JPS62110748A - ゼオライトの再生法 - Google Patents
ゼオライトの再生法Info
- Publication number
- JPS62110748A JPS62110748A JP16443686A JP16443686A JPS62110748A JP S62110748 A JPS62110748 A JP S62110748A JP 16443686 A JP16443686 A JP 16443686A JP 16443686 A JP16443686 A JP 16443686A JP S62110748 A JPS62110748 A JP S62110748A
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- JP
- Japan
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- zeolite
- acetone
- inert gas
- water
- gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は含水アセトンの脱水処理に使用したゼオライト
の再生法に関する1゜ 従来の技術 アセトン中の水分を除去する方法として、蒸留に、にる
方法があるか、水分的2000〜3000ppmが経済
的な採算分岐点となっており、より低水分のアセトンを
工業的に得るにはゼオライトによる水分吸着方法が有利
であり、約10ppm〜200 ppmの低水分アセト
ンが取得できる(特開昭4.8−527’14)。アセ
トン脱水処理に利用したゼオライトは加熱処理により吸
着された水およびアセトンを脱着させて再使用するのが
一般的である。
の再生法に関する1゜ 従来の技術 アセトン中の水分を除去する方法として、蒸留に、にる
方法があるか、水分的2000〜3000ppmが経済
的な採算分岐点となっており、より低水分のアセトンを
工業的に得るにはゼオライトによる水分吸着方法が有利
であり、約10ppm〜200 ppmの低水分アセト
ンが取得できる(特開昭4.8−527’14)。アセ
トン脱水処理に利用したゼオライトは加熱処理により吸
着された水およびアセトンを脱着させて再使用するのが
一般的である。
介す決しようとする問題点
上記ゼオライトの再生において、アセトンはカルボニル
基を有し化学的に不安定でありゼオライト上でその塩基
性にj;る触媒作用を受けてアセトン自身が反応して高
沸点物(例、ジアセトンアルコール、メシチルオキシド
)が生成し、ゼオライトの水分吸着能力や物理的強度の
劣化の原因になるとされている。このように、アセトン
のような反応性の高い有機物の共存下での再生方法は実
用的な方法がなく、ゼオライトを経済的に再生できる方
法の開発が望まれている。
基を有し化学的に不安定でありゼオライト上でその塩基
性にj;る触媒作用を受けてアセトン自身が反応して高
沸点物(例、ジアセトンアルコール、メシチルオキシド
)が生成し、ゼオライトの水分吸着能力や物理的強度の
劣化の原因になるとされている。このように、アセトン
のような反応性の高い有機物の共存下での再生方法は実
用的な方法がなく、ゼオライトを経済的に再生できる方
法の開発が望まれている。
問題点を解決するための手段
本発明者らは、ゼオライトの能力の劣化を進めることな
く、経湾的に有利な再生方法を種々検討した結果、本発
明を完成した。
く、経湾的に有利な再生方法を種々検討した結果、本発
明を完成した。
すなわち、本発明は閉鎖系を循環する加熱不活性ガスの
系に含水アセトンの脱水処理に使用したゼオライトをお
き、加熱不活性ガスを該ゼオライトに接触させつつアセ
トンお、1−び水を系外に凝縮除去することを特徴とす
るゼオライトの再生法である。
系に含水アセトンの脱水処理に使用したゼオライトをお
き、加熱不活性ガスを該ゼオライトに接触させつつアセ
トンお、1−び水を系外に凝縮除去することを特徴とす
るゼオライトの再生法である。
本発明の再生法の対象となるゼオライトは、種々の化学
工業等において発生する含水アセトンを常法により脱水
処理に使用したものであれば特に限定されない。含水ア
セトンの発生ずる例としては、アセトンを用いる糖のケ
タール化反応(例、L−ソルボースにアセトンを反応さ
什るジアセトン−L−ソルボースの製造)があげられる
。再生に供されるゼオライトは、水分約1000〜40
00ppmの含水アセトンを、常法により、たとえばゼ
オライトの充填塔に通液し、脱水処理しkものが用いら
れる。アセトンにはジアセトンアルコール、メジデルオ
キシド、フォロンなどの不純物が若干含まれていてもよ
い。
工業等において発生する含水アセトンを常法により脱水
処理に使用したものであれば特に限定されない。含水ア
セトンの発生ずる例としては、アセトンを用いる糖のケ
タール化反応(例、L−ソルボースにアセトンを反応さ
什るジアセトン−L−ソルボースの製造)があげられる
。再生に供されるゼオライトは、水分約1000〜40
00ppmの含水アセトンを、常法により、たとえばゼ
オライトの充填塔に通液し、脱水処理しkものが用いら
れる。アセトンにはジアセトンアルコール、メジデルオ
キシド、フォロンなどの不純物が若干含まれていてもよ
い。
該処理に用いたゼオライトには水と共にアセトンも吸着
されているのが通常である。ゼオライトの種類は通常、
脱水処理に用いるものであれば特に限定されず、例えば
平均孔径が約3〜4オングストロームのものが一般に用
いられる。具体例としてはゼオラム3ASG(東洋曹達
製)、モレキュラーンーブ3A(ユニオン昭和製)、ミ
ズカシーブス4.A−15PN06(水沢化学制)など
があげられる。
されているのが通常である。ゼオライトの種類は通常、
脱水処理に用いるものであれば特に限定されず、例えば
平均孔径が約3〜4オングストロームのものが一般に用
いられる。具体例としてはゼオラム3ASG(東洋曹達
製)、モレキュラーンーブ3A(ユニオン昭和製)、ミ
ズカシーブス4.A−15PN06(水沢化学制)など
があげられる。
次に、本発明で使用される不活性ガスは、化学的反応性
が不活性なガスであればよく、好ましい例としては、窒
素、二酸化炭素、アルゴンなどのガスが挙げられ、特に
窒素ガスが好ましく利用できる。
が不活性なガスであればよく、好ましい例としては、窒
素、二酸化炭素、アルゴンなどのガスが挙げられ、特に
窒素ガスが好ましく利用できる。
不活性ガスは、閉鎖系において、大気圧を越える定圧下
、例えば約01〜20kg/ cm” G 、好ましく
は約0.1〜5 kg/ c+n2G 、標準状態に換
算したガスの線速度約0.1〜5m/秒、好ましくは約
0.1〜2m/秒で、ブロワ−で循環させ、脱水処理後
のゼオライトに接触せしめる。これによって水およびア
セトンを脱着せしめ、ゼオライトの再生が行なわれる。
、例えば約01〜20kg/ cm” G 、好ましく
は約0.1〜5 kg/ c+n2G 、標準状態に換
算したガスの線速度約0.1〜5m/秒、好ましくは約
0.1〜2m/秒で、ブロワ−で循環させ、脱水処理後
のゼオライトに接触せしめる。これによって水およびア
セトンを脱着せしめ、ゼオライトの再生が行なわれる。
本発明の再生法は、例えば第1図に示されるような工程
に従って好まし〈実施される。まず、バルブ14.19
を開けて、ゼオライトを充填した吸着塔2へ、含水アセ
トン管6を通して含水アセトンを通過させる。この処理
によ−)て含水アセトン中の水分はゼオライト1に吸着
され脱水アセトン管lOより脱水アセトンを収得できる
。ゼオライトが脱水能力を失った後、バルブ14.19
を閉じ、バルブl 5,17を開けて、再生で使用する
不活性ガスを、不活性ガス供給管11より通じてゼオラ
イト供給塔2に残存している含水アセトンを排出アセト
ン管7から押し出すと同時に供給塔内を不活性ガスで置
換せしめろ。ゼオライトにに付着または吸着したアセト
ン量は一般に、ゼオライト量に対して約15〜35屯量
%、水分…約7〜15重爪%である。
に従って好まし〈実施される。まず、バルブ14.19
を開けて、ゼオライトを充填した吸着塔2へ、含水アセ
トン管6を通して含水アセトンを通過させる。この処理
によ−)て含水アセトン中の水分はゼオライト1に吸着
され脱水アセトン管lOより脱水アセトンを収得できる
。ゼオライトが脱水能力を失った後、バルブ14.19
を閉じ、バルブl 5,17を開けて、再生で使用する
不活性ガスを、不活性ガス供給管11より通じてゼオラ
イト供給塔2に残存している含水アセトンを排出アセト
ン管7から押し出すと同時に供給塔内を不活性ガスで置
換せしめろ。ゼオライトにに付着または吸着したアセト
ン量は一般に、ゼオライト量に対して約15〜35屯量
%、水分…約7〜15重爪%である。
次にバルブ15.17を閉じ、バルブ16を開け、ゼオ
ライト層に上記のように閉鎖系下でブロワ−4によって
循環し、ガスヒーター5で加熱した不活性ガスを接触せ
しめ、アセトン及び水を脱着、蒸発せしめるが、この場
合比較的低温の加熱不活性ガスを接触させてアセトンを
脱着せしめる工程と、さらに温度を高めて水を脱着せし
める工程に分けて実施することが実用的により好ましい
。
ライト層に上記のように閉鎖系下でブロワ−4によって
循環し、ガスヒーター5で加熱した不活性ガスを接触せ
しめ、アセトン及び水を脱着、蒸発せしめるが、この場
合比較的低温の加熱不活性ガスを接触させてアセトンを
脱着せしめる工程と、さらに温度を高めて水を脱着せし
める工程に分けて実施することが実用的により好ましい
。
すなわち、このような接触方法によってアセトン自身が
反応して高沸点物等の副生成物の発生量を少なくするこ
とができ、ゼオライトの水分吸着能力や物理的強度の劣
化を有利に押えることができる。
反応して高沸点物等の副生成物の発生量を少なくするこ
とができ、ゼオライトの水分吸着能力や物理的強度の劣
化を有利に押えることができる。
上記において、アセトンを脱着せしめる際の温度は加熱
不活性ガスにより、アセトンの沸点よりも高く、少なく
ともアセトンが炭化しない温度にゼオライトを加熱すれ
ばよいが、通常は約60〜120℃に加熱することによ
って目的が達せられる。不活性ガス量は標準状態に換算
して吸着塔内の線速度が約0.1〜5m/秒、好ましく
は約0.1〜2m/秒になるように循環■しめろ。
不活性ガスにより、アセトンの沸点よりも高く、少なく
ともアセトンが炭化しない温度にゼオライトを加熱すれ
ばよいが、通常は約60〜120℃に加熱することによ
って目的が達せられる。不活性ガス量は標準状態に換算
して吸着塔内の線速度が約0.1〜5m/秒、好ましく
は約0.1〜2m/秒になるように循環■しめろ。
かくしてゼオライト層を通過させた後のアセトンを含む
不活性ガスはゼオライト通過ガス管8からガス冷却器3
を通過させ、凝縮アセトンを凝縮液管9を通じて除去す
るが、この場合不活性ガス中のアセトン濃度が約300
mg/ff以下、好ましくは約+oOmg/ρ以下に
なるように冷却する。
不活性ガスはゼオライト通過ガス管8からガス冷却器3
を通過させ、凝縮アセトンを凝縮液管9を通じて除去す
るが、この場合不活性ガス中のアセトン濃度が約300
mg/ff以下、好ましくは約+oOmg/ρ以下に
なるように冷却する。
上記のアセトン蒸発工程で副生成物が発生してもアセト
ンと共に凝縮するため不活性ガス中の副生酸物濃度は再
生中に増加することなくゼオライトの性能を劣化させな
い濃度(通常5〜l0mg/Q以下)に保つことができ
る。
ンと共に凝縮するため不活性ガス中の副生酸物濃度は再
生中に増加することなくゼオライトの性能を劣化させな
い濃度(通常5〜l0mg/Q以下)に保つことができ
る。
アセトンを蒸発させたゼオライト層には、次いでさらに
温度を高めた不活性ガスを接触させながら通過させ水を
脱着せしめろ。この場合の接触温度は約200〜250
℃の範囲が好ましい。接触後の水分を含む不活性ガスは
冷却器3を通過させ凝縮水を凝縮液管9を通じて除去後
り→J−イクルさせる。
温度を高めた不活性ガスを接触させながら通過させ水を
脱着せしめろ。この場合の接触温度は約200〜250
℃の範囲が好ましい。接触後の水分を含む不活性ガスは
冷却器3を通過させ凝縮水を凝縮液管9を通じて除去後
り→J−イクルさせる。
上記におけるアセトンおよび水の凝縮除去はこれらを含
む不活性ガスを約−5〜40℃に冷却することにより行
なわれる。また冷却に用いられる冷媒はプロセスの特性
により海水、工業用水または他の冷媒などを任意に選択
使用できる。
む不活性ガスを約−5〜40℃に冷却することにより行
なわれる。また冷却に用いられる冷媒はプロセスの特性
により海水、工業用水または他の冷媒などを任意に選択
使用できる。
水分を脱着させた後ガスヒーター5を止め、=5〜40
℃の不活性ガスをゼオライト層に接触させながら通過さ
せゼオライトを冷却せしめる。
℃の不活性ガスをゼオライト層に接触させながら通過さ
せゼオライトを冷却せしめる。
接触後の不活性ガスはガス冷却器3で冷却しリサイクル
させる。ゼオライト層を約30〜50℃へ冷却せしめて
全再生操作を終了する。
させる。ゼオライト層を約30〜50℃へ冷却せしめて
全再生操作を終了する。
」1記の操作の間、不活性ガスは、アセトン水の蒸発脱
着操作ではガス排出管12を通じて系内を一定圧力に保
つようにバルブ18を調整して排出され、ゼオライトの
冷却操作ではバルブ17を調整してガス供給管11を通
じて系内に不活性ガスを供給する。不活性ガスの消費量
は1回の再生につき充填塔及びガス管全容量の約2〜1
0倍量に留めることができる。
着操作ではガス排出管12を通じて系内を一定圧力に保
つようにバルブ18を調整して排出され、ゼオライトの
冷却操作ではバルブ17を調整してガス供給管11を通
じて系内に不活性ガスを供給する。不活性ガスの消費量
は1回の再生につき充填塔及びガス管全容量の約2〜1
0倍量に留めることができる。
寒廚貫
実施例1
ゼオライト[ゼオラム3ΔS G (東洋曹達)]を充
てんした25mmφX I 35 On+mllの塔へ
水分3000ppmを含んだアセトンを該ゼオライトが
脱水能力を失うまで通液した。このゼオライト充填塔に
、120℃の窒素ガスを圧力0.3kg/cm”G 、
循環量1.5m3/H(線速度0.85m/ 5ec)
で通過させた後、冷却器で一2〜O℃まで冷却し窒素ガ
ス中のアセトンを凝縮回収した。次いで、浴出口温度が
60℃まで上昇した時点で窒素ガス温度を230℃まで
加熱してゼオライト充填塔を通過させた後、冷却器で3
0〜35℃まで冷却して窒素ガス中の水を凝縮回収した
。浴出口温度が200℃まで」1昇すると次に 35℃
の窒素ガスを循環してゼオライト充填塔出口が40℃に
なるまで冷却した。
てんした25mmφX I 35 On+mllの塔へ
水分3000ppmを含んだアセトンを該ゼオライトが
脱水能力を失うまで通液した。このゼオライト充填塔に
、120℃の窒素ガスを圧力0.3kg/cm”G 、
循環量1.5m3/H(線速度0.85m/ 5ec)
で通過させた後、冷却器で一2〜O℃まで冷却し窒素ガ
ス中のアセトンを凝縮回収した。次いで、浴出口温度が
60℃まで上昇した時点で窒素ガス温度を230℃まで
加熱してゼオライト充填塔を通過させた後、冷却器で3
0〜35℃まで冷却して窒素ガス中の水を凝縮回収した
。浴出口温度が200℃まで」1昇すると次に 35℃
の窒素ガスを循環してゼオライト充填塔出口が40℃に
なるまで冷却した。
以上の操作を1サイクルとして30ザイクルまで実施し
たときの窒素消費量、ゼオライトの水分吸着能力1強度
及び結晶性を測定した。その結果を第1表に示す。
たときの窒素消費量、ゼオライトの水分吸着能力1強度
及び結晶性を測定した。その結果を第1表に示す。
第 1 表
来上記の通液、再生操作に付す前のゼオライトを意味す
る。
る。
■標準状態の容量
第1表に示されるように、本発明によると車掌ガスの消
費量が少なくして、ゼオライトを再生できる。
費量が少なくして、ゼオライトを再生できる。
実施例2
ゼオライト[モレキュラーシーブ3A型(ユニオン昭和
)]を充填した25n+mφx1350mmHの塔へ水
分3000 ppmを含んだアセトンをゼオライトが脱
水能力を失うまで通液した。その後実施例1と同条件で
20サイクルまで実施したときの窒素消費量と、再生を
行ったゼオライトに対して水分吸着能力、耐圧強度およ
び結晶性を測定した結果を第2表に示す。
)]を充填した25n+mφx1350mmHの塔へ水
分3000 ppmを含んだアセトンをゼオライトが脱
水能力を失うまで通液した。その後実施例1と同条件で
20サイクルまで実施したときの窒素消費量と、再生を
行ったゼオライトに対して水分吸着能力、耐圧強度およ
び結晶性を測定した結果を第2表に示す。
第 2 表
x」1記の通液、再生操作にイ・1第1)11のゼオラ
イトを意味する。
イトを意味する。
実施例3
実施例1のゼオラム3ASG(東11″、曹達)充填塔
で窒素ガスの圧力2.0kg/ Cm2(: 、循環1
?t1.Om’/ H(線速度0.57m/5ec)と
し、その他は実施例1と同条件で20サイクルまで実施
したときの窒素消費量と、再生を行ったゼオライI・の
物性を測定した結果を第3表に示す。
で窒素ガスの圧力2.0kg/ Cm2(: 、循環1
?t1.Om’/ H(線速度0.57m/5ec)と
し、その他は実施例1と同条件で20サイクルまで実施
したときの窒素消費量と、再生を行ったゼオライI・の
物性を測定した結果を第3表に示す。
第3表
8上記の通液、再生操作に付す前のゼオライトを意味す
る。
る。
実施例4
ゼオライト [ミズカシーブス4A−15PN06(水
沢化学制)]を充填した25mmφ×1350mml−
1の塔へ水分3000 ppmを含んだアセトンを該ゼ
オライトが脱水能力を失うまで通液した。
沢化学制)]を充填した25mmφ×1350mml−
1の塔へ水分3000 ppmを含んだアセトンを該ゼ
オライトが脱水能力を失うまで通液した。
このゼオライト充填塔で圧力9kg/cm’G、循環j
−tt 0 、 5 m”/ Hとし、その他は実施例
1と同一条件で再生を行い通液再生を20ザイクルまで
実施した時の窒素消費量と再生を行ったゼオライトの吸
着能及び耐圧強度の測定結果を第4表に示す。
−tt 0 、 5 m”/ Hとし、その他は実施例
1と同一条件で再生を行い通液再生を20ザイクルまで
実施した時の窒素消費量と再生を行ったゼオライトの吸
着能及び耐圧強度の測定結果を第4表に示す。
ゞ上記の通液、再生操作に付す前のゼオライトを意味す
る。
る。
比較例
ゼオライト[ゼオラム3ASG(東洋曹達)]を充填し
た25mmφx I 35 On+m1−1の塔で再生
圧力0.2kg/CM’G、再生ガスとして常に新窒素
を循環することなく使用した。その他の温度条件は実施
例Iと同条件とし、20サイクルまで実施したときの窒
素消費量を第5表に示す。
た25mmφx I 35 On+m1−1の塔で再生
圧力0.2kg/CM’G、再生ガスとして常に新窒素
を循環することなく使用した。その他の温度条件は実施
例Iと同条件とし、20サイクルまで実施したときの窒
素消費量を第5表に示す。
(以下余白)
第 5 表
8上記の通液、再生操作に付す前のゼオライトを意味す
る。
る。
第5表の結果に示されるように、本発明方法に比較して
窒素消費量が極めて大である。
窒素消費量が極めて大である。
発明、の効果
本発明によると、含水アセトンの脱水処理に用いたゼオ
ライトをその水分吸着能力、耐久性をほとんど低下させ
ることなく再生でき、かつその再生に使用する不活性ガ
スの消費量は極めて少なくてすみ、工業的に有利なぜオ
ライド再生法が提供される。特に、不活性ガスを閉鎖系
で循環させながら使用することによって、再生工程中に
おける不活性ガスの消費量は再生処理工程中の温度変化
に対して系内の圧力を一定に保つために8茨な程度です
み、ゼオライト再生コスi・の低減をはかることができ
る。かくして得られた再生ゼオライトは、再度、含水ア
セトンの脱水処理に有効に111用し得る。
ライトをその水分吸着能力、耐久性をほとんど低下させ
ることなく再生でき、かつその再生に使用する不活性ガ
スの消費量は極めて少なくてすみ、工業的に有利なぜオ
ライド再生法が提供される。特に、不活性ガスを閉鎖系
で循環させながら使用することによって、再生工程中に
おける不活性ガスの消費量は再生処理工程中の温度変化
に対して系内の圧力を一定に保つために8茨な程度です
み、ゼオライト再生コスi・の低減をはかることができ
る。かくして得られた再生ゼオライトは、再度、含水ア
セトンの脱水処理に有効に111用し得る。
第1図は、本発明を実施するだめの工程図の1例を示し
、図中の番号は次の各工程部分を示す。 1 ゼオライト充填層 2 吸着塔 3 ガス冷却器 4 ブロワ− 5ガスヒーター 6 含水アセトン管 7 排アセトン管 8 ゼオライト通過ガス管 9 凝縮液管 10 脱水アセトン管 11 不活性ガス供給管 12 不活性ガス排出管 J3 加熱ガス管 14〜19バルブ
、図中の番号は次の各工程部分を示す。 1 ゼオライト充填層 2 吸着塔 3 ガス冷却器 4 ブロワ− 5ガスヒーター 6 含水アセトン管 7 排アセトン管 8 ゼオライト通過ガス管 9 凝縮液管 10 脱水アセトン管 11 不活性ガス供給管 12 不活性ガス排出管 J3 加熱ガス管 14〜19バルブ
Claims (2)
- (1)閉鎖系を循環する加熱不活性ガスの系に含水アセ
トンの脱水処理に使用したゼオライトをおき、加熱不活
性ガスを該ゼオライトに接触させつつアセトンおよび水
を系外に凝縮除去することを特徴とするゼオライトの再
生法 - (2)比較的低温の加熱不活性ガスと接触させつつアセ
トンを脱着せしめる工程とさらに温度を高めて水を脱着
せしめる工程に付し、アセトンおよび水をそれぞれ凝縮
除去することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
再生法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16443686A JPH0783833B2 (ja) | 1985-07-16 | 1986-07-11 | ゼオライトの再生法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60-157572 | 1985-07-16 | ||
JP15757285 | 1985-07-16 | ||
JP16443686A JPH0783833B2 (ja) | 1985-07-16 | 1986-07-11 | ゼオライトの再生法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62110748A true JPS62110748A (ja) | 1987-05-21 |
JPH0783833B2 JPH0783833B2 (ja) | 1995-09-13 |
Family
ID=26484971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16443686A Expired - Lifetime JPH0783833B2 (ja) | 1985-07-16 | 1986-07-11 | ゼオライトの再生法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0783833B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017148741A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 日立造船株式会社 | ゼオライト膜複合体の再生方法 |
CN110548364A (zh) * | 2019-10-17 | 2019-12-10 | 清远先导材料有限公司 | 一种回收分子筛吸附的特种气体的方法和装置 |
-
1986
- 1986-07-11 JP JP16443686A patent/JPH0783833B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017148741A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 日立造船株式会社 | ゼオライト膜複合体の再生方法 |
CN110548364A (zh) * | 2019-10-17 | 2019-12-10 | 清远先导材料有限公司 | 一种回收分子筛吸附的特种气体的方法和装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0783833B2 (ja) | 1995-09-13 |
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