[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPS62228941A - 検査区域の層の空間構造を決定する方法と装置 - Google Patents

検査区域の層の空間構造を決定する方法と装置

Info

Publication number
JPS62228941A
JPS62228941A JP62060271A JP6027187A JPS62228941A JP S62228941 A JPS62228941 A JP S62228941A JP 62060271 A JP62060271 A JP 62060271A JP 6027187 A JP6027187 A JP 6027187A JP S62228941 A JPS62228941 A JP S62228941A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
radiation
scattered radiation
compton
detector
scattering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62060271A
Other languages
English (en)
Inventor
ジェフリー・ハーディング
ジョゼフ−マリア・コザネツキー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Publication of JPS62228941A publication Critical patent/JPS62228941A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20083—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials by using a combination of at least two measurements at least one being a transmission measurement and one a scatter measurement

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Nuclear Medicine (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、複数のビーム通路に沿う１次ビームにより、
かつ複数の方向から照射される検査区域（ｅｘａｍｉｎ
ａｔｉｏｎ　ｚｏｎｅ）の層の空間構造を決定する方法
に関連し、異なる角度で検査区域から現出する放射は検
査区域外の異なる位置の検出器装置によって検出され、
そのあとこのようにして得られた測定値から層の各画素
（ｐｉｘｅｌ　）の異なる運動量伝達（ｍｏｍｅｎｔｕ
ｍ　ｔｒａｎｓｆｅｒｓ）に対して微分散乱係数（ｄｉ
ｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　５ｃａｔｔｅｒ　ｃｏｅｆｆｉ
ｃｉｅｎｔ）が決定され、そしてまたこの方法を実行す
る装置にも関連している。
この種の方法は西ドイツ公開特許第３４０６９０５号か
ら元々知られている。そこで、検査区域は平行ビーム通
路の群に沿って異なる角度で１次ビームによって照射さ
れている。検出器装置は検査区域から現出する１次ビー
ムならびに１次ビームに対して比較的小さい散乱角（１
２°まで）で検査区域から現出する散乱放射を検出する
。異なる散乱角は検出器装置の異なる検出器素子によっ
てカバーされる。引続いで、各画素に対してこの画素の
散乱密度（すなわち単位体積当りの原子数）と微分散乱
断面積（ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ　５ｃａｔｔｅｒ　
ｃｒｏｓｓ−ｓｅｃｔｉｏｎ）の積に対応する画素値が
形成される。
微分散乱係数と規定されるこの積は、散乱角によって決
定された方向の画素に散乱された１次ビームに含まれる
Ｘ線量子あるいはガンマ量子の配分（ｓｈａｒｅ）の測
度（画素の縦方向寸法および空間角の単位に関連してい
る）である。
以下の関係が散乱角βと運動量伝達Ｘとの間に存在する
。
Ｘ＝２ｈ　−ｓ　ｉｎ　（β／２）Ｌ　　　　（１）こ
こで、ｈはプランクの作用量子（６，６３ｘｔｏ−”Ｊ
Ｓ）であり、ＬはＸ線あるいはガンマ量子の波長である
。従って、１次ビーム中の量子のエネルギが分かってい
ると、運動■伝達Ｘは各散乱角に明確に割当てることが
できる。既知の方法により、層の各画素に対して、微分
散乱係数は異なる運動量伝達に対しこのように決定され
る。
小さい散乱角のために、既知の方法はいわゆるレイリー
散乱放射のみを実際にカバーする。よく知られているよ
うに、レイリー散乱は、ガンマ量子が原子的に束縛され
た電子によってそれらのエネルギを変化することなく散
乱されるプロセスである既知の方法で用いられた散乱角
あるいは運動量伝達の小さい値に対して、微分散乱係数
あるいは微分散乱断面積はその電子がレイリー散乱を起
す原子を含む分子の構造に本来依存している。
しかし本発明の目的は、その構造的割当にかかわらず、
層の所定の化学要素（ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｅｌｅｍｅｎ
ｔ）（あるいは層中の個別画素）の内容について定量的
情報が得られるようにする方法を与えることである。
示されたような方法に基いて、この目的は、コブトン散
乱放射とレイリー散乱放射が異なる点で別々に測定され
、コンプトン散乱放射とレイリー散乱放射に対する微分
散乱係数は層の画素の測定値から別々に決定され、種々
の化学要素の配分はこれらの配分によって加重されたこ
れらの要素の微分散乱断面積の重畳が運動量伝達の関数
とじてコンプトン散乱とレイリー散乱に対して運動量伝
達の関数として決定された微分散乱係数に少なくとも近
似的に比例していることで達成されている。
本発明は次のような事実の認識に基いている。
すなわち、異なる化学要素に対する運動量伝達の所与の
範囲内で、運動量伝達の関数としての微分散乱断面積は
、レイリー散乱放射ならびにコンプトン散乱放射に対す
る関連化学要素の特性であるような態様で変化している
。従って、この変動に基いて、どの化学要素が層中に示
されるかが決定できる。
一般に画素はいくつかの化学要素を含んでいる。
これらの要素が分っていると、個々の要素の（既知）の
微分散乱断面積の加重和は、運動量伝達の関数としての
この和の変動が運動量伝達の関数として微分散乱断面積
の測定された変動に少なくとも実質的に対応するように
（加重因子の適当な変化によって）形成することができ
る。測定された変動に最も近い和の加重因子は画素中の
関連化学要素の配分を表わしている。
本発明による方法において、散乱放射は範囲０．５≦Ｘ
　Ｌ　ｏ　／　ｈ≦６の運動量伝達について決定される
ことが好ましい。ここでＬＯはｌ　Ｑ　−１０ｍ（＝１
オングストローム）に等しい。１次ビームのＸ線量子の
エネルギが例えば約６０ｋｅＶになる場合に、この条件
は約６°から８０°までの範囲にある散乱角に対して満
足されよう。
小さい散乱角あるいは小さい運動量伝達の場合には、測
定は散乱プロセスにあずかる原子の位置している分子化
合物の構造によって影響される。
幾何学的理由により、散乱角の上限は約９０°となる。
コンプトン散乱放射とレイリー散乱放射の別々の測定に
対して、散乱Ｘ線量子のエネルギはコンプトン散乱の間
に減少され、一方、レイリー散乱の間にそれは維持され
ると云う事実が用いられなくてはないらい。従って検出
器装置はエネルギ分解能を持たねばならない。しかし、
この能力は例えばゲルマニウム検出器の場合には、約３
００ｅＶ　（６０ｋｅＶにおいて）に制限される。しか
し、１次ビーム中の量子エネルギが例えば５７ｋｋｅＶ
となると、散乱角１８°　（あるいはそれ以上）で現出
する量子のみがコンプトン散乱の間に３００ｅＶあるい
はそれ以上のエネルギ損失をこうむるであろう。もっと
小さい散乱角の場合には、そのような検出器はコンプト
ン散乱放射とレイリー散乱放射を別々に測定できない。
従って、本発明による別の変形では、各方向および各ビ
ーム通路に対して第１測定が実行され、その間に散乱放
射が検出器装置上に直接入射され、引続いて第２測定が
実行され、その間にフィルタが検査区域と検出器装置と
の間に挿入され、上記のフィルタの吸収帯域端（ａｂｓ
ｏｒｔｉｏｎ　ｂａｎｄ　ｅｄｇｅ）は生成されたコン
プトン散乱放射の波長より短かく、かつレイリー散乱放
射の波長よりは長い波長にある。
フィルタの吸収帯域端が位置する波長が１次ビーム中の
量子エネルギより僅かばかり小さいエネルギ（例えば４
０ｅＶ）に対応する場合、レイリー散乱放射は第２測定
の間にフィルタによって多少抑制され、従ってコンプト
ン散乱放射とレイリー散乱放射は第１測定と第２測定の
比較によって別々に決定できる。
この方法を実行する装置であって、 ガンマ線あるいはＸ線を発生する放射線源、検査区域を
通る照射に対し小さい断面積を有する１次ビームを形成
する隔膜装置　（ｄｉａｐｈｒａｇｍｄｅｖｉｃｅ）、 検査区域の他の側の１次ビームならびに１次ビームによ
って照射された区域内に生成された散乱放射を測定する
検出器装置、 一方の側の検査区域と他の側の放射線源および検出器装
置との間で移動運動および回転運動を実現する駆動手段
、および １次ビームによって照射された検出器区域の層の画素の
微分散乱係数を決定する演算装置、を具える装置は、 検出器装置が、ガンマ量子あるいはＸ線量子の検出に基
いて、量子エネルギに依有する振幅を有するパルスが発
生されるように構成され、このパルスはコンプトン散乱
放射とレイリー散乱放射が別々に決定できるようにそれ
らの振幅に依存して処理され、 蓄積装置が備えられ、ここでコンプトン散乱放射とレイ
リー散乱放射に対する散乱断面積が検査区域内に生起す
る化学要素の運動量伝達の異なる値に対して蓄積され、 演算装置は個々の画素に含まれる化学要素の配分が測定
値と蓄積装置に蓄積された値から決定されるようにプロ
グラムされていること、を特徴とする。
コンプトン散乱放射とレイリー散乱放射が別々に測定さ
れるべき場合には、できる限り単色であるＸ線あるいは
ガンマ線を供給する放射線源が使用されなくてはならな
い。これは、広帯域Ｘ線スペクトルあるいは広帯域ガン
マ線スペクトルの場合に、２つの散乱放射配分を別々に
決定するために、散乱量子のエネルギから（レイリー散
乱あるいはコンプトン散乱の）散乱プロセスを決定する
ことが不可能であるからである。アイソトープが正確に
単色なＸ線を供給するが、その強度は非常に低いことが
知られている。従って、本発明による方法の実施では、
生きている人間や動物の体の検査が殆ど実行できないほ
ど長時間を必要とする。
従って、本発明による別の変形は、放射線源がタンタル
陽極を有するＸ線源によって形成され、そのビーム通路
に短波長放射を抑制するフィルタが配列されていること
を特徴としている。本発明による別の実施例はこのフィ
ルタがツリウムでできていることを特徴としている。
Ｘ線源はその最大エネルギがＸ線源に印加された高電圧
によって決定される遅延放射スペクトル（ｒｅｔａｒｄ
ａｔｉｏｎ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ　５ｐｅｃｔｒｕ＋ｎ
）を有することが知られている。例えば、高電圧が１２
０ｋｅＶであると、発生されたＸ線量子の最大エネルギ
は１２０ｋｅＶになる。しかし、遅延放射に加えて、Ｘ
線源はまた線スペクトルを有する特性放射（ｃｈａ（ｃ
ｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃ　ｒａｄｉａｔｉｏｎ）を
発生する。特にそれはいわゆるにα１線の強度といわれ
ている。それは全強度の約１０％にもなる。ｋα１線の
エネルギはクンタル陽極を具えるＸ線源は５７．５２４
ｋｅＶとなる。ツリウムフィルタの吸収帯域端は約５９
．４　ｋ　ｅ　Ｖに位置している。このようにして、遅
延放射スペクトルの高エネルギ部分は実質的に抑制され
、一方、低エネルギ部分と特ににα１線はフィルタによ
って実質的には影響されぬままである。
本発明による別の変形におけるこの種のＸ線源はエルビ
ウムフィルタを具え、これは検査区域と検出器装置の間
に挿入できる。エルビウムは量子エネルギ５７．４８３
　ｋ　ｅ　Ｖに対応する波長に位置している吸収帯域端
を有している。かくしてこの種のフィルタはタンタル陽
極を有するＸ線源のにα１線によって励起されたレイリ
ー散乱放射を実質的に抑制し、一方、コンプトン散乱放
射はそれによって殆ど影響されない。そのようなフィル
タの使用は２つの測定によってコンプトン散乱放射とレ
イリー散乱放射の別々の決定を可能にし、従って検出器
装置のエネルギ分解能について極めて高い要求条件を課
す必要はない。それ故、一般に冷却を必要とし、かつ高
価である半導体検出器素子の代わりに、例えば沃化ナト
リウム結晶を有するシンチレーション検出器のような他
の検出器素子が検出器装置としてまた使うことができる
。
以下、本発明を図面を参照して詳細に説明する。
第１図ａの記号１はＸ線源の形をした放射線源を示し、
その放射ビームは隔膜装置２によって狭い断面積（ペン
シルビーム）を有する１次ビーム３を形成するようにス
トップされている。１次ビーム３は例えば検査すべき人
間の胴体のような対象５をとりまく円形検査区域４を照
射する。検査区域から現出する放射は検出器装置６によ
って測定される。
駆動器７が具えられ、これは一方の側の検査区域４ある
いは物体５と、他方の側のＸ線源ｌ、隔膜装置２および
検出器装置６との間の相対移動あるいは相対回転運動を
生成する。かくして検査区域はまず１次ビーム３に平行
に延びている多数のビーム通路に沿って照射され、引続
いてそれに異なる角度で延びている相互に平行なビーム
通路に沿って照射される。これまで第１図に関連して説
明された装置は既知の第一世代のコンピュータトモグラ
フィ装置（ＣＴ）に対応している。
Ｘ線源１は少なくともＸ線源によって発生された電子が
入射される領域においてタンタルからなる陽極を具えて
いる。それは例えば１００とか１２０ｋＶのような高電
圧で動作し、これはタンタルの特性エネルギ（５７，５
２４ｋｅＶ）より実質的に高い。従って、この陽極によ
って発出されたＸ線のスペクトル変動は波長りの関数と
して第２図ａのように示されており、特性放射の波長に
１によって示されている。
Ｘ線源ｌと検査区域４の間にツリウムフィルタ８が配列
され、その吸収帯域端は約５９．３３５ｋｅＶに位置し
ている。このフィルタはその波長りがエネルギ５９．３
３５　ｋ　ｅ　Ｖに対応する値より小さいスペクトルの
部分を実質的に抑制し、かつより長い波長を有する他の
部分を実質的に何の障害無しに通過させる。従って、検
査区域４を通過する１次ビーム３のスペクトルは第２図
すの実線によって表わされた（理想化された）変動を有
している。
事実、遅延放射は第２図すに示されているほど抑制でき
ない。遅延放射スペクトルがさらに抑制されている放射
線源が第１図すに示されている。
ここでタンタル箔１ａによって発出された蛍光放射が使
用され、それが起こるのは１００−１２０ｋＶで動作す
るＸ線源のＸ線にそれがさらされている場合である。蛍
光放射は実質的に純粋の線スペクトルを有しているが、
しかしその強度は第２図ａに示されているようにタンタ
ルＸ線源の線スペクトルの強度より小さい。ｋβ線（６
５ｋ　ｅ　Ｖ）を抑制するためにツリウムフィルタ８が
ここでなお必要とされている。
純粋な単色放射は放射性核種放射線源、好ましくはアメ
リシウム２４１が使用される場合に得られる。この放射
のエネルギは５９．５３７ｋｅνである。
その場合フィルタ８は余計である。
検出器装置６は多数の検出器素子ＤＯ，ＤＩ−−−Ｄｎ
からなっている。検出素子ＤＯは検査区域の他の側にお
いて１次ビーム３を受信する。従って、それによって供
給された測定値は１次ビームの減衰の測度である。検出
器Ｄｉ−−−−Ｄｎは１次ビーム３によってぶつからな
いが、１次ビーム３により検査区域４に生成された散乱
放射によってのみぶつかるように配列されている。
検出器素子の数とそれらの配列は、約６°と８０°の間
の散乱角に対して、本質的に１次ビーム３に沿う各点か
らの散乱放射が物体５中に示された化学要素の存在する
のと同じくらい多い検出器素子によって捕獲されるよう
選ばれている。従って、人体の検査に対して少なくとも
６つの検出器素子が存在しなくてはならない。と言うの
は少数の残部を無視して、人体は酸素、水素、炭素、窒
素、燐およびカルシウムからなり、上記の検出器素子は
６°から８０°の角度の範囲で１次ビーム３によって検
査区域の点で発生された散乱放射を検出するからである
。
コンプトン散乱プロセスによって散乱される１次ビーム
３中のＸ線量子がエネルギを失うと言う理由で、このタ
イプの散乱放射のスペクトルは第２図すの破線によって
示されたようにより長い波長に向かってシフトされる。
ｋα線の波長はに１からに２にシフトされる。シフトの
程度は散乱角に依有する。散乱角１２°に対し、波長変
動は約１４０ｅＶのエネルギ差に対応する。１８０゛の
散乱角に対しては、シフトは４９００ｅＶのエネルギ差
に対応する。
検査区域４と検出器装置６との間に、２つの位置を専有
できるようにエルビウムフィルタ９が配列されている。
すなわち、散乱放射がフィルタ９によってさまたげられ
ること無く検出器素子Ｄ１−−−−Ｄｎに達することの
できる第１位置と、放射がフィルタ９のみを通して検出
器素子に達することのできる第２位置である。
波長りの関数としてのエルビウムフィルタの減衰変化は
第２図Ｃに線図的に示されている。フィルタの減衰は最
初に波長が増大するにつれて単調に増大し、そして波長
ｋＯ″？：急により低い値に減少し、そのあと再び増大
することが分かる。波長ｋＯにおける減衰ファクタの遷
移はフィルタ９の吸収帯域端を表わしている。ｋ吸収帯
域端は量子エネルギ５７．４８３　ｋ　ｅ　Ｖに対応す
る波長を持っている。それはタンタルの特性Ｘ線エネル
ギ（ｋｌ）の下４０ｋｅＶに位置している。かくして、
フィルタ９はレイリー散乱放射（第２図すの実線）とコ
ンプトン散乱放射（同図の破線）に対して明白に異なる
値を有している。
従って、２つの測定が実行されると、すなわち１つがフ
ィクタ有りであり、もう１つがフィルタ無しで行なわれ
ると、レイリー散乱放射とコンプトン散乱放射の配分は
異なる加重を持つ合成測定値となる。コンプトン散乱放
射とレイリー散乱放射の配分は、エルビウムフィルタ９
の減衰の変動が減衰の関数として既知であるζ（第２図
Ｃを見よ）それから別々に決定できる。アメリシウム２
４１が用いられる場合、フィルタ９はレイリー散乱放射
の抑制を可能にするためにツリウムから構成されるべき
である。
検出器素子Ｄ　１−−−−Ｄ　ｎの各々に処理ユニット
Ｅ　１−−−−Ｅ　ｎが続くが、しかし第１図ａはユニ
ットＥ１とＥｎのみを示している。散乱Ｘ線量子の検出
に応じて、各検出器素子Ｄ　Ｉ−−−−Ｄ　ｎはその振
幅がＸ線量子のエネルギに比例しているパルスを発生す
る。これらのパルスはユニットＥｌ−Ｅｎで増幅され、
次いでパルス振幅分析を受ける。
所与の振幅をこえるパルス、およびそのエネルギが波長
に１に対応する値より小さく、かつ波長に２に対応する
値より大きいＸ線量子から発生するパルスのみが各ユニ
ットに含まれるカウンタでカウントされる。このように
して、カウンタの位置は散乱放射の強度の測度である。
この情報はマルチプレクサ１０を介してメモリ１１に印
加される。
対象に依存しないか、あるいは直接依存しない効果（多
重散乱放射、検出器感度、１次ビームに対する検出器素
子の配列等）は測定値に訂正ファクタを乗算することに
より前もって除くことが好ましい。この訂正ファクタは
その散乱の振舞が既知の物体（例えば水）について実行
された較正測定から導かれる。測定が完了したあと、メ
モリは各ビーム通路、各方向および各検出器に対するコ
ンプトン散乱放射とレイリー散乱放射の２つの測定値を
含むか、あるいはそこから２つの散乱放射配分が導ける
２つの測定値を含むであろう。検査区域の個々の画素に
対して蓄積された値から、演算装置１２は運動量伝達の
関数として各微分散乱係数を決定し、それから個々の画
素中の化学要素の配分を決定する。
第３図はフローチャートに基づく種々の化学要素の配分
の決定を例示している。ブロック１８において、１次ビ
ーム３によって照射された検査区域４の層中の減衰の空
間分布は検出器素子ＤＯにより形成された測定値から決
定される。この演算はコンビュータトモクラフィから知
られた態様で実行される。検出器素子ＤＯの出力信号は
演算装置１２によって処理する前に増幅され、かつディ
ジタル対アナログ変換器でディジタルデータ語に変換さ
れなくてはならない。説明を明確にするために、この演
算を実行するのに必要な構成素子は第１図ａでは省略さ
れている。
ブロック１９はコンプトン散乱にたいする測定値の装荷
に関連している。ブロック２０では検査区域４の層の画
素に対するコンプトン散乱の微分散乱係数が運動量伝達
の関数として決定されている。
分岐演算２１の間で、レイリー散乱放射に対する測定値
がすでに処理されたかどうかがチェックされる。最初は
そうでないから、プログラムはブロック２２に進み、そ
の間にこれらの測定値は装荷される。引続いて、ブロッ
ク２０でレイリー散乱放射の微分散乱係数は層の各画素
に対するこれらの測定値から繰返して決定される。更新
チェックのあと、プログラムはブロック２３に進む、こ
こで個々の画素の物質の種々の化学要素の配分はレイリ
ー散乱放射とコンプトン散乱放射に対する微分散乱断面
積から決定される。
第４図は層のすべての画素および異なる運動量伝達に対
するコンプトン散乱放射の微分散乱係数Ｃｍを決定する
ブロック２０のフローチャートを示している。レイリー
散乱放射の微分散乱係数Ｒｍも同様にして計算される。
スタート（ステップ２０１）のあと、微分散乱係数Ｃｍ
はすべての画素ｍ、　　ｎおよび異なる運動量伝達Ｘに
ついて与えられる。第５図ａによると、各運動量伝達Ｘ
Ｏ，Ｘｉ、Ｘ２．−−−−Ｘｔに対して関連する運動量
伝達に対する微分散乱係数の空間分布を示す映像が得ら
れている。換言すれば、それが位置している列ｍと行ｎ
によって規定された各画素に対して、微分散乱係数Ｃｍ
が運動量伝達Ｘの関数として決定される。この演算が実
行されている異なる運動量伝達の数は検査区域中に示さ
れた化学要素の数に少なくとも等しくなくてはならず、
かつ散乱放射の捕獲を与える検出器素子Ｄ　Ｉ−−−−
Ｄ　ｎの数より大きくてはならない。
微分断面積のプリセットは任意である。例えば、水が検
査区域４のいたる所に存在すると仮定でき、従って各運
動量伝達およびすべての画素に対して同じ微分散乱係数
が得られ、これは運動量伝達の関数として水の微分散乱
断面積と同じ変動を示している。この初期分布は各検査
について再びプリセットする必要はない。メモリからフ
ェッチされることのみが必要であるようにそれはメモリ
に蓄積されよう。
次のステップ２０３の間に、ビーム通路の方向を特徴付
ける角度ａがプリセットされ、ステップ２０４でビーム
通路とセンタ１６間の距離ｒ（第５図すを見よ）がプリ
セットされる。次のプログラムステップ２０５の間に、
検出器要素Ｄｊが検出器素子Ｄ　１−−−−Ｄ　ｎから
選択される。
プログラムステップ２０６の間に、もし１次ビームがパ
ラメータｒとａによって規定されたビーム通路に沿って
検査区域を通過し、そしてもし微分散乱断面積の仮定さ
れた分布が実際の分布に対応したならば、検出器Ｄｊに
よって測定される散乱放射が計算される。この目的で、
ビーム通路のｊ番目の画素に対して散乱角βｉｊが計算
され、それによりこの画素に生成された散乱放射は検出
器Ｄｊに入射される（第５図すを見よ）。角度βｉｊは
式 ％式％（２） によって計算される。
ここでｄｊは検出器素子Ｄｊとビーム通路間の距離であ
り、ｆｉは検出器からビーム通路への法線のベースと画
素との間の距離である（第５図すを見よ）。散乱角βｉ
ｊが分かると、運動量伝達は、 Ｘ１ｊ＝２　ｈ−ｓｉｎ　（βｉｊ／２）／Ｌ　　　（
３）によって計算できる。
レイリー散乱放射に対して、波長りは１次ビーム中の放
射の波長に対応し、一方、コンプトン敗°乱放射に対し
て、この波長はコンプトン散乱放射の場合の波長変動の
既知の式によって上記の波長と散乱角βｔｊから決定さ
れなくてはならない。
最後に、空間角ＤＯｉｊが決定され、これはｉ番目の画
素に形成された散乱放射を測定する検出器Ｄｊによって
カバーされる。この角度は以下のごとく、 ＤＯｉｊ＝Ｆ　−ｃｏｓ　　ｃ／　（ｄｊ２＋ｆｆ１ｉ
”）　　　　（４）によって計算される。
ここでＦは検出器素子Ｄｊの測定表面面積（ｍｅａｓｕ
ｒｅｍｅｎｔ　５ｕｒｆａｃｅ　ａｒｅａ）であり、Ｃ
は散乱放射の方向に対する測定表面の法線によって囲ま
れた角度である。
またｉ番目の画素へのその通路Ｓ１に沿い（第５図Ｃを
見よ）、およびこの画素から検出器素子Ｄｊへのその通
路Ｓ２に沿う１次ビームによって得られた減衰Ｔｉｊが
決定される。通路ｓ１およびＳ２に沿う放射の波長は既
知であり、がっ通路Ｓ１およびＳ２に沿う減衰は以前に
計算されたコンピュータトモグラム（ブロック１８）か
ら既知であると言う理由で、Ｔｉｊは正確に決定できる
。
減衰の計算および式（２）と（４）による計算は検査区
域４内でパラメータａ、ｌ！：ｒによって特徴付けられ
たビーム通路に沿って位置するすべてのＭ個の画素につ
いて繰返される。引続いて、ビーム通路から検出器素子
Ｄｊへ入射された散乱放射の強度は以下のごとく ここで、Ｃｍ　（ｉ、　　Ｘｉｊ’）は運動量伝達Ｘｉ
ｊとビーム通路に沿うｉ番目の要素に対する微分散乱断
面積である。ビーム通路の位置はｒとａによって規定さ
れるから、ビーム通路に沿う各要素ｉについてパラメー
タｍとｎによって画素を関係付けることができ、従って
値Ｃｍ　（ｉ、　　Ｘ　ｉ　ｊ）は所与のデータＣｍ　
（ｍ、ｎ、Ｘ）から決定できる。
一般に、ビーム通路に沿うｉ番目の要素はｍとｎによっ
て特徴付けられた画素と同じ空間位置を正確に専有して
いない。同様に、Ｘｉｊは一般に運動量伝達ＸＯ，Ｘｉ
、Ｘ２．−−−−Ｘｔの１つと同等ではない。これらの
場合に、値Ｃｍ（ｉ、Ｘ１ｊ）は近隣画素（ｎｅｉｇｈ
ｂｏｕｒｉｎｇ　ｐｉｘｅｌ）あるいは近隣運動量伝達
間の補間によって決定されなくてはならない。
このように決定されたｌ５ｊ（ｒ、ａ）は、もし所定の
分布Ｃｍ　（ｍ、ｎ、Ｘ）が実際の分布に対応するなら
検出器Ｄｊによって測定された値Ｍｊ　（ｒ、ａ）と同
等でなくてはならない。一般に、これは式 Ｅｊ（ｒ、　　ａ）　　＝Ｓｊ（ｒ、　　ａ）−Ｍｊ（
ｒ、　　ａ）　　　（６）（ステップ２０７）によって
訂正値Ｅｊ（ｒ、ａ）が計算できるようなケースではな
いであろう。計算された訂正値Ｅｊ　（ｒ、ａ）は種々
の画素および計算された値からの種々の運動量伝達に対
する実際の散乱係数の偏差の測度であり、かつ蓄積され
た微分散乱係数を訂正するために使うことができる。
この訂正の間に（ステップ２０８）、式（５）によって
Ｓｊ　（ｒ、ａ）の計算に使用されたすべての微分散乱
係数は訂正され、すなわち式（５）の導入に基く加重と
同じ加重によってその様にされる。微分散乱係数のこれ
らの値は、訂正値Ｅｊ（ｒ、ａ）の所与の部分すがこれ
まで得られた値に付加されるように訂正され、従って式 ％式％（７） が得られる。かくして、ステップ２０８のあとで値Ｃｍ
　（ｍ、ｎ、Ｘ）の一部分は検出器素子Ｄｊによって与
えられた測定値Ｍｊ（乙　ａ）によって訂正される。
引続いて（ステップ２０９）、他の検出器素子が選ばれ
、そしてビーム通路ｒ、ａに対してすべての検出器素子
Ｄｉ−−−−Ｄｎの測定値が測定された散乱強度Ｍ　１
　（ｒ、　ａ）　−−−−Ｍ　ｎ　（ｒ、　ａ）によっ
て訂正されるまで、ステップ２０６から２０８までが再
び実行される。
引続いて、値ｒの変化、すなわちビーム通路と検査区域
４の中心１６との間の距離の変更によって（ステップ２
１０）、以前のビーム通路に隣接し、かつそれに平行に
延びているビーム通路が設定されるように新しいビーム
通路が選択される。
このビーム通路に対して、ステップ２０５から２０９が
繰返され、そのあと、ａによって決定された方向で検査
区域４を通過するすべてのビーム通路に対する訂正が完
了するまで、次のビーム通路が調整される等々である。
引続いて、ビーム通路の異なる方向ａが調整され（ステ
ップ２１１）、それから１次ビームが測定の間に検査区
域を通過するすべての角位置が処理されるまで、ステッ
プ２０４から２１１は繰返される。この第１の繰返しは
別の繰返しを伴い（ステップ２１２）、そしてステップ
２０３から２１１が数回実行される。繰返しの数は固定
できる。しかし、ステップ２０７の訂正が所与のしきい
値以下に常に留まるならば、繰返しを中断することは代
案として可能である。かくして、実際の分布を非常に良
く近似する訂正された分布Ｃｍ（ｍ、ｎ、Ｘ）が得られ
る。これらの分布から、個々の画素中の種々の化学要素
の配分が決定できる。
分布Ｃｍ　（ｍ、ｎ、Ｘ）はメモリ１４に蓄積され、（
コンピュータトモグラムの次に）表示モニタ１５上に表
示できる（第１図）。かくして、個々の各画素の運動量
伝達Ｘｉ、Ｘ２−−−−Ｘｔの関数として、一連の値Ｒ
ｍ　（Ｘ）がレイリー散乱放射について、そして一連の
値Ｃｍ　（Ｘ）がコンプトン散乱放射について得られる
。微分散乱断面積はこの運動量伝達のこの範囲で画素中
に含まれる化学要素に依有するから、画素の物質（ｍａ
ｔｔｅｒ）におけるこれらの化学要素の配分は値Ｒｍ　
（Ｘ）とＣｍ　（Ｘ）の変動からそれぞれ決定すること
ができる。
これは次のように説明できる。単一原子の微分散乱断面
積は一方では運動量伝達に、他方では関連する原子の原
子数Ｚに依有する。それ故コンプトン散乱放射の微分断
面積ｄ　ｓ　／　ｄ　ＯはファクタＣ（Ｚ）とファクタ
Ｑ　（Ｘ）とに分離でき、従って以下の式が得られる。
ｄｓ／ｄｏ（Ｚ、Ｘ）＝Ｃ（Ｚ、Ｘ）・Ｑ（Ｘ）　　（
８）ここで、Ｑ　（Ｘ）は既知のクライン−仁科の公式
（Ｋｌｅｉｎ−Ｎｉｓｈｉｎａ　ｆｏｒｍｕｌａ）　（
例えばＥｎｚｙｃｌｏｐＭｄｉｅ　Ｎａｔｕｒｗｉｓｓ
ｅｎｓｃｈａｆｔ　ｕｎｄ　Ｔｅｃｈｎｉｋ、　Ｚｗｅ
ｉｂｕｒｇｅｎ−Ｖｅｒｌａｇ、　Ｗｅｉｎｈｅｉｍ、
頁７３４１式（５）を見よ）に従って計算された微分断
面積であり、そしてこれはＺや原子のタイプでなく、運
動量伝達に専ら依存している。Ｃ（Ｚ）はいわゆる散乱
関数であり、これは種々の各要素に対する運動量伝達の
関数として計算されるか測定されている。これらの既知
の値Ｃ（Ｚ）は公表されており、なかんずくハラベル（
Ｈｕｂｂｅｌｌ）、バイゲル（Ｖｅｉｇｅｌｅ）　、ブ
リッグス（Ｂｒｉｇｇｓ）、ブラウン（Ｂｒｏｗｎ）　
、クロメル（Ｃｒｏｍｅｒ）およびホヴアートン（Ｈｏ
ｗｅｒｔｏｎ）によって、Ｊ、　Ｐｈｙｓ。
Ｃｈｅｍ、Ｒｅｆ、　Ｄａｔａ　４　、頁４７１〜５３
８．１９７５年の標準表で公表されている。この刊行物
ではＣＣ（Ｘ、Ｚ）はＳ　（ｑ、Ｚ）として示されてい
る。
Ｑ　（Ｘ）は原子のタイプや関連化学要素と無関係であ
るから、微分散乱係数Ｃｍ　（Ｘ）は以下の式によって
決定できる。
Ｃｍ　（Ｘ）＝Ｑ（Ｘ）ΣＮ（ｉ）・Ｃ（Ｚｉ、Ｘ）　
　（９）ここで、Ｎ（ｉ）は関連画素中の化学要素の原
子の数であり、Ｃ（Ｚｉ、Ｘ）はこの要素の散乱関数で
ある。それらから以下の式が得られる。
Ｃｍ（Ｘ）〜Σａ　ｉＣ（Ｚｉ、Ｘ）　　；ａｉ＝Ｎ（
ｉ）／ΣＮ（ｉ）　　　　　　　Ｏｎ）ここで、ａｉは
画素中の原子の全数に関する画素中の化学要素ｉの原子
の配分であり、そしてＺｉは要素ｉの原子数である。
同様に、 Ｒｆｆｌ（ｘ）〜Σａ　　ｉＲ（Ｚ　ｉ、　　Ｘ）　　
　　　　　（Ｉｔ）である。
ここで、Ｒ（Ｚｉ、Ｘ）はレイリー散乱放射に対する原
子数Ｚｉを有する化学要素の散乱関数である。この関数
の個々の値はハラペル等による標準表で（記号Ｆ　（ｑ
、Ｚ）として）また公表されている原子散乱ファクタ（
ａｔｏｍｉｃ　ｆｏｒｍ　ｆａｃｔｏｒ）の自乗に対応
している。
このようにして、弐ＧＯ）と（ＩＩ）によって、（コン
プトン散乱放射とレイリー散乱放射に対する）微分散乱
係数は、コンプトン散乱放射とレイリー散乱放射それぞ
れに対する、散乱関数の配分ａｉによって加重された和
に比例している。微分散乱係数Ｃｍ　（Ｘ）とＲｍ　（
Ｘ）は（測定と反復法によって）既知であり、散乱関数
Ｃ（Ｚｉ、Ｘ）とＲ（Ｚｉ、Ｘ）もまた既知である。こ
のようにして（未知の）配分ａｉを決定することのみが
必要であり、それによって加重された相が以前に決定さ
れた微分散乱関数のような運動量伝達の関数としての同
様な変動を示すように散乱関数の値が加重されている。
微分散乱断面積（および散乱関数）が、少なくとも検査
区域の中に示された異なる化学要素が存在するほど多く
の運動量伝達の異なる値に対して既知である場合には、
原理的にこの目的は達成できる。人体の検査では、これ
らの要素は以前に述べられた６つの化学要素でのみ本質
的であり、従って上記の値は少なくとも６つの異なる運
動量伝達に対して既知でなくてはならない。
数学についての文献（例えばＪｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔ
ｈｅＩｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｏｆ　Ｍｔｈｅｍａｔｉｃｓ
、第９巻、頁９１〜１０８゜１９７２年）から、数値計
算法（いわゆるフィッティング法［ｆｉｔｔｉＢ　ｍｅ
ｔｈｏｄ］　）が知られており、これによって配分ａｉ
は最小自乗法を用いて決定でき、従って、式０ωと（Ｉ
Ｉ）を用いて、加重和の変動は微分散乱係数の変動にで
きる限り比例している。
種々の化学要素に対して決定された値ａｉは関連画素の
物質の、原子百分率（ａｔｏｍｉｃ　ｐｅｒｃｅｎｔａ
ｇｅ）として表現された、関連化学要素の配分に比例し
ている。
コンプトン散乱放射あるいはレイリー散乱放射を測定す
ることにより弐０ωあるいは０１）のみによって値ａｉ
を決定することは原理上可能であろう。
しかしこの場合には、避けられぬ測定エラーが不正確性
の原因となり、これは両方の散乱放射配分の測定、およ
び弐〇〇）と（１１）を解（ことにより実質的に減少で
きる。
種々の化学要素の配分の決定は層４のすべての画素に対
して原理上実行できる。その場合、層内の化学要素の空
間濃度の決定は可能である。望む場合には、この濃度は
表示ユニット１５上に表示するためにメモリ１７に蓄積
することができる。
（要　約） 本発明は検査区域の層内の種々の化学要素の配分を決定
する方法に関するものである。コンプトン散乱放射とレ
イリー散乱放射が別々に決定され、測定値から導かれた
微分散乱関数の変動は個々の画素に含まれる種々の化学
要素の配分によって影響される。従って、これらの化学
要素の配分はそれから決定できる。
【図面の簡単な説明】
第１図ａは本方法を実行する装置を、 第１図すは適当な放射線源の実施例を、第２図ａから第
２図Ｃまではツリウムフィルタの前および後の第１図で
用いられたＸ線源のスペクトルならびにエルビウムフィ
ルタによるその減衰の変動を、 第３図は種々の化学要素の配分を決定する演算装置のフ
ローチャートを、 第４図はそのようなフローチャートの詳細を、第５図ａ
から第５図Ｃまでは第４図に示されたルーチンの間に実
行される計算を例示する種々の線図を示している。 １・・・放射線源　　　　　１ａ・・・タンタル箔２・
・・隔膜装置あるいはフィルタ ３・・・１次ビーム ４・・・（円形）検査区域 ５・・・対象あるいは物体 ６・・・検出器装置 ７・・・駆動手段あるいは駆動器 ８・・・ツリウムフィルタ ９・・・エルビウムフィルタ １０・・・マルチプレクサ １１・・・メモリ　　　　　１２・・・演算装置１３・
・・蓄積装置　　　　１４・・・メモリ１５・・・表示
モニタあるいは表示ユニント１６・・・中心　　　　　
　１７・・・メモリ１８〜２０・・・ブロック　２１・
・・分岐演算ブロック２２．２３・・・ブロック ２１０・・・スタートステップ ２０２〜２１２・・・ステップ ２１３・・・ストップステップ 特許出願人　　　エヌ・ベー・フィリップス・フルーイ
ランベンファブリケン にロ　　　　　　Ｌ ＦＩＧ、　２ｃ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、複数のビーム通路に沿う１次ビームにより、かつ複
    数の方向から照射される検査区域の層の空間構造を決定
    する方法であって、異なる角度で検査区域から現出する
    放射は検査区域外の異なる位置の検出器装置によって検
    出され、そのあとこのようにして得られた測定値から層
    の各画素の異なる運動量伝達に対して微分散乱係数が決
    定されるものにおいて、 コンプトン散乱放射とレイリー散乱放射が 異なる点で別々に測定され、コンプトン散乱放射とレイ
    リー散乱放射に対する微分散乱係数は層の画素の測定値
    （Ｍｊ（ａ、ｒ））から別々に決定され、種々の化学要
    素の配分 （ａｉ）はこれらの配分によって加重されたこれらの要
    素の微分散乱断面積（ｄｓ／ｄｏ）の重畳が運動量伝達
    の関数としてコンプトン散乱とレイリー散乱に対して運
    動量伝達（Ｘ）の関数として決定された微分散乱係数に
    少なくとも近似的に比例していることを特徴とする方法
    。 ２、１次ビーム中のガンマ線あるいはＸ線のエネルギの
    選択および検出器装置の配列は、散乱放射が０．５≦Ｘ
    Ｌｏ／ｈ≦６の範囲の運動量伝達に対して決定されるよ
    うなものであり、ここでｈはプランクの作用量子および
    Ｌｏ＝１０＾−＾１＾０ｍであることを特徴とする特許
    請求の範囲第１項に記載の方法。 ３、各方向（ａ）および各ビーム通路（ｒ）に対して、
    散乱放射の第１測定が実行され、その間に散乱放射は検
    出器装置（Ｄ１‐‐‐‐Ｄｎ）上に直接入射され、引続
    いて第２測定が実行され、その間にフィルタ（９）が検
    査区域 （４）と検出器装置との間に挿入され、上記のフィルタ
    の吸収帯域端は生成されたコンプトン散乱の波長より短
    く、かつレイリー散乱放射の波長より長い波長に位置す
    ることを特徴とする特許請求の範囲第１項もしくは第２
    項に記載の方法。 ４、複数のビーム通路に沿う１次ビームにより、かつ複
    数の方向から照射される検査区域の層の空間構造を決定
    する方法であって、異なる角度で検査区域から現出する
    放射は検査区域外の異なる位置の検出器装置によって検
    出され、そのあとこのようにして得られた測定値から層
    の各画素の異なる運動量伝達に対して微分散乱係数が決
    定されるものにおいて、 コンプトン散乱放射とレイリー散乱放射が 異なる点で別々に測定され、コンプトン散乱放射とレイ
    リー散乱放射に対する微分散乱係数は層の画素の測定値
    （Ｍｊ（ａ、ｒ））から別々に決定され、種々の化学要
    素の配分 （ａｉ）はこれらの配分によって加重されたこれらの要
    素の微分散乱断面積（ｄｓ／ｄｏ）の重畳が運動量伝達
    の関数としてコンプトン散乱とレイリー散乱に対して運
    動量伝達（Ｘ）の関数として決定された微分散乱係数に
    少なくとも近似的に比例していることを特徴とする方法
    を実行する装置が、 ガンマ線あるいはＸ線を発生する放射線源 （１）、 検査区域（４）の照射に対し狭い断面積を 有する１次ビーム（３）を形成する隔膜装置（２）、 検査区域の他の側の１次ビームならびに１ 次ビームによって照射された区域内に生成された散乱放
    射を測定する検出器装置（Ｄ０；Ｄ１‐‐‐‐Ｄｎ）、 一方の側の検査区域と他方の側の放射線源 および検出器装置との間で移動運動および回転運動を実
    現する駆動手段（７）、および １次ビームによって照射された検査区域の 層の画素の微分散乱係数を決定する演算装置（１２）、 を具えるものにおいて、 検出器装置（Ｄ１‐‐‐‐Ｄｎ）は、ガンマ量子あるい
    はＸ線量子の検出によって、量子エネルギに依存する振
    幅を有するパルスが発生されるように構成され、 該パルスは、コンプトン散乱放射とレイリ ー散乱放射が別々に決定できるようにそれらの振幅に依
    存して（Ｅ１‐‐‐‐Ｅｎで）処理され、 蓄積装置（１３）が備えられ、ここでコン プトン散乱放射とレイリー散乱放射に対する散乱断面積
    （Ｃ（Ｚｉ、Ｘ）；Ｒ（Ｚｉ、Ｘ））が検査区域内に生
    起する化学要素の運動量伝達の異なる値に対して蓄積さ
    れ、 演算装置は個々の画素に含まれる化学要素 の配分が測定値（Ｍｊ（ｒ、ａ））と蓄積装置（１３）
    に蓄積された値から決定されるようにプログラムされて
    いること、 を特徴とする装置。 ５、使用された放射線源がタンタル陽極を有するＸ線源
    によって形成され、短波長放射を抑制するフィルタがそ
    のビーム通路に配列されていることを特徴とする特許請
    求の範囲第４項に記載の装置。 ６、放射線源に対しタンタル箔（１ａ）が使用され、そ
    の蛍光放射はＸ線源（１）によって励起され、短波長放
    射を抑制するフィルタ （８）がそのビーム通路に配列されていることを特徴と
    する特許請求の範囲第４項に記載の装置。 ７、フィルタ（２）がツリウムからなることを特徴とす
    る特許請求の範囲第５項もしくは第６項に記載の装置。 ８、検査区域と検出器装置の間に挿入できるエルビウム
    フィルタ（９）が備えられることを特徴とする特許請求
    の範囲第５項ないし第７項のいずれか１つに記載の装置
    。 ９、放射線源に対して放射性核種アメリシウム２４１が
    使用され、かつ ツリウムからなるフィルタが検査区域と検 出器装置（６）の間に挿入できること、 を特徴とする特許請求の範囲第４項に記載の装置。
JP62060271A 1986-03-18 1987-03-17 検査区域の層の空間構造を決定する方法と装置 Pending JPS62228941A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19863608965 DE3608965A1 (de) 1986-03-18 1986-03-18 Verfahren zur bestimmung der raeumlichen struktur in einer schicht eines untersuchungsbereiches
DE3608965.6 1986-03-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62228941A true JPS62228941A (ja) 1987-10-07

Family

ID=6296625

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62060271A Pending JPS62228941A (ja) 1986-03-18 1987-03-17 検査区域の層の空間構造を決定する方法と装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4887285A (ja)
EP (1) EP0242895B1 (ja)
JP (1) JPS62228941A (ja)
DE (2) DE3608965A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008541963A (ja) * 2005-06-06 2008-11-27 バイエル・シエーリング・ファーマ アクチエンゲゼルシャフト 被検対象物を画像表示するためのｘ線装置およびこのｘ線装置の使用法
JP2008545135A (ja) * 2005-07-07 2008-12-11 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 多重散乱補正

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5386819A (en) * 1990-03-29 1995-02-07 Olympus Optical Co., Ltd. Method and apparatus for inhibiting a scattered component in a light having passed through an examined object
WO1992003722A1 (en) * 1990-08-15 1992-03-05 Massachusetts Institute Of Technology Detection of explosives and other materials using resonance fluorescence, resonance absorption, and other electromagnetic processes with bremsstrahlung radiation
DE4200724C1 (ja) * 1992-01-14 1992-12-24 Rockwell Golde Gmbh, 6000 Frankfurt, De
US6175117B1 (en) 1998-01-23 2001-01-16 Quanta Vision, Inc. Tissue analysis apparatus
RU2145485C1 (ru) * 1998-03-12 2000-02-20 Кванта Вижн, Инк. Ультрамалоугловая рентгеновская томография
US6281503B1 (en) 1998-05-06 2001-08-28 Quanta Vision, Inc. Non-invasive composition analysis
CA2348150C (en) 2000-05-25 2007-03-13 Esam M.A. Hussein Non-rotating x-ray system for three-dimensional, three-parameter imaging
US6563906B2 (en) 2000-08-28 2003-05-13 University Of New Brunswick X-ray compton scattering density measurement at a point within an object
US7203271B2 (en) * 2004-06-28 2007-04-10 Pediatric Imaging Technology, Llc Ionizing radiation imaging system and method with decreased radiation dose
DE102004035943B4 (de) * 2004-07-23 2007-11-08 GE Homeland Protection, Inc., , Newark Röntgencomputertomograph sowie Verfahren zur Untersuchung eines Prüfteils mit einem Röntgencomputertomographen
CA2513990C (en) * 2004-08-27 2010-09-14 Paul Jacob Arsenault X-ray scatter image reconstruction by balancing of discrepancies between detector responses, and apparatus therefor
GB0424876D0 (en) * 2004-11-11 2004-12-15 Koninkl Philips Electronics Nv Energy-resolved computer tomography
US7304285B2 (en) * 2004-11-19 2007-12-04 Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. Method and system for shaping a spatial response of a spatial filter
GB0500536D0 (en) * 2005-01-12 2005-02-16 Koninkl Philips Electronics Nv Coherent scatter computer tomography material identification
GB0500535D0 (en) * 2005-01-12 2005-02-16 Koninkl Philips Electronics Nv Computer tomography apparatus
JP4336661B2 (ja) * 2005-03-01 2009-09-30 ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー Ｘ線ｃｔ装置および散乱測定方法
US20070025514A1 (en) * 2005-06-06 2007-02-01 Ruediger Lawaczeck X-ray arrangement for graphic display of an object under examination and use of the x-ray arrangement
US7697664B2 (en) * 2006-05-15 2010-04-13 Morpho Detection, Inc. Systems and methods for determining an atomic number of a substance
DE102006045722B4 (de) * 2006-09-27 2014-11-27 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Korrektur der Streustrahlung in der Projektionsradiographie und der Comupter-Tomographie und Apparat hierfür
US20080219404A1 (en) * 2007-03-08 2008-09-11 Bio-Imaging Research, Inc. Method and Apparatus to Facilitate Formation of a Two-Dimensional Image Using X-Ray Fan Beam Scatter
NL2009049C2 (en) 2012-06-21 2013-12-24 Entech Scient B V Method and device for identifying unknown substances in an object.
WO2016077865A1 (en) * 2014-11-21 2016-05-26 Monash University Single/limited angle gamma/x-ray tomography
CN114166874A (zh) * 2020-09-11 2022-03-11 同方威视技术股份有限公司 背散射检查系统和方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4619519Y1 (ja) * 1967-03-30 1971-07-07
US3843881A (en) * 1973-01-11 1974-10-22 Phillips Petroleum Co Detection of elements by irradiating material and measuring scattered radiation at two energy levels
US4149081A (en) * 1976-11-29 1979-04-10 Varian Associates, Inc. Removal of spectral artifacts and utilization of spectral effects in computerized tomography
US4288695A (en) * 1979-04-13 1981-09-08 Technicare Corporation Computerized tomographic scanner with shaped radiation filter
AU530206B2 (en) * 1979-06-26 1983-07-07 De Beers Industrial Diamond Division (Proprietary) Limited Detection of low atomic number particles
US4314155A (en) * 1979-07-19 1982-02-02 Australian Atomic Energy Commission Method and apparatus for elemental analysis employing combination of neutron inelastic scattering and γ ray scattering
DE3406905A1 (de) * 1984-02-25 1985-09-05 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Roentgengeraet
DE3526015A1 (de) * 1985-07-20 1987-01-22 Philips Patentverwaltung Verfahren zum bestimmen der raeumlichen verteilung der streuquerschnitte fuer elastisch gestreute roentgenstrahlung und anordnung zur durchfuehrung des verfahrens

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008541963A (ja) * 2005-06-06 2008-11-27 バイエル・シエーリング・ファーマ アクチエンゲゼルシャフト 被検対象物を画像表示するためのｘ線装置およびこのｘ線装置の使用法
JP2008545135A (ja) * 2005-07-07 2008-12-11 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 多重散乱補正

Also Published As

Publication number Publication date
US4887285A (en) 1989-12-12
EP0242895A2 (de) 1987-10-28
DE3776718D1 (de) 1992-03-26
EP0242895B1 (de) 1992-02-19
EP0242895A3 (en) 1989-07-12
DE3608965A1 (de) 1987-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS62228941A (ja) 検査区域の層の空間構造を決定する方法と装置
US7881424B2 (en) Method for calibrating dual-energy CT system and method of image reconstruction
US8315352B2 (en) System and method of spectral calibration and basis material decomposition for X-ray CT systems
US3927318A (en) Cross-sectional fluorescent imaging system
US20060280281A1 (en) Method for calculating absorber-specific weighting coefficients and method for improving a contrast-to-noise ratio, dependent on an absorber, in an x-ray image, produced by an x-ray machine, of an object to be examined
US20060182217A1 (en) Method and imaging system for imaging the spatial distrubution of an x-ray fluorescence marker
US20100027743A1 (en) Apparatus and method for determiining a detector energy weighting function of a detection unit
US20090080597A1 (en) System and method for performing material decomposition using an overdetermined system of equations
CN105939667B (zh) 用于生成谱计算机断层摄影投影数据的系统
Elleaume et al. Performance of computed tomography for contrast agent concentration measurements with monochromatic x-ray beams: comparison of K-edge versus temporal subtraction
US4850002A (en) Two-dimensional compton profile imaging method
US20080273666A1 (en) System and method of density and effective atomic number imaging
US20090257549A1 (en) Method for preparing reconstructed CT image data records and CT system
JP2007529738A (ja) 干渉性散乱ｃｔのビーム硬化補正および減衰補正
JP2009508616A (ja) Ｃｔ画像形成システム
JP5779819B2 (ja) 放射線検出器
US7787589B2 (en) In vivo measurement of trace elements in bone by x-ray fluorescence
CN103339497B (zh) 探测值处理设备
US20120104262A1 (en) Evaluation of measurements from a pixelated detector
US7643866B2 (en) Method for producing a computed tomography display of tissue structures by applying a contrast medium
US20150117595A1 (en) Method and x-ray system for generating a phase contrast image
JP2011525382A (ja) ｋエッジ撮像のための医療Ｘ線検査装置及び方法
US7050530B2 (en) Method and apparatus for the spatially-resolved determination of the element concentrations in objects to be examined
US5081581A (en) Correction for Compton scattering by analysis of energy spectra
US20210223189A1 (en) Method for establishing a spectral response function of a system for measuring with x-rays or gamma rays