JPS61284973A - 太陽電池およびその製造方法 - Google Patents
太陽電池およびその製造方法Info
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- JPS61284973A JPS61284973A JP60126474A JP12647485A JPS61284973A JP S61284973 A JPS61284973 A JP S61284973A JP 60126474 A JP60126474 A JP 60126474A JP 12647485 A JP12647485 A JP 12647485A JP S61284973 A JPS61284973 A JP S61284973A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明は、太陽電池およびその製造方法に係り、特に、
太陽電池におりる電流収集用の集電体の占有面積を減少
せしめ、太陽電池の実効効率を高めると共に製造を容易
にしようとするものである。
太陽電池におりる電流収集用の集電体の占有面積を減少
せしめ、太陽電池の実効効率を高めると共に製造を容易
にしようとするものである。
[従来の技術およびその製造方法]
半導体の光起電力効果を利用して光エネルギーを直接電
気エネルギーに変換づる太陽電池は、少資m国である我
が国では、その有効利用が注目されているデバイスであ
る。
気エネルギーに変換づる太陽電池は、少資m国である我
が国では、その有効利用が注目されているデバイスであ
る。
通常、太陽電池では、光電変換層を2つの電極で挾んだ
構造がとられるが、2つの電極のうち、光の入射方向側
に配置される電極は透光性の導電膜で形成される。この
透光性の導電膜は、透光性を維持づるためには薄く形成
されなければならないが、薄く形成されると、太陽電池
の大面積化が進むにつれて電極(透光性の導電膜)その
ものによる抵抗が大きくなり、集電効率が低下するとい
う問題があった。
構造がとられるが、2つの電極のうち、光の入射方向側
に配置される電極は透光性の導電膜で形成される。この
透光性の導電膜は、透光性を維持づるためには薄く形成
されなければならないが、薄く形成されると、太陽電池
の大面積化が進むにつれて電極(透光性の導電膜)その
ものによる抵抗が大きくなり、集電効率が低下するとい
う問題があった。
そこで、特開昭56−130977号公報にも記載され
ているように、透光性の導電股上に良導電性物質からな
るくし形の集電体(グリッド電極)を形成する構造が提
案されている。
ているように、透光性の導電股上に良導電性物質からな
るくし形の集電体(グリッド電極)を形成する構造が提
案されている。
すなわち、第4図(a)〜(e)にその構成を製造工程
と共に示す如く、例えば透光性のガラス基板101上に
集電用電極として電力取り出し用の帯状部Bを有するく
し形グリッド電極102が形成されており、その上層に
通常の如く透光性の導[J103としての酸化インジウ
ム錫(ITO)電極、光電変換1104としてのアEル
ファスシリコン層(a−8i ) 、金属’Ji105
としてのクロム電極とが積層uしめられて太陽電池を構
成している。そしてこの太陽電池の出力は、集電用電極
102と金属電極105との間で取り出される。
と共に示す如く、例えば透光性のガラス基板101上に
集電用電極として電力取り出し用の帯状部Bを有するく
し形グリッド電極102が形成されており、その上層に
通常の如く透光性の導[J103としての酸化インジウ
ム錫(ITO)電極、光電変換1104としてのアEル
ファスシリコン層(a−8i ) 、金属’Ji105
としてのクロム電極とが積層uしめられて太陽電池を構
成している。そしてこの太陽電池の出力は、集電用電極
102と金属電極105との間で取り出される。
かかる構造では、電力取り出し部による抵抗は小さくな
るが、集電用電極の存在する部分は入)1光吊の減衰に
より太陽電池として働がないため、受光面v4(電池面
積)がその分だけ小さくなり、特に電力取り出し用の帯
状部Bの存在は光の有効利用という観点では大きな問題
となっている。
るが、集電用電極の存在する部分は入)1光吊の減衰に
より太陽電池として働がないため、受光面v4(電池面
積)がその分だけ小さくなり、特に電力取り出し用の帯
状部Bの存在は光の有効利用という観点では大きな問題
となっている。
そこで、本発明者らは、透光性の第1電極と第2電極と
によって光電変換層を挾んだ太陽電池において、太陽電
池の衷面すなわち光の入射方向の反対側に絶縁層を介し
て集電用の電極を形成し、この電極を前記第1電極と電
気的に接続する方法を提案している。
によって光電変換層を挾んだ太陽電池において、太陽電
池の衷面すなわち光の入射方向の反対側に絶縁層を介し
て集電用の電極を形成し、この電極を前記第1電極と電
気的に接続する方法を提案している。
この太陽電池は、例えば、第5図(a)〜(d)に示す
如く(第5図(b)〜(d)は夫々、第5図(a)(7
)へ−へ断面図、B−B断面図、C−C断面図)、透光
性のガラス基板201の表面全体に形成された表面電極
としての酸化インジウム錫(ITO)電極202(透光
性導電膜)と、該酸化インジウム錫電極上に所定の間隔
毎に細溝Cを有するにうに、順次積層せしめられた光電
変換層としてのアモルファスシリコン層203おにび大
面電極としての第1のアルミニウム電極204と、さら
に、この上層および前記細溝の側壁を覆うように形成さ
れた絶縁層としての酸化シリコンW−205と、さらに
基板表面全体を覆うように形成された集電電極としての
第2のアルミニウム電極206とから構成されており、
ガラス基板201の側から矢印L1で示す如く光が入射
するように配置される。(封止層は図示せず) また、この太陽電池の製造に際しては次のような方法が
とられている。
如く(第5図(b)〜(d)は夫々、第5図(a)(7
)へ−へ断面図、B−B断面図、C−C断面図)、透光
性のガラス基板201の表面全体に形成された表面電極
としての酸化インジウム錫(ITO)電極202(透光
性導電膜)と、該酸化インジウム錫電極上に所定の間隔
毎に細溝Cを有するにうに、順次積層せしめられた光電
変換層としてのアモルファスシリコン層203おにび大
面電極としての第1のアルミニウム電極204と、さら
に、この上層および前記細溝の側壁を覆うように形成さ
れた絶縁層としての酸化シリコンW−205と、さらに
基板表面全体を覆うように形成された集電電極としての
第2のアルミニウム電極206とから構成されており、
ガラス基板201の側から矢印L1で示す如く光が入射
するように配置される。(封止層は図示せず) また、この太陽電池の製造に際しては次のような方法が
とられている。
まず、第6図(a)に示ず如く、透光性のガラス基板2
01表面金体に電子ビーム蒸着法ににり酸化インジウム
錫電極202を形成する。
01表面金体に電子ビーム蒸着法ににり酸化インジウム
錫電極202を形成する。
次いで、第6図(b)に示す如く、第1のメタルマスク
Aを設置し、プラズマCV D法により光電変換層20
3どしてのアモルファスシリコン層を着膜する。
Aを設置し、プラズマCV D法により光電変換層20
3どしてのアモルファスシリコン層を着膜する。
続いて、第6図(C)に示づ如く、第1のメタルマスク
Aを設置したまま、電子ビーム蒸着法により、実面電極
としての第1のアルミニウム電極204を形成する。
Aを設置したまま、電子ビーム蒸着法により、実面電極
としての第1のアルミニウム電極204を形成する。
この後、第6図(d)に示す如く、前記第1のメタルマ
スク八に代えて、幅の細い第2のメタルマスクBを設置
し、これを用いて、電子ビーム蒸着法により、酸化シリ
コンlFu 205を形成づる。
スク八に代えて、幅の細い第2のメタルマスクBを設置
し、これを用いて、電子ビーム蒸着法により、酸化シリ
コンlFu 205を形成づる。
更にこの上層に、電子ビーム蒸着法により、第6図(e
)に示す如く、集電電極としての第2のアルミニウム電
極206を形成する。
)に示す如く、集電電極としての第2のアルミニウム電
極206を形成する。
そして最後に、第6図(f)に示す如く、スクリーン印
刷法により、封止層207としてシリコーン樹脂膜を形
成する。
刷法により、封止層207としてシリコーン樹脂膜を形
成する。
この構造では、集電電極としての第2のアルミニウム電
極206は、細溝Cを通って透光性導電膜すなわち酸化
インジウム錫電極に接続されるわけであるが、この細溝
Cの側壁には、裏面電極としての第1のアルミニウム電
極204が露早しているため、短絡を防ぐために、該細
′f4Cの側壁に絶縁層を形成する必要がある。しかし
ながら、垂面への絶縁膜の形成に際しては、通常の方法
では、平面と同程磨にjツくりるのは困難であり、側壁
の絶縁層が薄いために絶縁不良が生じ、太陽電池として
の信頼性を低下させる原因となっていた。
極206は、細溝Cを通って透光性導電膜すなわち酸化
インジウム錫電極に接続されるわけであるが、この細溝
Cの側壁には、裏面電極としての第1のアルミニウム電
極204が露早しているため、短絡を防ぐために、該細
′f4Cの側壁に絶縁層を形成する必要がある。しかし
ながら、垂面への絶縁膜の形成に際しては、通常の方法
では、平面と同程磨にjツくりるのは困難であり、側壁
の絶縁層が薄いために絶縁不良が生じ、太陽電池として
の信頼性を低下させる原因となっていた。
まIご、第1のアルミニウム電極および光電変換層のパ
ターンと、絶縁層のパターンとではパターン構造が異な
るため、形成工程においても使用するメタルマスクを交
換しなければならない。従って、交換時にはパターン合
わせを必要とするため、操作が繁雑である上、合わt!
誤差相当の余裕が必要となり、結果として面積ロスすな
わら無駄な領域を増加させることになる、また、メタル
マスクの交換に際し゛τ基板表面が汚染されるという問
題もあった。
ターンと、絶縁層のパターンとではパターン構造が異な
るため、形成工程においても使用するメタルマスクを交
換しなければならない。従って、交換時にはパターン合
わせを必要とするため、操作が繁雑である上、合わt!
誤差相当の余裕が必要となり、結果として面積ロスすな
わら無駄な領域を増加させることになる、また、メタル
マスクの交換に際し゛τ基板表面が汚染されるという問
題もあった。
更には、工程数が多い上、これらの工程は1つの流れと
なっているため、最終製品を得るまでに要する時間は各
工程に必要な時間の総和であり、全工程を完了りるのに
良い時間が必要であった。
なっているため、最終製品を得るまでに要する時間は各
工程に必要な時間の総和であり、全工程を完了りるのに
良い時間が必要であった。
更にまた、この構造では、実面電極としては、蒸着法に
よって形成されたアルミニウム薄膜が用いられているた
め、膜厚は高々数μmが限度であり、それ以上厚く形成
するのは困難である。従って、電気抵抗が大きく電力損
失を招き易いという問題があった。
よって形成されたアルミニウム薄膜が用いられているた
め、膜厚は高々数μmが限度であり、それ以上厚く形成
するのは困難である。従って、電気抵抗が大きく電力損
失を招き易いという問題があった。
そこで、集電電(〜による電力損失を防ぐため、ステン
レス基板を東?ff電極として使用し、ステンレス基板
の表面すなわち光電変換部の形成面側から光が入射する
ようにした構造ら提案されている。
レス基板を東?ff電極として使用し、ステンレス基板
の表面すなわち光電変換部の形成面側から光が入射する
ようにした構造ら提案されている。
例えば、第7図(a>(b)(c)(第7図(b)(c
)は夫々第7図(a)のa−a断面およびb −b [
、面を示す図)に示す如く、この太陽電池は、ステンレ
ス基板301上に短冊状領域を形成するようにポリイミ
ド樹脂からなる絶縁層302、裏面ll4i303とし
てのアルミニウム層、光電変換層304としてのアモル
ファスシリコン層が順次積層せしめられ、この上層に基
板表面全体を覆うように表面電極305としての透光性
の酸化インジウム錫電極を形成してなるもので、表面電
極305はステンレス基板に1部で接触し、電気的な接
続がなされている。この構造においても、表面電極と実
面電極との短絡を防ぐため、例えば前記九″市変換層を
裏面電極の側面まで延設する等の方法をとらねばならな
い。
)は夫々第7図(a)のa−a断面およびb −b [
、面を示す図)に示す如く、この太陽電池は、ステンレ
ス基板301上に短冊状領域を形成するようにポリイミ
ド樹脂からなる絶縁層302、裏面ll4i303とし
てのアルミニウム層、光電変換層304としてのアモル
ファスシリコン層が順次積層せしめられ、この上層に基
板表面全体を覆うように表面電極305としての透光性
の酸化インジウム錫電極を形成してなるもので、表面電
極305はステンレス基板に1部で接触し、電気的な接
続がなされている。この構造においても、表面電極と実
面電極との短絡を防ぐため、例えば前記九″市変換層を
裏面電極の側面まで延設する等の方法をとらねばならな
い。
従って、製造に際しても、依然として前述の太陽電池と
同様の問題を右していた。
同様の問題を右していた。
本発明は、前2実情に鑑みてなされたしので、製造が容
易で、電極による電力損失が小さく、信頼性の高い太陽
電池を提供することを目的とする。
易で、電極による電力損失が小さく、信頼性の高い太陽
電池を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段1
そこで本発明の太陽電池は、透光性のり根の表面全体に
形成された透光性の第1電極と、所定の開隔で細溝を有
するようにその上層に順次積層せしめられた光電変換層
、第2 ’−1i権および絶縁層とからなる光電変換部
と、集電用の第3電極を具えた集電体部とが、前記m満
に符合する位置に介在せしめられた異方性導電膜によっ
て前記第1電極と第3電極とが電気的に接続されるよう
に被着せしめられることによって構成されている。
形成された透光性の第1電極と、所定の開隔で細溝を有
するようにその上層に順次積層せしめられた光電変換層
、第2 ’−1i権および絶縁層とからなる光電変換部
と、集電用の第3電極を具えた集電体部とが、前記m満
に符合する位置に介在せしめられた異方性導電膜によっ
て前記第1電極と第3電極とが電気的に接続されるよう
に被着せしめられることによって構成されている。
また、本発明の太陽電池の製造り法は、透光性の基板の
表面全体に透光性の第1電極を形成し、更にその上層に
、所定の間隔で細溝を有するように順次光電変換層、第
2電44および絶縁層を積層することにより光電変換部
を形成する工程と、集電体としての導電性部材上に前記
細溝に符合するように異方性導電膜を形成し、集電体部
を形成する工程と、前記光電変換部と前記集電体部とを
被着せしめ、前記第1電極と導電性部材とを電気的に接
続する工程とを備えている。
表面全体に透光性の第1電極を形成し、更にその上層に
、所定の間隔で細溝を有するように順次光電変換層、第
2電44および絶縁層を積層することにより光電変換部
を形成する工程と、集電体としての導電性部材上に前記
細溝に符合するように異方性導電膜を形成し、集電体部
を形成する工程と、前記光電変換部と前記集電体部とを
被着せしめ、前記第1電極と導電性部材とを電気的に接
続する工程とを備えている。
[作用]
すなわち、本発明の太陽電池では、光の入射面側すなわ
ち表面側に形成される透光性の第1電極と、裏面側に形
成される集電体との接続が異方性導電膜によってなされ
ているため、異方性導電膜の側方に第2電極が接触して
も短絡することなく充分絶縁性を保つことができる。ま
た第2電極の側面を、絶縁層あるいは光電変換層で被覆
する必要がないため、電池面積の損失が小さくまた構成
が筒中である。
ち表面側に形成される透光性の第1電極と、裏面側に形
成される集電体との接続が異方性導電膜によってなされ
ているため、異方性導電膜の側方に第2電極が接触して
も短絡することなく充分絶縁性を保つことができる。ま
た第2電極の側面を、絶縁層あるいは光電変換層で被覆
する必要がないため、電池面積の損失が小さくまた構成
が筒中である。
また、本発明の太陽電池の製造方法では、光電変換部を
透光性の基板上に形成する工程と、異方性導電膜を貝え
た集電体部を形成する工程とが独立しているため、同時
に並行して進11可能であり、最後に光電変換部と集電
体部とを接続せしめればよい。また、第2電極の側壁を
従来例のように絶縁層で被覆する必要はなく、光電変換
層と、第2電極と、絶縁層とを、同一のパターン形状で
積層せしめればよく、同一のマスク(例えばメタルマス
ク)を使用すればよいため、マスクのパターン合わせを
行なう必要がない。従ってパターンずれ等に対する配慮
を行なう必要がなくなり、工程が簡略化される上、電池
面積の損失が小さくなる。
透光性の基板上に形成する工程と、異方性導電膜を貝え
た集電体部を形成する工程とが独立しているため、同時
に並行して進11可能であり、最後に光電変換部と集電
体部とを接続せしめればよい。また、第2電極の側壁を
従来例のように絶縁層で被覆する必要はなく、光電変換
層と、第2電極と、絶縁層とを、同一のパターン形状で
積層せしめればよく、同一のマスク(例えばメタルマス
ク)を使用すればよいため、マスクのパターン合わせを
行なう必要がない。従ってパターンずれ等に対する配慮
を行なう必要がなくなり、工程が簡略化される上、電池
面積の損失が小さくなる。
集電電極には箔もしくは板状体を用いることができ、厚
さ数十ミクロン以上のものを容易に得られるため、電力
損失も小さくなる。
さ数十ミクロン以上のものを容易に得られるため、電力
損失も小さくなる。
[実施例]
以下、本発明の実施例について、図面を参照しつつ詳細
に説明する。
に説明する。
この太陽電池は、第1図(a)(b)(c)および(d
)(第1図(b)は第1図(a)のP−P断面図、第1
図(c)は分解図、第1図(d)はガラスエポキシ基板
を除いた場合の上面図)に示す如く、透光性のガラス基
板1上に形成された透光性の第1Ti極2としての酸化
インジウム錫層と、所定の間隔で多数の細溝3を有する
ようにその上層に順次積層せしめられた光電変換層4と
してのアモルファスシリコン層、第2電極5としてのア
ルミニウム層、絶B層6としての酸化シリコン層とから
なる光電変換部りと、ガラスエポキシ基板7上に形成さ
れた来電体層8としての銅層とこの上層に前記細溝に符
合するように形成された異方性導電膜9とからなる集電
体部りとが熱圧着によって被着ぜしめられてなり、第1
電極2と集電体層8とを異方性導電膜によって電気的に
接続したちのである。
)(第1図(b)は第1図(a)のP−P断面図、第1
図(c)は分解図、第1図(d)はガラスエポキシ基板
を除いた場合の上面図)に示す如く、透光性のガラス基
板1上に形成された透光性の第1Ti極2としての酸化
インジウム錫層と、所定の間隔で多数の細溝3を有する
ようにその上層に順次積層せしめられた光電変換層4と
してのアモルファスシリコン層、第2電極5としてのア
ルミニウム層、絶B層6としての酸化シリコン層とから
なる光電変換部りと、ガラスエポキシ基板7上に形成さ
れた来電体層8としての銅層とこの上層に前記細溝に符
合するように形成された異方性導電膜9とからなる集電
体部りとが熱圧着によって被着ぜしめられてなり、第1
電極2と集電体層8とを異方性導電膜によって電気的に
接続したちのである。
ここで、W およびW2は、ガラスエポキシ基板に形成
された窓であり夫々、陽極取り出し部、および陰極取り
出し部となっている。
された窓であり夫々、陽極取り出し部、および陰極取り
出し部となっている。
次に、この太陽電池の製造方法について説明する。
まず、第2図(a)に示す如く、透光性のガラス基板1
上に、電子ビーム蒸@仏により、透光性の第1電極2と
しての酸化インジウム錫層を形成する。
上に、電子ビーム蒸@仏により、透光性の第1電極2と
しての酸化インジウム錫層を形成する。
次いで、第2図(b)に示す如く、メタルマスクMを介
して、プラズマCvD法により、光電変換層4としての
アモルファスシリコン層を形成する。(このメタルマス
クMは、従来の第2のメタルマスクBに相当する細い幅
のものでよい)続いて、前記メタルマスクMを設置した
まま、電子ビーム蒸着法により、第2電極5としてのア
ルミニウム層を、第2図(C)に示寸如く、形成する。
して、プラズマCvD法により、光電変換層4としての
アモルファスシリコン層を形成する。(このメタルマス
クMは、従来の第2のメタルマスクBに相当する細い幅
のものでよい)続いて、前記メタルマスクMを設置した
まま、電子ビーム蒸着法により、第2電極5としてのア
ルミニウム層を、第2図(C)に示寸如く、形成する。
更に、第2図(d)に示す如く、前記メタルマスクMを
設置したまま、電子ビーム蒸着法により絶縁層6として
の酸化シリコン層SiOを形成した後メタルマスクMを
除去することにより、細溝3を具えた光電変換部りを完
成する。
設置したまま、電子ビーム蒸着法により絶縁層6として
の酸化シリコン層SiOを形成した後メタルマスクMを
除去することにより、細溝3を具えた光電変換部りを完
成する。
一方、第2図(e)に示す如く、ガラスエポキシ基板7
上に(第1図(d)に示づ゛如く)端部を残して、銅薄
膜を蒸着した後、無電解メッキ法により、該銅薄膜上に
銅メッキ層を形成することにより、膜厚数十ミクロンの
銅層8を形成する。
上に(第1図(d)に示づ゛如く)端部を残して、銅薄
膜を蒸着した後、無電解メッキ法により、該銅薄膜上に
銅メッキ層を形成することにより、膜厚数十ミクロンの
銅層8を形成する。
次いで、この上履に前記細溝3に符合するように、熱圧
着法により、第2図(f)に示す如く、異方性導電膜9
を形成することにより、集電体部りを完成する。
着法により、第2図(f)に示す如く、異方性導電膜9
を形成することにより、集電体部りを完成する。
そして最後に、前記細溝3に前記異方性導電膜9を嵌合
せしめ、熱圧着法により、光電変換部りと集電体部りを
接続し、第1図(a)〜(d)に示した太陽電池が完成
する。
せしめ、熱圧着法により、光電変換部りと集電体部りを
接続し、第1図(a)〜(d)に示した太陽電池が完成
する。
このようにして形成された太陽電池は従来、等方性導電
体によって行なわれていた透光性の第1電極と集電用電
極との接続が異方性1!電膜によってなされているため
、この接続部(ここでは細IM )の側壁に絶縁層を設
ける必要がなく、構造が簡単で、短絡の心配もほとんど
皆無となる。
体によって行なわれていた透光性の第1電極と集電用電
極との接続が異方性1!電膜によってなされているため
、この接続部(ここでは細IM )の側壁に絶縁層を設
ける必要がなく、構造が簡単で、短絡の心配もほとんど
皆無となる。
また、集電体部を独立して形成した後、光電変換部に被
着すればよいため、集電用電極として、箔あるいは導電
板等、膜厚の厚いものを使用でき、集電体部における抵
抗を低減できるため、電力損失は従来の10分の1程度
となる。更に、従来の如く、光電変換層の形成後に、集
電用電極を形成する際、長時間にわたる処理により、光
電変換層が劣化を生じたりすることがあり、膜厚を大き
くすることは困難であったが、この集電用電極の形成は
、光電変換部とは別に行なわれるため、メッキ法等によ
り導電膜を形成したり、長時間にわたる化学処理を行な
っても、光電変換部が影響を受けたりすることはなく、
信頼性の高い太I!!電池を得ることができる。
着すればよいため、集電用電極として、箔あるいは導電
板等、膜厚の厚いものを使用でき、集電体部における抵
抗を低減できるため、電力損失は従来の10分の1程度
となる。更に、従来の如く、光電変換層の形成後に、集
電用電極を形成する際、長時間にわたる処理により、光
電変換層が劣化を生じたりすることがあり、膜厚を大き
くすることは困難であったが、この集電用電極の形成は
、光電変換部とは別に行なわれるため、メッキ法等によ
り導電膜を形成したり、長時間にわたる化学処理を行な
っても、光電変換部が影響を受けたりすることはなく、
信頼性の高い太I!!電池を得ることができる。
また、光電変換層、第2電極、絶a層は同一パターンで
あり、同一のメタルマスクを使用して順次積層せしめれ
ばよく、パターン合わせの必要がないため、製造が容易
である。従ってまた、パターンずれによる誤差を考慮す
る必要がないため、細溝の幅を狭くすることができ、太
陽電池としての実効面積が増大する。
あり、同一のメタルマスクを使用して順次積層せしめれ
ばよく、パターン合わせの必要がないため、製造が容易
である。従ってまた、パターンずれによる誤差を考慮す
る必要がないため、細溝の幅を狭くすることができ、太
陽電池としての実効面積が増大する。
更にまた、製造工程を2つの流れに分割し、同時に進行
させることができるため、!IJ造時開時間縮される。
させることができるため、!IJ造時開時間縮される。
なお、実施例においては、集電体部として、絶縁性基板
であるガラスエポキシ基板上に銅層を形成したちのを使
用したが、これに代えて、ステンレス基板等、導電性基
板を使用したり、銅箔を貼着したりする方法等も有効で
ある。箔を使用する際には光電変換部の細溝内に、異り
性導雷膜をはめ込んだ後、箔を設置し、熱圧着するよう
にすればよい。
であるガラスエポキシ基板上に銅層を形成したちのを使
用したが、これに代えて、ステンレス基板等、導電性基
板を使用したり、銅箔を貼着したりする方法等も有効で
ある。箔を使用する際には光電変換部の細溝内に、異り
性導雷膜をはめ込んだ後、箔を設置し、熱圧着するよう
にすればよい。
また、電極取り出し部の位置および形状については適宜
変更可能である。
変更可能である。
更に、実施例では、細溝を、所定の間隔をおいてストラ
イブ状となるように形成したが、必ずしも、この形状に
限定されるものではなく、格子状とする等、適宜変更可
能である。
イブ状となるように形成したが、必ずしも、この形状に
限定されるものではなく、格子状とする等、適宜変更可
能である。
更にまた、例えば第3図に示す如く光電変換部の表面に
絶縁層を形成する代わりに、集電体部D′の表面に異方
性導電膜の形成される部分を除いて選択的に絶縁層6′
を形成するようにしてもよい。
絶縁層を形成する代わりに、集電体部D′の表面に異方
性導電膜の形成される部分を除いて選択的に絶縁層6′
を形成するようにしてもよい。
[発明の効果]
以上説明してきたように、本発明の太陽電池は、透光性
のU板上に形成された透光性の第1電極と第2電極とに
よって光電変換層を挾んだ光電変換部に細溝を設Gノ、
該細溝内に異方性導電膜を充填すると共に、該第2電極
側に絶縁層を介して集電体を被着し、該異方性導電膜に
よって集電体と前記第1電極との電気的接続を達成する
ようにしているため、該III満のIl!壁に絶縁層を
形成することなく、第2!i極と、集電体との絶縁を保
つことができ、構造が簡単で信頼性も高い。また側壁に
絶縁層を形成しなくても良いため、第1?!f極および
光電変換層と第2電極とは同一パターンとなり、形成時
にマスク合わせを行なう必要がないため、細溝の幅も細
くすることができ、電池としての有効利用面積を増大す
ることができる。
のU板上に形成された透光性の第1電極と第2電極とに
よって光電変換層を挾んだ光電変換部に細溝を設Gノ、
該細溝内に異方性導電膜を充填すると共に、該第2電極
側に絶縁層を介して集電体を被着し、該異方性導電膜に
よって集電体と前記第1電極との電気的接続を達成する
ようにしているため、該III満のIl!壁に絶縁層を
形成することなく、第2!i極と、集電体との絶縁を保
つことができ、構造が簡単で信頼性も高い。また側壁に
絶縁層を形成しなくても良いため、第1?!f極および
光電変換層と第2電極とは同一パターンとなり、形成時
にマスク合わせを行なう必要がないため、細溝の幅も細
くすることができ、電池としての有効利用面積を増大す
ることができる。
また、集電体を光電変換層とは独立して形成し、後で接
続するようにしている。従って、集電体の形成が制限な
しに行ない得、膜厚の厚いものを用いることができるた
め、電力損失が大幅に軽減される。また、集電用電極の
形成時に、光電変換部の劣化を生じることもない。
続するようにしている。従って、集電体の形成が制限な
しに行ない得、膜厚の厚いものを用いることができるた
め、電力損失が大幅に軽減される。また、集電用電極の
形成時に、光電変換部の劣化を生じることもない。
更に、集電体の形成と光電変換部の形成とが並行して同
時に進行可能であるため、製造時間が大幅に短縮化され
る。また製造も容易である。
時に進行可能であるため、製造時間が大幅に短縮化され
る。また製造も容易である。
第1図(a)〜(d)は、本発明実施例の太陽電池を示
す図(第1図(b)は第1図(a)のP−P断面図、第
1図(C)は分解図、第1図(d)はガラスエポキシ基
板を除いた状態の上面図)、第2図(a)〜(f)は、
同大I1M電池の製造工程図、第3図は、本発明実施例
の太陽電池の変形例、第4図(a)〜(e)は従来例の
太陽電池を製造工程と共に示す図、第5図(a)〜(d
)、第6図(a)〜(f)は、他の従来例の太陽電池お
よびその製造工程図、第7図(a)〜(C)は、更に他
の従来例の太陽電池を示す図である。 101・・・ガラス基板、102・・・グリッド電極、
103・・・透光性導電膜、104・・・光電変換層、
105・・・金属電極、201・・・ガラス基板、20
2・・・表面電極、203・・・光電変換層、204・
・・表面電極、205・・・絶縁層、206・・・集電
電極、C・・・細溝、301・・・ステンレス培板、3
02・・・絶縁層、303・・・表面電極、304・・
・光電変換層、305・・・表面電極、1・・・ガラス
基板、2・・・透光性の第1電極、3・・・l1ll満
、4・・・光電変換層、5・・・第2電極、6・・・絶
縁層、7・・・ガラスエポキシ基板、8・・・集を体層
、9・・・異方性導電膜、M・・・メタルマスク、し・
・・光電変換部、D・・・集電体部。 出願人代理人 木 村 高 久 W2 第1図(G) 第1図(b) 第1図(c) 第1図(d) 第2図(Q) 第2図(b) 第2図(C) 第2図(d) 第2図(e) 第2図(f) 第4図(Q) 第4図(b) 第4図(c) 第4図(d) 第4図(e) 第6図(Q) Δ 第6図(b) 第6図(c) 第6図(d) 第6図<e) 第6図(f) b 第7図(C)
す図(第1図(b)は第1図(a)のP−P断面図、第
1図(C)は分解図、第1図(d)はガラスエポキシ基
板を除いた状態の上面図)、第2図(a)〜(f)は、
同大I1M電池の製造工程図、第3図は、本発明実施例
の太陽電池の変形例、第4図(a)〜(e)は従来例の
太陽電池を製造工程と共に示す図、第5図(a)〜(d
)、第6図(a)〜(f)は、他の従来例の太陽電池お
よびその製造工程図、第7図(a)〜(C)は、更に他
の従来例の太陽電池を示す図である。 101・・・ガラス基板、102・・・グリッド電極、
103・・・透光性導電膜、104・・・光電変換層、
105・・・金属電極、201・・・ガラス基板、20
2・・・表面電極、203・・・光電変換層、204・
・・表面電極、205・・・絶縁層、206・・・集電
電極、C・・・細溝、301・・・ステンレス培板、3
02・・・絶縁層、303・・・表面電極、304・・
・光電変換層、305・・・表面電極、1・・・ガラス
基板、2・・・透光性の第1電極、3・・・l1ll満
、4・・・光電変換層、5・・・第2電極、6・・・絶
縁層、7・・・ガラスエポキシ基板、8・・・集を体層
、9・・・異方性導電膜、M・・・メタルマスク、し・
・・光電変換部、D・・・集電体部。 出願人代理人 木 村 高 久 W2 第1図(G) 第1図(b) 第1図(c) 第1図(d) 第2図(Q) 第2図(b) 第2図(C) 第2図(d) 第2図(e) 第2図(f) 第4図(Q) 第4図(b) 第4図(c) 第4図(d) 第4図(e) 第6図(Q) Δ 第6図(b) 第6図(c) 第6図(d) 第6図<e) 第6図(f) b 第7図(C)
Claims (5)
- (1)光電変換層を透光性の第1電極と第2電極とによ
つて挾み、光電変換部を形成すると共に、前記第1電極
側から光が入射するようにした太陽電池において、 前記第2電極の裏面側に絶縁層を介して集電用の第3電
極を配設すると共に、 該第3電極が、前記絶縁層、前記第2電極、および前記
光電変換層に対して所定の間隔で形成された溝内に配設
せしめられる異方性導電体を介して、前記第1電極に接
続されるようにしたことを特徴とする太陽電池。 - (2)前記第3電極は導電性基板からなり、異方性導電
体によって光電変換部に被着せしめられていることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の太陽電池。 - (3)前記第3電極は絶縁性基板表面に形成された導電
膜からなり、該導電膜を異方性導電体によって光電変換
部に被着せしめられていることを特徴とする特許請求の
範囲第(1)項記載の太陽電池。 - (4)前記第3電極は、金属箔からなり、異方性導電体
によって光電変換部に貼着されていることを特徴とする
特許請求の範囲第(1)項記載の太陽電池。 - (5)光電変換層を透光性の第1電極と第2電極とによ
って挾み、前記第1電極側から光が入射するようにした
太陽電池の製造方法において、透光性基板の表面全体に
透光性の第1電極を形成し、 更にこの上層に、所定の間隔で細溝を有するように光電
変換層、第2電極および絶縁層を順次積層することによ
り光電変換部を形成する光電変換部形成工程と、 集電体としての導電性部材上に前記細溝に符合するよう
に異方性導電膜を形成し集電体部を形成する集電体部形
成工程と、 前記光電変換部と前記集電体部とを被着せしめ、前記第
1電極と、前記導電性部材とを電気的に接続する組立工
程とを含むことを特徴とする太陽電池の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60126474A JPS61284973A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 太陽電池およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60126474A JPS61284973A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 太陽電池およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61284973A true JPS61284973A (ja) | 1986-12-15 |
Family
ID=14936111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60126474A Pending JPS61284973A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 太陽電池およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61284973A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1989004062A1 (en) * | 1987-10-29 | 1989-05-05 | Glasstech Solar, Inc. | Solar cell fabrication method and solar cell made thereby |
US4849029A (en) * | 1988-02-29 | 1989-07-18 | Chronar Corp. | Energy conversion structures |
WO2010103998A1 (ja) | 2009-03-11 | 2010-09-16 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池セル電極の接続用シート、太陽電池モジュールの製造方法及び太陽電池モジュール |
-
1985
- 1985-06-11 JP JP60126474A patent/JPS61284973A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4865999A (en) * | 1987-07-08 | 1989-09-12 | Glasstech Solar, Inc. | Solar cell fabrication method |
WO1989004062A1 (en) * | 1987-10-29 | 1989-05-05 | Glasstech Solar, Inc. | Solar cell fabrication method and solar cell made thereby |
US4849029A (en) * | 1988-02-29 | 1989-07-18 | Chronar Corp. | Energy conversion structures |
WO2010103998A1 (ja) | 2009-03-11 | 2010-09-16 | 信越化学工業株式会社 | 太陽電池セル電極の接続用シート、太陽電池モジュールの製造方法及び太陽電池モジュール |
KR20110133605A (ko) | 2009-03-11 | 2011-12-13 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 태양전지 셀 전극의 접속용 시트, 태양전지 모듈의 제조 방법 및 태양전지 모듈 |
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