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JPS6063800A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPS6063800A
JPS6063800A JP58171537A JP17153783A JPS6063800A JP S6063800 A JPS6063800 A JP S6063800A JP 58171537 A JP58171537 A JP 58171537A JP 17153783 A JP17153783 A JP 17153783A JP S6063800 A JPS6063800 A JP S6063800A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
memory cell
address
defective
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58171537A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Iwahashi
岩橋 弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP58171537A priority Critical patent/JPS6063800A/en
Publication of JPS6063800A publication Critical patent/JPS6063800A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring

Landscapes

  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain high reliability without requiring the program of an address due to fuse melting, and to enable to salvage a defective memory cell as a satisfactory product without requiring special test equipment even if the defective memory cell is generated. CONSTITUTION:A conventional spare memory cell array and a spare decoder are removed, and data comparison circuits 41-0...41-7 and defective address storage detection circuits 42-0...42-7 are installed. When the defective memory cell is detected by the comparison circuit 41-0, the address corresponding to the defective memory cell at the time of writing is stored in advance by the above-mentioned defective address storage detection circuit. Selection of the defective memory cell at the time of writing is detected by comparing an input address and a storage address. When agreement of both is detected, right data are inputted to output buffers 23-0...23-7 by reverse rotation of the reading data from respective memory cell arrays 11-0...11-7 by sense amplifiers 22'-0...22'-7. As a result, selective melting of a fuse is not needed and reliability is improved. In addition, no special test equipment is needed, since detection of the defective memory cell and the inversion of the data are executed at the internal circuit of memory.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明はデータの書込み、読出しが可能な半導体メモ
リに曲し、特に不良メモリセルを言む場合のデータ救済
処直を図った半導体メモリに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor memory in which data can be written and read, and particularly relates to a semiconductor memory in which data can be repaired in the case of a defective memory cell.

〔発明の技術的背景〕[Technical background of the invention]

集積回路の微細加工技術の進歩と共に、半導体メモリの
分野ではその記憶容量が益々増大している。そして、同
じチップサイズのメモリ内に構成されるメモリセルの数
が増加するのに伴い、メモリチップ内で生じるメモリセ
ルの不艮の確率も高くなってさている。半導体メモリソ
は、1つでも不良メモリセルが発生すればそのメモリチ
ップは不良品として破莱烙れる。したがって、記憶容垣
が大きいものほど不良品として破棄されるものが多くな
ってくる。
BACKGROUND OF THE INVENTION With advances in microfabrication technology for integrated circuits, the storage capacity of semiconductor memories is increasing. As the number of memory cells configured within a memory of the same chip size increases, the probability of memory cell failure occurring within the memory chip also increases. In a semiconductor memory device, if even one defective memory cell occurs, the memory chip is considered defective and will be destroyed. Therefore, the larger the memory capacity, the more items are discarded as defective.

従来、このような不良メモリセルが発生したメモリを良
品として救街する技術としては、第1図に示すように予
備のメモリセルアレイを用意したものが知られている。
Conventionally, as a technique for saving a memory in which such a defective memory cell has occurred as a non-defective product, there is a known technique in which a spare memory cell array is prepared as shown in FIG.

すなわち、一番1図は従来の半尋体メモリの構成?示す
ゾロノク図である。このメモリは一度に8ビットのデー
タを並列的にアクセスする8ビット並列処理のものであ
シ、データの書込みおよび読出しが可能なそれぞれ複数
のメモリセル′!il−有する8個のメモリセルアレイ
1ノ−0ないしl1−7がQけられている。これら各メ
モリセルアレイ11−OないしI1−7内のメモリセル
は、アドレスAO・Ao・′”−Aj・Ajが入力され
る行デコーダ12の出力に応じて複数の行緑13のうち
の1本が駆動されることによシ、それぞれ1行分が選択
はれる。一方、アドレスa。+la6+・−・ai.肩
が入力される列デコーダ14の出力により複数の列選択
諜15のうちの1本が駆動される。
In other words, is the first diagram the structure of a conventional half-body memory? It is a Zoronok diagram shown. This memory is an 8-bit parallel processing type that accesses 8 bits of data in parallel at a time, and has a plurality of memory cells each capable of writing and reading data! Eight memory cell arrays 1-0 to 11-7 having il- are Q-shaped. The memory cells in each of these memory cell arrays 11-O to I1-7 are assigned to one of the plurality of rows 13 according to the output of the row decoder 12 to which the addresses AO・Ao・′”−Aj・Aj are input. On the other hand, one of the plurality of column selectors 15 is selected by the output of the column decoder 14 to which the address a.+la6+...ai.shoulder is input. The book is driven.

これによシ、上記各メモリセルアレイ11−0ないし1
1−7に対応して設けられている列選択回路l6−0な
いし16−71/Jの対応すりそれぞノし1つの列線返
択用トンンソスタ17が駆動される。1つの列縄選択用
トランノスタ17がそれぞれ駆動されると、メモリセノ
レアレイ11一〇ないし11−7内で予め選択ちれた各
1行分のメモリセルのうちの1つが、谷1本の列緋18
およひ駆動状態にある上記1つの列線選択用トランジス
タ17を介して各データ入出力点19一〇ないし19−
7に接続される。すなわち、これによクて各メモリセル
アレイ11一〇ないし11−7内で各1個のメモリセル
が選択され、選択後はこれら各メモリセルに対してデー
タの畳込み、読出しが行なわれる。まず、÷一夕畳込み
の場合には、データ入出力端子20−Oないし20−7
に供給される入力データD。ないしD7が、入カバッフ
72J−0ないし21−7それぞれを介して上記データ
入出力点19−Oないし19−7に与えられることによ
Q行なわれる。データ読出しの場合には、上日己データ
人出力点19−0ないしl9−7の電位が前記選択され
たメモリセルの記憶データに応じて変化芒れる。この電
位が各センスアンデ22−Oないし22−7によってデ
ータとして検出され、さらにこのデータは各出力・クノ
ファ23−Oないし23−7全介して上記データ入出力
端子20−Offいし20−7に肌出しデータD。fx
いしD7として出力きnる。なお、上記各データ入出力
点19−071i:いし19−7にはトランノスタ等か
らなる負荷回路24−Oないし24−7が設けられてい
る。
Accordingly, each of the memory cell arrays 11-0 to 11-1
One column line return transformer 17 is driven for each of the column selection circuits 16-0 to 16-71/J provided corresponding to 1-7. When one column selection transnoster 17 is driven, one of the memory cells for each row selected in advance in the memory sensor arrays 11-10 to 11-7 is selected from the column of one valley. Hi 18
Each data input/output point 1910 to 19-
Connected to 7. That is, one memory cell in each memory cell array 1110 to 11-7 is selected by this, and after selection, data is convoluted and read from each memory cell. First, in the case of ÷overnight convolution, data input/output terminals 20-O to 20-7
Input data D supplied to. to D7 are applied to the data input/output points 19-O to 19-7 via input buffers 72J-0 to 21-7, respectively. In the case of data reading, the potentials of the upper and lower data output points 19-0 to 19-7 change depending on the data stored in the selected memory cell. This potential is detected as data by each sense amplifier 22-O to 22-7, and further this data is sent to the data input/output terminals 20-Off to 20-7 through each output/knofer 23-O to 23-7. Skin exposure data D. fx
It is outputted as stone D7. Note that each of the data input/output points 19-071i to 19-7 is provided with load circuits 24-O to 24-7, each consisting of a transnostar or the like.

さらにこの半導体メモリでは、各メモリセノレアレイ1
1−Oないし1ノ−7に不良メモリセルが存在ずるとき
に、この不良メモリセノレヲ&む1行分のメモリセルと
植サ換えて使用される予備のメモリセルアレイ25一〇
ないし25−7が、メモリセルアレイ1l一〇ないしl
1−7に対応して設けられている。こ11ら予1fti
のメモリセノレアレイ25−0ないし25−7は前d己
行デコーダ12に入力されるアドレスと同4it<のア
ドレスA。rA。+・・・Aj.が入力される予1fK
のデコーダ26によってメモリセルアレイ1ノ一〇ない
し11〜7の代シに退択芒れるようシしなっている6捷
た、この予倫のrコーダ26からnIJ記行デコーダ1
2にはitilJ御信号刀λ惧給さJムている。
Furthermore, in this semiconductor memory, each memory sensor array 1
When there is a defective memory cell in 1-O to 1-7, the spare memory cell arrays 251 to 25-7 are used to replace the defective memory cell in one row of memory cells. Memory cell array 1l 10 to 1
1-7. Ko 11 et al. 1fti
The memory sensor arrays 25-0 to 25-7 have the same address A as the address input to the previous row decoder 12. rA. +...Aj. 1fK is expected to be input
The decoder 26 of the memory cell array 1 is configured to select from memory cell arrays 1-10 to 11-7.
2 has itilJ's signal sword λ and Jmu.

上1己予備のデコーダ26vよ、第2図に示すように、
釦荷MOS}ランノスタ3ノとケ9−トに前記アドレス
が人力さノLる,鳴動用のMOS}ランジスタ32およ
びアドレスプログラム用のたとえばポリシリコン等で構
成されたヒー−ズ33からなるデコーダ金少なくとも1
つ備えている。
First, my spare decoder 26v, as shown in Figure 2,
A decoder (MOS) for ringing, in which the address is manually input to the runners 3 and 9, consists of a transistor 32 and a heater 33 made of, for example, polysilicon, for address programming. at least 1
It has one.

そして、上一ピヒューズ33をレーザ元の照射等で選択
的に溶断することにより、メモリセルアレイ11−0な
いし11−7内で発生している不良メモリセルに対応[
7たアドレスが予めプログラムされる。い筐不良メモリ
セルに対応したアドレスが入力されると予備のデコーダ
26が成立し、この出力によって予1+itiのメモリ
セルアレイ25−0冫’f,いし25−7が33択され
る。このとき、予備のデコーダ26からの信号によって
前記行デコーダ12は非成立となシ、メモリセルアレイ
J7−072いし11−7内のメモリセルは選択さ庇な
い。
Then, by selectively blowing out the upper pyfuse 33 by irradiation with a laser source, etc., the defective memory cells occurring in the memory cell arrays 11-0 to 11-7 can be dealt with.
7 addresses are preprogrammed. When the address corresponding to the defective memory cell in the housing is inputted, the spare decoder 26 is established, and 33 of the memory cell arrays 25-0 to 25-7 of 1+iti are selected by the output. At this time, the row decoder 12 is disabled by the signal from the spare decoder 26, and the memory cells in the memory cell arrays J7-072 to J11-7 are not selected.

このように、予例のメモリセルアレイ25一Oないし2
5−7が設けられた従来のメモリでは、正規のメモリセ
ルアレイ11一〇ないし1ノ−7内に不良メモリセルが
発生したときVこ、これを予11tηのメモリセルアレ
イ25−Oないし25−7と置キ換えることにより、不
良となっていたものを良品とすることができる。このた
め、良品歩留シを高めることができ、ひいては製造価格
の低減化が達成できるものである。
In this way, the memory cell arrays 251-2 of the previous example
In the conventional memory provided with memory cell arrays 25-0 to 25-7, when a defective memory cell occurs in the normal memory cell arrays 11-1 to 1-7, it is stored in memory cell arrays 25-O to 25-7 of By replacing it with , a defective product can be made into a good product. Therefore, the yield of non-defective products can be increased, and the manufacturing cost can be reduced.

〔背景技術の問題点〕[Problems with background technology]

弟1図に示す従来の半導体メモリでは、不良メモリセル
に対応するアドレス金、予1tkのデコーダ26内でヒ
ューズ33の選択浴断全行なうことによってプログラム
している。このヒ一一ズ溶断は、上記したようなレーザ
光の!0射や過大宛,流を流し、このときに発生するジ
ュール2、\によって行なっている。このように従来で
はヒューズ33を溶断する必要があり、浴:+ノrVc
失敗したり、あるいは溶断する際にポリシリコンの一部
がチップ表面に飛散して付肘すること4により信頼性の
低下r招くという欠点かりる。また、上6己のようなア
ドレスのグロダラムは、>11常、グイソートデスト工
程でrryetわ几ている。
In the conventional semiconductor memory shown in FIG. 1, programming is performed by selectively blowing off the fuse 33 in the decoder 26 of the first address corresponding to the defective memory cell. This fusing is caused by laser light like the one mentioned above! This is done using the joules 2 and \ generated at this time when zero rays and excessive rays are flowed. In this way, in the past, it was necessary to blow out the fuse 33, and the bath: +norVc
A drawback is that when failure or melting occurs, a portion of the polysilicon scatters onto the surface of the chip, resulting in a decrease in reliability. In addition, Grodaram with an address like the above 6th one is >11 always rryet in the guiso dest process.

このため、この工程にセする時間が1口グラムの分だけ
長くかかシ、価格の上昇tもたらしている。δらに、ア
ドレスのプログラムは専用のプログラマを用いて何なわ
7’Lるので、製品の出荷後K不艮メモリセルが兄生じ
た拗合にと几ヶ使用者・劃で救済するためには市価なプ
ログラマを用意しなくてはならず実際的ではない。
For this reason, the time required for this process is longer for each gram, resulting in an increase in price. In addition, since addresses are programmed using a special programmer, it is necessary for the user and the user to remedy the problem that occurs after the product is shipped. This is not practical as it requires a commercially available programmer.

〔凭明の目的〕 この発明は上記のよりな器情を拷t柩してなされたもの
であり、その目的は、ヒューズの溶断によるアドレスの
プログラムを必四としないことによって化頼性k+’a
r<することかでさ、不艮メモリセルがグ6生しても特
別なテスト槓器を必侠とぜずに良品として救済すること
がでさる半得体メモリt提供することにある。
[Purpose of the present invention] This invention was made by exploiting the above-mentioned features, and its purpose is to improve reliability by eliminating the need to program addresses by blowing fuses. a
The purpose of the present invention is to provide a semi-integrated memory that can be salvaged as a good product even if a defective memory cell fails without requiring a special tester.

〔発明の概委〕[Summary of the invention]

上記目的ケ遅成するためこの発明にあっては、r−夕書
込み時において、■六一込″t1れたデータケメモリセ
ルから読出し、との抗出されたデータと上記書込みデー
タとの一致比較を行ない、両データが一致してい′f!
:.りればこのメモリセルが不艮であると判断してその
不良メモリセルに対応したアドレスを記憶しておき、デ
ータ’t++2+a+.4にメモリセルからデータヲF
iI′C出す際に人力聖JLるアドレスが上記不良メモ
リセルに対応したものと一致したときには、そのメモリ
セルからfit(出されるデータの反転データを出力す
るようにしたものである。
In order to achieve the above purpose, in the present invention, when writing data at t1, data is read from the memory cell, and the data read out from the memory cell matches the written data. A comparison is made and both data match 'f!
:. If so, it is determined that this memory cell is defective, the address corresponding to the defective memory cell is stored, and the data 't++2+a+. 4. Data from memory cell to F.
When the iI'C address is matched with the address corresponding to the defective memory cell, fit (inverted data of the output data) is output from that memory cell.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下図而を参照してこの軸明の一夷Di!ifi+4を
説明する0編3図はこの発明に係る半,v7体メモリの
一笑施例の構成を示すブロック図である。このメモリは
第1図に示す従来のものと同様+08ビッ−ト並列処理
のものである。第3図に村いて、11−0ないし11−
7は、従来と回抹(゛こ、データの書込みおよび読出し
がoJ能なそれぞれ復数のメモリセルを有するメモリセ
ルアレイでろり、ノ2は行デコーダ、13は行》塚、1
4tよ列デコーダ、15は列選択yJ、l6−oないし
16−7は内部に前記列;1輩選択用トランノスタ17
cRi3図では図示せず)が設けられた列選択回路、1
8は列課、ノ9−0ないし19−7はデータ人出力点、
20−0ないし20−7はデータD。ないしD7の入出
力端子、21−0ないし2ノー7は入カパノファ、22
’−0ないし22’−ylrJ:センスアング、23−
0ないし23−7は出力パッファ、24−0ないし24
−7は負荷回路である。そしてこの実施1クリ回路では
、従来回路に設けられていた予備のメモリセルアレイ2
5−0ないし25−7および予備のデコーダ26が取り
除かれ、新たにデータ比較回路41−Oないし4ノ−7
と不艮アドレス記憶検出回路42−0ないし42−2が
設けられる。
Please refer to the diagram below to see if this is the right time for you! FIG. 3, part 0, for explaining ifi+4 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of a semi-V7 body memory according to the present invention. This memory is of +08 bit parallel processing type, similar to the conventional one shown in FIG. 11-0 or 11-
Reference numeral 7 is a memory cell array having a plurality of memory cells each capable of writing and reading data in a conventional manner; 2 is a row decoder; 13 is a row decoder;
4t is a column decoder, 15 is a column selection yJ, l6-o to 16-7 are internal columns;
cRi3 (not shown in the figure) is provided with a column selection circuit, 1
8 is the column section, 9-0 to 19-7 are the data person output points,
20-0 to 20-7 are data D. or D7 input/output terminals, 21-0 or 2 No. 7 is input capanofer, 22
'-0 to 22'-ylrJ: Sense Ang, 23-
0 to 23-7 are output buffers, 24-0 to 24
-7 is a load circuit. In this embodiment 1 clear circuit, the spare memory cell array 2 provided in the conventional circuit is
5-0 to 25-7 and the spare decoder 26 are removed, and data comparison circuits 41-O to 4-7 are newly installed.
and invalid address storage detection circuits 42-0 to 42-2 are provided.

上記各データ比転回路4ノ一〇ないし41−7は、各メ
モリセルアレイ11−0−11いし1ノ−7にデータ督
込みが行なわれる際に各入力バッファ21−0ないし2
ノ−7から出力きノしる一データと、上記データの書込
み埃、l”J−アドレヌのメモリセル〃為ら読出ちれ各
センスアンデ22’−0ないし22’−7で検出された
データとの一致比収を行なうものでめる。丑た、上記各
不艮アドレス記1,ほ検出回路42−oないし42−7
には前記イテデコーダ12および列デコーダl4に入力
式iLているアドレスA。,]τ,・・・Aj+Aj*
86*&6+”’ai*Aiが入カさノしておシ、上記
各ブゝ一夕比牧回路4ノ一〇ないし41−7で両データ
が一致し冫冫いメモリセルに対応するアドレス全記ツ,
ハずるようVCなっている。
Each of the data ratio conversion circuits 4-10 to 41-7 is connected to each input buffer 21-0 to 21-2 when data is loaded into each memory cell array 11-0-11 to 1-7.
Output signal data from No. 7, writing dust of the above data, reading dust from the memory cell of l''J-address and data detected by each sense antenna 22'-0 to 22'-7. Detecting circuits 42-o to 42-7 for each of the above-mentioned address records 1 and 42-o to 42-7.
Address A is input to the ite decoder 12 and the column decoder l4. ,]τ,...Aj+Aj*
86*&6+"'ai*Ai is input, and both data match in each of the blocks Ichiyuhimaki circuit 4-10 to 41-7, and the address corresponding to the cold memory cell is entered. Complete list,
VC is becoming a problem.

さらに上t,ピメモリセルアレイ11−Oiイシ11−
7Vこおけるデータの記憶後、上記各不良アドL’ス記
1,ホ検出回VJ42−t)ないし42−7は、予め記
1筋しているアドレスと入力アドレスとを比4zL,、
両アドレスが一致(一ているとびに各センスアンf22
’−0ないし22’−7に制御信号を出力する。各セン
スアンf22’−0.’xいし22’−7は不良アドレ
ス記憶倹出回kzi42−0ないし42−7から上記制
御48号が入力したときに、検出データの反転データを
各出力パッファ23−θないし23−7に出力するよう
になっている。
Furthermore, top memory cell array 11-Oi 11-
After storing the data at 7V, each of the above-mentioned defective addresses L' 1, E detection times VJ42-t) to 42-7 compares the previously recorded address with the input address 4zL,...
Both addresses match (each sense an f22
A control signal is output from '-0 to 22'-7. Each sense an f22'-0. 'x-22'-7 outputs the inverted data of the detected data to each output buffer 23-θ to 23-7 when the above control number 48 is input from the defective address storage circuit kzi42-0 to 42-7. It is supposed to be done.

すなわち、上記実施例回路では、メモリセルアレイ1ノ
一〇ないし1ノ−7内のメモリセルにデータを記憶させ
る場合に、そのメモリセルが正常であればt込みデータ
と読出しデータとが一致することを利用しているもので
ある。すなわち、各データ比較回路41−oないし41
−7でデータの非一致が検出されるということはそのメ
モリセルが不良であることを意味し、この不良メモリセ
ルを良品として使用するにはその臥出しデータの反転デ
ータケ利用すればよいことになる。そこで、データ書込
み時にこの不良メモリセルに対応したアドレス金不艮ア
ドレス記憶検出回蹟42−Oないし42−7で予め記憶
しておき、データ記1恩後のデータレC出し時にこの不
良メモリセルが選択されることを入力アドレスと記憶ア
ドレスとの比較によって槻出し、両アドレスの一致が検
出されたとキヲ′ごセンスアンプ22’−0ないし22
’−7で各メ七リセルアレイ11−0ないし1ノ−7か
らのiilc出しデータ全反転して正しいデータ葡出力
パッファ23−0ないし23−7K入力するようにして
いる。
That is, in the above embodiment circuit, when data is stored in the memory cells in memory cell arrays 1-10 to 1-7, if the memory cells are normal, the t-in data and the read data match. This is what is being used. That is, each data comparison circuit 41-o to 41
If a data mismatch is detected at -7, it means that the memory cell is defective, and in order to use this defective memory cell as a good product, it is only necessary to use the inverted data of the lying data. Become. Therefore, when writing data, the address corresponding to this defective memory cell is stored in advance in the address memory detection circuits 42-O to 42-7, and when the data record C is output after data writing 1, this defective memory cell is The selection is determined by comparing the input address and the memory address, and when a match between the two addresses is detected, the sense amplifiers 22'-0 to 22
At '-7, all of the IILC output data from each of the memory cell arrays 11-0 to 1-7 is inverted so that the correct data is input to the output buffers 23-0 to 23-7K.

このように上記災施例回路では、不良メモリセルに対応
するアドレスを予め記憶しておき、データ記1意後のデ
ータ読出し時に入力アドレス全上記記憶アドレスと比較
し、上記不良メモリセルが選択され両アドレスが一致し
たときにこの不良メモリセルからの読出しデータに対す
る反転データをデータとして出力するようにしたので、
従来のようなヒー−ズの4択溶断は不必・,“2である
。すなわち、との笑施例回路では正常なデータを出力さ
せるために、データの比較、アドレスの記憶、アドレス
の比較、データの反転操作という信号処理のみ全行なっ
ているので、従来よりもイs頼性を大幅に市くすること
ができる。しかも、不良メモリセルの検出、データの反
転は半導体メモリの内部回路で行なわれるので、特別な
テスト様器全使用せずに、不良の発生したものを良品と
して救仇することができる,第4図はこの発明の他の実
施例に係る半専体メモリの構成を示すブロック図である
。第2図の実施例回路では各ビットに対して独立に不良
アドレス記憶検出回路42−0ないし42−7を設けて
いたが、この実施例回路では8ビット分に対して1つの
不良アドレス記憶検出回路43ケ共辿に設けるようにし
たものである。すなわち、各データ比較回路4ノ一〇な
いし4ノ−7の比較結果に応じて、不艮アドレス記憶検
出回路43は不良メモリセルに対応したアドレスを予め
記憶する。そしてデータV己1逝後のデータ読出し時に
は記憶アドレスと入力アドレスとを比観し、両アドレス
が一致すれば前記不艮メモリセルの存在するビットのセ
ンスアンプ22′に制イ卸{g号を出力して、メモリセ
ルからの読出しデータの反転デーク勿出力せしめる。
In this manner, in the above-described disaster example circuit, addresses corresponding to defective memory cells are stored in advance, and when data is read after data recording, all input addresses are compared with the above-mentioned storage addresses, and the defective memory cell is selected. When both addresses match, the inverted data of the read data from this defective memory cell is output as data.
The conventional four-choice fusing of the heater is unnecessary.In other words, in the example circuit, in order to output normal data, data comparison, address storage, address comparison, Since only the signal processing of data inversion is performed, reliability can be significantly improved compared to conventional methods.Furthermore, detection of defective memory cells and data inversion are performed in the internal circuit of the semiconductor memory. Therefore, it is possible to salvage a defective product as a good product without using any special test-like equipment. FIG. 4 shows the configuration of a semi-dedicated memory according to another embodiment of the present invention. 2 is a block diagram. In the embodiment circuit of FIG. 2, defective address storage detection circuits 42-0 to 42-7 are provided independently for each bit, but in this embodiment circuit, one circuit for 8 bits is provided. In other words, according to the comparison results of each data comparison circuit 4-10 to 4-7, the defective address storage detection circuit 43 is installed in parallel. The address corresponding to the memory cell is stored in advance.Then, when reading data after the data V1 has passed, the storage address and the input address are compared, and if the two addresses match, the bit where the invalid memory cell exists is sensed. A control signal (g) is output to the amplifier 22' to cause the inverted data read from the memory cell to be output.

v.5図はこの発明のさらに他の実施例に係る半尋体メ
モリの摘成を示すプロソク図である。
v. FIG. 5 is a prosock diagram showing the implementation of a half-body memory according to still another embodiment of the present invention.

上記第4図の実施例回路において、不艮アドレス記憶検
出回路43では各データ比較回路4ノ一〇ないし41−
7からの1B号人力経路と、センスアンゾ22’−0な
いし22’−7への伯号出力経路が独立している。とこ
ろが、これら両経路に同時に信号が伝遅されることはな
く、信号伝達期間が1なシ合っていない。このため、こ
の実施例回路では出力状態が高インピーダンスに設定可
能なデータ比較回路41’−0ないし41’−7を設け
て、不良アドレス記憶検出回路43とセンスアンプ22
’一〇ないし22’−7およびデータ比較回路41’−
0ないし41’−7との間の信号経路を兼用するように
したものである。
In the circuit of the embodiment shown in FIG.
The No. 1B manual power route from No. 7 and the Hakugo output route from Sensuanzo 22'-0 to 22'-7 are independent. However, signals are not transmitted and delayed simultaneously on both of these paths, and the signal transmission periods are not equal. Therefore, in this embodiment circuit, data comparison circuits 41'-0 to 41'-7 whose output state can be set to high impedance are provided, and the defective address storage detection circuit 43 and the sense amplifier 22 are provided.
'10 to 22'-7 and data comparison circuit 41'-
The signal path between 0 and 41'-7 is also used.

第6凶は前記第3図の爽施例回路における人カバッファ
2ノ、センスアンプ22′およびデータ比較回路4ノそ
れぞれを0ビット目のものについて具体的に示した回路
図である。入カバ,ファ21−0は、入カデータD。k
ノk次反転す心ように設けられた4個のφ型のインパー
タ51ないし54と、電源電圧VC印加点とアース点と
の間に1α列挿入され上記2個のインパータ54,5.
7の出力をダート入力とする2個のMOS}ランノスタ
55.56と、上記2個のインバータ53.54の出力
端とアース点との間に挿入され、前記メモリセルアレイ
11−Oないし11−7にデータ畳込みが行なわれる際
に0レベルに設定される信号Rがそれぞれのダートに入
力される2個のMOS}ランジスタ57,58とから構
成されている。この人カバッファ2ノ一〇では、16′
号Rが0レベルに設足されるトMOSトランジスタ57
.58が共にオフにされ、この結果、出力段の2個のM
OS}ランジスタ55,56は人カデータD。に応じて
一万がオンに、他方がオフにされる。ここで人力データ
D。が1レベルのときにはMOSトランジスタ55かオ
ン状j糊にざれかつMOSトランジスタ56がオフ状態
にされ、入カデータD0がOレベルのときにはこJしと
は反対にMOS}ランジスタ55がオフ状態にされかつ
MOS}ランノスタ56がオン状態にされるので、人力
データ1〕。
The sixth example is a circuit diagram specifically showing the buffer 2, the sense amplifier 22', and the data comparison circuit 4 in the embodiment circuit of FIG. 3 for the 0th bit. The input cover 21-0 is input data D. k
Four φ-type inverters 51 to 54 are arranged so as to have a k-th inversion center, and the two inverters 54, 5 .
Two MOS} runnostars 55, 56 each having the output of 7 as a dirt input, and the memory cell arrays 11-O to 11-7 are inserted between the output terminals of the two inverters 53, 54 and the ground point. The circuit is composed of two MOS transistors 57 and 58, into which a signal R, which is set to 0 level when data convolution is performed, is input to each dart. This person is 16' in Kabuffa 2 No. 10.
A MOS transistor 57 in which the number R is set to 0 level.
.. 58 are both turned off, resulting in the two M
OS} The transistors 55 and 56 are human data D. 10,000 is turned on and the other is turned off. Here is the human power data D. When D0 is at the 1 level, the MOS transistor 55 is turned on and the MOS transistor 56 is turned off, and when the input data D0 is at the O level, on the contrary, the MOS transistor 55 is turned off and the MOS transistor 56 is turned off. MOS} Runnostar 56 is turned on, so human power data 1].

はそのま1のレベル状態でこの人カバッファ21−Of
介してメモリセルアレイに供給さノLる。
As it is, this person's level is 21-Of
The signal is supplied to the memory cell array via the memory cell array.

センスアンゾ22’−0は、MOSトランジスタ61な
いし65からなシ、メモリセルアレイから読出されたデ
ータの電位を基準ル.位VREF比較する゛亀位比較回
路66と、MOS+−ランジスタ67ないし70からな
り上記電位比較回路66からの出力が入力され前記メモ
リセルアレイからの胱出しデータをd。,doとしてC
f:持するラッチ回路71と、このラッチ回W?571
+’こおける保持データd。,doのいずれか一万をt
itlJ仰イB4じN。.Noに応じて前記出力パ,フ
ァに出力するスイ,チ用の2個のMOS}ランジスタ7
2.73とから構成されている。
The sense amplifier 22'-0 uses the potential of the data read from the memory cell array as a reference voltage from the MOS transistors 61 to 65. The output from the voltage comparison circuit 66 is inputted, and the bladder output data from the memory cell array is inputted. ,do as C
f: The latch circuit 71 with which this latch circuit W? 571
+'Retained data d. , do either 10,000 t
itlJ look up B4jiN. .. Two MOS transistors 7 for switches and switches that output to the outputs P and F according to No.
2.73.

データ比較回路4I−0は、FJ’lJ記人カデータD
oと同一レベルに設定される前記イ/バータ52の出力
を反転するインパータ8ノと、IVIOSトランノスタ
82ないし86かうなる比教回路87およびMOS}ラ
ンジスタ88ないし90からなり前記信号Hに対して位
相がわずかにσれたイイ号R′のタイミングに上記比戟
回路87の出力全人力して信SL。を出力する回路9ノ
と、この信号L。全反転し−UL.t形成するインパー
タ92とから構成されている。
The data comparison circuit 4I-0 is the FJ'lJ reporter data D.
An inverter 8 which inverts the output of the inverter 52 which is set to the same level as the signal H; At the timing of the good signal R' when σ is slightly σ, the output of the ratio circuit 87 is fully powered and the signal SL is generated. and this signal L. Fully reversed - UL. It is composed of an inperter 92 that forms a t-shape.

この第6図回路において、メモリセルアレイにデータ書
込みを行なう場合、入カデータD。のレベルが一万レベ
ルに設定される。たとえばこのデータが1レベルに設定
されると、データ書込み時、信号Rは0レペルに設定さ
れるので、入カバッファ21−θ内の出力段のMOS}
ランジスタ55がオン、56がオフし、メモリセルアレ
イには書込み用データとして1レベルが供給される。上
記データの書込み後は入力データD0はその址まのレベ
ルに設定され、信号Rが1レベルに設足される。信号R
が1レベルにされると、入カパノファ21−OP:3の
MOS}ランジスタ57.58がオン状態にされ、これ
によってbiosトランジスタ55.56がともにオフ
状態にさ扛て入カバッファ21−0の出力が高インピー
ダンス状態にされる。その後、データが書込まれた同一
メモリセルからデータがiilr.出されセンスアンプ
2;I−oに供給される。い廿、上記データのガ込1れ
たメモリセルが不良のものである場合に、センスアンプ
2/−0に供給されるデータは0レペルとなる。すると
センスアンf22′−θ内のラ,,チ回路7ノにはデー
タdoとして0レベルが、データdoとして1レベルが
それぞれラッチされる。したがって、データ比較回路4
ノ−θ内の比較回路87のMOSトランジスタ85のy
−ト人力は1レベルに、MOS}ランジスタ86のゲ一
ト入力は0レベルにそれぞれ設定される。一方、入力デ
ータ1)oは予め1レベルに設定されているので、記1
1・較回路870MOS}ランノスタ83のゲート人力
は0レベルに、MOSトランノスタ84のダート入力は
1レベルKそれぞれ設定される。このとき、比較回路8
7の出力は1レベルとなり、この後、1キ号lビか1レ
ベルに設定されることによって信号L。は0レペルに、
倍号L.は1レベルにそれぞれ設定される。すなわち、
メモリセルが不良であり、前記省込みデータと01出し
データが一致していなければ信号L。が0レペルに、信
号口が1レベルにそれぞれ設定され、これとは反対にメ
モリセルが正常であれば信号Loが1レベルに、信号四
が0レペルにそれぞれ設定される。
In this circuit of FIG. 6, when data is written to the memory cell array, input data D is input. level is set to 10,000 levels. For example, if this data is set to 1 level, the signal R is set to 0 level during data writing, so the output stage MOS in the input buffer 21-θ
The transistor 55 is turned on and the transistor 56 is turned off, and 1 level is supplied to the memory cell array as write data. After writing the data, the input data D0 is set to its original level, and the signal R is set to the 1 level. Signal R
When set to 1 level, the MOS transistors 57 and 58 of the input buffer 21-OP:3 are turned on, which turns both the BIOS transistors 55 and 56 off, and the output of the input buffer 21-0 is turned on. is placed in a high impedance state. Thereafter, data is transferred from the same memory cell to which the data was written to iilr. The signal is output from the sense amplifier 2 and supplied to I-o. However, if the memory cell into which the data is stored is defective, the data supplied to the sense amplifier 2/-0 will be level 0. Then, the 0 level is latched as the data do, and the 1 level is latched as the data do in the A, , and CH circuits 7 in the sense amplifier f22'-θ. Therefore, data comparison circuit 4
y of the MOS transistor 85 of the comparator circuit 87 within no-θ
- The gate input of the MOS transistor 86 is set to the 1 level, and the gate input of the MOS transistor 86 is set to the 0 level. On the other hand, input data 1)o is set to level 1 in advance, so
1.Comparison circuit 870MOS} The gate input of the MOS trannostar 83 is set to 0 level, and the dart input of the MOS trannostar 84 is set to 1 level K. At this time, the comparison circuit 8
The output of 7 becomes 1 level, and after that, the 1st key number 1 bit is set to 1 level, and the signal becomes L. is 0 level,
Double number L. are each set at one level. That is,
If the memory cell is defective and the saved data and 01 output data do not match, the signal is L. is set to level 0, and the signal port is set to level 1. Conversely, if the memory cell is normal, signal Lo is set to level 1, and signal 4 is set to level 0, respectively.

第7図は前記不良アドレス記憶検出回路42−θ内に設
けられる信号L。,Loのラッチ回路の{11゛ζ成を
示す回路図である。このラッチ回路100はMOS}ラ
ンノスタ101ないし106から構成されており、2個
の抵抗107108、コンデンサ109およびインパー
ク110からなる11〒源投入時に所定時間の間パルス
信号を発生する・ぐワーオンリセット信号発生回路11
ノの出力により、予め一方の出力乙が0レペル、他方の
出力Poが1レベルとなるようにリセットされている。
FIG. 7 shows a signal L provided in the defective address storage detection circuit 42-θ. , Lo is a circuit diagram showing a {11゛ζ configuration of a latch circuit. This latch circuit 100 is composed of MOS} runnostars 101 to 106, and 11 consisting of two resistors 107, 108, a capacitor 109, and an impark 110. A power-on reset circuit generates a pulse signal for a predetermined period of time when the power is turned on. Signal generation circuit 11
By the output of , one output B is reset in advance to 0 level and the other output Po is reset to 1 level.

そしてデータ比較回路41−0の出力「0が1レベルに
設定されるときにはMOS}ランジスタ106はオン状
態にされるので、信号Po,Poはリセット状態とは反
対のレRルに設定され、Loが0レペルに設定されると
きにはMOS}ランノスタ106はオフ状態にされるの
で、信号P。,6はリセット状態のレベルのまま保持さ
れる。1′なわち、この第7図のラッチ回路100では
、4・良メモリセルが存在すれば一方の出力POが0レ
ベルに、他方の出力乙が1レベルにそれぞれ設定される
Then, when the output "0" of the data comparison circuit 41-0 is set to the 1 level, the MOS transistor 106 is turned on, so the signals Po and Po are set to the level R opposite to the reset state, and the Lo When is set to level 0, the MOS} runnoster 106 is turned off, so the signal P.,6 is held at the level of the reset state.1' That is, in the latch circuit 100 of FIG. , 4. If a good memory cell exists, one output PO is set to 0 level, and the other output B is set to 1 level.

第8図は前記不良アドレス,;ピ憶検出回路42”−0
内に設けられ不良メモリセルに対応したアドレスを記憶
する不良アドレス記俤回路120の構成を示す回路図で
ある。この回路120は、一端に入力アドレスAo・・
・Aj,aQ・・・a.がそれぞれ入力され前記第7図
に示すl ラッチ回路100の出力P。でスイ,チ制御される複数
のMOSトランノスタ12ノと、これら各MOS}ラン
ノスタ121の他端に接続さノL互いに直列接続された
それぞれ2イρのインバータ122,123と、上記各
2個のインバータ122,123に並列接続され前記第
7図に示すラッチ回路100の出力凸でスイッチf(i
ll御される複薮のMOSLランジスタ124とで11
4成されている。
FIG. 8 shows the defective address; memory detection circuit 42"-0
2 is a circuit diagram showing the configuration of a defective address storage circuit 120 provided therein and storing addresses corresponding to defective memory cells. FIG. This circuit 120 has an input address Ao...
・Aj, aQ...a. are respectively input and the output P of the latch circuit 100 shown in FIG. A plurality of MOS transistors 12 controlled by switches and switches, each of these MOS transistors connected to the other end of the transistor 121, and inverters 122 and 123 each having a value of 2 and ρ connected in series with each other, and each of the above two The output protrusion of the latch circuit 100 shown in FIG.
11 with multiple MOSL transistors 124 controlled by
4 has been completed.

この回路では、前記ラッチ回路100がリセットされて
いるときに、信号P。によってMOSトランジスター2
Jがオン状態にされ、信号厄によって各MOS}ランノ
スタ124がオフ状態にされ、これによって各インバー
ター23からtよ入カアドレスAo−Ajrao〜aが
そのまま出力され、各インバーター24からはそれぞれ
の反転アドレスA。−A,+116〜a1がJ 出力される。ここで、前記書込みデータと貌出しデータ
の不一致がデータ比較回路4ノ−Oで検出されると、前
記ラッチ回路100の出力Po+Poによって各MOS
}ランジスク121がオフ状態にされ、各MOS}ラン
ノスタノ24がオン状態にされる。このときの入力アド
レスは不良メモリセルに対応しており、このアドレスは
インバーター22,123およびMOSトランジスター
24からなる閉ループでアドレスA′。rA’6+”・
κjlrj’ra/ola/,T”’”i+rとして安
定に記憶されることにガる。
In this circuit, when the latch circuit 100 is reset, the signal P. by MOS transistor 2
J is turned on, and each MOS} runnostar 124 is turned off due to the signal error, so that each inverter 23 outputs the input address Ao-Ajrao~a as it is, and each inverter 24 outputs its inverted address. Address A. -A, +116~a1 is output as J. Here, when a mismatch between the write data and the exposed data is detected by the data comparison circuit 4NO-O, the output Po+Po of the latch circuit 100 causes each MOS
}The lamp disk 121 is turned off, and each MOS}lannostano 24 is turned on. The input address at this time corresponds to the defective memory cell, and this address is the address A' in a closed loop consisting of inverters 22, 123 and MOS transistor 24. rA'6+"・
κjlrj'ra/ola/, T"'"i+r.

第9図(u).(b)は、前記不良アドレス記1、ド検
出回路42−0内に設けられ、前記第8図に示す不良ア
ドレス記憶回路120の記憶アドレスと入力アドレスと
の一致比較を行ない、この比較結果に応じて前記センス
アン7°22′内の2個のMOSトランジスタ72.7
3をスイソチ制御するための↑}+11御信号No,N
,を発生する不良アドレス検出回路の構成を示す回路図
である。この回路は第9図(a)に示すビットアドレス
比較回路130をアドレスのビット数分だけ備えている
。この回路130は負荷MOSトランノスタ131と、
4個の駆動MOS}ランノスタ132ないし135から
構成されており、入カア1゛レスAX,札(X=0〜j
)もしくはay+8,(y−0〜i)と前記第8図に示
す不良アドレス記憶回路120の記憶アドレスA′ゆA
lエもしくはa’+&’とが一致したときにOレペノレ
の信号yy EもしくはFを出力する。上記ビ,}アドレXY ス比較1同路130からの出力EX,Fyは前記伯号P
0とともに第91ス(b)中のNOR回路141に入力
される。このNOR回路14ノは信号POが0レベルに
設定されかつ第9図(a)の回路130からの出力E,
Fがすべて0レペルのときにxy すなわち不良メモリセルが存在しており、入力アドレス
が不良メモリセルに対応したアドレスと一致した場合の
ときにその出力むが1レベルに設定される。またこの信
号Noはインパータノ42によってN。に反転される。
Figure 9(u). (b) is provided in the defective address register 1 and code detection circuit 42-0, and compares the memory address of the defective address storage circuit 120 shown in FIG. 8 with the input address, and uses the result of this comparison. Accordingly, the two MOS transistors 72.7 in the sense amplifier 7°22'
↑}+11 control signal No, N for controlling 3
, is a circuit diagram showing the configuration of a defective address detection circuit that generates . This circuit includes bit address comparison circuits 130 shown in FIG. 9(a) for the number of bits of the address. This circuit 130 includes a load MOS trannostar 131,
It is composed of four drive MOS} runnostars 132 to 135, and has an input voltage of 1, 1, 2, 1, 2, 3, 3, 4,
) or ay+8, (y-0 to i) and the storage address A'YA of the defective address storage circuit 120 shown in FIG.
When 1 or a'+&' match, an Orepenore signal yyE or F is output. The outputs EX, Fy from the address XY comparison 1 same path 130 are
0 is input to the NOR circuit 141 in the 91st step (b). This NOR circuit 14 outputs the output E from the circuit 130 of FIG. 9(a) when the signal PO is set to 0 level.
When F is all 0 level, xy, that is, a defective memory cell exists, and when the input address matches the address corresponding to the defective memory cell, its output is set to 1 level. Also, this signal No. is set to N by the inpertano 42. is reversed.

この不良アドレス検出回路における出力む,Noは、上
記したように、PoがOレベルでありかつ入力アドレス
と前記第8図に示す不良アドレス記憶回路120におけ
る記憶アドレスが一致したときのみ1レベル、0レベル
にそれぞれ設定される。このとき、この信号No,N,
により前記センスアン7’22−o内のMOS}ランノ
スタ72.73のうちMOSトランジスタ72がオン状
態にされ、この結果、前記メモリセルから読出されるデ
ータとは反対レベルのデ−タ6が出力パッファに供給さ
れる。
As described above, the output No from this defective address detection circuit becomes 1 level and 0 only when Po is at O level and the input address matches the memory address in the defective address storage circuit 120 shown in FIG. are set for each level. At this time, the signals No, N,
As a result, the MOS transistor 72 of the MOS transistors 72 and 73 in the sense amplifier 7'22-o is turned on, and as a result, the data 6 having the opposite level to the data read from the memory cell is sent to the output buffer. supplied to

第10図は前記第4図の実施例回路に設けられている不
良アドレス記憶検出回路43の、前記第9図(b)に対
応した回路の柾成を示す。この不良アド冫ス記憶検出回
路43では、各ビ,}に対応してiIT記第7図に示す
ような信号Lのラッチ回路100,第8図に示すような
不良アドレス記憶回路120および第9図(a)に示す
ようなビットアドレス比較回路130が設けられている
。そして各ラッチ回路100からの出力とビットアドレ
ス比較回路130からの出力Ex.Fとが各NOR回路
151に入力され、この各y NOR回路15ノの出力として佃号速ないし石が得られ
、またこれらの信号厄ないしN7は各インバーター52
によってNoないしN7に反転される。
FIG. 10 shows a circuit configuration of the defective address storage detection circuit 43 provided in the embodiment circuit of FIG. 4, corresponding to the circuit shown in FIG. 9(b). In this defective address storage detection circuit 43, a signal L latch circuit 100 as shown in FIG. 7 of the iIT record, a defective address storage circuit 120 as shown in FIG. A bit address comparison circuit 130 as shown in Figure (a) is provided. The output from each latch circuit 100 and the output from the bit address comparison circuit 130 Ex. F is input to each NOR circuit 151, and the output of each NOR circuit 15 is a signal, and these signals are input to each inverter 52.
is inverted from No to N7.

第11図はまた前記第4図の火施例回路内の不良アドレ
ス記憶検出回路43に好適な第10図回路に対応した回
路の構成を示すものである。
FIG. 11 also shows the configuration of a circuit corresponding to the circuit of FIG. 10 which is suitable for the defective address storage detection circuit 43 in the circuit of the embodiment shown in FIG.

この回路では前記第7図回路の出力Paないし−1”−
,をNot七1(!l路161に入力して1ず情号Qを
形成し、これをイン・ぐ一夕162で反転して信号δを
形成する。ここで不良メモリセルが存在してい荘ばP。
In this circuit, the output Pa to -1"- of the circuit shown in FIG.
, is input to the Not71 (!l path 161) to form the signal Q, which is inverted by the input signal 162 to form the signal δ. Here, it is determined that there is a defective memory cell. SobaP.

ないしP7のうちいずれか1つが1レベルにされ、これ
によりQはOレベルに、σは1レベルされる。上記信号
Qは前記ビットアドレス比較回路130からの出力Ex
+Fyとともにもう1個のNOR回路163に入力され
る。
Any one of P7 to P7 is set to 1 level, and thereby Q is set to O level and σ is set to 1 level. The signal Q is the output Ex from the bit address comparison circuit 130.
It is input to another NOR circuit 163 together with +Fy.

このNOR回路163の出力は、不良メモリセルが存在
しておシかつ記憶アドレスと入力アドレスが一致したと
きにのみ1レベルに設定される。
The output of this NOR circuit 163 is set to 1 level only when a defective memory cell exists and the storage address and input address match.

上記NOR回路163の出力は信号西ないしP7それぞ
れが入力ずる棲数のNAND回路164に並列的に入力
されている。これらNAND回路164はどのビットに
不良メモリセルが存在しているかを検出して前記センス
アンプ2!内のMOS}ランノスク73をスイッチ制御
するだめの信号NoないしN7を形成するだめのもので
ある。たとえば上記NOR回路163に入力されている
不良メモリセルに対応したアドレスが0ビット目のもの
である場合に※−よ、伯号【30ブノ′−1レベルにさ
れているので、NOのみが0レベノ[・にされ、残りの
N,ないしN7は1レベノレにされる。さらに各信号N
OないしN7は複なの各インバータ165によって扇な
いし四に反転される。こK一らイン・シータ165の出
力Lガいし灯は前記センスアンプ2ノ内のMOSトラン
ジスタ72を制御するために用いられる。
The output of the NOR circuit 163 is inputted in parallel to a NAND circuit 164 in which each of the signals P7 to NOR is inputted in parallel. These NAND circuits 164 detect in which bit a defective memory cell exists, and the sense amplifier 2! This is used to form signals No. to N7 for switching control of the MOS transistors 73 within the MOS transistors. For example, if the address corresponding to the defective memory cell that is input to the NOR circuit 163 is the 0th bit, then only the NO is set to the 0th bit. The remaining N to N7 are set to 1 level. Furthermore, each signal N
O to N7 are inverted fan to four by each of the plurality of inverters 165. The output L signal from the in-theta circuit 165 is used to control the MOS transistor 72 in the sense amplifier 2.

ここで上記信号N。が0レベルに設定さJLると、信号
飢は1レベルに設定される。この場合には、0ビット目
のセンスアンプ2ノ一〇ではMOSトランノスタ72が
オンして、メモリセルから読出されたデータとは反対レ
ベルのデータ石が出力バッファに供給され、残りのセン
スアンフ02z’−1ないし2ノ−7ではMOS}ラン
ノスタ73がオンして、メモリセルから読出されたデー
タと同一レベルのデータd1ないしd7が各出力バッフ
ァに供給される。なお、この回路で形成される信号Q,
Qは、前記第8図に示す不良アドレス記憶回路120で
使用される{i3p,pの代りに第8図回路に供給する
ようにしてもよい。
Here, the above signal N. When JL is set to 0 level, signal starvation is set to 1 level. In this case, the MOS transistor 72 is turned on in the sense amplifier 2 no. 10 of the 0th bit, and a data block having a level opposite to that of the data read from the memory cell is supplied to the output buffer, and the remaining sense amplifier 02z' -1 to 2 to -7, the MOS} runnoster 73 is turned on, and data d1 to d7 at the same level as the data read from the memory cell is supplied to each output buffer. Note that the signals Q, formed by this circuit,
Q may be supplied to the circuit shown in FIG. 8 instead of {i3p,p used in the defective address storage circuit 120 shown in FIG. 8.

第12図は前記第5図の実施例回路に設けられているデ
ータ比較回路41′に好適な信号L,T,百の出力回路
の構成を示す。この場合、第7図の佃号Lの代りに■が
入力される。この回路では前記第6図中の比較回路87
の出力を順次反転するように設けられた2個のvD3J
lのインバータ171.172と、電源電圧V。印加点
とアース点との間に直列挿入され上記2個のインバータ
171,172の出力をr−ト入力とする2個のMOS
}ランジスタ173.174と、同じくvc印加点とア
ース点との間に挿入され上記インバータ172,171
の出力をケ8一ト入力とする2個のMOS}ランジスタ
175,176と、このMOSトランジスタ175,1
76の接続点とアース点との間に接続されダートにそれ
ぞれ信号R′,!が入力されたMOS}ランジスタ17
9,180と、上記インバータ171の出力端とアース
点との間に挿入され前記信号πの反転信号πをf−ト入
力とするMOSトランジスタ177および上記インノ9
−夕172の出力端とアース点との間に挿入され上記1
8号Ieをデート入力とするMOS}ランノスタ178
とから構成されている。
FIG. 12 shows the configuration of an output circuit for signals L, T, and 100 suitable for the data comparison circuit 41' provided in the embodiment circuit of FIG. In this case, ■ is input instead of the letter L in FIG. In this circuit, the comparison circuit 87 in FIG.
Two vD3Js are installed to sequentially invert the output of
l inverters 171 and 172, and a power supply voltage V. Two MOSs are inserted in series between the application point and the ground point and use the outputs of the two inverters 171 and 172 as inputs.
}The transistors 173 and 174 are also inserted between the VC application point and the ground point, and the inverters 172 and 171
Two MOS transistors 175, 176 whose outputs are input as inputs, and these MOS transistors 175, 1
76 connection point and the ground point, respectively, to the dart signals R',! is input MOS} transistor 17
9, 180, a MOS transistor 177 which is inserted between the output end of the inverter 171 and the ground point and receives an inverted signal π of the signal π as f-to input;
- Inserted between the output end of 172 and the ground point, and
MOS with No. 8 Ie as date input} Lannostar 178
It is composed of.

この回路では前記比較回路87から信号が出力された後
に信号正が0レペルにされてMOSトランジスタ177
,178.180がともにオフ状態にされる。また信号
kが゜゛1″レRノレにされMOS}ランノスタ179
1’:]、オンし、扇と己は接続される。このときは、
比較回路87からの出力に応じて各2個のMOSトラン
ノスク173と174,175と176のうちいずれか
一方がオン,他がオフ状態にされて信号L,−[,■の
レベル設定がなされる。一方、前記不良アドレス記憶検
出回路43からセンスアンゾ22′一〇ないし2!−7
に信号を供給するときには、信号Wが1レベルにされて
MOSトランジスタ177.178.180がオン状態
にされる。するとMOSトランジスタ173ないし17
6179がすべてオフ状態にされ侶号し。,己は高イン
ピーダンス状態にされる。この時、Loば′0″レベル
にされるだめ信号P。は安定にラッチされる。
In this circuit, after the signal is output from the comparison circuit 87, the positive signal is set to 0 level, and the MOS transistor 177
, 178, and 180 are both turned off. In addition, the signal k is changed to ゜゛1'' level R, and the MOS} Runnostar 179
1': ], turns on, and the fan and itself are connected. At this time,
Depending on the output from the comparator circuit 87, one of the two MOS transistors 173 and 174, 175 and 176 is turned on and the other one is turned off, and the levels of the signals L, -[, ■ are set. . On the other hand, from the defective address storage detection circuit 43, the sense address 22'10 to 2! -7
When supplying a signal to , the signal W is set to 1 level and the MOS transistors 177, 178, and 180 are turned on. Then, MOS transistors 173 to 17
6179 are all turned off. , the self is placed in a high impedance state. At this time, the low signal P, which is set to the '0'' level, is stably latched.

第13図は前記第6図に示す比較回路87の仙の例を示
すものである。この回路では入カバッファ2ノからの入
力をいったんラッチ回路18ノでラッチしてから比較回
路87に入力し、かつこの回路からの出力をもう1個の
ラッチ回路182でラッチするようにしたものである。
FIG. 13 shows an alternative example of the comparator circuit 87 shown in FIG. 6. In this circuit, the input from input buffer 2 is once latched by latch circuit 18 and then input to comparator circuit 87, and the output from this circuit is latched by another latch circuit 182. be.

なお)両ラッチ回路181.182の制御は前記信号W
によって行なうようにすればよい。
Note) Both latch circuits 181 and 182 are controlled by the signal W.
You can do it by.

第14図は前記センスアンf2z’の他の例を示すもの
である。第6図に示すものではメモリセルからの胱出し
データに対応して互いに反対レベルのデータd,dを形
成し、これのいずれか一方を、Hill御イ。1号N,
百に応じてMOS}ランノスタ72.73を選択的にオ
ン状態にさせることによυ出力するようにしている。と
ころがこの第14図のものではインパータ19ノおよび
2個のh4OSトランジスタ192,193を用いて、
制御{R号N,NK基づき、読出しブ゛一タdをそのn
寸かあるいはインバータ191で反転して出力するよう
にしている。
FIG. 14 shows another example of the sense amplifier f2z'. In the device shown in FIG. 6, data d and d having opposite levels are formed in response to the bladder release data from the memory cell, and one of these is set to Hill. No. 1 N,
By selectively turning on the MOS} lannostars 72 and 73 according to the output voltage, υ is output. However, in the one shown in FIG. 14, an inverter 19 and two h4OS transistors 192 and 193 are used,
Control {Based on R numbers N and NK, readout button d is
The signal is inverted by an inverter 191 and output.

なお、この発明は上記実箔例に限定されるものではなく
種々の変形が可能である。たとえば上記実施例でtd1
ビットのメモリセルしか丁々済できないが、不良アドレ
ス肥俤回路を複数設けてiy数の不良メモリセルに対す
る孜済を行なうことも可能である。壕だ上記実施例では
各メモリセルアレイ11がデータの書込み、読出しが可
能なRAMセルを用いたものである2A合について説明
しだが、これはフローテイングゲ一ト1’i’i造ある
いlzl:MNOS構造を持つMOSトランノスタをメ
モリセルとして用いたEPROMのメモリにもノこ施が
可能である。EPROMにおけるデータの,+1込みは
専用のゾログラマを用いて行なわれており、このデータ
書込みの際に前記と同イ子にしてi?1?.出しデータ
との比較を行ない、不良メモリセルが存在すればそのア
ドレスを、メモリセルそのものにデータの一部として記
憶させるようにすればよい。
Note that this invention is not limited to the above-mentioned actual foil example, and various modifications are possible. For example, in the above example, td1
Although only one bit of memory cells can be processed, it is also possible to provide a plurality of defective address increase circuits and perform processing for iy number of defective memory cells. In the above embodiment, a 2A case was explained in which each memory cell array 11 uses a RAM cell in which data can be written and read. : The present invention can also be applied to an EPROM memory using a MOS transistor having an MNOS structure as a memory cell. +1 writing of data in EPROM is done using a special Zorogramma, and when writing this data, the same i? 1? .. A comparison is made with the output data, and if a defective memory cell is found, its address may be stored in the memory cell itself as part of the data.

〔発明のダ′b呆〕[Da'b of invention]

以上説明したようにこの発明によれば、ヒー−ズの溶断
(cよるアドレスの70ログラムヲ必要としないことに
よって信頼性を高くすることができ、しかも不良メモリ
セルが発生した』易合には特別なテスト段暑:}を使用
せずに内部操作によって良品として救済することができ
る半導体メモリが提供できる。
As explained above, according to the present invention, reliability can be increased by eliminating the need for 70 programs of addresses due to fuse blowout (c), and moreover, it is possible to improve reliability in cases where defective memory cells occur. It is possible to provide a semiconductor memory that can be salvaged as a non-defective product by internal operation without using a test stage.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

41図は従来の半導体メモリの構成を示すブロック図、
弟2図は第1図のメモリの予備のデコーダの柏成を示す
回路図、第3図はこの発明の一実施{/11It(係る
半導体メモリの構成を示すプロソク1Δ、第41′!7
」および第5141はそれぞれこの発明の他の実施例に
係る半導体メモリの措成を示すグロックンI、rh.s
6図ないし第14図はそれぞれ」二記各実施例の一部回
路を具体的に示す回路図およびその屋形例を示す回路図
である。 11・・・メモリセルアレイ13・・7]プコーベ13
・・・行i%i!、14・・・列デコーダ、15・・・
列1号沢稈、16・・列デ択回路、18・・・列イ,ハ
21・・・人カバッファ、22・・・−ヒンスアンフ0
、23・・・I1iノノパッファ、4ノ・・・デーク比
恢回路、42.43・・不良アドレス記1、ζ検出回路
、66・・・’iH,位比11・冫回路、7ノ・・・ラ
ッチ回路、87・・・比ζ−ノ回路、100・・・ラツ
ア回路、120・・・不良アドレス.j己1,4回路、
130・・・ビットアドレス比較回路。 −616− −617− −618−
Figure 41 is a block diagram showing the configuration of a conventional semiconductor memory.
Fig. 2 is a circuit diagram showing the structure of a spare decoder of the memory shown in Fig. 1, and Fig. 3 is a circuit diagram showing an implementation of the present invention {/11It (Process 1Δ, 41'!7 showing the structure of such a semiconductor memory).
” and No. 5141 respectively indicate structures of semiconductor memories according to other embodiments of the present invention. s
6 to 14 are a circuit diagram specifically showing a part of the circuit of each of the embodiments described above, and a circuit diagram showing an example of its house shape, respectively. 11...Memory cell array 13...7] Pukobe 13
...line i%i! , 14...column decoder, 15...
Column No. 1, 16... Column selection circuit, 18... Column A, C 21... Human buffer, 22... - Hinsuanfu 0
, 23...I1i non-puffer, 4th...Dake ratio circuit, 42.43...Failure address record 1, ζ detection circuit, 66...'iH, phase ratio 11/other circuit, 7th... -Latch circuit, 87...Ratio ζ-no circuit, 100...Latsua circuit, 120...Defective address. j self 1,4 circuit,
130...Bit address comparison circuit. -616- -617- -618-

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)アドレヌ入力によって選択されデータの書込み、
読出しを行なうメモリセルを有するメモリセルアレイと
、上記メモリセルに書込まれるデータとデータの1.込
み後K同一アドレスのメモリセルから睨出されるデータ
の一致比較を行ない不良メモリセルを検出する検出手段
と、上記十段で検出される不良メモリセルに対応するア
ドレス金記1,αする不良アドレス記憶手段と、データ
記憶後に上記メモリセルからデータを読出す際に入力さ
れるアドレスが上記不良アドレス記憶手段で記憶されて
いるアドレスと一致している1晴にこのメモリセルから
bc出δれるデータの反転データを出力する反転データ
田力手段とを具俯したことを特徴とする半心体メモリ。
(1) Writing data selected by address input,
A memory cell array having memory cells to be read, data written to the memory cells, and data 1. Detection means for detecting a defective memory cell by performing a match comparison of data detected from memory cells at the same address after loading, and a defective address corresponding to the defective memory cell detected in the above ten stages storage means, and data bc output from this memory cell on one day when the address input when reading data from the memory cell after data storage matches the address stored in the defective address storage means. and an inverted data output means for outputting inverted data.
(2)前記メモリセルアレイが複数個設けられており、
前記不良アドレス記憶手段は各メモリセルアレイ毎に独
立して設けられている特許請求の範囲第1項に記載の半
導体メモリ。
(2) a plurality of the memory cell arrays are provided;
2. The semiconductor memory according to claim 1, wherein said defective address storage means is provided independently for each memory cell array.
(3)前記メモリセルアレイが複数個設けられてお’)
、n’lJ記不良アドレス記憶手段は各メモリセルアレ
イに対して共通に設りられている特8F詰求の範囲第1
項に記載の半導体メモリ。
(3) If a plurality of the memory cell arrays are provided,
, n'lJ defective address storage means is provided in common for each memory cell array.
Semiconductor memory described in section.
(4)前記反転データ出力手段は、前記不良アドレス記
憶手段における記憶アドレスと人力アドレスとの一致比
較を行々う比憎手段と、この手段の比較結果に応じ、上
記メ’%IJセルから読出されるデータおよびその反転
データのいずれか一万を選択出力する選択手段とからな
る%訂請求の馳囲第1項に記載の半導体メモリ。
(4) The inverted data output means includes comparison means for performing a match comparison between the stored address in the defective address storage means and the manual address; 2. The semiconductor memory according to claim 1, further comprising a selection means for selectively outputting any one of the data and its inverted data.
(5)前記データ出力手段は、前記不良ア19レヌ記憶
手段における記憶アドレスと入力アドレスとの一致比較
會行なう比較手段と、この手段の比QuN果に応じ、上
記メモリセルかららフL出されるデータをそのまま出力
するかもし<B:反転して出力する手段とからなる特許
曲求の柱n1々41項に記d改の半導体メモリ。
(5) The data output means outputs the data from the memory cell according to the ratio between the comparison means and the comparison means that compares the storage address in the defective storage means with the input address. <B: Semiconductor memory recited in column n1 and item 41 of the patent application consisting of means for inverting and outputting data.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01116997A (en) * 1987-10-28 1989-05-09 Nec Corp Semiconductor integrated memory
CN1098535C (en) * 1994-06-29 2003-01-08 株式会社日立制作所 A semiconductor memory system
CN1114925C (en) * 1994-12-28 2003-07-16 三菱电机株式会社 Semiconductor storage device having function of inhibiting leakage electric-current redundancy of fault storage unit
JP2016186835A (en) * 2010-11-18 2016-10-27 サムスン セミコンダクター,インコーポレーテッド Memory write error correction circuit

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