JPS62178588A - 置換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 - Google Patents
置換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規な置換ピリジンスルホンアミド系化合物
又はそれらをを効成分として音響する除草剤並びにそれ
らの化合物の製造方法に関する。
又はそれらをを効成分として音響する除草剤並びにそれ
らの化合物の製造方法に関する。
(先行技術及び本発明に至った経緯)
従来、スルホンアミド系除草剤は、多くの類縁体が開発
されている0例えば、麦類に安全性を存するものとして
、2−クロロ−N−((4−メトキシ−6−メチル−1
,3,5−)リアジン−2−イル)アミノカルボニル〕
ベンゼンスルホニルウレア(商標名Gl@an■)など
が知られており、大亘に安全性を有するものとして、N
−((4−クロロ−6−メドキシピリミジンー2−イル
)アミノカルボニルツー2−エトキシカルボニルベンゼ
ンスルホニルウレア(商標名C1assic■)などが
知られており、イネに安全性を有するものとして、N−
((4,6−シメトキシピリミジンー2−イル)アミノ
カルボニル)−1−(2−メトキシカルボニルフェニル
)メタンスルホンアミド(商標名Londax■)など
が知られており、また、非選択性除草剤としては、N−
((4,6−シメチルピリミジンー2−イル)アミノカ
ルボニルツー2−メトキシカルボニルベンゼンスルホニ
ルウ・′叱ア(商標名0usf■)などが知られている
。しかしながら、トウモロコシに対して安全性が高く、
しかも高い除草効果を育するスルホンアミド系除草剤は
未だ開発されていない0本発明者達は、トウモロコシに
対し安全性を有するスルホンアミド系化合物を見出すた
めに、その合成、探索を行ない、本発明を完成するに至
りな。
されている0例えば、麦類に安全性を存するものとして
、2−クロロ−N−((4−メトキシ−6−メチル−1
,3,5−)リアジン−2−イル)アミノカルボニル〕
ベンゼンスルホニルウレア(商標名Gl@an■)など
が知られており、大亘に安全性を有するものとして、N
−((4−クロロ−6−メドキシピリミジンー2−イル
)アミノカルボニルツー2−エトキシカルボニルベンゼ
ンスルホニルウレア(商標名C1assic■)などが
知られており、イネに安全性を有するものとして、N−
((4,6−シメトキシピリミジンー2−イル)アミノ
カルボニル)−1−(2−メトキシカルボニルフェニル
)メタンスルホンアミド(商標名Londax■)など
が知られており、また、非選択性除草剤としては、N−
((4,6−シメチルピリミジンー2−イル)アミノカ
ルボニルツー2−メトキシカルボニルベンゼンスルホニ
ルウ・′叱ア(商標名0usf■)などが知られている
。しかしながら、トウモロコシに対して安全性が高く、
しかも高い除草効果を育するスルホンアミド系除草剤は
未だ開発されていない0本発明者達は、トウモロコシに
対し安全性を有するスルホンアミド系化合物を見出すた
めに、その合成、探索を行ない、本発明を完成するに至
りな。
(発明の開示)
本発明の化合物は、下記−飛式(1)で表わされる新規
な置換ピリジンスルホンアミド系化合物である。
な置換ピリジンスルホンアミド系化合物である。
一般式(I):
〔式中、R1及びRオは水素原子又はアルキル基であり
、X及びYはメチル基又はメトキーシ基であり、人は−
CH−基又は−N−基である〕前記一般式(1)におけ
るR1及びR2で表わされるアルキル基としてはメチル
基、エチル基、トプロビル5.1so−プロピル基、n
−ブチル基、1so−ブチル基、5ec−ブチル基、t
er t−ブチル基などが挙げられる。
、X及びYはメチル基又はメトキーシ基であり、人は−
CH−基又は−N−基である〕前記一般式(1)におけ
るR1及びR2で表わされるアルキル基としてはメチル
基、エチル基、トプロビル5.1so−プロピル基、n
−ブチル基、1so−ブチル基、5ec−ブチル基、t
er t−ブチル基などが挙げられる。
本発明の置換ピリジンスルホンアミド系化合物は、゛ナ
トリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩、マグネシウ
ム、カルシウムなどのアルカリ土類金属塩或いはジメチ
ルアミン、トリエチルアミンなどの第四級アンモニウム
塩を形成することもできる。
トリウム、カリウムなどのアルカリ金属塩、マグネシウ
ム、カルシウムなどのアルカリ土類金属塩或いはジメチ
ルアミン、トリエチルアミンなどの第四級アンモニウム
塩を形成することもできる。
前記−瓜式(1)で表わされる新規な置換ピリジンスル
ホンアミド系化合物は下記の方法によって製造される。
ホンアミド系化合物は下記の方法によって製造される。
〔式中、R8及びRtは前述の通りであり、Z。
「
は−NH,基、−NCO基又は−N HCORx基であ
り、R1はアルキル基又はアリール基である〕で表わさ
れる置換ピリジン系化合物と、〔式中、X及びYはメチ
ル基又はメトキシ基であり、Aは−CH−基又は−N−
基であり、Ztはは−NH8基又は−NHCOR,基で
あり、かつ嘗 Z、が−NCO基又は−N HCOR2基)場合、2□
は−NH,基であり、Z、が−NH富基の場〇 合、Z8は−NHCORコ基であり、R:は前述の通り
である〕で表わされる複素環系化合物とを反応させる。
り、R1はアルキル基又はアリール基である〕で表わさ
れる置換ピリジン系化合物と、〔式中、X及びYはメチ
ル基又はメトキシ基であり、Aは−CH−基又は−N−
基であり、Ztはは−NH8基又は−NHCOR,基で
あり、かつ嘗 Z、が−NCO基又は−N HCOR2基)場合、2□
は−NH,基であり、Z、が−NH富基の場〇 合、Z8は−NHCORコ基であり、R:は前述の通り
である〕で表わされる複素環系化合物とを反応させる。
前記一般式(II)、(I[[)におけるZI及びz8
中のR1で表わされるアルキル基としては、Ro及びR
2について上記したものと同様なアルキル基が挙げられ
、またアリール基としてはフェニル基、塩素原子で置換
されたフェニル基、メチル基で置換されたフェニル基、
ナフチル基などが挙げられる。
中のR1で表わされるアルキル基としては、Ro及びR
2について上記したものと同様なアルキル基が挙げられ
、またアリール基としてはフェニル基、塩素原子で置換
されたフェニル基、メチル基で置換されたフェニル基、
ナフチル基などが挙げられる。
前記一般式(りで表わされる新規な置換ピリジンスルホ
ンアミド系化合物は、具体的には、例えば次のような方
法によって製造することができる。
ンアミド系化合物は、具体的には、例えば次のような方
法によって製造することができる。
(A)
(B)
(C)
〔式中、R1,Rt、X、YSA及びR1は前述の通り
である〕 上記反応(A)は塩基の存在下で行なわ°れ、上記反応
CB)及び(C)も必要に応じて塩基の存在下で行なわ
れる。また上記反応(A)、(Bl及び(C)は必要に
応じて溶媒の存在下で行なわれる。溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、゛クロロベンゼンなどの芳
香族炭化水素!!!:クロロホルム、四塩化炭素、塩化
メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサンなどの環状又は非環状脂肪族炭化水
素類ニジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル蝮ニアセトニトリル、プロピオニト
リル、アクリロニトリルなどのニトリル:lニジメチル
スルホキシド、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒
などが挙げられる。
である〕 上記反応(A)は塩基の存在下で行なわ°れ、上記反応
CB)及び(C)も必要に応じて塩基の存在下で行なわ
れる。また上記反応(A)、(Bl及び(C)は必要に
応じて溶媒の存在下で行なわれる。溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、゛クロロベンゼンなどの芳
香族炭化水素!!!:クロロホルム、四塩化炭素、塩化
メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサンなどの環状又は非環状脂肪族炭化水
素類ニジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル蝮ニアセトニトリル、プロピオニト
リル、アクリロニトリルなどのニトリル:lニジメチル
スルホキシド、スルホランなどの非プロトン性極性溶媒
などが挙げられる。
前記反応式中の(rl)で表わされる原料化合物のうち
(n−1) (II−2)〔式中、R′1
及びR−はアルキル基であり、R4は水素原子又はアル
キル基である〕で表わされる化合物は例えば次のような
方法で製造することができる。
及びR−はアルキル基であり、R4は水素原子又はアル
キル基である〕で表わされる化合物は例えば次のような
方法で製造することができる。
Co1
R20
(エニー2)
〔式中、R′いR′よ及びR4は前述の通りである〕ま
た前記反応式中(r’/)及び(V)で表わされる化合
物は例えば次のような方法で製造すること〔式中、R1
,Rz、及びR1は前述の通りである〕原料化合物の製
造法における各反応の反応温度、反応時間、必要に応じ
て使用される溶媒、アルカリ性吻質などの反応条件は、
通常同様の反応における反応条件から通宜選沢できる。
た前記反応式中(r’/)及び(V)で表わされる化合
物は例えば次のような方法で製造すること〔式中、R1
,Rz、及びR1は前述の通りである〕原料化合物の製
造法における各反応の反応温度、反応時間、必要に応じ
て使用される溶媒、アルカリ性吻質などの反応条件は、
通常同様の反応における反応条件から通宜選沢できる。
前記製造方法CD)及び(E)による置換スルホンアミ
ド系化合物の代表例を第1表に挙げる。
ド系化合物の代表例を第1表に挙げる。
第1表
次に本発明化合物の具体的合成例を記載する。
/′−
/−′
合成例!、 N−((4,6−シメトキシピリミジ
ンー2−イル)アミノカルボニル〕 3−メチルアミノカルボニル−2−ピ リジンスルホンアミドの合成 〔1〕 乾燥したメタノール250m1に室温で塩酸ガ
スを飽和させた後、25f)m lのメタノール及び2
一メルカブトニコチンeZ30gを加え、室温で終夜反
応させた。
ンー2−イル)アミノカルボニル〕 3−メチルアミノカルボニル−2−ピ リジンスルホンアミドの合成 〔1〕 乾燥したメタノール250m1に室温で塩酸ガ
スを飽和させた後、25f)m lのメタノール及び2
一メルカブトニコチンeZ30gを加え、室温で終夜反
応させた。
反応後、アンモニアガスで反応液を弱アルカリ性とした
後、メタノールを減圧留去した。続いて生じた結晶を水
洗後、濾取し、減圧乾燥して融点136〜140℃のメ
チル2−メルカプトニコチネート24gを得た。
後、メタノールを減圧留去した。続いて生じた結晶を水
洗後、濾取し、減圧乾燥して融点136〜140℃のメ
チル2−メルカプトニコチネート24gを得た。
〔2〕 前記工程〔1〕で得たメチル2−メルカプトニ
コチネート10 gを、50a+ 1の計数を50m1
の水で希釈し起悪濁液に加えた後、0℃以下で塩素ガ、
呂 スを反応系内に導入し、iM列の塩素が出始めた段階で
反応を終了した。
コチネート10 gを、50a+ 1の計数を50m1
の水で希釈し起悪濁液に加えた後、0℃以下で塩素ガ、
呂 スを反応系内に導入し、iM列の塩素が出始めた段階で
反応を終了した。
反応後、生じた溶液を氷150gと塩化メチレン500
m1の混合物中に投入し、塩化メチレン層を分液した。
m1の混合物中に投入し、塩化メチレン層を分液した。
さらに500+nlの氷水で洗浄し、塩化メチレン層を
0℃に冷却した。続いてこの中へ、ターシャリ−ブチル
アミン12.9 gを滴下し、室温にもどるまで攪拌し
た。攪拌後、この反応液を50On+1の水中に投入し
、塩化メチレン抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥の後
、塩化メチレンを留去し、粗結晶13gを得た。このも
のを塩化メチレン、ノルマルヘキサンで再結晶し、融点
169〜171℃のメチル2−ターシャリ−ブチルアミ
ノスルホニルニコチネートを得た。
0℃に冷却した。続いてこの中へ、ターシャリ−ブチル
アミン12.9 gを滴下し、室温にもどるまで攪拌し
た。攪拌後、この反応液を50On+1の水中に投入し
、塩化メチレン抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥の後
、塩化メチレンを留去し、粗結晶13gを得た。このも
のを塩化メチレン、ノルマルヘキサンで再結晶し、融点
169〜171℃のメチル2−ターシャリ−ブチルアミ
ノスルホニルニコチネートを得た。
〔3〕 無水メタノール20m lに大過剰のメチルア
ミンを吸収させた後、室温で前記工程〔2〕で得たメチ
ル2−ターシャリ−ブチルアミノスルホニルニコチネー
ト 1.0gを加え、15時間攪拌し反応を終了した。
ミンを吸収させた後、室温で前記工程〔2〕で得たメチ
ル2−ターシャリ−ブチルアミノスルホニルニコチネー
ト 1.0gを加え、15時間攪拌し反応を終了した。
反応後、反応物を水中に投入し塩化メチレンで抽出し、
抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを
減圧で留去して、融点189〜192℃のN−メチル−
N” −ターシャリ−ブチルアミノスルホニルニコチン
アミド0.73 g fS得た。
抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、塩化メチレンを
減圧で留去して、融点189〜192℃のN−メチル−
N” −ターシャリ−ブチルアミノスルホニルニコチン
アミド0.73 g fS得た。
〔4〕 前記工程〔3〕で得たN−メチル−2−ターシ
ャリ−ブチルアミノスルホニルニコチンアミド0.63
gを、トリフルオロ酢a5ml に溶解した溶液を還
流下で約1時間反応させた=反応後、反応物よりトリフ
ルオロ酢酸を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製して融点207〜209.5℃
の3−メチルアミノカルボニル−2−ピリジンスルホン
アミド0.53 gを得た。
ャリ−ブチルアミノスルホニルニコチンアミド0.63
gを、トリフルオロ酢a5ml に溶解した溶液を還
流下で約1時間反応させた=反応後、反応物よりトリフ
ルオロ酢酸を減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製して融点207〜209.5℃
の3−メチルアミノカルボニル−2−ピリジンスルホン
アミド0.53 gを得た。
〔5〕 前記工程〔4〕で得たN−メチル−2−アミノ
スルホニルニコチンアミド0.3 g 、及び2−フェ
ノキシカルボニルアミノ−4,6−シメトキシピリミジ
ン0.42 gを無水アセトニトリル10+nlに加え
た21液に1.5−ジアザビシクロ(5゜4.0)−5
−ウンデセン0.23 gを加え、室温で約2時間反応
させた。
スルホニルニコチンアミド0.3 g 、及び2−フェ
ノキシカルボニルアミノ−4,6−シメトキシピリミジ
ン0.42 gを無水アセトニトリル10+nlに加え
た21液に1.5−ジアザビシクロ(5゜4.0)−5
−ウンデセン0.23 gを加え、室温で約2時間反応
させた。
反応後、反応物をh200mlの水中に投入し不純物を
炉別した後、濃塩酸で弱酸性とし塩化メチレン 200
ml中に投入し、更に塩化メチレンで抽出した。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで・乾燥し、減圧下で塩化メチ
レンを留去した後、塩化メチレン、ノルマルヘキサンで
再結晶し、融点147.5〜149゜5℃の目的物0.
37 gを得た。
炉別した後、濃塩酸で弱酸性とし塩化メチレン 200
ml中に投入し、更に塩化メチレンで抽出した。抽出
液を無水硫酸ナトリウムで・乾燥し、減圧下で塩化メチ
レンを留去した後、塩化メチレン、ノルマルヘキサンで
再結晶し、融点147.5〜149゜5℃の目的物0.
37 gを得た。
合成例2. N−((4,6−シメトキシピリミジン
ー2−イル)アミノカルボニル〕 −3−ジメチルアミノカルボニル−2 −ピリジンスルホンアミドの合成 〔1〕 ジメチルアミン1.3 mlを1011 のi
水ベンゼンに溶解した溶液に窒素雰囲気下10℃以下で
19%トリメチルアルミニウムのノルマルヘキサン溶液
10m1を加えた。室温になるまで反応させた後、メチ
ル−2−ターシャリープチルアミノスルホニルニコチネ
ートヲベンゼン40n+lと塩化メチレン20m1に溶
解した溶液を滴下した。続いて還流下で約9時間撹拌し
反応を終了した。
ー2−イル)アミノカルボニル〕 −3−ジメチルアミノカルボニル−2 −ピリジンスルホンアミドの合成 〔1〕 ジメチルアミン1.3 mlを1011 のi
水ベンゼンに溶解した溶液に窒素雰囲気下10℃以下で
19%トリメチルアルミニウムのノルマルヘキサン溶液
10m1を加えた。室温になるまで反応させた後、メチ
ル−2−ターシャリープチルアミノスルホニルニコチネ
ートヲベンゼン40n+lと塩化メチレン20m1に溶
解した溶液を滴下した。続いて還流下で約9時間撹拌し
反応を終了した。
反応終了後、反応液を希塩酸中に投入し、塩化メチレン
で抽出し、抽出物を無水g酸ナトリウムで乾燥した後、
減圧下で塩化メチレンを留去し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製してN、N−ジメチル−2−ター
シャリ−ブチルアミノスルホニルニコチンアミドCo
gを得た。
で抽出し、抽出物を無水g酸ナトリウムで乾燥した後、
減圧下で塩化メチレンを留去し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製してN、N−ジメチル−2−ター
シャリ−ブチルアミノスルホニルニコチンアミドCo
gを得た。
〔2〕 前記工程(1〕で得たN、N−ジメチル−2−
ターシャリ−ブチルアミノスルホニルニコチンアミド1
.Ogを5mlのトリフルオロ酢酸に溶解した溶液を還
流下で約1時間反応させた後、トリフルオロ&51を減
圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、融点209〜211℃のN、N−ジメチル−2−
アミノスルホニルニコチンアミド 0.73 gを得た
。
ターシャリ−ブチルアミノスルホニルニコチンアミド1
.Ogを5mlのトリフルオロ酢酸に溶解した溶液を還
流下で約1時間反応させた後、トリフルオロ&51を減
圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
して、融点209〜211℃のN、N−ジメチル−2−
アミノスルホニルニコチンアミド 0.73 gを得た
。
〔3〕 前記工程〔2〕で得たN、N−ジメチル−2−
アミノスルホニルニコチンアミド229 IIIg及び
2−フェニキシカルボニルアミノー4.6−ジメトキシ
ピリミジン21Stmg G m水アセトニトリル5劉
1に懸濁させ、1.5−ジアザビシクロ(5゜4.0)
−5−ウンデセン1.i2.2 mgを加えて室温で約
1時間反応させた。
アミノスルホニルニコチンアミド229 IIIg及び
2−フェニキシカルボニルアミノー4.6−ジメトキシ
ピリミジン21Stmg G m水アセトニトリル5劉
1に懸濁させ、1.5−ジアザビシクロ(5゜4.0)
−5−ウンデセン1.i2.2 mgを加えて室温で約
1時間反応させた。
反応終了後、反応物を水中に投入し、不溶物を炉別後、
ろ液を濃塩酸゛で2d性とし、生じた結晶を炉別乾燥し
て融点169〜173 ℃の目的物330 mgを得た
。
ろ液を濃塩酸゛で2d性とし、生じた結晶を炉別乾燥し
て融点169〜173 ℃の目的物330 mgを得た
。
本発明の代5?J化合物の(Fllを32表に挙げる。
M2表
本発明の置換eす゛ジンスルホンアミド系化合物は、後
記試u!、倒にみる通り、トウモロコシに対して高い安
全を示す、又、低薬量でイネ科植物を含め広い殺草スペ
クトラムを育し、それらの有害雑草が比較的生育の進ん
だものであワても防除することができ、従来、防除困難
とされているハマスゲ等の多年生雑草に対する除草効果
も高い。
記試u!、倒にみる通り、トウモロコシに対して高い安
全を示す、又、低薬量でイネ科植物を含め広い殺草スペ
クトラムを育し、それらの有害雑草が比較的生育の進ん
だものであワても防除することができ、従来、防除困難
とされているハマスゲ等の多年生雑草に対する除草効果
も高い。
本発明の除草剤の通用範囲は、畑地、果樹園、桑園など
の農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地などの非農
耕地と多岐にわたり、文通用方法も土壌処理、茎葉処理
を適宜選択できる。*発明除草剤を施用する場合、通常
は担体、必要に応じて希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、
界面活性剤、などの各種補助剤と混合して、粒剤、水和
剤、乳剤、液剤などに製剤して使用する。有効成分化合
物と農薬用補助剤との過当な配合重量比は、−4に1:
99〜90 : 10、望ましくは5:95〜60 :
40である。有効成分化合物の使用通量は気象条件、
土壌条2件、薬剤の製剤形態、対象雑草の種類、施用時
期などの相違により一概に規定できないが、一般に1ア
ール当たりの施用盲動成分量としては0.1〜100g
%望ましくは0.5〜50 gである。
の農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地などの非農
耕地と多岐にわたり、文通用方法も土壌処理、茎葉処理
を適宜選択できる。*発明除草剤を施用する場合、通常
は担体、必要に応じて希釈剤、溶剤、乳化剤、展着剤、
界面活性剤、などの各種補助剤と混合して、粒剤、水和
剤、乳剤、液剤などに製剤して使用する。有効成分化合
物と農薬用補助剤との過当な配合重量比は、−4に1:
99〜90 : 10、望ましくは5:95〜60 :
40である。有効成分化合物の使用通量は気象条件、
土壌条2件、薬剤の製剤形態、対象雑草の種類、施用時
期などの相違により一概に規定できないが、一般に1ア
ール当たりの施用盲動成分量としては0.1〜100g
%望ましくは0.5〜50 gである。
本発明除草剤は、他の農薬、肥料、土壌、薬害軽減剤な
どと混用或いは併用することができ、この場合に−ff
i優れた効果・作用性を示すことがある。他の除草剤と
混用或いは併用する場合、その混合相手除草剤の有効成
分としては、例えば次のようなものが挙げられる。
どと混用或いは併用することができ、この場合に−ff
i優れた効果・作用性を示すことがある。他の除草剤と
混用或いは併用する場合、その混合相手除草剤の有効成
分としては、例えば次のようなものが挙げられる。
3.6−ジクロロ−2−メトキシ安息昏酸゛3−(1−
メチルエチル−IH−2,l 3−ベンゾチアジアジ
ン−4(3H)−オン−2,2−ジオキシド 2−(4−クロロ−6−ニチルアミノー1.3゜5−ト
リアジン−2−イルアミノ)−2−メチルプロピオニト
リル 2−クロロ−4,6−ビス(エチルアミノ)−1゜3.
5−)リアジン 2−クロロ−4−エチルアミノ−6−イツブロピルーア
ミノー1,3.5−)リアジン 2.4−ジクロロフェノキシ酢酸エチル2−(3,5−
ジクロロフェニル)−2−(2,・2.2−)ジクロロ
エチル)オキシランS−エチル−ジプロピルチオカーバ
メイトS−エチル−ジイソブチルチオカーバメイトN−
(1−エチルプロピル)−2,6−シニトロー3.4−
キシリジン 2−クロロ−2’、6’−ジエチル−N−(メトキシ−
メチル)アセトアニリド 2−クロロ−6°−エチル−N−(2−メトキシ−1−
メチルエチル)アセト−。−トルイシド次に本発明除草
剤の試験例を記載する。
メチルエチル−IH−2,l 3−ベンゾチアジアジ
ン−4(3H)−オン−2,2−ジオキシド 2−(4−クロロ−6−ニチルアミノー1.3゜5−ト
リアジン−2−イルアミノ)−2−メチルプロピオニト
リル 2−クロロ−4,6−ビス(エチルアミノ)−1゜3.
5−)リアジン 2−クロロ−4−エチルアミノ−6−イツブロピルーア
ミノー1,3.5−)リアジン 2.4−ジクロロフェノキシ酢酸エチル2−(3,5−
ジクロロフェニル)−2−(2,・2.2−)ジクロロ
エチル)オキシランS−エチル−ジプロピルチオカーバ
メイトS−エチル−ジイソブチルチオカーバメイトN−
(1−エチルプロピル)−2,6−シニトロー3.4−
キシリジン 2−クロロ−2’、6’−ジエチル−N−(メトキシ−
メチル)アセトアニリド 2−クロロ−6°−エチル−N−(2−メトキシ−1−
メチルエチル)アセト−。−トルイシド次に本発明除草
剤の試験例を記載する。
試験例1゜
1 /1.500アールポツトに溶池土壌を詰め、各種
植物の種子を播種した。その後、植物が一定の住胃段階
に迷したとき(大豆が初生業態、トウモロコシが3.2
葉期、小皮が3.5葉fJ1、オナモミが2.5葉期、
アサガオが1葉期、タデが1.2葉期、アメリカキンゴ
ジヵが1葉期、アオビユが0.5葉期、ヒエが2葉斯]
5.を発明除草剤の水和剤を所定量となるように秤量し
、アール当たり51の水に希釈した。更にその水溶液に
、農業用展着剤を0.2%とな名ように加えて、小型ス
プレーで茎葉処理した。処理後、10日目に各種植物の
生育状態を肉眼で観察調査を行い、10段階(1:無処
理区と同様〜lO:完全に抑制)で生育抑制程度を評価
し、第3表の結果を得た。
植物の種子を播種した。その後、植物が一定の住胃段階
に迷したとき(大豆が初生業態、トウモロコシが3.2
葉期、小皮が3.5葉fJ1、オナモミが2.5葉期、
アサガオが1葉期、タデが1.2葉期、アメリカキンゴ
ジヵが1葉期、アオビユが0.5葉期、ヒエが2葉斯]
5.を発明除草剤の水和剤を所定量となるように秤量し
、アール当たり51の水に希釈した。更にその水溶液に
、農業用展着剤を0.2%とな名ように加えて、小型ス
プレーで茎葉処理した。処理後、10日目に各種植物の
生育状態を肉眼で観察調査を行い、10段階(1:無処
理区と同様〜lO:完全に抑制)で生育抑制程度を評価
し、第3表の結果を得た。
第3表
試験例2゜
処理時の、植物の生育段階について、トウモロニジ3.
2葉期を2.5葉期に、小麦3.5葉期を3.0葉期に
、アメリカキンゴジカ 1.0葉期を0.5葉期に、タ
デ1.2葉期を1.0葉期に、又調査日について処理後
10日目を処理後30日目に変えた以外は試験例1、と
同様にして生育抑制程度を評価し、第4表の結果を得た
。
2葉期を2.5葉期に、小麦3.5葉期を3.0葉期に
、アメリカキンゴジカ 1.0葉期を0.5葉期に、タ
デ1.2葉期を1.0葉期に、又調査日について処理後
10日目を処理後30日目に変えた以外は試験例1、と
同様にして生育抑制程度を評価し、第4表の結果を得た
。
第4表
試験例3゜
1 /10,000アールポツトに畑土壌を詰め、それ
ぞれ別々のポットにメヒシバ、イヌホオズキを播種した
。その後、メヒシバが2葉期、イヌホオズキ0.5葉期
に生育した時、供試化合物の有効成分が所定量となるよ
うに秤量し、これらをアール当たり51の水に希釈した
。更にこの水溶液に農業用展着剤を0.2χとなるよう
に加えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後23日
目に各雑草の生育状態を肉II観察し、10段階(1:
無処理と同等〜10:完全抑制)で生育抑制程度を評価
して、第5表の結果を得た。
ぞれ別々のポットにメヒシバ、イヌホオズキを播種した
。その後、メヒシバが2葉期、イヌホオズキ0.5葉期
に生育した時、供試化合物の有効成分が所定量となるよ
うに秤量し、これらをアール当たり51の水に希釈した
。更にこの水溶液に農業用展着剤を0.2χとなるよう
に加えて、小型スプレーで茎葉散布した。処理後23日
目に各雑草の生育状態を肉II観察し、10段階(1:
無処理と同等〜10:完全抑制)で生育抑制程度を評価
して、第5表の結果を得た。
第5表
次に、本発明除草剤の製剤例を記載する。
製剤例1゜
filジ−クライト 78重量部
(2)ラベリン3 2重量部(
商品名:第−工業製薬!り (3)ツルポール5039 5重量
部(商品名:東邦化学工業!!り (4)カープレ、ツクス 15重量
部(商品名:塩野義製薬製) 以上【1)〜(4)の成分の混合物と本発明化合物とを
9:1の重量割合で混合して水和剤を得た。
(2)ラベリン3 2重量部(
商品名:第−工業製薬!り (3)ツルポール5039 5重量
部(商品名:東邦化学工業!!り (4)カープレ、ツクス 15重量
部(商品名:塩野義製薬製) 以上【1)〜(4)の成分の混合物と本発明化合物とを
9:1の重量割合で混合して水和剤を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1及びR_2は水素原子又はアルキル基で
あり、X及びYはメチル基又はメトキシ基である〕で表
わ される置換ピリジンスルホンアミド系化合物。 2、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1及びR_2は水素原子又はアルキル基で
あり、X及びYはメチル基又はメトキシ基である〕で表
わ される置換ピリジンスルホンアミド系化合物の少なくと
も1種を有効成分として含有することを特徴とする除草
剤。 3、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2は水素原子又はアルキル基で
あり、Z_1は−NH_2基、−NCO基又は▲数式、
化学式、表等があります▼基であり、R_3はアルキル
基又は アリール基である)で表わされる置換ピリジン系化合物
と、 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X及びYはメチル基又は、メトキシ基であり、
Z_2は −NH_2基又は▲数式、化学式、表等があります▼基
であり、かつZ_1が−NCO基又は▲数式、化学式、
表等があります▼基の場合、Z_2 は−NH_2基であり、Z_1が−NH_2基の場合、
Z_2は▲数式、化学式、表等があります▼基であり、
R_3は前述の通りである〕で表わされる複素環系化合
物とを反応させることを特徴とする、 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2、X及びYは前述の通りである
〕で表わされる置換ピリジンスルホンアミド系化合物の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP828687A JPS62178588A (ja) | 1987-01-19 | 1987-01-19 | 置換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP828687A JPS62178588A (ja) | 1987-01-19 | 1987-01-19 | 置換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61019863 Division | 1986-01-30 | 1986-01-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62178588A true JPS62178588A (ja) | 1987-08-05 |
Family
ID=11688934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP828687A Pending JPS62178588A (ja) | 1987-01-19 | 1987-01-19 | 置換ピリジンスルホンアミド系化合物及びそれらを含有する除草剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62178588A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009275038A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-26 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | ピリミジン系化合物の製造方法 |
CN102334494A (zh) * | 2011-06-20 | 2012-02-01 | 陕西韦尔奇作物保护有限公司 | 一种含烟嘧磺隆的除草组合物 |
-
1987
- 1987-01-19 JP JP828687A patent/JPS62178588A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009275038A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-26 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | ピリミジン系化合物の製造方法 |
CN102334494A (zh) * | 2011-06-20 | 2012-02-01 | 陕西韦尔奇作物保护有限公司 | 一种含烟嘧磺隆的除草组合物 |
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