JPS6255943A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- H01L2224/85205—Ultrasonic bonding
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- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/85909—Post-treatment of the connector or wire bonding area
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- H01L2924/01—Chemical elements
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、ブを明の訂細イT説明
産業上の利用分野
木梵明は″r邊棒体装置製造ジノ法に閉覆るしので・あ
る。
る。
従来の技術
アルミ線を用いて半々体系了と外部導出線を結線する超
音波ワイヤーボンティングは第2図に承りように、超音
波yh振器1から伸ひたシX・)1〜2の先フ・:^;
にビス3によってつ1ツf4が取りイ・]()られる。
音波ワイヤーボンティングは第2図に承りように、超音
波yh振器1から伸ひたシX・)1〜2の先フ・:^;
にビス3によってつ1ツf4が取りイ・]()られる。
ウウエフアの先端にはアルミ細線5を通ザ細孔6と、ア
ルミ細線5を押え超音波接着させる細溝7が形成されて
43す、半導体支持基板8に接着剤9で接着された半導
体素子10上の電極アルミパターン11上にアルミ細F
A5が超音波接着される。
ルミ細線5を押え超音波接着させる細溝7が形成されて
43す、半導体支持基板8に接着剤9で接着された半導
体素子10上の電極アルミパターン11上にアルミ細F
A5が超音波接着される。
次いでウエフア4が上背し、アルミ細線5をIf jL
6で捕捉しつつ矢印の方向へ移動し、外部導出線12上
で加工し、超音波接着すると同時にウェッブ−4の先端
でアルミ細線5を切断し、ワイヤーボンドを完了する。
6で捕捉しつつ矢印の方向へ移動し、外部導出線12上
で加工し、超音波接着すると同時にウェッブ−4の先端
でアルミ細線5を切断し、ワイヤーボンドを完了する。
かかるワイヤーボンディング装置において、ウエフア4
の材質は硬い川砂合金又はステンレス鋼が用いられ、一
方アルミ細線5は軟材であるため、ボンディング動作中
にウエフアの細孔6又はa溝7でアルミIll線5の表
面が摩擦研削され、微細なアルミくずが発生し、半々体
索了表面に付着する。このアルミくずはI2原にJ、っ
て静電気を持つため、ワイヤーボンディング装置中での
移送駆動程度では除去されず、半々体系子人面に形成さ
れた電極間にアルミくずが残った揚台、短゛絡故陣の原
因となり、品質上重大な欠陥となる。
の材質は硬い川砂合金又はステンレス鋼が用いられ、一
方アルミ細線5は軟材であるため、ボンディング動作中
にウエフアの細孔6又はa溝7でアルミIll線5の表
面が摩擦研削され、微細なアルミくずが発生し、半々体
索了表面に付着する。このアルミくずはI2原にJ、っ
て静電気を持つため、ワイヤーボンディング装置中での
移送駆動程度では除去されず、半々体系子人面に形成さ
れた電極間にアルミくずが残った揚台、短゛絡故陣の原
因となり、品質上重大な欠陥となる。
斯かる不都合を排すため、通常ワイヤーポンド終了後に
高圧エアーによるブロー装置によりアルミくfを除去し
たり、軟かいはけによって表面が払われたつづる工夫が
行なわれていた。
高圧エアーによるブロー装置によりアルミくfを除去し
たり、軟かいはけによって表面が払われたつづる工夫が
行なわれていた。
発明が解決しようとする問題点
このような従来の構成に43いて、ブロー装置によりア
ルミくずを除去する場合、比較的大きなアルミくザは除
去されるものの、極めて微細で月つ静電気を帯びて半導
体素子に付着しているアルミくずは除去されにくい。又
、はけ等で表面を払う場合でもアルミ配線があるため、
充分な動作をさUにくく完全除去は困難である。
ルミくずを除去する場合、比較的大きなアルミくザは除
去されるものの、極めて微細で月つ静電気を帯びて半導
体素子に付着しているアルミくずは除去されにくい。又
、はけ等で表面を払う場合でもアルミ配線があるため、
充分な動作をさUにくく完全除去は困難である。
本発明はこのような問題点を解決するもので、静電付着
した微1111なアルミくずをも強制的に除去できるよ
うにすることを目的とづ−るものて゛ある。
した微1111なアルミくずをも強制的に除去できるよ
うにすることを目的とづ−るものて゛ある。
問題点を解決するための手段
このような問題点を解決するために本発明は、゛r導体
素子の電極パッドと半導体装置の外部導出線を超音波ワ
イヤーボンディング装置を用いて金属製、腺によって結
線ヅる際に、金B細線とウエッヂとの摺動により発生づ
−る金属くずを、高圧エヤーを吹き付けると同時に真空
吸引することによって除去するものである。
素子の電極パッドと半導体装置の外部導出線を超音波ワ
イヤーボンディング装置を用いて金属製、腺によって結
線ヅる際に、金B細線とウエッヂとの摺動により発生づ
−る金属くずを、高圧エヤーを吹き付けると同時に真空
吸引することによって除去するものである。
作用
この構成により、高圧エアーの吹きイ4けと真空吸引と
によってr!1aな金属くずをし強II、II的に吸引
除去することができる。
によってr!1aな金属くずをし強II、II的に吸引
除去することができる。
実施例
以下、本発明の一実施例について、図面(第1図)に基
づいて説明する。
づいて説明する。
図において、先ずワイヤーボンディングが完了した半導
体組立構体をベルジp−21で覆い、ベルジt−21の
コーナ一部よりa管22を導入しベルジt−21内に高
圧エアー23を吹き込む。一方ベルジセー21の中央上
部に真空吸引用の管24を導入しペルジャー21内の空
気を真空吸引する。ペルジャー21の形状は半導体支持
基板25と外部導出線26の形状及び、アルミIt線2
7のホンディング形状に併せて形成するとともに、高圧
エアー用の細管22の取り付cノ箇所は、ベルジ17−
21内で最も渦流ができやすい位置に決定される。この
際、高圧エヤー用のa e 22及び真空吸引用管24
は複数個形成しても差し支えない。28は半導体素子で
ある。
体組立構体をベルジp−21で覆い、ベルジt−21の
コーナ一部よりa管22を導入しベルジt−21内に高
圧エアー23を吹き込む。一方ベルジセー21の中央上
部に真空吸引用の管24を導入しペルジャー21内の空
気を真空吸引する。ペルジャー21の形状は半導体支持
基板25と外部導出線26の形状及び、アルミIt線2
7のホンディング形状に併せて形成するとともに、高圧
エアー用の細管22の取り付cノ箇所は、ベルジ17−
21内で最も渦流ができやすい位置に決定される。この
際、高圧エヤー用のa e 22及び真空吸引用管24
は複数個形成しても差し支えない。28は半導体素子で
ある。
発明の効果
以上のように本発明によれば、高圧エアーの吹き付けに
よる効果は狭い空所内で非常に高まり、半導体素子上に
静電付着したり、金属細線がボンディングされている複
雑な隙間に入り込んでいる金属くずは渦流によって谷き
上げられると同時に真空吸引される。その結宋、半導体
素子上の電極間の短絡は完全に除去され、安定した品質
性能を備えた半導体素子がj7られる。。
よる効果は狭い空所内で非常に高まり、半導体素子上に
静電付着したり、金属細線がボンディングされている複
雑な隙間に入り込んでいる金属くずは渦流によって谷き
上げられると同時に真空吸引される。その結宋、半導体
素子上の電極間の短絡は完全に除去され、安定した品質
性能を備えた半導体素子がj7られる。。
第1図は本発明の一実施例を示す所面図、第2図は従来
のアルミl1llI線の超音波ボンティング方法を示す
概略図である。 21・・・ペルジャー、22・・・細管、23・・・高
圧エアー、24・・・真空吸引用の71・、25・・・
半導体支持基板、26・・・外部導出線、27・・・ア
ルミ細線、28・・・半々体素子代理人 森 本
義 弘 第1図 乃21 第2図 フ
のアルミl1llI線の超音波ボンティング方法を示す
概略図である。 21・・・ペルジャー、22・・・細管、23・・・高
圧エアー、24・・・真空吸引用の71・、25・・・
半導体支持基板、26・・・外部導出線、27・・・ア
ルミ細線、28・・・半々体素子代理人 森 本
義 弘 第1図 乃21 第2図 フ
Claims (1)
- 1、半導体素子の電極パッドと半導体装置の外部導出線
を超音波ワイヤーボンディング装置を用いて金属細線に
よつて結線する際に、金属細線と、ウエッヂとの摺動に
より発生する金属くずを、高圧エヤーを吹き付けると同
時に真空吸引することによつて除去する半導体装置の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60196326A JPS6255943A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60196326A JPS6255943A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6255943A true JPS6255943A (ja) | 1987-03-11 |
JPH058862B2 JPH058862B2 (ja) | 1993-02-03 |
Family
ID=16355958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60196326A Granted JPS6255943A (ja) | 1985-09-05 | 1985-09-05 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6255943A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016018993A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-01 | アーベーベー・テクノロジー・アーゲー | 半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法 |
-
1985
- 1985-09-05 JP JP60196326A patent/JPS6255943A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016018993A (ja) * | 2014-07-04 | 2016-02-01 | アーベーベー・テクノロジー・アーゲー | 半導体モジュールおよび半導体モジュールの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH058862B2 (ja) | 1993-02-03 |
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