JPS6124215A - 電子部品の外部電極形成法 - Google Patents
電子部品の外部電極形成法Info
- Publication number
- JPS6124215A JPS6124215A JP14509884A JP14509884A JPS6124215A JP S6124215 A JPS6124215 A JP S6124215A JP 14509884 A JP14509884 A JP 14509884A JP 14509884 A JP14509884 A JP 14509884A JP S6124215 A JPS6124215 A JP S6124215A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- electrode
- coating
- thickness
- silver
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)発明の技術分野
本発明は、電子部品基体の両端に外部電極を形成する方
法に係り、特に、チップ型積層セラミックコンデンサや
チップ抵抗体素子などの微小電子部品の電極形成にとっ
て有益なものである。
法に係り、特に、チップ型積層セラミックコンデンサや
チップ抵抗体素子などの微小電子部品の電極形成にとっ
て有益なものである。
Q)技術の背景
チップ電子部品の一般的な銀−パラジウム電極について
は、フロー半田による自動半田付けの採用により、特に
、半田食われに対する対策が要望されている。耐半田性
の向上策としては、銀−パラジウムの比率を変え、パラ
ジウム比率をたかめること、塗布厚みを増すことは初歩
的な対策であるが、いづれもコスト増大に繋がるもので
あるから、経済的な塗布厚みを確保するための塗布技術
が要望されていた。
は、フロー半田による自動半田付けの採用により、特に
、半田食われに対する対策が要望されている。耐半田性
の向上策としては、銀−パラジウムの比率を変え、パラ
ジウム比率をたかめること、塗布厚みを増すことは初歩
的な対策であるが、いづれもコスト増大に繋がるもので
あるから、経済的な塗布厚みを確保するための塗布技術
が要望されていた。
(ハ)従来技術と問題点
従来、一般的な端子電極付与方法としては、ロール塗布
法又はディッピング塗布法などが知られている。ロール
塗布法は、印刷ロールの周速に等しい速度で、被塗布試
料を搭載したキャリヤをレール上で移動させ、印刷ロー
ル上に展開したペーストをチップ部品端子(電子部品基
体)に転写させる方法である。又、ディッピング法は、
ガラス板上にペーストを一定の厚みで塗布を行ない、チ
ップ部品端子(電子部品基体)、を押し付けて塗布を行
なうが、この際、付着した過剰の塗料をプロッティング
(吸い取る)することにより厚みの調整を行なうことが
ある。
法又はディッピング塗布法などが知られている。ロール
塗布法は、印刷ロールの周速に等しい速度で、被塗布試
料を搭載したキャリヤをレール上で移動させ、印刷ロー
ル上に展開したペーストをチップ部品端子(電子部品基
体)に転写させる方法である。又、ディッピング法は、
ガラス板上にペーストを一定の厚みで塗布を行ない、チ
ップ部品端子(電子部品基体)、を押し付けて塗布を行
なうが、この際、付着した過剰の塗料をプロッティング
(吸い取る)することにより厚みの調整を行なうことが
ある。
積層チップコンデンサの銀−パラジウム端子電極の半田
食われの実態を観察すると、第3図に示す如く、電子部
品基体1の側面2.3のみに食われが進行し、内部電極
の露出する面、即ち頭部分4は食われが見られない。又
、半田5が塗布、焼成された積層チップコンデンサの端
子電極部分の断面を観察すると、第4図に示す如く、半
田食われに最も関係のある側面の電極厚みtlに比べて
頭部分4の厚みtlは2〜3倍となっている。従って、
半田食われを保証する厚みtlに対し、頭部分4の厚み
tlは必要以上の厚みとなるので、頭部分4の厚みtl
を電極厚みt2近くまで下げることにより、高価な銀−
パラジウム塗料の節約が達成されるばかりか、頭部分4
の厚みtlの規制によって外形寸法精度が上がり、電極
層への泡の取込み、膨れ、クラックの発生などを防ぐこ
とができる。
食われの実態を観察すると、第3図に示す如く、電子部
品基体1の側面2.3のみに食われが進行し、内部電極
の露出する面、即ち頭部分4は食われが見られない。又
、半田5が塗布、焼成された積層チップコンデンサの端
子電極部分の断面を観察すると、第4図に示す如く、半
田食われに最も関係のある側面の電極厚みtlに比べて
頭部分4の厚みtlは2〜3倍となっている。従って、
半田食われを保証する厚みtlに対し、頭部分4の厚み
tlは必要以上の厚みとなるので、頭部分4の厚みtl
を電極厚みt2近くまで下げることにより、高価な銀−
パラジウム塗料の節約が達成されるばかりか、頭部分4
の厚みtlの規制によって外形寸法精度が上がり、電極
層への泡の取込み、膨れ、クラックの発生などを防ぐこ
とができる。
ディッピング塗布法は、プロッティングにより頭部ペー
ストを吸い取ることによって厚みを減少させることがで
きるが、その際の押出し圧の制御が微妙で定量的な除去
はむづかしい。而も、引き離す際、チップ端子が下向き
であるため、側面のペーストが下方に流れ、かつ引っ張
られるため、電極厚みL2も低下するという不具合があ
る。
ストを吸い取ることによって厚みを減少させることがで
きるが、その際の押出し圧の制御が微妙で定量的な除去
はむづかしい。而も、引き離す際、チップ端子が下向き
であるため、側面のペーストが下方に流れ、かつ引っ張
られるため、電極厚みL2も低下するという不具合があ
る。
一方、ロール塗布法により2重コートした端子電極を得
ることも考えられるが、1段ロールで2重コ、−卜する
には、下層塗布→乾燥(5〜20分)−上層塗布−乾燥
(5〜20分)−焼付という工程が必要となる。
ることも考えられるが、1段ロールで2重コ、−卜する
には、下層塗布→乾燥(5〜20分)−上層塗布−乾燥
(5〜20分)−焼付という工程が必要となる。
然し乍ら、この工程は、乾燥時間が長いため、作業を遅
らせ、1重コートの2倍の時間を要する。
らせ、1重コートの2倍の時間を要する。
両端子タイプのものにあっては、更にこの繰り返しをし
なければならないため、極めて能率の悪いものである。
なければならないため、極めて能率の悪いものである。
又、半田食われ防止、Pd酸化による半田付は性劣化防
止、コスト低減化の見地から、メブキ方法が広がってい
る。
止、コスト低減化の見地から、メブキ方法が広がってい
る。
然し、メッキ方法の場合、メッキ液が浸入するため、電
気特性の劣化を招き易い。又、端子電極と素地の接着力
を保持するため、ガラス質フリントを加える必要がある
が、ガラス質は焼付時熔融拡散してセラミック中に喰い
込み、このために端子電極中のガラスの跡が本孔となり
、メッキ液の浸入を招き易くなる。
気特性の劣化を招き易い。又、端子電極と素地の接着力
を保持するため、ガラス質フリントを加える必要がある
が、ガラス質は焼付時熔融拡散してセラミック中に喰い
込み、このために端子電極中のガラスの跡が本孔となり
、メッキ液の浸入を招き易くなる。
なお、この種の技術としては、例えば特開昭59−69
906号、特開昭59−69907号などがある。
906号、特開昭59−69907号などがある。
に)発明の目的
本発明は、上述した如き従来の問題点を解決すべ(為さ
れたものであり、その目的は、塗布性を改善し、必要な
電極厚みを能率良くかつ経済的に確保することができる
電子部品の外部電極形成法を提供することにある。
れたものであり、その目的は、塗布性を改善し、必要な
電極厚みを能率良くかつ経済的に確保することができる
電子部品の外部電極形成法を提供することにある。
(ト)発明の構成
上記目的を達成するために本発明に係る電子部品の外部
電極形成法は、電子部品基体の端部に、I!、!−パラ
ジウム、銅及びニッケルなどの電極用塗料を塗布し、端
子電極を形成するに際し、所望距離離間した2本の塗布
ロールによって該電極用塗料を連続して塗布するように
構成したものである。
電極形成法は、電子部品基体の端部に、I!、!−パラ
ジウム、銅及びニッケルなどの電極用塗料を塗布し、端
子電極を形成するに際し、所望距離離間した2本の塗布
ロールによって該電極用塗料を連続して塗布するように
構成したものである。
(へ)発明の実施例
以下、本発明を第1図に基づいて説明する。
第1図は本発明の工程を示す説明図であり、lOは第1
のロール、11はこの第1のロール10に設けた塗布槽
、12は第2のロール、13はこの第2のロール12に
設けた塗布槽、14はチップ型積層セラミックコンデン
サや抵抗体素子などの微小電子部品基体、15はゴム質
材で構成されたチップキャリヤ、16はこのチップキャ
リヤ15を載置し、搬送するレールである。
のロール、11はこの第1のロール10に設けた塗布槽
、12は第2のロール、13はこの第2のロール12に
設けた塗布槽、14はチップ型積層セラミックコンデン
サや抵抗体素子などの微小電子部品基体、15はゴム質
材で構成されたチップキャリヤ、16はこのチップキャ
リヤ15を載置し、搬送するレールである。
次に、本装置の動作を説明する。
第1のロール10と第2のロール12とを所望の間隔で
配し、各塗布槽11.13内に塗料A。
配し、各塗布槽11.13内に塗料A。
Bを充填する。又、第1のロール10と第2の口−ル1
3とは、各塗布槽11.13との隙間をゲージ調節によ
り調整し、ロール表面の塗料厚みを所望の厚みに変える
。又、キャリヤ15内には電子部品基体14がその端部
(頭部分)14aを露出するように差し込み保持されて
いる。
3とは、各塗布槽11.13との隙間をゲージ調節によ
り調整し、ロール表面の塗料厚みを所望の厚みに変える
。又、キャリヤ15内には電子部品基体14がその端部
(頭部分)14aを露出するように差し込み保持されて
いる。
次に、第1のロール10及び第2のロール12゜の駆動
体(モータ)を作動して回転し、ロールスピードとキャ
リヤ15のスピードを一定にセットする。
体(モータ)を作動して回転し、ロールスピードとキャ
リヤ15のスピードを一定にセットする。
斯くして、第1のロール10及び第2のロール1′2に
は各塗布槽11.13内の塗料A、 Bが一定厚で供給
されることを確認した後、キャリヤ15をレール16で
搬送する。而して、第1のロール10に電子部品基体1
4が当接すると、第1のロール10上に層をなしていた
塗料は例えば第2図(a)のように電子部品基体14の
端部14aに転写される。更に、レール16によってキ
ャリヤ15が搬送され、第2のロール12に電子部品基
体14が当接すると、第1のロール10で塗布された塗
膜17の上に新たに塗膜18を形成する。
は各塗布槽11.13内の塗料A、 Bが一定厚で供給
されることを確認した後、キャリヤ15をレール16で
搬送する。而して、第1のロール10に電子部品基体1
4が当接すると、第1のロール10上に層をなしていた
塗料は例えば第2図(a)のように電子部品基体14の
端部14aに転写される。更に、レール16によってキ
ャリヤ15が搬送され、第2のロール12に電子部品基
体14が当接すると、第1のロール10で塗布された塗
膜17の上に新たに塗膜18を形成する。
このように一端に塗料を塗布した電子部品基体14は、
乾燥後、キャリヤ15内に押し込まれて反対側に未処理
の端部を露出させられた後、上記と同様に塗布処理を受
ける。
乾燥後、キャリヤ15内に押し込まれて反対側に未処理
の端部を露出させられた後、上記と同様に塗布処理を受
ける。
而して、両端に塗布された電子部品基体14は、焼付工
程に供給される。
程に供給される。
更に、本発明を具体的な実施例によって詳述する。
実施例1
先ず、第1図の第1′のロール10のペースト厚ミヲ1
000μm、第2のロール12のペースト厚みを300
μm以下に規制して塗布を行なう。この際、第1のロー
ル10で塗布された頭部分14aが一部第2のロール1
2に転写し、厚みtlが補正される。又、この際、第2
のロール12に転写した塗料は第2のロール12の塗料
槽13に蓄積される。
000μm、第2のロール12のペースト厚みを300
μm以下に規制して塗布を行なう。この際、第1のロー
ル10で塗布された頭部分14aが一部第2のロール1
2に転写し、厚みtlが補正される。又、この際、第2
のロール12に転写した塗料は第2のロール12の塗料
槽13に蓄積される。
第1表は塗布条件の変化による厚み’1+”2の変動と
、電極塗布重量を示したもので、厚みt2に変動が見ら
れずに電極重量が20〜25%節約25%。
、電極塗布重量を示したもので、厚みt2に変動が見ら
れずに電極重量が20〜25%節約25%。
実施例2
第1図の第1のロール10にガラス成分3%/銀を含む
粘度250ポイズの銀塗料Aを500μm厚みに展開し
、第2のロール12にガラス成分0%/銀を含む120
ボイズの銀塗料Bを厚み800μMで展開させる。チッ
プ部品(電子部品基体)14の端子(頭部分)14aを
第1のロール10、第2のロール12の順で塗布し、8
50℃で焼成を行なうことにより、下層(塗膜)17に
ガラス成分が多く上層(塗膜)18は少ない二重層の緻
密な銀端子電極が形成される。この端子電極に、ニッケ
ルメッキ、ハンダメッキを施すことにより、ニッケルの
電着が良好で、而もメッキ処理液の浸込みがなく、電気
的な特性の良いチップ型積層コンデンサが得られた。
粘度250ポイズの銀塗料Aを500μm厚みに展開し
、第2のロール12にガラス成分0%/銀を含む120
ボイズの銀塗料Bを厚み800μMで展開させる。チッ
プ部品(電子部品基体)14の端子(頭部分)14aを
第1のロール10、第2のロール12の順で塗布し、8
50℃で焼成を行なうことにより、下層(塗膜)17に
ガラス成分が多く上層(塗膜)18は少ない二重層の緻
密な銀端子電極が形成される。この端子電極に、ニッケ
ルメッキ、ハンダメッキを施すことにより、ニッケルの
電着が良好で、而もメッキ処理液の浸込みがなく、電気
的な特性の良いチップ型積層コンデンサが得られた。
この際、銀塗料AとBとの粘度差は100ポイズ以上保
つことが必要で、塗料Bへの塗料Aの混入は無視される
。
つことが必要で、塗料Bへの塗料Aの混入は無視される
。
フリット3%とフリット0%銀の重層塗布端子電極と、
フリット3%銀の単独塗布端子電極を比較すると、メッ
キ後のq不良が重層塗布により大幅に改善されたことが
明らかである。
フリット3%銀の単独塗布端子電極を比較すると、メッ
キ後のq不良が重層塗布により大幅に改善されたことが
明らかである。
実施例3
第1図の第1のロールlOのペースト厚み800μm1
第2のロール12のペースト厚み200μmとし、チッ
プ積層コンデンサ(電子部品基体) 14の端子(11
1部分)14aに銅ペーストを塗布し、窒素雰囲気中9
00℃で焼付けることにより、t1=40μm、 t2
−30μmの銅端子電極を得た。
第2のロール12のペースト厚み200μmとし、チッ
プ積層コンデンサ(電子部品基体) 14の端子(11
1部分)14aに銅ペーストを塗布し、窒素雰囲気中9
00℃で焼付けることにより、t1=40μm、 t2
−30μmの銅端子電極を得た。
(以 下 余 白)
第2表
ニッケルー半田メッキ後のQ不良発生率以上の実施例か
ら明らかな如く、本発明は、チップ型積層セラミックコ
ンデンサやチップ型抵抗素子の端子電極の形成に際して
必要な電極厚みを正確に塗布する方法として、2本の塗
布ロールを通し、夫々のロールの塗布厚みをコントロー
ルすることによって塗布と過剰塗料の吸い取りを行なう
ようにしたものである。この方法によって、銀−パラジ
ウムペーストの使用量が25%程度軽減され、而も側面
電極厚みが十分であるため、耐半田食われ性も向上した
。又、粘度の異なる異種のペーストの湿式M層塗布が可
能となったので、ニッケルメッキ下地用としてガラス成
分の多い銀ペーストを下層に、ガラス成分の少ない銀ペ
ーストを上層に同時塗布形成することができた。又、連
続して電子部品基体に塗料が2重コートできるため、従
来の1重コートと同等のスピードで処理が可能となる。
ら明らかな如く、本発明は、チップ型積層セラミックコ
ンデンサやチップ型抵抗素子の端子電極の形成に際して
必要な電極厚みを正確に塗布する方法として、2本の塗
布ロールを通し、夫々のロールの塗布厚みをコントロー
ルすることによって塗布と過剰塗料の吸い取りを行なう
ようにしたものである。この方法によって、銀−パラジ
ウムペーストの使用量が25%程度軽減され、而も側面
電極厚みが十分であるため、耐半田食われ性も向上した
。又、粘度の異なる異種のペーストの湿式M層塗布が可
能となったので、ニッケルメッキ下地用としてガラス成
分の多い銀ペーストを下層に、ガラス成分の少ない銀ペ
ーストを上層に同時塗布形成することができた。又、連
続して電子部品基体に塗料が2重コートできるため、従
来の1重コートと同等のスピードで処理が可能となる。
更に、チップ型電子部品については、自動挿入が多くな
ったため、マガジン詰めやテーピングされたものが多く
なっており、工程を大巾に変更することな(、有効に対
応できる。部品の形状は端子電極の塗布に左右され、特
に頭部分厚みt、の規制を正確に行なう必要があるが、
この要素に対しても本発明は有効である。
ったため、マガジン詰めやテーピングされたものが多く
なっており、工程を大巾に変更することな(、有効に対
応できる。部品の形状は端子電極の塗布に左右され、特
に頭部分厚みt、の規制を正確に行なう必要があるが、
この要素に対しても本発明は有効である。
以上の説明に用いた銀−パラジウム塗料以外にも、メッ
キ下地用としての銀ペーストや卑な金属である銅やニッ
ケルペーストなどの端子電極形成についても有用である
ことは云うまでもない。
キ下地用としての銀ペーストや卑な金属である銅やニッ
ケルペーストなどの端子電極形成についても有用である
ことは云うまでもない。
(ト)発明の効果
゛上述した如く、本発明は、電子部品基体の端部に、銀
、銀−パラジウム、銅及びニッケルなどの電極用塗料を
塗布し、端子電極を形成するに際し、所望距離離間した
。2本の塗布ロールによって該電極用塗料を連続して塗
布するように構成したものであるから、必要な電極厚み
を経済的に確保することができる上、異種のペーストを
重層塗布することも可能ならしめるという利点を有する
。
、銀−パラジウム、銅及びニッケルなどの電極用塗料を
塗布し、端子電極を形成するに際し、所望距離離間した
。2本の塗布ロールによって該電極用塗料を連続して塗
布するように構成したものであるから、必要な電極厚み
を経済的に確保することができる上、異種のペーストを
重層塗布することも可能ならしめるという利点を有する
。
第1図は本発明に係る電子部品の外部電極形成法に於け
るダブルロール塗布を示す説明図、第2図+al及び中
)は第1図に於ける塗布工程で塗布された電子部品の頭
部分の塗膜を示す拡大図、第3図(a)〜(dlはチッ
プ型積層コンデンサに於ける銀−パラジウム端子電極の
半田食われ進行状況を示す説明図、第4図はチップ型積
層コンデンサの端子の断面図である。 10・・・第1のロール、11.13・・・塗料槽、1
2・・・第2のロール、14・・・電子部品基体、14
a・・・頭部分、15・・・キャリヤ、16・・・レー
ル、17.18・・・塗膜。
るダブルロール塗布を示す説明図、第2図+al及び中
)は第1図に於ける塗布工程で塗布された電子部品の頭
部分の塗膜を示す拡大図、第3図(a)〜(dlはチッ
プ型積層コンデンサに於ける銀−パラジウム端子電極の
半田食われ進行状況を示す説明図、第4図はチップ型積
層コンデンサの端子の断面図である。 10・・・第1のロール、11.13・・・塗料槽、1
2・・・第2のロール、14・・・電子部品基体、14
a・・・頭部分、15・・・キャリヤ、16・・・レー
ル、17.18・・・塗膜。
Claims (3)
- (1)電子部品基体の端部に、銀、銀−パラジウム、銅
及びニッケルなどの電極用塗料を塗布し、端子電極を形
成するに際し、所望距離離間した2本の塗布ロールによ
って該電極用塗料を連続して塗布することを特徴とする
電子部品の外部電極形成法。 - (2)2本の塗布ロールで、二種類の異なった電極用塗
料を重層塗布することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の電子部品の外部電極形成法。 - (3)2本の塗布ロールの第1ロールで塗布した端子の
頭部分の電極用塗料を第2ロールで適正量取り去ること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の電子部品の外
部電極形成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14509884A JPS6124215A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 電子部品の外部電極形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14509884A JPS6124215A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 電子部品の外部電極形成法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6124215A true JPS6124215A (ja) | 1986-02-01 |
Family
ID=15377323
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14509884A Pending JPS6124215A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 電子部品の外部電極形成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6124215A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63162520U (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-24 | ||
JPH04272775A (ja) * | 1991-02-27 | 1992-09-29 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 振動吸収性スポーツ用具 |
US7338854B2 (en) | 2003-12-05 | 2008-03-04 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Method for manufacturing multilayer ceramic capacitor |
-
1984
- 1984-07-12 JP JP14509884A patent/JPS6124215A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63162520U (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-24 | ||
JPH04272775A (ja) * | 1991-02-27 | 1992-09-29 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 振動吸収性スポーツ用具 |
US7338854B2 (en) | 2003-12-05 | 2008-03-04 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Method for manufacturing multilayer ceramic capacitor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10615327B2 (en) | Monolithic ceramic electronic component | |
JPH0732310B2 (ja) | 多層電子回路の製造方法 | |
DE2558361A1 (de) | Verfahren zum herstellen von durchgehend metallisierten bohrungen in mehrschichtigen keramischen moduln | |
JPS5929414A (ja) | セラミツクチツプコンデンサ用コンプライアント成端 | |
US4039721A (en) | Thick-layer conductor path pastes | |
US4735676A (en) | Method for forming electric circuits on a base board | |
DE2724641C2 (de) | Verfahren zum Aufbringen von Lötungen auf Goldschichten | |
JP2005123407A (ja) | チップ型電子部品の外部電極形成方法 | |
JPS6124215A (ja) | 電子部品の外部電極形成法 | |
DE4103294A1 (de) | Verfahren zum herstellen von elektrisch leitenden durchkontaktierungen in keramiksubstraten | |
JPH05243074A (ja) | チップ状電子部品及びその端子電極形成方法 | |
JP2003261397A (ja) | セラミック基板とその製造方法、このセラミック基板を用いた電子部品の製造方法 | |
JP3131156B2 (ja) | チップ状部品のペースト塗布方法及び装置 | |
JP4341223B2 (ja) | セラミック電子部品の外部電極形成方法およびセラミック電子部品 | |
JPH04329616A (ja) | 積層形電子部品 | |
DE3328342A1 (de) | Verfahren zum einloeten von chipbauelementen auf leiterplatten | |
Reissing | An overview of today's thick-film technology | |
JPS6322046B2 (ja) | ||
JP2537182B2 (ja) | チツプ形固体電解コンデンサの製造方法 | |
JPH0465010A (ja) | 銅導体ペースト | |
JP2003347153A (ja) | 電子部品の製造方法 | |
JPH04273418A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
WO2018216509A1 (ja) | 導体形成用組成物、導体とその製造方法、及び、チップ抵抗器 | |
JPH05243073A (ja) | チップ状電子部品及びその端子電極形成方法 | |
JPS6019680B2 (ja) | 絶縁板に半田付けする方法 |