JPS62128135A - ウエハ全面検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は目視により半導体ウェハの表面を検査する装置
に関するものである。

［発明の背景］ 集積回路を形成する半導体ウェハの表面を目視により検
査する場合検査精度を向上させるため光束を絞ってウェ
ハ表面に照射するのが普通である。

このことにより検査精度は向上するが、ウェハ全面を連
続的に取りこぼしなく検査するのは容易ではなかった。

［発明の目的］ 本発明はスポット光を使用してウェハ全面の検査を容易
に実施できるウェハ全面検査装置を提供することを目的
としている。

この目的は本発明に従ってスポット光束を被検体である
半導体ウェハの周辺上の一点に投射しウェハを回転させ
なからウェハの半径に相当する距離だけウェハを移動さ
せ、それによりスポット光束でウェハの周辺から中心に
向けて渦状に走査することにより達成される。

すなわち、本発明のウェハ全面検査装置は半導体ウェハ
を載せるウェハステージ、このウェハステージを支持し
て回転する可動回転機構、この可動回転機構を案内する
軌道及びこの軌道上で前記の可動回転機構を少なくとも
前記の半導体ウェハの半径に相当する距離だけ駆動する
装置を備えており、特に前記の軌道は直線又は弧状とな
っているのが好ましい。

［実施例］ 第１図及び第２図は本発明のウェハ全面検査装置の実施
例の側面図であり、第１図はスポット光束による走査開
始位置を、第２図はスポット光束による走査終了位置を
示している。

図において、１はウェハ、２はウェハステージ、３はウ
ェハステージ回転機構、４は軌道、５はウェハステージ
回転機構を移動させるために設けたコロ、６は絞られた
スポット光束である。図に示すようにウェハ１はウェハ
ステージ２に載せられており、ウェハステージ回転機構
３を回転するウェハも回転する。第１図に示すようにウ
ェハ１の周辺の一点はスポット光束６で照らされている
。

この状態で軌道４の上をコロ５によりウェハステージ回
転機構３をウェハの半径に相当する距離移動させると第
２図の状態となる。移動中もウェハ１は回転しているの
でスポット光束６はウェハ１の周辺から渦状にウェハの
中心に向ってウェハ１の表面を走査していき、それによ
りウェハ全面を連続的に目視により観察することができ
る。

ウェハステージの移動手段として手動、電動（モータ、
ソレノイド）又は空気作動による手段が用いられる。

ウェハステージの運動としては直線運動がＪζいが、中
心の周りに円弧運動をさせてもよい。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明に従って、目視によるウェ
ハ検査装置のウェハステージを回転移動させるという簡
単な操作によりスポット光束によってウェハ全面の検査
が容易に行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のウェハ全面検査装置の実施例の側面図
であり、走査開始位置を示す。 第２図は第１図と同様の側面図であり、走査終了位置を
示す。 図中、１はウェハ、２はウェハステージ、３はウェハス
テージ回転機構、４は軌道、５はコロ。 ６は光束を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、半導体ウェハを載せるウェハステージ、このウェハ
   ステージを支持して回転する可動回転機構、 この可動回転機構を案内する軌道及び この軌道上で前記の可動回転機構を少なくとも前記の半
   導体ウェハの半径に相当する距離だけ駆動する装置 を備えたことを特徴とするウェハ全面検査装置。 ２、前記の軌道が直線である特許請求の範囲第１項に記
   載のウェハ全面検査装置。 ３、前記の軌道が弧状である特許請求の範囲第１項に記
   載のウェハ全面検査装置。