JPS61203443A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
- C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
- C07D417/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は光重合性組成物に関するものであり、さらに詳
しくは、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物と光重合開始剤と、必要とするならば結合剤とからな
る光重合性組成物に関し、轡に感光性印刷版の感光層、
フォトレジスト等に有用な光重合性組成物に関するもの
である。
しくは、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合
物と光重合開始剤と、必要とするならば結合剤とからな
る光重合性組成物に関し、轡に感光性印刷版の感光層、
フォトレジスト等に有用な光重合性組成物に関するもの
である。
「従来の技術J
エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と光重
合開始剤と更に必要に応じて過当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成mtl−
用いて、写真的手法によシ画像の複製を行なう方法は現
在知られるところである。
合開始剤と更に必要に応じて過当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成mtl−
用いて、写真的手法によシ画像の複製を行なう方法は現
在知られるところである。
すなわち、米国特許λ、タコ7.0ココ号、同2゜20
λ、314号あるいは同J、170.jλμ号に記載さ
れているように、この種の感光性組成物は光照射によシ
硬化し不溶化することから、この感光性組成物を適当な
皮膜となし、所望の画像の陰画を通して光照射を行ない
、適当な溶媒によシ未露光部のみを除去することにより
所望の光重合性組成物の硬化画像を形成させることがで
きる。
λ、314号あるいは同J、170.jλμ号に記載さ
れているように、この種の感光性組成物は光照射によシ
硬化し不溶化することから、この感光性組成物を適当な
皮膜となし、所望の画像の陰画を通して光照射を行ない
、適当な溶媒によシ未露光部のみを除去することにより
所望の光重合性組成物の硬化画像を形成させることがで
きる。
このタイプの感光性組成物は印刷版あるいはフォトレジ
スト等を作成する友めに使用されるものとして極めて有
用であることは論をまたない。
スト等を作成する友めに使用されるものとして極めて有
用であることは論をまたない。
従来、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化せ物
のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるtめに光
重合開始剤を添加することが提唱されており、かかる光
重合開始剤としてはべ/ジル、ベンゾイン、ベンゾイン
エチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノン、ア
クリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、コーエチルア
ン)?キノン等が用いられてきた。しかしながら、これ
らの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物の硬化
の感応度が低いので画像形成における像露。
のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるtめに光
重合開始剤を添加することが提唱されており、かかる光
重合開始剤としてはべ/ジル、ベンゾイン、ベンゾイン
エチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノン、ア
クリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、コーエチルア
ン)?キノン等が用いられてきた。しかしながら、これ
らの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成物の硬化
の感応度が低いので画像形成における像露。
光に長時間を要するため、細密な画像の場合には操作に
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されず、
また露光の光源のエネルギー放射量を増大しなければな
らないためにそれに伴なう多大な発熱の放散を考慮する
必要があり、さらに熱による組成物の皮膜の変形および
変質も生じ易い等の問題があつto 「発明が解決しようとする問題点」 したがって、本発明の目的は、高感度の光重合性組成物
を提供することである。
わずかな振動があると良好な画質の画像が再現されず、
また露光の光源のエネルギー放射量を増大しなければな
らないためにそれに伴なう多大な発熱の放散を考慮する
必要があり、さらに熱による組成物の皮膜の変形および
変質も生じ易い等の問題があつto 「発明が解決しようとする問題点」 したがって、本発明の目的は、高感度の光重合性組成物
を提供することである。
本発明の他の目的は広く一般にエチレン性不飽和結合を
有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物の光重合
速度を増大させる光重合開始剤及び光重合開始剤系を含
んだ光重合性組成物を提供することである。
有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物の光重合
速度を増大させる光重合開始剤及び光重合開始剤系を含
んだ光重合性組成物を提供することである。
「問題点を解決するための手段」
本発明者は、上記目的を達成すべく精意研究を重ねてい
たが、ある特定の光重合開始剤がエチレン性不飽和結合
t−Vする重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大
させることを見出し、本発明に到達し念ものである。
たが、ある特定の光重合開始剤がエチレン性不飽和結合
t−Vする重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大
させることを見出し、本発明に到達し念ものである。
本発明は、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物と、必要とするならば結合剤と一般式(I) (式中、Ro、ル2、EL 3、ル4、ル、はそれぞれ
独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アリル基または置換アリル基1
に表わし、Yは一〇−1−S−1−8e−1−C(CU
3)2−および−〇)i=C)l−よシ選ばれるコ価原
子または原子団であシ、Xは酸素原子、または硫黄原子
を茨わす。またル0、R2は共にそれが結合している炭
素原子と共に環を形成していても良い。) で表わされる光重合開始剤を含有する光重合性組成物に
関するものである。
合物と、必要とするならば結合剤と一般式(I) (式中、Ro、ル2、EL 3、ル4、ル、はそれぞれ
独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アリル基または置換アリル基1
に表わし、Yは一〇−1−S−1−8e−1−C(CU
3)2−および−〇)i=C)l−よシ選ばれるコ価原
子または原子団であシ、Xは酸素原子、または硫黄原子
を茨わす。またル0、R2は共にそれが結合している炭
素原子と共に環を形成していても良い。) で表わされる光重合開始剤を含有する光重合性組成物に
関するものである。
以下本発明について詳細に説明する。
本発明の組成物におけるエチレン性不飽和結曾を有する
重合可能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも7
個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であって、モ
ノマー、プレポリマー、すなわちλ量体、3量体および
他のオリゴマーそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。それらの例とし
ては不飽和カルボン酸およびその塩、脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化合物との
アミド等があげられる。
重合可能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも7
個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であって、モ
ノマー、プレポリマー、すなわちλ量体、3量体および
他のオリゴマーそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。それらの例とし
ては不飽和カルボン酸およびその塩、脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化合物との
アミド等があげられる。
不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸などがある。
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸などがある。
不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩およびカリウム塩などがある。
塩およびカリウム塩などがある。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールトリアクリレート、l。
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールトリアクリレート、l。
3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレンク
リコールジアクタレート、プロピレンクリコールジアク
リレート、トリメチロールプロパントリメクリレート、
トリメチロールエタントリアクリレート、l、≠−シク
ロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、インタエリスリトールジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトール
テトラアクリレート、ンルビトールベンタアクリレート
、ソルビトールヘキサアクリレート、ポリエステルアク
リレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルと
しては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタ
ントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レー)、/、J−ブタンジオールジメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタクリレート、ジベンタエリスIJトール
ジメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、
ソルビトールテトラメタクリレート、ビス−(p−(J
−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェ
ニルクジメチルメタン、ビス−(p−(アクリルオキシ
エトキシ)フェニルクジメチルメタン等がある。イタコ
ン酸エステルとしては、エチレ7 りIJ :r −k
、) イタコネート、フロピレンクリコールシイタコ
ネート、l、3−ブタンジオールシイタコ$−)、/、
4C−ブタンジオールシイタコネート、テトラメチレン
グリコールシイタコネート、ペンタエリスリトールシイ
タコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある
。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジ
クロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネー
ト、ペンタエリロリトールジクロトネート、ソルビトー
ルテトラクロトネート等がある。インクロトン酸エステ
ル(!: シテtd、、エチレンクリコールジインクロ
トネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、
ノルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイ
ン酸エステルとしては、エチレングリコールシマレート
、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエリスリ
トールシマレート、ソルビトールナト2マレート等があ
る。
リコールジアクタレート、プロピレンクリコールジアク
リレート、トリメチロールプロパントリメクリレート、
トリメチロールエタントリアクリレート、l、≠−シク
ロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、インタエリスリトールジアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールト
リアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトール
テトラアクリレート、ンルビトールベンタアクリレート
、ソルビトールヘキサアクリレート、ポリエステルアク
リレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルと
しては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタ
ントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レー)、/、J−ブタンジオールジメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリメタクリレート、ジベンタエリスIJトール
ジメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、
ソルビトールテトラメタクリレート、ビス−(p−(J
−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェ
ニルクジメチルメタン、ビス−(p−(アクリルオキシ
エトキシ)フェニルクジメチルメタン等がある。イタコ
ン酸エステルとしては、エチレ7 りIJ :r −k
、) イタコネート、フロピレンクリコールシイタコ
ネート、l、3−ブタンジオールシイタコ$−)、/、
4C−ブタンジオールシイタコネート、テトラメチレン
グリコールシイタコネート、ペンタエリスリトールシイ
タコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある
。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジ
クロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネー
ト、ペンタエリロリトールジクロトネート、ソルビトー
ルテトラクロトネート等がある。インクロトン酸エステ
ル(!: シテtd、、エチレンクリコールジインクロ
トネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、
ノルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイ
ン酸エステルとしては、エチレングリコールシマレート
、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエリスリ
トールシマレート、ソルビトールナト2マレート等があ
る。
さらに、前述のエステルの混合物もあげることができる
。
。
脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミド
の具体例として蝶、メチレンビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、/、4−ヘキサメチレ
ンビス−アクリルアミド、/、4−へキサメチレンビス
−メタクリルアミド、。
の具体例として蝶、メチレンビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、/、4−ヘキサメチレ
ンビス−アクリルアミド、/、4−へキサメチレンビス
−メタクリルアミド、。
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
/ビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
/ビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
その他の列としては、特公昭≠!−弘/701号公報中
に記載されている1分子に2個以上のインシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
II)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付
加せしめた7分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有
するビニルウレタン化合物等があげられる。
に記載されている1分子に2個以上のインシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
II)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付
加せしめた7分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有
するビニルウレタン化合物等があげられる。
CH,=C(ル)C(J(JCH,C)i(トリuH(
If)(ただし、aおよびa′はHあるいはC)I3t
−示す。) 次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
光重合開始剤について説明する。
If)(ただし、aおよびa′はHあるいはC)I3t
−示す。) 次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
光重合開始剤について説明する。
本発明で用いられる一般式(I)
で茨わされる光重合開始剤においてR11、)L、、1
−L、、R4、R,は同一でも異なっていても良く、メ
チル、エチル、n−10ピル、i−fロビル、n−7’
チル、t−ブチル等の炭素数1〜72個のアルキル基、
フェニル基、ナフチル基等の炭素数4〜70個のアリー
ル基、炭素数3〜10個のアリル基を表わす。これらの
アルキル基、アリール基、アリル基は置換基を有してい
ても良く、置換基としては、メチル基、エチル基等の炭
素61〜6個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等
の炭素数l〜4 aのアルコキシ基、塩素、臭素等のハ
ロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ジメチルアミノ基等
の炭素数l−弘−のアルキル基で置換されたアミノ基、
カルボメトキシ基等の炭素数l〜参個のアルキル基を有
するカルボアルコキシ基、フェニル基、p−メトキシフ
ェニル基、p−クロロフェニル基等の炭素数6〜10個
の置換もしくは非置換のアリール基、カルボン酸基、ス
ルホ/酸基、またはそれらの塩等會挙げることができる
。
−L、、R4、R,は同一でも異なっていても良く、メ
チル、エチル、n−10ピル、i−fロビル、n−7’
チル、t−ブチル等の炭素数1〜72個のアルキル基、
フェニル基、ナフチル基等の炭素数4〜70個のアリー
ル基、炭素数3〜10個のアリル基を表わす。これらの
アルキル基、アリール基、アリル基は置換基を有してい
ても良く、置換基としては、メチル基、エチル基等の炭
素61〜6個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等
の炭素数l〜4 aのアルコキシ基、塩素、臭素等のハ
ロゲン原子、シアノ基、アミノ基、ジメチルアミノ基等
の炭素数l−弘−のアルキル基で置換されたアミノ基、
カルボメトキシ基等の炭素数l〜参個のアルキル基を有
するカルボアルコキシ基、フェニル基、p−メトキシフ
ェニル基、p−クロロフェニル基等の炭素数6〜10個
の置換もしくは非置換のアリール基、カルボン酸基、ス
ルホ/酸基、またはそれらの塩等會挙げることができる
。
また”1、R+2は共にそれと結合している炭素原子と
共に環を形成していても良い。環としてはシクロヘキセ
ン環などの脂肪族炭化水素環、ベンゼン環、ナフタリン
環などの芳香族環、キノリン環などのへテロ芳香族環等
を挙げることができる。
共に環を形成していても良い。環としてはシクロヘキセ
ン環などの脂肪族炭化水素環、ベンゼン環、ナフタリン
環などの芳香族環、キノリン環などのへテロ芳香族環等
を挙げることができる。
またこれらの環は置換基を有していても良く、置換基と
してはル0、R2、R3、ル4、ル、の置換基として挙
げたものを同様に用いることができる。
してはル0、R2、R3、ル4、ル、の置換基として挙
げたものを同様に用いることができる。
不発明で用いられる前記一般式(I)で表わされる光重
付開始剤は公知の方法を用いて合成することができる。
付開始剤は公知の方法を用いて合成することができる。
代表的な合峻法は例えばティー・エッチ・ジエームズ著
「ザ・セオリー・オブ・フォトグラフィックΦプロセス
J(T、H,James編“The ’I’heory
of PhotographicProcess ″
第μ版、Macmillan Co、。
「ザ・セオリー・オブ・フォトグラフィックΦプロセス
J(T、H,James編“The ’I’heory
of PhotographicProcess ″
第μ版、Macmillan Co、。
New York (/り77)〕及びエフ ・j−A
−ハマー著「ザ シアニン ダイス アンド リレイ
テイド コムパウンズJ(F、M、Hamer 著“T
he Cyanine Dyes and Re
latedCompounds ” John Wil
ey & 8onsGo、、New York (/
26≠)〕に記載されているがごとく、一般式(III
)及び一般式(IV)で表わされる化合物から合成する
ことができる。
−ハマー著「ザ シアニン ダイス アンド リレイ
テイド コムパウンズJ(F、M、Hamer 著“T
he Cyanine Dyes and Re
latedCompounds ” John Wil
ey & 8onsGo、、New York (/
26≠)〕に記載されているがごとく、一般式(III
)及び一般式(IV)で表わされる化合物から合成する
ことができる。
本発明で用いられる一般式(I)で表わされる光重合開
始剤の具体例を下記に示す。
始剤の具体例を下記に示す。
ノI64L
ムt
J167
f
ノにタ
ノ真110
L:ti3L;i2L;ti3
fLll
ムl 2
ム13
ム/J
屋16
J16/7
ム/r
ムlタ
ム20
t6Jl
Jl&ココ
ムλ3
Jta24’
ム2j
ムコt
ムコ7
点コj
ム22
ム30
16J/
ム33
A3参
本発明の一般式(I)で表わされる化合物はそのもの単
独でも高い光重合開始能を示すが、ある種の活性剤と組
み合せて2種以上の光重合開始剤の組合せとして用いる
ことにより、更に高い光重合開始能を発現することが可
能となる。
独でも高い光重合開始能を示すが、ある種の活性剤と組
み合せて2種以上の光重合開始剤の組合せとして用いる
ことにより、更に高い光重合開始能を発現することが可
能となる。
本発明の化合物と組み合せて高い光重合開始能を示す活
性剤として以下の様なものがある。
性剤として以下の様なものがある。
(I) カルボニル化合物
ベンジル、ベンゾイン、ベンジルケタール類、ベンゾイ
ンエーテル類等。インジルケタールの例としてはジメト
キシーーーフェニルアセトフエノンを挙げることができ
その他の例は、特開昭弘?−44JAjj号、特開昭弘
データデ/4C7号及び特公昭10−22230号公報
に記載されでいる。
ンエーテル類等。インジルケタールの例としてはジメト
キシーーーフェニルアセトフエノンを挙げることができ
その他の例は、特開昭弘?−44JAjj号、特開昭弘
データデ/4C7号及び特公昭10−22230号公報
に記載されでいる。
ベンゾインエーテルとしては0−メチルベンゾイン、0
−エチルベンゾイン等がちりその他の例はジャーナル
オプ アメリカン ケミカル ンサイアテイ−(Jou
rnal of AmericanChemical
5ociety )り7巻/11?頁(lり7t年
)に記載がある。
−エチルベンゾイン等がちりその他の例はジャーナル
オプ アメリカン ケミカル ンサイアテイ−(Jou
rnal of AmericanChemical
5ociety )り7巻/11?頁(lり7t年
)に記載がある。
その他カルボニル化合物としては、ジェトキシアセトフ
ェノン等のアセトフェノン酵導体、ペンソイル−7−シ
クロヘキサノール等の1−ロッパ特許第atコj20t
AI号公報記載の化合物、米国特許第≠3/17タノ号
明細書記載の2−モルホリノ−コータチル−p−メチル
チオゾロビオフェノン等の芳香族脂肪ケトンおよび2−
ヒドロキシーコーメチルーp−クロロゾロビオ7二ノン
等の2ヒドロキシアセトフ工ノン誘i体などがある。
ェノン等のアセトフェノン酵導体、ペンソイル−7−シ
クロヘキサノール等の1−ロッパ特許第atコj20t
AI号公報記載の化合物、米国特許第≠3/17タノ号
明細書記載の2−モルホリノ−コータチル−p−メチル
チオゾロビオフェノン等の芳香族脂肪ケトンおよび2−
ヒドロキシーコーメチルーp−クロロゾロビオ7二ノン
等の2ヒドロキシアセトフ工ノン誘i体などがある。
(2) スルホニルオキシム化合物
例として特開昭17−137447号公報、西独特i1
’F(OL8)J参10JI7A/号公報および米国特
許第4cコziriai号明細書記載のスルホニルオキ
シム化合物が挙げられる。具体例としてコーフェニルー
3−フェールスルホニルオキシ−4t(JR)キナゾリ
ノン、−一スチリルー3−フェニルスルホニルオキシ−
4c(J)l)キナゾリノン、N−ヒドロキシ−l、?
−ナフタルイミドベンゼンスルホン酸エステル等がある
。
’F(OL8)J参10JI7A/号公報および米国特
許第4cコziriai号明細書記載のスルホニルオキ
シム化合物が挙げられる。具体例としてコーフェニルー
3−フェールスルホニルオキシ−4t(JR)キナゾリ
ノン、−一スチリルー3−フェニルスルホニルオキシ−
4c(J)l)キナゾリノン、N−ヒドロキシ−l、?
−ナフタルイミドベンゼンスルホン酸エステル等がある
。
(3) アシルオキシム化合物
例トシて/−フェニル−/、2−プロノξンジオンー2
−(0−エトキシカルボオキシム)等、プログレス イ
ン オルガニック コーティングズ(Progress
in Organic Coatings)3巻
775頁(lり7!年)記載の化合物がある。
−(0−エトキシカルボオキシム)等、プログレス イ
ン オルガニック コーティングズ(Progress
in Organic Coatings)3巻
775頁(lり7!年)記載の化合物がある。
(4)へキサアリールビイミダゾール化合物好ましいヘ
キサアリールビイミダゾールの具体例としてコ J/−
ビス(0−クロロフェニル)−μl”l’!’′−テト
ラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(0,p−
ジクロロ7エ二ル)−φ、参’、!、j’−テトラフェ
ニルビイミダゾール等があシ、その他の例は特公昭4c
j−37377号公報に記載されている。
キサアリールビイミダゾールの具体例としてコ J/−
ビス(0−クロロフェニル)−μl”l’!’′−テト
ラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(0,p−
ジクロロ7エ二ル)−φ、参’、!、j’−テトラフェ
ニルビイミダゾール等があシ、その他の例は特公昭4c
j−37377号公報に記載されている。
(5)ハロゲン化合物
英国特許l、コJ4C、Allr号、英国特許コ。
03?、07JB号、米国特許!、127.!Yt号、
米国特許3.り0! 、If/ 3号、特開昭!!−2
≠//J号、特開昭Jet−1jjOJ号公報中に記載
のハロゲン化合物。この代表例としてはコツ6−ジ(ト
リクロロメチル)−≠−Cp−メトキシフェニル)−/
、J、j−)リアジン、コートリクロロメチルー!−(
p−メトキシスチリル)−/、J、μmオキサジアゾー
ル、アントラキノン−7−スルホニルクロリドおよびx
、z。
米国特許3.り0! 、If/ 3号、特開昭!!−2
≠//J号、特開昭Jet−1jjOJ号公報中に記載
のハロゲン化合物。この代表例としてはコツ6−ジ(ト
リクロロメチル)−≠−Cp−メトキシフェニル)−/
、J、j−)リアジン、コートリクロロメチルー!−(
p−メトキシスチリル)−/、J、μmオキサジアゾー
ル、アントラキノン−7−スルホニルクロリドおよびx
、z。
コートリクロロアセトフエノン等を挙げることができる
。
。
(6)アミノ化合物
エム・アール・サングー等著[ジャーナル オブ ポリ
マー ソサイアテイーJ(M、t(、。
マー ソサイアテイーJ(M、t(、。
5ander ら著「Journal of P
olymer8ocietyJ )第io巻、3173
頁(lり7コ年)、特開昭j/−4コ102号、特開昭
jλ−/3ulaり2号公報中に記載のアミノ化合物。
olymer8ocietyJ )第io巻、3173
頁(lり7コ年)、特開昭j/−4コ102号、特開昭
jλ−/3ulaり2号公報中に記載のアミノ化合物。
この代表例としてはトリメチルアミン、トリエタノール
アミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
p−シアノジメテルアニリ/及びp−ホルミルジメチル
アニリン等を挙げることができる。
アミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
p−シアノジメテルアニリ/及びp−ホルミルジメチル
アニリン等を挙げることができる。
その他のアミノ化合物としてp−アミノ置換ベンゾフェ
ノン誘導体及びp−アミノ置換カルコン誘導体があシ、
その代表例としてはミヒラーズケトン、p−ジメチルア
ミノベンジリデンアセトフェノン、昼、4C/−ジメチ
ルアミノカルコン等を挙げることができる。
ノン誘導体及びp−アミノ置換カルコン誘導体があシ、
その代表例としてはミヒラーズケトン、p−ジメチルア
ミノベンジリデンアセトフェノン、昼、4C/−ジメチ
ルアミノカルコン等を挙げることができる。
(7)アミノ酸
特に好ましいアミノ酸の具体例としてはヘーフェニルグ
リクンが挙げられる。
リクンが挙げられる。
(8) イオウ化合物
米国特許x、4Ato、ioz号、米国特許コ。
773.12−号明細書に記載のイオウ化曾物が挙げら
れる。この代表例としてジベンゾチアゾイルジスルフィ
ド、ジエチルキサン・トゲンジスルフイド、λ−メルカ
プトベンズチアゾール、λ−メルカプトベンズイミダゾ
ール、!−メチルチオー2−メルカプトチアジアゾール
等を挙げることができる。
れる。この代表例としてジベンゾチアゾイルジスルフィ
ド、ジエチルキサン・トゲンジスルフイド、λ−メルカ
プトベンズチアゾール、λ−メルカプトベンズイミダゾ
ール、!−メチルチオー2−メルカプトチアジアゾール
等を挙げることができる。
(9) 過酸化物
代表的表過酸化物としてジベンゾイル/R−オキサイド
、J、!’、It、≠I−テトラ(t−ブチルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン等がある。
、J、!’、It、≠I−テトラ(t−ブチルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン等がある。
これらの活性剤のうち特に有効なものはカルボニル化合
物、スルホニルオキシム化合物、アシルオキシム化合物
、ハロゲン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合
物である。
物、スルホニルオキシム化合物、アシルオキシム化合物
、ハロゲン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合
物である。
本発明の重合性組成物には必要によシ結合剤を用いるが
、結合剤としては、重合可能な化合エチレン性不飽和結
合化合物および光重合開始剤に対する相溶性が組成i勿
の塗布液の調製、塗布および乾燥に至る感光材料の、製
造工程の全てにおいて脱混合を起さない程度に良好であ
ること、感光層あるいはレジスト層として例えば溶液現
像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現像処理が可能であ
ること、感光層あるいはレジスト層として強靭な皮膜を
形成し得ることなどの特性を有することが要求され、通
常線状有機高分子重合体より適宜、選択される。結合剤
の具体的な例としては、塩素化ポリエチレン、塩素化ポ
リプロピレン、ポリ丁クリル酸アルキルエステル(アル
キル基としては、メチル基、エチル基、n−ブチル基、
1so−ブチルL n−ヘキシル基、2−エチルヘキシ
ル基すど)、アクリル酸アルキルエステル(アルキル基
は同上)と7クリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリ
テ/、スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少なくと
も一種との共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとア
クリロニトリルとの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニリデンとアクリロニトリルとの共重合体、ポリ酢
酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリ
ル、アクリロニトリルとスチレンとの共重合体、アクリ
ロニトリルとブタジェン2よびスチレンとの共重合体、
ポリメタアクリル酸アルキルエステル(アルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチ
ル基、1so−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキ
シル基、2−エチルヘキシル基など)、メタアクリル酸
アルキルエステル(アルキル基は同上)とアクリロニト
リル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレ/、ブタジ
ェンなどのモノマーの少なくとも一種との共重合体、ポ
リスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ポリアミド(
6−ナイロン、t、6−ナイロンなど)、メチルセルロ
ース、エチルセルロース、アセチルセルロース、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルブチラールなどが挙けられ
る。さらに、水あるいはアルカリ水可溶性有機高分子重
せ体を用いると水あるいはアルカリ水現像が可能となる
。このような高分子重合体としては側鎖にカルボン酸を
有する付加重合体、たとえばメタクリル酸共重合体くた
とえば、メタクリル酸メチルとメタクリル酸との共重合
体、メタクリル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、
メタクリル酸ブチルとメタクリル酸との共重合体、メタ
クリル酸ベンジルとメタクリル酸との共重合体、アクリ
ル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリル酸
とスチレンおよびメタクリル酸との共重合体など)、ア
クリル酸共重合体(アクリル酸エチルとアクリル酸との
共重合体、アクリル酸ブチルとアクリル酸との共重合体
、アクリル酸エチルとスチレンおよびアクリル酸との共
重合体など)、さらにはイタコン酸共重合体、クロトン
酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体などが
あり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロ
ース誘導体がある。
、結合剤としては、重合可能な化合エチレン性不飽和結
合化合物および光重合開始剤に対する相溶性が組成i勿
の塗布液の調製、塗布および乾燥に至る感光材料の、製
造工程の全てにおいて脱混合を起さない程度に良好であ
ること、感光層あるいはレジスト層として例えば溶液現
像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現像処理が可能であ
ること、感光層あるいはレジスト層として強靭な皮膜を
形成し得ることなどの特性を有することが要求され、通
常線状有機高分子重合体より適宜、選択される。結合剤
の具体的な例としては、塩素化ポリエチレン、塩素化ポ
リプロピレン、ポリ丁クリル酸アルキルエステル(アル
キル基としては、メチル基、エチル基、n−ブチル基、
1so−ブチルL n−ヘキシル基、2−エチルヘキシ
ル基すど)、アクリル酸アルキルエステル(アルキル基
は同上)と7クリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリ
テ/、スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少なくと
も一種との共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとア
クリロニトリルとの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニリデンとアクリロニトリルとの共重合体、ポリ酢
酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリ
ル、アクリロニトリルとスチレンとの共重合体、アクリ
ロニトリルとブタジェン2よびスチレンとの共重合体、
ポリメタアクリル酸アルキルエステル(アルキル基とし
ては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチ
ル基、1so−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキ
シル基、2−エチルヘキシル基など)、メタアクリル酸
アルキルエステル(アルキル基は同上)とアクリロニト
リル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレ/、ブタジ
ェンなどのモノマーの少なくとも一種との共重合体、ポ
リスチレン、ポリ−α−メチルスチレン、ポリアミド(
6−ナイロン、t、6−ナイロンなど)、メチルセルロ
ース、エチルセルロース、アセチルセルロース、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルブチラールなどが挙けられ
る。さらに、水あるいはアルカリ水可溶性有機高分子重
せ体を用いると水あるいはアルカリ水現像が可能となる
。このような高分子重合体としては側鎖にカルボン酸を
有する付加重合体、たとえばメタクリル酸共重合体くた
とえば、メタクリル酸メチルとメタクリル酸との共重合
体、メタクリル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、
メタクリル酸ブチルとメタクリル酸との共重合体、メタ
クリル酸ベンジルとメタクリル酸との共重合体、アクリ
ル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリル酸
とスチレンおよびメタクリル酸との共重合体など)、ア
クリル酸共重合体(アクリル酸エチルとアクリル酸との
共重合体、アクリル酸ブチルとアクリル酸との共重合体
、アクリル酸エチルとスチレンおよびアクリル酸との共
重合体など)、さらにはイタコン酸共重合体、クロトン
酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体などが
あり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロ
ース誘導体がある。
これらの高分子重合体は、単独で結合剤として用いても
よいが、二種以上の互いに相溶性が、塗布液のa14g
から塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さない程
度に良い高分子重合体を適合な比で混合して結合剤とし
て用いることができる。
よいが、二種以上の互いに相溶性が、塗布液のa14g
から塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さない程
度に良い高分子重合体を適合な比で混合して結合剤とし
て用いることができる。
結合剤として用いられる高分子重合体の分子量は、重合
体の種類により広範な値をとりうるが、一般には!千〜
−oo75’、より好ましくは1万〜ioo万の範囲の
ものが好適である。
体の種類により広範な値をとりうるが、一般には!千〜
−oo75’、より好ましくは1万〜ioo万の範囲の
ものが好適である。
さらに、本発明の組成物の製造中あるいは保存中におい
てエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の不
要な熱重合を阻止するために熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはヒドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−7’チル−p−
ルゾール、ピロガロール、t−iチルカテコール、ベン
ゾキノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、
ナフチルアミン、β−す7トール、ニトロベンゼン、ジ
ニトロベンゼンなどがめる。
てエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の不
要な熱重合を阻止するために熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはヒドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−7’チル−p−
ルゾール、ピロガロール、t−iチルカテコール、ベン
ゾキノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、
ナフチルアミン、β−す7トール、ニトロベンゼン、ジ
ニトロベンゼンなどがめる。
また場合によっては着色を目的として染料もしくは顔料
、例えばメチレンブルー、クリスタルバイオレット、ロ
ーダミンB、 7クシン、オーラミン、アゾ系染料、ア
ントラキノン系染料、酸化チタン、カーボンブラック、
酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加え
てもよい。
、例えばメチレンブルー、クリスタルバイオレット、ロ
ーダミンB、 7クシン、オーラミン、アゾ系染料、ア
ントラキノン系染料、酸化チタン、カーボンブラック、
酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加え
てもよい。
さらに、本発明の光貞合性組成りには必要に応じて可塑
性上添加することができる。可盟性の例としては、ジメ
チル7タレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジシクロへキシルフタレー
ト、ジトリデシルフタレートなどの7タル酸エステル類
、ジメチルクリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートな
どのグリコールエステル鴫、トリクレジルホスフェート
、トリフェニルホスフェート々トノリン酸エステル類、
ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジに一ト、ジブ
チルセパケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩基
酸エステル類などがある。
性上添加することができる。可盟性の例としては、ジメ
チル7タレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジシクロへキシルフタレー
ト、ジトリデシルフタレートなどの7タル酸エステル類
、ジメチルクリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートな
どのグリコールエステル鴫、トリクレジルホスフェート
、トリフェニルホスフェート々トノリン酸エステル類、
ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジに一ト、ジブ
チルセパケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩基
酸エステル類などがある。
本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
に溶解せしめ、適当な支持体状に公知の方法により塗布
して用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好ま
しい比率をエチレン性不飽和結合を有する重曹可能な化
合物ioo重量部に対する重量部で表わす。
に溶解せしめ、適当な支持体状に公知の方法により塗布
して用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好ま
しい比率をエチレン性不飽和結合を有する重曹可能な化
合物ioo重量部に対する重量部で表わす。
t o o @ o o G″
’?? ??? 古 偽 偽 o o o
5霧 璽 宅 塀 罷 響 α 菅 本発明の光重合性組成物を塗布するときに用いられる溶
媒としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノ/、
メチルエチルケトン、エチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、酢酸エチルセロソルブ、七ノクロルベンゼン、ト
ルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどである
。これらの溶媒は単独または混合して使用される。
’?? ??? 古 偽 偽 o o o
5霧 璽 宅 塀 罷 響 α 菅 本発明の光重合性組成物を塗布するときに用いられる溶
媒としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノ/、
メチルエチルケトン、エチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、酢酸エチルセロソルブ、七ノクロルベンゼン、ト
ルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどである
。これらの溶媒は単独または混合して使用される。
゛ 感光性平版印刷版全製造する場合の塗布量は、
一般に固形分として0./ N10.Of/m が適
当であり、特に好ましくは0.1〜1.017m2であ
る。
一般に固形分として0./ N10.Of/m が適
当であり、特に好ましくは0.1〜1.017m2であ
る。
本発明の光重合性組成物は感光性平版印刷版の感光層と
して好適である。感光性平版印刷版に適した支持体とし
ては、親水化処理したアルミニウム板、たとえはシリケ
ート処理アルミニウム板、陽極酸化アルミニウム板、シ
リケート電層したアルミニウム板があり、その他亜鉛板
、ステンレス板、クローム処理銅板、親水化処理したプ
ラスチックフィルムや紙を挙げることができる。
して好適である。感光性平版印刷版に適した支持体とし
ては、親水化処理したアルミニウム板、たとえはシリケ
ート処理アルミニウム板、陽極酸化アルミニウム板、シ
リケート電層したアルミニウム板があり、その他亜鉛板
、ステンレス板、クローム処理銅板、親水化処理したプ
ラスチックフィルムや紙を挙げることができる。
また本発明の組成物をフォトレジストとして使用する場
合には銅板または鋼メッキ板、ステンレス板、ガラス板
等の種々のものを支持体として用いることができる。
合には銅板または鋼メッキ板、ステンレス板、ガラス板
等の種々のものを支持体として用いることができる。
「実施例」
以下、本発明に使用される光重会開始剤の合成例と本発
明の実施例金肥すが、本発明はこれに限定されるもので
はない。
明の実施例金肥すが、本発明はこれに限定されるもので
はない。
合成例
化合物例17の製造方法
N−メチルーコーメチルメルカブトーベンゾ(” +
’ )ベンゾチアゾリウムトシレート31゜atおよび
/、3−ジーn−ブチルチオバルビッル酸コ/、7ft
−ア七トントリル100.1に溶解した後、トリエチル
アミyao7を加えた。混合物を2時間加熱還流した後
放冷し、析出した結晶をP取した。酢酸エチルからλ回
再紹晶し、融点iro〜/I?−〇〇の結晶31.Of
を得た。
’ )ベンゾチアゾリウムトシレート31゜atおよび
/、3−ジーn−ブチルチオバルビッル酸コ/、7ft
−ア七トントリル100.1に溶解した後、トリエチル
アミyao7を加えた。混合物を2時間加熱還流した後
放冷し、析出した結晶をP取した。酢酸エチルからλ回
再紹晶し、融点iro〜/I?−〇〇の結晶31.Of
を得た。
電子スペクトル(テトラヒドロ7ラン(T)IF)中)
λmaxjりYnm (Iogg=ダ、72) 元素分析値 C24H2□02N3S2として計算値
C:tJ、11% H;l、、00fb Niり、26
チ実測値 C:AJ、4’l;% H;i/44% N
;1.l91r実施例1〜3、比較例1〜9 ナイロンブラシで砂目立て後シリケート処理したアルミ
ニウム板に回転塗布機を用いて回転速度λ00r、p、
m、 にて第1表に示す光重合開始剤を用い友下記感
光液を塗布し1oo6cz分間乾燥し、乾燥膜厚約λμ
の感光層を形成させ感光板全作成した。
λmaxjりYnm (Iogg=ダ、72) 元素分析値 C24H2□02N3S2として計算値
C:tJ、11% H;l、、00fb Niり、26
チ実測値 C:AJ、4’l;% H;i/44% N
;1.l91r実施例1〜3、比較例1〜9 ナイロンブラシで砂目立て後シリケート処理したアルミ
ニウム板に回転塗布機を用いて回転速度λ00r、p、
m、 にて第1表に示す光重合開始剤を用い友下記感
光液を塗布し1oo6cz分間乾燥し、乾燥膜厚約λμ
の感光層を形成させ感光板全作成した。
ベンジルメタクリレート−メタ
アクリル酸(モル比73/コ
ア)共重せ体 j、Ofペンタエリ
スリトールテトラア クリレート J、4f光重合開
始剤 (七ツマ−に対して1モルチ)メチルエチルケト
ン コ02メチルセルソルブアセテ−
) 20?露光は真空焼枠装置を用いて、作
製した感光板上にステップ・ウェッジ(濃度段差0 、
/ 7、濃度段数/j段)を置き、2KWの超高圧水
銀灯を7秒間照射し、露光後下記処方の現像液を用いて
現像した。
スリトールテトラア クリレート J、4f光重合開
始剤 (七ツマ−に対して1モルチ)メチルエチルケト
ン コ02メチルセルソルブアセテ−
) 20?露光は真空焼枠装置を用いて、作
製した感光板上にステップ・ウェッジ(濃度段差0 、
/ 7、濃度段数/j段)を置き、2KWの超高圧水
銀灯を7秒間照射し、露光後下記処方の現像液を用いて
現像した。
(現像液)
リン酸三ナトリウム 2!?リン酸
−ナトリウム j2ブチルセルソ
ルブ 709界面活性剤
コMt水
/1現出した画像の対厄する
ステップ・ウェッジの最高段数全試料の感度として第1
表に示した。段数が高いほど感度も高いことを意味する
。
−ナトリウム j2ブチルセルソ
ルブ 709界面活性剤
コMt水
/1現出した画像の対厄する
ステップ・ウェッジの最高段数全試料の感度として第1
表に示した。段数が高いほど感度も高いことを意味する
。
また比較のために光重合開始剤として本発明の化合物に
替えて比較例に示す化合物t−谷青々モノマ一対し1モ
ルチ添加し九時の感度を第2弐に示第λ表 第1表および第2表に示したように、本発明の光重合開
始剤を用いた場合、比較例1〜りに比較してより扁い感
度を示し、本発明の所期の効果が十分に認められた。
替えて比較例に示す化合物t−谷青々モノマ一対し1モ
ルチ添加し九時の感度を第2弐に示第λ表 第1表および第2表に示したように、本発明の光重合開
始剤を用いた場合、比較例1〜りに比較してより扁い感
度を示し、本発明の所期の効果が十分に認められた。
実施例4〜6 比較例10
実施例/〜30方法において本発明の光重8開始剤とし
て化合物例17の化合物をモノマーに対してjモルチ、
また更に活性剤として下記第3表に示した化合物を!モ
ルチ添7111し、露光時間を参秒にした以外実施例1
〜3と同様の方法で塗布液を調液し、同じ方法を用いて
感光板を作成し、露光、現像を行なった。現出した画像
の対応するステップウェッジの最高段数を試料の感度と
して第3表に示した。また比較として活性剤を加えない
とき比較例IOの感度を第3表に示しに0第3表 第3表から、本願発明の光重合開始剤は更に活性剤を加
えることによって、感度が増加することが明らかであろ
う。
て化合物例17の化合物をモノマーに対してjモルチ、
また更に活性剤として下記第3表に示した化合物を!モ
ルチ添7111し、露光時間を参秒にした以外実施例1
〜3と同様の方法で塗布液を調液し、同じ方法を用いて
感光板を作成し、露光、現像を行なった。現出した画像
の対応するステップウェッジの最高段数を試料の感度と
して第3表に示した。また比較として活性剤を加えない
とき比較例IOの感度を第3表に示しに0第3表 第3表から、本願発明の光重合開始剤は更に活性剤を加
えることによって、感度が増加することが明らかであろ
う。
実施例7〜10 比較9111〜17
実施例/〜3の方法において本発明の光重合開始剤とし
て化合物例3.u、7./3の化合物をモノマーに対し
て1モルチ、また更に活性剤としてコースチリル−3−
フェニルスルホニルオキシ−弘(3R)キナゾリノンを
モノマーに対して!モルチ加えた以外は実施例1〜3と
同様の方法で感光板を作成し、露光現像を行なつ九。現
出し友ステップウェッジ段数を第μ表に示した。また比
較例として化合物例3.弘、7.I3に代えて第弘表に
示し次化合物を用いた外は実施例7〜IQと同様な方法
を行い得られた感度を第μ表に示す。
て化合物例3.u、7./3の化合物をモノマーに対し
て1モルチ、また更に活性剤としてコースチリル−3−
フェニルスルホニルオキシ−弘(3R)キナゾリノンを
モノマーに対して!モルチ加えた以外は実施例1〜3と
同様の方法で感光板を作成し、露光現像を行なつ九。現
出し友ステップウェッジ段数を第μ表に示した。また比
較例として化合物例3.弘、7.I3に代えて第弘表に
示し次化合物を用いた外は実施例7〜IQと同様な方法
を行い得られた感度を第μ表に示す。
第μ表から本発明の光重合開始剤を用いた実施例7〜1
0は公知の化合物を用いた比較例//〜λOより感度が
優れることが明らかであろう。
0は公知の化合物を用いた比較例//〜λOより感度が
優れることが明らかであろう。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社1、事件の表示
昭和60年特願第≠≠027号2、発明の名称
光重合性組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人任 所 神奈
川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒106東京都港
区西麻布2丁目26番30号富士写真フィルム株式会社
東37<本社TL話(406) 2537 4、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 & 補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通シ
補正する。
昭和60年特願第≠≠027号2、発明の名称
光重合性組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人任 所 神奈
川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒106東京都港
区西麻布2丁目26番30号富士写真フィルム株式会社
東37<本社TL話(406) 2537 4、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 & 補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通シ
補正する。
第参!頁第3表の実施例乙の化合物
「
」を
「
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個有する付加
重合可能な化合物および光重合開始剤を含む光重合性組
成物において、該光重合開始剤として、少なくとも下記
一般式( I )で表わされる化合物を1種含有すること
を特徴とする光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5はそれ
ぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
リール基、置換アリール基、アリル基または置換アリル
基を表わし、Yは−O−、−S−、−Se−、−C(C
H_3)_2−および−CH=CH−より選ばれる2価
原子または原子団であり、Xは酸素原子、または硫黄原
子を表わす。またR_1、R_2は共にそれが結合して
いる炭素原子と共に環を形成していても良い。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4402785A JPS61203443A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 光重合性組成物 |
US06/836,942 US4636459A (en) | 1985-03-06 | 1986-03-06 | Photopolymerizable compositions |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4402785A JPS61203443A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61203443A true JPS61203443A (ja) | 1986-09-09 |
JPH0547095B2 JPH0547095B2 (ja) | 1993-07-15 |
Family
ID=12680161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4402785A Granted JPS61203443A (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61203443A (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02131236A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
EP0713143A2 (en) | 1994-11-18 | 1996-05-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive planographic printing plate |
US6137649A (en) * | 1998-03-19 | 2000-10-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording/reproduction apparatus in which one of a reel base pair is rotated to wind a magnetic tape by a predetermined amount when an abnormality is detected |
US6172840B1 (en) | 1998-03-19 | 2001-01-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording/reproduction apparatus including a rotary head cylinder and both vertical and inclined guides for winding a magnetic tape about the rotary head cylinder |
US6198592B1 (en) | 1998-03-19 | 2001-03-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording/reproduction apparatus including a first chassis onto which a tape cassette is received and a second chassis having a rotary head cylinder thereon |
US6282057B1 (en) | 1998-03-19 | 2001-08-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Magnetic recording/reproduction apparatus, with inclination adjusting system |
US6286775B1 (en) | 1998-03-19 | 2001-09-11 | Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. | Magnetic recording apparatus |
US6288865B1 (en) | 1998-03-19 | 2001-09-11 | Matshushita Electric Industrial Co. Ltd | Magnetic recording/reproduction apparatus having a mechanism for moving a sub-chassis relative to a main chassis |
US6671122B2 (en) | 1998-03-19 | 2003-12-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording/reproduction apparatus |
JP2009203349A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Fujifilm Corp | フォトレジスト用化合物、フォトレジスト液、およびこれを用いるエッチング方法 |
WO2012096138A1 (ja) | 2011-01-12 | 2012-07-19 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
EP2492322A1 (en) | 2011-02-23 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Ink composition, image forming method, and printed material |
WO2014030515A1 (ja) | 2012-08-22 | 2014-02-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070144384A1 (en) | 2004-05-19 | 2007-06-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd | Image recording method |
EP2618215B1 (en) | 2004-05-31 | 2017-07-05 | Fujifilm Corporation | Method for producing a lithographic printing plate |
JP2006021396A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
EP1630618B1 (en) | 2004-08-24 | 2008-03-19 | FUJIFILM Corporation | Method for producing a lithographic printing plate |
US20060150846A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co. Ltd | Lithographic printing method |
JP2007055224A (ja) | 2005-01-26 | 2007-03-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷方法および平版印刷版原版の梱包体 |
EP3086177B1 (en) | 2005-02-28 | 2018-11-14 | Fujifilm Corporation | Method for preparing a lithographic printing place precursor |
JP4815270B2 (ja) | 2005-08-18 | 2011-11-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び作製装置 |
-
1985
- 1985-03-06 JP JP4402785A patent/JPS61203443A/ja active Granted
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02131236A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
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US6671122B2 (en) | 1998-03-19 | 2003-12-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording/reproduction apparatus |
JP2009203349A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Fujifilm Corp | フォトレジスト用化合物、フォトレジスト液、およびこれを用いるエッチング方法 |
WO2012096138A1 (ja) | 2011-01-12 | 2012-07-19 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法及び印画物 |
EP2492322A1 (en) | 2011-02-23 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Ink composition, image forming method, and printed material |
WO2014030515A1 (ja) | 2012-08-22 | 2014-02-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0547095B2 (ja) | 1993-07-15 |
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Legal Events
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