JPS6259283A - セフアロスポリン化合物 - Google Patents
セフアロスポリン化合物Info
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- JPS6259283A JPS6259283A JP60198565A JP19856585A JPS6259283A JP S6259283 A JPS6259283 A JP S6259283A JP 60198565 A JP60198565 A JP 60198565A JP 19856585 A JP19856585 A JP 19856585A JP S6259283 A JPS6259283 A JP S6259283A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はセファロスポリン化合物に関し、詳し［式中、
Ｒ１はヒドロキシ基、低級アルカノイルオキシ基または
低級アルコキシカルボニルオキシ基を、Ｒ２は水素原子
、ヒドロキシ基、低級アルカノイルオキシ基または低級
アルコキシカルボニルオキシ基を、Ｒ３は水素原子、）
１０ゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルコキシ基または式 ＣＨ２Ｒ？ （式中、Ｒ７は水素原子、アジド基、低
級アルカノイルオキシ基、カルバモイルオキシ基、置換
されてもよいピリジニウム基または置換されてもよい複
素環チオ基を示す。）で表わされる基を、Ｒ４は水素原
子またはカルボキシ保護基を、Ｒｓ 、Ｒｅはそれぞれ
水素原子、低級アルキル基またはそれらが結合している
シクロアルキリデン基を、ｍは０または１を表わす。］
で表わされるセファロスポリン化合物及び薬学上許容し
得るそれらの塩に関する。
Ｒ１はヒドロキシ基、低級アルカノイルオキシ基または
低級アルコキシカルボニルオキシ基を、Ｒ２は水素原子
、ヒドロキシ基、低級アルカノイルオキシ基または低級
アルコキシカルボニルオキシ基を、Ｒ３は水素原子、）
１０ゲン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低
級アルコキシ基または式 ＣＨ２Ｒ？ （式中、Ｒ７は水素原子、アジド基、低
級アルカノイルオキシ基、カルバモイルオキシ基、置換
されてもよいピリジニウム基または置換されてもよい複
素環チオ基を示す。）で表わされる基を、Ｒ４は水素原
子またはカルボキシ保護基を、Ｒｓ 、Ｒｅはそれぞれ
水素原子、低級アルキル基またはそれらが結合している
シクロアルキリデン基を、ｍは０または１を表わす。］
で表わされるセファロスポリン化合物及び薬学上許容し
得るそれらの塩に関する。
本発明者等は一般式■で表わされるセファロスポリン化
合物がダラム陽性菌の他、緑膿菌を含めたダラム陰性菌
に広範囲な抗菌作用を有することを見いだし、本発明を
完成するに至った。本発明について以下さらに詳しく説
明する。
合物がダラム陽性菌の他、緑膿菌を含めたダラム陰性菌
に広範囲な抗菌作用を有することを見いだし、本発明を
完成するに至った。本発明について以下さらに詳しく説
明する。
一般式ＩにおけるＲ１の低級アルカノイルオキシ基とし
ては例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバ
ロイルオキシ基などを、低級アルコキシカルボニルオキ
シ基としては例えばメトキシカルボニルオキシ基、エト
キシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキ
シ基などを表わす。Ｒ２の低級アルカノイルオキシ基と
しては例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピ
バロイルオキシ基などを、低級アルコキシカルボニルオ
キシ基としては例えばメトキシカルボニルオキシ基、エ
トキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオ
キシ基などを表わす。Ｒ３のハロゲン原子としては例え
ばフッ素、塩素などを、低級アルキル基としては例えば
メチル基、エチル基などを、低級アルケニル基としては
例えばビニル基などを、低級アルコキシ基として番よ例
えばメトキシ基、エトキシ基などを表わす。Ｒ７の低級
アルカノイルオキシ基としては例えばアセトキシ基など
を、置換されてもよいピリジニウム基としては例えば４
−スルホエチルピリジニウム基などを、置換されてもよ
い複素環チオ基としては例えば１−メチル−ＩＨ−テト
ラゾール−５−イルチオ基、１−（２−Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアミノ）エチルーＩＨ−テトラゾールー５−イルチオ
基、１−力ルボキシメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−
イルチオ基、２−メチル−１，３，４−チアジアゾール
−５−イルチオ基、２，５−ジヒドロ−６−ヒドロキシ
−２−メチル−５−オキソ−ａｓ−トリアジン−３−イ
ルチオ基などを表わす。Ｒ４のカルボキシ保護基として
は例えばｔ−ブチル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキ
シベンジル基、を−ブチルジメチルシリル基、トリメチ
ルシリル基、ｐ−ニトロベンジル基など化学的に容易に
除去しうる基、ピバロイルオキシメチル基、アセトキシ
メチル基など生理学的条件下に分解され得る基を表わす
。Ｒ５及びＲ８の低級アルキル基としては例えばメチル
基、エチル基などを、それらが結合しているシクロアル
キリデン基としては例えばシクロプロピリデン基などを
表わす。
ては例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバ
ロイルオキシ基などを、低級アルコキシカルボニルオキ
シ基としては例えばメトキシカルボニルオキシ基、エト
キシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキ
シ基などを表わす。Ｒ２の低級アルカノイルオキシ基と
しては例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピ
バロイルオキシ基などを、低級アルコキシカルボニルオ
キシ基としては例えばメトキシカルボニルオキシ基、エ
トキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオ
キシ基などを表わす。Ｒ３のハロゲン原子としては例え
ばフッ素、塩素などを、低級アルキル基としては例えば
メチル基、エチル基などを、低級アルケニル基としては
例えばビニル基などを、低級アルコキシ基として番よ例
えばメトキシ基、エトキシ基などを表わす。Ｒ７の低級
アルカノイルオキシ基としては例えばアセトキシ基など
を、置換されてもよいピリジニウム基としては例えば４
−スルホエチルピリジニウム基などを、置換されてもよ
い複素環チオ基としては例えば１−メチル−ＩＨ−テト
ラゾール−５−イルチオ基、１−（２−Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルアミノ）エチルーＩＨ−テトラゾールー５−イルチオ
基、１−力ルボキシメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−
イルチオ基、２−メチル−１，３，４−チアジアゾール
−５−イルチオ基、２，５−ジヒドロ−６−ヒドロキシ
−２−メチル−５−オキソ−ａｓ−トリアジン−３−イ
ルチオ基などを表わす。Ｒ４のカルボキシ保護基として
は例えばｔ−ブチル基、ベンズヒドリル基、ｐ−メトキ
シベンジル基、を−ブチルジメチルシリル基、トリメチ
ルシリル基、ｐ−ニトロベンジル基など化学的に容易に
除去しうる基、ピバロイルオキシメチル基、アセトキシ
メチル基など生理学的条件下に分解され得る基を表わす
。Ｒ５及びＲ８の低級アルキル基としては例えばメチル
基、エチル基などを、それらが結合しているシクロアル
キリデン基としては例えばシクロプロピリデン基などを
表わす。
一般式Ｉで表わされるセファロスポリン化合物の薬学上
許容し得る塩としては例えばナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属塩、カルシウム、マグネシウムなどのア
ルカリ土類金属塩、アンモニラム塩などの無機塩基との
塩、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジェタノー
ルアミン、トリエタノールアミンなどの有機アミンとの
塩、塩酸、硫酸などの鉱酸との塩、シュウ酸、ギ酸、ト
リクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸
との塩、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの
有機スルホン酸との塩が挙げられる。
許容し得る塩としては例えばナトリウム、カリウムなど
のアルカリ金属塩、カルシウム、マグネシウムなどのア
ルカリ土類金属塩、アンモニラム塩などの無機塩基との
塩、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジェタノー
ルアミン、トリエタノールアミンなどの有機アミンとの
塩、塩酸、硫酸などの鉱酸との塩、シュウ酸、ギ酸、ト
リクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸
との塩、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの
有機スルホン酸との塩が挙げられる。
一般式Ｉで表わされるセファロスポリン化合物は例えば
以下に示すＡ法又はＢ法により合成することができる。
以下に示すＡ法又はＢ法により合成することができる。
（Ａ法）
（Ｒａ−Ｃ−Ｒ６）ｖｎ ” ［ｍｌまた
はその塩類一般式口］で表わされる化合物 またはその塩類 （上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒｓ、Ｒｅ、ｍ
は前記と同意義、Ｒ８はアミノ保護基、例えばクロロア
セチル基、ホルミル基、トリフェニルメチル基、ｔ−ブ
トキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル基、トリメチルシリル基などを意味する。） 第一の工程は一般式口で示されるカルボン酸またはその
塩あるいはカルボン酸の反応性誘導体と、一般式■で示
されるアミノ化合物またはその塩類を縮合する工程であ
る。一般式■がカルボン酸またはその塩の状態で使用さ
れる場合は適当な縮合剤を用いる。縮合剤としては例え
ばＮ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミドなどのよ
うなＮ。
はその塩類一般式口］で表わされる化合物 またはその塩類 （上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒｓ、Ｒｅ、ｍ
は前記と同意義、Ｒ８はアミノ保護基、例えばクロロア
セチル基、ホルミル基、トリフェニルメチル基、ｔ−ブ
トキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル基、トリメチルシリル基などを意味する。） 第一の工程は一般式口で示されるカルボン酸またはその
塩あるいはカルボン酸の反応性誘導体と、一般式■で示
されるアミノ化合物またはその塩類を縮合する工程であ
る。一般式■がカルボン酸またはその塩の状態で使用さ
れる場合は適当な縮合剤を用いる。縮合剤としては例え
ばＮ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイミドなどのよ
うなＮ。
Ｎ＃−ジ置換カルボジイミド、Ｎ−エトキシカルボニル
−２−エトキシ−１，２−ジヒドロキノリン、オキシ塩
化リン、塩化チオニル、オキザルクロリドなどが用いら
れる。また一般式■で示されるカルボン酸の反応性誘導
体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物
、活性エステルなどが挙げられる。
−２−エトキシ−１，２−ジヒドロキノリン、オキシ塩
化リン、塩化チオニル、オキザルクロリドなどが用いら
れる。また一般式■で示されるカルボン酸の反応性誘導
体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、混合酸無水物
、活性エステルなどが挙げられる。
一般式■の塩類としてはナトリウム塩、カリウム塩、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩などの無機塩、トリエチル
アミン、トリエタノールアミンなどの有機塩基との塩が
挙げられる。上記縮合反応は一般に塩基の存在または非
存在下、適当な溶媒中で一５０℃〜５０℃の範囲内で行
うことができる。
ルシウム塩、マグネシウム塩などの無機塩、トリエチル
アミン、トリエタノールアミンなどの有機塩基との塩が
挙げられる。上記縮合反応は一般に塩基の存在または非
存在下、適当な溶媒中で一５０℃〜５０℃の範囲内で行
うことができる。
塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムなどの無機塩基、またはトリメチルアミン
、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン
、ジメチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジエチル
アミンなどの有機塩基が挙げられる。溶媒としてはテト
ラヒ、ドロフラン、ジオキサン、クロロホルム、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、
アセトン、水またはこれらの混合物が用いられる。
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムなどの無機塩基、またはトリメチルアミン
、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン
、ジメチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジエチル
アミンなどの有機塩基が挙げられる。溶媒としてはテト
ラヒ、ドロフラン、ジオキサン、クロロホルム、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、酢酸エチル、
アセトン、水またはこれらの混合物が用いられる。
一般式■の化合物またはその反応性誘導体の使用量は一
般式口の化合物１モルに対し、通常１ないし数モル程度
である。反応時間は通常１０９〜４８時間である。脱保
護工程はアミノ基またはカルボキシ基の保護基の特性に
基いて、常法により一般式■中のアミノ保護基Ｒ６及び
カルボキシ保護基Ｒ４を除去することにより行なうこと
ができる。
般式口の化合物１モルに対し、通常１ないし数モル程度
である。反応時間は通常１０９〜４８時間である。脱保
護工程はアミノ基またはカルボキシ基の保護基の特性に
基いて、常法により一般式■中のアミノ保護基Ｒ６及び
カルボキシ保護基Ｒ４を除去することにより行なうこと
ができる。
（Ｂ法）
またはその塩類
（式中、Ｒｓ、Ｒり、Ｒ３，Ｒ４、Ｒ５，Ｒ，、Ｒｓ、
ｍは前記と同意義、Ｘはハロゲン原子を示す。） 縮合工程は、一般式■で示されるヒドロキシイミノ化合
物と、一般式■で示される化合物を塩基の存在下、もし
くは非存在下、適当な溶媒中で一５０℃〜５０℃の範囲
内で反応させることにより行なうことができる。塩基の
存在下で反応させる場合、使用される塩基はＡ法の縮合
工程で使用されるものと同様のものが使用できる。一般
式■で表わされる化合物の使用量は通常一般式■の化合
物１モルに対し１ないし数モル程度である。反応時間は
通常１０分〜４８時間である。脱保護工程はＡ法で示さ
れた方法と同様に実施することができる。
ｍは前記と同意義、Ｘはハロゲン原子を示す。） 縮合工程は、一般式■で示されるヒドロキシイミノ化合
物と、一般式■で示される化合物を塩基の存在下、もし
くは非存在下、適当な溶媒中で一５０℃〜５０℃の範囲
内で反応させることにより行なうことができる。塩基の
存在下で反応させる場合、使用される塩基はＡ法の縮合
工程で使用されるものと同様のものが使用できる。一般
式■で表わされる化合物の使用量は通常一般式■の化合
物１モルに対し１ないし数モル程度である。反応時間は
通常１０分〜４８時間である。脱保護工程はＡ法で示さ
れた方法と同様に実施することができる。
本発明によって得られる一般式ｌの化合物は第１表に示
すごとく優れた抗菌活性を示すことが明らかであり１例
えば黄色ブドウ状球菌などのグラム陽性菌及び大腸菌、
変形菌、緑膿菌などのグラム陰性菌による細菌感染症の
治療に対して極めて顕著な効果を有するものである。
すごとく優れた抗菌活性を示すことが明らかであり１例
えば黄色ブドウ状球菌などのグラム陽性菌及び大腸菌、
変形菌、緑膿菌などのグラム陰性菌による細菌感染症の
治療に対して極めて顕著な効果を有するものである。
なお、比較物質として下記構造を有するセフオタキシム
を用いた。
を用いた。
（Ｊｉ３
第１表 最小阻止濃度（μｇ／ｍＱ）
次に参考例及び実施例を挙げて本発明を説明する。
参考例１
２−（２−クロロアセトアミドオキサゾール−４−イル
）−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキ（１）３，４
．５−トリアセトキシ安息香酸１゜３３ｇをベンゼン１
５ｍＱに懸濁しジメチルホルムアミド０．０５ｍＱ及び
チオニルクロリド１．６３ ｍ Ｑを加え１時間加熱還
流する。反応後、溶媒を留−去し得られた酸クロリドを
テトラヒドロフラン５ ｍ Ｑに溶かす。
）−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキ（１）３，４
．５−トリアセトキシ安息香酸１゜３３ｇをベンゼン１
５ｍＱに懸濁しジメチルホルムアミド０．０５ｍＱ及び
チオニルクロリド１．６３ ｍ Ｑを加え１時間加熱還
流する。反応後、溶媒を留−去し得られた酸クロリドを
テトラヒドロフラン５ ｍ Ｑに溶かす。
これに２−（２−クロロアセトアミドオキサゾールー４
−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノ酢酸ベンズヒドリ
ルエステル１．２４ｇをテトラヒドロフラン１５ｍΩに
溶かし、ピリジン１．５ｍＱを加え、水冷撹拌下、上記
で調製した酸クロリド溶液を加え水冷下２０分撹拌する
。
−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノ酢酸ベンズヒドリ
ルエステル１．２４ｇをテトラヒドロフラン１５ｍΩに
溶かし、ピリジン１．５ｍＱを加え、水冷撹拌下、上記
で調製した酸クロリド溶液を加え水冷下２０分撹拌する
。
反応後、反応液に氷水及び酢酸エチル５０ｍＱを加えｌ
Ｎ−塩酸１５ ｍ Ｑで酸性とする。有機層を分取し水
層をさらに酢酸エチル５０ｍ１２で抽出し有機層をまと
め、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
減圧乾固する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付しクロロホルム：アセトン＝３０：１〜２０
：１で溶出する目的物の分画を集め減圧乾固し残留物を
少量の酢酸エチルに溶かしｎ−ヘキサン中に滴下すると
２−（２−クロロアセトアミドオキサゾール−４−イル
）−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキシベンゾイル
オキシイミノ）酢酸ベンズヒドリルエステルが沈殿する
ので濾取する。収量２．０７ｇ。この沈殿は少量のｎ−
ヘキサンを含有する。
Ｎ−塩酸１５ ｍ Ｑで酸性とする。有機層を分取し水
層をさらに酢酸エチル５０ｍ１２で抽出し有機層をまと
め、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後
減圧乾固する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付しクロロホルム：アセトン＝３０：１〜２０
：１で溶出する目的物の分画を集め減圧乾固し残留物を
少量の酢酸エチルに溶かしｎ−ヘキサン中に滴下すると
２−（２−クロロアセトアミドオキサゾール−４−イル
）−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキシベンゾイル
オキシイミノ）酢酸ベンズヒドリルエステルが沈殿する
ので濾取する。収量２．０７ｇ。この沈殿は少量のｎ−
ヘキサンを含有する。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｖ （ｃｍ−’）：１７９０，１６３０
，１４４０゜１３７５．１３３０，１１９Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ ３ ）δ（ｐｐｍ）：２．３０ （
９Ｈ，ｓ、３ＸＯＡｃ） ４．３１ （２Ｈ，ｓ、ＣＱＣＨｓ＝Ｃ○）７．２１
（ＩＨ，ｓ、ＰｈｚＣ旦） ７、２９ （１０Ｈ，ｓ、 Ｐｈ２ＣＨ）７．６３ （
２Ｈ，ｓ、芳香環ＣＨ） ７．８５ （ＬＨ，ｓ、オキサゾール５−ＣＨ）（２）
参考例１−（１）で得られる化合物２．０７ｇにアニソ
ール２ ｍ Ｑ及びトリフルオロ酢酸１０ｍＱを加え室
温で３０分撹拌する。反応後、反応液を減圧濃縮しエチ
ルエーテル５０ｍＱを加えると２−（２−クロロアセト
アミドオキサゾール−４−イル） −２−Ｚ −（３，
４，５−トリアセトキシベンゾイルオキシイミノ）酢酸
が沈殿するので濾取する。収量１．２５ｇ。
，１４４０゜１３７５．１３３０，１１９Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ ３ ）δ（ｐｐｍ）：２．３０ （
９Ｈ，ｓ、３ＸＯＡｃ） ４．３１ （２Ｈ，ｓ、ＣＱＣＨｓ＝Ｃ○）７．２１
（ＩＨ，ｓ、ＰｈｚＣ旦） ７、２９ （１０Ｈ，ｓ、 Ｐｈ２ＣＨ）７．６３ （
２Ｈ，ｓ、芳香環ＣＨ） ７．８５ （ＬＨ，ｓ、オキサゾール５−ＣＨ）（２）
参考例１−（１）で得られる化合物２．０７ｇにアニソ
ール２ ｍ Ｑ及びトリフルオロ酢酸１０ｍＱを加え室
温で３０分撹拌する。反応後、反応液を減圧濃縮しエチ
ルエーテル５０ｍＱを加えると２−（２−クロロアセト
アミドオキサゾール−４−イル） −２−Ｚ −（３，
４，５−トリアセトキシベンゾイルオキシイミノ）酢酸
が沈殿するので濾取する。収量１．２５ｇ。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｖ （ｃｍ−’）：１７９０，１６２０
，１５６０゜１５００．１４４０，１３８０，１３３０
，１１９ＯＮＭＲ（ＣＤＣＱ３ ： ＤＭＳＯｄｏ ＝
４ ： １）δ（ｐｐｍ）：２、３１ （９Ｈ，ｓ、
３ｘ○Ａ ｃ ）４．２８ （２Ｈ，ｓ、ＣＱＣＨ２Ｃ
○）７．８１ （２Ｈ，ｓ、芳香環ＣＨ）８．１１
（ＩＨ，ｓ、オキサゾール５−ＣＨ）参考例２ ７β−［２−（２−クロロアセトアミドオキサゾール−
４−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノアセトアミド］
−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニルメチル−
ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの合成 （１）２− （２−クロロアセトアミドオキサゾール−
４−イル）−２−Ｚ−（２−テトラヒトピラニルオキシ
イミノ）酢酸１．６９ｇ及び７β−アミノ−３−（１−
ベンズヒドリルオキシカルボニルメチル−ＩＨ−テトラ
ゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル３．５２ｇをジメチル
ホルムアミド２ ｍ Ｑとテトラヒドロフラン２０ｍＡ
の混合槽＝１６− 液に溶かし、水冷撹拌下、ジシクロへキシルカルボジイ
ミド１．０３ｇを加え、水冷下１時間撹拌する。
，１５６０゜１５００．１４４０，１３８０，１３３０
，１１９ＯＮＭＲ（ＣＤＣＱ３ ： ＤＭＳＯｄｏ ＝
４ ： １）δ（ｐｐｍ）：２、３１ （９Ｈ，ｓ、
３ｘ○Ａ ｃ ）４．２８ （２Ｈ，ｓ、ＣＱＣＨ２Ｃ
○）７．８１ （２Ｈ，ｓ、芳香環ＣＨ）８．１１
（ＩＨ，ｓ、オキサゾール５−ＣＨ）参考例２ ７β−［２−（２−クロロアセトアミドオキサゾール−
４−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノアセトアミド］
−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニルメチル−
ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの合成 （１）２− （２−クロロアセトアミドオキサゾール−
４−イル）−２−Ｚ−（２−テトラヒトピラニルオキシ
イミノ）酢酸１．６９ｇ及び７β−アミノ−３−（１−
ベンズヒドリルオキシカルボニルメチル−ＩＨ−テトラ
ゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリルエステル３．５２ｇをジメチル
ホルムアミド２ ｍ Ｑとテトラヒドロフラン２０ｍＡ
の混合槽＝１６− 液に溶かし、水冷撹拌下、ジシクロへキシルカルボジイ
ミド１．０３ｇを加え、水冷下１時間撹拌する。
反応後、析出した尿素の結晶を濾別し、濾液を減圧濃縮
後、水を加え酢酸エチル１００ｍＱで２回抽出する。
後、水を加え酢酸エチル１００ｍＱで２回抽出する。
有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧乾固する。
シウムで乾燥し、減圧乾固する。
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付しク
ロロホルム：アセトン＝２０：１〜１ｏ：１で溶出する
目的物の分画を集め減圧乾固し、酢酸エチル２０ ｍ
Ｑに溶かしｎ−ヘキサン中に滴下すると７β−［２−（
２−クロロアセトアミドオキサゾール−４−イル）−２
−Ｚ−（２−テトラヒドロピラニルオキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニ
ルメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ルが沈殿するので濾取する。収量３．１４ｇ ・ ＩＲ（ＫＢｒ）ν（ｃｍ−’）：１７９５，１７６５，
１７４０゜１７００，１６３Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ （ｐｐｍ）：５−０６ （２
Ｈ＊ ８． テトラゾ−）Ｌｔ Ｉ ＣＨ２Ｃｏｏ
）５．３３ （ＩＨ，ｂｒ ｓ、０ＣＨＯ）６．９２
，６．９５ （２Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、Ｐｈ２Ｇ旦）７
．２７，７．３４ （２０Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、Ｐｈ２
ＣＨ）７．９６，７．９３ （ＩＨ，ｓ、オキサゾール
５−ＣＨ）（２）参考例２− （１）で得られる化合
物５．００ｇをアニソール１０ ｍ Ｑ及びトリフルオ
ロ酢酸３０ｍＱの混合溶液に溶かし室温で３０分撹拌す
る。次いでジイソプロピルエーテル２００ｍＱに反応溶
液をあけると７β−［２−（２−クロロアセトアミドオ
キサゾール−４−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノア
セトアミド］ −３−（１−カルボキシメチル−ＩＨ−
テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸が沈殿するので濾取する。
ロロホルム：アセトン＝２０：１〜１ｏ：１で溶出する
目的物の分画を集め減圧乾固し、酢酸エチル２０ ｍ
Ｑに溶かしｎ−ヘキサン中に滴下すると７β−［２−（
２−クロロアセトアミドオキサゾール−４−イル）−２
−Ｚ−（２−テトラヒドロピラニルオキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニ
ルメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ルが沈殿するので濾取する。収量３．１４ｇ ・ ＩＲ（ＫＢｒ）ν（ｃｍ−’）：１７９５，１７６５，
１７４０゜１７００，１６３Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ （ｐｐｍ）：５−０６ （２
Ｈ＊ ８． テトラゾ−）Ｌｔ Ｉ ＣＨ２Ｃｏｏ
）５．３３ （ＩＨ，ｂｒ ｓ、０ＣＨＯ）６．９２
，６．９５ （２Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、Ｐｈ２Ｇ旦）７
．２７，７．３４ （２０Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、Ｐｈ２
ＣＨ）７．９６，７．９３ （ＩＨ，ｓ、オキサゾール
５−ＣＨ）（２）参考例２− （１）で得られる化合
物５．００ｇをアニソール１０ ｍ Ｑ及びトリフルオ
ロ酢酸３０ｍＱの混合溶液に溶かし室温で３０分撹拌す
る。次いでジイソプロピルエーテル２００ｍＱに反応溶
液をあけると７β−［２−（２−クロロアセトアミドオ
キサゾール−４−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノア
セトアミド］ −３−（１−カルボキシメチル−ＩＨ−
テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸が沈殿するので濾取する。
収量４．５４ｇ。
次いでこの化合物２．９１ｇをアセトン３０ｍＱに溶か
し、ジフェニルジアゾメタンを赤色が消えなくなるまで
少量づつ加える。反応後、溶媒を減圧留去し、残渣を酢
酸エチル２０ ｍ Ｑに溶かし、エチルエーテル１００
ｍ Ｑ中に滴下し、ｎ−ヘキサン５０ ｍ Ｑを加え
生成した７β−［２−（２−クロロアセトアミドオキサ
ゾール−４−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノアセト
アミド］−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル
メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
の沈殿を濾取する。
し、ジフェニルジアゾメタンを赤色が消えなくなるまで
少量づつ加える。反応後、溶媒を減圧留去し、残渣を酢
酸エチル２０ ｍ Ｑに溶かし、エチルエーテル１００
ｍ Ｑ中に滴下し、ｎ−ヘキサン５０ ｍ Ｑを加え
生成した７β−［２−（２−クロロアセトアミドオキサ
ゾール−４−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノアセト
アミド］−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル
メチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
の沈殿を濾取する。
収量３．２９ｇ。
ＩＲ（ＫＢｒ）ν（Ｃｍ−’）：１７９０，１７６０，
１７４０゜１６２５．１３８０，１２４Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ（ｐｐｍ）： ６、８９．６．９２ （２Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、 Ｐｈ
＋ ＣＨ）７、２６ （２０Ｈ，８，Ｐｈ２ＣＨ）７．
９６ （ＩＨ，８，オキサゾール ５−ＣＨ）１９一 実施例１ ボン酸の合成： （１）参考例１で得られる２−（２−クロロアセトアミ
ドオキサゾール−４−イル）−２−Ｚ−（３，４，５−
トリアセトキシベンゾイルオキシイミノ）酢酸１９．１
５ｇ及び７−アミノ−３−（ｌ−ベンズヒドリルオキシ
カルボニルメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チ
オメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルニスチル２５．６７ｇをテトラヒドロフラン１００ｍ
Ｑに溶かし、酢酸エチル２００ ｍ Ｑ及びジシクロへ
キシルカルボジイミド７．８９ｇを加え室温で１時間撹
拌する。反応後、生成した尿素の結晶を濾別し、濾液を
減圧乾固しシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す
。クロロホルム：アセトン＝１０：１〜５：１で溶出す
る目的物を含む両分を集め減圧乾固し残渣を少量の酢酸
エチルに溶かしｎ−ヘキサン中に滴下すると７β−［２
−（２−クロロアセトアミドオキサゾール−４−イル）
−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキシベンゾイルオ
キシイミノ）アセトアミド］−３−（１−ベンズヒドリ
ルオキシカルボニルメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステルが沈殿するので濾取する。収量２１
．８０ｇ。
１７４０゜１６２５．１３８０，１２４Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３）δ（ｐｐｍ）： ６、８９．６．９２ （２Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、 Ｐｈ
＋ ＣＨ）７、２６ （２０Ｈ，８，Ｐｈ２ＣＨ）７．
９６ （ＩＨ，８，オキサゾール ５−ＣＨ）１９一 実施例１ ボン酸の合成： （１）参考例１で得られる２−（２−クロロアセトアミ
ドオキサゾール−４−イル）−２−Ｚ−（３，４，５−
トリアセトキシベンゾイルオキシイミノ）酢酸１９．１
５ｇ及び７−アミノ−３−（ｌ−ベンズヒドリルオキシ
カルボニルメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チ
オメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ルニスチル２５．６７ｇをテトラヒドロフラン１００ｍ
Ｑに溶かし、酢酸エチル２００ ｍ Ｑ及びジシクロへ
キシルカルボジイミド７．８９ｇを加え室温で１時間撹
拌する。反応後、生成した尿素の結晶を濾別し、濾液を
減圧乾固しシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付す
。クロロホルム：アセトン＝１０：１〜５：１で溶出す
る目的物を含む両分を集め減圧乾固し残渣を少量の酢酸
エチルに溶かしｎ−ヘキサン中に滴下すると７β−［２
−（２−クロロアセトアミドオキサゾール−４−イル）
−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキシベンゾイルオ
キシイミノ）アセトアミド］−３−（１−ベンズヒドリ
ルオキシカルボニルメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステルが沈殿するので濾取する。収量２１
．８０ｇ。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｖ （ｃｍ−’）：１７９０，１６３０
゜１３７５．１３３０，１１８５ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ ３ ）δ（ｐｐｍ）：２．１４，２
．２８ （９Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、３ＸＯＡｃ）５．０
７ （２Ｈ，Ｓ、ＣＨ２Ｃ０２）６．９０，６．９７
（２Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、Ｐｈ２Ｃ旦）７．２６，７．３
４ （２０Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、Ｐ九２ＣＨ）７．７９
（２Ｈ，ｓ、芳香環 ＣＨ）７．９３ （ＩＨ，ｓ、オ
キサゾール ５−ＣＨ）（２）実施例１− （１）で得
られる化合物４．８５ｇをジメチルホルムアミド５０ｍ
Ｑに溶かし、チオ尿素１．５２ｇを加え室温で１．５時
間撹拌する。反応後、反応液にアセトン１００ ｍ Ｑ
、０゜５Ｎ−炭酸水素ナトリウム水溶液８ ｍ Ｑ及び
酢酸エチル１００ ｍ Ｑを加え、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、洗液を酢酸エチル１００ ｍ Ｑで抽出し、
有機層を合わせ無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減
圧留去する。残渣をセファデックスＬＨ−２０カラムク
ロマトグラフィーに付しアセトンで溶出し、目的物を含
む分画を集め溶媒を減圧留去する。
゜１３７５．１３３０，１１８５ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ ３ ）δ（ｐｐｍ）：２．１４，２
．２８ （９Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、３ＸＯＡｃ）５．０
７ （２Ｈ，Ｓ、ＣＨ２Ｃ０２）６．９０，６．９７
（２Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、Ｐｈ２Ｃ旦）７．２６，７．３
４ （２０Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、Ｐ九２ＣＨ）７．７９
（２Ｈ，ｓ、芳香環 ＣＨ）７．９３ （ＩＨ，ｓ、オ
キサゾール ５−ＣＨ）（２）実施例１− （１）で得
られる化合物４．８５ｇをジメチルホルムアミド５０ｍ
Ｑに溶かし、チオ尿素１．５２ｇを加え室温で１．５時
間撹拌する。反応後、反応液にアセトン１００ ｍ Ｑ
、０゜５Ｎ−炭酸水素ナトリウム水溶液８ ｍ Ｑ及び
酢酸エチル１００ ｍ Ｑを加え、水、飽和食塩水で順
次洗浄し、洗液を酢酸エチル１００ ｍ Ｑで抽出し、
有機層を合わせ無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を減
圧留去する。残渣をセファデックスＬＨ−２０カラムク
ロマトグラフィーに付しアセトンで溶出し、目的物を含
む分画を集め溶媒を減圧留去する。
残渣を少量の酢酸エチルに溶かしｎ−ヘキサン中に滴下
すると７β−［２−（２−アミノオキサゾール−４−イ
ル）−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキシベンゾイ
ルオキシイミノ）アセトアミド］ −３−（１−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニルメチル−ＩＨ−テトラゾール
−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステルが沈殿するので濾取する。収
量２．４８ｇ。
すると７β−［２−（２−アミノオキサゾール−４−イ
ル）−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキシベンゾイ
ルオキシイミノ）アセトアミド］ −３−（１−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニルメチル−ＩＨ−テトラゾール
−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリルエステルが沈殿するので濾取する。収
量２．４８ｇ。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｖ （ｃｍ−’）：１７９０，１６７０
゜１３７５．１３３０，１１８５ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３ ）δ（ｐｐｍ）：２、１３．２．
２８ （９Ｈ，ｓ、 ３ＸＯＡｃ）３、６０ （２Ｈ，
ｂｒ ｓ、 ２−ＣＨ２）５、０８ （２Ｈ，ｓ 、
ＣＨ２ＣＯ＊ ）６、９０．７．００ （２Ｈ，ｅａ
ｃｈ ｓ、 Ｐｈｚ Ｃ旦）７、２７．７．３５ （２
０Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、ハ４ＩＣＨ）７．５７ （ＩＨ，
ｓ、オキサゾール ５−ＣＨ）７．８２ （２Ｈ，ｓ、
芳香環 ＣＨ）（３）実施例１−（２）で得られる化合
物２．３８ｇにアニソール１ ｍ Ｑ及びトリフルオロ
酢酸５ｍＱを加え室温で３０分撹拌し、反応液にエチル
エーテル５０ ｍ Ｑ及びｎ−ヘキサン２０ ｍ Ｑを
加えると７β−［２−（２−アミノオキサゾール−４−
イル）−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキシベンゾ
イルオキシイミノ）アセトアミド］−３−（１−カルボ
キシメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸のトリフルオロ酢酸
塩が沈殿するので濾取する。収量１．７７ｇ。
゜１３７５．１３３０，１１８５ ＮＭＲ（ＣＤＣＱ３ ）δ（ｐｐｍ）：２、１３．２．
２８ （９Ｈ，ｓ、 ３ＸＯＡｃ）３、６０ （２Ｈ，
ｂｒ ｓ、 ２−ＣＨ２）５、０８ （２Ｈ，ｓ 、
ＣＨ２ＣＯ＊ ）６、９０．７．００ （２Ｈ，ｅａ
ｃｈ ｓ、 Ｐｈｚ Ｃ旦）７、２７．７．３５ （２
０Ｈ，ｅａｃｈ ｓ、ハ４ＩＣＨ）７．５７ （ＩＨ，
ｓ、オキサゾール ５−ＣＨ）７．８２ （２Ｈ，ｓ、
芳香環 ＣＨ）（３）実施例１−（２）で得られる化合
物２．３８ｇにアニソール１ ｍ Ｑ及びトリフルオロ
酢酸５ｍＱを加え室温で３０分撹拌し、反応液にエチル
エーテル５０ ｍ Ｑ及びｎ−ヘキサン２０ ｍ Ｑを
加えると７β−［２−（２−アミノオキサゾール−４−
イル）−２−Ｚ−（３，４，５−トリアセトキシベンゾ
イルオキシイミノ）アセトアミド］−３−（１−カルボ
キシメチル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸のトリフルオロ酢酸
塩が沈殿するので濾取する。収量１．７７ｇ。
ＩＲ（ＫＢｒ）ｖ （Ｃｍ”）：１７９０，１７４０，
１４４０゜１３８０．１３３０，１１９Ｏ ＮＭＲ［（ＣＤ３ ） ３ Ｃｏ］δ（ｐｐｍ）：２．
３０ （９Ｈ，ｓ、３ＸＯＡｃ） ３、６８ （２Ｈ，ｂｒ ８．２−ＣＨ２）６．８０
（２Ｈ，ｓ、テトラゾ−／Ｌ／ Ｉ ＣＨ２Ｃｏ
ｏ）７．６８ （ＬＨ，ｓ、オキサゾール ５−ＣＨ）
７．８７ （２Ｈ，Ｓ、芳香環 ＣＨ）上記トリフルオ
ロ酢酸塩１．６９ｇを水に懸濁し、０．５Ｎ−炭酸水素
ナトリウム水溶液７．３６ ｍ Ｑを少量づつ加え、少
量の不溶物を濾別後アンバーライトＸＡＤ−２カラムク
ロマトグラフィーに付す。エタノール：水＝４＝１の溶
出部を集め減圧濃縮後凍結乾燥すると７β−［２−（２
−アミノオキサゾール−４−イル） −２−Ｚ−（３゜
４．５−トリアセトキシベンゾイルオキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（１−カルボキシメチル−ＩＨ−テト
ラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸のナトリウム塩が１゜１５ｇ得られる。
１４４０゜１３８０．１３３０，１１９Ｏ ＮＭＲ［（ＣＤ３ ） ３ Ｃｏ］δ（ｐｐｍ）：２．
３０ （９Ｈ，ｓ、３ＸＯＡｃ） ３、６８ （２Ｈ，ｂｒ ８．２−ＣＨ２）６．８０
（２Ｈ，ｓ、テトラゾ−／Ｌ／ Ｉ ＣＨ２Ｃｏ
ｏ）７．６８ （ＬＨ，ｓ、オキサゾール ５−ＣＨ）
７．８７ （２Ｈ，Ｓ、芳香環 ＣＨ）上記トリフルオ
ロ酢酸塩１．６９ｇを水に懸濁し、０．５Ｎ−炭酸水素
ナトリウム水溶液７．３６ ｍ Ｑを少量づつ加え、少
量の不溶物を濾別後アンバーライトＸＡＤ−２カラムク
ロマトグラフィーに付す。エタノール：水＝４＝１の溶
出部を集め減圧濃縮後凍結乾燥すると７β−［２−（２
−アミノオキサゾール−４−イル） −２−Ｚ−（３゜
４．５−トリアセトキシベンゾイルオキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（１−カルボキシメチル−ＩＨ−テト
ラゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸のナトリウム塩が１゜１５ｇ得られる。
実施例２
ボン酸の合成＝ （別法）
（１）３，４．５−トリアセトキシ安息香酸４４４ｍｇ
をベンゼン５ ｍ Ｑに懸濁し、ジメチルホルムアミド
０．０５ｍＡ及びチオニリクロリド０゜４４ ｍ Ｑを
加え１時間加熱還流する。反応後溶媒を減圧留去し得ら
れた酸クロリドをテトロヒドロフラン５ ｍ Ｑに溶か
し、下記の反応に供する。
をベンゼン５ ｍ Ｑに懸濁し、ジメチルホルムアミド
０．０５ｍＡ及びチオニリクロリド０゜４４ ｍ Ｑを
加え１時間加熱還流する。反応後溶媒を減圧留去し得ら
れた酸クロリドをテトロヒドロフラン５ ｍ Ｑに溶か
し、下記の反応に供する。
７β−［２−（２−クロロアセトアミドオキサゾール−
４−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノアセトアミド］
−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニルメチル
−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル９３４
ｍｇをテトラヒドロフラン１０ ｍ Ｑに溶かし、ピリ
ジン０．５ｍＱを加え、水冷下、上記で調製した酸クロ
リドのテトラヒドロフラン溶液を加え水冷下３０分間撹
拌する。反応後、反応液に酢酸エチル２００ ｍ Ｑを
加え、水、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒
を減圧留去する。
４−イル）−２−Ｚ−ヒドロキシイミノアセトアミド］
−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニルメチル
−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル９３４
ｍｇをテトラヒドロフラン１０ ｍ Ｑに溶かし、ピリ
ジン０．５ｍＱを加え、水冷下、上記で調製した酸クロ
リドのテトラヒドロフラン溶液を加え水冷下３０分間撹
拌する。反応後、反応液に酢酸エチル２００ ｍ Ｑを
加え、水、希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒
を減圧留去する。
残渣を２０ ｍ Ｑの酢酸エチルに溶かしヘキサン２０
ＯｍＱ中に滴下すると７β−［２−（２−クロロアセト
アミドオキサゾール−４−イル）−２−Ｚ−（３，４，
５−トリアセトキシベンゾイルオキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニルメ
チル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステルが
沈殿するので濾取する。
ＯｍＱ中に滴下すると７β−［２−（２−クロロアセト
アミドオキサゾール−４−イル）−２−Ｚ−（３，４，
５−トリアセトキシベンゾイルオキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニルメ
チル−ＩＨ−テトラゾール−５−イル）チオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステルが
沈殿するので濾取する。
収量１．０８ｇ。
上記で得られたエステルのＩＲ，ＮＭＲスペクトルは実
施例１− （１）で得られたエステルと一致した。
施例１− （１）で得られたエステルと一致した。
次いで実施例１−（２）と同様にして表題の化合物に導
びかれた。
びかれた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＿１はヒドロキシ基、低級アルカノイルオキ
シ基または低級アルコキシカルボニルオキシ基を、Ｒ＿
２は水素原子、ヒドロキシ基、低級アルカノイルオキシ
基または低級アルコキシカルボニルオキシ基を、Ｒ＿３
は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アル
ケニル基、低級アルコキシ基または式 −ＣＨ＿２Ｒ＿７（式中、Ｒ＿７は水素原子、アジド基
、低級アルカノイルオキシ基、カルバモイルオキシ基、
置換されてもよいピリジニウム基または置換されてもよ
い複素環チオ基を示す。）で表わされる基を、Ｒ＿４は
水素原子またはカルボキシ保護基を、Ｒ＿５、Ｒ＿６は
それぞれ水素原子、低級アルキル基またはそれらが結合
しているシクロアルキリデン基を、ｍは０または１を表
わす。］で表わされるセファロスポリン化合物及び薬学
上許容し得るそれらの塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60198565A JPS6259283A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | セフアロスポリン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60198565A JPS6259283A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | セフアロスポリン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259283A true JPS6259283A (ja) | 1987-03-14 |
Family
ID=16393292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60198565A Pending JPS6259283A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | セフアロスポリン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6259283A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8034953B2 (en) | 2005-05-10 | 2011-10-11 | Incyte Corporation | Modulators of indoleamine 2,3-dioxygenase and methods of using the same |
| US8088803B2 (en) | 2008-07-08 | 2012-01-03 | Incyte Corporation | 1,2,5-oxadiazoles as inhibitors of indoleamine 2,3-dioxygenase |
| US8377976B2 (en) | 2006-09-19 | 2013-02-19 | Incyte Corporation | N-hydroxyamidinoheterocycles as modulators of indoleamine 2,3-dioxygenase |
| US8450351B2 (en) | 2005-12-20 | 2013-05-28 | Incyte Corporation | N-hydroxyamidinoheterocycles as modulators of indoleamine 2,3-dioxygenase |
| US8507541B2 (en) | 2006-09-19 | 2013-08-13 | Incyte Corporation | N-hydroxyamidinoheterocycles as modulators of indoleamine 2,3-dioxygenase |
| US9321755B2 (en) | 2013-11-08 | 2016-04-26 | Incyte Corporation | Process for the synthesis of an indoleamine 2,3-dioxygenase inhibitor |
-
1985
- 1985-09-10 JP JP60198565A patent/JPS6259283A/ja active Pending
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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