JPS61172147A - Correcting agent for lithographic printing plate - Google Patents
Correcting agent for lithographic printing plateInfo
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- JPS61172147A JPS61172147A JP1326285A JP1326285A JPS61172147A JP S61172147 A JPS61172147 A JP S61172147A JP 1326285 A JP1326285 A JP 1326285A JP 1326285 A JP1326285 A JP 1326285A JP S61172147 A JPS61172147 A JP S61172147A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は平版印刷版の修正剤に関するものであり、さら
に詳しくは平版印刷版の不要な画像部(印刷インキを受
容する領域)を消去するために使用される修正剤に関す
るものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a corrector for lithographic printing plates, and more specifically, for erasing unnecessary image areas (areas that receive printing ink) of lithographic printing plates. The present invention relates to a correction agent used for
(従来技術)
平版印刷版たとえば写真製版により製造されるような平
版印刷版では、必然的に生ずる不必要な画像や削除訂正
が必要な画像部が生ずることがあって、修正することが
必要となる。−例を挙げれば例えばオリジナルフィルム
の汚れ、キズ、切口等によって印刷版面に露光過不足が
起き、これにより不要の画像部が生じ、これを修正する
ことが必要となる。(Prior Art) Lithographic printing plates For example, in lithographic printing plates such as those produced by photolithography, unnecessary images or image areas that need to be deleted or corrected may inevitably occur, making it necessary to correct them. Become. - For example, stains, scratches, cuts, etc. in the original film may cause over- or under-exposure of the printing plate surface, resulting in unwanted image areas that need to be corrected.
このような平版印刷版の不要な画像部を除去する修正剤
としては、古くは濃厚な強アルカリ性溶液または弗化水
素酸を含有する酸性溶液で、支持体を腐食すると共に画
像部をとり除くものが知られていた。しかし、人体、皮
膚等に対する危険性から種々改良がなされた。例えば特
公昭46−16047号公報記載のa)グリコール、ポ
リグリコール、グリコールエーテル又はポリグリコール
エーテル田〜60重t%、b) a)で挙げた以外の中
性有機溶剤10−関重量%、C)水3〜25重量%、d
)酸性物質0.5〜15重量%、e)粘稠剤5〜25重
量%を含有する組成物、また特開昭54−89806号
公報記載のa)有機溶剤50〜90重f%、b)界面活
性剤3〜加重量%、C)アラビアガム0.5〜5重量%
、d)リン酸0.5〜15重t%を含有する組成物等が
ある。Correcting agents for removing unnecessary image areas from such lithographic printing plates have traditionally been concentrated strong alkaline solutions or acidic solutions containing hydrofluoric acid, which corrode the support and remove image areas. It was known. However, due to the danger to the human body, skin, etc., various improvements have been made. For example, a) Glycol, polyglycol, glycol ether or polyglycol ether described in Japanese Patent Publication No. 46-16047, b) 10% by weight of neutral organic solvents other than those listed in a), C ) 3-25% by weight of water, d
) compositions containing 0.5 to 15% by weight of acidic substances, e) 5 to 25% by weight of thickening agents; a) 50 to 90% by weight of organic solvents; ) Surfactant 3-5% by weight, C) Gum arabic 0.5-5% by weight
, d) compositions containing 0.5 to 15% by weight of phosphoric acid.
ところが近年の平版印刷版の高耐刷力化(印刷の耐久性
増加)指向と画像部の強化による修正剤への溶解度低下
、これによる修正の困難性が増加してきた。具体的−例
を挙げれば、例えば従来の修正剤を用いて一見消去され
たかのごとく見えても完全には消去されず、画像部が残
留し、印刷時にこの部分に印刷インキが付着しやすくな
り、印刷物に汚れを生ずるなどである。また、加えて修
正作業の迅速化が強く望まれ、従来のままの性能では不
充分となっていた。However, in recent years, there has been a trend toward higher printing durability (increased printing durability) of lithographic printing plates, and the strengthening of image areas has lowered the solubility in correction agents, making corrections increasingly difficult. To give a specific example, for example, even if it appears to have been erased using a conventional correction agent, it is not completely erased, and an image area remains, making it easy for printing ink to adhere to this area during printing. This can cause stains on printed matter. In addition, there was a strong desire to speed up the correction work, and the conventional performance was insufficient.
発明の目的
そこで本発明の目的は、不要な画像部を迅速に消去する
ことができる平版印刷版の修正剤を提供することにある
。OBJECTS OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate corrector that can quickly erase unnecessary image areas.
本発明の更に他の目的は、画像部の強じんな高耐刷型の
平版印刷版の不要な画像部を完全に消去可能な、修正剤
を提供することにある。Still another object of the present invention is to provide a correcting agent which is capable of completely erasing unnecessary image areas of a lithographic printing plate having a strong image area and having a high printing durability.
発明の構成
本発明者等は上記目的を達成するため鋭意研究を重ねた
結果、本発明をなすに至りたものであり、その要旨はグ
リコール系化合物、酸性物質、増粘剤を含有する平版印
刷版の修正剤において、該グリコール系化合物が下記一
般式〔I〕の構造をもつものであり、
(I)
R3:水素または炭素数1〜2の
アルキル基
R2:炭素数2〜4のアルキレン
基またはアルケニレン基
n:1〜3の整数
該酸性物質が含フッ素酸であることを特徴とするもので
ある。Structure of the Invention The present inventors have conducted intensive research to achieve the above object, and as a result, have arrived at the present invention. In the plate correction agent, the glycol compound has the structure of the following general formula [I], (I) R3: hydrogen or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms R2: an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms or alkenylene group n: an integer of 1 to 3. The acidic substance is a fluorine-containing acid.
上記一般式〔I〕の構造を有する化合物、および含弗素
酸、増粘剤を含有する本発明の修正剤は、その成分の1
つを欠いたものに較べて著しく消去性が高く、しかも近
接画線(消去すべき画像部に近接する必要な画線部)に
対して何ら悪影響を及ばさない優れた性能を有している
ことが判明した。The modifier of the present invention, which contains a compound having the structure of general formula [I] above, a fluoric acid, and a thickener, has one of its components.
It has significantly higher erasability than those lacking one, and also has excellent performance that does not have any negative effect on adjacent lines (necessary lines close to the image area to be erased). It has been found.
特に弗素化合物の使用を避けることから始まって供せら
れた、グリコール系化合物、酸性物質、増粘剤を含有す
る修正剤を用いて、−見消去されたかのごとく見える部
分に残留するものが、本発明の修正剤によってのみ特異
的に、完全に除去される。In particular, using correction agents containing glycol compounds, acids, and thickeners, which were developed to avoid the use of fluorine compounds, what remains in the areas that appear to have been erased can be removed. It is specifically and completely removed only by the inventive modifier.
以下本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.
本発明の修正剤に含有する一般式〔I〕を満足する化合
物の具体例としては、例えばエチレングリコールモノフ
ェニル(マタはトリル)エーテル、グロビレングリコー
ルモノフェニル(またはトリル)エーテル、ジエチレン
クリコールモノフェニル(またはトリル)エーテル、ジ
エチレンクリコールモノフェニル(マたはトリル)エー
テル、トリエチレングリコールモノフェニル(1?、t
!トリル)エーテル、トリフロピレンゲリコールモノフ
ェニル(またはトリル)エーテル、トリメチレングリコ
ールモノフェニル(t タ)! ) +フル)エーテル
、ジ−トリメチレングリコールモノフェニル(またはト
リル)エーテル、トリー(トリメチレフ り17 =r
−ル)モノフェニル(またはトリル)エーテル等を挙げ
ることができる。Specific examples of the compound satisfying the general formula [I] contained in the modifier of the present invention include ethylene glycol monophenyl (or tolyl) ether, globylene glycol monophenyl (or tolyl) ether, diethylene glycol monophenyl (or tolyl) ether, Phenyl (or tolyl) ether, diethylene glycol monophenyl (or tolyl) ether, triethylene glycol monophenyl (1?, t)
! Tolyl) ether, triflopylene gelylcol monophenyl (or tolyl) ether, trimethylene glycol monophenyl (t ta)! ) + full) ether, di-trimethylene glycol monophenyl (or tolyl) ether, tri(trimethylene glycol) 17 = r
-l) monophenyl (or tolyl) ether, and the like.
また、これらの化合物にフッ素、臭素、塩素、ヨウ素等
のハロゲン原子を付加させたものも挙げられる。Also included are compounds obtained by adding halogen atoms such as fluorine, bromine, chlorine, and iodine to these compounds.
これらの中で、エチレングリコールモノフェニル(また
はトリル)エーテル、グロビレングリコールモノフェニ
ル(マタはトリル)ニーテルハ画像部の消去性が高いの
で好ましい。Among these, ethylene glycol monophenyl (or tolyl) ether and globylene glycol monophenyl (or tolyl) ether are preferred because they have high erasability in the image area.
上記一般式〔I〕を満足する化合物は、単独もしくは2
種以上組み合わせて使用することができ本発明の修正剤
の総重量に対して5〜90重量%、含有させるのが好ま
しく、より好ましくはlO〜85重童%、最も好ましく
は15〜80重量%の範囲で含有させられる。The compound satisfying the above general formula [I] may be used alone or in combination.
It is preferable to contain 5 to 90% by weight, more preferably 10 to 85% by weight, most preferably 15 to 80% by weight based on the total weight of the corrector of the present invention. It can be contained within the range of .
前記含フッ素酸としては、例えばフッ化水素酸、フッ化
水素フッ化カリウム、フッ化水素フッ化ナトリウム、フ
ッ化水素フッ化リチウム、ホウ弗化水素酸、ケイ弗化水
素酸、フッ化ジルコン酸、ノ・フニウムフッ化水素酸、
チタニウム7ツ化水素酸等である。フッ化水素酸、7ツ
化水素フッ化カリウム、フッ化水素フッ化ナトリウム、
フッ化水素フッ化リチウム、ホウ弗化水素酸、ケイフッ
化水素酸、フッ化ジルコン酸は、より消去性能がすぐれ
ているため好ましい。更に好ましくは、フッ化水素酸、
ホウフッ化水素酸、ケイフッ化水素酸であり、最も好ま
しくはフッ化水素酸である。Examples of the fluorine-containing acids include hydrofluoric acid, potassium hydrogen fluoride, sodium hydrogen fluoride, lithium hydrogen fluoride, borofluoric acid, hydrofluorosilicic acid, and zirconate fluoride. , no-funium hydrofluoric acid,
These include titanium heptatonic acid. Hydrofluoric acid, potassium hydrogen fluoride, sodium hydrogen fluoride,
Lithium hydrogen fluoride fluoride, borofluoric acid, hydrofluorosilicic acid, and fluorozirconic acid are preferable because they have better erasing performance. More preferably, hydrofluoric acid,
Hydrofluoroboric acid, hydrofluorosilicic acid, and most preferably hydrofluoric acid.
上記含フッ素酸は単独もしくは2種以上組み合わせて使
用することができ、本発明の修正剤の総重量に対して0
.1〜10重量%、好ましくは0.3〜5重量%含有さ
せるのが好ましく、特に好ましくは0.4〜3重量%の
範囲で含有させられる。The above fluorine-containing acids can be used alone or in combination of two or more, and are
.. It is preferably contained in an amount of 1 to 10% by weight, preferably 0.3 to 5% by weight, particularly preferably 0.4 to 3% by weight.
増粘剤としては、例えば珪酸微粉末等の無機増粘剤、例
えばメチルセルロース、ヒドロキシプロビルメチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロース・Na塩等の改質
セルロース、アラビアガム、ポリビニルピロリドン、ポ
リビニルメチルエーテル、ポリエチレングリコール、ポ
リプロビレ/グリコール、ビニルメチルエーテル−無水
マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−無水マレイン酸共重
合体等の高分子化合物が挙げられる。中でも改質セルロ
ース、ポリビニルピロリドン、上記二種の無水マレイン
酸共重合体が好ましく、最も好ましくは、ヒドロキシプ
ロビルメチルセルロース等の改質セルロース、ポリビニ
ルピロリドンである。これら増粘剤は単独でも、2種以
上混合して用いることもでき、希望の粘度となるよう添
加量を変えることができるが、好ましくは本発明の修正
剤に対して0.5〜25重量%、さらに好ましくは1〜
15重量%の範囲で用いられる。Examples of thickeners include inorganic thickeners such as silicic acid fine powder, modified cellulose such as methylcellulose, hydroxypropyl methylcellulose, carboxymethylcellulose/Na salt, gum arabic, polyvinylpyrrolidone, polyvinyl methyl ether, polyethylene glycol, and polypropylene. /glycol, vinyl methyl ether-maleic anhydride copolymer, and vinyl acetate-maleic anhydride copolymer. Among them, modified cellulose, polyvinylpyrrolidone, and the above-mentioned two types of maleic anhydride copolymers are preferred, and modified cellulose such as hydroxypropyl methylcellulose and polyvinylpyrrolidone are most preferred. These thickeners can be used alone or in a mixture of two or more, and the amount added can be changed to achieve the desired viscosity, but preferably 0.5 to 25% by weight based on the modifier of the present invention. %, more preferably 1~
It is used in a range of 15% by weight.
本発明の修正剤には、さらに前記一般式〔I〕以外の有
機溶媒、含弗素酸以外の酸性物質、水、界面活性剤、着
色色素等を選択的に添加することができ、これにより修
正剤性能をさらに高めることができる。以下それらにつ
いて具体的に説明する。The modifying agent of the present invention can further selectively contain organic solvents other than those represented by the general formula [I], acidic substances other than fluoric acid, water, surfactants, coloring pigments, etc. The agent performance can be further improved. These will be explained in detail below.
前記一般式〔I〕以外の有機溶媒としては、例えばエー
テル類、ケトン類、ラクトン類、アルコール類、有機酸
類、その他の炭化水素系溶媒等がある。エーテル類とし
てはグリコールエーテル類が代表的であり、具体的には
例えばエチレングリコールのメチル−、エチル−、イン
プロピル−、ブチル工−テルナとのエチレンクリコール
モノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキ
ルエーテル類、例えばジエチレングリコールのメチル−
、エチル−、イソプロピル−、イソブチルエーテルなど
のジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエ
チレングリコールジアルキルエーテル類、例えばトリエ
チレングリコールのメチル−、エチル−、ブチルエーテ
ルなどのトリエチレングリコールモノアルキルエーテル
類、トリエチレングリコールジアルキルエーテル類、例
えばエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート
、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテ−トナ
トノエチレングリコールモノアル中ルエーテルアセテー
ト類がある。ケトン類としては、例えばメチルエチルケ
トン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メ
チルアミルケトン、メチルへキシルケトン、ジエチルケ
トン、エチルブチルケトン、ブチロン、バレロン、メシ
チルオキシド、アセチルアセトン、アセトニルアセトン
、シクロヘキサノン、アセト酢酸エチル、メチルシクロ
ヘキサノン、アセトフェノン等が挙げられる。ラクトン
類としては、例えばブチロラクトン、バレロラクトン、
ヘキサノラクトンが挙げられる。アルコール類としては
、芳香族アルコール、脂環式アルコ−/L’、脂肪族−
価フルコール、多価アルコールが挙げられる。芳香族ア
ルコールには、例えばベンジルアルコール、α−フェニ
ルエチルアルコール、β−フェニルエチルアルコール、
トリルカルビノール、7タリルアルコール、フェニルプ
ロビルアルコール、バニリルアルコール等のヨウニ芳香
族炭化水素の側鎖が飽和しているもの及びシンナミルア
ルコールのよ5に芳香族炭化水素の側鎖が不飽和結合を
有しているものがある。脂環式アルコールには、例えば
シクロヘキサノール、シクロペンタノール、テルペンア
ルコールのホカラノリンのようなステリンがある。脂肪
族−価アルコールには、例えばメチルアルコール、エチ
ルアルコール、フロパノール、フタノール、ペンタノー
ル、ヘキサノール、ヘプタツール、オクタツール、ノナ
ノール、デカノール、ウンデカノール、ドデカノール、
トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール
、ヘキサデカノール、オクタデカノールなどの飽和脂肪
族−価アルコール、例エバアリルアルコール、オレイル
アルコール、エライシルアルコール、リルイルアルコー
ル、リルニルアルコール、ケラニオール、クロパルギル
アルコール等の不飽和脂肪族−価アルコールがある。多
価アルコールには、エチレングリコール、プロパンジオ
ール、等の二価アルコール、グリセリン等の三価アルコ
ール等がある。Examples of organic solvents other than those of the general formula [I] include ethers, ketones, lactones, alcohols, organic acids, and other hydrocarbon solvents. Typical ethers include glycol ethers, specifically ethylene glycol monoalkyl ethers and ethylene glycol dialkyl ethers of ethylene glycol with methyl, ethyl, impropyl, and butyl terna. , e.g. methyl of diethylene glycol
, diethylene glycol monoalkyl ethers such as ethyl, isopropyl, isobutyl ether, diethylene glycol dialkyl ethers, triethylene glycol monoalkyl ethers such as methyl, ethyl, butyl ether of triethylene glycol, triethylene glycol dialkyl ethers Examples include ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, and ethylene glycol monoalcohol ether acetate. Examples of ketones include methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl amyl ketone, methyl hexyl ketone, diethyl ketone, ethyl butyl ketone, butylone, valerone, mesityl oxide, acetylacetone, acetonylacetone, cyclohexanone, and ethyl acetoacetate. , methylcyclohexanone, acetophenone and the like. Examples of lactones include butyrolactone, valerolactone,
Examples include hexanolactone. Examples of alcohols include aromatic alcohols, alicyclic alcohols/L', aliphatic alcohols,
Examples include polyhydric alcohols and polyhydric alcohols. Aromatic alcohols include, for example, benzyl alcohol, α-phenylethyl alcohol, β-phenylethyl alcohol,
Those with saturated aromatic hydrocarbon side chains such as tolylcarbinol, 7-taryl alcohol, phenylpropyl alcohol, and vanillyl alcohol, and those with unsaturated aromatic hydrocarbon side chains such as cinnamyl alcohol. Some have bonds. Alicyclic alcohols include, for example, cyclohexanol, cyclopentanol, and the terpene alcohol sterine, such as hocalanoline. Aliphatic alcohols include, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, furopanol, phthanol, pentanol, hexanol, heptatool, octatool, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol,
Saturated aliphatic-hydric alcohols such as tridecanol, tetradecanol, pentadecanol, hexadecanol, octadecanol, e.g. evalyl alcohol, oleyl alcohol, elaisyl alcohol, lylyl alcohol, lylyl alcohol, cheraniol, clopal There are unsaturated aliphatic-hydric alcohols such as gyl alcohol. Polyhydric alcohols include dihydric alcohols such as ethylene glycol and propanediol, and trihydric alcohols such as glycerin.
有機酸としては、例えば蟻酸、酢酸、無水酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプ
リル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラ
ウリン酸等の飽和脂肪酸、例えばアクリル酸、クロトン
酸、ランデシレノ酸、オレイン酸、リノール酸、リシノ
ール酸、リルン酸等の不飽和脂肪酸がある。Examples of organic acids include saturated fatty acids such as formic acid, acetic acid, acetic anhydride, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, undecylic acid, and lauric acid; for example, acrylic acid; There are unsaturated fatty acids such as crotonic acid, randecylenoic acid, oleic acid, linoleic acid, ricinoleic acid, and rinnic acid.
その他の炭化水素系溶媒としては、例えば沸点カニ20
〜250℃附近の石油留分、トルエン、キシレン、ベン
ゼン、テレピン油、ケロシンの他、N−メチルピロリド
ンのようなラクタム類、N、N−ジメチルホルムアミド
、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、ジオキ
サy等、種々挙げられる。Other hydrocarbon solvents include, for example, boiling point Kani 20
In addition to petroleum fractions around ~250℃, toluene, xylene, benzene, turpentine oil, kerosene, lactams such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, tetrahydrofuran, dioxane, etc. It will be done.
これらの有機溶媒の中で、前記一般式CI〕以外の有機
溶媒として好ましいものは、ジエチレングリコールモノ
アルキルエーテル類、ケトン類、ラフトン類、アルコー
ル類、酢酸、無水酢酸、その他の炭化水素溶媒などであ
る。さらに好ましくは、ケトン類、芳香族アルコール、
不飽和脂肪族−価アルコール、多価アルコール、無水酢
酸であり、最も好ましくはシクロヘキサノン、アセト酢
酸エチル、芳香族アルコールである。以上挙げた有機溶
媒は単独もしくは2橿以上組み合わせて使用でき、本発
明の修正剤に対して5〜85重量%、好ましくは20〜
80重量%、最も好ましくは35〜70重量%の範囲で
含有させられる。Among these organic solvents, preferred organic solvents other than the above general formula CI are diethylene glycol monoalkyl ethers, ketones, raftones, alcohols, acetic acid, acetic anhydride, and other hydrocarbon solvents. . More preferably, ketones, aromatic alcohols,
Unsaturated aliphatic alcohols, polyhydric alcohols, acetic anhydride, most preferably cyclohexanone, ethyl acetoacetate, aromatic alcohols. The above-mentioned organic solvents can be used alone or in combination of two or more, and are 5 to 85% by weight, preferably 20 to 85% by weight, based on the modifier of the present invention.
It is contained in an amount of 80% by weight, most preferably in the range of 35-70% by weight.
含弗素酸以外の酸性物質としては、例えば塩酸、硫酸、
過硫酸、燐酸、硝酸、過マンガン酸、等の無機酸、くえ
ん酸、りんご酸、蟻酸、乳酸、蓚酸、トリクロル酢酸、
タン二ノ酸、フィチン酸、p−トルエンスルホン酸ホス
ホ/酸類等の有i 酸等がある。Examples of acidic substances other than fluoric acid include hydrochloric acid, sulfuric acid,
Inorganic acids such as persulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, permanganic acid, citric acid, malic acid, formic acid, lactic acid, oxalic acid, trichloroacetic acid,
Examples include acidic acids such as tandinoic acid, phytic acid, and p-toluenesulfonic acid phospho/acids.
ホスホン酸としては、例えば1−ヒドロキシエチリデン
−1,1−ジホスホン酸、l、2−ジホスホン−1,2
−ジカルボキシエタツ、1.2.2.3−テトラホスホ
ノプロパン、2(2’−ホスホノエチル)ピリジン、ア
ミノトリ(メチレンホスホン酸)、ビニルホスホン酸、
ポリビニルホスホン酸、2−ホスホノエタン−1−スル
ホン酸、ビニルホスホン酸とアクリル酸および/または
酢酸ビニルとの水溶性コポリマー等を挙げることができ
る。これらの酸性物質のうち燐酸、ホスホン酸が修正効
果向上のため好ましく、さらに好ましくは修正後の非画
儂部腐食を軽減することがらホスホン酸が好ましい。こ
れら酸性物質は単独もしくは2種以上組み合わせて使用
することができ、修正剤の総重量に対して0.1〜10
重量%、好ましくは0.3〜5.0重量%、特に好まし
くは0.5〜3.0重量%の範囲で含有させられる。Examples of the phosphonic acid include 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid, 1,2-diphosphonic-1,2
-dicarboxyetatu, 1.2.2.3-tetraphosphonopropane, 2(2'-phosphonoethyl)pyridine, aminotri(methylenephosphonic acid), vinylphosphonic acid,
Examples include polyvinylphosphonic acid, 2-phosphonoethane-1-sulfonic acid, and water-soluble copolymers of vinylphosphonic acid and acrylic acid and/or vinyl acetate. Among these acidic substances, phosphoric acid and phosphonic acid are preferable because they improve the correction effect, and phosphonic acid is more preferable because it reduces corrosion of non-image areas after correction. These acidic substances can be used alone or in combination of two or more, and are 0.1 to 10% of the total weight of the correction agent.
The content is preferably in the range of 0.3 to 5.0 weight %, particularly preferably 0.5 to 3.0 weight %.
水は酸など、種々の成分に含有していて必然的に添加さ
れるものの他、選択的に添加してもよいものであるが、
本発明の修正剤においてはその性能に微妙に作用する。Water is contained in various components such as acids and is necessarily added, but it can also be added selectively.
The modifier of the present invention has a subtle effect on its performance.
このため好ましい添加量は修正剤総重量に対して、1〜
30重量%、より好ましくは3〜□□□%である。For this reason, the preferable amount to be added is 1 to 1 to
It is 30% by weight, more preferably 3 to □□□%.
本発明の修正剤には、界面活性剤を含有してよく、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンアルキルフエニ゛ルエーテル類、ポリオキシエチレン
ポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポ
リオキシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリストール脂肪酸部分エステル類、プロピレン
グリコールモノ脂肪酸エステル、しょ糖脂肪酸分エステ
ル、オキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマ
ー、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル
類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステ
ル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリ
グリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン
化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部
分エステル類、脂肪酸ジェタノールアミド類、N、N−
ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエ
チレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エ
ステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性
界面活性剤、脂肪酸塩類、アビチェン酸塩類、ヒドロキ
シアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホ/酸塩類、
ジアルキルスルホこはく酸エステル塩類、直鎖アルキル
ベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスル
ホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アル
キルフエノキシポリオキシエチレンプロビルスルホン酸
塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエー
テル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウ
ム類、N−アルキルスルホこはく酸モノアミドニナトリ
ウム塩類、石油スルホ/酸塩類、硫酸化ひまし油、硫酸
化牛脚油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類
、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアル
中ルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド
硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニ
ルエーテル硫酸エステル[lj[、yNリオキシエチレ
ンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキ
ルりん酸エステル塩類、ポリオキシエチVンアルキルエ
ーテルりん酸エステに塩類、yt’!リオキシエチレン
アルキルフェニルエーテルりん酸エステル塩類、スチレ
ン−無水マレ ゛イン酸共重合物の部分けん化物類
、オレフイ/−無水マレイン酸共重金物の部分けん化物
類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などの
アニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第四級ア
ンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩
類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界
面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類
、スルホベタイン類、アξ)硫酸エステル類、イミダシ
リン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げら
れた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは
、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオ
キシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替える
こともできる。The modifier of the present invention may contain a surfactant, such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyrylphenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether, etc. , glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters,
Pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid esters, oxyethylene oxypropylene block copolymers, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, Polyglycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenized castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid jetanolamides, N, N-
Nonionic surfactants such as bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylenealkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides, fatty acid salts, avicenoates, hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonate/ acid salts,
Dialkylsulfosuccinate ester salts, linear alkylbenzenesulfonates, branched alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenesulfonates, alkylphenoxypolyoxyethyleneprobyl sulfonates, polyoxyethylene alkylsulfophenyl ether salts, N - Methyl-N-oleyl taurine sodium salts, N-alkylsulfosuccinic acid monoamide disodium salts, petroleum sulfo/acid salts, sulfated castor oil, sulfated beef leg oil, sulfate ester salts of fatty acid alkyl esters, alkyl sulfate ester salts, Polyoxyethylene alkyl ether sulfate ester salts, fatty acid monoglyceride sulfate ester salts, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate ester [lj[, yN lyoxyethylene styrylphenyl ether sulfate ester salts, alkyl phosphate ester salts, polyoxyethylene alkyl ether phosphorus] Salts for acid esthetics, yt'! Lioxyethylene alkyl phenyl ether phosphate ester salts, partially saponified styrene-maleic anhydride copolymers, partially saponified olefin/maleic anhydride copolymer, naphthalene sulfonate formalin condensates Anionic surfactants such as alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, cationic surfactants such as polyethylene polyamine derivatives, carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aξ ) Examples include amphoteric surfactants such as sulfuric esters and imidacillins. Among the surfactants listed above, polyoxyethylene can also be read as polyoxyalkylene such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, and polyoxybutylene.
これらのうち、非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性
剤が好ましく、修正剤中に含まれる金成分が良好に混合
することがらHLBが9以上の界面活性剤がより好まし
い。さらに、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエー
テル類、オキシエチレンオキシプロピレンブロックコポ
リマー、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エス
テル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エス
テル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポ
リグリセリン脂肪酸部分エステル類は、修正剤の画像部
消去効果を良好にするため好ましい。最も好ましいもの
はオキシエチレンオキシプロピレンブロックコポリマー
である。これらの界面活性剤はテ独でも2糧以上混合し
ていても良く、本発明の修正剤の総重量に対して1〜4
0重量%、好ましくは3〜25重量%の範囲で含有させ
る。Among these, nonionic surfactants and anionic surfactants are preferred, and surfactants with an HLB of 9 or more are more preferred since the gold component contained in the modifier can be mixed well with the surfactants. Furthermore, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, oxyethylene oxypropylene block copolymers, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, and polyglycerin fatty acid partial esters are modifiers. This is preferable in order to improve the image area erasing effect. Most preferred is oxyethylene oxypropylene block copolymer. Two or more of these surfactants may be used in combination, and the amount of these surfactants may be 1 to 4 in total based on the total weight of the correction agent of the present invention.
The content is 0% by weight, preferably 3 to 25% by weight.
着色色素は視覚的コントラストを望む場合に含有させる
ことができ、具体的には、例えばクリスタルバイオレッ
ト、サフラニン、ブリリアントブルー、マラカイトグリ
ーン、アシドローダミンB等の染料を始めとして無機顔
料、有機顔料等がある。これらの着色剤は本発明に係る
修正剤の総重量に対して0.0001〜0.05重量%
、好ましくは0.001〜0.01重量%の範囲で用い
られる。Coloring pigments can be included when visual contrast is desired, and specific examples include dyes such as crystal violet, safranin, brilliant blue, malachite green, and acidrhodamine B, as well as inorganic pigments and organic pigments. . These colorants are present in an amount of 0.0001 to 0.05% by weight based on the total weight of the correction agent according to the present invention.
, preferably in a range of 0.001 to 0.01% by weight.
本発明の修正剤は、ポジ型およびネガ型感光性平版印刷
版(以下ps版という)に適用でき、特に支持体上にネ
ガ型感光層を設けたps版から製版して得られる平版印
刷版の画像部を修正消去するときに有利に用いられる。The correcting agent of the present invention can be applied to positive-working and negative-working photosensitive planographic printing plates (hereinafter referred to as PS plates), and in particular, planographic printing plates obtained by plate-making from PS plates provided with a negative-working photosensitive layer on a support. It is advantageously used when correcting and erasing the image portion of the image.
これらps版について、以下詳細に説明する。These PS versions will be explained in detail below.
本発明に使用されるps版の支持体は寸度的に安定な板
状物であり、従来印刷版の支持体として使用されたもの
が含まれる。このような支持体としては、紙、プラスチ
ックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン等)がラミネートされた紙、例えばアルミニウム
板(アルミニウム合金も含む)、亜鉛板、鋼板、鉄板、
複合金属板(例えばクロム系被覆を施した鉄板)等の金
属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタール等のようなプラ
スチックスフィルム、上記の如き金属がラミネート若し
くは蒸着された紙若しくはプラスチックスフィルム、特
公昭48−18327号公報に記載されているようなポ
リエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシ
ートが結合された複合シート等が含まれる。The PS plate support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material, and includes those conventionally used as printing plate supports. Examples of such supports include paper, paper laminated with plastics (e.g. polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), aluminum plates (including aluminum alloys), zinc plates, steel plates, iron plates,
Metal plates such as composite metal plates (for example, iron plates coated with chromium), such as cellulose diacetate, cellulose triacetate,
Plastic films such as cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc., paper or plastic film laminated or vapor-deposited with the above metals. , a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327.
本発明に使用されるps版の支持体は親水、柱表面を有
する。ここで、親水性表面とは平版印刷版を印刷機に取
り付け、標準的な条件で印刷を行った際、湿し水で濡れ
て、印刷インキを反発する性質の表面のことを意味する
。支持体の表面は親水化処理されていることが好ましい
。親水化処理には種々の方法がある。例えばプラスチッ
クスの表面を有する支持体の場合には、化学的処理、放
電処理、火焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放
電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の方法とこ
れらの処理後下塗層を塗布する方法とがある。また、前
記アルミニウム等の金属の表面を有する支持体の場合に
は、ブラシ研摩、電解研摩などの砂目立て処理を始めと
して珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸塩、燐酸塩等の水
溶液への浸漬処理、メッキ、被覆、あるいは陽極酸化処
理等がある。The PS plate support used in the present invention is hydrophilic and has a columnar surface. Here, the term "hydrophilic surface" refers to a surface that becomes wet with dampening water and repels printing ink when the lithographic printing plate is mounted on a printing machine and printed under standard conditions. The surface of the support is preferably subjected to hydrophilic treatment. There are various methods for hydrophilic treatment. For example, in the case of a support with a plastic surface, methods such as chemical treatment, electric discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, activated plasma treatment, laser treatment, etc. and undercoating after these treatments are used. There is a method of applying layers. In addition, in the case of a support having a metal surface such as aluminum, graining treatment such as brush polishing and electrolytic polishing, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, fluoridated zirconate, phosphate, etc. There are plating, coating, anodizing treatments, etc.
上記支持体の中でも、砂目立て処理または陽極酸化処理
したアルミニウム表面を有する板、またはクロム系被覆
をした鉄板が感光性層の接着性が改良されるのでよい。Among the above-mentioned supports, a plate having a grained or anodized aluminum surface, or a chromium-coated iron plate is preferable because it improves the adhesion of the photosensitive layer.
陽極酸化処理浴としては塩酸、硝酸、クロム酸、硼酸、
硫酸、過硫酸、燐酸、スル7アミノ酸、蓚酸、等の種々
の酸の水溶液が挙げられる。砂目立て処理を施したうえ
、更に陽極酸化処理を施したアルミニウム板は、さらに
好ましい。ブラシ研摩を施し、さらに陽極酸化処理した
アルミニウム板、またはブラシ研摩および電解研摩を施
し、更に陽極酸化処理したアルミニウム板は、感光性層
との接着性が特に好ましいため、得られるps版は耐刷
力が高く、特に本発明の修正剤が有利となる。また、支
持体の親水性を表わす一方法として、表面粗さが知られ
ているが、この表面粗さが感光性層の接着性をも示す尺
度となることが判明した。そこで、中心線平均粗さRa
[gn:lとしては0.40以上、さらには0.50以
上O,SO以下が好適である。最も好ましい接着性を示
し、好ましい領域は0.60以上0.80以下である。Anodizing baths include hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, boric acid,
Examples include aqueous solutions of various acids such as sulfuric acid, persulfuric acid, phosphoric acid, sul-7 amino acids, oxalic acid, and the like. An aluminum plate that has been grained and further anodized is more preferred. An aluminum plate that has been brush-polished and further anodized, or an aluminum plate that has been brush-polished and electrolytically polished and further anodized has particularly favorable adhesion with the photosensitive layer, so the resulting PS plate has a long printing life. The modifier of the present invention is particularly advantageous because of its high strength. Furthermore, surface roughness is known as one method of expressing the hydrophilicity of a support, and it has been found that this surface roughness also serves as a measure of the adhesiveness of the photosensitive layer. Therefore, the center line average roughness Ra
[gn:l is preferably 0.40 or more, more preferably 0.50 or more and O, SO or less. It shows the most preferable adhesiveness, and the preferable range is 0.60 or more and 0.80 or less.
(測定器量西独ペルデフ社製。ベルトメーター、トレー
サー支持体の親水性表面の上に設けられる感光層の感光
性組成物にはジアゾ化合物を含む感光性組成物、英国特
許第1,235.281号及び同1,495゜861号
各明細書に記載されているようなアジド化合物を含む感
光性組成物、米国特許第3.860゜426号明細書く
記載されているような光架橋性フォトポリマーを含む感
光性組成物、米国特許第4.072.528号及び同4
,072,527号各明細書に記載されているような光
重合型フォトポリマーを含む感光性組成物、特開昭56
−19063号及び同56−29250号公報に記載さ
れているような光導電性組成物、特開昭52−6250
1号及び同56−111 M 52号各公報に記載され
ているような〕10ゲン化銀乳剤組成物等が挙げられる
。これらの感光性組成物の中で、ジアゾ化合物を含む感
光組成物は感光層の保存性、現像ラチチウド等の現像性
能、画質等の画像性能、インキ着肉性、感脂性、耐摩耗
性等の印刷性能、使用する現像液の低公害性等、総合的
に優れているので好んで用いられる。(Measuring instrument manufactured by Perdef AG, West Germany. Beltmeter, photosensitive composition of the photosensitive layer provided on the hydrophilic surface of the tracer support contains a diazo compound, British Patent No. 1,235.281 and photosensitive compositions containing azide compounds as described in U.S. Pat. Photosensitive compositions comprising U.S. Pat. No. 4.072.528 and U.S. Pat.
, No. 072,527, a photosensitive composition containing a photopolymerizable photopolymer as described in each specification, JP-A-56
-19063 and 56-29250, JP-A-52-6250
Examples include silver 10-genide emulsion compositions as described in No. 1 and No. 56-111 M-52. Among these photosensitive compositions, photosensitive compositions containing diazo compounds have excellent properties such as storage stability of the photosensitive layer, development performance such as development latitude, image performance such as image quality, ink receptivity, oil sensitivity, abrasion resistance, etc. It is preferred because of its overall excellent printing performance and low pollution properties of the developer used.
ジアゾ化合物を含む感光性組成物は、ネガ型とポジ型に
分けらねる。Photosensitive compositions containing diazo compounds can be divided into negative type and positive type.
ジアゾ化合物を含むネガ型感光性組成物は、感光性ジア
ゾ化合物及び好ましくは高分子化合物を含有するもので
、感光性ジアゾ化合物としては従来知られているものが
使用できるが、好ましいものとしては有機溶媒可溶のジ
アゾ樹脂の塩、例えばp−ジアゾジフェニルアミンとホ
ルムアルデヒド又はアセトアルデヒドの縮合物とへキサ
フルオロ燐酸塩との塩、2−ヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン−5−スルフォン酸塩とのm等が挙げら
れる。The negative photosensitive composition containing a diazo compound contains a photosensitive diazo compound and preferably a polymer compound. Conventionally known photosensitive diazo compounds can be used, but organic compounds are preferably used. Examples include salts of solvent-soluble diazo resins, such as salts of p-diazodiphenylamine, formaldehyde or acetaldehyde condensates, and hexafluorophosphate, and m of 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonate. It will be done.
特に好ましい例としては、下記一般式■:(式中、R,
、R4及びR,は水素原子、アルキル基又はアルコキシ
基゛を示し、Rは水素原子、アルキル基又はフェニル基
を示し、XはPF、又はBF4を示し、mは1〜200
の数を示す)で表され、かつ該式におゆるmが5以上で
ある樹脂な加モル%以上、好ましくは20〜60モル%
含有するもの等が挙げられる。As a particularly preferable example, the following general formula (1): (wherein R,
, R4 and R represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, R represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group, X represents PF or BF4, m is 1 to 200
% or more, preferably 20 to 60 mol%.
Examples include those containing.
本発明に係る感光性組成物中のジアゾ樹脂の含有量は、
1〜70ii!li%、好ましくは3〜60重t%であ
る。The content of diazo resin in the photosensitive composition according to the present invention is
1~70ii! li%, preferably 3 to 60% by weight.
高分子化合物としては、例えばアクリル酸又はメタクリ
ル酸共重合体、クロトン酸共重合体、イタコン酸共重合
体、マレイン酸共重合体、側鎖にカルボキシル基を有す
るセルロース誘導体、側鎖にカルボキシル基を有するポ
リビニルアルコール誘導体、側鎖にカルボキシル基を有
するヒドロキシアルキルアクリレート又はメタクリレー
ト共重合体、カルボキシル基を有する不飽和ポリエステ
ル樹脂等が好んで用いられる。より好ましくは酸価が1
0〜300の高分子化合物である。また、さらに好まし
くは特開昭50−118802号公報に記載されている
下記一般式(III)で示される構造単位及び下記一般
式(rV)で示される構造単位を含む重合体、特開昭5
7−192951号明細書に記載さ7]、でいるような
芳香族性水酸基を有する単量体単位及び一般式(IV)
で示されている構造単位を含む重合体が用いられでいる
。Examples of polymer compounds include acrylic acid or methacrylic acid copolymers, crotonic acid copolymers, itaconic acid copolymers, maleic acid copolymers, cellulose derivatives having carboxyl groups in their side chains, and cellulose derivatives having carboxyl groups in their side chains. Polyvinyl alcohol derivatives having carboxyl groups, hydroxyalkyl acrylate or methacrylate copolymers having carboxyl groups in side chains, unsaturated polyester resins having carboxyl groups, etc. are preferably used. More preferably the acid value is 1
It is a high molecular compound with a molecular weight of 0 to 300. More preferably, a polymer containing a structural unit represented by the following general formula (III) and a structural unit represented by the following general formula (rV) described in JP-A-50-118802, JP-A-50-118802,
7-192951, and a monomer unit having an aromatic hydroxyl group and the general formula (IV)
A polymer containing the structural unit shown in has been used.
Rγ
(In) (IV)(一般式中、R
6は水素原子又はメチル基な示し、R?は水素原子、メ
チル基、エチル基又はクロルメチル基を示し、R3は水
素原子又はメチル基を示し、gは1〜10の整数を示す
)
ポジ型感光性組成物に用いられるジアゾ化合物としては
従来知られているものが使用できるが代表的なものとし
ては0−キノンジアジド類が挙げられ、好ましくは0−
ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。0−ナフト
キノンジアジド化合物の内でも、特に椙々のヒドロキシ
化合物の0−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル
又は0−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル、及
び芳香族アミノ化合物のO−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸アミド又は0−ナフトキノンジアジドカルボン酸
アミドが好適である。好ましいヒドロキシ化合物として
はフェノール類とカルボニル基含有化合物との細分樹脂
が挙げられる。このフェノール類としてはフェノール、
クレゾール、レゾルシン及びピロガロール等が挙げられ
、上記力/I/ ホ5ル基含有化合物としてはホルムア
ルデヒド、ベンズアルデヒド及びアセトン等が挙げられ
る。Rγ (In) (IV) (in the general formula, R
6 represents a hydrogen atom or a methyl group, R? (represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a chloromethyl group, R3 represents a hydrogen atom or a methyl group, and g represents an integer of 1 to 10) Conventionally known diazo compounds used in positive photosensitive compositions Typical examples include 0-quinonediazides, preferably 0-quinonediazides.
Examples include naphthoquinone diazide compounds. Among the 0-naphthoquinonediazide compounds, in particular, 0-naphthoquinonediazide sulfonic acid ester or 0-naphthoquinonediazidecarboxylic acid ester of various hydroxy compounds, and O-naphthoquinonediazide sulfonic acid amide or 0-naphthoquinonediazide of aromatic amino compounds. Carboxylic acid amides are preferred. Preferred hydroxy compounds include subdivision resins of phenols and carbonyl group-containing compounds. These phenols include phenol,
Cresol, resorcinol, pyrogallol, etc. may be mentioned, and examples of the above-mentioned compounds containing a group include formaldehyde, benzaldehyde, and acetone.
好ましいヒドロキシル化合物としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒドIt 脂、クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、ピロガロール・アセトン樹脂、レゾルシン・ベ
ンズアルデヒド樹脂が挙げられる。Preferred hydroxyl compounds include phenol-formaldehyde It 2 resin, cresol-formaldehyde resin, pyrogallol-acetone resin, and resorcinol-benzaldehyde resin.
0−キノンジアジド化合物の代表的な具体例としては、
ベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸又はナ
フトキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸とフェノ
ール・ホルムアルデヒド樹脂又はクレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂との工ステル、特開昭56−1044号公
報に記載されているナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−(2)−5−スルホン酸トレシルシン−ベンズアル
デヒド樹脂とのエステル、米国特許第3,635,70
9号明細書に記載されているナフトキノン−(1゜2)
−ジアジドスルホン酸とピロガロール・アセトン樹脂と
のエステル、特開昭55−76346号公報に記載され
ているナフトキノン−(1,2)−ジアジド−(2)−
5−スルホン酸とレゾルシン−ピロガロール−アセトン
共重縮合物とのエステルが挙げられる。その他有用な0
−キノンジアジド化合物としては、特開昭50−117
503号公報に記載されている末端にヒドロキシル基ヲ
有するポリエステルに0−ナフトキノンジアジドスルホ
ニルクロライドをエステル化反応させたもの、特開昭5
0−113305号公報に記載されているようなp−ヒ
ドロキシスチレンのホモポリマー又は他の共重合し得る
七ツマ−との共重合体に0−ナフトキノンジアジドスル
ホニルクロライドをエステル化反応させたもの、特公昭
54−29922号公報に記載されているビスフェノー
ル・ホルムアルデヒド樹脂と0−キノンジアジドスルホ
ン酸とのエステル、米国特許!3.859,099号明
細書に記載されているアルキルアクリレート、アクロイ
ルオキシアルキルカルボネート及びヒドロキシルアルキ
ルアクリレートの共重合体と0−キノンジアジドスルホ
ニルクロライドとの縮合物、特公昭49−17481号
公報に記載され−CいるスチレンとフェノールUS体と
の共重合生成物とo−キノンジアジドスルホン酸との反
応生成物、米国特許第3,759.711号明細書に記
載されでいるようなp−アミノスチレンと他の共重合し
得る七ツマ−との共重合体と0−ナフトキノンジアジド
スルホン1k又は0−ナフトキノンジアジドカルボン酸
とのアミド、及びその他にポリヒドロキシベンゾフェノ
ンと0−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドと
のエステル化物等が挙げられる。Typical specific examples of 0-quinonediazide compounds include:
Synthesis of benzoquinone-(1,2)-diazide sulfonic acid or naphthoquinone-(1,2)-diazide sulfonic acid with phenol-formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, described in JP-A-56-1044 Naphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)-5-sulfonic acid ester with tresilcin-benzaldehyde resin, U.S. Pat. No. 3,635,70
Naphthoquinone (1°2) described in Specification No. 9
-Ester of diazide sulfonic acid and pyrogallol acetone resin, naphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)- described in JP-A-55-76346
Examples include esters of 5-sulfonic acid and resorcinol-pyrogallol-acetone copolycondensate. Other useful 0
- As a quinonediazide compound, JP-A-50-117
503, a polyester having a hydroxyl group at the end is subjected to an esterification reaction with 0-naphthoquinonediazide sulfonyl chloride, JP-A No. 503
A homopolymer of p-hydroxystyrene or a copolymer with other copolymerizable heptamers as described in Japanese Patent No. 0-113305 is esterified with 0-naphthoquinonediazide sulfonyl chloride, especially Ester of bisphenol formaldehyde resin and 0-quinonediazide sulfonic acid described in Publication No. 54-29922, US patent! A condensate of a copolymer of alkyl acrylate, acroyloxyalkyl carbonate, and hydroxyalkyl acrylate and 0-quinonediazide sulfonyl chloride described in Japanese Patent Publication No. 17481/1989, as described in Japanese Patent Publication No. 17481/1983. The reaction product of a copolymerization product of styrene and phenol US with o-quinonediazide sulfonic acid, p-aminostyrene as described in U.S. Pat. No. 3,759,711; Amides of copolymers with other copolymerizable heptamers and 0-naphthoquinonediazide sulfone 1k or 0-naphthoquinonediazidecarboxylic acid, and esters of polyhydroxybenzophenone and 0-naphthoquinonediazide sulfonyl chloride, etc. can be mentioned.
これらの0−ナフトキノンジアジド化合物は単独で使用
することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合し、こ
の混合物を感光層として設ける方が好ましい。好適なア
ルカリ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノール樹脂が
含まれ、具体的にはフェノールホルムアルデヒド樹脂、
クレゾールホルムアルデヒド樹脂、特開昭55−578
41号公報に記載されているようなフェノール・クレゾ
ールホルムアルデヒド共重縮合体樹脂等が含まれる。Although these 0-naphthoquinone diazide compounds can be used alone, it is preferable to mix them with an alkali-soluble resin and provide this mixture as a photosensitive layer. Suitable alkali-soluble resins include novolak-type phenolic resins, specifically phenol formaldehyde resins,
Cresol formaldehyde resin, JP-A-55-578
Phenol/cresol formaldehyde copolycondensate resins such as those described in Japanese Patent No. 41 are included.
さらに特開昭50−125806号公報に記載されてい
るように、上記のようなフェノール樹脂とともにt−ブ
チルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂のような炭素数
3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはクレ
ゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用すると、
より一層好ましい。Furthermore, as described in JP-A-50-125806, in addition to the above-mentioned phenol resin, phenol or cresol substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as t-butylphenol formaldehyde resin and formaldehyde are used. When used in combination with a condensate of
Even more preferred.
0−キノンジアジド化合物の含有量は感光性組成物全固
形分に対し、5〜80重量%が好ましく、特に好ましく
は10〜50tt%である。アルカリ可溶性樹脂の含有
量は感光性組成物の全固形分に対し30〜90重it%
が好ましく、特に好ましくは父〜あ重t%である。The content of the 0-quinonediazide compound is preferably 5 to 80% by weight, particularly preferably 10 to 50tt%, based on the total solid content of the photosensitive composition. The content of the alkali-soluble resin is 30 to 90% by weight based on the total solid content of the photosensitive composition.
is preferred, and particularly preferably t% by weight.
感光性組成物は多層に別けて設けることもでき、また必
要に応じてさらに染料、可塑剤、プリントアウト性能を
与える成分等の添加剤を加えることができる。The photosensitive composition can be provided in multiple layers, and additives such as dyes, plasticizers, and components imparting printout performance can be added as necessary.
支持体上に設けられる上記感光性組成物の塗布敞は0.
1〜79/lrlが好ましく、より好ましくは0.5〜
49/ゴである。1.5g〜497mにおいて本発明の
修正剤がより有効となり、もつとも有効となるのは2.
0〜3.ogimである。The coating thickness of the photosensitive composition provided on the support is 0.
1-79/lrl is preferred, more preferably 0.5-79/lrl
49/Go. The corrective agent of the present invention becomes more effective at 1.5 g to 497 m, and is most effective at 2.5 g to 497 m.
0-3. It is ogim.
このようにして得られる28版は透明原画を通してカー
ボンアーク灯、水銀灯、メタルノーライドランプ、タン
グステンランプ、キセノンランプ等の活性光線の豊富な
光源により露光され、ついで現像される。The 28 plate thus obtained is exposed through a transparent original to an actinic light rich source such as a carbon arc lamp, mercury lamp, metal noride lamp, tungsten lamp, xenon lamp, etc., and then developed.
本発明において使用される現像液は、28版に用いられ
る感光性組成物の種類等により種々変化し得るが、好ま
しくはアルカリ剤及び有機浴剤の少なくとも一つを含有
するものであり、感光層の種類により種々選択される。The developer used in the present invention may vary depending on the type of photosensitive composition used in the 28th plate, but preferably contains at least one of an alkaline agent and an organic bath agent, Various selections are made depending on the type.
このことは4?開昭59−58431号公報に詳細に記
載されている。Is this 4? It is described in detail in Japanese Patent Publication No. 59-58431.
広(用いられているネガ凰ジアゾ感光層を有する28版
の現像液としては、エチレングリコールモノフェニルエ
ーテル、ベンジルアルコールヲ含有しているものが一般
的であり、ポジ型28版の現像液としてはモル比でC5
ift ’) / CM ] = 0.5〜1.5 (
(5tyx ) 、 [M]はそれぞれS10.のモル
濃度と、K 、 Na 、 Li等の総アルカリ金属の
モル濃度を示すンであり、かつ810.を0.8〜8.
!f%含有するものが一般的である。The developing solution used for the 28th plate with a negative diazo photosensitive layer generally contains ethylene glycol monophenyl ether and benzyl alcohol, and the developing solution for the positive 28th plate is C5 in molar ratio
ift')/CM] = 0.5~1.5 (
(5tyx) and [M] are respectively S10. and the molar concentration of total alkali metals such as K, Na, Li, etc., and 810. 0.8 to 8.
! Those containing f% are common.
上述のような現像液で画像露光された28版を現塚する
方法としては、多数のノズルから現像液を噴出する方法
、現像液中に浸漬する方法、現像液で湿潤したスポンジ
で拭う方法等、従来公知の種々の方法が可能である。Methods for developing the 28th plate that has been imagewise exposed with the above developer include a method of jetting the developer from multiple nozzles, a method of immersing it in the developer, and a method of wiping with a sponge moistened with the developer. , various conventionally known methods are possible.
上記の如く、ps版に画像露光および現歇を施して得ら
れた平版印刷版に不必要な画像部がある場合に、その画
像部の上に本発明の修正剤を施しで画像部が消去される
。As mentioned above, if there is an unnecessary image area on the lithographic printing plate obtained by subjecting the PS plate to image exposure and development, the image area can be erased by applying the correction agent of the present invention on the image area. be done.
本発明の修正剤を平版印刷版のlilljgR部に施す
場合、視像後水洗して、この水洗水をスΦ−ジしてから
消去を行なうのが好ましい。消去の具体的方法としては
修正剤を毛筆に含ませ、これを画像部へ償布し、約10
秒ないし数分間放置亡しめ、あるいは塗涌後軽く毛筆で
こすった後、水洗により修正剤を流し去る方法が一般的
である。When the correcting agent of the present invention is applied to the lilljgR portion of a lithographic printing plate, it is preferable to wash it with water after visualizing it, and to swipe the washing water through Φ- before erasing. A specific method for erasing is to soak a brush in a correction agent, apply it to the image area, and apply it to the image area for about 10 minutes.
A common method is to leave the correction agent for a few seconds or several minutes, or to rub it lightly with a brush after applying it, and then wash it off with water.
このようにして不要部の画家が消去された平版印刷版は
通常の現渾インキ盛りまたはガム引等の処理工程を終え
た後、印刷に供される。The lithographic printing plate from which the unnecessary portions of the artist have been erased in this manner is subjected to the usual processing steps such as inking or gumming, and is then subjected to printing.
本発明の修正剤は、不要画像部を完全に消去することが
でき、消去不完全による印刷時のトラブルをなくすこと
ができるので、印刷の能率が向上する。また本発明の修
正剤は不要画像部を容易に迅速に消去することができる
ので、製版作業の能率が向上する。さらに本発明の修正
剤は、支持体と感光性層の接着力が高く、しかも耐刷性
の扁いps版の消去性が著しく高い〇
以下、本発明を実施例により具体的に記載する。The correction agent of the present invention can completely erase unnecessary image areas and eliminate troubles during printing due to incomplete erasure, thereby improving printing efficiency. Further, since the correcting agent of the present invention can easily and quickly erase unnecessary image areas, the efficiency of plate-making work is improved. Further, the correcting agent of the present invention has a high adhesive strength between the support and the photosensitive layer, and also has extremely high erasability of a flat PS plate with printing durability.The present invention will be specifically described below with reference to Examples.
なお、下記実施例において「部」は重量部を表わし、「
%」は重置%を意味する。In the following examples, "parts" represent parts by weight, and "parts" represent parts by weight.
%” means overlapping %.
実施例1゜
厚さ0.30mのアルミニウム板をナイロンブラシ研摩
し、これをりん酸浴にて陽極酸化した。このときアルミ
ニウム板上の酸化皮膜験は11■/ dn?であった。Example 1 An aluminum plate having a thickness of 0.30 m was polished with a nylon brush and anodized in a phosphoric acid bath. At this time, the oxide film on the aluminum plate was 11■/dn? Met.
さらにメタケイ酸ナトリウム水溶液で封孔処理し、平版
印刷版用支持体を得た。このものの中心森平均粗さRa
は0.62〜67であった。この支持体に下記組成を有
する感光液を塗布し、ついで(社)′Cの温度で2分間
乾燥し感光層膜厚231m9/dコとし、感光層と支持
体の接着性の良い、高耐性のネガ型ps版を得た。Further, the pores were sealed with an aqueous sodium metasilicate solution to obtain a support for a lithographic printing plate. Center roughness Ra of this material
was 0.62-67. A photosensitive liquid having the following composition was coated on this support, and then dried for 2 minutes at a temperature of 10°C to give a photosensitive layer thickness of 231 m9/d. A negative PS version was obtained.
(感光液)
共重合体 320部ジアゾ
樹脂 26部ビクトリア
ピュアーブルー〇OH6部
(保止ケ谷化学■社製)
メチルセロンルプ 3000部但し
、上記共重合体樹脂は重量比でp−ヒドロキシフェニル
メタクリルアミド/アクリロニトリル/エチルアクリレ
ート/メタクリル酸=8/24/ 59.5/8.5の
組成(モル比〕を有し、平均分子敬(MW)=5.8X
10であり、上記ジアゾ樹脂はp−ジアゾジフェニルア
ミンとパラフォルムアルデヒドの縮合物のヘキサフルオ
ロ燐酸塩(My =2.80 X10 、、前記一般式
[II)のm = 5以上があモル%)である。(Photosensitive liquid) Copolymer 320 parts Diazo resin 26 parts Victoria Pure Blue OH 6 parts (manufactured by Hodokugaya Chemical Co., Ltd.) Methylseronlupe 3000 parts However, the above copolymer resin contains p-hydroxyphenyl methacrylic in weight ratio. It has a composition (molar ratio) of amide/acrylonitrile/ethyl acrylate/methacrylic acid = 8/24/59.5/8.5, and average molecular weight (MW) = 5.8X
10, and the diazo resin is a hexafluorophosphate of a condensate of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde (My = 2.80 be.
この上に網点写真透明陽画を密着させて上記メタルハラ
イドランプ、アイドルフィン2000を用いて0.8m
の距離から(資)秒露光を行ない、次の現像液にて現像
し、印刷版を得た。A halftone photographic transparent positive was placed on top of this, and the length was 0.8 m using the metal halide lamp and Idol Fin 2000.
Second exposure was carried out from a distance of , and development was performed with the following developer to obtain a printing plate.
(現像液)
ベンジルアルコール 5.0部炭酸
ナトリウム 0.5部亜硫酸ナ
トリウム 0.5部3−メチル−
3−メトキシブタノール 26.5部水
100 部
次に不要な画像部を次の本発明の修正剤にて消去したと
ころ、9秒にて消去が可能であった。(Developer) Benzyl alcohol 5.0 parts Sodium carbonate 0.5 parts Sodium sulfite 0.5 parts 3-Methyl-
3-methoxybutanol 26.5 parts water
After 100 copies, unnecessary image areas were erased using the following correction agent of the present invention, and it was possible to erase them in 9 seconds.
(本発明の修正剤)
エチレングリコールモノフェニルエーテル 18 部シ
クロヘキサノン 53部ヒドロキシ
プqピルメチルセルロース 8.5g55%フン
化水素酸 1.8部オキシエチレ
ンオキシプロピレンブロックコボリマ−8部
水
11 部実施例2゜
厚さ0.24非のアルミニウム板を20%リン酸ナトリ
ウム水浴液に浸漬して脱脂し、これを0.2N塩酸浴中
で3A/ぜの電流密度で電解研摩した後硫酸浴中で陽極
酸化した。このとき陽極酸化量は3.09/rrtであ
った。さらにメタケイ酸ナトリウム水溶液で封孔処理し
、平版印刷版用支持体を得た。このアルミニ9ム仮に下
記組成を有する感光液を塗布した。ついで90℃の温度
で2分間乾燥し、膜厚18 m9 / dm”とし、消
去の安易なネガWPS版を得た。(Modifier of the present invention) Ethylene glycol monophenyl ether 18 parts Cyclohexanone 53 parts Hydroxypropylene methyl cellulose 8.5 g 55% Hydrofluoric acid 1.8 parts Oxyethylene oxypropylene block cobolimer - 8 parts Water
Part 11 Example 2 An aluminum plate with a thickness of 0.24 mm was degreased by immersing it in a 20% sodium phosphate water bath, and then electrolytically polished in a 0.2 N hydrochloric acid bath at a current density of 3 A/Z. Anodized in a sulfuric acid bath. At this time, the amount of anodic oxidation was 3.09/rrt. Further, the pores were sealed with an aqueous sodium metasilicate solution to obtain a support for a lithographic printing plate. A photosensitive solution having the following composition was applied to this aluminum 9 film. The plate was then dried at a temperature of 90° C. for 2 minutes to obtain a film thickness of 18 m9/dm'' to obtain a negative WPS plate that can be easily erased.
(感光g)
共重合体 5.0部ジア
ゾ樹脂 0.5部メチル
セロソルブ 100 部但し、上記
共重合体樹脂およびジアゾ樹脂は実施例1と同じ物を使
用した。(Photosensitive G) Copolymer 5.0 parts Diazo resin 0.5 parts Methyl cellosolve 100 parts However, the same copolymer resin and diazo resin as in Example 1 were used.
この上に網点写真透明隙画を密着させて実施例1、と同
様の露光を行ない、同様の現像を行なった。A halftone photographic transparence image was brought into close contact thereon, and exposure was carried out in the same manner as in Example 1, and development was carried out in the same manner.
得られた印刷版の不要な画像部を実施例1.の修正剤に
て消去したところ、5秒以内に消去された。The unnecessary image area of the obtained printing plate was shown in Example 1. When I erased it with a correction agent, it was erased within 5 seconds.
また、実施例1.で用いた修正剤の成分中、エチレンク
リコールモノフェニルエーテルをシクロヘキサノンにと
りかえて消去を試みたところ約(至)秒にて消去ができ
た。しかし、この修正剤を用いて実施例16で用いた高
耐刷性の印刷版の画像部を消去したところ、5分経過し
ても完全に消去ができなかった。Also, Example 1. When I tried erasing by replacing ethylene glycol monophenyl ether with cyclohexanone in the components of the correction agent used in , I was able to erase it in about (to) seconds. However, when this correction agent was used to erase the image area of the printing plate with high printing durability used in Example 16, it could not be completely erased even after 5 minutes.
実施例3゜
厚さ0.30.のアルミニウム板をナイロンブラシ研摩
し、これをリン酸浴にて陽極酸化した。このとき板上の
酸化皮膜駄は131n9/ dlrXとなり、中心線平
均粗さRa = 0.49〜0.60となった。この支
持体に下記組成を有する感光液を塗布、実施例1゜と同
様に乾燥し、感光層膜厚15119/ di ’とし、
感光層と支持体の接着性の高いネガ型28版を得た。Example 3゜thickness 0.30. An aluminum plate was polished with a nylon brush and then anodized in a phosphoric acid bath. At this time, the oxide film thickness on the board was 131n9/dlrX, and the center line average roughness Ra was 0.49 to 0.60. A photosensitive liquid having the following composition was applied to this support and dried in the same manner as in Example 1 to give a photosensitive layer thickness of 15119/di'.
A negative type 28 plate with high adhesiveness between the photosensitive layer and the support was obtained.
(感光液)
共1i会体 32°部ジア
ゾ樹脂 26部ビクトリア
ピュアーブルーBOHS部
ジュリマーAC−IQL (日本紬薬■製)
6部メチルセロソルブ 3000部上
記、共重合体およびジアゾ樹脂は実施例1.と同様であ
る。実施例1.と同様に露光し、下記の現像液に、で現
撞し、印刷版を得た。(Photosensitive liquid) Co-1i aggregate 32° part Diazo resin 26 parts Victoria Pure Blue BOHS part Jurimer AC-IQL (manufactured by Nippon Tsumugi Pharmaceutical ■)
6 parts Methyl cellosolve 3000 parts The above copolymer and diazo resin were as described in Example 1. It is similar to Example 1. It was exposed in the same manner as above and developed with the following developer to obtain a printing plate.
(現像液〕
ジェタノールアミン 25.0部亜硫
酸ナトリウム 10.0部ベンジル
アルコール 2,0、部水
152
部次に不要な画像部を次の本発明の修正剤にて消去した
ところ、閏秒にて消去が可能であった。(Developer) Jetanolamine 25.0 parts Sodium sulfite 10.0 parts Benzyl alcohol 2.0 parts Water
152
When unnecessary image areas were erased using the following correction agent of the present invention, it was possible to erase them in a leap second.
(本発明の修正剤)
プロピレングリコールモノフェニルエーテル 20部シ
クロヘキサノン 50部ヒドロキ
シプロピルメチルセルロース 7 部55%フン
化水素酸 1.8部水
11 部色素
(食用f 101 J O,002部
実施例4゜
実施例3.で用いた修正剤の成分のプロピレングリコー
ルモノフェニルエーテルを同量のメチルカルピトールに
替えて、実施例3.で得られた印刷版の画像部を消去し
たところ、3分経過しても消去することができなかった
。(Modifier of the present invention) Propylene glycol monophenyl ether 20 parts Cyclohexanone 50 parts Hydroxypropyl methyl cellulose 7 parts 55% Hydrofluoric acid 1.8 parts Water
11 parts Pigment (edible f 101 J O, 002 parts Example 4) Propylene glycol monophenyl ether, a component of the corrector used in Example 3., was replaced with the same amount of methylcarpitol to obtain the same amount as in Example 3. When the image area of the printed printing plate was erased, it could not be erased even after 3 minutes.
実施例5゜
実施例1.と同様に得られた印刷版の不要な画像部を、
次の本発明の修正剤にて消去したところ、3分にて消去
可能であった。Example 5゜Example 1. The unnecessary image part of the printing plate obtained in the same way as
When erased using the following correction agent of the present invention, it was possible to erase it in 3 minutes.
(本発明の修正剤)
エチレングリコールモノフェニルエーテル 66 部β
−フェニルエチルアルコール 8 部ヒドロ
キシプロビルメチルセルロース 4 部55%フ
ッ化水素酸 1.8部1−ヒドロ
キシエチリデン−1,1−
ジホスホン酸 2・5
部オキシエチレンオキシプロピレンブロックコボリマ−
8部
水
11 部色素(食用f101 )
0.002部実施例6゜
実施例1.と同様に得られた印刷版の不要な画像部を、
実施例5.の修正剤の成分中エチレングリコールモノフ
ェニルエーテルな同鎗のジエチレングリコールジエチル
エーテルに替えたものにて消去したところ、10分を経
過しても完全に消去できなかった。また同様に実施例5
.の修正剤中の成分中フッ化水素酸のみを除いたものに
て消去した場合も、10分を経過しても消去できなかっ
た。(Correcting agent of the present invention) Ethylene glycol monophenyl ether 66 parts β
-Phenylethyl alcohol 8 parts Hydroxypropyl methylcellulose 4 parts 55% hydrofluoric acid 1.8 parts 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid 2.5 parts
oxyethylene oxypropylene block copolymer
8 parts water
11 part pigment (edible f101)
0.002 parts Example 6゜Example 1. The unnecessary image part of the printing plate obtained in the same way as
Example 5. Ethylene glycol monophenyl ether was a component of the correcting agent, but when it was erased using the same modifier instead of diethylene glycol diethyl ether, it could not be completely erased even after 10 minutes. Similarly, Example 5
.. Even when erasing was carried out using a corrector containing only hydrofluoric acid, the erasure was not possible even after 10 minutes.
実施例7゜
庫さ0.3mのアルミニウム板を硝酸溶液中で電気化学
的に粗面化し、よく洗浄した後硫酸溶液中で陽極酸化を
行って2.51/lriの酸化皮膜を上記アルミニウム
板表面上に形成させた。Example 7 An aluminum plate with a storage depth of 0.3 m was electrochemically roughened in a nitric acid solution, thoroughly washed, and then anodized in a sulfuric acid solution to form an oxide film of 2.51/lri on the aluminum plate. formed on the surface.
水洗、乾燥後、特開昭56−1044号公報の実施例に
従って合成したレゾルシンベンズアルデヒド樹脂トナフ
トキノン1.2−ジアジド−5−スルホニルクロライド
とのエステル化物3部とタレゾールホルマリンノボラッ
ク樹脂9部ならびにビクトリア・ビエア・ブルーBOH
(保土谷化学工業株式会社!!り0.12部を2−メト
キシエタノール100部に溶解した感光液を回転式塗布
機で上記支持体上に塗布乾燥し、2.8fi/lt?の
感光性層を有するポジ型28版を得た。After washing with water and drying, 3 parts of the esterified product of resorcin benzaldehyde resin tonaphthoquinone 1,2-diazide-5-sulfonyl chloride synthesized according to the example of JP-A No. 56-1044, 9 parts of talesol formalin novolac resin and Victoria・Viea Blue BOH
(Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.) A photosensitive solution prepared by dissolving 0.12 parts of 2-methoxyethanol in 100 parts of 2-methoxyethanol was applied onto the above support using a rotary coater and dried, resulting in a photosensitivity of 2.8 fi/lt? A positive type 28 plate with layers was obtained.
この上に網点写真透明陽画を密着させて、0.8mの距
離から実施例1.で用いたメタル/Sライドランプにて
60秒間露光し、次の現1#!液には現像し、印刷版を
得た。A halftone photographic transparent positive was placed on top of this and Example 1 was applied from a distance of 0.8 m. Exposure for 60 seconds with the Metal/S Ride lamp used in , and the next current 1#! The solution was developed to obtain a printing plate.
(埃像液)
ケイ酸カリウムA
(SiO126%−&013.5%) 12
0 Mh86%水酸化カリウム 15
.5部水
500 部次に不要な画像部を下記の本発明の修
正剤にて消去したところ、15秒にて完全に消去された
。(Dust image liquid) Potassium silicate A (SiO126%-&013.5%) 12
0 Mh86% potassium hydroxide 15
.. 5 parts water
After 500 copies, unnecessary image areas were erased using the following correcting agent of the present invention, and the images were completely erased in 15 seconds.
(本発明の修正剤)
エチレンクリコールモノフェニルエーテル 10[−ジ
エチレングリコールモノトリルエーテル 10 部キシ
レン 6 部ジオキサン
5 部アセト酢酸エチ
ル 10 部ジメチルホルムアミド
10 部シクロヘキサノン
20 部ヒドロキシプロピルメチルセルロー
ス 12 部二酸化珪素
6.5部42%ホウ弗化水素酸
1.2部85%リン酸
2.1部12部
水
1o 部実施例8゜
実施例7.で用いた修正剤の成分中、ホウ弗化水素酸を
除いたものを用意し、実施例7.と同様に得られた印刷
の画像部を消去したところ、完全に消去されるまでに(
9)秒以上を要した。(Correcting agent of the present invention) Ethylene glycol monophenyl ether 10 [-diethylene glycol monotrile ether 10 parts xylene 6 parts dioxane 5 parts ethyl acetoacetate 10 parts dimethylformamide 10 parts cyclohexanone
20 parts hydroxypropyl methylcellulose 12 parts silicon dioxide
6.5 parts 42% borofluoric acid
1.2 parts 85% phosphoric acid
2.1 part 12 parts water
1o Part Example 8゜Example 7. The correcting agent used in Example 7 was prepared by excluding borofluoric acid. When I erased the image part of the print obtained in the same way, it took until it was completely erased (
9) It took more than a second.
以上により、本発明の修正剤は千′版印刷版の不要な画
像部を迅速かつ完全に消去できることがわかる。From the above, it can be seen that the correcting agent of the present invention can quickly and completely erase unnecessary image areas of 1,000-print printing plates.
Claims (1)
印刷版の修正剤において、該グリコール系化合物が下記
一般式〔 I 〕の構造を有し、該酸性物質が含フッ素酸
であることを特徴とする平版印刷版の修正剤。 〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ R_1:水素または炭素数1〜2の アルキル基。 R_2:炭素数2〜4のアルキレン基ま たはアルケニレン基。 n;1〜3の整数。[Claims] In a lithographic printing plate corrector containing a glycol compound, an acidic substance, and a thickener, the glycol compound has the structure of the following general formula [I], and the acidic substance contains a fluorine-containing substance. A lithographic printing plate corrector characterized by being an acid. [I] ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼ R_1: Hydrogen or an alkyl group with 1 to 2 carbon atoms. R_2: Alkylene group or alkenylene group having 2 to 4 carbon atoms. n: An integer of 1 to 3.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1326285A JPS61172147A (en) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | Correcting agent for lithographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1326285A JPS61172147A (en) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | Correcting agent for lithographic printing plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61172147A true JPS61172147A (en) | 1986-08-02 |
Family
ID=11828301
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1326285A Pending JPS61172147A (en) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | Correcting agent for lithographic printing plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61172147A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005055886A (en) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Dongjin Semichem Co Ltd | Cleaning agent composition for removing photosensitive resin composition |
JP7407324B1 (en) * | 2023-06-15 | 2023-12-28 | 東京応化工業株式会社 | Processing liquid for semiconductor devices, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method |
-
1985
- 1985-01-25 JP JP1326285A patent/JPS61172147A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005055886A (en) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Dongjin Semichem Co Ltd | Cleaning agent composition for removing photosensitive resin composition |
JP4494897B2 (en) * | 2003-08-01 | 2010-06-30 | 東進セミケム株式会社 | Cleaning composition for removing photosensitive resin composition |
JP7407324B1 (en) * | 2023-06-15 | 2023-12-28 | 東京応化工業株式会社 | Processing liquid for semiconductor devices, substrate processing method, and semiconductor device manufacturing method |
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