JPS61180205A - 平面フレネルレンズとその製造方法 - Google Patents
平面フレネルレンズとその製造方法Info
- Publication number
- JPS61180205A JPS61180205A JP2114485A JP2114485A JPS61180205A JP S61180205 A JPS61180205 A JP S61180205A JP 2114485 A JP2114485 A JP 2114485A JP 2114485 A JP2114485 A JP 2114485A JP S61180205 A JPS61180205 A JP S61180205A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- lens
- refractive index
- titanium
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
- G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings
- G02B6/1245—Geodesic lenses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は平面導波光を面内において集束させる機能を有
するフレネルレンズとその製造方法に関する。
するフレネルレンズとその製造方法に関する。
（従来の技術およびその問題点）
一般に、コヒーレントな光学処理技術は、並列処理がで
き、高速であるという特徴があるため、コリレージ百ン
などのような信号処理装置への応用に適している。この
信号処理装置を実現するために、光学ガラスや光学結靜
などを基板とし、この表面に基板よりも屈折率の高い層
を設け、この高屈折率層にエネルギーを集中させて伝搬
する平面導波光の波面やエネルギー伝搬方向を制御する
光回路が、最近さかんに研究されている。このような平
部光回路に用いられる平面レンズは、結像作用やフーリ
エ変換作用の働きを持ち、平面光回路を構成する重要な
部品である。このような平面レンズとしてジオデシック
レンズ、ルネプルグレンズ、グレーティングνンズ、平
面フレネルレンズ等のレンズが知られている。なかでも
平面フレネルレンズは、マスク転写による作成が可能な
ため、位置決め精度が極めて良いという特徴を持ってい
る。
き、高速であるという特徴があるため、コリレージ百ン
などのような信号処理装置への応用に適している。この
信号処理装置を実現するために、光学ガラスや光学結靜
などを基板とし、この表面に基板よりも屈折率の高い層
を設け、この高屈折率層にエネルギーを集中させて伝搬
する平面導波光の波面やエネルギー伝搬方向を制御する
光回路が、最近さかんに研究されている。このような平
部光回路に用いられる平面レンズは、結像作用やフーリ
エ変換作用の働きを持ち、平面光回路を構成する重要な
部品である。このような平面レンズとしてジオデシック
レンズ、ルネプルグレンズ、グレーティングνンズ、平
面フレネルレンズ等のレンズが知られている。なかでも
平面フレネルレンズは、マスク転写による作成が可能な
ため、位置決め精度が極めて良いという特徴を持ってい
る。
従来、リチウムナイオベイト基板の基板表面近傍に拡散
イオン濃度が基板面内で不均一になる領域を形成して平
面７レネルレンズを作る方法が知られている（特開昭５
８−１５６９０６）。第３図はこの平面フレネルレンズ
の構造を示す斜視図である。
イオン濃度が基板面内で不均一になる領域を形成して平
面７レネルレンズを作る方法が知られている（特開昭５
８−１５６９０６）。第３図はこの平面フレネルレンズ
の構造を示す斜視図である。
この平面フレネルレンズは、リチウムナイオベイト基板
３１の表面近傍にチタンを熱拡散して光導波路３２を形
成し、この光導波路３２の一部にチタン渉′度を高めた
周囲よりも屈折率の高い部分をレンズ部３３としている
。
３１の表面近傍にチタンを熱拡散して光導波路３２を形
成し、この光導波路３２の一部にチタン渉′度を高めた
周囲よりも屈折率の高い部分をレンズ部３３としている
。
平面フレネルレンズでは、レンズの中心線３６から入射
導波光の伝搬方向と垂直な方向にＸだけ離れた位置を透
過する導波光の位相の遅れφ（Ｘ）φ（ｘ）＝−Ｃｋｏ
ｎ＊／２ｆ＞’＋２ｍπ ・・・−−−−−−（１）
ｘｒＩｌ＜Ｉ ｘ ｌ イＸｍ＋１ である。但しＸｍはφ（Ｘ）が０または２πになる点で
ある。ここでに０はに０−２π／λ、λは入射導波光の
波長、ｎｏは光導波層の屈折率、ｆはレンズの焦点距離
、ｍは上記の不等式を満足する自然数である。この位相
遅れにより平行に入射した導波光３４は梵束作用を受は
集束点３５に電光される。
導波光の伝搬方向と垂直な方向にＸだけ離れた位置を透
過する導波光の位相の遅れφ（Ｘ）φ（ｘ）＝−Ｃｋｏ
ｎ＊／２ｆ＞’＋２ｍπ ・・・−−−−−−（１）
ｘｒＩｌ＜Ｉ ｘ ｌ イＸｍ＋１ である。但しＸｍはφ（Ｘ）が０または２πになる点で
ある。ここでに０はに０−２π／λ、λは入射導波光の
波長、ｎｏは光導波層の屈折率、ｆはレンズの焦点距離
、ｍは上記の不等式を満足する自然数である。この位相
遅れにより平行に入射した導波光３４は梵束作用を受は
集束点３５に電光される。
また（１）式で示すような位相遅れは、導波光の透過方
向の幅Ｌ（ｘ）が次の（２）式のように連続的に変化す
るフレネルゾーンを複数個配列して実現している。
向の幅Ｌ（ｘ）が次の（２）式のように連続的に変化す
るフレネルゾーンを複数個配列して実現している。
Ｌ（Ｘ）−Ｌｍ、、（φ（ｘ）／２π＋１〕 ・・
・・・・・−（２）但しＬ＠！は光伝搬方向の幅の最大
値、つまりレンズ厚である。
・・・・・−（２）但しＬ＠！は光伝搬方向の幅の最大
値、つまりレンズ厚である。
しかるに、上で述べた平面フレネルレンズには回折効率
が低いという欠点がある。一般にフレネルレンズでは式
（１）のφ（Ｘ）の位相差を与えるためには、レンズ厚
がゼロに近いことが必要であるが、実際のレンズの有限
の厚さを持つ近似的実現法になっている。特にレンズ周
辺部のゾーン周期が小さい部分では周期に対するレンズ
の厚さが回折効率低下という意味で問題となることが第
１４回画像工学コンファレンス論文集の２５９ページに
西原浩氏による論文［新しいマイクロフレネルレンズ」
で述べられている。前記のような構成では、レンズ部３
３のチタン濃度を高めて光導波路３２よりも屈折率を高
くしているが、ＴＥ波すなわち基板に平行な光電界成分
を有する導波光が光導波路３２からレンズ部３３を伝搬
する時、この導波光に対する等価屈折率の間の差は最大
１．０Ｘ１０′程度と小さい。このため式（１）のφ（
Ｘ）の位相差を与えるレンズ厚Ｌｍａｘが大きくなって
しまい、特にレンズ周辺部のゾーン周期が小さい部分で
は、ゾーン周期に比べてレンズの厚さが厚くなってしま
い回折効率が低下する。例えば前記の構造で光導波路部
に厚さ３００ｋ、レンズ部に６００Ａのチタン斡を設け
て１０（１０℃で５時間拡散すると、ＴＥ波が光導波路
からレンズ部を伝搬する時、この導波光に対する等価屈
折率の間の差は６Ｘ１０”程度となる。上記の条件で口
径１．９ｍｍ＋ 焦点距離５ｍｍ のレンズを実現する
と最も外側のゾーンの周期１．５ μｍ に対して波
長０．６３２８／ｊｍのＨｅ −Ｎｅレーザー光でのレ
ンズ厚は１０６μｍと非常に大きくなる。このため回折
効率は、３０％以下の低い値となる。また上記の数値例
よ如もさらに口径を大きくすると、外側のゾーン周期が
小さくなり、さらに回折効率は低下する。従って従来の
構造では大口径レンズは回折効率が非常に低いため実用
には適さない。
が低いという欠点がある。一般にフレネルレンズでは式
（１）のφ（Ｘ）の位相差を与えるためには、レンズ厚
がゼロに近いことが必要であるが、実際のレンズの有限
の厚さを持つ近似的実現法になっている。特にレンズ周
辺部のゾーン周期が小さい部分では周期に対するレンズ
の厚さが回折効率低下という意味で問題となることが第
１４回画像工学コンファレンス論文集の２５９ページに
西原浩氏による論文［新しいマイクロフレネルレンズ」
で述べられている。前記のような構成では、レンズ部３
３のチタン濃度を高めて光導波路３２よりも屈折率を高
くしているが、ＴＥ波すなわち基板に平行な光電界成分
を有する導波光が光導波路３２からレンズ部３３を伝搬
する時、この導波光に対する等価屈折率の間の差は最大
１．０Ｘ１０′程度と小さい。このため式（１）のφ（
Ｘ）の位相差を与えるレンズ厚Ｌｍａｘが大きくなって
しまい、特にレンズ周辺部のゾーン周期が小さい部分で
は、ゾーン周期に比べてレンズの厚さが厚くなってしま
い回折効率が低下する。例えば前記の構造で光導波路部
に厚さ３００ｋ、レンズ部に６００Ａのチタン斡を設け
て１０（１０℃で５時間拡散すると、ＴＥ波が光導波路
からレンズ部を伝搬する時、この導波光に対する等価屈
折率の間の差は６Ｘ１０”程度となる。上記の条件で口
径１．９ｍｍ＋ 焦点距離５ｍｍ のレンズを実現する
と最も外側のゾーンの周期１．５ μｍ に対して波
長０．６３２８／ｊｍのＨｅ −Ｎｅレーザー光でのレ
ンズ厚は１０６μｍと非常に大きくなる。このため回折
効率は、３０％以下の低い値となる。また上記の数値例
よ如もさらに口径を大きくすると、外側のゾーン周期が
小さくなり、さらに回折効率は低下する。従って従来の
構造では大口径レンズは回折効率が非常に低いため実用
には適さない。
（発明の目的）
本発明の目的は、従来の平面フレネルレンズの欠点を除
去し、口径の太き々フレネルレンズでも回折効率の高い
レンズを作ることのできる構造とその製造方法を提供す
ることにおる。
去し、口径の太き々フレネルレンズでも回折効率の高い
レンズを作ることのできる構造とその製造方法を提供す
ることにおる。
（発明の構成）
本発明によれば、誘電体基板上に金属を拡散した平面光
導波路と、拡散した金属の濃度を高めて平面光導波路よ
り屈折率を高くした高屈折率光導波路部からなる平面フ
レネルレンズにおいて、高屈折率光導波路部と平面光導
波路の境界で段差を設けて高屈折率光導波路部の層厚を
平面光導波路の層厚より厚くしたことを特徴とする平面
フレネルレンズが得られる。また本発明によれば、誘電
体基板上に均一な層厚の金属膜を形成し、拡散して平面
光導波路を設け、この平面先導波路上にレンズパターン
状の金属膜を形成し、この金属膜をマスクとして平面光
導波路をエツチングして層厚を減少させた後、マスクと
して用いた金属膜を再び拡散することを％徴とする平面
フレネルレンズの製造方法が得られる。
導波路と、拡散した金属の濃度を高めて平面光導波路よ
り屈折率を高くした高屈折率光導波路部からなる平面フ
レネルレンズにおいて、高屈折率光導波路部と平面光導
波路の境界で段差を設けて高屈折率光導波路部の層厚を
平面光導波路の層厚より厚くしたことを特徴とする平面
フレネルレンズが得られる。また本発明によれば、誘電
体基板上に均一な層厚の金属膜を形成し、拡散して平面
光導波路を設け、この平面先導波路上にレンズパターン
状の金属膜を形成し、この金属膜をマスクとして平面光
導波路をエツチングして層厚を減少させた後、マスクと
して用いた金属膜を再び拡散することを％徴とする平面
フレネルレンズの製造方法が得られる。
（構成の詳細な説明）
本発明は、平面フレネルレンズにおいて上記の構造によ
り従米技術の欠点を解決した。
り従米技術の欠点を解決した。
本発明では、レンズ部以外の導波路部を堀り込むことに
よって、金属濃度の差に加えて光導波層の厚みが導波路
部よりもレンズ部で大きくなるため、レンズ部の等側屈
折率の増加分が従来例よりも大きくなる。従ってフレネ
ルレンズを実現するだめのレンズの厚みは従来よりも薄
くなり、大口径で回折効率の高い平面フレネルレンズの
実現が可能となる。しかも本発明の製造方法によればレ
ンズ部に拡散する金属膜を光導波路をエツチングする時
のマスクとして用いて熱拡散するため容易にしかも精度
よく上記の構造を製作することができる。
よって、金属濃度の差に加えて光導波層の厚みが導波路
部よりもレンズ部で大きくなるため、レンズ部の等側屈
折率の増加分が従来例よりも大きくなる。従ってフレネ
ルレンズを実現するだめのレンズの厚みは従来よりも薄
くなり、大口径で回折効率の高い平面フレネルレンズの
実現が可能となる。しかも本発明の製造方法によればレ
ンズ部に拡散する金属膜を光導波路をエツチングする時
のマスクとして用いて熱拡散するため容易にしかも精度
よく上記の構造を製作することができる。
（実施例）
以下本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明の１実施例を示す斜視図である。
この平面フレネルレンズは、リチウムナイオベイト基板
１１の表面にチタン膜を形成し、チタンを熱拡散して光
導波路１２を形成し、次に、レンズ部１３を除いて光導
波路１２の表面を掘り込み、さらにレンズ部１３のチタ
ン濃度を高めて周囲よりも屈折率を高くしている。また
レンズ部の形状については、従来例と同様に導波光の透
過方向の幅Ｌ（ｘ）が（２）式のように変化している。
１１の表面にチタン膜を形成し、チタンを熱拡散して光
導波路１２を形成し、次に、レンズ部１３を除いて光導
波路１２の表面を掘り込み、さらにレンズ部１３のチタ
ン濃度を高めて周囲よりも屈折率を高くしている。また
レンズ部の形状については、従来例と同様に導波光の透
過方向の幅Ｌ（ｘ）が（２）式のように変化している。
但し、レンズ厚Ｌｍａｘ は従来例よりも小さな値とな
る。
る。
このような構造によっても、レンズに平行に入射した導
波光１４は集束点１５に集光される。
波光１４は集束点１５に集光される。
第２図は上記のような構造を実現するための平面フレネ
ルレンズの製造方法を示す断面図である。
ルレンズの製造方法を示す断面図である。
第２図（ａ）において、リチウムナイオベイト基板１１
０表面にチタン棹を形成し、表面近傍にチタンを熱拡散
させて光導波路１２を設ける。次に、第２図（ｂ）に示
すように、この光導波路１２の上に通常のリングラフィ
技術によってフレネルレンズパターン状のチタン膜２４
を形成する。次に、第２図（ｅ）に示すように、レンズ
パターン状に形成されたチタン膜２４をマスクとして、
アルゴンと酸素の混合ガスによるイオンビームエツチン
グ、またはフッ化炭素（ＣＦ、）による反応性スパッタ
エツチング等によって、レンズパターン状のチタンｖ＃
２４で被われた部分以外の光導波路１２をエツチングし
て光導波路１２の厚みを薄くする。次にエツチング後、
残ったチタン膜２４を再び熱拡散し、レンズ部のチタン
濃度を高めて周囲よりも屈折率を高める。このようにし
て第１図に示したような平面フレネルレンズを完成する
ことができる。
０表面にチタン棹を形成し、表面近傍にチタンを熱拡散
させて光導波路１２を設ける。次に、第２図（ｂ）に示
すように、この光導波路１２の上に通常のリングラフィ
技術によってフレネルレンズパターン状のチタン膜２４
を形成する。次に、第２図（ｅ）に示すように、レンズ
パターン状に形成されたチタン膜２４をマスクとして、
アルゴンと酸素の混合ガスによるイオンビームエツチン
グ、またはフッ化炭素（ＣＦ、）による反応性スパッタ
エツチング等によって、レンズパターン状のチタンｖ＃
２４で被われた部分以外の光導波路１２をエツチングし
て光導波路１２の厚みを薄くする。次にエツチング後、
残ったチタン膜２４を再び熱拡散し、レンズ部のチタン
濃度を高めて周囲よりも屈折率を高める。このようにし
て第１図に示したような平面フレネルレンズを完成する
ことができる。
次に具体例を示す。第２図（ａ）において、リチウムナ
イオベイト基板１１の表面に設けた厚さ９００にのチタ
ン膜を１０５０℃で６時間熱拡散して、光導波路１２を
設ける。次に第２図（ｂ）において、厚さ３３００Ａの
チタン膜２４をフレネルレンズパターン状に設ける。次
に第２図（Ｃ）に示すように、上記チタン膜２４をマス
クとしてアルゴンと酸素の混合ガスによるイオンエツチ
ングを加速電圧５００ Ｖ、イオン電流密Ｊｊｔ Ｏ，
５ｍＡ／ｃｍ２ で１０分間行うことにより、光導波路
１２を２５μｍの深さだけエツチングする。この時、マ
スクのチタン膜２４はイオンエツチング後、厚さは８０
０人に減少する。
イオベイト基板１１の表面に設けた厚さ９００にのチタ
ン膜を１０５０℃で６時間熱拡散して、光導波路１２を
設ける。次に第２図（ｂ）において、厚さ３３００Ａの
チタン膜２４をフレネルレンズパターン状に設ける。次
に第２図（Ｃ）に示すように、上記チタン膜２４をマス
クとしてアルゴンと酸素の混合ガスによるイオンエツチ
ングを加速電圧５００ Ｖ、イオン電流密Ｊｊｔ Ｏ，
５ｍＡ／ｃｍ２ で１０分間行うことにより、光導波路
１２を２５μｍの深さだけエツチングする。この時、マ
スクのチタン膜２４はイオンエツチング後、厚さは８０
０人に減少する。
次に、第２図（ｄ）において、厚さ８００λのチタン１
１１’２４を１０５０℃で６時間熱拡散する。上記のよ
うにすると、光導波路１２は厚み３０μｍ１表面に発生
する屈折率差４Ｘ１０ 、レンズ部１３は厚み５０μ
ｍ１表面に発生する屈折率差２．２Ｘ１０−２が実現で
きる。この光導波路１２を伝搬するＴＥモードに対する
等価屈折率差は２．０Ｘ１０ ”であり、レンズ部１３
を伝搬する時は２．０Ｘ１０−２となシ両者の等価屈折
率差は１．８Ｘ１０−２となる。このような条件でフレ
ネルレンズを実現すると、レンズ厚ＩＪｒａａｘは波長
０．６３２８μｍのＨｅ−Ｊｌｅｖ−ブー光に対して３
５μｍ と小さくなる。これにより回折効率は６０％程
度に改善できる。
１１’２４を１０５０℃で６時間熱拡散する。上記のよ
うにすると、光導波路１２は厚み３０μｍ１表面に発生
する屈折率差４Ｘ１０ 、レンズ部１３は厚み５０μ
ｍ１表面に発生する屈折率差２．２Ｘ１０−２が実現で
きる。この光導波路１２を伝搬するＴＥモードに対する
等価屈折率差は２．０Ｘ１０ ”であり、レンズ部１３
を伝搬する時は２．０Ｘ１０−２となシ両者の等価屈折
率差は１．８Ｘ１０−２となる。このような条件でフレ
ネルレンズを実現すると、レンズ厚ＩＪｒａａｘは波長
０．６３２８μｍのＨｅ−Ｊｌｅｖ−ブー光に対して３
５μｍ と小さくなる。これにより回折効率は６０％程
度に改善できる。
実施例では誘電体基板にリチウムナイオベイトを用い、
これに金属チタンを熱拡散して形成する平面フレネルレ
ンズの例を述べたが、本発明は誘電体基板にリチウムタ
ンタレイトを用い、拡散物をニオブとした場合のように
誘電体基板に金属を拡散して低損失な光導波路を形成で
きる全ての組み合わせからなる平面７レネルレンズに適
用できる。
これに金属チタンを熱拡散して形成する平面フレネルレ
ンズの例を述べたが、本発明は誘電体基板にリチウムタ
ンタレイトを用い、拡散物をニオブとした場合のように
誘電体基板に金属を拡散して低損失な光導波路を形成で
きる全ての組み合わせからなる平面７レネルレンズに適
用できる。
（発明の効果）
第１図に示したように、本発明によるフレネルレンズの
構造では、レンズ部１３と光導波路１２でチタン濃度の
差による屈折率差に加え、光導波層の厚みをレンズ部よ
りも薄くしている。このためレンズ部１３と光導波路部
１２を伝搬する光ビームに対する等側屈折率のそれぞれ
の差は従来例のようなチタン濃度差だけの場合よりも大
きくなる。従って従来例とその問題点の項で記した理由
により、本発明の構造によればレンズ厚を薄くすること
が可能となり大口径で回折効率の高い平面レンズが得ら
れる。第２図に示した本発明のよる製造方法によれば、
光導波路１２をエツチングする時にマスクとして用いた
チタン肱２４をレンズ部１３に熱拡散するため、レンズ
部１３だけにチタンを熱拡散する工程とレンズ部１３以
外の光導波路１２をエツチングする工程を別々に行う時
に必要な目合わせ工程が不要となり、容易にしかも精度
よく上記構造を実現できる。
構造では、レンズ部１３と光導波路１２でチタン濃度の
差による屈折率差に加え、光導波層の厚みをレンズ部よ
りも薄くしている。このためレンズ部１３と光導波路部
１２を伝搬する光ビームに対する等側屈折率のそれぞれ
の差は従来例のようなチタン濃度差だけの場合よりも大
きくなる。従って従来例とその問題点の項で記した理由
により、本発明の構造によればレンズ厚を薄くすること
が可能となり大口径で回折効率の高い平面レンズが得ら
れる。第２図に示した本発明のよる製造方法によれば、
光導波路１２をエツチングする時にマスクとして用いた
チタン肱２４をレンズ部１３に熱拡散するため、レンズ
部１３だけにチタンを熱拡散する工程とレンズ部１３以
外の光導波路１２をエツチングする工程を別々に行う時
に必要な目合わせ工程が不要となり、容易にしかも精度
よく上記構造を実現できる。
第１図は本発明の１実施例の平面フレネルレンズを示す
斜視図、第２図（ａ）〜（ｄ）は本発明の平面フレネル
レンズの製造方法を工程順に示す断面図、第３図は従来
の平面フレネルレンズを示す斜視図である。 １１．３１・・・・・・リチウムイオベイト基板、１２
゜３２・・・・・・光導波路、１３．３３・・・・・・
レンズ部、１４．３４・・・・・・平面フレネルレンズ
に平行に入射する導波光、２４・・・・・・レンズパタ
ーン状のチタンＩ１％、１５．３５・・・・・・導波光
が集束される集束点、３６・・・・・・光伝搬方向のレ
ンズの中心線。
斜視図、第２図（ａ）〜（ｄ）は本発明の平面フレネル
レンズの製造方法を工程順に示す断面図、第３図は従来
の平面フレネルレンズを示す斜視図である。 １１．３１・・・・・・リチウムイオベイト基板、１２
゜３２・・・・・・光導波路、１３．３３・・・・・・
レンズ部、１４．３４・・・・・・平面フレネルレンズ
に平行に入射する導波光、２４・・・・・・レンズパタ
ーン状のチタンＩ１％、１５．３５・・・・・・導波光
が集束される集束点、３６・・・・・・光伝搬方向のレ
ンズの中心線。
Claims (2)
- （１）誘電体基板に金属を拡散してなる平面光導波路と
、前記金属の拡散濃度を高めて前記平面光導波路より屈
折率を高くした高屈折率光導波路部からなる平面フレネ
ルレンズにおいて、前記高屈折率光導波路部と前記平面
光導波路の境界で段差を設けて、前記高屈折率光導波路
部の層厚を前記平面光導波路の層厚より厚くしたことを
特徴とする平面フレネルレンズ。 - （２）誘電体基板上に均一な膜厚の金属膜を形成し、こ
れを拡散して平面光導波路を設け、さらに前記平面光導
波路上にレンズパターンと同一の形状を有する金属膜を
形成し、この金属膜をマスクとして前記平面光導波路を
エッチングして層厚を減少させた後、マスクとして用い
た前記金属膜を再び拡散することを特徴とする平面フレ
ネルレンズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2114485A JPS61180205A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 平面フレネルレンズとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2114485A JPS61180205A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 平面フレネルレンズとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61180205A true JPS61180205A (ja) | 1986-08-12 |
Family
ID=12046699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2114485A Pending JPS61180205A (ja) | 1985-02-06 | 1985-02-06 | 平面フレネルレンズとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61180205A (ja) |
-
1985
- 1985-02-06 JP JP2114485A patent/JPS61180205A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3438140B2 (ja) | 光信号処理回路及びその製造方法 | |
| Katzir et al. | Chirped gratings in integrated optics | |
| US4445759A (en) | Integrated Fresnel lens and its production process | |
| US4711514A (en) | Product of and process for forming tapered waveguides | |
| US4136439A (en) | Method for the production of a light conductor structure with interlying electrodes | |
| US4080244A (en) | Method for the production of a light conducting structure with interlying electrodes | |
| US9513441B2 (en) | Polarizing splitter and method for manufacturing same | |
| CN113687465B (zh) | 基于全介质超表面的表面等离激元近场聚焦透镜 | |
| JPS61180205A (ja) | 平面フレネルレンズとその製造方法 | |
| JPH0616121B2 (ja) | フレネルレンズおよびその製造方法 | |
| JPH08286160A (ja) | 音響光学フィルタ | |
| JPS5834408A (ja) | 光平面回路の製造方法 | |
| JPS6053904A (ja) | リッジ型光導波路 | |
| JPS6033531A (ja) | 光導波路レンズ | |
| JPH01257922A (ja) | 導波路型波長変換素子 | |
| JPS6079308A (ja) | 平面レンズの製造方法 | |
| GB2096344A (en) | Apparatus for changing the direction of waves guided along an interface | |
| JPS5821211A (ja) | 集積光学構造体の薄膜レンズ | |
| JPS635310A (ja) | 光接続回路の製造方法 | |
| JP3449243B2 (ja) | 光分岐回路及びその製造方法 | |
| JPS6033532A (ja) | 可変焦点光素子 | |
| JP2645595B2 (ja) | 光導波形レンズの作製方法 | |
| JPH09211501A (ja) | 熱光学光スイッチ | |
| JPS6289910A (ja) | ジオデシツクレンズおよびその製造方法 | |
| JPH0317681A (ja) | 電子ビーム描画によるホログラムの形成方法 |