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JPS6072696A - 軟ろうフラックス - Google Patents

軟ろうフラックス

Info

Publication number
JPS6072696A
JPS6072696A JP18019383A JP18019383A JPS6072696A JP S6072696 A JPS6072696 A JP S6072696A JP 18019383 A JP18019383 A JP 18019383A JP 18019383 A JP18019383 A JP 18019383A JP S6072696 A JPS6072696 A JP S6072696A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flux
soft
ammonium acetate
rosin
ammonium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18019383A
Other languages
English (en)
Inventor
Kisaku Nakamura
中村 ▲き▼作
Eiji Jimi
自見 栄二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP18019383A priority Critical patent/JPS6072696A/ja
Publication of JPS6072696A publication Critical patent/JPS6072696A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/3612Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 この発明は軟ろう接合に使用されるフラックスに係り、
詳しくはより接合性の良いスラックスに関する。
〔従来技術とその問題点〕
軟ろう材にFip b e 8 n + I n * 
Z n # S b等の多く融点の低い材料と銀を添加
したもの等が使用される。従来フラックスでは無機系と
゛して亜鉛塩、有機系としてロジンを主成分としたもの
に大別される。
両者に更に活性化を計るために、ハロゲン系元系が接合
時の加熱反応により発生する物質が添加されている場合
が多い。これハリフロ一時にハロゲンが軟ろう材や被接
合物の酸化膜を除去し、金属塩として主成分であるzn
塩又はロジン中の浴融し、軟ろうの表面張力を弱め、濡
れを拡張される働キヲすることが知られている。
これらのフラックスの作用効果を高める為には。
熱反応により生成される金属塩が接合温度において溶融
状態となり主成分中に溶解し凝固後容易に有機溶剤又は
水により容易に除去される事が望ましい。軟ろう構成材
の中、Pb、A、9の如きハロゲン化物は融点が高(、
水又rIi#剤に不溶解成分である。融点は次の如くで
ある。pbc)、[501℃]。
PbBrz [:373℃J I A 11 Cl [
455℃)、AJBr[:434 ]。
これら成分にりフロー中に生成すると溶融表面やや接合
界面に介在し、リフロー後も水又は有機溶剤にも溶けな
いため軟ろう接合を阻害するであろう事は容易に推定さ
れる。鉛や含銀状ろうについては問題となるにも拘らず
、従来の軟ろり接合技術としてはハロゲンの活性剤が使
用されて来た。
〔発明の目的〕
本発明は従来の軟ろう接合技術として問題となる分野に
適した軟ろうフラックスを提供する。
半導体分野にあって軟ろうマウントを多(使用している
が特に半導体素子金属部とベース及びリードを接合する
場合こと一市販のフラックスを使用する去、特性から要
求される接合性が得られないためフラックスの使用しな
い接合か行われている。
この分野に適したフラックスの開発を目的とした。
〔発明の概要〕 軟ろう材の接合性は外観、接合強度、接合面の解析等の
マクロ的手段によって従来検削されているが、半導体の
特性を利用する分野にあってはより高い接合性が要求さ
れいる。
従来のフラックスではこの目的の接合性が得られないた
め清浄な軟ろうプレフォーム片を被接合物間に積層し還
元雰囲気中で加熱溶融させ、接合させる方法が行わわて
来た。このプロセスの問題点としては軟ろう材及び被接
合材の酸化により接合層にボイドが発生し易いことであ
る。
−力学導体分野にあってはマウント手1110を考え中
域い融点差のある軟ろうが使用され、特に半導体素子の
軟ろ9接合は面温軟ろうが使用されしかも熱膨張差を吸
収出来る熱疲労特性も要求される。
pb−1%Snからp +) −S n共晶のPb−a
n系やPb−8n−Al1系、Pb−In−Ag等の軟
ろうが使用される。
本発明のフラックスは活性剤の主体を酢酸アンモニウム
とし融点が114℃分解温就も148℃低く生成される
Pb塩についてもPb(ACン、[280℃]と低く水
でも有機溶剤にも痔は易いことに着目し接合特性の曳い
フラックスが得られる事を発見した。
〔発明の効果〕
1、本発明のフラックスは半導体素子電極部の軟ろ9接
合に良好な接合性が得られることは勿論一般の軟ろう良
い接合性が得られる。
2、半導体素子の電極部とベース、リードの軟ろう接合
に当り従来フラックスレス接合にボイドが発生し易いこ
とを防止する。
3、本発明のフラックスを適当な溶剤と軟ろう粉を混和
してベストインク状とし、直接ダイオード金属部又は素
子電極部に塗布し、保設又は還元雰囲気中で加熱リンロ
ーすることにより直接マウントが出来る。
4、水又は有機溶剤で容易に取りのぞけるフラックスで
ある。
5、本発明のフラックスは特にpbリッチな軟ろうや含
銀状ろうで有効な接合特性が得られる。
〔発明の実施例〕
まず本発明の目的である半導体分野における評価試料及
び方法について説明する。
シリコンにP、Bi拡散されてなる4、10両面にNi
電極が形成さnたダイオード(13)チップに軟ろう粉
と該フラッフからなる軟ろうベストインクを塗布し、第
1図の如くベース゛(11)及びリード(12)を組立
て、フォミングガス中でリフロースルことにより直接マ
ウン;・シ放冷後、水又は有機溶剤で超音波洗條し、試
料とした。このダイオードの電気特性として順方向特性
をVF、熱放散特性である△VF及び引張強度をもって
接合性を評価した。
VFの値は順方向に35Aの電流を流した時の電圧(V
)とし、△VFは100mAでのVFを測定しくalと
し、更に170A 、 0.1 secのサージ電流を
流し、この電流が切れたあと500μsec時における
100mAのVF値を再び測定しくb)とし、(a)−
(b)の値(単位はmV)である。
これは半導体が温度があがると、電気抵抗が減少する性
質を利用し、半導体チップ内に過電流により発生した熱
が一定時間後V F (b)を測定し、熱放散の度合を
示すもので、△VFが大きい場合は熱放散が悪いことを
示し、酸化膜やボイドが介在している結果である。
反対に△VFが小さい時は熱放散の良い接合が作られる
事を示し製品特性上からも好ましい。
比較例1 前述評価試料作成要領により市販はんだフラックス2種
を選び軟ろう組成P p −1w / o 8 nを選
び指定さイ′しる稀釈剤によりベストインク状とし。
塗布し、フォミングガス中360 ℃でリフロー結果を
表1にした。軟ろう組fN、Pb−5In−2,5AJ
としりフロ一温度390℃とし、其の結果を表2に示す
比較例2 フラックスを使用しないで軟ろう3φX0.15tのみ
使用し積層方式で作成し、評価したP b −1w/。
Snを表1に示す。同様Pb−5In−2,5Aについ
ては表2に示す。
比較例3 メチルアルコール、エチレングリコール、ジクエオキシ
エタノール1:1:1の溶剤10 cc中に(NH4)
2 Zncl、 4.8 gを溶かしフラックスとし、
Pb−18n粉に10%添加しベストインク状とし前述
試料要領で作成したものを表1に示めした。同様Pb−
5In−2,5Ag の結果を表2に示す。
実施例1 メチルアルコール、エチレンクリコール、ジフェノオキ
シエタノール1:1:1,10cc 中にWWロジン5
g又は水素添加ロジン5gと酢酸アンモニウムIJ7%
加温浴解し、放冷後フラックスとした。250fV1e
sh pb−1w10snに10%の上記フラックスを
混和しベストインク状として、前述比較1と同様処理を
行い、得らイtた結果はww及び水素添加ロジン同様な
結果が得られた。そイtらの結果を表1に示す。
なお同様に250MeshP b −5I n −2,
,5A9により得られた結果を表2に示す。
実施例2 実施例1フラツクスを使用し、 250Mesh 50
w10Pb−50w10 Sn に10%フランクを混
和し、ベストインクとして比較例1と同じ要領でリンロ
一温度のみ240℃した接合評価を表1に示す。
同比較サンプルとして比較例1中a社フランクスによる
もののみを比較例4としだ。
実施例3 実施例1の溶剤10ccに塩化亜鉛(Zncl2)19
と酢酸アンモニウム(NH4A c ) 1.21を溶
解しフラックスとして%P b −1w / o S 
n粉に10%添加しりフロ一温度360℃で得らイtた
結果を表1に示す。同様にPb−5In−2,5A#粉
に10%添加しりフロ一温度390℃で得らnた結果を
表2に示した。
実施例4 実施例1の溶剤に塩化アンモニウム亜鉛(NH4)2Z
nc144.8gと、酢酸アンモニウム(NH4A e
 )1gをm 1!」¥し、Pb−1w10snに10
%添加し。
リフロ一温度360℃で得ら21.た結果を表1に示し
た。同様にPb−5In−2,5A、9粉に10%添加
したものでリフロ一温度390℃で得られた結果を表2
に示す。
実施例5 実施例1の溶剤に酢酸亜鉛1gと、塩化アンモニウム0
.5gと酢酸アンモニウム0.55’を浴かしてフラッ
クスした。250’Mesb Pb−5In−2,5A
Jにこのフラックスを10%加えてベストインク状とし
、前述と同し様なマウントし其の評価結果を表2に示す
実施例の結果を総合すると、■Pb−an系においては
1表1から明らかの如(比較例1a、lb。
比較例3は比較例2より悪い接合特性を示す。実施例1
..3.4は比較例2に近似した値が得られ、ロジン系
でもZncl2系でも酢酸アンモニウムを加えれば良い
接合特性が得られる。■p b −5I Ll −2,
5Agについては表2から比較例1b、比較例3゜実施
例1は比較例2より悪い接合性を示している。
貞節例3,4.5は比較例2に近似した値が得られ、Z
n塩系のみ酢酸アンモニウムを加え良い接合性が得られ
る。■Pb50%5n50%については比較秒114と
実施例2とは等しい値が得られた。この結果から鉛すン
チな組成について酢酸アンモンが有効に作用している。
メ下乍白 表2 pb−5In−2,5Ag リフ口温度390℃
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の詳細な説明するための図である。 11・・・ベース、12・・・リード、13・・・ダイ
オードチップ、14・・・ハンダ。 代理人弁理士 則 近 憲 佑(ほか1名)第1図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ロジン又は水素添加ロジンと酢ばアンそニウムを
    主体としたハロゲンを含まないことを特徴とする軟ろ9
    フラツクス。
  2. (2)塩化亜鉛又は塩化アンモニウム亜鉛と酢酸アンモ
    ニウムを主体としたことを特徴とする軟ろうフラックス
  3. (3)酢酸亜鉛、塩化アンモニウム、酢酸アンモニウム
    を主体としたことを特徴とする軟ろうフラックス。
JP18019383A 1983-09-30 1983-09-30 軟ろうフラックス Pending JPS6072696A (ja)

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JP18019383A JPS6072696A (ja) 1983-09-30 1983-09-30 軟ろうフラックス

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JPS6072696A true JPS6072696A (ja) 1985-04-24

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002059293A (ja) * 2000-08-09 2002-02-26 Ishikawa Kinzoku Kk アルミはんだ付け用フラックス
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US10556160B2 (en) 2010-06-01 2020-02-11 Taylor Made Golf Company, Inc. Golf club head having a stress reducing feature with aperture

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