JPS62188149A - Radiation device - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子線等の荷電粒子の照射装置において照射に
よる局部加熱に対する熱除去の必要となる装置に係シ、
特KX線発生装置に適用するに好適な照射装置に関する
ものである。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to an irradiation device for charged particles such as an electron beam, which requires heat removal for local heating caused by irradiation.
This invention relates to an irradiation device suitable for application to a special KX-ray generator.
従来のこの種の照射装置は、特開51−57176号に
記載のように真空中で回転するターゲットに対して1回
転ジオインドとベアリング及び真空シールによυ支持さ
れた中空回転軸によって冷却媒体を中空のターゲットに
送シ込む方法が用いられていた(第3図参照)。しかし
、高速回転する回転軸を真空シールして真空を保つ事は
技術的に難しく、真空シール部からの空気リークが電子
線の不安定性を生じる原因となっている。Conventional irradiation equipment of this type, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-57176, supplies a cooling medium to a target rotating in a vacuum by geoinding the target once and using a hollow rotating shaft supported by a bearing and a vacuum seal. A method was used in which the target was pumped into a hollow target (see Figure 3). However, it is technically difficult to vacuum-seal a rotating shaft that rotates at high speed and maintain a vacuum, and air leaks from the vacuum-sealed portion cause instability of the electron beam.
上記従来技術はすでに述べた様に高速回転する回転軸を
囲む真空シール部からの空気リークが基本的に避けられ
ない問題である。例えば現状では真空シール部のリーク
は〜10−@torrt/secであるが、この場合、
真空壁内の容積t−1を程度とすると、第2図に示す様
に3時間程度で真空度が10−’ torrに低下して
電子線が不安定になり、そのため安定したX線を得るこ
とが難しくなる。また高速回転する軸の真空シールは温
度変化に弱く。As mentioned above, the above-mentioned prior art basically has an unavoidable problem of air leakage from the vacuum seal surrounding the rotating shaft that rotates at high speed. For example, currently the leakage from the vacuum seal is ~10-@torrt/sec, but in this case,
Assuming that the volume t-1 inside the vacuum wall is the degree, the degree of vacuum decreases to 10-' torr in about 3 hours as shown in Figure 2, and the electron beam becomes unstable, so stable X-rays are obtained. things become difficult. Also, vacuum seals on shafts that rotate at high speed are sensitive to temperature changes.
寿命が短い(〜2年)という問題もある。さらに電子線
の照射を受は急激に温度の上昇するターゲットの局所的
な温度変化を少なくするためにはターゲットの回転数を
上げて温度を時間的に平坦にすることが必要である。と
ころが回転ジオインド部の回転数は300’Or、p、
m程度で限界に達するため1局所的な温度変化を極端に
少なくする(数10C)必要がある場合は対応できない
等の問題がある。Another problem is that it has a short lifespan (~2 years). Furthermore, in order to reduce local temperature changes in a target whose temperature rises rapidly when irradiated with an electron beam, it is necessary to increase the rotational speed of the target to flatten the temperature over time. However, the rotation speed of the rotating geoind part is 300'Or,p,
Since the limit is reached at about m, there is a problem that it cannot be done if it is necessary to extremely reduce one local temperature change (several 10 C).
本発明の目的は、空気リーク部が無く、かつ温度の局所
的な時間的変化の少ないX線発生装置を提供することに
ある。An object of the present invention is to provide an X-ray generating device that has no air leakage portions and has little local temporal change in temperature.
上記目的は1回転軸を囲む真空シール部をなくし、かつ
回転ジオインドを用いないことによシ達成される。第1
図はX線発生装置を例にとり本発明の基本的構成を示し
た斜視図である。第4図にそのl−11軸を含む断面を
示す。本発明の適用により、第2図に1点鎖線で示した
ように真空保持が確実になる。X線発生装置は加速した
電子をターゲットに打ち込み、その際ターゲットよシ放
出される制動X線および特性X線を取り出すものである
。第1図に示す様に電子線を発射する電子銃2は真空壁
1に固定されている。真空壁1は外部の駆動力により回
転する。従って電子銃2も真空壁1と一緒に回転する。The above object is achieved by eliminating the vacuum seal surrounding the rotating shaft and by not using a rotating geoind. 1st
The figure is a perspective view showing the basic configuration of the present invention, taking an X-ray generator as an example. FIG. 4 shows a cross section including the l-11 axis. By applying the present invention, vacuum maintenance can be ensured as shown by the dashed line in FIG. An X-ray generator shoots accelerated electrons into a target, and extracts bremsstrahlung X-rays and characteristic X-rays emitted from the target. As shown in FIG. 1, an electron gun 2 that emits an electron beam is fixed to a vacuum wall 1. The vacuum wall 1 is rotated by an external driving force. Therefore, the electron gun 2 also rotates together with the vacuum wall 1.
電子銃2はフィラメント3および電極4で構成されてお
り、フィラメント3には交流又は直流の電圧が電源8に
よシ印加され。The electron gun 2 is composed of a filament 3 and an electrode 4, and an AC or DC voltage is applied to the filament 3 by a power source 8.
電極4には直流の電圧が電源9により印加されている。A DC voltage is applied to the electrode 4 by a power source 9.
電源8によって加熱されたフィラメント3から電子が放
出され、電極4によって作られる電場によって上記の電
子は第1図の中心軸1−Ifに平行にターゲット5に対
して発射される。一方。Electrons are emitted from the filament 3 heated by the power source 8, and the electric field created by the electrode 4 causes the electrons to be emitted toward the target 5 in parallel to the central axis 1-If in FIG. on the other hand.
真空壁の外部からは一定方向に磁場あるいは電場がかけ
られる。第1図は磁場をかけた場合を示し。A magnetic or electric field is applied from outside the vacuum wall in a fixed direction. Figure 1 shows the case when a magnetic field is applied.
磁場は電子の発射方向に向かって垂直Kかけられている
。従って電子銃2から発射された電子は真空壁1の回転
とは独立に常に一定方向にかけられた磁場のため、第1
図に示す矢印a、 bの様に下方に偏向し、ターゲッ
ト5に入射する。ターゲット5は窓6を挾んで真空壁I
K固定され、真空壁1と同心状に回転する。ターゲット
5から放出されe X’、1!は真空壁lに取シ付けた
リング状の窓6を通してX線発生装置の外部へ取り出さ
れる。A magnetic field is applied perpendicularly to the direction of electron emission. Therefore, the electrons emitted from the electron gun 2 are caused by the magnetic field always being applied in a fixed direction independently of the rotation of the vacuum wall 1,
It is deflected downward as indicated by arrows a and b shown in the figure, and enters the target 5. Target 5 is a vacuum wall I with window 6 in between.
K is fixed and rotates concentrically with the vacuum wall 1. Released from target 5 e X', 1! is taken out to the outside of the X-ray generator through a ring-shaped window 6 attached to the vacuum wall l.
窓6はX線の透過率の高い材料1例えばBeを用いる。The window 6 is made of a material 1 having high X-ray transmittance, such as Be.
窓6を透過したX線は試料7あるいは回折格子(図示せ
ず)等の分光機器に入射する。本発明の場合、外部から
常に一定方向に磁場をかけてあシ、電子は一定の偏向を
する。従ってX線の発生位置は回転とは独立に試料に対
して常に同一地点であシ、試料には一定強度のX線が一
定方向から入ってくることになる。一方、電子の照射に
より加熱されるターゲット5はノズル10から噴射され
る冷却媒体によって除熱される。The X-rays transmitted through the window 6 enter a sample 7 or a spectroscopic device such as a diffraction grating (not shown). In the case of the present invention, when an external magnetic field is always applied in a fixed direction, the electrons are deflected in a fixed direction. Therefore, the X-ray generation position is always the same point with respect to the sample, independent of rotation, and X-rays of a constant intensity enter the sample from a constant direction. On the other hand, the heat of the target 5 heated by the electron irradiation is removed by the cooling medium injected from the nozzle 10.
上記のように構成し九照射装置における作用。 Effects of the nine irradiation devices constructed as described above.
効果の概要を、従来装置と対比して次に述べる。An overview of the effects and a comparison with conventional equipment will be given below.
電子線の照射による局部加熱を抑えるため従来技術にお
いては通常ターゲットを外部から導入した中空の回転導
入端子により回転させているが。In order to suppress local heating caused by electron beam irradiation, in conventional techniques, the target is usually rotated using a hollow rotating introduction terminal introduced from the outside.
本発明では第1図に示す様にターゲット5を真空壁1に
固定し、真空壁1と一緒に回転させることによって真空
中への空気リークの原因となる真空シール部を無くした
。従って真空壁1の内面に残留ガスの吸着作用のある物
質(例えばチタン)をコーティングしておくことで真空
を保ち、電子線の不安定性、及び1回転真空シール部の
劣化による装置の短命化、という問題が無くなる。また
従来例の様に回転ジオインドを必ずしも用いる必要がな
い。例えば第1図の様にノズル10によって冷却媒体を
噴きつける場合1回転ジオインドを用いた場合の様に回
転数に制限を加える要因がほとんどないため、電子線の
照射による温度上昇幅を小さくできる。In the present invention, as shown in FIG. 1, a target 5 is fixed to a vacuum wall 1 and rotated together with the vacuum wall 1, thereby eliminating a vacuum seal portion that causes air leakage into the vacuum. Therefore, by coating the inner surface of the vacuum wall 1 with a substance (for example, titanium) that has an adsorption effect on residual gas, the vacuum can be maintained and the lifespan of the device can be shortened due to instability of the electron beam and deterioration of the one-turn vacuum seal. This problem disappears. Further, unlike the conventional example, it is not always necessary to use rotational geoindication. For example, when the cooling medium is sprayed by the nozzle 10 as shown in FIG. 1, there are almost no factors that limit the number of revolutions as in the case of using a one-rotation geoind, so the temperature rise due to electron beam irradiation can be reduced.
以下1本発明の一実施例を第5図により説明する。本例
の真空壁18は100amX2100aに構成する。真
空壁18の一部に真空壁を回転させるためのギア19が
固定しである。モータ20に敗り付は比ギア21と上記
のギア19とによって真空壁18を回転させる。An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. The vacuum wall 18 in this example is configured to be 100 am x 2100 a. A gear 19 for rotating the vacuum wall is fixed to a part of the vacuum wall 18. The motor 20 rotates the vacuum wall 18 by means of the ratio gear 21 and the gear 19 mentioned above.
真空壁18は一対の支持ベアリング22によシ回転自在
に支持されている。真空壁18の周囲に永久磁石23を
設置し、真空壁18内に幅30amの磁場を形成する。The vacuum wall 18 is rotatably supported by a pair of support bearings 22. A permanent magnet 23 is installed around the vacuum wall 18 to form a magnetic field with a width of 30 am inside the vacuum wall 18.
例えばo、oosテスラ程度の磁場を作っておく。そし
て電子銃24からターゲット25までの距離を200f
lとし、加速電圧を50kVとすると、真空壁18の回
転に伴いターゲット25上を直径120tttxzの円
を描いて電子線が照射することになる。ターゲット25
は銅又はモリブデン等で作り、窓16は幅3〜5m程度
のベリリウムで作るターゲット25はノズル26からの
冷却媒体(水)の噴きつけにより熱除去される。熱を奪
った冷却媒体は受は皿27によって集められ排水される
。次に電子銃24に電力を供給する方法を第6図に示す
。電力供給部は真空壁28に連結する鉄心29および鉄
心29に固定された2次コイル30と、上記の2次コイ
ル30をとシ巻く1次コイル31とで構成され、鉄心2
9及び2次コイル30は真空壁と共に回転し、1次コイ
ル31は図示しない部材によって支承固定されている。For example, create a magnetic field of about o, oos tesla. And the distance from the electron gun 24 to the target 25 is 200f.
1 and the accelerating voltage is 50 kV, the electron beam will irradiate the target 25 in a circle with a diameter of 120 tttxz as the vacuum wall 18 rotates. target 25
The window 16 is made of copper or molybdenum or the like, and the target 25 is made of beryllium and has a width of about 3 to 5 m. Heat is removed by spraying a cooling medium (water) from a nozzle 26. The cooling medium that has absorbed heat is collected by a tray 27 and drained. Next, a method of supplying power to the electron gun 24 is shown in FIG. The power supply section is composed of an iron core 29 connected to the vacuum wall 28, a secondary coil 30 fixed to the iron core 29, and a primary coil 31 wound around the secondary coil 30.
9 and the secondary coil 30 rotate together with the vacuum wall, and the primary coil 31 is supported and fixed by a member not shown.
1次コイル31に交流を流すと2次コイル30内に磁場
が誘起され2次コイルに電圧が誘起されることになる。When alternating current is applied to the primary coil 31, a magnetic field is induced in the secondary coil 30, and a voltage is induced in the secondary coil.
そして2次コイルに接続したフィラメント32に電流(
交流)が流れフィラメント32が加熱される。一方2次
コイルに誘起した変光を変圧器33及び整流器34を通
して電極35に連結することによシ、真空壁28内に静
電場を形成する。従ってフィラメント32の加熱によっ
て該フィラメント32から放出された熱電子は真空壁2
8内の静電場によって中心軸方向に加速され進んでいく
ことになる。Then, a current (
AC) flows and the filament 32 is heated. On the other hand, by connecting the light change induced in the secondary coil to the electrode 35 through the transformer 33 and the rectifier 34, an electrostatic field is formed within the vacuum wall 28. Therefore, the thermoelectrons emitted from the filament 32 by heating the filament 32 are transferred to the vacuum wall 2.
It is accelerated in the direction of the central axis by the electrostatic field within 8 and moves forward.
以上は外部から交流を与え、2つのコイルを用いて回転
体に交流を供給する方法であったが、真空壁を回転させ
る駆動力を用いて発電し、を子銃の電源とすることも可
能である。以下第7図を用いて説明する。フィラメント
36及び変圧器37゜整流器38に直結するコイル39
は、真空壁40と共に回転する。コイル39が磁石41
内を回転するため、該コイル39内に交流が誘起され、
第5図の実施例と同様、電子銃内のフィラメント36を
加熱し、変圧器37.整流器38を通して静電場を形成
し、電子線を発生させる。The method described above was to apply alternating current from the outside and use two coils to supply alternating current to the rotating body, but it is also possible to generate electricity using the driving force that rotates the vacuum wall and use it as a power source for a subgun. It is. This will be explained below using FIG. 7. Coil 39 directly connected to filament 36 and transformer 37° rectifier 38
rotates with the vacuum wall 40. Coil 39 is magnet 41
Since the coil 39 rotates within the coil 39, an alternating current is induced within the coil 39,
Similar to the embodiment of FIG. 5, the filament 36 in the electron gun is heated and the transformer 37. An electrostatic field is formed through the rectifier 38 to generate an electron beam.
次に直接交流又は直流電圧を供給する場合の実施例を第
8図に示す。電子銃のフイ・ラメント42に接続した端
子44及び電極43に接続した端子45を真空壁46の
周囲忙リング状に設ける。上記の端子44及び端子45
には、直流電源に接続されたブラシ47及びブラシ48
が摺触導通している。従って真空壁46の回転にかかわ
らず電子銃に電力を供給することが可能である。この場
合。Next, FIG. 8 shows an embodiment in which AC or DC voltage is directly supplied. A terminal 44 connected to the filament 42 of the electron gun and a terminal 45 connected to the electrode 43 are provided in a ring shape around the vacuum wall 46. Terminal 44 and terminal 45 above
, a brush 47 and a brush 48 connected to a DC power source are shown.
is conductive through sliding contact. Therefore, it is possible to supply power to the electron gun regardless of the rotation of the vacuum wall 46. in this case.
ブラシと端子との間の接触を良くする必要が技術的課題
となるが、電源を回転させる必要がないため、装置とし
ては簡略化できる。Although the need to improve the contact between the brush and the terminal is a technical issue, there is no need to rotate the power supply, so the device can be simplified.
次にターゲットの冷却方法の実施例を第9図について説
明する。第10図はその中心軸■−■を含む断面図であ
る。ターゲット49の周辺部に内フランジ状のガイド5
0を設け、ノズル51から噴射した冷却媒体が前記のタ
ーゲット49に衝突後、遠心力により周辺部へ追いやら
れ、カイト50とターゲット49との間に挾まれる構成
とする。このことにより、電子線の照射によって最も温
度上昇の激しい領域(ターゲット490周辺部)へ冷却
媒体が押しつけられることになり熱除去効率が向上する
。Next, an embodiment of the target cooling method will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a sectional view including the central axis (■--■). An inner flange-shaped guide 5 is provided around the target 49.
0, and after the cooling medium injected from the nozzle 51 collides with the target 49, it is driven to the periphery by centrifugal force and is sandwiched between the kite 50 and the target 49. As a result, the cooling medium is pressed against the region (around the target 490) where the temperature rises most rapidly due to electron beam irradiation, thereby improving heat removal efficiency.
第1図に示した実施例の如く、摺動シール部分を無くし
た構成にすると、従来問題となっていた空中への空気リ
ーク(大気の漏入)を無くシ1回転ジオインドの無い構
成とした。従って、真空壁中にチタン等の吸着作用のあ
る物質をコーティングするだけで真空壁内を10−’
torr程度の真空に保つことが可能である。回転ジオ
インドを用いないため、 20000〜30000r、
p、mの高速回転が可能となり、第14図に示す様にタ
ーゲットの局部加熱による温度上昇幅を従来の1/3〜
1/4に緩和でき、ターゲットの延命効果がある。本第
14図によシ1回転数を上昇させると局部的な温度変化
(経時変化)が減少することが容易に理解される。本発
明を適用すると摺動シール部が無いので高速回転が可能
となり、その結果温度の均一性が得られる。As in the embodiment shown in Fig. 1, by eliminating the sliding seal part, the conventional problem of air leakage (leakage of atmospheric air) into the air is eliminated, and the configuration is free from one-turn geoindication. . Therefore, by simply coating the vacuum wall with a substance that has an adsorption effect such as titanium, the inside of the vacuum wall can be reduced by 10-'
It is possible to maintain a vacuum of about torr. 20000~30000r, since rotational geoind is not used.
It is now possible to rotate at high speeds p and m, and as shown in Figure 14, the temperature rise due to local heating of the target has been reduced to 1/3 to 1/3 of the conventional level.
It can be reduced to 1/4 and has the effect of extending the life of the target. It is easily understood from FIG. 14 that when the number of revolutions per rotation is increased, local temperature changes (changes over time) are reduced. When the present invention is applied, high-speed rotation is possible because there is no sliding seal part, and as a result, temperature uniformity can be obtained.
また従来のX線発生装置では電子銃のフィラメントから
の蒸発原子がターゲラ)K付着し1本来ターゲット原子
から発生すべきX線が、一部はターゲットに付着した原
子から発生する。あるいは付着した原子による散乱、吸
収されることでX線のスペクトル及び強度が変化する問
題が生じている。本発明ではフィラメントから発射され
た電子は途中で電場又は磁場によって偏向しターゲット
に入射する。一方フィラメントからの蒸発原子は電場、
磁場の影響を受けずに直進するため、第14図に示す様
に電子線の照射を受けるターゲット部にはフィラメント
からの蒸発原子が付着しない。従って従来問題となって
いるX線スペクトルの乱れ1強度の変化は原理的に発生
しない。Furthermore, in the conventional X-ray generator, evaporated atoms from the filament of the electron gun adhere to the target (K), and some of the X-rays that should originally be generated from the target atoms are generated from the atoms attached to the target. Alternatively, there is a problem in that the spectrum and intensity of X-rays change due to scattering and absorption by attached atoms. In the present invention, electrons emitted from a filament are deflected by an electric field or a magnetic field on the way and are incident on a target. On the other hand, the evaporated atoms from the filament have an electric field,
Since the filament moves straight without being affected by the magnetic field, the evaporated atoms from the filament do not adhere to the target portion that is irradiated with the electron beam, as shown in FIG. Therefore, the disturbance 1 intensity change in the X-ray spectrum, which has been a problem in the past, does not occur in principle.
前述の各実施例は、摺動シール部分を設けていないので
ターゲットの高速回転が可能でちるが。In each of the above-mentioned embodiments, the target can be rotated at high speed because no sliding seal portion is provided.
該ターゲットの高速回転を必要としない場合(例えば3
000 r p m以下の場合)には1回転ジヨイント
を用いて冷却媒体を供給することも可能である。回転ジ
ヨイントを用いた変形例を第11図に示す。第12図は
その中心軸■−■を含む断面図である。ターゲット52
に連結した中空軸53は回転ジオインド54に連結され
ておシ、中空軸53の内部を冷却媒体が出入シする構造
とする。When high-speed rotation of the target is not required (for example, 3
000 rpm or less), it is also possible to supply the cooling medium using a one-turn joint. A modification using a rotating joint is shown in FIG. FIG. 12 is a sectional view including the central axis (■-■). target 52
The hollow shaft 53 connected to the rotary geoind 54 is connected to the rotary geoind 54, and has a structure in which a cooling medium can enter and exit the inside of the hollow shaft 53.
前述の第4図に示した実施例は磁場によって電子線を曲
げる構成であったが、電場によって曲げることもできる
。第13図に電場で曲げる場合の実施例を示す。真空壁
55の大きさを第4図の実施例と同一にし、真空壁55
の上下に電極56會設ける。電極56は電極間120m
+、電極寸法1100mX50+電圧’f−5kVとす
る。本例において電子線の加速電圧を50kVとすると
ターゲット57上の直径68m+の円周上に電子が入射
することKなる。Although the embodiment shown in FIG. 4 described above has a configuration in which the electron beam is bent by a magnetic field, it is also possible to bend the electron beam by an electric field. FIG. 13 shows an example in which bending is performed using an electric field. The size of the vacuum wall 55 is the same as that of the embodiment shown in FIG.
56 electrodes are provided above and below. The electrode 56 has a distance of 120m between the electrodes.
+, electrode size 1100 m x 50 + voltage 'f-5 kV. In this example, if the accelerating voltage of the electron beam is 50 kV, the electrons will be incident on the circumference of the target 57 with a diameter of 68 m+.
以上詳述したように1本発明の照射装aKよれば、真空
室内に空気が流入する虞れのある摺動シールを設けない
ので大気漏入を完全に防止することができ、しかも局部
的な温度変化(経時変化)を抑制することができるとい
う優れた実用的効果を奏する。As described in detail above, according to the irradiation device aK of the present invention, there is no sliding seal that may cause air to flow into the vacuum chamber, so air leakage can be completely prevented, and furthermore, air leakage can be prevented locally. It has an excellent practical effect of being able to suppress temperature changes (changes over time).
第1図は本発明に係る照射装置の1例についてその基本
的構成を説明する為の部分破断斜視図。
第2図は従来技術における真空度の保持状態と本発明を
適用した場合の真空度保持状態とを対比して示した図表
である。
第3図は公知例の断面図である。
第4図は第1図のI−II線を含む断面図である。
第5図は本発明の1実施例の部分破断斜視図である。第
6図乃至第8図はそれぞれ電力供給部分の実施例を示す
説明図である。
第9図は冷却手段の1例の説明図、第10図はその■−
■線を含む断面図である。
第11図は本発明の変形例を示す説明図、第12図はそ
のv−■線を含む断面図である。
第13図は前記と異なる実施例を示す部分破断斜視図で
ある。
第14図は回転数と温度との関係を示す図表である。
1・・・真空壁、2・・・電子銃、3・・・フィラメン
ト、4・・・電極、5・・・ターゲット、6・・・窓、
7・・・試料、8・・・電源、9・・・電源、10・・
・ノズル、11・・・隔壁。
12・・・対陰極、13・・・固定翼、14・・・シー
ル。
15・・・回転ジヨイント、16・・・固定導管、17
・・・シール&18・・・真空壁、19・・・ギア、2
0・・・モータ、21・・・ギア、22・・・ベアリン
グ、23・・・磁石。
24・・・電子銃、25・・・ターゲット、26・・・
ノズル。
27・・・受は皿、28・・・真空壁、29・・・鉄心
、30・・・2次コイル、31・・・1次コイル、32
・・・フィラメント、33・・・変圧器、34・・・整
流器%35・・・電極、36・・・電極、37・・・変
圧器、38・・・整流器、39・・・コイル、40・・
・真空壁、41・・・磁石、42・・・フィラメント、
43・・・電極、44・・・端子、45・・・端子、4
6・・・真空壁、47・・・ブラシ、48・・・ブラシ
、49・・・ターゲット、50・・・ガイド、51・・
・ノズル、52・・・ターゲット、53・・・中空軸、
54・・・回転ジオインド&55・・・真空壁、56・
・・電極。
57・・・ターゲット。FIG. 1 is a partially cutaway perspective view for explaining the basic configuration of an example of the irradiation device according to the present invention. FIG. 2 is a chart showing a comparison between the state of vacuum maintained in the prior art and the state of vacuum maintained when the present invention is applied. FIG. 3 is a sectional view of a known example. FIG. 4 is a sectional view taken along line I-II in FIG. 1. FIG. 5 is a partially cutaway perspective view of one embodiment of the present invention. FIGS. 6 to 8 are explanatory diagrams each showing an embodiment of the power supply portion. Figure 9 is an explanatory diagram of an example of the cooling means, and Figure 10 is its ■-
■It is a sectional view including the line. FIG. 11 is an explanatory diagram showing a modification of the present invention, and FIG. 12 is a cross-sectional view including the line v-■. FIG. 13 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment different from the above. FIG. 14 is a chart showing the relationship between rotation speed and temperature. 1... Vacuum wall, 2... Electron gun, 3... Filament, 4... Electrode, 5... Target, 6... Window,
7...Sample, 8...Power supply, 9...Power supply, 10...
- Nozzle, 11... bulkhead. 12... Anticathode, 13... Fixed wing, 14... Seal. 15... Rotating joint, 16... Fixed conduit, 17
... Seal & 18... Vacuum wall, 19... Gear, 2
0...Motor, 21...Gear, 22...Bearing, 23...Magnet. 24...Electron gun, 25...Target, 26...
nozzle. 27... Receiver is plate, 28... Vacuum wall, 29... Iron core, 30... Secondary coil, 31... Primary coil, 32
... Filament, 33 ... Transformer, 34 ... Rectifier %35 ... Electrode, 36 ... Electrode, 37 ... Transformer, 38 ... Rectifier, 39 ... Coil, 40・・・
・Vacuum wall, 41... Magnet, 42... Filament,
43... Electrode, 44... Terminal, 45... Terminal, 4
6... Vacuum wall, 47... Brush, 48... Brush, 49... Target, 50... Guide, 51...
・Nozzle, 52...Target, 53...Hollow shaft,
54...Rotating geoind & 55...Vacuum wall, 56.
··electrode. 57...Target.
Claims (1)
るターゲット部材と、真空室を形成する真空壁とを備え
た照射装置において、上記真空壁に対して荷電粒子線発
生手段を固定すると共に、該真空壁に対してターゲット
部材を固定し、かつ、上記の相互に固定した構成部分を
回転せしめ得るごとく支承すると共に回転駆動手段を設
けたことを特徴とする照射装置。 2、前記の照射装置は、荷電粒子線を偏向せしめるため
、電場および磁場の少なくとも何れか一方を発生せしめ
る手段を設けたものであることを特徴とする特許請求の
範囲第1項に記載の照射装置。 3、前記のターゲット部材は真空室の一部を構成するも
のであり、かつ、その大気側から冷却流体を供給して強
制冷却するように構成したものであることを特徴とする
特許請求の範囲第1項に記載の照射装置。 4、前記のターゲット部材は、その大気側に内フランジ
状の部分を形成し、この内フランジ状部分を真空室の回
転軸に対して同心状に配設したことを特徴とする特許請
求の範囲第3項に記載の照射装置。 5、前記のターゲット部材は中空2重構造の管を連結し
たものとし、該中空2重構造の管はターゲット部材の回
転軸と同心状に配設したものであり、かつ、該2重構造
管を介して冷却用流体を供給し得るように構成したこと
を特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の照射装置。 6、前記の真空壁は、その一部をX線透過可能な材料で
構成したものであることを特徴とする特許請求の範囲第
2項に記載の照射装置。 7、前記のX線透過可能な部分は真空壁の回転軸に直交
する円周に沿つて設けたものであることを特徴とする特
許請求の範囲第6項に記載の照射装置。 8、前記の真空壁は、その回転軸と同心状に2次コイル
を固定したものとし、かつ、上記の2次コイルに対向、
離間せしめて1次コイルを配設し、該1次コイルは静止
部材に対して固定的に支承されたものであり、前記の2
次コイルは荷電粒子発生手段に接続されたものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載の照射装置
。 9、前記の真空壁は発電子コイルを固定したものとし、
かつ、上記の発電子コイルに対向離間せしめて磁場発生
手段を配設し、上記の磁場発生手段は静止部材に対して
固定的に支承されたものであることを特徴とする特許請
求の範囲第2項に記載の照射装置。 10、前記の真空壁は、その回転軸と直交する面に沿つ
てスリップリング状の端子を設けたものであることを特
徴とする特許請求の範囲第2項に記載の照射装置。[Scope of Claims] 1. In an irradiation device comprising a charged particle beam generating means, a target member to be irradiated with the charged particles, and a vacuum wall forming a vacuum chamber, the charged particle beam is directed against the vacuum wall. An irradiation device characterized in that the generation means is fixed, the target member is fixed to the vacuum wall, and the mutually fixed components are rotatably supported and rotationally driven means are provided. . 2. The irradiation device according to claim 1, wherein the irradiation device is provided with means for generating at least one of an electric field and a magnetic field in order to deflect the charged particle beam. Device. 3. Claims characterized in that the target member constitutes a part of a vacuum chamber and is configured to be forcedly cooled by supplying a cooling fluid from the atmospheric side thereof. The irradiation device according to item 1. 4. Claims characterized in that the target member has an inner flange-shaped portion formed on its atmosphere side, and this inner flange-shaped portion is arranged concentrically with respect to the rotation axis of the vacuum chamber. The irradiation device according to item 3. 5. The target member is a combination of hollow double structure tubes, the hollow double structure tubes are arranged concentrically with the rotation axis of the target member, and the double structure tubes are arranged concentrically with the rotation axis of the target member. 3. The irradiation device according to claim 2, wherein the irradiation device is configured such that the cooling fluid can be supplied through the irradiation device. 6. The irradiation device according to claim 2, wherein the vacuum wall is partially made of a material that can transmit X-rays. 7. The irradiation device according to claim 6, wherein the X-ray transparent portion is provided along a circumference perpendicular to the rotation axis of the vacuum wall. 8. The vacuum wall shall have a secondary coil fixed concentrically to its rotation axis, and shall face the secondary coil,
A primary coil is disposed at a distance, the primary coil is fixedly supported on the stationary member, and the primary coil is fixedly supported on the stationary member.
3. The irradiation device according to claim 2, wherein the secondary coil is connected to charged particle generating means. 9. The above-mentioned vacuum wall has a generator coil fixed thereon,
Further, a magnetic field generating means is disposed facing and spaced apart from the generator coil, and the magnetic field generating means is fixedly supported on a stationary member. The irradiation device according to item 2. 10. The irradiation device according to claim 2, wherein the vacuum wall is provided with a slip ring-shaped terminal along a surface perpendicular to the rotation axis thereof.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2896386A JPS62188149A (en) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | Radiation device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2896386A JPS62188149A (en) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | Radiation device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62188149A true JPS62188149A (en) | 1987-08-17 |
Family
ID=12263068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2896386A Pending JPS62188149A (en) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | Radiation device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62188149A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01204337A (en) * | 1988-02-09 | 1989-08-16 | Rigaku Denki Kk | X-ray tubular bulb capable of changing over between point focus and line focus |
US6507093B2 (en) | 2000-04-19 | 2003-01-14 | Nec Corporation | Lead frame for fabricating surface mount type semiconductor devices with high reliability |
-
1986
- 1986-02-14 JP JP2896386A patent/JPS62188149A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01204337A (en) * | 1988-02-09 | 1989-08-16 | Rigaku Denki Kk | X-ray tubular bulb capable of changing over between point focus and line focus |
US6507093B2 (en) | 2000-04-19 | 2003-01-14 | Nec Corporation | Lead frame for fabricating surface mount type semiconductor devices with high reliability |
US6677666B2 (en) | 2000-04-19 | 2004-01-13 | Nec Electronics Corporation | Lead frame for fabricating surface mount type semiconductor devices with high reliability |
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