JPS6147370B2 - - Google Patents
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- JPS6147370B2 JPS6147370B2 JP55124604A JP12460480A JPS6147370B2 JP S6147370 B2 JPS6147370 B2 JP S6147370B2 JP 55124604 A JP55124604 A JP 55124604A JP 12460480 A JP12460480 A JP 12460480A JP S6147370 B2 JPS6147370 B2 JP S6147370B2
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- pressure
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- diaphragm
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L13/00—Devices or apparatus for measuring differences of two or more fluid pressure values
- G01L13/02—Devices or apparatus for measuring differences of two or more fluid pressure values using elastically-deformable members or pistons as sensing elements
- G01L13/025—Devices or apparatus for measuring differences of two or more fluid pressure values using elastically-deformable members or pistons as sensing elements using diaphragms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は差圧電送器に係り、2箇所の系内圧力
が流体を介して伝達される受圧部と、その受圧部
に伝達された高圧側と低圧側の圧力の差を電気信
号として取り出す差圧検出部を備えた差圧伝送器
に関するものである。
が流体を介して伝達される受圧部と、その受圧部
に伝達された高圧側と低圧側の圧力の差を電気信
号として取り出す差圧検出部を備えた差圧伝送器
に関するものである。
半導体差圧センサを用いる差圧伝送器におい
て、受圧部内にダイアフラムで仕切られた部屋を
複数設け、その受圧部から離れた場所に差圧検出
部を設けてある。流体系の2つの場所から流体を
介して伝達された各圧力は、各部屋のダイアフラ
ムを変形させる。それらダイアフラムの受圧側の
反対側に形成された室は差圧センサに連通してお
り、しかも独立に密封されている。そして、これ
らの密封された封入部にはそれぞれ圧力伝達用の
封入液体が満たされている。したがつて一方のダ
イアフラムの変位に基づく圧力および他方のダイ
イアフラムの変位に基づく圧力が差圧センサに印
加される。これにより差圧センサは印加された封
入液の差圧、すなわち伝送器に導入された液体の
圧力の差に対応する量だけ変位し、その変位に応
じた電気的出力信号を発生する。
て、受圧部内にダイアフラムで仕切られた部屋を
複数設け、その受圧部から離れた場所に差圧検出
部を設けてある。流体系の2つの場所から流体を
介して伝達された各圧力は、各部屋のダイアフラ
ムを変形させる。それらダイアフラムの受圧側の
反対側に形成された室は差圧センサに連通してお
り、しかも独立に密封されている。そして、これ
らの密封された封入部にはそれぞれ圧力伝達用の
封入液体が満たされている。したがつて一方のダ
イアフラムの変位に基づく圧力および他方のダイ
イアフラムの変位に基づく圧力が差圧センサに印
加される。これにより差圧センサは印加された封
入液の差圧、すなわち伝送器に導入された液体の
圧力の差に対応する量だけ変位し、その変位に応
じた電気的出力信号を発生する。
ところで、従来の差圧伝送器においては中央の
部屋の中央ダイアフラムが受圧部の本体に溶接に
より固定されていた。そのダイアフラムの溶接部
の周辺は熱影響により焼なまし状態となるため、
ダイアフラムの運動の支点は溶接部から離れ、か
つその支点は溶接条件により変化するので、ダイ
アフラムが一方側へ変位したときの動作特性と、
他方側へ変位したときの動作特性を同じにするこ
とができず、零点変動が大きくなり、直線性が低
下し、安定した高い測定精度が得られないという
問題がある。さらに、最近は極めて高圧力下での
差圧力を測定することが要望されているので、高
圧力下で差圧センサの片面のみに圧力が印加され
る場合を考慮すると、上述の安定した高い測定精
度は得られない。
部屋の中央ダイアフラムが受圧部の本体に溶接に
より固定されていた。そのダイアフラムの溶接部
の周辺は熱影響により焼なまし状態となるため、
ダイアフラムの運動の支点は溶接部から離れ、か
つその支点は溶接条件により変化するので、ダイ
アフラムが一方側へ変位したときの動作特性と、
他方側へ変位したときの動作特性を同じにするこ
とができず、零点変動が大きくなり、直線性が低
下し、安定した高い測定精度が得られないという
問題がある。さらに、最近は極めて高圧力下での
差圧力を測定することが要望されているので、高
圧力下で差圧センサの片面のみに圧力が印加され
る場合を考慮すると、上述の安定した高い測定精
度は得られない。
本発明の目的は、上述の問題を解消することに
ある。すなわち中央ダイアフラムの支点部分を明
確に規定できる構造とし、零点変動がなく、直線
性の優れた差圧伝送器を提供することにある。
ある。すなわち中央ダイアフラムの支点部分を明
確に規定できる構造とし、零点変動がなく、直線
性の優れた差圧伝送器を提供することにある。
本発明では、受圧部を第1の部屋を有する第1
本体部および第2の部屋を有する第2本体部で構
成し、前記各部屋をシールダイアフラムで仕切
り、前記第1の本体部と第2の本体部とによつて
中央の部屋を構成するとともに中央の部屋を中央
ダイアフラムで仕切り、シールダイアフラムおよ
び中央ダイアフラムを耐食性金属材料で形成する
とともに、中央ダイアスフラムの端縁部付近を、
第1本体部に溶接により固定し、かつ第2本体部
に設けた突出部により押しつけるように構成した
こを特徴とする。
本体部および第2の部屋を有する第2本体部で構
成し、前記各部屋をシールダイアフラムで仕切
り、前記第1の本体部と第2の本体部とによつて
中央の部屋を構成するとともに中央の部屋を中央
ダイアフラムで仕切り、シールダイアフラムおよ
び中央ダイアフラムを耐食性金属材料で形成する
とともに、中央ダイアスフラムの端縁部付近を、
第1本体部に溶接により固定し、かつ第2本体部
に設けた突出部により押しつけるように構成した
こを特徴とする。
以下本発明に基づく実施例を説明する。
第1図は本発明の一実施例の構成を示す断面図
である。第1図の差圧伝送器は、半導体差圧セン
サ10が内蔵された差圧検出部1と、高圧側シー
ルダイアフラム20、低圧側シールダイアフラム
30、および中央ダイアフラム40が内蔵された
受圧部2を備えている。
である。第1図の差圧伝送器は、半導体差圧セン
サ10が内蔵された差圧検出部1と、高圧側シー
ルダイアフラム20、低圧側シールダイアフラム
30、および中央ダイアフラム40が内蔵された
受圧部2を備えている。
半導体差圧センサ10は円板上に形成された単
結晶シリコンからなり、拡散技術により抵抗が形
成されている。差圧センサ10の裏面側は中心付
近が突出した円形凹部を有しており、その裏面の
外周囲付近が、薄いガラスを介して支持体12に
接合されている。この差圧センサ10および支持
体12は、シール金具55内に納められ、連結金
具50、シール金具55、プレート57で囲まれ
るように配置されている。差圧センサ10の外側
を巻くドーナツ状のセラミツクプリント基板15
は、差圧センサ10とほぼ同一平面となるように
配置され、それを被うようにセラミツク基板用保
護カバー16が設けられている。差圧センサ10
上のブリツジ抵抗と基板15とは導体によつて接
続され、さらにハーメチツクシールされたリード
線61を介してプリント回路62に接続されてい
る。プリント回路62は温度補償用サーミスタ等
を有する補償基板60を介してコネクタ65に接
続されている。連結金具50とシール金具55と
は溶接接合され、シール金具55とプレート57
も溶接接合されている。差圧センサ10の表面側
はセラミツク基板15と保護カバー16との間隙
が、連結金具50の導圧路52に通じており、こ
れらの通路に封入液が満たされている。差圧セン
サ10の裏面側は支持体12に形成された孔を通
つて導圧路54に通じており、これらの通路には
封入液が満たされている。補償基板60の周囲は
コネクターカバー63で被われ、シール金具55
の外周囲には保護カバー56が配置される。差圧
検出部1は、増幅部本体ケース66に固定ねじ7
5,76等により固定される。この場合、O―リ
ング58により気密が保たれる。
結晶シリコンからなり、拡散技術により抵抗が形
成されている。差圧センサ10の裏面側は中心付
近が突出した円形凹部を有しており、その裏面の
外周囲付近が、薄いガラスを介して支持体12に
接合されている。この差圧センサ10および支持
体12は、シール金具55内に納められ、連結金
具50、シール金具55、プレート57で囲まれ
るように配置されている。差圧センサ10の外側
を巻くドーナツ状のセラミツクプリント基板15
は、差圧センサ10とほぼ同一平面となるように
配置され、それを被うようにセラミツク基板用保
護カバー16が設けられている。差圧センサ10
上のブリツジ抵抗と基板15とは導体によつて接
続され、さらにハーメチツクシールされたリード
線61を介してプリント回路62に接続されてい
る。プリント回路62は温度補償用サーミスタ等
を有する補償基板60を介してコネクタ65に接
続されている。連結金具50とシール金具55と
は溶接接合され、シール金具55とプレート57
も溶接接合されている。差圧センサ10の表面側
はセラミツク基板15と保護カバー16との間隙
が、連結金具50の導圧路52に通じており、こ
れらの通路に封入液が満たされている。差圧セン
サ10の裏面側は支持体12に形成された孔を通
つて導圧路54に通じており、これらの通路には
封入液が満たされている。補償基板60の周囲は
コネクターカバー63で被われ、シール金具55
の外周囲には保護カバー56が配置される。差圧
検出部1は、増幅部本体ケース66に固定ねじ7
5,76等により固定される。この場合、O―リ
ング58により気密が保たれる。
受圧部2は、フランジ27および37、本体2
8および38を、ボルト71,73等および締付
ナツト72,74等によつてパツキン77,78
を介在して締付けて耐圧性と気密性を得ている。
フランジ27,37にはそれぞれ凹部が形成され
ており、フランジ27の凹部には系内高圧流体導
圧口24が開口し、フランジ37の凹部には系内
低圧流体導圧口34が開口している。各導圧口2
4,34はプロセス内の異なつた場所、例えば流
体の上流側と下流側に連通しており、各凹部には
プロセス流体が導入されている。フランジ27,
37および本体28,38はステンレス鋼で形成
されている。円柱状の本体28の円柱上面と下面
にはそれぞれ凹部が形成される。一方の凹部は底
部が波形に形成されており、その底部波形に応じ
た波形が形成された高圧側シールダイアフラム2
0が、底部に近接して配置するように、ダイアフ
ラムの端縁部付近を本体28に電子ビーム溶接で
接合している。
8および38を、ボルト71,73等および締付
ナツト72,74等によつてパツキン77,78
を介在して締付けて耐圧性と気密性を得ている。
フランジ27,37にはそれぞれ凹部が形成され
ており、フランジ27の凹部には系内高圧流体導
圧口24が開口し、フランジ37の凹部には系内
低圧流体導圧口34が開口している。各導圧口2
4,34はプロセス内の異なつた場所、例えば流
体の上流側と下流側に連通しており、各凹部には
プロセス流体が導入されている。フランジ27,
37および本体28,38はステンレス鋼で形成
されている。円柱状の本体28の円柱上面と下面
にはそれぞれ凹部が形成される。一方の凹部は底
部が波形に形成されており、その底部波形に応じ
た波形が形成された高圧側シールダイアフラム2
0が、底部に近接して配置するように、ダイアフ
ラムの端縁部付近を本体28に電子ビーム溶接で
接合している。
フランジ27の凹部と本体28の一方の凹部と
によつて第1の部屋が形成されるが、この第1の
部屋は高圧側シールダイアフラム20により、高
圧側流体室21と高圧側受圧室22とに隔離され
る。本体28の他方の凹部の底も波形に形成され
ており、その波形に沿つた波形に形成された中央
ダイアフラム40が配置される。他方の凹部と中
央ダイアフラム40とは過負荷保護室42を形成
するように近接して配置されている。中央ダイア
フラム40の端縁部周囲付近は、電子ビーム溶接
により本体28に接合されている。導圧路25お
よびダンパ29は高圧側受圧室22と過負荷保護
室42とを連通している。本体28と連結金具5
0とは溶接接合されている。
によつて第1の部屋が形成されるが、この第1の
部屋は高圧側シールダイアフラム20により、高
圧側流体室21と高圧側受圧室22とに隔離され
る。本体28の他方の凹部の底も波形に形成され
ており、その波形に沿つた波形に形成された中央
ダイアフラム40が配置される。他方の凹部と中
央ダイアフラム40とは過負荷保護室42を形成
するように近接して配置されている。中央ダイア
フラム40の端縁部周囲付近は、電子ビーム溶接
により本体28に接合されている。導圧路25お
よびダンパ29は高圧側受圧室22と過負荷保護
室42とを連通している。本体28と連結金具5
0とは溶接接合されている。
円板状の本体38の上面と下面にもそれぞれ凹
部が形成される。一方の凹部の底は中央ダイアフ
ラム40の波形に沿つた波形に沿つた波形に形成
されている。他方の凹部の底も波形に形成されて
おり、その底部に沿つて波形形成された低圧側シ
ールダイアフラム30が近接して配置される。低
圧側シールダイアフラム30の端縁部周囲付近
は、本体38に電子ビーム溶接により接合されて
いる。円板状の本体38は、本体28内に嵌合さ
れる。第2図に示すように本体38の尖頭部39
は、本体28に溶接接合された中央ダイアフラム
40の溶接接合部より内側を、高負荷力で押し付
る。中央ダイアフラム40を有する中央の部屋
は、中央ダイアフラム40によつて過負荷保護室
42と44とに隔離される。また、フランジ37
の凹部と本体38の凹部によつて形成される第2
の部屋は、低圧側シールダイアフラム30によつ
て、低圧側流体室31と低圧側受圧室32とに隔
離される。導圧路35は、低圧側流体室31と低
圧側受圧室32とを連通している。
部が形成される。一方の凹部の底は中央ダイアフ
ラム40の波形に沿つた波形に沿つた波形に形成
されている。他方の凹部の底も波形に形成されて
おり、その底部に沿つて波形形成された低圧側シ
ールダイアフラム30が近接して配置される。低
圧側シールダイアフラム30の端縁部周囲付近
は、本体38に電子ビーム溶接により接合されて
いる。円板状の本体38は、本体28内に嵌合さ
れる。第2図に示すように本体38の尖頭部39
は、本体28に溶接接合された中央ダイアフラム
40の溶接接合部より内側を、高負荷力で押し付
る。中央ダイアフラム40を有する中央の部屋
は、中央ダイアフラム40によつて過負荷保護室
42と44とに隔離される。また、フランジ37
の凹部と本体38の凹部によつて形成される第2
の部屋は、低圧側シールダイアフラム30によつ
て、低圧側流体室31と低圧側受圧室32とに隔
離される。導圧路35は、低圧側流体室31と低
圧側受圧室32とを連通している。
過負荷保護室42,44の容積は受圧室22,
32の容積よりも大きい。これにより一方のシー
ルダイアフラムに過大圧が加わり、そのシールダ
イアフラムが本体に着座しても、中央ダイアフラ
ム40は着座動作しない。過負荷保護室42は、
本体28に形成された導圧路および連結金具50
の導圧路52を介して半導体センサ10の表面側
に連結しており、これら導圧路25、高圧側受圧
室22を含めて第1封入部を成している。この独
立した第1封入部には非圧縮性の液体であるシリ
コンオイルが満たされている。過負荷保護室44
は、本体38および本体28に形成された導圧路
および連結金具50の導圧路54を介して差圧セ
ンサ10の裏面側に連通しており、これらおよび
導圧路35、低圧側受圧室32を含めて第2封入
部を成している。この独立した第2封入部にもシ
リコンオイルが満たされている。
32の容積よりも大きい。これにより一方のシー
ルダイアフラムに過大圧が加わり、そのシールダ
イアフラムが本体に着座しても、中央ダイアフラ
ム40は着座動作しない。過負荷保護室42は、
本体28に形成された導圧路および連結金具50
の導圧路52を介して半導体センサ10の表面側
に連結しており、これら導圧路25、高圧側受圧
室22を含めて第1封入部を成している。この独
立した第1封入部には非圧縮性の液体であるシリ
コンオイルが満たされている。過負荷保護室44
は、本体38および本体28に形成された導圧路
および連結金具50の導圧路54を介して差圧セ
ンサ10の裏面側に連通しており、これらおよび
導圧路35、低圧側受圧室32を含めて第2封入
部を成している。この独立した第2封入部にもシ
リコンオイルが満たされている。
このような構成の差圧伝送器において、図示さ
れていない系の流路中のオリフイスの高圧側から
取り出されたプロセス流体の圧力は、導圧口24
から高圧側流体室21に伝達されてシールダイア
フラム20を押圧する。この高圧流体に圧力変化
が発生すると、その変化は第1封入部の封入液に
より中央ダイアフラム40の一方の面に伝達され
るとともに、導圧路52を介して差圧センサ10
の表面に伝達される。同時にオリフイスの低圧側
から取り出されたプロセス流体の圧力は、導圧口
34から低圧側流体室31に伝達されてシールダ
イアフラム30を押圧する。この低圧流体に圧力
が発生すると、その変化は第2封入部の封入液に
より中央ダイアフラム40の他方の面に伝達され
るとともに、導圧路54を介して差圧センサ10
の裏面に伝達される。
れていない系の流路中のオリフイスの高圧側から
取り出されたプロセス流体の圧力は、導圧口24
から高圧側流体室21に伝達されてシールダイア
フラム20を押圧する。この高圧流体に圧力変化
が発生すると、その変化は第1封入部の封入液に
より中央ダイアフラム40の一方の面に伝達され
るとともに、導圧路52を介して差圧センサ10
の表面に伝達される。同時にオリフイスの低圧側
から取り出されたプロセス流体の圧力は、導圧口
34から低圧側流体室31に伝達されてシールダ
イアフラム30を押圧する。この低圧流体に圧力
が発生すると、その変化は第2封入部の封入液に
より中央ダイアフラム40の他方の面に伝達され
るとともに、導圧路54を介して差圧センサ10
の裏面に伝達される。
中央ダイアフラム40の存在は、高圧側流体室
21または低圧側流体室31のいずれかに過負荷
が加わつたときに、その過負荷流体圧がそのまま
差圧センサ10に伝達されるのを阻止する。
21または低圧側流体室31のいずれかに過負荷
が加わつたときに、その過負荷流体圧がそのまま
差圧センサ10に伝達されるのを阻止する。
シールダイアフラム20,30および中央ダイ
アフラム40は、差圧伝送器としての動作圧力範
囲に応じて大きさが決められている。
アフラム40は、差圧伝送器としての動作圧力範
囲に応じて大きさが決められている。
中央ダイアフラム40を、本体28に電子ビー
ム溶接により接合し、さらに本体38の尖頭部3
9により溶接点の内周部を強力に押し付けること
により、一方の流体室に過負荷が加わつた場合、
過負荷の印加前と印加後とでは、零点が変動しな
かつた。さらにノンリニアリテイの著しい改善が
できた。すなわち中央ダイアフラム40の動作の
支点は溶接部分ではなく、本体38の尖頭部39
であるため、溶接の際に生じる熱影響は皆無であ
り、さらに溶接条件に左右されることはない。そ
れゆえに中央ダイアフラム40が一方側へ変位し
たときと他方側へ変位したときに、中央ダイアフ
ラム40の運動の支点は固く機械的に固定されて
いるので、動作特性を一致させることができるか
らである。
ム溶接により接合し、さらに本体38の尖頭部3
9により溶接点の内周部を強力に押し付けること
により、一方の流体室に過負荷が加わつた場合、
過負荷の印加前と印加後とでは、零点が変動しな
かつた。さらにノンリニアリテイの著しい改善が
できた。すなわち中央ダイアフラム40の動作の
支点は溶接部分ではなく、本体38の尖頭部39
であるため、溶接の際に生じる熱影響は皆無であ
り、さらに溶接条件に左右されることはない。そ
れゆえに中央ダイアフラム40が一方側へ変位し
たときと他方側へ変位したときに、中央ダイアフ
ラム40の運動の支点は固く機械的に固定されて
いるので、動作特性を一致させることができるか
らである。
第3図は、本発明の他の実施例を説明する図で
あり、第1図と異なるのは中央ダイアフラム40
を本体38に組み込まれたウエイブ輪49で押し
付けた点にある。ウエイブ輪29は本体38に溶
接されている。この構造によれば、中央ダイアフ
ラム40の支点部はウエイブ輪29により常に一
定の圧力で押えるようになる。すなわち本体28
に本体38を嵌合して溶接する、本体38に印加
させる負荷力を小さくできるとともに、溶接の条
件による影響を皆無にすることができる。それゆ
え中央ダイアフラム40の運動支点は、一方側へ
変位したときと他方側へ変位したときに一致する
ので、両方向の特性が一致した差圧伝送器が得ら
れ、零点変動がなく、ノンニリアリテイの著しい
改善ができる。
あり、第1図と異なるのは中央ダイアフラム40
を本体38に組み込まれたウエイブ輪49で押し
付けた点にある。ウエイブ輪29は本体38に溶
接されている。この構造によれば、中央ダイアフ
ラム40の支点部はウエイブ輪29により常に一
定の圧力で押えるようになる。すなわち本体28
に本体38を嵌合して溶接する、本体38に印加
させる負荷力を小さくできるとともに、溶接の条
件による影響を皆無にすることができる。それゆ
え中央ダイアフラム40の運動支点は、一方側へ
変位したときと他方側へ変位したときに一致する
ので、両方向の特性が一致した差圧伝送器が得ら
れ、零点変動がなく、ノンニリアリテイの著しい
改善ができる。
以上説明したように、本発明によれば、長期安
定して測定精度のすぐれた差圧伝送器を得ること
ができるので、その効果は甚大である。
定して測定精度のすぐれた差圧伝送器を得ること
ができるので、その効果は甚大である。
第1図は本発明の一実施例の構成を示す断面
図、第2図は第1図の要部の詳細を示す断面図、
第3図は本発明の他の実施例の要部を示す断面図
である。 1……差圧検出部、2……受圧部、10……半
導体差圧センサ、20,30……シールダイアフ
ラム、21,31……流体室、22,32……受
圧室、24,34……流体導圧口、27,37…
…フランジ、28,38……本体、39……尖頭
部、40……中央ダイアフラム、49……ウエイ
ブ輪、50……連結金具、52,54……導圧
路、55……シール金具。
図、第2図は第1図の要部の詳細を示す断面図、
第3図は本発明の他の実施例の要部を示す断面図
である。 1……差圧検出部、2……受圧部、10……半
導体差圧センサ、20,30……シールダイアフ
ラム、21,31……流体室、22,32……受
圧室、24,34……流体導圧口、27,37…
…フランジ、28,38……本体、39……尖頭
部、40……中央ダイアフラム、49……ウエイ
ブ輪、50……連結金具、52,54……導圧
路、55……シール金具。
Claims (1)
- 1 系内の2つの場所における圧力が流体を介し
て伝達される受圧部と、この受圧部に伝達された
圧力の差を電気信号として取り出すための差圧セ
ンサを有する差圧検出部とを備えた差圧伝送器に
おいて、前記差圧部を第1の部屋を有する第1本
体部および第2の部屋を有する第2本体部で構成
し、前記各部屋をシールダイアフラムで仕切り、
前記第1の本体部と第2の本体部とによつて中央
の部屋を構成するとともに前記中央の部屋を中央
ダイヤフラムで仕切り、前記シールダイアフラム
および中央ダイアフラムを耐食性金属材料で形成
するとともに、前記中央ダイアフラムの端縁部付
近を、前記第1本体部に溶接により固定し、かつ
前記第2本体部に設けた突出部により押しつける
ように構成したことを特徴とする差圧伝送器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12460480A JPS5749829A (en) | 1980-09-10 | 1980-09-10 | Transmitting device for pressure difference |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12460480A JPS5749829A (en) | 1980-09-10 | 1980-09-10 | Transmitting device for pressure difference |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18757387A Division JPS6345524A (ja) | 1987-07-29 | 1987-07-29 | 差圧伝送器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5749829A JPS5749829A (en) | 1982-03-24 |
JPS6147370B2 true JPS6147370B2 (ja) | 1986-10-18 |
Family
ID=14889544
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12460480A Granted JPS5749829A (en) | 1980-09-10 | 1980-09-10 | Transmitting device for pressure difference |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5749829A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6393214U (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-16 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06105787B2 (ja) * | 1983-02-25 | 1994-12-21 | 株式会社日立製作所 | 高耐圧圧力センサ |
JPS6345524A (ja) * | 1987-07-29 | 1988-02-26 | Hitachi Ltd | 差圧伝送器 |
JP5741396B2 (ja) | 2011-11-16 | 2015-07-01 | 住友電装株式会社 | パーツフィーダ及びパーツの供給方法 |
DE102020110728A1 (de) | 2020-04-20 | 2021-10-21 | Endress+Hauser SE+Co. KG | Differenzdruckmessaufnehmer zur Bestimmung des Differenzdrucks von zwei Drücken |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52148181A (en) * | 1976-05-03 | 1977-12-09 | Honeywell Inc | Differential pressure transmitter |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54173160U (ja) * | 1978-05-28 | 1979-12-07 |
-
1980
- 1980-09-10 JP JP12460480A patent/JPS5749829A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52148181A (en) * | 1976-05-03 | 1977-12-09 | Honeywell Inc | Differential pressure transmitter |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6393214U (ja) * | 1986-12-10 | 1988-06-16 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5749829A (en) | 1982-03-24 |
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