JPS6240651A - Photomagnetic recording medium - Google Patents
Photomagnetic recording mediumInfo
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- JPS6240651A JPS6240651A JP17995785A JP17995785A JPS6240651A JP S6240651 A JPS6240651 A JP S6240651A JP 17995785 A JP17995785 A JP 17995785A JP 17995785 A JP17995785 A JP 17995785A JP S6240651 A JPS6240651 A JP S6240651A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、レーザー光等の熱および光を用いて情報の記
録、再生を行う光磁気記録媒体に関する。Detailed Description of the Invention (1) Background Technical Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium that records and reproduces information using heat and light such as laser light.
先行技術 光磁気メモリの記録媒体としては、 MnB i 、MnA1Ge 、MnS b 。prior art As a recording medium for magneto-optical memory, MnB i, MnA1Ge, MnS b.
MnCuB i 、GdFe 、TbFe 。MnCuB i, GdFe, TbFe.
GdCo 、PtCo 、TbCo 。GdCo, PtCo, TbCo.
TbFeCo 、GdFeCo 。TbFeCo, GdFeCo.
TbFeO3、GdIG、GdTbFe。TbFeO3, GdIG, GdTbFe.
GdTbFeCoBt 、CoFe204等の材料が知
られている。 これらは、真空蒸着法やスパッタリング
法等の方法で、プラスチックやガラス等の透明基板上に
薄膜として形成される。 これらの光?ia気記録媒体
に共通している特性としては。Materials such as GdTbFeCoBt and CoFe204 are known. These are formed as a thin film on a transparent substrate such as plastic or glass by a method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method. These lights? The characteristics common to all IA recording media are:
磁化容易軸が膜面に垂直方向にあり、
さらに、カー効果やファラデー効果が大きいという点を
あげることができる。The axis of easy magnetization is perpendicular to the film surface, and the Kerr effect and Faraday effect are large.
この性質を利用して、光磁気記録の方法としては1例え
ば次の方法がある。There is one method of magneto-optical recording that takes advantage of this property, for example, the following method.
まず、最初に膜全体を0”すなわち一様に磁化しておく
(これを消去という)、 つ ぎに、“′1′を記録し
たい部分にレーザービームを照射する。 レーザービ
ームが照射されたところは温度が上昇し、キューリ一点
に近づいた時、そしてさらにキューリ一点をこえた時に
は、保磁力HeはOに近づく、 そして、レーザービー
ムを消し、室温にもどせば、反磁場のエネルギーにより
磁化は反転し、さらには、レーザービームの照射の際、
外部磁場を初期と反対の方向に与えて室温にもどすと、
磁化反転し、′1′なる信号が記録される。First, the entire film is magnetized to 0'', that is, uniformly (this is called erasing), and then a laser beam is irradiated to the part where you want to record ``1''. The temperature of the area irradiated with the laser beam rises, and when it approaches the Curie point, and when it exceeds the Curie point, the coercive force He approaches O. Then, when the laser beam is turned off and the temperature is returned to room temperature, the reversal occurs. The magnetization is reversed by the energy of the magnetic field, and furthermore, when irradiated with a laser beam,
When an external magnetic field is applied in the opposite direction to the initial one and the temperature is returned to room temperature,
The magnetization is reversed and a signal '1' is recorded.
また、記録は初期状態が“0”であるから、レーザービ
ームを照射しない部分は“Onのまま残る。Furthermore, since the initial state of recording is "0", the portion that is not irradiated with the laser beam remains "on".
記録された光磁気メモリの読み取りは、同じようにレー
ザービームを用いて、このレーザービーム照射光の磁化
の方向による反射光の偏光面の回転、すなわち磁気光学
効果を利用して行われる。Reading of a recorded magneto-optical memory is similarly performed by using a laser beam and by rotating the plane of polarization of the reflected light depending on the direction of magnetization of the laser beam irradiation light, that is, by utilizing the magneto-optic effect.
このような媒体に要求されることは、
第1に、キューリ一点が100〜200℃程度で、補償
点が室温付近であること。The following requirements are required for such a medium: First, the temperature of one curie point is about 100 to 200°C, and the compensation point is around room temperature.
第2に、ノイズとなる結晶粒界などの欠陥が比較的小さ
いこと。Second, defects such as grain boundaries that cause noise are relatively small.
第3に高温成膜や長時間成膜等の方法をとらずに、比較
的大面植にわたって磁気的、機械的に均一な膜が得られ
ることがあげられる。Thirdly, a magnetically and mechanically uniform film can be obtained over a relatively large area without using methods such as high-temperature film formation or long-time film formation.
このような要求に答え、上記材料のなかで。In response to these demands, among the above materials.
近年、希土類−遷移金属の非晶質垂直磁性薄膜が大きな
注目を集めている。In recent years, amorphous perpendicular magnetic thin films of rare earth-transition metals have attracted much attention.
しかし、このような希土類−遷移金属非晶質薄膜からな
る光磁気記録媒体において、磁性薄膜層は大気に接した
まま保存されると、大気中の酸素や水により希土類が選
択的に腐食あるいは酸化されてしまい、情報の記録、再
生が不可能となる。However, in magneto-optical recording media made of such rare earth-transition metal amorphous thin films, if the magnetic thin film layer is stored in contact with the atmosphere, the rare earths may be selectively corroded or oxidized by oxygen and water in the atmosphere. This makes it impossible to record or reproduce information.
そこで、一般には、前記磁性薄膜層の表面に保護層を設
けた構成を有するものが多く研究されている。Therefore, in general, many researches have been made on devices having a structure in which a protective layer is provided on the surface of the magnetic thin film layer.
従来、このような防湿性の保護層としては、−酸化ケイ
素、二酸化ケイ素、チッ化アルミ、チッ化ケイ素等の無
機系の真空蒸着膜や樹脂膜等を設ける試み(特開昭58
−80142号等)が開示されている・
しかし、これらの保護層では、防湿性が十分でなく、光
磁気記録媒体の磁性薄膜層の経時劣化はさして改善され
ない。Conventionally, as such a moisture-proof protective layer, attempts have been made to provide inorganic vacuum-deposited films or resin films of silicon oxide, silicon dioxide, aluminum nitride, silicon nitride, etc.
However, these protective layers do not have sufficient moisture resistance and do not significantly improve the aging deterioration of the magnetic thin film layer of the magneto-optical recording medium.
II 発明の目的
本発明の目的は、高湿度雰囲気中においても磁性薄膜層
の劣化が防止され、防湿性のすぐれた光磁気記録媒体を
提供することにある。II. OBJECTS OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a magneto-optical recording medium with excellent moisture resistance, in which deterioration of the magnetic thin film layer is prevented even in a high humidity atmosphere.
■ 発明の開示 このような目的は、以下の本発明によって達成される。■Disclosure of invention Such objects are achieved by the present invention as described below.
すなわち、本発明は、基板の一面上に、中間層を介して
、希土類−遷移金属の非晶質垂直磁性薄膜層を有する光
磁気記録媒体において、磁性薄膜層を完全に覆うように
被覆層を設層したことを特徴とする光磁気記録媒体であ
る。That is, the present invention provides a magneto-optical recording medium having an amorphous perpendicular magnetic thin film layer of a rare earth-transition metal on one surface of a substrate via an intermediate layer, in which a coating layer is provided to completely cover the magnetic thin film layer. This is a magneto-optical recording medium characterized by a layered structure.
■ 発明の具体的構成
本発明の光磁気記録媒体の好適実施例が第1図に示され
ている。(2) Specific Structure of the Invention A preferred embodiment of the magneto-optical recording medium of the present invention is shown in FIG.
第1図において、本発明の磁気記録媒体1は、基板2の
一面上に中間層3を介して、希土類−遷移金属の非晶質
垂直磁性薄膜層4を有し、さらに磁性薄膜層4の上面お
よび側面上に被覆層5が設層され、磁性薄膜層4は、被
覆層5によって完全に覆われている。In FIG. 1, a magnetic recording medium 1 of the present invention has an amorphous perpendicular magnetic thin film layer 4 of rare earth-transition metal on one surface of a substrate 2 with an intermediate layer 3 interposed therebetween. A covering layer 5 is provided on the top and side surfaces, and the magnetic thin film layer 4 is completely covered by the covering layer 5.
本発明の磁性薄膜層4は、変調された熱ビームあるいは
変調された磁界により、情報が磁気的に記録されるもの
であり、記録情報を磁気−光変換して再生するものであ
る。In the magnetic thin film layer 4 of the present invention, information is magnetically recorded using a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is reproduced by magneto-optical conversion.
このような磁性薄膜層4としては、希土類金属と遷移金
属の合金をスパッタ、蒸着法等により、非晶質膜として
通常の厚さに形成されたものであることが好ましい。The magnetic thin film layer 4 is preferably an amorphous film formed to a normal thickness by sputtering, vapor deposition, or the like using an alloy of rare earth metals and transition metals.
希土類金属および遷移金属としては種々のものがあるが
、特に前者としてはGd、Tb、また後者としてはFe
、Goが好適である。There are various rare earth metals and transition metals, but the former include Gd and Tb, and the latter includes Fe.
, Go are preferred.
そして、その好適例としては、GdFe、TbFe、T
bFeCo、GdFeCo、GdTbFe等がある。Suitable examples include GdFe, TbFe, T
Examples include bFeCo, GdFeCo, and GdTbFe.
このような磁性薄膜層4が中間層3を介して設層される
基板2は、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂等
の樹脂製あるいはガラス製とすることが好ましい。The substrate 2 on which such a magnetic thin film layer 4 is formed via the intermediate layer 3 may be made of resin such as acrylic resin, polycarbonate resin, epoxy resin, or olefin resin such as polymethylpentene, or glass. preferable.
このような基板2の屈折率nbは、通常1.45〜1.
58程度である。The refractive index nb of such a substrate 2 is usually 1.45 to 1.45.
It is about 58.
なお、記録は基板2をとおして行うことが好ましいので
、書き込み光ないし読み出し光に対する透過率は86%
以上とする。Note that since it is preferable to perform recording through the substrate 2, the transmittance for writing light or reading light is 86%.
The above shall apply.
また、基板は、通常ディスク状とし、1.2〜1.5m
m程度の厚さとする。In addition, the board is usually disk-shaped and has a length of 1.2 to 1.5 m.
The thickness should be about m.
このようなディスク状基板の磁性薄N層形成面には、ト
ラッキング用の溝が形成されてもよい。Tracking grooves may be formed on the surface of such a disk-shaped substrate on which the magnetic thin N layer is formed.
溝の深さは、入/ 8 n程度、特に入/ 7 n〜入
/12n(ここに、nは基板の屈折率である)とされる
、 また、溝の巾は、トラック巾程度とされる。The depth of the groove is approximately I/8n, especially I/7n to I/12n (where n is the refractive index of the substrate), and the width of the groove is approximately the track width. Ru.
そして、この溝の凹部に位置する磁性薄膜層を記録トラ
ック部として、書き込み光および読み出し光を基板裏面
側から照射することが好ましい。It is preferable that writing light and reading light are irradiated from the back side of the substrate, using the magnetic thin film layer located in the recessed part of the groove as a recording track part.
このように構成することにより、書き込み感度と読み出
しのS/N比が向上し、しかもトラッキングの制御信号
は大きくなる。With this configuration, the writing sensitivity and the reading S/N ratio are improved, and the tracking control signal is also increased.
また、その他の基板の形状として、テープ。We also use tape as another form of substrate.
ドラム等としてもよい。It may also be a drum or the like.
このような基板2の上に、中間層3を介して設層される
上記の磁性薄膜層4の上ならびに磁性薄膜層4および中
間層3の側面には、第1図に示されるような被覆層5が
設けられる。A coating as shown in FIG. A layer 5 is provided.
このような被覆層5は、磁性薄膜層4の上面ないし側面
からの防湿性をうるために設けられるものである。Such a coating layer 5 is provided to provide moisture resistance from the top or side surfaces of the magnetic thin film layer 4.
被覆層5は、水分透過率の比較的小さいものであれば、
特に制限はなく、例えば、−酸化ケイ素、二酸化ケイ素
、チッ化アルミ、チッ化ケイ素等を各種の真空成膜法で
設層した無m膜や放射線硬化型化合物を含有する塗膜を
紫外線もしくは電子線等で硬化させたもの等の各種有機
膜とすればよい。If the coating layer 5 has a relatively low moisture permeability,
There is no particular restriction, and for example, - a non-molecular film formed by depositing silicon oxide, silicon dioxide, aluminum nitride, silicon nitride, etc. by various vacuum film-forming methods, or a coating film containing a radiation-curable compound can be coated with ultraviolet rays or electron beams. Various organic films such as those cured by wire or the like may be used.
これらの中では、放射線硬化型化合物の硬化膜を被覆層
5として用いるのが好ましい。Among these, it is preferable to use a cured film of a radiation-curable compound as the coating layer 5.
用いる放射線硬化型化合物としては、イオン化エネルギ
ーに感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有
すアクリル酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステ
ル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレ
ートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン
酸誘導体等の不飽和二重結合等の放射線照射による架橋
あるいは重合乾燥する基を分子中に含有または導入した
七ツマ−、オリゴマーおよびポリマー等を挙げることが
できる。The radiation-curable compounds to be used include acrylic acid, methacrylic acid, and acrylic double bonds such as ester compounds thereof, which have unsaturated double bonds that are sensitive to ionization energy and exhibit radical polymerizability, and diallylphthalate. Seven polymers, oligomers, and polymers containing or introducing into the molecule groups that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation, such as allylic double bonds, maleic acid, unsaturated double bonds such as maleic acid derivatives, etc. be able to.
放射線硬化型モノマーとしては、分子量2000未満の
化合物が、オリゴマーとしては分子12ooo−too
ooのものが用いられる。As a radiation-curable monomer, a compound with a molecular weight of less than 2000 is used, and as an oligomer, a compound with a molecular weight of 12ooo-too
oo is used.
これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリ
コールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールメタクリレート、1.8−ヘキサングリ
コールジアクリレート、1.8−ヘキサングリコールジ
メタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものと
しては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート (
メタクリレート)、ペンタエリスリトールアクリレート
(メタクリレート)、トリメチロールプロパントリア
クリレート(メタクリレート)、トリメチロールプロパ
ンジアクリレート(メタクリレート)、多官能オリゴエ
ステルアクリレート(アロニックスM−
7100、M−5400、M−5500、M−5700
、M−6250、M−6500,M−8030、M−8
060、M−8100等、東亜合成)、ウレタンエラス
トマーにツボラン4040)のアクリル変性体、あるい
はこれらのものにC0OH等の官能基が導入されたもの
、フェノールエチレンオキシド付加物の7クリレート(
メタクリレート)、下記一般式で示されるペンタエリス
リトール縮合環にアクリル基(メタクリル基)またはε
−カプロラクトン−アクリル基のついた化合物、
1) (CH2=CHC0OH2) 3−CCH2
0H(特殊アクリレートA)
2) (CH2=CHC00H2)3−CCH2C
H3(特殊アクリレートB)
3) (CH2=CHOC(OC3Ha)n−CC
H2)3−CCH2CH3(特殊アクリレートC)
(特殊アクリレートD)
(特殊アクリレートE)
式中、m=1、a=2、b=4の化合物(以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Aという)、
m=1、a=3.b=3の化合物(以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Bという)、m=1、a=6、b=
oの化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物C
という)、m=2、a==6、b=oの化合物(以下、
特殊ペンタエリスリトール縮合物りという)、および下
記式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられ
る。These include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1.8-hexane glycol diacrylate, 1.8-hexane glycol dimethacrylate, etc., but particularly preferred ones are as pentaerythritol tetraacrylate (
methacrylate), pentaerythritol acrylate (methacrylate), trimethylolpropane triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane diacrylate (methacrylate), polyfunctional oligoester acrylate (Aronix M-7100, M-5400, M-5500, M-5700
, M-6250, M-6500, M-8030, M-8
060, M-8100, etc. (Toagosei), urethane elastomers with acrylic modified products of Tuboran 4040), or those into which functional groups such as C0OH have been introduced, and phenol ethylene oxide adducts such as 7-acrylate (
methacrylate), an acrylic group (methacrylic group) or ε in the pentaerythritol condensed ring represented by the general formula below.
-Caprolactone-A compound with an acrylic group, 1) (CH2=CHC0OH2) 3-CCH2
0H (special acrylate A) 2) (CH2=CHC00H2)3-CCH2C
H3 (special acrylate B) 3) (CH2=CHOC(OC3Ha)n-CC
H2) 3-CCH2CH3 (special acrylate C) (special acrylate D) (special acrylate E) A compound where m = 1, a = 2, b = 4 (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate A), m = 1, a=3. Compound where b=3 (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate B), m=1, a=6, b=
o compound (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate C
), m = 2, a = = 6, b = o (hereinafter referred to as
Examples include special pentaerythritol condensates (referred to as special pentaerythritol condensates), and special acrylates represented by the general formula below.
8) CH2=CHCOO−(CH2CH20)4−
CCH2CH3(特殊アクリレートH)
(特殊アクリレートI)
(特殊アクリレ−)J)
A−(X−Y−)−X−A
Aニアクリル触、 X;多価アルコールY:多塩基
酸 (特殊アクリレートK)+2)
A+M−N−)−M−An
A:アクリノ固、 M:2価アルコールN:2塩基
酸 (特殊アクリレートL)また、放射線硬化
型オリゴマーとしては、下記一般式で示される多官能オ
リゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのア
クリル変性体、あるいはこれらのものにC0OH等の官
能基が導入されたもの等が挙げられる。8) CH2=CHCOO-(CH2CH20)4-
CCH2CH3 (special acrylate H) (special acrylate I) (special acrylate) J) A-(X-Y-)-X-A )
A+M-N-)-M-An A: acrino solid, M: dihydric alcohol N: dibasic acid (special acrylate L) In addition, as radiation-curable oligomers, polyfunctional oligoester acrylates represented by the following general formula and Examples include acrylic modified urethane elastomers, and those into which functional groups such as C0OH are introduced.
拭中R1,R2:アルキル、n:整ω
また、熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによって
得られる放射線硬化型化合物を用いてもよい。Wiping medium R1, R2: alkyl, n: regular ω In addition, a radiation-curable compound obtained by radiation-sensitizing a thermoplastic resin may be used.
このような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカ
ル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メ
タクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のような
アクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリ
ル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽
和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する基
を熱可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂で
ある。Specific examples of such radiation-curable resins include acrylic acid, methacrylic acid, or acrylic double bonds such as ester compounds thereof, and diallylphthalate, which exhibits an unsaturated double bond that has radical polymerizability. It is a thermoplastic resin in which groups that can be crosslinked or polymerized by radiation irradiation, such as allylic double bonds and unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives, are contained or introduced into the molecule of the thermoplastic resin.
放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエステル樹脂、ポ
リビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキ
シ系樹脂、m維素誘導体等を挙げることができる。Examples of thermoplastic resins that can be modified into radiation-curable resins include vinyl chloride copolymers, saturated polyester resins, polyvinyl alcohol resins, epoxy resins, phenoxy resins, m-fiber derivatives, and the like.
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PVP
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有
効である。Other resins that can be used for radiation sensitivity modification include polyfunctional polyester resins, polyether ester resins, polyvinylpyrrolidone resins, and derivatives (PVP
Also effective are acrylic resins containing at least one of olefin copolymers), polyamide resins, polyimide resins, phenol resins, spiroacetal resins, hydroxyl group-containing acrylic esters, and methacrylic esters as polymerization components.
このような放射線硬化型化合物の被覆膜5の膜厚は0.
1〜30gm、より好ましくは1〜10ルmである。The thickness of the coating film 5 of such a radiation-curable compound is 0.
1 to 30 gm, more preferably 1 to 10 lm.
この膜厚が0.1pm未満になると、一様な■りを形成
できず、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でなく
、磁性薄膜層4の耐久性が向上しない。 また、30p
mをこえると、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録
媒体の反りや保護膜中のクラックが生じ、実用に酎えな
い。If the film thickness is less than 0.1 pm, a uniform thickness cannot be formed, the moisture-proofing effect in a humid atmosphere will not be sufficient, and the durability of the magnetic thin film layer 4 will not be improved. Also, 30p
If it exceeds m, the shrinkage that accompanies the curing of the resin film causes warping of the recording medium and cracks in the protective film, making it unsuitable for practical use.
このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビア
塗布、スプレーコート、ディッピング等1種々の公知の
方法を組み合わせて設層すればよい、 この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、基板表面の状態
、目的とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよ1
、X。Such a coating film can usually be deposited using a combination of various known methods such as spinner coating, gravure coating, spray coating, and dipping. It should be determined appropriately by considering the viscosity of the mixture, the condition of the substrate surface, the desired coating thickness, etc.1
,X.
このような塗膜を硬化させて被覆膜5とするには、電子
線、紫外線等の放射線を塗膜に照射すればよい。In order to cure such a coating film to form the coating film 5, the coating film may be irradiated with radiation such as an electron beam or an ultraviolet ray.
電子線を用いる場合、放射線特性としては、加速fi圧
100〜750KV、好マシくは150〜300KVの
放射線加速器を用い、吸収線量を0.5〜20メガラン
ドになるように照射するのが好都合である。When using an electron beam, it is convenient to use a radiation accelerator with an accelerated fi pressure of 100 to 750 KV, preferably 150 to 300 KV, and to irradiate at an absorbed dose of 0.5 to 20 Megaland. be.
一方、紫外線を用いる場合には、前述したような放射線
硬化型化合物の中には、通常、光重合増感剤が加えられ
る。On the other hand, when ultraviolet rays are used, a photopolymerizable sensitizer is usually added to the radiation-curable compound as described above.
この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、α−メチルベンゾイン、α−グロルデオキシベン
ゾイン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェ
ノン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン
類、アセドラキノン、フェナントラキノ゛/等のキノン
類、ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノ
スルフィト等のスルフィト類等を挙げることができる。The photopolymerization sensitizer may be a conventionally known one, such as benzoin-based ones such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, α-methylbenzoin, α-glordeoxybenzoin, benzophenone, acetophenone, bisdialkylaminobenzophenone, etc. Examples include ketones, quinones such as acedraquinone and phenanthraquinone, and sulfites such as benzyl disulfide and tetramethylthiuram monosulfite.
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、0.1〜10重ψ
%の範囲が望ましい。The photopolymerization sensitizer is 0.1 to 10 times ψ based on the resin solid content.
A range of % is desirable.
そして、このような光重合増感剤と放射線硬化型化合物
を含有する塗膜を紫外線によって硬化させるには、公知
の種々の方法に従えばよい。In order to cure a coating film containing such a photopolymerizable sensitizer and a radiation-curable compound using ultraviolet rays, various known methods may be used.
たとえば、キセノン放m管、木素放主管などの紫外線電
球等を用いればよい。For example, an ultraviolet light bulb such as a xenon emitter tube or a wood emitter tube may be used.
本発明の被覆層5は、述べてきたような放射線硬化型化
合物を用いるかわりに、前記の無機膜組成の1種であっ
てもよい。The coating layer 5 of the present invention may be one of the above-mentioned inorganic film compositions instead of using the radiation-curable compound as described above.
また被覆層5は必ずしも1層である必要はなく、必要に
応じて異なる組成のものを2層数−Lの積層体として形
成してもよい。Further, the covering layer 5 does not necessarily have to be one layer, and may be formed as a laminate of two layers (number of layers - L) of different compositions as necessary.
このような被覆層5は、第1図に示されるように、磁性
薄膜層4の1−ならびに磁性薄膜層4および中間層3の
側面をおおうように設層され、被覆層5は、基板2の外
周縁上および内周縁りい被着している。As shown in FIG. 1, such a covering layer 5 is provided so as to cover the side surfaces of the magnetic thin film layer 4 1- and the magnetic thin film layer 4 and the intermediate layer 3, and the covering layer 5 covers the substrate 2. It is coated on the outer periphery and the inner periphery.
基板2と磁性薄膜層4との間には、前述したように中間
層3を有し、この中間層3は、通常第1図に示されるよ
うに1層で形成されるが。As described above, there is an intermediate layer 3 between the substrate 2 and the magnetic thin film layer 4, and this intermediate layer 3 is usually formed of one layer as shown in FIG.
必要に応じて2層数にの積層体としてもよい。If necessary, it may be a laminate with two layers.
このような中間層材質とし、ては特に制限(よないが、
S i02 、S No、AuN、Si3 N4 、Z
nSなどが好適である。There are no particular restrictions on this kind of intermediate layer material.
S i02 , S No, AuN, Si3 N4 , Z
nS etc. are suitable.
また、磁性薄膜層4と被覆層5との間に種々の保護層を
1層ないし2層数り設けてもよい。Further, one or two various protective layers may be provided between the magnetic thin film layer 4 and the covering layer 5.
本発明は、例えば第1図に示されるように形成してもよ
いし、2枚の基板をそれぞれの磁性薄膜層を内側にして
対向させ、接着剤等を用いて貼り合わせて、基板の裏面
側からの占き込みを行う、いわゆる両面記録の媒体とし
てもよい。The present invention may be formed, for example, as shown in FIG. 1, or by placing two substrates facing each other with their respective magnetic thin film layers inside and bonding them together using an adhesive or the like, so that the back side of the substrate It may also be a so-called double-sided recording medium in which fortune-telling is performed from the side.
なお、上述してきたような被覆が設層された本発明の媒
体の外面のすべてをさらに新たな保護膜で完全に密封す
るように被覆してもよい。Note that the entire outer surface of the medium of the present invention on which the above-mentioned coating has been applied may be further coated with a new protective film so as to be completely sealed.
■ 発明の効果
本発明の光磁気記録媒体は、従来のように、磁性薄膜層
の上面のみでなく、上面および側面上に被覆層を有し、
磁性薄膜層を保護しているため、防湿性が向上し、高温
高湿の雰囲気中で長時間使用しても経時劣化が少ない。■ Effects of the Invention The magneto-optical recording medium of the present invention has a coating layer not only on the top surface of the magnetic thin film layer, but also on the top surface and side surfaces, as in the conventional case.
Since the magnetic thin film layer is protected, moisture resistance is improved, and there is little deterioration over time even when used for long periods in high temperature and high humidity environments.
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説
明する。(2) Specific Examples of the Invention The present invention will be described in more detail below with reference to Examples.
〔実施例1〕
直径20cm、厚さ1.2mmc7)PMMAからなる
基板上に、Si3N4からなる中間層を高周波マグネト
ロンスパッタにより膜厚900人に設層した。[Example 1] An intermediate layer made of Si3N4 was deposited to a thickness of 900 mm on a substrate made of PMMA with a diameter of 20 cm and a thickness of 1.2 mm by high-frequency magnetron sputtering.
この中間層上に、TbFeCoからなる合金薄膜をスパ
ッタリングにより厚さ0 、1 gmに設層し、磁性薄
膜層とした。On this intermediate layer, a thin alloy film made of TbFeCo was formed by sputtering to a thickness of 0.1 gm to form a magnetic thin film layer.
なお、ターゲットは、FeターゲットにTb、Coチー
2プをのせたもの用いた。Note that the target used was an Fe target with Tb and Co chips on top.
この磁性薄膜層を完全に被うように、多官能オリゴエス
テルアクリレート(アロニックスM−8030)100
重賃部、光増感剤(パイキュアー55)5重量部からな
る塗布組成物をスピンナーコートおよびディッピングで
設層し、その後、80 W / c m紫外線を15s
ec照射し、架橋・硬化させ被覆層とした。100% polyfunctional oligoester acrylate (Aronix M-8030) so as to completely cover this magnetic thin film layer.
A coating composition consisting of a heavy coating and 5 parts by weight of a photosensitizer (PiCure 55) was applied by spinner coating and dipping, and then 80 W/cm ultraviolet rays were applied for 15 seconds.
It was irradiated with EC to crosslink and cure to form a coating layer.
この時の被覆層の厚さは10用】であった(サンプルN
o、1)。The thickness of the coating layer at this time was 10] (sample N
o, 1).
〔比較例1〕 実施例1で設層した被覆層を設けなかった。[Comparative example 1] The coating layer provided in Example 1 was not provided.
それ以外は、実施例1の場合と同様とした(サンプルN
o、2)。The rest was the same as in Example 1 (sample N
o, 2).
〔比較例2〕
実施例1で設層した被覆層を磁性薄膜層上面のみに設け
、その側端部には設けなかった。[Comparative Example 2] The coating layer provided in Example 1 was provided only on the upper surface of the magnetic thin film layer, and was not provided on the side edges thereof.
それ以外は、実施例1の場合と同様とした(サンプルN
o、3)。The rest was the same as in Example 1 (sample N
o, 3).
以上のサンプルについて初期のC/N比と、60℃、9
0%RHの雰囲気中に、各サンプルの基板側のみを露出
するようにして300時間保存した後のC/N比の変化
量を下記の条件で測定した。Initial C/N ratio and 60℃, 9
After storing each sample in an atmosphere of 0% RH for 300 hours with only the substrate side exposed, the amount of change in the C/N ratio was measured under the following conditions.
回転スピード 4 al / s e c
搬送周波数 500KHz分解能
30KHz記録パワー(830nm)
3〜4mW再生パワー(830nm)
1mW結果を表1に示す。Rotation speed 4 al / sec
Carrier frequency 500KHz resolution
30KHz recording power (830nm)
3-4mW reproduction power (830nm)
The 1 mW results are shown in Table 1.
表 1
60℃、 90%RH
No・ 初 期 300時間保存後1
52.0 51.52(比較)
51.5 40時間以内でピンホール発生多のため
、記録書
生茶能
3(比較) 50.8 60時間以内で外周部からの
クラック発生で記録
再生不能
表1に示される結果から、本発明の効果が。Table 1 60℃, 90%RH No. Initial After storage for 300 hours 1
52.0 51.52 (comparison)
51.5 Due to the occurrence of many pinholes within 40 hours, recording and reproduction were not possible due to cracks occurring from the outer periphery within 60 hours. From the results shown in Table 1, it is clear that the present invention The effect.
あきらかである。It's obvious.
第1図は、本発明の1例を示す光磁気記録媒体の断面図
である。
符号の説明
1・・・光磁気記録媒体、 2・・・基板、3・・・
中間層、 4・・・磁性薄膜層、5・・・被覆
層、FIG. 1 is a sectional view of a magneto-optical recording medium showing one example of the present invention. Explanation of symbols 1... magneto-optical recording medium, 2... substrate, 3...
intermediate layer, 4... magnetic thin film layer, 5... covering layer,
Claims (1)
金属の非晶質垂直磁性薄膜層を有する光磁気記録媒体に
おいて、 磁性薄膜層を完全に覆うように被覆層を設層したことを
特徴とする光磁気記録媒体。(1) In a magneto-optical recording medium having an amorphous perpendicular magnetic thin film layer of a rare earth-transition metal, a coating layer is formed on one surface of the substrate via an intermediate layer so as to completely cover the magnetic thin film layer. A magneto-optical recording medium characterized by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17995785A JPS6240651A (en) | 1985-08-15 | 1985-08-15 | Photomagnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17995785A JPS6240651A (en) | 1985-08-15 | 1985-08-15 | Photomagnetic recording medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6240651A true JPS6240651A (en) | 1987-02-21 |
Family
ID=16074918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17995785A Pending JPS6240651A (en) | 1985-08-15 | 1985-08-15 | Photomagnetic recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6240651A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01269259A (en) * | 1988-04-20 | 1989-10-26 | Sanyo Electric Co Ltd | Magneto-optical recording medium |
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-
1985
- 1985-08-15 JP JP17995785A patent/JPS6240651A/en active Pending
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