデヒドロアミノ酸残基を自由に
導入することができる。したがって、α、β−デヒドロ
−α−アミノ酸残基を有する各種特定物質の製造が可能
になるという効果を有するのである。

■収率について 本願発明にかかる製造方法により目的物を合成よれば、
上述のところから明らかなように、従来の製造方法に比
し、収率が格段に向上した。

■光学活性アミノ酸への影響について 本願発明にかかる製造方法により目的物を合成すれば、
反応条件が温和であるため、またＮ−カルボキシ−α、
β−デヒドロ−α−アミノ酸無水物（ΔＮＣＡ）独自の
反応機構により、光学活性アミノ酸のα位の水素原子を
引きぬいたり、オキサシロンの形成等によるラセミ化の
危険性はほとんどない。したがって、光学活性アミノ酸
への悪影響がほとんどないという効果がある。

■簡便性について 本願発明にかかる製造方法により目的物を合成すれば、
デヒドロアミノ酸残基の自在導入や、多種の成分のアミ
ノ酸を副反応系を用いるのみで、製造することができる
。加えて、操作が煩雑でないという効果がある。

また、アミン成分として反応させるアミノ酸に関しては
、側鎖に官爺基を有するアミノ酸（例えば、アルコール
性水酸基、フェノーノｌ七幻瞥基、メルカプト基をもつ
アミノ酸等）を側鎖無保護の状態で反応させてもさしつ
かえなく、その側鎖保護や保護基の切断等の工程を省く
ことができるという効果がある。

■反応条件について 本願発明にかかる製造方法により目的物を合成すれば、
反応条件が常温常圧で済み、穏やかであり、冷却が必要
な場合であっても過度の冷却を必要としないという効果
がある。

（以下余白） ［発明の詳細な説明］ 本願発明にがかるα、β−デヒドロ−α−アミノ酸残基
を有する特定化合物を製造する方法におで示されるＮ−
カルボキシ−α、β−デヒドロ−α−アミノ酸無木物が
出発物質として用いられる、上記出発物質を、所定の溶
媒中、アミン基の保護化剤又はＮ−保護−α−アミノ酸
もしくはＮ−保護−α−アミノ酸ハライドからなる物質
部１工程物質）と、所定の塩基又は所定の縮合剤と所定
の塩基の存在下反応させる（３＋１工Ｗ、この反応によ
り中間物質として、 で示されるＮ−Ｘ−Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ
−α−アミノ酸無木物が合成される。該中間物質に求核
性を有する物質からなる所定の物質（第２工程物質）が
加えられる（ｉ２工ω。

上記第１工程及び第２工程は、同一系内で連続的に行な
われる。

中間物質として合成される物質は通常は単離されないが
、単離してもよい。

次に、得られる目的物に基すいて具体的に説明する。式
中、Ｒ，、Ｒ２，ｘ＋　　、Ｘ２　、Ｘ３　、Ｘ４、Ｙ
ｌ　　＊　Ｙ２　ｅＹ３及びＡＡ、、ＡＡ２　、ＡＡ３
は下記の通りである・ イ、Ｒ，，Ｒ２ Ｒ，、Ｒ２は、それぞれ、次に示す置換基の中から適宜
のものが選択される。

水素原子。

置換カルボキシル基；メチル基、エチル基、ベンジル基
等のアルキル基等により置換されたカルボキシル基。

アルキル基；メチル基、エチル基、プロピル基等。

置換アルキル基： ・ベンジルオキシカルボニル１（Ｃｂｚ基、以下同）、
ｔ−ブトキシカルボニル基（ＢＯＣ基、以下同）等で適
宜置換されたアミン基、・アルキルメルカプト基、 等にて置換されたアルキル基。

アリール基：フェニル基等。

置換アリール基： ・アルキル基、 ・ハロゲン、 ・メチル基、メトキシ基等により適宜置換されてもよい
ヒドロキシル基、 等にて置換されたアリール基。

但し、上記置換基Ｒ，とＲ２は同時に水素原子であるこ
とはない。

口、Ｘ Ｘは所定のα−アミン基の保護基又はＮ−保護−α−ア
ミノ酸残基を表わす、ＸＩ　、Ｘ２　、Ｘ３、ｘ４は、
それぞれ次に示す通りである。

ｘｌ　ニアセチル基（ＡＣ勘、トリフルオロアセチル基
（Ｔｆａ基）　等、α−アミノ酸のα−アミノ基のアシ
ル型保護基を表わす。

Ｘ２：ＢＯＣ基、Ｃｂｚ基等、α−アミノ酸のα−アミ
ン基のウレタン型保護基を表わす。

Ｘ３：Ｐｈｔ基等、α−アミノ基のアシル型保護基を表
わす。

Ｘ４：Ｃｂｚ基等、α−アミン基のウレタン型保護基を
表わす。

／＼、Ｙ Ｙ■　エステル系、エチル基、イソプロピル基、ベンジ
ル基等の第３級アルキル基を除く低級アルキル基を表わ
す。

Ｙ２：水素原子を表わす。

Ｙ３　エステル系、エチル基、ベンジル７．１、ｔ−ブ
チル基等の低級アルキル基を表わす。

二、ＡＡ ＡＡはα−アミノ酸の残基を示す。ＡＡＩ、ＡＡ２．Ａ
Ａ３は下記の中から適宜のものが選択される。

ＡＡ。

φ側鎖官能基のないα−アミノ酸：グリシスアラニン、
α−アミノブタン酸、バリン、ｎ−バリン、ロイシン、
ｎ−ロイシン、イソロイシン、プロリン、フェニルアラ
ニン等。

・側鎖官能基があり１反応時側鎖無保護でよいα−アミ
ノ酸；セリン、スレオニン、チロシン、システィン、メ
チオニン等。

・側鎖官能基があり、反応時側鎖の適宜保護が必要であ
るα−アミノ酸：アスパラギン酸、グルタミン酸、オル
ニチン、リジン、アルギニン等。

Ａ２ ・側鎖官能基のないα−アミノ酸；グリシン、アラニン
、α−アミノブタン酸、バリン、ｎ−バリン、ロイシン
、ｎ−ロイシン、イソロイシン、プロリン、フェニルア
ラニン等。

・側鎖官能基の適宜保護が必要なα−アミノ酸：セリン
、スレオニン、チロシン、システィン、メチオニン、ア
スパラギン酸、グルタミン酸、オルニチン、リジン、ア
ルギニン等。

Ａ３ 拳側鎖官能基のないα−アミノ酸；グリシン、アラニン
、α−アミノブタン酸、バリン、ｎ−バリン、ロイシン
、ｎ−ロイシン、インロイシン、プロリン、フェニルア
ラニン等。

・側鎖官能基は比較的酸性条件下で安定な保護基で適宜
保護が必要なα−アミノ酸；セリン、スレオニン、チロ
シン、システィン、メチオニン、アスパラギン酸、グル
タミン酸、オルニチン、リジン、アルギニン等。

また、所定の溶媒、所定の塩基及び所定の縮合剤は、次
に示す物質からなる。

ホ、所定の溶媒 非プロトン溶媒としては、 ハロゲン化炭化水素系；ジクロロメタン、クロロホルム
等。

エーテル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（
ＴＨＦ）、ジオキサン等。

ケトン系：アセトン、メチルエチルケトン等。

エステル系；酢酸エチル等。

窒素化合物系ニアセトニトリル、ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）等。

硫黄化合物系ニジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等。

リン化合物系；ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰ
Ａ）等。

炭化水素系：ベンゼン、トルエン等。

プロトン溶媒系：ターシャリ−ブタノール（ｔ−ブタノ
ール）等。

上記溶媒の単独又は２種類以上の組合せによる使用が可
能である。

へ、所定の塩基 第２級アミン化合物ニジエチルアミン、ジシクロヘキシ
ルアミン等。

第３級アミン化合物：ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン
（ＮＭＭ）、トリエチルアミン、１゜４−ジアザビシク
ロ［２、２、２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、ｉ、ａ−ジ
アザビシクロ［５、４。

０］ウンデカン−７−エン（ＤＢＵ）等。

アルカリ水溶液：塩ヒナトリウム水溶液等上記の化合物
を単独もしくは２種類以上の組合せによる使用又はこれ
を主成分とする使用が可能である。

ト、所定の縮合剤 所定の縮合剤はカルボジイミド型縮合剤が用いられる。

これには、ジシクロへキシルカルボジイミド（Ｄ、（、
、Ｃ）、あるいはｌ−エチル−３−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）カルボジイミド及びその塩酸塩（Ｗ、Ｓ、
Ｃ・ＨＣｌ）等がある。その使用量は、出発物質と等量
程度でよい。好ましくはり、Ｃ，Ｃがよい。

所定の縮合剤とともに用いられる所定の塩基は、ピリジ
ン、ＮＭＭ等の第３級アミン化合物の中から適宜のもの
が選択される。

■Ｎ−保護−α、β−デヒドロ−α−アミノ酸誘導体の
合成 Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−α−アミノ酸無木
物（ΔＮＣＡ）を所定の溶媒に混ぜ、所定のＮ保護化剤
（第１工程勤つと所定の塩基存在下、１時間から数１０
時間、室温ならば５乃至６時間程度反応させる。次いで
、所定の塩基存在下、水又はメチル、エチル、ベンジル
等の低級アルキルアルコール（第２工程［と数１０分か
ら数時間（通常２時間程度でよい）反応させ、抽出、洗
浄等の適当な処理、必要ならばカラムクロマトや再結晶
等の精製を行なって、目的のＮ−保護−α、β−デヒド
ロ−α−アミノ酸及びそのエステル誘導体を得た。

この場合において、目的物が Ｘ、ＮＨＣＣＯＯＹ。

にて示されるＮ−保護−α、β−デヒドロ−α−アミノ
酸エステル誘導体のとき、第１工程物質は上記アミン基
の保護化剤であってアシル型となるものであり、第２工
程物質は第３級アルキルアルコールを除く低級アルキル
アルコールである。

このとき、溶媒はＴＨＦ、ジクロロメタン等が望ましく
、保護化剤はアセチルクロライド、無水トリフルオロ酢
酸等が望ましい。所定の塩基は、第１工程においてトリ
エチルアミン等が、第２工程においてピリジン等がそれ
ぞれ望ましい。

目的物が Ｘ　＋　Ｎ　ＨＣＣＯＯＹ　２ にて示されるＮ−保護−α、β−デヒドロ−α−アミノ
酸のとき、第１工程物質は上記アミン基の保護化剤であ
ってアシル型となるものであり、第２工程物質は水であ
る。このとき、溶媒はＴＨＦ、ジクロロメタン等が望ま
しく、保護化剤はアセチルクロライド、無水トリフルオ
ロ酢酸等が望ましい。所定の塩基は、第１工程において
トリエチルアミン等が、第２工程において水酸化ナトリ
ウム水溶液、トリエチルアミン等がそれぞれ望ましい。

目的物が Ｃ Ｘ２　ＮＨＣＣＯＯＹＩ にて示されるＮ−保護−α、β−デヒドロ−α−アミノ
酸エステル誘導体のとき、第１工程物質は上記アミノ基
の保護化剤であってウレタン型となるものであり、第２
工程物質は第３級アルキルアルコールを除く低級アルキ
ルアルコールである。

このとき、溶媒はＴＨＦ、ジクロロメタン等が望ましく
、保護化剤はジ−ｔ−ブチル−ジ−カーボネート（（Ｂ
ＯＣ）２０）　、ベンジルオキシカルボニルクロライド
（Ｃｂｚ−Ｃ１）等が望ましい。所定の塩基は、第１工
程においてピリジン等が、第２工程においてＮＭＭ等が
それぞれ望ましい目的物が し Ｘ２　ＮＨＣＣＯＯＹ２ にて示されるＮ−保護−α、β−デヒドロ−α−アミノ
酸のとき、第１工程物質は上記アミン基の保護化剤であ
ってウレタン型となるものであり、第２工程物質は水で
ある。このとき、溶媒はＴＨＥ、ジクロロメタンが望ま
しく、保田ヒ剤は（ＢＱＣ）２０．Ｃｂｚ−ＣＩ等が望
ましい。所定の塩基は、第１工程においてピリジン等が
、第２工程において水酸化ナトリウム水溶液、トリエチ
ルアミン等がそれぞれ望ましい。

かかる方法により、上記目的物を製造するときは、それ
ぞれ収率、簡便性及び反応条件が一層良好になるという
効果がある。

■Ｎ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α−アミノ
酸残基であり、Ｎ、　Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒ
ドロジペプチドの合成 Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−α−アミノ酸無水
物（ΔＮ　ＣＡ）を所定の溶媒に混ぜ、所定のＮ保護化
剤（第１工程ｍと所定の塩基存在下、１時間から数１０
時間、室温ならば５乃至６時間程度反応させる０次いで
、上記反応液にアミノ酸エステル又はアミノ酸エステル
塩化合物（第２工程物質）を加え、所定の塩基存在下（
アミノ酸エステル塩化合物の場合は、該塩化合物を中和
し得る程度の量の所定の塩基をさらに加える）、室温程
度（あえて冷却又は加熱の必要はない）で数分から数時
間（１時間程度でよい）反応させ、抽出、洗浄等の適当
な処理、必要ならばカラムクロマトや再結晶等の精製を
することによって目的のＮ端にα、β−デヒドロ−α−
アミノ酸歿基を有するＮ−保護−ジペプチドエステル誘
導体を得た。

この場合において、目的物が Ｘ＋　ＮＨＣＣＯＡＡｔ　ＯＹ３ にて示されるＮ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−
α−アミノ酸歿基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護さ
れたデヒドロジペプチド（Ｎ端はペプチドのアミン末端
を示し、Ｃ端はペプチドのカルボキシ末端を示す。）の
とき、第１工程物質は上記アミン基の保護化剤であって
アシル型となるものであり、第２工程物質はα−アミノ
酸アルキルエステルまたはその塩化合物である。上記２
つの場合、溶媒はＴＨＦ、ジクロロメタン等が望ましく
、保護化剤はアセチルクロライド（ＡｃＣ１）、無水ト
リフルオロ酢酸（（ＣＦ３　Ｃｏ）２０）等が望ましい
。所定の塩基は、第１工程においてトリエチルアミン等
が、第２工程においてＮＭＭ等がそれぞれ望ましい。

次に、目的物が Ｃ Ｘ２　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　ＯＹ３ にて示されるＮ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−
α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護さ
れたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質は上記ア
ミン基の保護化剤であってウレタン型となるものであり
、第２工程物質はα−アミノ酸アルキルエステルまたは
その塩化合物である。上記２つの場合、溶媒はＴＨＦ、
ジクロロメタン等が望ましく、保詔ヒ剤は（ＢＯＣ）２
０、Ｃｂｚ−ＣＩ等が望ましい。所定の塩基は、第１工
程においてピリジン等が、第２工程においてＮＭＭ等が
それぞれ望ましい。

かかる方法により、上記目的物を製造するときは、それ
ぞれ収率、簡便性及び反応条件力μ層良好になり、かつ
光学活性アミノ酸への影響がほとんどないので一層右利
であるという効果がある。

また目的のペプチドを合成する場合において、Ｃ端とな
るアミノ酸を縮合させるとき、側鎖官能基をもつα−ア
ミノ酸中特定の側鎖官能基は無保護であってもよい。し
たがって、次反応で特定の側鎖官能基の保護基の脱離工
程を要する場合は、これを無保護で行なうことができ、
あるいは次反応でも特定の側鎖官能基の保護が必要な場
合は側鎖を保護したアミノ酸を使用することができる。

したがって、収率及び簡便性の一層の向上がこの面から
も図ることができる。

（以下余白） ■Ｃ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α−アミノ
酸残基であり、Ｎ端が保護されたデヒドロジペプチド誘
導体の合成 Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−α−アミノ酸無水
物（ΔＮＣＡ）と、所定のＮ−保護基を有するアミノ酸
（第１工程ｍを所定の溶媒中、所定の塩基存在下、Ｄ、
Ｃ，Ｃ等のカルボジイミド型の縮合剤で、１５℃以下好
ましくはＯ〜−１０℃に冷却下、数１０分から数時間（
１時間程度でよい）、その後、室温程度で数時間から数
１０時間（１０時間程度でよい）反応させる。次いで、
水又はメチル、エチル、ベンジル等の第３級アルコール
を除く低級アルキルアルコ−ルミＶ工程物質）と、所定
の塩基存在下、１時間程度反応させ、抽出、洗浄等の適
当な処理、必要ならばカラムクロマトや再結晶等の精製
を行なうことによって、目的のＣ端にα、β−デヒドロ
−α−アミノ酸残基を有するＮ−保護デヒドロジペプチ
ド及びエステル誘導体を得た。

この場合において、目的物が Ｘ３　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＯＹ＋ で示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α
−アミノ酸残基であり、Ｎ、　ＣＰｆ端がそれぞれ保護
されたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質はα−
アミノ基がアシル型保護基で保護されたアミノ酸であり
、第２工程物質は第３級アルキルアルコールを除く低級
アルキルアルコールである。このとき、溶媒はＴＨＦ、
ジクロロメタン等が望ましい。Ｎ−保護−アミノ酸は、
例えば、Ｎ−Ｐｈｔ−アミノ酸等である。塩基は第１工
程においてピリジン等が望ましく、第２工程においてＮ
ＭＭ等が望ましい。縮合剤はり、Ｃ，Ｃ等が望ましい。

目的物が Ｃ Ｘ３　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＯＹ２ にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−
α−アミノ酸歿基であり、Ｎ端が保護されたデヒドロジ
ペプチドのとき、第１工程物質はα−アミノ基がアシル
型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程物質は
水である。このとき、溶媒はＴＨＦ、ジクロロメタン等
が望ましい。Ｎ−保護−アミノ酸は、例えば、Ｎ−Ｐｈ
ｔ−アミノ酸等である。塩基は第１工程においてピリジ
ン等が望ましく、第２工程において水酸化ナトリウム水
溶液、トリエチルアミン等が望ましい。縮合剤はり、Ｃ
，Ｃ等が望ましい。

目的物が Ｘ　２　Ａ　Ａ　２　Ｎ　ＨＣＣＯＯＹ　１にて示され
るＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α−アミノ
酸歿基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒド
ロジペプチドのとき、第１工程物質はα−アミン基がウ
レタン型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程
物質は第３級アルキルアルコールを除く低級アルキルア
ルコールである。このとき、溶媒はＴＨＦ、ジクロロメ
タン等が望ましい、Ｎ−保護−アミノ酸は、例えば、Ｎ
−ＢＯＣ−アミノ酸、Ｎ−Ｃｂｚ−アミノ酸等である。

塩基は第１工程においてピリジン等が望ましく、第２工
程においてＮＭＭ等が望ましい０ｗＪ合剤はり、Ｃ−Ｃ
等が望ましい。

目的物が 一般式　　　　ＲＩＲ２ Ｘ２　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＯＹ２ にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−
α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護されたデヒドロジ
ペプチドのとき、第１工程物質はα−アミノ基がウレタ
ン型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程物質
は水である。このとき、溶媒はＴＨＦ、ジクロロメタン
等が望ましい。

Ｎ−保護−アミノ酸は、例えば、Ｎ−ＢＯＣ−アミノ酸
、Ｎ−Ｃｂｚ−アミノ酸等である。塩基は、第１工程に
おいてピリジン等が望ましく、第２工程において水酸化
ナトリウム水溶液、トリエチルアミン等が望ましい、縮
合剤はり、Ｃ，Ｃ等が望ましい。

他の合成方法として次の方法がある。即ち、アミノ酸の
α−アミン基にフタリル基（Ｐｈｔ）、ベンジルオキシ
カルボニル基（Ｃｂ　ｚ）等の比較的酸性条件下で脱離
しにくい保護基をもつＮ−保護−α−アミノ酸を常法で
Ｎ−保護−α−アミノ酸ハライドとし、該Ｎ−保護−α
−アミノ酸ハライド（第１工程Ｍ）とＮ−カルボキシ−
α、β−デヒドロ−α−アミノ酸無水物（ΔＮＣＡ）と
を、所定の塩基存在下、数分から数時間ｊ常１時間程度
）反応させる０次いで、水又はメチル、エチル、ベンジ
ル等の第３級アルコールを除いた低級アルキルアルコー
ル■２工荘粉℃を加え、所定の塩基存在下、１時間程度
反応させて、抽出、洗浄等の適当な処理、必要ならばシ
リカゲルカラムや再結晶等の精製を行なうことによって
、目的のＣ端にα、β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を
有するＮ−保護デヒドロペプチド及びエステル誘導体を
得た。

この場合において、目的物が Ｃ Ｘ３　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＯＹＩ にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−
α−アミノ酸残基であり、Ｎ、　Ｃ両端がそれぞれ保護
されたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質はＮ−
保護−α−アミノ酸ハライドであってα−アミン基の保
護基がアシル型であり、第２工程物質は第３級アルキル
アルコールを除く低級アルキルアルコールである。この
とき、溶媒はＴＨＦ等が望ましい。Ｎ−保護−アミノ酸
ハライドは、例えば、Ｎ−Ｐｈｔ−アミノ酸クロライド
等である。塩基は第１工程においてトリエチルアミン等
が望ましく、第２工程においてトリエチルアミン等が望
ましい。

目的物が Ｘ３　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＯＹ２ にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−
α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護されたデヒドロジ
ペプチドのとき、第１工程物質はＮ−保護−α−アミノ
酸ハライドであってα−アミ７基の保護基がアシル型で
あり、第２工程物質は水である。このとき、溶媒はＴＨ
Ｆ等が望ましい、Ｎ−保護−アミノ酸ハライドは、例え
ば、Ｎ−Ｃｂｚ−アミノ酸クロライド等である。塩基は
第１工程においてトリエチルアミン等が望ましく、第２
工程において水酸化ナトリウム水溶液、トリエチルアミ
ン等が望ましい。

目的物が Ｘ４　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＯＹＩ にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−
α−アミノ酸残基であり、Ｎ、　Ｃ両温Ｗ（それぞれ保
護されたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質はＮ
−保護−α−アミノ酸ハライドであってα−アミン基の
保護基がウレタン型であり、第２工程物質は第３級アル
キルアルコールを除く低級アルキルアルコールである。

このとき、溶媒はＴＨＦ等が望ましい。Ｎ−保護−アミ
ノ酸ハライドは、例えば、Ｎ−Ｃｂｚ−アミノ酸クロラ
イド等である。塩基は第１工程においてトリエチルアミ
ン等が望ましく、第２工程においてトリエチルアミン等
が望ましい。

目的物が し Ｘ４　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＯＹ２ にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−
α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護されたデヒドロジ
ペプチドのとき、第１工程物質はＮ−保護−α−アミノ
酸ハライドであってα−アミ７基の保護基がウレタン型
であり、第２工程物質は水である。このとき、溶媒はＴ
ＨＦ等が望ましい。Ｎ−保護−アミノ酸ハライドは、例
えば、Ｎ−Ｃｂｚ−アミノ酸クロライド等である。塩基
は第１工程においてトリエチルアミン等が望ましく、第
２工程において虚ヒナトリウム水溶液、トリエチルアミ
ン等が望ましい。

かかる方法により、上記目的物を製造するときは、それ
ぞれ収率、簡便性及び反応条件が一層良好になり、かつ
光学活性アミノ酸への影響がほとんどないので−層有利
であるという効果がある。

■Ｎ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−ケヒドロー
α−アミノ酸残基であり、Ｎ、　Ｃ両端がそれぞれ保護
されたデヒドロトリペプチド誘導体の合成 Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−α−アミノ酸無水
物（ΔＮＣＡ）と、所定のＮ−保護基を有するアミノ酸
（第１工程令−Ｄを所定の溶媒中、所定の塩基存在下、
Ｄ、Ｃ，Ｃ等のカルボジイミド型の縮合剤で、１５℃以
下好ましくはθ〜−１０℃に冷却下、数１０分から数時
間（１時間程度でよい）、その後、室温程度で数時間か
ら数１０時間（１０時間程度でよい）反応させる０次い
で、上記反応液にアミノ酸エステル又はアミノ酸エステ
ル塩化合物（第２工程ｍを加え、所定の塩基存在下（ア
ミノ酸エステル塩化合物の場合は、該塩化合物を中和し
得る程度の量の所定の塩基をさらに加える）、室温程度
で数分から数時間（１時間程度でよい）反応させ、抽出
、洗浄等の適当な処理、必要ならばカラムクロマトや再
結晶等の精製を行なうことによって目的のＮ端から２番
目にα、β−デヒドロ−α−アミノ酸歿基を有するＮ−
保護デヒドロトリペプチドエステル誘導体を得た。

この場合において、目的物が ｘ３　ＡＡ２　　ＮＨＣＣＯＡＡ、　　ＯＹ３にて示さ
れるＮ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ
−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護
されたデヒドロトリペプチドのとき、第１工程物質はα
−アミノ基がアシル型保護基で保護されたアミノ酸であ
り、第２工程物質はα−アミノ酸アルキルエステルまた
はその塩化合物である。上記２つの場合、溶媒はＴＨＦ
、ジクロロメタン等が望ましい。Ｎ−保護−アミノ酸は
、例えば、Ｎ−Ｐｈｔ−アミノ酸等である。塩基は第１
工程においてピリジン等が望ましく、第２工程において
ＮＭＭ等が望ましい、縮合剤はり、Ｃ，Ｃ等が望ましい
。

次に、目的物が Ｘ２　ＡＡ２　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　ＯＹ３にて示される
Ｎ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α
−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護され
たデヒドロトリペプチドのとき、第１工程物質はα−ア
ミン基がウレタン型保護基で保護されたアミノ酸であり
、第２工程物質はα−アミノ酸アルキルエステルまたは
その塩化合物である。上記２つの場合、溶媒はＴＨＥ、
ジクロロメタン等が望ましい。Ｎ−保護−アミノ酸は、
例えば、Ｎ−ＢＯＣ−アミノ酸、Ｎ−Ｃｂｚ−アミノ酸
等である。塩基は第１工程においてピリジン等が望まし
く、第２工程においてＮＭＭ等が望ましい。縮合剤はり
、Ｃ，Ｃ等が望ましい。

他の合成方法として次の方法がある。即ち、アミノ酸の
α−アミノ基にフタリル基（Ｐｈｔ）、ベンジルオキシ
カルボニル基（Ｃｂ　ｚ）等の比較的酸性条件下で脱離
しにくい保護基をもつＮ−保護−α−アミノ酸を常法で
Ｎ−保護−α−アミノ酸ハライドとし、該Ｎ−保護−α
−アミノ酸ハライド（第１工程秒ポＤとＮ−カルボキシ
−α、β−デヒドロ−α−アミノ酸無木物（ΔＮＣＡ）
とを、所定の塩基存在下、数分から数時間樋常１時間程
度）反応させる０次いで、上記反応液にアミノ酸エステ
ル又はアミノ酸エステル塩化合物（第２工程物質）を加
え、所定の塩基存在下（アミノ酸エステル塩化合物の場
合は、該塩化合物を中和し得る程度の量の所定の塩基を
さらに加える）、室温程度で数分から数時間（１時間程
度でよい）反応させ、抽出、洗浄等の適当な処理、必要
ならばカラムクロマトや再結昼等の精製を行なうことに
よって目的のＮ端から２番目にα、β−デヒドロ−α−
アミノ酸残基を有するＮ−保護デヒドロトリペプチドエ
ステル誘導体を得た。

この場合において、目的物が 一般式　　　　Ｒ，Ｒ２ Ｘ３　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　ＯＹ３にて示される
Ｎ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α
−アミノ酸残基であり、Ｎ。

Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリペプチドのと
き、第１工程物質はＮ−保護−α−アミノ酸ハライドで
あって、α−アミン基の保護基がアシル型であり、第２
工程物質はα−アミノ酸アルキルエステルまたはその塩
化合物である。上記２つの場合、溶媒はＴＨＦ等が望ま
しい。Ｎ−保護−アミノ酸ハライドは、例えば、Ｎ−Ｐ
ｈｔ−アミノ酸クロライド等である。塩基は第１工程に
おいてトリエチルアミン等が望ましく、第２工程におい
てトリエチルアミン等が望ましい。

次に、目的物が Ｘ４　ＡＡ３　ＮＨＣＣＯＡＡＩ　ＯＹ３にて示される
Ｎ端から２番目のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α
−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護され
たデヒドロトリペプチドのとき、第１工程物質はＮ−保
護−α−アミノ酸ハライドであってα−アミン基の保護
基がウレタン型であり、第２工程物質はα−アミノ酸ア
ルキルエステルまたはそのアミン基の塩化合物である。

上記２つの場合、溶媒はＴＨＦ等が望ましい、Ｎ−保護
−アミノ酸ハライドは２例えば、Ｎ−Ｃｂｚ−アミノ酸
クロライド等である。塩基は第１工程においてトリエチ
ルアミン等が望ましく、第２工程においてトリエチルア
ミン等が望ましいかかる方法により、上記目的物を製造
するときは、それぞれ収率、簡便性及び反応条件力μ層
良好になり、かつ光学活性アミノ酸への影響がほとんど
ないので一層有利であるという効果がある。

また目的のペプチドを合成する場合において、Ｃ端とな
るアミノ酸を縮合させるとき、側鎖官能基をもつα−ア
ミノ酸中特定の側鎖官能基は無保護であってもよい。し
たがって、次反応で特定の側穎官爺基の保護基の脱離工
程を要する場合は、これを無保護で行なうことができ、
あるいは次反応でも特定の側鎖官能基の保護が必要な場
合は側鎖を保護したアミノ酸を使用することができる。

したがって、収率及び簡便性の一層の向上がこの面から
も図ることができる。

なお、Ｃ端のアミノ酸残基がα、β−デヒドロ−α−ア
ミノ酸残基であり、Ｎ端が保護されたデヒドロジペプチ
ド誘導体吐記■）及びＮ端から２番目のアミノ酸残基が
α、β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、　Ｃ
両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリペプチド誘導体
吐記■）を合成するための中間物質において、置換基Ｒ
１とＲ２の組合せとしては、例えば、次の如きかある。

即ち、Ｒ，が水素原子であり、Ｒ２はイソプロピル基で
あり、Ｘがｔ−ブトキシルカルボニル基であり゛、ＡＡ
がＬ−アラニン残基である場合、Ｒ１が水素原子であり
、Ｒ２はイソプロピル基であり、Ｘがｔ−ブトキシルカ
ルボニル基であり、ＡＡがグリシン残基である場合、Ｒ
１が水素原子であり、Ｒ２はイソプロピル基であり、Ｘ
がｔ−ブトキシルカルボニル基であり、ＡＡがＬ−ロイ
シン残基である場合、Ｒ，が水素原子であり、Ｒ２はイ
ソプロピル基であり、Ｘがｔ−ブトキシルカルボニル基
であり、ＡＡがＬ−フェニルアラニン残基である場合、
Ｒ，が水素原子であり、Ｒ２がフェニル基であり、Ｘが
ｔ−ブトキシルカルボニル基であり、ＡＡがＬ−ロイシ
ン残基である場合、Ｒ１が水素原子であり、Ｒ２がフェ
ニル基であり、Ｘがｔ−ブトキシルカルボニル基であり
、ＡＡがＬ−フェニルアラニン残基である場合又はＲ１
が水素原子であり、Ｒ２がフェニル基であり、Ｘがｔ−
ブトキシルカルボニル基であり、ＡＡがＬ−プロリン残
基である場合が通常である。しかし、Ｒ１とＲ２を構成
する幾何異性体の場合であってもよい。

この場合において、Ｒ，及びＲ２をいずれもアルキル基
とすれば、ビニル基になり得ず、安定となる。従って、
α、β−デヒドロ−α−アミノ酸誘導体及びα、β−デ
ヒドロ−α−α−アミノ酸残基を骨格にもつペプチドの
合成を一層有利に誘導することが可能となる。

同様に、Ｒ，をメチル基、Ｒ２をエチル基とすれば、α
、β−デヒドロ−イソロイシン誘導体及びα、β−デヒ
ドロ−イソロイシン残基を骨格にもつペプチドの合成を
一層有利に誘導することが可能となる。

同様に、Ｒ１及び２をいずれもメチル基とすれば、α、
β−デヒドロバリン誘導体及びα、β−デヒドロバリン
残基を骨格にもつペプチドの合成を一層有利に誘導する
ことが可能となる。

同様に、Ｒ，を水素原子、Ｒ２を水素原子以外の上記置
換基とすれば、α、β−デヒドロα−アミノ酸誘導体及
びα、β−デヒドロα−アミノ酸残基を骨格にもつペプ
チドの合成を一層有利に誘導することが可能となる。

同様に、Ｒ１を水素原子、Ｒ２をフェニル基とすれば、
α、β−デヒドロ−フェニルアラニン誘導体及びα、β
−デヒドロ−フェニルアラニン残基を骨格にもつペプチ
ドの合成を一層有利に誘導することが可能となる。

同様に、Ｒ１を水素原子、Ｒ２をイソプロピル基とすれ
ば、α、β−デヒドロ−ロイシン誘導体及びα、β−デ
ヒドロ−ロイシン残基を骨格にもつペプチドの合成を一
層有利に誘導することが可能となる。

同様に、Ｒ１を水素原子、Ｒ２をノルマルプロピル基と
すれば、α、β−デヒドロ−ノルマルロイシン誘導体及
びα、β−デヒドロ−ノルマルロイシン残基を骨格にも
つペプチドの合成を一層有利に誘導することが可能とな
る。

同様に、Ｒ，を水素原子、Ｒ２をエチル基とすれば、α
、β−デヒドロ−ノルマルバリン誘導体及びα、β−デ
ヒドロ−ノルマルバリン歿基を骨格にもつペプチドの合
成を一層有利に誘導することが可能となる。

同様に、Ｒ１を水素原子、Ｒ２をメチル基とすれば、２
−アミノ−２−ブテン酸誘導体及び２−アミノ−２−ブ
テン酸残基を骨格にもつペプチドの合成を一層有利に誘
導することが可能となる。

同様に、Ｒ，を水素原子、Ｒ２をバラ−ヒドロキシフェ
ニル基とすれば、α、β−デヒドロ−チロシン誘ｉ体及
びα、β−デヒドロ−チロシン残基を骨格にもつペプチ
ドの合成を一層有利に誘導することが可能となる。

またＲ１を水素原子、Ｒ２をパラーメトキシフェこル基
とすれば、ビニル基になり得す、安定となる。また、次
反応に導く場合、バラヒドロキシル基を保護する必要が
ある場合があるため、それをメチル基で保護したα、β
−デヒドロ−Ｏ−メチルーチロシン誘導体及びα、β−
デヒドロ−０−メチルーチロシン残基を骨格にもつペプ
チドの合成を一層有利に誘導することが可能となる。

同様に、Ｒ１を水素原子、Ｒ２をバラ−メトキシメトキ
シフェニル基とすれば、α、β−デヒドロ−０−メトキ
シメチル−チロシン誘導体及びα、β−デヒドロ−〇−
メトキシメチルーチロシン残基を骨格にもつペプチドの
合成を一層有利に誘導することが可能となる。

（以下余白） ［実施例］ 次に、実施例を示す。この場合において、デヒドロ−ア
ミノ酸残基の二重結合部の幾何異性体につき、とくに示
さないときはＺ配位体を示す。また、下記実施例におい
ては、便宜上、ＸＩ、Ｘ２、Ｘ３　、Ｘ４についてはＸ
と、ｙ＋　　、Ｙ２　、Ｙ３についてはＹと、ＡＡ４　
　、ＡＡ２　、ＡＡ３についてはＡＡ又はＡＡ’と総称
的に記号表示され、具体的物質が示される。

融点はヤマト（Ｍｏｄｅｌ　　Ｍｐ−２１）ｍｉｃｒｏ
　ｗｅｌｔｉｎｇ−ｐｏｉｎｔ　ａｐｐａｔａｔｕｓを
使用し、未補正である。ＩＲは株式会社日立製作所ＥＰ
Ｉ−Ｇ２型を使用した。

’Ｈ−ＮＭＲは日本電子ＪＮＭ−ＰＳ−１００型を使用
した。溶媒ＣＤＣｌ３もしくはＤＭＳＯ−ｄ６を使用し
、テトラメチルシランを内部標準とした。比旋光度は０
　、５ｃｈｍ　ｔｕｂｅ日本分光　ＤＩＰ−４を使用し
た。カラムクロマトの充填剤は、Ｋｉｅｓｅｌ　−ｇｅ
ｌ　８０　（メルク社製、Ａｒｔ−７７３４）を使用し
た。

〈実施例１〉 ＸＮＨ−Ｃ−ＣＯＯＹ （式中、Ｒ＋　＝Ｃ２Ｒ５、Ｒ２＝ＣＨ３，Ｘ＝ｔ−ブ
トキシカルボニル（ＢＯＣ）、Ｙ＝ＣＨ：ｙ）にて表わ
されるＮ−ＢＯＣ−α、β−デヒドロ−イソロイシンメ
チルエステル（ＢＯＣ−Δ−インロイシンメチルエステ
ル）の合成 Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−イソロイシン無水
物７７６ｍｇ　（５ｍｍｏ　ｌ）をＴＨＦ８ｍｌに溶解
し、ジ−ｔ−ブチル−ジカーボネート（以下、　（ＢＯ
Ｃ）２０という。第１Ｉ程物質）１　、３１　ｇ　（６
ｍｍｏ　ｌ）とピリジン２０　ｍ　ｌを加え、室温で６
時間攪拌する。その後、メタノール（第２工程物質）５
ｍｌを加え、ＮＭＭでｐＨ９とし、室温で２時間攪拌し
、反応液を減圧濃縮する。残渣を酢酸エチル４０ｍ１に
溶解し、１０％クエン酸水溶液、飽和重層水及び水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥剤を濾別後
、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム（ベンゼン：酢
酸エチル＝５：ＩＶ／Ｖ）で精製し、目的のＮ−ＢＯＣ
−α、β−デヒドロ−イソロイシンメチルエステルを理
論量の８２％の収率で得た。

この物質の物性値は下記の通りである。

融点（’Ｃ）：８１〜８３ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７２０　（ＣＯＯＨ） １６９０．１５００　（ＮＨＣＯ） １６４５（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ５．８５　（ｂｓ　、ＩＨ，ＮＨ） ３．７５　（ｓ　、３Ｈ，０ＣＨ３） 元素分析値二Ｃｌ２Ｈ２、ＮＯ４ 計算値（％）　：　Ｃ５９，２４Ｈ８，７０Ｎ　５．７
６実測値（％）　：　Ｃ５９，２１Ｈ８，８０Ｎ　５．
７３（Ｅ配位体：Ｚ配位体＝３：２） 次に、実施例２乃至実施例１５に、Ｒ，、Ｒ２の組合せ
、開運反応時のＹＯＨ（Ｙは水素原子及び第３級アルコ
ールを除く所定のアルコールに対応するアルキル基であ
る）等の相違する場合における収率及び物性値を示す。

〈実施例２〉 出発物質 Ｎ−カルボキシ−α−アミノ−α−ブテン酸無水物 第１Ｉ程物質：　　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 Ｎ−ＢＯＣ−α−アミノ−α−ブテン酸無水物第２Ｔ程
物質二水 目的物 Ｎ−ＢＯＣ−α−アミノ−α−ブテン酸但、Ｒ１＝ＣＨ
３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝Ｈ 収率（％）ニア３ 融点（’Ｃ）：１３５〜１３７ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７００　（ＣＯＯＨ） １６８０　（ＣＯＮＨ） １６５５（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＤＭＳＯ−ｄ６）：６．３２（ｑ、
Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）１．３８　（Ｓ　、（ＣＨ３
）３　Ｃ−）７　、９８　（ｂ　ｓ　、ＮＨ） 元素分析値：Ｃｇ　Ｈ＋　５ＮＯ４ 計算値（％）　　：　Ｃ５３，７２Ｈ７，５１Ｎ　８．
９Ｂ実測値（％）　：　Ｃ５３，８？　Ｈ７，５７Ｎ　
Ｂ−８？く実施例３〉 出発物質 Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−ノルマルーバリン
無水物（以下、Δ−ｎ−バリンＮＣＡ（７）如きに表示
する。） 第１工程物質：　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 Ｎ−ＢＯＣ−α、β−デヒドロ−ノルマルーバリン無水
物（以下、ＢＯＣ−Δ−ｎ−バリンＮＣＡの如きに表示
する。） 第２工程物質二水 目的物 Ｎ−ＢＯＣ−α、β−デヒドロ−ノルマルーバリン（以
下、ＢＯＣ−Δ−ｎ−バリンの如きに表示する。） 但、Ｒ，＝Ｃ２Ｈ，。

Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝Ｈ 収率（％）ニア０ 融点（℃）：１１１〜１１３ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７００　（ｃｏｏＨ） １６７０　（ＣＯＮＨ） １６５０（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、　ＤＭＳＯ−ｄｃ　）　：６．２４
　（ｔ　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝７Ｈｚ）１．３８　（ｓ　
、（ＣＨ３）３　Ｃ−）８．００　（ｂｓ　、ＮＨ） 元素分析値：Ｃ１ｏＨ１□Ｎ０４ 計算値（％）　　：　Ｃ５５，８０Ｈ７，９８Ｎ　８．
５１実測値（％）　　：　Ｃ５５，？Ｉ　Ｈ７，８７Ｎ
　Ｂ、８０く実施例４〉 出発物質 Δ−ｎ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質：　　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−ｎ−ロイシンＮＣＡ 第２工程物質二水 目的物 ＢＯＣ−Δ−ｎ−ロイシン イ旦、　Ｒ１＝ｎ−Ｃ３Ｈ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝Ｈ 収率（％）二８６ 融点（’０）：１０７〜１０８ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ−１）　：１７００　（Ｃ
ＯＯＨ） １６５０　（ＣＯＮＨ） １６４０（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、　ＤＭＳＯ−ｄｒ、　）　：６．３
４　（ｔ　、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）１．４０　（ｓ
　、（ＣＨ３）３　Ｃ−）８．０８　（ｂｓ　、ＮＨ） 元素分析値：Ｃ＋　Ｉ　Ｈ＋　（ＩＮＯＡ計算値（％）
　　：　Ｃ５７，８２ＨＣ３５Ｎ　Ｅｉ、１１尖測値（
％）　　：　Ｃ５７，６８Ｈ８，２１Ｎ　８．００〈実
施例５〉 出発物資 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１王程物質：　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−ロイシンＮＣＡ 第２Ｔ程物質：水 目的物 ＢＯＣ−Δ−ロイシン 但、Ｒ＋　＝　ｉ　−Ｃ３Ｒ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝Ｈ 収率（％）ニア０ 融点Ｃ℃）：１４ｉ〜１４２ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７１０　（ＣＯＯＨ） １６９０　（ＣＯＮＨ） １６４０（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＤＭＳＯ−ｄ、）：６．２０（ｄ、
Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝１０Ｈｚ）１−４０　（Ｓ、（ＣＨ３
）３Ｃ） ８　、０４　（ｂ　ｓ　、ＮＨ） 元素分析値：Ｃ１、Ｈ１９Ｎ０４ 計算値（％）　　：　Ｃ５７，８２Ｈ８，３５Ｎ　６．
１１実１０旧ＩＩＩ（％）　　：　　Ｃ５７，５７Ｈ８
，２３Ｎ　Ｂ、００〈実施例６〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１Ｔ程物質：　　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 男２工程物質二水 目的物 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニン 但、Ｒ＋　＝Ｃ６Ｒ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝Ｈ 収率（％）ニア２ 融点（’Ｃり：１６９〜１７２ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　０ｃｍ’）　： １７１０　（ＣＯＯＨ） １６９０　（ＣＯＮＨ） １６３０（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＤＭＳＯ−ｄＧ）ニア　、　２６　
Ｃｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）１　、４０　（ｓ　、　　（Ｃ
Ｈ３）　３　Ｃ−）８．５２　（ｂｓ　、ＮＨ） 元素分析値：Ｃ１４Ｈ１７ＮＯ４ 計算値（％）　　：　Ｃ８３，８８Ｈ８，５１Ｎ　５．
３２実測値（％）　　：　Ｃ８３，８１Ｈ８，８５Ｎ　
５．４３く実施例７〉 出発物質 Δ−バリンＮＣＡ ７Ｆｆ、１ＴＴＴ程物質：　　（ＢＯＣ）２０中間物質 ＢＯＣ−Δ−バリンＮＣＡ 第２工程物質：水 目的物 ＢＯＣ−Δ−バリン 但、Ｒ＋　：ＣＨ：Ｉ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝Ｈ 収率（％）二８３ 融点（℃）：１９１〜１９２ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７１０　（ＣＯＯＨ） １６９０　（ＣＯＮＨ） １６４０　（Ｃ＝Ｃ） ＩＨ−ＮＭＲ（δ、　ＤＭＳＯ−ｄｒ、　）　：１　．
３８　　（ｓ　　、　　　（ＣＨ３）　　３　　Ｃ−）
８．１６（ｂｓ、ＮＨ） 元素分析値：０１ｏＨ１７ＮＯ４ 計算値（％）　　：　Ｃ５５，８０Ｈ７，９１３Ｎ　Ｂ
、５１笑Ａ川イ直　（％）　　　：　　Ｃ５５，５８Ｈ
７，８２Ｎ　　８．８０〈実施例８〉 出発物質 Δ−インロイシンＮＣＡ 第１工程物質：　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−インロイシンＮＣＡ 第２工程物質二水 目的物 ＢＯＣ−Δ−イソロイシン 但、Ｒ＋　＝Ｃ２Ｒ５ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝Ｈ 収率（％）二８２ 融点（’Ｃ）：１３８〜１４０ ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ″′１）： １７００　（ＣＯＯＨ） １６７０　（ＣＯＮＨ） １６４０（Ｃ＝Ｃ） １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＤＭＳＯ−ｄＧ）：１　、４０　（
ｓ　、　　（ＣＨ３）　３　Ｃ−）８．１６（ｂｓ、Ｎ
Ｈ） 元素分析値二Ｃ１□Ｈ１゜ＮＯ４ 計算４ｒＭ（％）　　：　Ｃ５７，６２Ｈ８，３５Ｎ　
８．１１実測値（％）　　：　Ｃ５７，４９Ｈ８−０９
Ｎ　Ｓ、２３く実施例９〉 出発物質 Δ−ｎ−ロイシンＮＣＡ ７Ａ１丁程物質：　　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−ｎ−ロイシンＮＣＡ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−Δ−ｎ−ロイシンメチルエステル但、　Ｒ１＝
ｎ−Ｃ３Ｈ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６０ 融点（℃）：５７〜５８ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ−１）　：１７３０　（Ｃ
ＯＯＨ） １７００．１５００　（ＣＯＮＨ） １６５５（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．５８　（ｔ　、Ｒ−Ｃ旦＝　、　Ｊ＝７　、５Ｈｚ
）３．７８　（ｓ、−〇ＣＨ３） ６．１７　（ｂｓ　、ＮＨ） 元素分析値：Ｃ＋　２　Ｒ２１ＮＯ４ 計算値（％）　　：　Ｃ５９，２４Ｈ８，７０Ｎ　５．
７６実測値（％）　　：　Ｃ５９，１３Ｈ８，７８Ｎ　
５．８１〈実施例１Ｏ〉 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１Ｔ程物質：　　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−ロイシンＮＣＡ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−Δ−ロイシンメチルエステル 但、Ｒ１＝　ｉ　−Ｃ３Ｒ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝７１ 融点（’０）ニア４〜７５ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ−１）　：１７０５　（Ｃ
ＯＯＨ） １７０５．１５００　（ＣＯＮＨ） １６６０（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）： ６．３５　（ｄ　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝ｌＯＨ２）３．７
６　（ｓ、−０ＣＨ３） ６．１７（ｂｓ、ＮＨ） 元素分析値：Ｃｌ２Ｈ２□ＮＯ４ 計算値（％）　　：　Ｃ５９，２４Ｈ８，７０Ｎ　５．
７８実測値（％）　、　Ｃ３ｆｌ１８　Ｈ８，８８Ｎ　
５．８９〈実施例１１〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンメチルエステル但、Ｒ，
＝ＣＦ、Ｈ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝７３ 融点（’Ｃり：８１〜８２ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７２０　（ＣＯＯＨ） １７００．１５００　（ＣＯＮＨ） １６４０（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｈ）ニ ア　、　２４　（ｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）３　、８５　（
ｓ　、−０ＣＨ３） ６．２７　（ｂｓ　、ＮＨ） 元素分析値：Ｃ１５Ｈ１９ＮＯ４ 計算値（％）　　：　ＣＥｆ４．９６　Ｈ６，９１Ｎ　
５．０５実測値（％）　　：　Ｃ［３４，８３Ｈ８，８
４Ｎ　５−１３〈実施例１２〉 出発物質 Δ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：　　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−バリンＮＣＡ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−Δ−バリンメチルエステル 但、　Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝８９ 融点（’Ｃり：８２〜８３ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７００　（ＣＯＯＨ） １７００．１４９５　（ＣＯＮＨ） １６４７（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ３　、７７　（ｓ　、−０ＣＨ３） ５．９５（ｂｓ、ＮＨ） 元素分析値二Ｃ１□Ｈ１゜Ｎ０４ 計算値（％）　　：　Ｃ５７，８２Ｈ８，３５Ｎ　６．
１１実測値（％）　　：　Ｃ５７，５６Ｈ８，２９Ｎ　
Ｓ、０５く実施例１３〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：　　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第２Ｔ程物質：エタノール 目的物 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンエチルエステル但、Ｒ２
＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝０２　Ｈり 収率（％）ニア１ 融点（℃）：油状物 Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７２０　（ＣＯＯＨ） １７０５．１４８０　（ＣＯＮＨ） １６４０（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア　、　２０　（Ｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）４．２８　（ｑ
　、−０ＣＨ２−、Ｊ＝７Ｈｚ）６．３２　（ｂｓ　、
ＮＨ） 元素分析値：Ｃ１６Ｈ２□ＮＯ４ 計算値（％）　　：　Ｃ８５，９５Ｈ７，２７Ｎ　４．
８１笑測値（％）　　：　Ｃ６５，８５Ｈ７，１９Ｎ　
４．７５〈実施例１４〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：　　（ＢＯＣ）２０ 中間物竹 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第２　Ｉ９’ｌｈ質：ベンジルアルコール目的物 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンベンジルエステル 但、Ｒイ　＝Ｃ６Ｈ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝ＣＨ２Ｃ６Ｈに 収率（％）＝７３ 融点（’Ｃ）：９５〜９６ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７２０　（ＣＯＯＨ） １７００．１４９０　（ＣＯＮＨ） １６４０（Ｃ＝Ｃ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア　、　２４　（ｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）５．２４　（ｓ
　、−０ＣＲ２） ６．２３（ｂｓ、ＮＨ） 元素分析値：Ｃ２□Ｈ２３Ｎ　Ｏ４ 計３二【イｉ（％）　　、　Ｃ７１，３７Ｈ［３，５１
３Ｎ　３．９８￥測値（％）　　、　Ｃ７１，２１Ｈ８
，４０Ｎ　４．１０〈実施例１５〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第２工程物質：イソプロパノール 目的物 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンイソプロピルエステル 但、Ｒ＋　＝Ｃｔ；　Ｈ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ Ｙ＝ｉ−Ｃ３Ｈフ 収率（％）：５５ 融点（’０）ニア５〜７６ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １７３０　　（ＣＯＯＨ） １７１０　、１４９０　（ＣＯＮＨ） １６５０（Ｃ＝Ｃ） １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア、　１２　（ｓ　、Ｒ−Ｃ旦＝） ５　、１０　（ｍ　、　−０ＣＲ２−）６．２６　（ｂ
ｓ　、ＮＨ） 元素分析値：Ｃ１７Ｈ２３Ｎ０４ 計算値（％）　　：　ＣＥｉ６．８６　Ｈ７，５９Ｎ　
４．５９実測値（％）　：　Ｃ８Ｂ、８１　Ｈ７，７０
Ｎ　４．８０（以下余白） 〈実施例１６〉 Ｃ ＸＮＨ−Ｃ−ＣＯＡＡＯＹ （式中、Ｒ１＝　ｉ　　Ｃ３Ｒ７、Ｒ２＝Ｈ，Ｘ＝ＢＱ
Ｃ，Ｙ＝ＣＨ３、ＡＡ＝Ｌ−セリン残ユリにて表わされ
るＮ−ＢＯＣ−α、β−デヒドロ−ロイシルーＬ−セリ
ンメチルエステルの（ＢＯＣ−Δ−ロイシルーＬ−セリ
ンメチルエステル）の合成 Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−ロイシン無水物１
．５５ｇ　（１０ｍｍｏｌ）にＴＨＦ５ｍｌを加え、ジ
−ｔ−ブチル−ジカーボネートｉｌ工程物質）　２　、
６２ｇ　（１２ｍｍｏ　ｌ）とピリジン数滴を加える。

室温で６時間攪拌後、Ｌ−セリンメチルエステルＧ２工
θ−ジ１．３１ｇ（ｌ　１ｍｍｏ　ｌ）のＴＨＦ５ｍｌ
溶液を滴下し、１時間室温攪拌する。溶媒を減圧留去後
、酢酸エチル１００　ｍ　ｌで残渣を溶解し、１０％ク
エン酸水溶液、飽和食塩水、水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥する。そして乾燥剤を濾別後、減圧濃縮し
、残渣をシリカゲルカラム（ベンゼン：酢酸エチル＝５
：ｌＶ／Ｖ）で精製し、無角り山状の目的物を理論量の
７０％の収率で得た。

この物質の物性値は下記の通りである。

’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．２５　（ｄ　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝１０Ｈｚ）４．６
６　（ｄ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ　＝　３　、５　、７　、０Ｈｚ） 〔α］乙ｐｃ＝１．メタノール）＝−１１，９゜元素分
析値：Ｃ１５Ｈ２６Ｎ２０６ 計算値（％）　　：　Ｃ５４，５３Ｈ７，９３Ｎ　８．
４８実測値（％）　　：　Ｃ５４，３９Ｈ７，９５Ｎ　
８．４４次に、実施例１７乃至実施例３６に、Ｒ＋、Ｒ
２の組合せ、Ｎ−保護基Ｘ、　ＡＡ、　Ｙの相違による
α、β−デヒドロペプチド誘導体を上記と同様の方法で
合成した場合における収率及び物性値を示す。

〈実施例１７＞ 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１下程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−α−アミノ−α−ブアン酸ＮＣＡ（Ａｃ＝アセチ
ル） ’Ａ２．Ｉｌｉ物質：Ｌ−ロ物質：ノーロイシンメチル
エ ステル目的物ミノ−α−ブテノイル−Ｌ−ロイシンメチ
ルエステル 但、Ｒ＋　＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 Ｙ：ＣＨ３ 収率（％）二８０ 融点（’Ｃ）：１４８〜１５０ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １６３０．１５５０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．３８　（ｑ　、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．４５
　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］２４（Ｃ＝　１．メタノール）＝−２４，３゜元
素分析値：Ｃ１３Ｈ２２Ｎ２０４ 計算値（％）　　：　Ｃ５７，７８Ｈ８，２０Ｎ１０．
３８実λ１１値（％）　：　Ｃ５７，６３Ｈ８，３９Ｎ
１０．４２〈実施例１８＞ 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：アセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ（Ａｃ＝アセチ
ル） 第２工程物質：Ｌ−チロシンメチルエステル目的物 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−チロシンメチ
ルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−チロシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）二８９ 融点（’Ｃり　　：油状物 Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ａｍ’）　： １６６０．１５２０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、　ＤＭＳＯ−ｄｓ　）　：５．７７
（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．４５　（ｄ　ｔ　
、ＮＨＣＨＣＯ）［α１Ｄ（Ｃ＝１．８２．メタノール
）＝　１０　、２’ 元素分析値：Ｃｌ８Ｈ２ｏＮ２０５ 計ｎイｍ　　（％）　　：　　Ｃ５９，９９Ｈ１３，２
９Ｎ　８．７５実測値（％）　　：　Ｃ６０，０８Ｈ８
，１７Ｎ　８．５８〈実施例１９〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ（Ａｃ＝アセチ
ル） 第２工程物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−セリンメチル
エステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収：Ｂ（％）ニア４ 融点（℃）：油状物 ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．４４　（ｑ　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４　、’
　５６　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタ
ノール）＝７．５＠元素分析値：Ｃ１ｏＨ１６Ｎ２０５ 計算値（％）　　：　Ｃ４！９．１？　Ｈ８，８０Ｎ１
１．４７￥Ｊｌｌ値（％）　：　Ｃ４９，２５Ｈ８，４
９Ｎ１１．５８〈実施例２０＞ 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ（Ａｃ＝アセチ
ル） 第２工程物質：Ｌ−プロリンメチルエステル目的物 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテノイル−し−プロリンメチ
ルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−プロリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア８ 融点（’Ｃ）：１１８〜１２０ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ−１）　：１６００．１５
２０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ５　、５０　（ｑ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　Ｊ＝７Ｈｚ）
４．６０　（ｔ　、ＮＨＣＨＣＯ） 〔α］２’（Ｃ＝　０　、８９　、メタノール）＝−２
２，５゜ 元素分析値：Ｃｌ２Ｈ１８Ｎ２０４ 計算値（％）　　：　Ｃ５Ｂ、８８　Ｈ７，１４Ｎ１１
．０２実測値（％）　：　Ｃ５８，５１Ｈ７，２５Ｎ１
１．１３〈実施例２１〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１王程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ（Ａｃ＝アセチ
ル） 第２工程物質：Ｌ−メチオニンメチルエステル目的物 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−メチオニンメ
チルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−メチオニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア９ 融点（’Ｃ）：１１０〜１１２ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １６３０　、ｌ　５５０　（ＣＯＮＨ）’Ｈ−ＮＭＲ（
δ、　ＣＤＣ１３）　、：６．４４　（ｑ　、Ｒ−ＣＨ
＝　、Ｊ＝７Ｈｚ）４．６４（ｄｄ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（ｃ＝ｏ。２２．メタノール）＝−１９，８゜ 元素分析値：Ｃｌ２Ｈ２ｏＮ２０４Ｓ 計算値（％）　　；　Ｃ４９，！３９　Ｈ８−８７Ｎ　
９．８９実測値（％）　　、　Ｃ５０，０５Ｈ８，７１
Ｎ　９．５？〈実施例２２〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ（Ａｃ＝アセチ
ル） 第２工程物質：Ｌ−）リプトファンメチルエステル 目的物 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−１リブトフア
ンメチルエステル 但、Ｒ１：ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−）リプトファン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア３ 融点（’Ｃ）：１８３〜１８５（分解）Ｉ　Ｒ（ＫＢ　
ｒ　、　ｃｍ’）　： １６２０．１５００　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＤＭＳＯ−ｄＧ）：６．３６（ｑ、
Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．６０　（ｍ、ＮＨＣＨＣ
Ｏ） 〔α］Ｄ（Ｃ＝０．７０．メタノール）＝−２、４゜ 元素分析値：Ｃｌ８Ｈ２、Ｎ３０４ 計算値（％）　　、　Ｃ６２，９８Ｈ８，１８Ｎ１２．
２４実測値（％）　　：　Ｃ６３，１３Ｈ８，０３Ｎ１
２−１１〈実施例２３〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテンｅｔＮＣＡ 第１工程物質ニアセチルクロライド゛ 中間物質 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ（Ａｃ＝アセチ
ル） 第２丁程物質：Ｌ−グルタミン酸−α−メチル−γ−エ
チルエステル 目的物 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−グルタミン酸
−α−メチル−γ−エチルエステル但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−グルタミン酸−γ−エチルエステル残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：８４ 融点（’０）：８８〜９０ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｈ）： ６．４７（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）６．５４　（
ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ　＝　７　、５　、６　、０Ｈ２） ［α］Ｄ（ｃ＝ｔ、メタノール）＝−１６，５゜元素分
析値：Ｃ１４Ｈ２２Ｎ２０６ 計算値（％）　　：　Ｃ５３，４９Ｈ７，０５Ｎ　８．
９１実測値（％）　：　Ｃ５３，６１Ｈ７，１３Ｎ　９
．００〈実施例２４〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテン＃ＮＣＡ（Ａｃ＝アセチ
ル） 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−フェニルアラ
ニンメチルエステル 但、Ｒ＋　＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：９４ 融点（℃）：１４４〜１４５ Ｉ　Ｒ　（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　：１６２０、１５
４０　（ＣＯＮＨ） ＩＨ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣｈ）： ６、３８（ｑ．Ｒ−Ｃ旦＝，Ｊ＝７Ｈｚ）４、６７　（
ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ） 〔α］Ｄ（Ｃ＝１，メタノール）＝−８．５’元素分析
値：Ｃ１８Ｈ２ｏＮ２０４ 計算値（％）　　：　Ｃ８３．１４　Ｈ　８．８２　Ｎ
　！９．２１実Ｉｌｌ値（％）　　：　Ｃ８３．０１　
Ｈ　８．７５　Ｎ　９．００〈実施例２５〉 出発物質 α−アミノ−αーブテン酸ＮＣＡ ｉ１工程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−α−アミノ−αーブテン酸ＮＣＡ（Ａｃ＝アセチ
ル） 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンエチルエステル 目的物 Ａｃ−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−フェニルアラ
ニンエチルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝Ｃ２Ｈ５ 収率（％）：９６ 融点（℃）：１３８〜１４０ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６　、３８　（ｑ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　Ｊ＝７　、１
Ｈｚ）４．７６　（ｄｔ　、ＮＨＣ旦ＣＯ） ［α］Ｄ（ｃ＝ｔ、メタノール）＝−５，４゜元素分析
値：Ｃ１７Ｈ２２Ｎ２０４ 計算値（％）　：　Ｃ３Ｌ１３　Ｈ８，９７Ｎ　８．８
０実測値（％）　　：　Ｃ８４，３０Ｈ７，０８Ｎ　８
．１３３〈実施例２６〉 出発物質 Δ−ｎ−バリンＮＣＡ ｍ１工程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−Δ−ｎ−バリアＮＣＡ （Ａｃ＝アセチル） 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンエチルエステル 目的物 Ａｃ−Δ−ｎ−バリルーＬ−フェニルアラニンエチルエ
ステル 但、Ｒ１＝Ｃ２Ｒ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝Ｃ２Ｒ５ 収率（％）：９７ 融点（℃）：１６２〜１６３ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６　、３８　（ｔ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　Ｊ＝７Ｈｚ）
４．８７　（ｄｔ　、ＮＨＣ旦Ｃｏ） ［α］ｏ　（ｃ　＝　１．メタノール）＝−６，１”元
素分析値：Ｃｌ８Ｈ２４Ｎ２０４ 計算値（％）　　：　Ｃｅ５．０４　Ｈ７，２８Ｎ　８
．４３実測値（％）　、　Ｃ８４，９３Ｈ７，３８Ｎ　
８．４１（以下余白） 〈実施例２７〉 出発物質 Δ−ｎ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−Δ−ｎ−ロイシンＮＣＡ （Ａｃ＝アセチル） 第２工ｎ物質：　Ｌ−フェニルアラニンエチルエステル 目的物 Ａｃ−Δ−ｎ−ロイシル−し一フェニルアラニンエチル
エステル 但、Ｒ１＝ｎ　　Ｃ５Ｈ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝Ｃ２Ｒ５ 耳マ司ス　（％）　　＝　９３ 融点（’０）：１３７〜１３８ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．２６（ｔ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．８２（ｄ
七、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］２４（Ｃ＝　１　、メタノール）＝−７，５゜元
素分析値：Ｃ１゜Ｈ２６Ｎ２０４ 計算値（％）　　、　ＣＢ５．８？　Ｈ７，５７Ｎ　８
．０９実測値（％）　　：　Ｃ８５，９１Ｈ７，４８Ｎ
　８．２０〈実施例２８〉 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−Δ−ロイシンＮＣＡ （Ａｃ＝アセチル） 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンエチルエステル 目的物 Ａｃ−Δ−ロイシルーＬ−フェニルアラニンエチルエス
テル 但、　Ｒ１＝：　　ｉ　　　Ｃ３Ｈフ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝Ｃ２Ｒ５ 収率（％）：９４ 融点（℃）：１５０〜１５２ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．１０　（ｄ、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝１０Ｈｚ）４．８２
　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］２４（Ｃ＝　１　、メタノール）＝−６，２゜元
素分析値：Ｃｌ９Ｈ２６Ｎ２０４ 計算値（％）　　：　Ｃ８５，８７Ｈ７，５７Ｎ　８．
０９実測イａ（％）　　：　Ｃ８Ｇ、０３　　Ｈ７，７
２Ｎ　８−２１〈実施例２９〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質ニアセチルクロライド 中間物質 Ａｃ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ （Ａｃ＝アセチル） 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンエチルエステル 目的物 Ａｃ−Δ−フェニルアラニルーＬ−フェニルアラニンエ
チルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ６Ｈぢ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ａｃ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝Ｃｚ　Ｒ５ 収率（％）：９８ 融点（”０）：１５２〜１５４ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）： ６　、８８　（ｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝） ４．７９　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］”ｃｃ＝ｉ、メタノール）＝−３５，８゜元素分
析値：Ｃ２２Ｈ２４Ｎ２０４ 計算値（％）　　：　Ｃ８９，４５Ｈ６，３８Ｎ　７．
３８実測値（％）　：　Ｃ８９，５３Ｈ８，１２Ｎ　７
．１９〈実施例３０〉 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質：無水トリプルオロ酢酸 中間物質 Ｔｆａ−Δ−ロイシンＮＣＡ （Ｔｆａ＝トリフルオロアセチル） 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｔｆａ−Δ−ロイシルーＬ−フェニルアラニンメチルエ
ステル 但、Ｒ１＝　ｉ　−Ｃ３Ｒ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｔｆａ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：９３ 融点（’Ｃ）：１０３〜１０４ １０４１Ｈ−Ｎδ、ＣＤＣ１３）： ６．１９　（ｄ、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝１０Ｈ２）４．８３
　（ｄｔ　、ＮＨＣ旦ＣＯ。

Ｊ＝８．０．５−７Ｈｚ） ［α］２４（Ｃ＝　１．メタノール）＝−１５−６゜元
素分析イ直：０１８Ｈ２１Ｎ２°４　Ｆ３計算値（％）
　　：　Ｃ５５−９８Ｈ５，４８Ｎ　７．２５実測値（
％）　：　Ｃ５Ｇ、１８　Ｈ５，５８Ｎ　？−４２〈実
施例３１〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：無水トリプルオロ酢酸 中間物質 Ｔｆａ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ （Ｔｆａ−４リフルオロアセチル） 第２工程物質：Ｌ−スレオニンメチルエステル目的物 Ｔｆａ−Δ−フェニルアラニルーＬ−スレオニンメチル
エステル 但、Ｒ，＝ＣＧ　Ｒ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｔｆａ ＡＡ＝Ｌ−スレオニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア４ 融点（℃）：油状物 ”Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア、１５〜７．２９　（ｍ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　＋Ｃ
６Ｈｓ　）４．４３　（ｄｄ、ＮＨｃＨｃｏ。

Ｊ＝８−５．３．０Ｈ２） ［αコＤ（Ｃ＝１．メタノール）＝２９．０＠元素分析
値：Ｃ１６Ｈ１□Ｎ２０５Ｆ３計算値（％）　　：　Ｃ
５１，３４Ｈ４，５８Ｎ　７．４８実測値（％）　：　
Ｃ５１，０８Ｈ４，８９Ｎ　７．３２〈実施例３２〉 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質：無水トリフルオロ酢酸 中間物質 Ｔｆａ−Δ−ロイシンＮＣＡ （Ｔｆａ＝トリフルオロアセチル） ；７．２工程物質：δ−Ｃｂｚ−Ｌ−オルニチンメチル
エステル 目的物 Ｔｆａ−Δ−ロイシルーδ−Ｃｂｚ−Ｌ−オルニチンメ
チルエステル 但、Ｒ１＝　ｉ　−Ｃ３Ｒ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｔｆａ ＡＡ＝δ−Ｃｂｚ−Ｌ−オルニチン残基Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア９ 融点（℃）二油状物 ＩＨ−ＮＭＲ（δ、　ＣＤＣｈ　）　：６．２１　（ｄ
、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝１０Ｈ２）４．５８（ｍ、ＮＨＣ旦
ＣＯ） ［α］Ｄ（ｃ＝ｔ、メタノール）＝−７，５゜元素分析
値：Ｃ２２Ｈ２８Ｎ３０６Ｆ３計算値（％）　、　Ｃ３
Ｌ２０　Ｈ５，７９Ｎ　１２英測値（％）　：　Ｃ５４
，０６Ｈ５，９２Ｎ　８．５０〈実施例３３〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第２工程物質ニゲリシンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニルーグリシンメチルエステ
ル 但、ＲＩ＝Ｃ（、Ｒ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝グリシン歿基 残基ＣＨ３ 収率（％）ニア８ 融点（’０）：１５６〜１５７ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア　、　１４　（Ｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）４．１４　（ｄ
、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝８Ｈ２）元素分析値：Ｃ１□Ｈ２
２Ｎ２０゜ 計算値（％）　　：　Ｃ８１，０６Ｈ［３，６３Ｎ　８
．３８実測値（％）　　：　Ｃ８０，８９Ｈ８，５１Ｎ
　Ｌ４９〈実施例３４〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第２工程物質：Ｌ−ロイシンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニルーＬ−ａイシンメチルエ
ステル 但、Ｒ，＝Ｃ６Ｒ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝８４ 融点（℃）：９９〜１０１ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア　、　１２　（ｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）１６８　（ｄｔ
　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝８．０，８．０Ｈｚ） 〔α１２４（Ｃ＝　１．メタノール）＝−４１，８゜元
素分析値：Ｃ２□Ｈ３ｏＮ２０５ 計算値（％）　　：Ｃ６４，５９Ｈ７，７４Ｎ　７．１
７実測値（％）　、　Ｃ８４，７０Ｈ７，８７Ｎ　７．
０１〈実施例３５〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質＝　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 ＢＯＣ−Δ−フェニルアラニルーＬ−フェニルアラニン
メチルエステル 但、Ｒ１＝Ｃ６Ｒ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝７３ 融点（’Ｑ）：１２７〜１２８ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ：ｌ）ニ ア　、　０４　Ｃｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）４．９０　（ｄ
ｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝６．０，７．０Ｈｚ） 〔αコＤ（Ｃ＝　１　、メタノール）＝−３，６’元素
分析値：Ｃ２４Ｈ２８Ｎ２．０５ 計算値（％）　；　ＣＢ７．９０　Ｈ８，６５Ｎ　ｆ３
．８０実測値（％）　：Ｃ６７，７０Ｈ８，７２Ｎ　６
．７７〈実施例３６〉 出発物質 Δ−ｎ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：　（ＢＯＣ）２０ 中間物質 ＢＯＣ−Δ−ｎ−バリンＮｃＡ 第２工程物質：Ｌ−チロシンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Δ−ｎ−バリルーＬ−チロシンメチルエステル 但、　Ｒ，＝Ｃ２Ｂ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−チロシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア８ 融点（℃）：油状物 ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．３９　（ｔ　、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．８０
　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，８．０Ｈｚ） ［α］２４（Ｃ＝１．メタノール）＝−１１−７’元素
分析値：Ｃ２ｏＨ２８Ｎ２０６ 計算値（％）　　：　Ｃ８１，２１Ｈ７，１９Ｎ　？＝
１４実測値（％）　、　ＣＢ１．０１　Ｈ１３ｉ３　Ｎ
　７．０１（以下余白） 〈実施例３７〉 ＸＡＡＮＨ−Ｃ−ＣＯＯＹ （式中、Ｒ，＝Ｃ６Ｂ５、Ｒ２＝Ｈ，Ｘ＝Ｐｈｔ、Ｙ＝
ＣＨ３，ＡＡ＝グリシン歿□□□にて表わされるＮ−Ｐ
ｈｔ−グリシル−α、β−デヒドロ−フェニルアラニン
メチルエステルの合成Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒド
ロ−フェニルアラニン無水物１　、８９　ｇ　（１０ｍ
ｍｏ　ｌ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液に、常法により合成した
Ｐｈｔグリシルクロライド（第１工即覇狼２．４６ｇ　
（１１ｍｍｏｌ）を加え、冷却下θ℃にてトリエチルア
ミンをｐＨ５〜６まで加える。室温で１時間攪拌し、メ
タノール」２工程場の１０ｍ１を加え、トリエチルアミ
ンにてＰＨ８乃至９とする。再び室温で１時間攪拌し、
その後減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル１００ｍ１で溶解
する。ＩＭＪ！Ａ酸、水にて洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、乾燥剤を濾別後、減圧濃縮し、残渣をシリ
カゲルカラム（ベンゼン：酢酸エチル＝ｌＯ：ＩＶ／Ｖ
）で精製し、ベンゼンからＷ＋状結晶の目的物を理論量
の８５％の収率で得た。

この物質の物性値は下記の通りである。

融点（’Ｃ）：１６０〜１６１ １　Ｒ（ＫＢ　ｒ　９ｃｍ’）　： １６８０．１５３０　（ＣＯＮＨ） ＩＨ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア、４６〜７．２［３（Ｒ−Ｃ旦＝　、　＋Ｃｒ、　Ｈ
ｓ　）４．４３　（ｓ　、ＮＨＣＨＣＯ） 元素分析値二０２ｅＨ１６Ｎ２０Ｓ 計算値（％）　　、　ＣＢ５．９３　ＨＣ４３Ｎ　７．
８９実測値（％）　：　Ｃ８Ｂ、０５　Ｈ４，３９Ｎ　
７．７３次に、実施例３８乃至実施例４２に、Ｒ，、Ｒ
２の組合せ、Ｘ、　ＡＡ、　Ｙの相違によるα、β−デ
ヒドロペプチド誘導体を上記と同様の方法で合成した場
合における収率及び物性値を示す。

〈実施例３８〉 出発物質 Δ−ｎ−バリンＮＣＡ 第４工程物質：Ｐｈｔ−Ｄ、Ｌ−フェニルアラニルクロ
ライド 中間物質 Ｐｈｔ−Ｄ　、Ｌ−７，ニルアラニル−Δ−ｎ−バリン
ＮＣＡ 第２工程物質：水 目的物 Ｐｈｔ−Ｄ、Ｌ−フェニルアラニル−Δ−ｎ−バリン 但、　Ｒ盲　＝Ｃ２Ｈ５ Ｒ２＝Ｈ ｘ＝　ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｄ　、Ｌ−フェニルアラニン残基Ｙ＝Ｈ 収率（％）二８０ 融点（℃）：１４８〜１５０ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、　ＤＭＳＯ−ｄｃ　）　：６　、７
６　（ｔ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　Ｊ＝７Ｈｚ）５．２０
　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝８．０，５．５Ｈｚ） 元素分析値：Ｃ２２Ｈ２ｏＮ２０５ 計算ｍ（％）　；　ＣＢ７．３３　Ｈ５，１４Ｎ　７．
１４実測値（％）　：　Ｃ８７，１５Ｈ５，２９Ｎ　？
、０９〈実施例３９〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｌ−アラニルクロライド中間物
質 Ｐｈｔ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：エタノール 目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸エチ
ルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ ｘ＝　ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 Ｙ＝Ｃ２Ｈ５ 収率（％）二８６ 融点（℃）：１３３〜１３５ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．７６　（（１、Ｒ−ＣＨ＝　、Ｊ＝７Ｈｚ）５．０
６　（ｑ、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝７Ｈｚ）［α１２４（Ｃ
＝　１．メタノール）＝０．９’元素分析値：Ｃ，＋ｔ
Ｈ＋５Ｎ２０５ 計算値（％）　　：　ＣＢ１．８１　Ｈ５，４９Ｎ　Ｌ
４８実測値（％）　、　Ｃ８１，８９Ｈ５，８１Ｎ　８
．４１〈実施例４０＞ 出発物質 α−アミノ−α−ブテンｆＩＩＮＣＡ 第１工程物賀：Ｃｂｚ−グリシルクロライド中間物質 Ｃｂｚ−グリシル−α−アミノ−α−ブテン酸ＣＡ 第２工程物質：エタノール 目的物 Ｃｂｚ−グリシル−α−アミノ−α−ブテン酸エチルエ
ステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｃｂｚ ＡＡ＝グリシン残基 Ｙ＝Ｃ２Ｈ５ 収率（％）＝２０ 融点（℃）：油状物 ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）ニ ア、０２（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）３．８７　（
ｄ、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝６Ｈｚ）元素分析値：Ｃ１６Ｈ
２ｏＮ２０５ 計算値（％）　　：　Ｃ５９，９８Ｈ８，２９Ｎ　８．
７５実測値（％）　：Ｃ８０，０７Ｈ８，３５Ｎ　８．
６３〈実施例４１〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：Ｃｂｚ−グリシルクロライド中間物質 Ｃｂｚ−グ刃シルーΔ−フェニルアラニンＮＣｇＳ２工
程物質：メタノール 目的物 Ｃｂｚ−グリシル−Δ−フェニルアラニンメチルエステ
ル 但・Ｒ，＝Ｃ６Ｈ＝ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｃｂｚ ＡＡ＝グリシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝２５ 融点（’０）：１０７〜１０８ １０８１Ｈ−Ｎδ、ＣＤＣｌ：１）ニ ア、２５〜７．５３　（ｍ　、　Ｒ−Ｃ旦＝　、　＋ｃ
６　Ｎ５　）３．９１（ｄ、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝７Ｈｚ
）元素分析値：Ｃ２ｏＨ２ｏＮ２０５ 計算値（％）　：　Ｃ６５，２１Ｈ５−４７Ｎ　７．８
１実測値（％）　　：　Ｃ８５−４９Ｈ５，４０Ｎ　７
．５３〈実施例４２〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｃｂｚ−Ｌ−アラニルクロライド中間物
質 Ｃｂｚ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：メタノール 目的物 Ｃｂｚ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸メチ
ルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｃｂｚ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：２３ 融点（℃）：１３７〜１３８ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．７６　（ｃｌ　、Ｒ−ＣＨ＝　、Ｊ＝７Ｈｚ）４．
４３　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（Ｃ＝０．６５．メタノール）＝−１０，５゜ 元素分析値：ＣＩＧＨ２・Ｎ２０Ｓ 計算値（％）　　：　Ｃ５９，９９Ｈ８，２９Ｎ　８．
７５実測値（％）　、　Ｃｆ３０．０９　ＨＥｉ、２０
　Ｎ　８．８７〈実施例４３〉 一般式　　　　Ｒ，Ｒ２ ＸＡＡＮＨ−Ｃ−ＣＯＯＹ （式中、Ｒ，＝Ｃ６Ｎ５、Ｒ２＝Ｈ，Ｘ＝ＢＯＣ、Ｙ＝
ＣＨ３、ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基）にて表わさ
れるＮ−ＢＯＣ−Ｌ−フェニルアラニル−α、β−デヒ
ドロ−フェニルアラニンメチルエステルの合成 Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−フェニルアラニン
無水物１　、８９　ｇ　（１０ｍｍｏ　ｌ）のＴＨＦ５
ｍｌ溶液に、常法によって合成したＢＯＣ−Ｌ−フェニ
ルアラニン■１工程物質）　２　、９２ｇ　（１１ｍｍ
ｏ　ｌ）を加える。−１０℃に冷却し、ジシクロへキシ
ルカルボジイミド２．２７ｇ（ｌｌｍｍｏｌ）を投入す
る。同温で２０分攪拌し、ピリジンでｐＨを６とする。

その後、０℃で１時間攪拌し、室温で１２時間攪拌する
。メタン−ル（第２工程物質）１０ｍｌを加え、ＮＭＭ
でＰＨを９とし、室温で１時間攪拌後反応液を減圧濃縮
し、残渣を酢酸エチル５０　ｍ　ｌに溶解し、１時間冷
所に放置後、析出ジシクロヘキシル尿素を濾別する。こ
れを冷酢酸エチル５０ｍ１で洗浄し、両酢酸エチル層を
あわせ、１０％クエン酸水溶液、水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾鰻する。乾煙剤を濾別後、減圧濃縮し、
残渣をシリカゲルカラム（クロロホルム：アセトン＝２
０：ＩＶ／Ｖ）で精製し、ジイソプロピルエーテルから
バールイエロー針状結晶の目的物を理論量の９０％の収
率で得た。

この物質の物性値は下記の通りである。

融点（”０）：１１６〜１１８ ｒ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ−’）　：１６４０．１５
３０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．５４　（ｄ　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝ｌＯＨｚ）４．５
４　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝８．０，７．０Ｈｚ） 元素分析値：Ｃ２４Ｈ２８Ｎ２０５ 計算＆　（％）　；　Ｃ６７−９０Ｈ６，８５Ｎ　８．
６０実測値（％）　　：　Ｃ８７，８０Ｈ８，６９Ｎ　
８Ｊ３次に、実施例４４乃至実施例５５に、Ｒ，、Ｒ２
の組合せ、Ｘ、ＡＡ、Ｙの相違にょるα、β−デヒドロ
ペプチド誘導体を上記と同様の方法で合成した場合にお
ける収率及び物性値を示す。

〈実施例４４〉 出発物質 Δ−ｎ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｄ、Ｌ−フェニルアラニン 中間物質 Ｐｈｔ　　Ｄ、Ｌ　　７ｘニルアラニル−Δ−ｎ−バリ
ンＮＣＡ 第２工程物質二水 目的物 Ｐｈｔ−Ｄ、Ｌ−フェニルアラニル−Δ−ｎ−バリン 但、Ｒ，＝Ｃ２ＨＳ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｐｈｔ ＡＡ＝Ｄ、Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝Ｈ 収率（％）：８５ 融点（’Ｃ）：１４８〜１５０ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＤＭＳＯｄｓ）　：６．７６　（ｔ
　、Ｒ−ＣＨ＝　、Ｊ＝７Ｈｚ）５．２０　（ｄｔ　、
ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝８．０．５．５Ｈｚ） 元素分析値：Ｃ２２Ｈ２ｏＮ２０５ 計算値（％）　：　Ｃ８７，３３Ｈ５，１４Ｎ　７．１
４実測値（％）　：　Ｃｆ１ｉ７．２８　Ｈ５，１７Ｎ
　？−２０〈実施例４５〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシン 中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−フェニルアラニンＮＣ第２工程
物質：メタノール 目的物 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−フェニルアラニンメチルエステ
ル 但、Ｒ，＝Ｃ６ＨＳ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン歿基 残基ＣＨ３ 収率（％）：９０ 融点（”Ｏ）：１６０〜１６１ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア、４６〜７．２８　（ｍ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　十〇
６　ＨＳ）４．４３　Ｃｓ　、ＮＨＣＨＣＯ） 元素分析値：Ｃ２ｏＨ１６Ｎ２０゜ 計算値（％）　、　ＣＢ５．９３　Ｈ４，４３Ｎ　？、
Ｂ９実測値（％）　、　ＣＢＧ、０５　Ｈ４，３２Ｎ　
７．８１〈実施例４６〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン＠ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｌ−アラニン 中間物質 Ｐｈｔ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：エタノール 目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸エチ
ルエステル 但、Ｒ１＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 Ｙ＝Ｃ２Ｒ５ 収率（％）二８７ 融点（’Ｃ：）：１３３〜１３５ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．７６　（ｑ　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝７Ｈｚ）５．０６
　（ｑ　、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝７Ｈｚ）［α］Ｄ（ｃ＝
ｔ、メタノール）＝０．９゜元素分析値：Ｃ１７Ｈ１８
Ｎ２０５ 計算値（％）　：　Ｃ８１，８１Ｈ５，４８Ｎ　８．４
８実測値（％）　：　Ｃ８１，８９Ｈ５，５８Ｎ　８．
３０〈実施例４７〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｃｂｚ−グリシン 中間物質 Ｃｂｚ−グリシル−α−アミノ−α−ブテン酸ＣＡ 第２工程物質：エタノール 目的物 Ｃｂｚ−グリシル−α−アミノ−α−ブテン酸エチルエ
ステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｃｂｚ ＡＡ＝グリシン残基 Ｙ＝Ｃ２Ｒ５ 収率（％）ニア９ 融点（℃）二油状物 ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア　、０２　（ｑ　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝７Ｈｚ）３．８
７　（ｄ、ＮＨｃＨｃｏ、Ｊ＝６Ｈｚ）元素分析値：Ｃ
１６Ｈ２・Ｎ２Ｏ５ 計算値（％）　　、　Ｃ５！１１９９　Ｈ６，２９Ｎ　
８．７５実測値（％）　、　Ｃ５９，８０Ｈ８，１８Ｎ
　Ｃ９２〈実施例４８〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：Ｃｂｚ−グリシン 中間物質 Ｃｂｚ−グリシル−Δ−フェニルアラニンＮＣ’５２工
程物質：メタノール 目的物 Ｃｂｚ−グリシル−Δ−フェニルアラニンメチルエステ
ル 但、Ｒ，＝Ｃ６Ｒ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｃｂｚ ＡＡ＝グリシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝７９ 融点（’Ｃ）：１０７〜１０８ １０８１Ｈ−Ｎδ、ＣＤＣ１３）ニ ア、２５〜７．５３　（ｍ　、　ＲＣＨ＝　、　＋ｃ５
　Ｒ５）３．９１　　（ｄ　、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝７Ｈ
ｚ）元素分析値：Ｃ２ｏＨ２ｏＮ２０゜ 計算値（％）　；　Ｃ８５−２１Ｈ５，４７Ｎ　７．６
１実測値（％）　　：Ｃ６５，０３Ｈ５，５９Ｎ　？−
７７〈実施例４９〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｃｂｚ−Ｌ−アラニン 中間物質 Ｃｂｚ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：メタノール 目的物 Ｃｂｚ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸メチ
ルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｃｂｚ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：８８ 融点（℃）：１３７〜１３８ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６−７６　（ｑ　、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．４３
　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（ｃ＝ｏ、ｓｓ、メタノール）＝−１０，５” 元素分析値：Ｃ１６Ｈ２ｏＮ２０５ 計算値（％）　　：　Ｃ５９，９９Ｈ８，２９Ｎ　８．
７５実測値（％）　、　Ｃ５９，９１Ｈ８，３８Ｎ　８
．８９〈実施例５０〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第４工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−アラニン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸メチ
ルエステル 但、Ｒ１＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝６５ 融点（℃）：１１６〜１１７ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ：））： ６．８０　（ｑ　、Ｒ−ＣＨ＝　、Ｊ＝７Ｈｚ）４．４
０　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］２４（ｃ　＝　１．メタノール）＝−２５，７０
元素分析値：Ｃ１３Ｈ２２Ｎ２０５ 計算値（％）　　：　Ｃ５４，５３Ｈ７，７５Ｎ　９．
７８実測値（％）　；　Ｃ５４，７０Ｈ７−９３Ｎ　Ｓ
、１３１〈実施例５１＞ 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−バリン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−バリル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−Ｌ−バリル−α−アミノ−α−ブテン酸メチル
エステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−バリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６９ 融点（℃）：１１０〜１１１ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６　、８２　（ｑ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　Ｊ＝７Ｈｚ）
４．１０　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−２５，４゜元素分
析値：Ｃ１５Ｈ２８Ｎ２０５ 計算値（％）　　；　Ｃ５７，３１Ｈ８，３４Ｎ　８．
９１実測値（％）　：Ｃ５７，１９Ｈ８，４９Ｎ　Ｓ、
１０〈実施例５２〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン＃ＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−ロイシン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−α−アミノ−α−ブテン酸メチ
ルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６４ 融点（℃）：油状物 ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、　ＣＤＣ１３）　：６．６４　（ｑ
　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．１８　（ｍ、ＮＨＣ
旦ＣＯ） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−１９，２゜元素分
析値：Ｃ１６Ｈ２８Ｎ２０５ 計算値（％）　；　Ｃ５８，５１Ｈ８，５９Ｎ　Ｌ５３
実測値（％）　、　Ｃ５８−７０Ｈ８，８０Ｎ　８．３
２〈実施例５３〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−フェこルアラニン中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−フェニルアラニル−α−アミノ−α−ブテ
ン酸ＮＣＡ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−Ｌ−フェニルアラニル−α−アミノ−α−ブテ
ン酸メチルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝８５ 融点（℃）：９７〜９８ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、　ＣＤＣ１３）　：６．７３（ｑ、
Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．５８　（ｄｔ　、ＮＨＣ
ＨＣＯ。

Ｊ＝８．０，７．０Ｈｚ） Ｅａ　］ｏ　（Ｃ＝　１　、　）夕／　−ル）　＝−１
５、０’元素分析値：Ｃ１９Ｈ２６Ｎ２０５ 計算値（％）　　；　Ｃ８２，９６Ｈ７，２３Ｎ　７．
７３実測値（％）　；　Ｃ８３，１３Ｈ７，１０Ｎ　７
．８７〈実施例５４〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−グリシン 中間物質 ＥＯＣ−グリシル−α−アミノ−α−ブテン酸ＣＡ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−グリシル−α−アミノ−α−ブテン酸メチルエ
ステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝グリシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６０ 融点（’Ｃ）：１０３〜１０４ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．８４　（ｑ　、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈ２）３．９８
　（ｄ　、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝６Ｈｚ）元素分析値：Ｃ
ｌ２Ｈ２ｏＮ２０５ 計算値（％）　：Ｃ５２，９３Ｎ７．４０　Ｎ１０．２
９実測値（％）　　、　Ｃ５３，１０Ｈ７，２６Ｎ１３
．４９〈実施例５５〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−ロイシン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−フェニルアラニンＣＡ 第２工程物質：メタノール 目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−フェニルアラニンメチルエ
ステル 但、　Ｒ，＝ＣＧ　Ｎ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）二８４ 融点（’Ｃ）：９１〜９３ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア、２４〜７．５０　（ｍ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　＋Ｃ
６Ｎ５　）４．２８　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（ｃ＝ｉ、メタノール）＝４１．５゜元素分析
値：Ｃ２□Ｈ３ｏＮ２０５ 計算値（％）　　：　Ｃ８４，５９Ｈ７，７４Ｎ　７．
１７実測値（％）　：Ｃ３Ｌ７０　Ｈ７，８６Ｎ　７．
１３（以下余白） 〈実施例５６〉 ＸＡＡＮＨ−Ｃ−ＣＯＡＡ’ＯＹ （式中、Ｒ１＝ｉ　　Ｃ３Ｎ７、Ｒ２＝Ｈ，Ｘ＝ＢＱＣ
，Ｙ＝ＣＨ３、ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基、ＡＡ’＝Ｌ−
フェニルアラニンｍにて表わされるＮ−ＢＯＣ−Ｌ−ア
ラニル−α、β−デヒドロ−ロイシルーＬ−フェニルア
ラニンメチルエステル（ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−ロ
イシルーＬ−フェニルアラニンメチルエステル）の合成
Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−ロイシン無水物１
　、５５　ｇ　（１０ｍｍｏ　１）のＴＨＦ５ｍｌ澄液
に、常法によって合成したＢＯＣ−Ｌ−アラニン（第４
工程物剤２．０８ｇ　（１１ｍｍ。

１）を加える。−１０℃に冷却し、ジシクロへキシルカ
ルボジイミド２　、２７ｇ　（ｌ　１ｍｍｏ　ｌ）を投
入する。同温で２０分間攪拌し、ピリジンでｐＨを６に
する。その後、０℃で１時間、室温で１２時間攪拌し、
これにＬ−フェニルアラニンメチＡｙニス−ｒＡｙ　（
第２工ｆＪｒ￥ｔ）　１　、９７　ｇ　（１１ｍｍｏｌ
）のＴＨＦ５ｍｌ溶液を加え、トリエチルアミンでｐＨ
８〜９とする。室温で１時間攪拌後、反応液を減圧濃縮
し、残渣を酢酸エチル５０ｍ１に溶解し、１時間冷所に
放置した後、析出ジシクロヘキシル尿素を濾別し、これ
を酢酸エチル５０　ｍ　ｌで洗浄する。両酢酸エチル層
をあわせ、１０％クエン酸水、水で洗浄し１、無水硫酸
ナトリウムで乾燥する。乾燥剤を濾別後、減圧濃縮し、
残液をシリカゲルカラム（クロロホルム：アセトン＝２
０　：　ＩＶ／Ｖ）で精製し、クロロホルム、ジイソプ
ロピルエーテル 的物を理論量の９０％の収率で得た。

この物質の物性値は下記の通りである。

融点（℃）：１２１〜１２２ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣ１３）： ６、２９（ｄ，Ｒ−Ｃ旦＝　、　Ｊ　＝　１　０Ｈｚ）
４、２１　（ｍ，ＮＨＣＨＣＯ） ４、８６　（ｄｑ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．５，５．０Ｈｚ） ［α］：？ｃ＝ｔ，メタノール）＝−３５．８。

元素分析値：Ｃ２４Ｈ３５Ｎ３０６ 計算値（％）　　：　Ｃ８２．８３　Ｈ　７．８１　Ｎ
　９．１３実測値（％）　；　Ｃ８２．４５　Ｈ　７．
８４　Ｎ　９．０１次に、実施例５７乃至実施例９１に
、Ｒ１，Ｒ２の組合せ、Ｘ．ＡＡ，ＡＡ’、Ｙ（７）相
違ニヨルα．βーデヒドロペプチド誘導体を上記と同様
の方法で合成した場合における収率及び物性値を示す。

〈実施例５７〉 出発物質 α−アミノ−αーブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシン 中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−α−アミノ−αーブチ漕ＣＡ 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−グリシル−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−
フェニルアラニンメチルエステル但、Ｒ１　＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６８ 融点（℃）：１７５〜１７６ １Ｈ−ＮＭＲ（δ，ＣＤＣ１３）： ６　、４３　（ｑ　、Ｒ−ＣＨ＝，Ｊ＝７Ｈｚ）４、７
４　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．５．７．０Ｈｚ） ４　、　２　８　（ｓ　、　ＮＨＣＨＣＯ）［α］：ｉ
！ｃ＝ｔ，メタノール）＝−２４．９。

元素分析値：Ｃ２４Ｈ２３Ｎ３０６ 計算値（％）　　；　Ｃ８４．１３　Ｈ　５．１８　Ｎ
　９．３５実測値（％）　：　Ｃ８４．０１　Ｈ　５．
０１　Ｎ　Ｏ．５２〈実施例５８〉 出発物質 α−アミノ−ｑ−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシン 中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−α−アミノ−αーブテン酸ＣＡ 第２工程物質：Ｌ−ロイシンメチルエステル目的物 Ｐｈｔ−グリシル−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−
ロイシンメチルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ。

Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｐｈｔ ＡＡ＝グリシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−ロイシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：８５ 融点（’０）：１６１〜１６２ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）　： ６．５９（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．５２　（
ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ） ４．４４　（Ｓ　、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］　ＤＥＣ＝　１　、メタノール）＝−４２，８゜
元素分析値：Ｃ２、Ｈ２５Ｎ３０６ 計算値（％）　：　Ｃ６０，７１Ｈ６，０７Ｎ１０．１
２実測値Ｃ％”）　；　Ｃ８０，９０Ｈ８，２５Ｎ１０
．０１〈実施例５９〉 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシン 中間物質 ｐｈｔ−グリシル−Δ−ロイシンＮＣＡ第２工程物質：
Ｌ−バリンメチルエステル目的物 ｐｈｔ−グリシル−Δ−ロイシルーＬ−バリンメチルエ
ステル 但、Ｒ１＝　ｉ　−Ｃ３Ｒ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｐｈｔ ＡＡ＝グリシン歿基 残基’＝Ｌ−バリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）二８５ 融点（”Ｃ）：　２０４〜２０５ ’Ｈ−ＮＭＲ（ａ　、　ＣＤＣ１３）　：６．３３　（
ｄ、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝１０Ｈ２）４．４４　（ｍ、ＮＨ
ＣＨＣＯ） ［α］ｆｉ３（Ｃ＝　１　、メタノール）＝−２４，６
゜元素分析値：Ｃ２２Ｈ２７Ｎ３ｏ６ 計算値Ｃ％）　；　Ｃ８１，５２Ｈ８，３４Ｎ　９．７
９実測値（％）　：　Ｃ８１，３７Ｈ８，２２Ｎ　９．
９２〈実施例６０＞ 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシン 中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−７エニルアラニンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−フェニルアラニルーＬ−フェニ
ルアラニンメチルエステル 但、　Ｒ言　＝Ｃ６Ｈ５ Ｒ２＝Ｈ ｘ＝　ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−７エニルアラニン歿基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア９ 融点（”０）：１７５〜１７６ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）　： ８．９２〜７．３０　（ｍ、Ｒ−ＣＨ＝、　＋〇＆　Ｒ
５）４．６４　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．５，７．０Ｈｚ） ４．２４　（ｓ　、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（Ｃ＝０．５．メタノール） ＝−６１，８゜ 元素分析値：Ｃ２゜Ｈ２５Ｎ３０８ 計算値（％）　、　Ｃ６０，０９Ｈ４，９３Ｎ　８．２
２実測値（％）　；　Ｃ８８，３１Ｈ４，７０Ｎ　８．
４３〈実施例６１＞ 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシン 中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−ロイシンＮＣＡ第２Ｔ程物質：
Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−ロイシルーＬ−フェニルアラニ
ンメチルエステル 但、Ｒ１＝　ｉ　−Ｃ３Ｎ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン残基 ＡＡ”＝Ｌ−フェニルアラニン歿残 基＝ＣＨ３ 収率（％）＝８８ 融点（’０）：１９３〜１９４ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、　ＣＤＣ１３）　：６．２５　（ｄ
　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝１０Ｈｚ）４．８０　（ｄｔ　、
ＮＨＣ旦Ｃｏ。

Ｊ＝１５．ｌ０Ｈ２） ４．４０　（Ｓ　、ＮＨＣ旦ＣＯ） ［α］３３（Ｃ＝１．メタノール）＝−２０，２゜元素
分析値：Ｃ２６Ｈ２゜Ｎ３０６ 計算値（％）　　：　Ｃ８５，３９Ｈ５，７０Ｎ　８．
８０実測値（％）　　：　Ｃ８５，４９Ｈ５，８２Ｎ　
８．１３１〈実施例６２〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシン 中間物質 ｐｈｔ−グリシル−Δ−フェニルアラニンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−バリンメチルエステル目的物 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−フェニルアラニルーし一バリン
メチルエステル 但、　Ｒ，＝Ｃ６ＨＳ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−バリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）二８７ 融点（℃）：２１５〜２１６ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア　、　１７　（ｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）４．２６　（ｄ
ｄ、ＮＨＣ旦ＣＯ。

Ｊ＝７．５，７．０Ｈ２） ４．５０（ｓ、ＮＨＣ旦ＣＯ） ［α］２３（ｃ　＝　ｉ、メタノール）＝−２０，５゜
元素分析値：Ｃ２５Ｈ２５Ｎ３０８ 計算値（％）　　：Ｃ８４，７８Ｈ５−４４Ｎ　９．０
７実測値（％）　；　Ｃ８４，８２Ｈ５，３２Ｎ　９．
１６〈実施例６３〉 出発物質 Δ−ｎ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシン 中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−ｎ−バリンＮＣＡ７ｉＴ１２工
程物質：　Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−ｎ−バリルーＬ−フェニルアラ
ニンメチルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ２Ｈｓ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン歿基 残基’＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝８３ 融点（”Ｃ）：１６９〜１７１ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）： ６．３６　（ｔ　、Ｒ−Ｃ旦＝　、Ｊ＝７Ｈｚ）４．８
０　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈ２） ４．４２　（ｓ　、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］２３ｃｃ　＝　１．メタノール）＝−１８，９゜
元素分析値：Ｃ２５Ｈ２５Ｎ３０６ 計算値（％）　；　Ｃｅ４．７８　Ｈ５，４４Ｎ　９．
０７実測値（％）　、　Ｃ６ｔ８３　Ｈ５，８２Ｎ　［
９０〈実施例６４〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｌ−アラニン 中間物質 Ｐｈｔ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテノイル−
Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６４ 融点（’Ｃ）：１６１ｌ６１− １６２１Ｈ−Ｎδ、ＣＤＣ１３）： ６．４８（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．９２　（
ｑ　、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝７Ｈｚ）４．６２　（ｄｔ　
、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，６．５Ｈ２） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝１２．９゜元素分析
値：Ｃ２５Ｈ２５Ｎ３０８ 計算値（％）　；　Ｃ８４，７８Ｈ５，４４Ｎ　９．０
７実測値（％）　；　Ｃ３Ｌ９０　Ｈ５，２９Ｎ　９．
１８〈実施例６５〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシン 中間物質 Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシル−α−アミノ−α−ブテン＃ＮＣ
Ａ 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシル−α−アミノ−α−ブテノイル−
Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：８０ 融点（℃）：１５１〜１５２ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．４６（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）５．００　（
ｄｄ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝１１．０，５．０Ｈｚ） ４．６６　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ） ［α斥３（Ｃ＝１．メタノール）＝−４，５＠元素分析
値：Ｃ２８Ｈ３、Ｎ３０６ 計算値（％）　　；　Ｃ６８，５２Ｈ８，１８Ｎ　８．
３１実測値（％）　；　Ｃ８８，４４Ｈ６，２４Ｎ　８
．４５〈実施例６６〉 出発物質 Δ−ｎ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物賀：Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシン 中間物質 Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシル−Δ−ｎ−ロイシンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシル−Δ−ｉ−ロイシルーＬ−フェニ
ルアラニンメチルエステル 但、Ｒ１＝　ｎ　　Ｃ：ｌ　Ｈ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｐｈｔ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６５ 融点（”Ｃり：５３〜５５ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．４６　（ｔ　、Ｒ−ＣＨ＝、、、Ｊ＝７Ｈｚ）５．
０２　（ｄｄ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝１１．０．５．０Ｈ２） ４．７２　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．５，６．０Ｈ２） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−７，０”元素分析
値：　Ｃ３＃　Ｈ：ｌ　ｓ　Ｎ３０ｓ；計算値（％）　
　：　Ｃ８７，５２Ｈ６，８１Ｎ　７．８８実測値（％
）　　：　Ｃ８７，３９Ｈ８，８９Ｎ　７．７９〈実施
例６７〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニン中間物質 Ｐｈｔ−Ｌ−７エニルアラニルーα−アミ７−α〜ブテ
ン酸ＮＣＡ 第２工程物質ニゲリシンメチルエステル目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニル−α−アミノ−α−ブテ
ノイル−グリシンメチルエステル但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｐｈｔ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 ＡＡ　’　＝グリシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝８７ 融点（’Ｃ）：１００〜１０１ １０１１Ｈ−Ｎδ、ＣＤＣ１３）　： ６　、５６　（ｑ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　Ｊ＝７Ｈｚ）
５．２０　（ｄｄ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝１０．５，５．５Ｈｚ） ３＋９０　（ｄ、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝６Ｈ２）［α］　
ｆｉ２ｃ＝ｔ　、ｔタノ−ル）＝−１１３，４゜元素分
析値：　Ｃ２４Ｎ２３　Ｎ３０Ｇ計算値（％）　；　Ｃ
８４，１３Ｈ５，１８Ｎ　９．３５実測値（％）　　；
　Ｃ８４，０５Ｈ５，３１Ｎ　９．２２〈実施例６８〉 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物ｊＪ：Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニン中間物
質 Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニル−Δ−ロイシンＣＡ 第２工程物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニル−Δ−ロイシルＬ−セリ
ンメチルエステル 但、Ｒ１＝　ｉ　−Ｃ３Ｒ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝Ｃ８ 融点（”Ｃ）：１７９〜１８０ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．２１　（ｄ、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝１０Ｈｚ）５．３０
　（ｄｄ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝１１０．５．０Ｈｚ） ４．３８　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］：２ｃ＝ｔ、メタノール）＝−５９，１゜元素分
析値：Ｃ２□Ｈ２８Ｎ３０７ 計算値（％）　：　Ｃ６３−８９Ｈ５，７８Ｎ　８．２
８実測値（％）　：　Ｃ６３，９６Ｈ５，８５Ｎ　８．
１９〈実施例６９〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：Ｃｂｚ−グリシン 中間物質 Ｃｂｚ−’ｌ”リシル−Δ−フェニルアラニンＮＣ第２
工程物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 Ｃｂｚ−グリシル−Δ−フェニルアラニルーＬ−セリン
メチルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ６Ｒ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝Ｃｂｚ ＡＡ＝グリシン歿基 残基’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア０ 融点（℃）二油状物 １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア　、　０６　Ｃｓ　、　Ｒ−（Ｊ＝）３．８４　（ｍ
、ＮＨＣＨＣＯ） ４．６０　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］ｌ１（Ｃ＝１．１６．メタノール）＝−２１，９
” 元素分析値：Ｃ２３Ｈ２５Ｎ３０７ 計算値（％）　　：　Ｃ８０，８５Ｈ５，５３Ｎ　９．
２３実測値（％）　：　Ｃ８０，８０Ｈ５，４８Ｎ　９
．２９〈実施例７０＞ 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−アラニン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテノイル−
し−セリンメチルエステル 但、　Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６１ 融点（℃）：油状物 ＩＨ−ＮＭＲ（δ、　ＣＤＣ１３）　：６．６３（ｑ、
Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．２０　（ｄｄ　、ＮＨＣ
ＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ） ４．６１　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝８．０，４．０Ｈ２） ［α］Ｄ（ｃ＝ｉ、メタノール）＝−３１，９゜元素分
析値：Ｃ１６Ｈ２□Ｎ３０□ 計算値（％）　　、　Ｃ５１，４６Ｈ７，２９Ｎ１１．
２５実測値（％）　、　Ｃ５１，３７Ｈ７，３７Ｎ１１
２９〈実施例７１＞ 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−バリン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−バリル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第２工程物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−バリル−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ
−セリンメチルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−バリン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６３ 融点（℃）：油状物 ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．６２　（ｑ　、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．０２
　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ４．６２　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］ハ３（Ｃ＝１．メタノール）＝−２２，９゜元素
分析値：Ｃｌ８Ｈ３□Ｎ３０□ 計算値（％）　　、　Ｃ５３−８５Ｈ７＝７８　Ｎ１（
Ｌ４７実測値（％）　、　Ｃ５３，７５Ｈ７，９４Ｎ１
０．３９〈実施例７２〉 出発物質 Δ−ｎ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−アラニン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−ｎ−バリアＮＣＡ第２工程
物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−ｎ−バリルーＬ−セリンメ
チルエステル 但、Ｒ１＝Ｃ２Ｎ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝Ｃ７ 融点（℃）：油状物 ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．５７　（ｔ　、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ、＝７Ｈｚ）４．２
０　（ｄｄ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈ２） ４．６０　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝８．０，４．０Ｈｚ） ［α化３（Ｃ＝１．メタノール）＝−３４，５゜元素分
析値：Ｃ１７Ｈ２９Ｎ３０７ 計算値（％）　　；　Ｃ５２，７０Ｈ１５５Ｎ１０．８
５実測値（％）　：　Ｃ５２，９０Ｈ７，４７Ｎ１０．
８９〈実施例７３〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−グリシン 中間物質 ＢＯＣ−グリシル−Δ−フェニルアラニンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−メチ才ニンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−グリシル−Δ−フェニルアラニルーＬ−メチオ
ニンメチルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ６ＨＳ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝グリシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−メチオニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）二８５ 融点（℃）：１６１〜１６２ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア、１２（ｓ、Ｒ−Ｃ旦＝） ３．７０　（ｄ　、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝６Ｈｚ）４．５
１　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝８．０，７．０Ｈｚ） ［α躇３（Ｃ＝１．メタノール）＝−５０−９゜元素分
析値”２２Ｈ３１Ｎ３°６ｓ 計算値（％）　　：　Ｃ３Ｌ７８　Ｈ６，７１Ｎ　９．
０３実測値（％）　；　Ｃ５Ｂ、８３　Ｈ８，８５Ｎ　
Ｓ、１０〈実施例７４〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第４工程物質：ＢＯＣ−グリシン 中間物質 ＢＯＣ−グリシル−Δ−フェニルアラニンＮＣ第２工程
Ｍ：Ｌ−ロイシンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−グリシル−Δ−フェニルアラニルーＬ−ロイシ
ンメチルエステル 但、Ｒ，＝ＣＧ　Ｈ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝グリシン歿基 残基”＝Ｌ−ロイシン歿残 基＝ＣＨ３ 収率（％）＝８５ 融点（℃）：１８８〜１８９ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）　ニ ア　、　１６　（ｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）３．７０（ｄ、
ＮＨＣＨＣＯ、Ｊ　＝５．５　Ｈｚ）４．４０　（ｄｔ
　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝８．０，４．５Ｈｚ） ［α］Ｄ（ｃ＝ｔ、メタノール）＝−２６，２゜元素分
析値：Ｃ２３Ｈ３３Ｎ３０８ 計算値（％）　、　ＣＢ１．７２　Ｈ７，４３Ｎ　９．
３９実測値（％）　；　Ｃ８１，８０Ｈ７，３８Ｎ　９
．４５〈実施例７５〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ １１工程物賀：ＢＯＣ−Ｌ−フェニルアラニン中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−フェニルアラニル−α−アミノ−α−ブテ
ン酸ＮＣＡ 第２工程物質：Ｌ−アラニンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−フェニルアラニル−α−アミノ−α−ブテ
ノイル−Ｌ−アラニンメチルエステル但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−アラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：９４ 融点（℃）：１９０〜１９１ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ：ｌ）： ６　、６５　（ｑ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　Ｊ＝７　、５
Ｈｚ）４．３６　（ｄｑ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝８．０．５．５Ｈｚ） ４．５９　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−２６，４゜元素分
析値：Ｃ２２Ｈ３□Ｎ３０６ 計算値（％）　　：　Ｃ８０，９５Ｈ７，２１Ｎ　９．
６９実測値（％）　、　ＣＢ１．０８　Ｈ７，１８Ｎ　
９．７３〈実施例７６〉 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−ロイシン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−ロイシンＮＣＡ第２工程物
質：Ｌ−アラニンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−ロイシルーＬ−アラニンメ
チルエステル 但、　ＲＩ＝　ｉ　−０３Ｒ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−アラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）二８７ 融点（”０）：１２６〜１２７ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６−３６　（ｄ、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝ｌＯＨｚ）４．１９
　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） ４．６２　（ｄｑ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．５．．５．０Ｈｚ） ［６１ｇ３ｃｃ　＝　１．メタノール）＝−６０，８’
元素分析値：０２、Ｈ３□Ｎ３０８ 計算値（％）　；　Ｃ５８，９９Ｈ８，７２Ｎ　９−８
３実測値（％）　：　Ｃ５９，１０Ｈ８，８５Ｎ　９．
９２〈実施例７７〉 出発物質 Δ−インロイシンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−アラニン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−７ラニルーΔ−インロイシンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−インロイシルーＬ−セリン
メチルエステル 但、Ｒ１＝Ｃ２Ｒ５ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）＝９４ 融点（℃）：１５９〜１６１ １Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’″１）： １６５０．１５２０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．１６（ｄｑ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ） ４．６０　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） Ｅ配位体： ２　、４０　（ｑ、　ＣＨ３ＣＨ２、Ｊ＝７．５　Ｈｚ
）１．７２（Ｓ、ＣＨ３） Ｚ配位体： ２　、１０　（ｑ、　ＣＨ３ＣＨ２、Ｊ＝７．５　Ｈｚ
）２．０４（ｓ、ＣＨ３） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−３１，６゜元素分
析値：Ｃｌ８Ｈ３１Ｎ３０７ 計算値（％）　：　Ｃ５３，８５Ｈ７，７８ＮＩｏ、４
７実測値（％）　　：　Ｃ５３−９２Ｈ７，９０Ｎｌ（
１４０〈実施例７８〉 出発物質 Δ−インロイシンＮＣＡ 第４工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−α−アミノブタン酸中間物
質 ＢＯＣ−Ｌ−α−アミノブチリル−Δ−インロイシンＮ
ＣＡ 第２工程物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ’ＢＯＣ−Ｌ−α−アミノブチリル−Δ−インロインル
ーＬ−セリンメチルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ２Ｒ５ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−α−アミノブタン酸残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）二８１ 融点（’Ｃ）：１７５〜１７６ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １６５０．１５２０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．０８．４．６８　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体： ２．４４（Ｑ、ＣＨ：ＩＣＣ２０、Ｊ　＝７．５　Ｈｚ
）１　、７６　（Ｓ　、　ＣＨ：ｓ） Ｚ配位体； ２　、０８　（ｑ、　ＣＨ３ＣＨ２、Ｊ＝７．５　）１
ｚ）２．０４（Ｓ、ＣＨ：ｌ） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−２６，２゜元素分
析値：Ｃ１゜Ｒ３３Ｎ３０７ 計算値（％）　；　Ｃ５４，９２Ｈ８，０１Ｎ１０．１
１実測値（％）　　：Ｃ５５−０３Ｈ７，９０Ｎ１０．
００〈実施例７９〉 出発物質 Δ−インロイシンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリン中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリル−Δ−インロイシンＮＡ 第２工程物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリル−Δ−インロイシルーＬ−セリ
ンメチルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ２Ｒ５ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ｎ−バリン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）ニア３ 融点（℃）：１７８〜１７９ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １６５０．１５２０　（ＣＯＮＨ） ＩＨ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．１２，４．６４　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体； ２．４０（（１，ＣＨ３Ｃ旦２．Ｊ＝７．５七）１．７
６　（ｓ　、ＣＨ３） Ｚ配位体； ２　、０８　（（１、ＣＨ３ＣＨ２、Ｊ＝７．５　Ｈｚ
）２．０４　（ｓ　、ＣＨ３） ［α詔３（Ｃ＝１．メタノール）＝−２７，０’元素分
析値：Ｃ２・Ｒ３ｔ、Ｎ３０？ 計算値（％）　　：Ｃ５５，９３Ｈ８，２１Ｎ　９．７
８実測値（％）　；　Ｃ５Ｂ、０８　Ｈ８，２９Ｎ　！
３．８７〈実施例８０＞ 出発物質 Δ−イソロイシンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−ロイシン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−イソロイシンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−イソロイシルーＬ−セリン
メチルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ２Ｒ５ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）ニア８ 融点（’０）：１８６〜１８７ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．１４．４．６０　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体： ２　、４２　（ｑ　、　ＣＨ３ＣＨ２、Ｊ＝７．５　Ｈ
ｚ）１　、７６　（ｓ　、　ＣＨ３） Ｚ配位体： ２　、０８　（ｑ　、　ＣＨ３ＣＨ２、Ｊ＝７．５Ｈｚ
）２＋０４　（ｓ　、ＣＨ３） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−２９，０゜元素分
析値：０２、Ｈ３□Ｎ３０□ 計算値（％）　　；　Ｃ５Ｇ、８８　Ｈ８，４１Ｎ　９
．４７実測値（％）　　；　Ｃ５７，ＯＯＨ８，３２Ｎ
　９．５９〈実施例８１＞ 出発物質 Δ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−アラニン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−バリンＮＣＡ第２工程物質
：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−バリルーＬ−セリフメチル
エステル 但、Ｒ１＝ＣＨ３ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ Ｅ配位体と２配位体の混合物 収率（％）：９２ 融点（’Ｃ）：１４９〜１５０ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １６６０．１５２０　（ＣＯＮＨ） ”Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．１６　（ｄｑ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈ２） ４．５８　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） Ｅ配位体： ２．０４　（ｓ　、ＣＨ３） Ｚ配位体； １．７２　（ｓ　、ＣＨ３） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−２６−８゜元素分
析値：Ｃｌ７Ｈ２９Ｎ３０フ 計算値（％）　　：Ｃ５２，７０Ｈ７，５５Ｎ１０．８
５実測値（％）　：　Ｃ５２，８３Ｈ７，５９Ｎ１０．
９７〈実施例８２〉 出発物質 Δ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−α−アミノブタン酸中間物
質 ＢＯＣ−Ｌ−α−アミノブチリル−Δ−バリンＣＡ 第２工程物ｆｆ　：　Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−α−アミノブチリル−Δ−バリルーＬ−セ
リンメチルエステル 但、Ｒ１＝ＣＨ３ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−α−アミノブタン酸残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）二８１ 融点Ｃ℃）：１５６〜１５７ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ−１）　：１６６０．１５
２０　（ＣＯＮＨ） ＩＨ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．０８．４．６８　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体： ２．０６（Ｓ、ＣＨ３） Ｚ配位体： １　．７６　　（ｓ　　、ＣＨ３） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−２６，４゜元素分
析値：Ｃ＋５Ｈ３ＩＮ３０を 計算値（％）　、　Ｃ５３−８５Ｈ７−７８ＮＩＱ、４
７実測値（％）　：　Ｃ５３，？７　Ｈ７，８０ＮＩＯ
，３５〈実施例８３〉 出発物質 Δ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリン中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリル−Δ−バリアＮＣＡ第２工程物
質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリル−Δ−バリルーＬ−セリンメチ
ルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ｎ−バリン８沙ら裟 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）ニア９ 融点（”０）：１７０〜１７１ １Ｒ（ＫＢｒ、ｃｍ’）：　　　　　’１６４０．１５
２０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．１２．４．６４　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体： ２．０４（Ｓ、ＣＨ３） Ｚ配位体： １．７６　（ｓ　、ＣＨ３） ［α］２３（Ｃ＝　１．メタノール）＝−２４，７゜元
素分析イガ：０１ＳＨ３３Ｎ３０７ 計算値Ｃ％）　：Ｃ５４，９２Ｈ８，０１Ｎ１０．１１
実測値（％）　；　Ｃ５５，０８Ｈ７，９０Ｎ１０．２
２〈実施例８４〉 出発物質 Δ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−コイシン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−口イシル−Δ−バリンＮＣＡ第２工程物質
：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−バリルーＬ−セリンメチル
エステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）ニア３ 融点（”Ｃ）：１８５〜１８６ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ−１）　：１６５０．１５
２０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）。

４．２０．４．６４　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体； ２．０４　（ｓ　、ＣＨ３） Ｚ配位体： １．７４（Ｓ、ＣＨ３） ［α］２３（Ｃ＝　ｔ、メタノール）＝−２７，４゜元
素分析値：Ｃ２ｏＨ３５Ｎ３０□ 計算値（％）　　：　Ｃ５５，９３Ｈ１３，２１Ｎ　９
．７８実測値（％）　；　Ｃ５５，８８Ｈ８，１４Ｎ　
９．８７〈実施例８５〉 出発物質 Δ−インロイシンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−アラニン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−インロイシンＮＣ第２工程
物Ｊ：Ｌ−セリンベンジルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−イソロイシルーＬ−セリン
ベンジルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ２ＨＳ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ２ｃ６Ｈ５ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）：６３ 融点（℃）：１０７〜１０８ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　Ｃｍ−１）　：１６５０．１５
２０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．１６．４．６４　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体： ２　、３４　（（Ｌ　、　ＣＨ３ＣＨ２）１．７０　（
ｓ　、ＣＨ３） Ｚ配位体： ２．０６（ｑ、ＣＨ３Ｃ旦２） １．９８（Ｓ、ＣＨ３） ［α］Ｄ（Ｃｍ１．メタノール）＝−３７，９゜元素分
析値：　Ｃ２４Ｒ３Ｓ　Ｎ３０フ計算値（％）　；Ｃ８
０，３８Ｈ７，３！３　Ｎ　８．８０実測値（％）　　
；　Ｃ３Ｌ５０　Ｈ７，３１Ｎ　８．５９〈実施例８６
〉 出発物質 Δ−インロイシンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリン中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリル−Δ−インロイシンＮＡ 第２工程Ｍ：Ｌ−セリンベンジルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリル−Δ−イソロイシルーＬ−セリ
ンベンジルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ２Ｒ５ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ｎ−バリン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ２Ｃ６Ｒ５ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）＝５０ 融点（℃）：１３６〜１３８ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １６５０．１５３０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．０８．４．６４　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体： ２．３４（ｑ、ＣＨ３Ｃ旦２） １．６８　（ｓ　、ＣＨ３） Ｚ配位体： ２．０６（（１，ＣＨ３Ｃ月２） １．９２（５，ＣＨ３） ［α］バ５（Ｃｍ１．メタノール）＝−２２，５゜元素
分析値：Ｃ２６Ｈ３８Ｎ３０７ 計算値（％）　　；　Ｃ８１７８Ｈ７，７６Ｎ　Ｌ３１
実測値（％）　：　Ｃ８１，７５Ｈ７，７１Ｎ　８．３
４〈実施例８７〉 出発物質 Δ−インロイシンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−ロイシン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−イソロイシンＮＣ第２工程
物ｍ：Ｌ−セリンベンジルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−インロイシルーＬ−セリン
ベンジルエステル 但・Ｒ，＝０２　Ｒ５ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ２ｃ、、Ｒ５ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）＝４３ 融点（”０）：１４６〜１４７ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　Ｃｍ−１）　：１６５０．１５
３０　（ＣＯＮＨ） １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．１０．４．７０　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体； ２．４０（ｑ、ＣＨ３Ｃ旦２） １．７２　（ｓ　、ＣＨ３） Ｚ配位体： ２．１２（ｑ、ＣＨ３Ｃ旦２） ２．００（Ｓ、ＣＨ３） ［α］Ｄ（Ｃｍ１．メタノール）＝−２３，９゜元素分
析値二Ｃ２□Ｈ４□Ｎ３０７ 計算値（％）　　：Ｃ８２，４１Ｈ７，９５Ｎ　８．０
９実測値（％）　；　Ｃ８２，３５Ｈ７，９０Ｎ　８．
１５〈実施例８８〉 出発物質 Δ−バリンＮＣＡ 第１工程物賀：ＢＯＣ−Ｌ−アラニン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−バリンＮＣＡ第２工程物Ｗ
：Ｌ−セリンベンジルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−バリルーＬ−セリンベンジ
ルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ２Ｃ６Ｒ５ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）＝６１ 融点（℃）：９７〜９８ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ−１）　：１６６０．１５
２０　（ＣＯＮＨ） ＩＨ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．０８．４．６０　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体； ２．０４（Ｓ、ＣＨ３） Ｚ配位体： １．７６　（ｓ　、ＣＨ３） ［α］２５（Ｃ＝　１　、メタノール）＝−３２，５゜
元素分析値：Ｃ２３Ｈ３３Ｎ３０７ 計算値（％）　　、　Ｃ５！Ｊ、８０　Ｈ７，１８Ｎ　
９．０７実測値（％）　；　Ｃ５９，２３Ｈ８，８３Ｎ
　９．０９〈実施例８９〉 出発物質 Δ−バリンＮＣＡ 第１工程物賀：ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリン中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリル−Δ−バリアＮＣＡ第２工程物
質：Ｌ−セリンベンジルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ｎ−バリル−Δ−バリルーＬ−セリンベン
ジルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ｎ−バリン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ２ｃ６Ｈ５ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）：４１ 融点（℃）：１４５〜１４７ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １６５０　、１５３０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）　： ４．０８，４．６０　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体； １．９０’（Ｓ、ＣＨ３） Ｚ配位体： １．６４（Ｓ、ＣＨ３） ［α］２５（Ｃ＝　１　、メタノール）＝−２０，８゜
元素分析値二Ｃ２５Ｈ３□Ｎ３０□ 計算値（％）　　、　ＣＧ１．０８　Ｈ７，５９Ｎ　８
．５５実測値（％）　；　Ｃ８０，７１Ｈ８，０５Ｎ　
８．４８〈実施例９０＞ 出発物質 Δ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−ロイシン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−バリンＮＣＡ第２工程物質
：Ｌ−セリンベンジルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−ロイシル−Δ−バリルーＬ−セリンベンジ
ルエステル 但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ：ＣＨ２Ｃ６Ｒ５ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）＝４７ 融点（℃）：１５８〜１５９ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ’）　： １６５０．１５３０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ４．０８．４．６０　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ）Ｅ配位体； １．９８（ｓ、ＣＨ３） Ｚ配位体： １．７０（ｓ、ＣＨ３） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−２２，６゜元素分
析値：Ｃ２６Ｈ３９Ｎ３０７ 計算値（％）　　、　ＣＢ１．７８　Ｈ７，７８Ｎ　８
．３１実測値（％）　；Ｃ８１，８８Ｈ７，７４Ｎ　８
．３９〈実施例９１＞ 出発物質 Δ−インロイシンＮＣＡ 第１工程物質：ＢＯＣ−Ｌ−アラニン 中間物質 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−インロイシンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−セリン−ｔ−ブチルエステル目的物 ＢＯＣ−Ｌ−アラニル−Δ−インロイシルーＬ−セリン
ーｔ−ブチルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ２Ｈｓ Ｒ２＝ＣＨ３ Ｘ＝ＢＯＣ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ｔ　　Ｃ４Ｈ９ Ｅ配位体とＺ配位体の混合物 収率（％）＝８０ 融点（’０）：６２〜６３ Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ　、　ｃｍ−１）　：１６６０　、１
５１０　（ＣＯＮＨ） ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）： ４．２６　（ｄｑ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ） ４．５８（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） Ｅ配位体； ２．４０（ｑ、ＣＨ：Ｉｃ旦２） １．７２（Ｓ、ＣＨ３） Ｚ配位体： ２．１０　（（１、ＣＨ３ＣＨ２） ２．００　（ｓ　、ＣＨ３） ［α］２５（Ｃ＝　ｔ、メタノール）＝−９，５゜元素
分析値：Ｃ２５Ｈ４５Ｎ３０□ 計算値（％）　　：Ｃ３（１１０Ｈ９−０８Ｎ　８．４
１実測値（％）　　：Ｃ８０，５２Ｈ９，５７Ｎ　７．
９２（以下余白） 〈実施例９２〉 一般式　　　　Ｒ，Ｒ２ ＸＡＡＮＨ−Ｃ−ＣＯＡＡ’ＯＹ （式中、Ｒ１＝ｉＣ３Ｒ７、Ｒ２＝Ｈ，Ｘ＝Ｐｈｔ、Ｙ
＝ＣＨ３、ＡＡ＝グリシン残基、ＡＡ″＝Ｌ−バリン残
基） にて表わされるＮ−Ｐｈｔ−グリシル−α、β−デヒド
ロ−ロイシルーＬ−バリンメチルエステル（Ｐｈｔ−グ
リシル−Δ−ロイシルーＬ−へリンメチルエステル）の
合成 Ｎ−カルボキシ−α、β−デヒドロ−ロイシン無水物１
．５５ｇ　（ｌｏｍｍｏ　ｌ）のＴＨＦ５ｍｌ溶液に、
常法により合成したＰｈｔグリシルクロライド（第１工
程憬釦２．４６ｇ　（１１ｍｍ０１）を加え、冷却下０
℃付近にてトリエチルアミンでｐＨを５乃至６に調整す
る。室温で１時間攪拌し、これにＬ−バリンメチルエス
テル（第２工程物質）　１　、４４ｇ　（１１ｍ１）の
ＴＨＦ５ｍｌ溶液を加え、トリエチルアミンにてｐＨを
８乃至９とする。室温で１時間攪拌後、反応液を濃縮し
、残渣を酢酸エチル１００ｍ１に溶解し、ＩＭ−塩酸、
水で２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥
剤を超ＩＪ後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム（
ベンゼン：酢酸エチル＝ｌＯ：ＩＶ／Ｖ）で精製し、ク
ロロホロム、ｎ−へキサンから無色針状結晶の目的物を
理論量の７７％の収率で得た。

この物質の物性値は下記の通りである。

融点（０Ｃり：２０４〜２０５ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．３３　（ｄ、Ｒ−ＣＨ＝、Ｊ＝１０Ｈｚ）４．４４
　（ｍ、ＮＨＣＨＣＯ） 〔α］２３（Ｃ＝　ｔ、メタノール）＝−２４，６゜元
素分析値：　Ｃ２２Ｒ２７Ｎ：１０６計算値（％）　　
；　Ｃ６１−５２Ｈ６，３４Ｎ　９．７９実測値（％）
　　；　Ｃ６１，６３Ｈ８，１７Ｎ　９．６３次に、実
施例９３乃至実施例１０３に、Ｒ，、Ｒ２の組合せ、Ｘ
、ＡＡ、ＡＡ’、Ｙの相違によるα、β−デヒドロペプ
チド誘導体を上記と同様の方法で合成した場合における
収率及び物性値を示す。

〈実施例９３〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：　Ｐｈｔ−グリシルクロライド中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−α−アミノ−α−ブテン酸ＣＡ 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−グリシル−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−
フェこルアラニンメチルエステル但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ ｘ＝：　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン歿基 残基’＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）：６２ 融点（°Ｃ）：１７５〜１７６ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）： ６．４３（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．７４　（
ｄｔ　、ＮＨＣ旦Ｃｏ。

Ｊ＝７．５，７．０Ｈｚ） ４．２８　（ｓ　、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）冨−２４，９゜元素分
析値：　Ｃ２、ｓ　Ｒ２３Ｎ３０ｔｓ計算値（％）　　
：Ｃ８４，１３Ｈ５，１８Ｎ　９．３５実Ｊ１値（％）
ツＣＦ３４．２０　Ｈ５，２４Ｎ　９．２ｆ３〈実施例
９４〉 出発物質 α−アミノ〜α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシルクロライド中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−α−アミノ−α−ブテン酸ＣＡ 第２工程物質：Ｌ−ロイシンメチルエステル目的物 Ｐｈｔ−グリシル−α−アミノ−α−ブテノイル−Ｌ−
ロイシンメチルエステル 但、Ｒ１＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−ロイシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア９ 融点（”Ｃ）：１６１〜１６２ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６　、５９　（ｑ　、　Ｒ−ＣＨ＝　、　Ｊ＝７Ｈｚ）
４．５２　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ） ４．４４（ｓ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−４２，８゜元素分
析値：Ｃ２□Ｈ２５Ｎ３０６ 計算値（％）　　；　Ｃ８０，７１Ｈ８，０７Ｎ１０．
１２実測値（％）　　；　Ｃ６０，８３Ｈ８，１９Ｎ１
０．１８〈実施例９５〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシルクロライド中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−フェニルアラニンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−フェニルアラニルーＬ−フェニ
ルアラニンメチルエステル 但、Ｒ＋　＝Ｃ６Ｈ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン歿基 残基’＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア３ 融点（”Ｃ）：１７５〜１７６ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６　、９２〜７　、３０　（ｍ、　Ｒ−ＣＨ＝）４．６
４　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．５，７．０Ｈｚ） ４．２４　（ｓ　、ＮＨＣＨＣＯ） ［αコｏ　（ｃ　＝　ｏ−５，メタノール）＝−６４，
６゜元素分析値：Ｃ２８Ｈ２５Ｎ３０６ 計算値（％）　　、　ＣＢＢ、０９　Ｈ４，９３Ｎ　８
．２２実測値（％）　；　Ｃ６８，２７Ｈ５，０５Ｎ　
８．１３〈実施例９６〉 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシルクロライド中間物質 ｐｈｔ−グリシル−Δ−ロイシンＮＣＡ第２工程物質：
Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−ロイシルーＬ−フェニルアラニ
ンメチルエステル 但、Ｒ１＝ｉＣ３Ｈ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）〜８２ 融点（’０）：１９３〜１９４ １Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．２５（ｄ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝１０Ｈｚ）４．８０　
（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．５，７．０Ｈｚ） ４　、４０　（ｓ　、　ＮＨＣＨＣＯ）［α］２３（Ｃ
＝　１　、メタノール）＝−２０，２゜元素分析値：Ｃ
２６Ｈ２７Ｎ３０６ 計算値（％）　　、　ＣＧ５．３９　Ｈ５，７０Ｎ　Ｆ
Ｌ８０実測値（％）　　；　Ｃ８５，４５Ｈ５，８２Ｎ
　８．９９〈実施例９７〉 出発物質 Δ−フェニルアラニンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グ刀シルクロライド中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−フェニルアラニンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−バリンメチルエステル目的物 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−フェニルアラニルーＬ−へリン
メチルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ６Ｈ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グリシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−バリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝８５ 融点（℃）＋２１５〜２１６ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）ニ ア　、　１７　（ｓ　、　Ｒ−ＣＨ＝）４．２６　（ｄ
ｄ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．５，７．０Ｈ２） ４．５０（ｓ、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−２０，５゜元素分
析値：Ｃ２，Ｈ２５Ｎ３０６ 計算値（％）　　；　Ｃ６４，７８Ｈ５，４４Ｎ　９．
０７実測値（％）　、　Ｃｆ３４．８３　Ｈ５，５９Ｎ
　９．１５〈実施例９８〉 出発物質 Δ−ｎ−バリンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−グリシルクロライド中間物質 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−ｎ−バリンＮｃＡ第２工程物質
：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−グリシル−Δ−ｎ−バリルーＬ−フェニルアラ
ニンメチルエステル 但、Ｒ，＝Ｃ２Ｈ５ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝グ刃シン残基 ＡＡ　’　＝Ｌ−フェニルアラニン残基Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア５ 融点（’Ｃ）：１６９〜１７１ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．３６　（ｔ　、Ｒ−ＣＨ＝　、Ｊ＝７Ｈｚ）４．８
０　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ） ４．４２　（ｓ　、ＮＨＣＨＣＯ） ［α］２３（Ｃ＝　ｔ、メタノール）＝−１８，９゜元
素分析値：Ｃ２５Ｈ２５Ｎ３０８ 計算値（％）　　：　Ｃ８４，７８Ｈ５，４４Ｎ　９．
０７実測値（％）　　：　Ｃ８４，８８Ｈ５，５７Ｎ　
８．９８〈実施例９９〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｌ−アラニルクロライド中間物
質 Ｐｈｔ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−アラニル−α−アミノ−α−ブテノイル−
Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−アラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−フェニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア２ 融点（’Ｃ）：１６１〜１６２ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．４８（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）４．９２（ｑ
、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝７Ｈｚ）４．６２　（ｄｔ　、Ｎ
ＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝１０，８．５Ｈ２） ［α］２３（Ｃ＝１．メタノール）＝１２．９゜元素分
析値：Ｃ２，Ｎ２．Ｎ３０６ 計算値（％）　　：　（Ｊ４．７８　Ｈ５−４４Ｎ　９
．０７実測値（％）　；　Ｃ８４，８５Ｈ！５．３１　
Ｎ　９．２３〈実施例１００〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物賀：Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシルクロライド中間物
質 Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシル−α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣ
Ａ 第２工程物質：Ｌ−７エニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシル−α−アミノ−α−ブテノイル−
Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル但、Ｒ，＝ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−フェニルアラこン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝７８ 融点（’Ｃり：１５１〜１５２ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．４６（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝　、Ｊ＝７Ｈｚ）５．００　
（ｄｄ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝１１．０，５．０Ｈｚ） ４．６６　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．０，７．０Ｈｚ） ［αコ２３ＣＣ＝１．メタノール）＝−４，５゜元素分
析値：Ｃ２８Ｈ３、Ｎ３０６ 計算値（％）　；　Ｃ３Ｂ−５２Ｈ８，１８Ｎ　８．３
１実測値（％）　；　Ｃ６Ｂ、８７　ＨＢ、（１９Ｎ　
８．４０〈実施例１０１＞ 出発物質 Δ−ｎ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシルクロライド中間物
質 Ｐｈｔ−り−ロイシル−Δ−ｎ−ロイシンＮＣ第２工程
物質：Ｌ−フェニルアラニンメチルエステル 目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−ロイシル−Δ−ｎ−ロイシルーＬ−７エニ
ルアラニンメチルエステル 但、Ｒ１＝　ｎＣ３Ｎ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−ロイシン残基 ＡＡ’＝Ｌ−７エニルアラニン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝７１ 融点（°Ｃ）：５３〜５５ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ５）　： ６．４６　（ｔ　、Ｒ−ＣＨ＝　、Ｊ＝７Ｈｚ）５．０
２　（ｄｄ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝１１．０，５．０Ｈ２） ４．７２　（ｄｔ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝７．５，６．０Ｈｚ） ２３゛ ［α］Ｄ（Ｃ＝１．メタノール）＝−７，０゜元素分析
値：　Ｃ３ｏ　Ｎ３　ｒ、　Ｎ：ｌ　Ｏ（。

計箕値（％）　　；　Ｃ８？、５２　Ｈ８ＪＩ　Ｎ　７
．８８実測値（％）　；　Ｃ８７，６！Ｊ　Ｈ８，４２
Ｎ　８．０１〈実施例１０２〉 出発物質 α−アミノ−α−ブテン酸ＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニルクロライ
ド 中間物質 Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニル−α−アミノ−α−ブテ
ン酸ＮＣＡ 第２工程物質ニゲリシンメチルエステル目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニル−α−アミノ−α−ブテ
ノイル−グリシンメチルエステル但、Ｒ１：ＣＨ３ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 ＡＡ　’　＝グリシン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）ニア９ 融点（℃）：１００〜１０１ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１３）： ６．５６（ｑ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝７Ｈｚ）５．２０（ｄ
ｄ、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝１０．５，５．５Ｈｚ） ３．９０　（ｄ　、ＮＨＣＨＣＯ，Ｊ＝６Ｈｚ）［α］
（Ｃ＝１．メタノール）＝−１１３，４゜元素分析値：
Ｃ２４Ｈ２３Ｎ３０６ 計算値（％）　　：Ｃ６４，１３Ｈ５，１８Ｎ　９．３
５実測値（％）　　、　Ｃ６０，３０Ｈ５−０１Ｎ　９
．０９〈実施例１０３〉 出発物質 Δ−ロイシンＮＣＡ 第１工程物質：Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニルクロライ
ド 中間物質 Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニル−Δ−ロイシンＣＡ 第２工程物質：Ｌ−セリンメチルエステル目的物 Ｐｈｔ−Ｌ−フェニルアラニル−Δ−ロイシルーＬ−セ
リンメチルエステル 但、Ｒ１＝　ｉ　Ｃ３Ｎ７ Ｒ２＝Ｈ Ｘ＝　Ｐ　ｈ　ｔ ＡＡ＝Ｌ−フェニルアラニン残基 ＡＡ’＝Ｌ−セリン残基 Ｙ＝ＣＨ３ 収率（％）＝７０ 融点（℃）：１７９〜１８０ ’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌ：ｌ）： ６．２１　　（ｄ、Ｒ−Ｃ旦＝、Ｊ＝１０Ｈｚ）５．３
０　（ｄｄ　、ＮＨＣＨＣＯ。

Ｊ＝１１．０，５．０Ｈｚ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）α，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特
   定化合物を製造する方法において、所定の溶媒中、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２はそれぞれ水素原子、適宜に置
   換されたカルボキシル基又は適宜置換されてもよいアル
   キル基もしくはアリール基からなる同一又は異なる置換
   基を表わす。但し、Ｒ＾１とＲ＾２が同時に水素原子で
   あることはない。）にて示されるＮ−カルボキシ−α，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸無水物に、アミノ基の保護
   化剤又はＮ−保護−α−アミノ酸もしくはＮ−保護−α
   −アミノ酸ハライドからなる物質（以下、第１工程物質
   という。）を加え、所定の塩基又は所定の縮合剤と所定
   の塩基の存在下反応させ、上記反応により合成された 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は前記同様。Ｘは所定のα−ア
   ミノ基の保護基又はＮ−保護−α−アミノ酸残基を表わ
   す。）にて示されるＮ−Ｘ−Ｎ−カルボキシ−α，β−
   デヒドロ−α−アミノ酸無水物に求核性を有する物質か
   らなる所定の物質（以下、第２工程物質という。）を加
   え、所定の塩基存在下反応させる工程からなり、前記２
   つの工程が同一系内で行なわれることを特徴とするα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の製
   造方法。 （２）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は前記同様、Ｘ＿１はα−アミ
   ノ酸のα−アミノ基のアシル型保護基を表わす。 Ｙ＿１は第３級アルキル基を除く低級アルキル基を表わ
   す。）にて示されるＮ−保護−α，β−デヒドロ−α−
   アミノ酸エステル誘導体のとき、第１工程物質がアミノ
   基の保護化剤であってアシル型となるものであり、第２
   工程物質が第３級アルキルアルコールを除く低級アルキ
   ルアルコールである特許請求の範囲第１項記載のα，β
   −デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造
   方法（３）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２及びＸ＿１は前記同様、Ｙ＿２
   は水素原子を表わす。）にて示されるＮ−保護−α，β
   −デヒドロ−α−アミノ酸のとき、第１工程物質がアミ
   ノ基の保護化剤であってアシル型となるものであり、第
   ２工程物質が水である特許請求の範囲第１項記載のα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の製
   造方法。 （４）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２及びＹ＿１は前記同様、Ｘ＿２
   はα−アミノ酸のα−アミノ基のウレタン型保護基を表
   わす。）にて示されるＮ−保護−α，β−デヒドロ−α
   −アミノ酸エステル誘導体のとき、第１工程物質がアミ
   ノ基の保護化剤であってウレタン型となるものであり、
   第２工程物質が第３級アルキルアルコールを除く低級ア
   ルキルアルコールである特許請求の範囲第１項記載のα
   ，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の
   製造方法。 （５）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿２及びＹ＿２は前記同様
   。 ）にて示されるＮ−保護−α，β−デヒドロ−α−アミ
   ノ酸のとき、第１工程物質がアミノ基の保護化剤であっ
   てウレタン型となるものであり、第２工程物質が水であ
   る特許請求の範囲第１項記載のα，β−デヒドロ−α−
   アミノ酸残基を有する特定物質の製造方法。 （６）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２及びＸ＿１は前記同様、Ｙ＿３
   は低級アルキル基を表わす。ＡＡ＿１はα−アミノ酸残
   基を表わす。）にて示されるＮ端のアミノ酸残基がα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端が
   それぞれ保護されたデヒドロジペプチド（Ｎ端はペプチ
   ドのアミノ末端を示し、Ｃ端はペプチドのカルボキシ末
   端を示す。）のとき、第１工程物質がアミノ基の保護化
   剤であってアシル型となるものであり、第２工程物質が
   α−アミノ酸アルキルエステルである特許請求の範囲第
   １項記載のα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有す
   る特定物質の製造方法。 （７）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿１、Ｙ＿３及びＡＡ＿１
   は前記同様。）にて示されるＮ端のアミノ酸残基がα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端が
   それぞれ保護されたデヒドロジペプチドのとき、第１工
   程物質がアミノ基の保護化剤であってアシル型となるも
   のであり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエステ
   ル塩化合物である特許請求の範囲第１項記載のα，β−
   デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造方
   法。 （８）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿２、Ｙ＿３及びＡＡ＿１
   は前記同様。）にて示されるＮ端のアミノ酸残基がα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端が
   それぞれ保護されたデヒドロジペプチドのとき、第１工
   程物質がアミノ基の保護化剤であってウレタン型となる
   ものであり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエス
   テルである特許請求の範囲第１項記載のα，β−デヒド
   ロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造方法。 （９）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿２、Ｙ＿３及びＡＡ＿１
   は前記同様。）にて示されるＮ端のアミノ酸残基がα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端が
   それぞれ保護されたデヒドロジペプチドのとき、第１工
   程物質がアミノ基の保護化剤であってウレタン型となる
   ものであり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエス
   テル塩化合物である特許請求の範囲第１項記載のα，β
   −デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造
   方法。 （１０）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は前記同様。Ｘ＿３はα−アミ
   ノ基のアシル型保護基を表わす。ＡＡ＿２はα−アミノ
   酸残基を表わす。Ｙ＿１は前記同様。）にて示されるＣ
   端のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残
   基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロジ
   ペプチドのとき、第１工程物質がα−アミノ基がアシル
   型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程物質が
   第３級アルキルアルコールを除く低級アルキルアルコー
   ルである特許請求の範囲第１項記載のα，β−デヒドロ
   −α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造方法。 （１１）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿３、Ｙ＿２及びＡＡ＿２
   は前記同様。）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護さ
   れたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質がα−ア
   ミノ基がアシル型保護基で保護されたアミノ酸であり、
   第２工程物質が水である特許請求の範囲第１項記載のα
   ，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の
   製造方法。 （１２）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿２、Ｙ＿１及びＡＡ＿２
   は前記同様。）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端が
   それぞれ保護されたデヒドロジペプチドのとき、第１工
   程物質がα−アミノ基がウレタン型保護基で保護された
   アミノ酸であり、第２工程物質が第３級アルキルアルコ
   ールを除く低級アルキルアルコールである特許請求の範
   囲第１項記載のα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を
   有する特定物質の製造方法。 （１３）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿２、Ｙ＿２及びＡＡ＿２
   は前記同様。）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護さ
   れたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質がα−ア
   ミノ基がウレタン型保護基で保護されたアミノ酸であり
   、第２工程物質が水である特許請求の範囲第１項記載の
   α，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質
   の製造方法。 （１４）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿３及びＹ＿１は前記同様
   。 ＡＡ＿３はα−アミノ酸残基を表わす。）にて示される
   Ｃ端のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸
   残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロ
   ジペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保護−α−アミ
   ノ酸ハライドであってα−アミノ基の保護基がアシル型
   であり、第２工程物質が第３級アルキルアルコールを除
   く低級アルキルアルコールである特許請求の範囲第１項
   記載のα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特
   定物質の製造方法。 （１５）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿３、Ｙ＿２及びＡＡ＿３
   は前記同様。）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護さ
   れたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保
   護−α−アミノ酸ハライドであってα−アミノ基の保護
   基がアシル型であり、第２工程物質が水である特許請求
   の範囲第１項記載のα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残
   基を有する特定物質の製造方法。 （１６）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｙ＿１及びＡＡ＿３は前記同
   様。Ｘ＿４はα−アミノ基のウレタン型保護基を表わす
   。）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα，β−デヒド
   ロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保
   護されたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質がＮ
   −保護−α−アミノ酸ハライドであってα−アミノ基の
   保護基がウレタン型であり、第２工程物質が第３級アル
   キルアルコールを除く低級アルキルアルコールである特
   許請求の範囲第１項記載のα，β−デヒドロ−α−アミ
   ノ酸残基を有する特定物質の製造方法。 （１７）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿４、Ｙ＿２及びＡＡ＿３
   は前記同様。）にて示されるＣ端のアミノ酸残基がα，
   β−デヒドロ−α−アミノ酸残基であり、Ｎ端が保護さ
   れたデヒドロジペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保
   護−α−アミノ酸ハライドであってα−アミノ基の保護
   基がウレタン型であり、第２工程物質が水である特許請
   求の範囲第１項記載のα，β−デヒドロ−α−アミノ酸
   残基を有する特定物質の製造方法。 （１８）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿３、Ｙ＿３、ＡＡ＿１及
   びＡＡ＿２は前記同様。）にて示されるＮ端から２番目
   のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基
   であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリ
   ペプチドのとき、第１工程物質がα−アミノ基がアシル
   型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程物質が
   α−アミノ酸アルキルエステルである特許請求の範囲第
   １項記載のα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有す
   る特定物質の製造方法。 （１９）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿３、Ｙ＿３、ＡＡ＿１及
   びＡＡ＿２は前記同様。）にて示されるＮ端から２番目
   のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基
   であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリ
   ペプチドのとき、第１工程物質がα−アミノ基がアシル
   型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程物質が
   α−アミノ酸アルキルエステル塩化合物である特許請求
   の範囲第１項記載のα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残
   基を有する特定物質の製造方法。 （２０）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿２、Ｙ＿３、ＡＡ＿１及
   びＡＡ＿２は前記同様。）にて示されるＮ端から２番目
   のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基
   であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリ
   ペプチドのとき、第１工程物質がα−アミノ基がウレタ
   ン型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程物質
   がα−アミノ酸アルキルエステルである特許請求の範囲
   第１項記載のα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基を有
   する特定物質の製造方法。 （２１）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿２、Ｙ＿３、ＡＡ＿１及
   びＡＡ＿２は前記同様。）にて示されるＮ端から２番目
   のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基
   であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリ
   ペプチドのとき、第１工程物質がα−アミノ基がウレタ
   ン型保護基で保護されたアミノ酸であり、第２工程物質
   がα−アミノ酸アルキルエステル塩化合物である特許請
   求の範囲第１項記載のα，β−デヒドロ−α−アミノ酸
   残基を有する特定物質の製造方法。 （２２）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿３、Ｙ＿３、ＡＡ＿１及
   びＡＡ＿３は前記同様。）にて示されるＮ端から２番目
   のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基
   であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリ
   ペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保護−α−アミノ
   酸ハライドであって、α−アミノ基の保護基がアシル型
   であり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエステル
   である特許請求の範囲第１項記載のα，β−デヒドロ−
   α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造方法。 （２３）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿３、Ｙ＿３、ＡＡ＿１及
   びＡＡ＿３は前記同様。）にて示されるＮ端から２番目
   のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基
   であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリ
   ペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保護−α−アミノ
   酸ハライドであってα−アミノ基の保護基がアシル型で
   あり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエステル塩
   化合物である特許請求の範囲第１項記載のα，β−デヒ
   ドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造方法。 （２４）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿４、Ｙ＿３、ＡＡ＿１及
   びＡＡ＿３は前記同様。）にて示されるＮ端から２番目
   のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基
   であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリ
   ペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保護−α−アミノ
   酸ハライドであってα−アミノ基の保護基がウレタン型
   であり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエステル
   である特許請求の範囲第１項記載のα，β−デヒドロ−
   α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造方法。 （２５）特定物質が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｘ＿４、Ｙ＿３、ＡＡ＿１及
   びＡＡ＿３は前記同様。）にて示されるＮ端から２番目
   のアミノ酸残基がα，β−デヒドロ−α−アミノ酸残基
   であり、Ｎ、Ｃ両端がそれぞれ保護されたデヒドロトリ
   ペプチドのとき、第１工程物質がＮ−保護−α−アミノ
   酸ハライドであってα−アミノ基の保護基がウレタン型
   であり、第２工程物質がα−アミノ酸アルキルエステル
   塩化合物である特許請求の範囲第１項記載のα，β−デ
   ヒドロ−α−アミノ酸残基を有する特定物質の製造方法
   。