JPS6045952A - 情報記録用ディスク - Google Patents
情報記録用ディスクInfo
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- JPS6045952A JPS6045952A JP58152445A JP15244583A JPS6045952A JP S6045952 A JPS6045952 A JP S6045952A JP 58152445 A JP58152445 A JP 58152445A JP 15244583 A JP15244583 A JP 15244583A JP S6045952 A JPS6045952 A JP S6045952A
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- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
- G11B2007/25705—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials
- G11B2007/25715—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers consisting essentially of inorganic materials containing oxygen
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学的に透明な樹脂成形体を基体と成し、この
基体上に融点５０℃以上のエポキシアクリレートプレポ
リマーおよび／またはウレタンアクリレートプレポリマ
ーの放射硬化層が設けられ、更に該硬化層上に蒸着また
はスパッタ等の常法により、酸化物薄膜および情報記録
用薄膜が形成されて成る情報の書き込みおよび読出しが
出来る情報記録用ディスクに関するものである。
基体上に融点５０℃以上のエポキシアクリレートプレポ
リマーおよび／またはウレタンアクリレートプレポリマ
ーの放射硬化層が設けられ、更に該硬化層上に蒸着また
はスパッタ等の常法により、酸化物薄膜および情報記録
用薄膜が形成されて成る情報の書き込みおよび読出しが
出来る情報記録用ディスクに関するものである。
従来書き込み、読み出し可能な情報記録用ディスクの一
般的な作シ方は、光学的に透明なポリメチルメタアクリ
レ−） （ＰＭＭＡ）樹脂またはボリカーボネー） （
ＰＣ）樹脂の射出成形基板表面上に、セレン、テルル等
の情報記録可能な金属層またはテルル−カーボン複合層
を、蒸着、スパッターリングまたはプラズマ重合等の方
法によシ形成させ、必要に応じてオーバーコート層を施
こすといった方法が用いられておｐ、ＰＭ基体のディス
クが市販されるに至っている。
般的な作シ方は、光学的に透明なポリメチルメタアクリ
レ−） （ＰＭＭＡ）樹脂またはボリカーボネー） （
ＰＣ）樹脂の射出成形基板表面上に、セレン、テルル等
の情報記録可能な金属層またはテルル−カーボン複合層
を、蒸着、スパッターリングまたはプラズマ重合等の方
法によシ形成させ、必要に応じてオーバーコート層を施
こすといった方法が用いられておｐ、ＰＭ基体のディス
クが市販されるに至っている。
然しなから基体がｐｍであること、および成形時の光学
的歪みを避ける目的でフローの大きい比較的低分子量の
ｍである、為に種々の問題を有している。即ち、 １）基体中の腺仏モノマーまたは低重合度オリゴマー等
が機能膜界面に溶出し、化学的浸蝕が生じ機能膜の長期
信頼性を損ねる。
的歪みを避ける目的でフローの大きい比較的低分子量の
ｍである、為に種々の問題を有している。即ち、 １）基体中の腺仏モノマーまたは低重合度オリゴマー等
が機能膜界面に溶出し、化学的浸蝕が生じ機能膜の長期
信頼性を損ねる。
２）基体ｍ樹脂が熱可塑性樹脂であるため、耐熱性に劣
シ、機能膜蒸着時に基板表面が変形し機能膜にクラック
が生じ易い。
シ、機能膜蒸着時に基板表面が変形し機能膜にクラック
が生じ易い。
３）基体表面よシネ鈍物としてのｍモノマー、吸着水等
に起因するガスが発生するため蒸着機能膜と基体との密
着性が悪い。
に起因するガスが発生するため蒸着機能膜と基体との密
着性が悪い。
４）基体表面の耐摩耗性が著しるしく劣シ、表面は傷つ
き易く機能膜の信頼性が劣る等の重大な欠点があシ、基
板に起因したエラーが大きく、基体の高精度化が強く望
まれて来ている。
き易く機能膜の信頼性が劣る等の重大な欠点があシ、基
板に起因したエラーが大きく、基体の高精度化が強く望
まれて来ている。
一方これらの問題点を解決すべく、基体表面に三次元架
橋構造を有する硬化樹脂塗膜を形成する方法は従来各種
提案されておシ、特に放射硬化樹脂系を用いる現実的可
能性を有する方法も提案されてはいる。然しなからこれ
とても基体表面に均一に塗布するという観点から社不充
分であり、基体表面上でのハジキ、ピンホールの発生、
基体との密着性および本発明の構成要件の１つである酸
化物薄膜層との密着性、透明性、耐熱性等の性能をすべ
て満足しなければならない。
橋構造を有する硬化樹脂塗膜を形成する方法は従来各種
提案されておシ、特に放射硬化樹脂系を用いる現実的可
能性を有する方法も提案されてはいる。然しなからこれ
とても基体表面に均一に塗布するという観点から社不充
分であり、基体表面上でのハジキ、ピンホールの発生、
基体との密着性および本発明の構成要件の１つである酸
化物薄膜層との密着性、透明性、耐熱性等の性能をすべ
て満足しなければならない。
本発明者らは硬化塗膜に関するこれらの問題点を一挙に
解決すべき方法を検討した。その結果均一塗膜を形成す
るにはワニスが造膜性を有していることが不可欠である
こと、そのためには常温で一定以上の分子量の固形のア
クリレートプレポリマーが好適であシ、更に興味あるこ
とにはワニスよシ乾燥によシ形成された固形塗膜が紫外
線等の放射によシ固体のまま重合し、この塗膜がディス
ク表面の硬化塗膜として優れていることを見い出した。
解決すべき方法を検討した。その結果均一塗膜を形成す
るにはワニスが造膜性を有していることが不可欠である
こと、そのためには常温で一定以上の分子量の固形のア
クリレートプレポリマーが好適であシ、更に興味あるこ
とにはワニスよシ乾燥によシ形成された固形塗膜が紫外
線等の放射によシ固体のまま重合し、この塗膜がディス
ク表面の硬化塗膜として優れていることを見い出した。
更に造膜性を有するワニスであるだめ、ピンホール、ハ
ジキ等は見られず、均一な塗膜が形成される。また硬化
塗膜を放射線照射に引き続いて熱処理することも効果的
であることを見い出した。更に上述の樹脂コートと相ま
ってより一層の記録用ディスクとしての信頼性向上を図
る目的で、該硬化塗膜層の上に、更に５ｉ０２ 、Ｔｆ
０２ 、ＺｒＯ２、Ａ＋２ｏａ、Ｔａ２０５ 、ＮｂＯ
３の群から選ばれた一種以上の酸化物薄膜を形成・・す
るという点も本願発明の重要な構成要件の１つである。
ジキ等は見られず、均一な塗膜が形成される。また硬化
塗膜を放射線照射に引き続いて熱処理することも効果的
であることを見い出した。更に上述の樹脂コートと相ま
ってより一層の記録用ディスクとしての信頼性向上を図
る目的で、該硬化塗膜層の上に、更に５ｉ０２ 、Ｔｆ
０２ 、ＺｒＯ２、Ａ＋２ｏａ、Ｔａ２０５ 、ＮｂＯ
３の群から選ばれた一種以上の酸化物薄膜を形成・・す
るという点も本願発明の重要な構成要件の１つである。
核酸化物膜は、水蒸気透過防止能が大であり、耐熱性に
優れておシ、上述の有機コート膜との密着性に優れてお
シ、透明非晶質膜であるといった性質があシ、情報記録
薄膜の信頼性向上のために非常に大きな効果を示す。即
ち耐熱性を有するが故に記録薄膜を蒸着する際に発した
場合機能膜の劣化が防止出来る。かくして得られる透明
成形体上に特定の有機高分子塗膜が設けられ、その上に
特定の酸化物層が設けられ、更にその上に情報記録用薄
膜が設けられて成る積層記録用ディスクは極めて信頼性
の高い有用にものである。
優れておシ、上述の有機コート膜との密着性に優れてお
シ、透明非晶質膜であるといった性質があシ、情報記録
薄膜の信頼性向上のために非常に大きな効果を示す。即
ち耐熱性を有するが故に記録薄膜を蒸着する際に発した
場合機能膜の劣化が防止出来る。かくして得られる透明
成形体上に特定の有機高分子塗膜が設けられ、その上に
特定の酸化物層が設けられ、更にその上に情報記録用薄
膜が設けられて成る積層記録用ディスクは極めて信頼性
の高い有用にものである。
以下に本願発明の詳細につき述べる。
本発明において用いられる光学的に透明な基体としては
、ポリエステル樹脂、ＰＭ’Ｍ樹脂、ポリエーテルスル
フォン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ア
クリル樹脂等の透明樹脂の成形円板ならすべて使用可能
であるが、ゴミ等の異物混入が無く、複屈折が少なく、
表面平滑性が充分得られていることが望ましい。現状一
般にはＰＭｋ仏樹脂の射出成形基板が使用されている。
、ポリエステル樹脂、ＰＭ’Ｍ樹脂、ポリエーテルスル
フォン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ア
クリル樹脂等の透明樹脂の成形円板ならすべて使用可能
であるが、ゴミ等の異物混入が無く、複屈折が少なく、
表面平滑性が充分得られていることが望ましい。現状一
般にはＰＭｋ仏樹脂の射出成形基板が使用されている。
次いで上記基体上にコート層を形成するが作業性、基体
の耐熱性から考えた場合、放射線硬化樹脂、特に紫外線
硬化樹脂が望ましい。紫外線硬化樹脂系は、エポキシア
クリレート、ウレタンアクリレート等の謂ゆるプレポリ
マーを反応性二重結合を有する液状モノマーに溶解せし
め、増感剤を添加せしめてこれを塗布硬化せしめるのが
一般的である。然しなからこの様な樹脂系であると樹脂
゛１００％であるため薄膜コートが出来ない上に、造膜
性が無いためはじき等が生じ、均一なコートが困難であ
り、加えて薄膜にした場合酸素２禁止効果のため硬化阻
害を生じてしまう。更に塗布面が粘着性を有しているた
め非常に取扱いが難がしい。
の耐熱性から考えた場合、放射線硬化樹脂、特に紫外線
硬化樹脂が望ましい。紫外線硬化樹脂系は、エポキシア
クリレート、ウレタンアクリレート等の謂ゆるプレポリ
マーを反応性二重結合を有する液状モノマーに溶解せし
め、増感剤を添加せしめてこれを塗布硬化せしめるのが
一般的である。然しなからこの様な樹脂系であると樹脂
゛１００％であるため薄膜コートが出来ない上に、造膜
性が無いためはじき等が生じ、均一なコートが困難であ
り、加えて薄膜にした場合酸素２禁止効果のため硬化阻
害を生じてしまう。更に塗布面が粘着性を有しているた
め非常に取扱いが難がしい。
発明者らは従来の方法の欠点を解消して硬化層を形成す
る方法を鋭意検討し、室温で固形のエポキシアクリレー
トプレポリマーおよび／またはウレタンアクリレートプ
レポリマーを希釈モノマーを使用すること無く、溶剤に
溶解せしめた塗液を塗布し乾燥させて基体上に薄膜を形
成した後、紫外線等を照射、硬化せしめる仁とにょシ、
密着性に優れた硬化層が得られることを見い出した。加
えてＰＭＭＡの如き耐溶剤性の劣る基体であっても、塗
布稜可及的に速やかに溶剤を除去することが可能なため
、基体表面を傷めるととが無いと云った副次的効果も見
い出した。極〈通常のプレポリマーのみでかかる塗膜が
得られることは予懇もされなかったことである。
る方法を鋭意検討し、室温で固形のエポキシアクリレー
トプレポリマーおよび／またはウレタンアクリレートプ
レポリマーを希釈モノマーを使用すること無く、溶剤に
溶解せしめた塗液を塗布し乾燥させて基体上に薄膜を形
成した後、紫外線等を照射、硬化せしめる仁とにょシ、
密着性に優れた硬化層が得られることを見い出した。加
えてＰＭＭＡの如き耐溶剤性の劣る基体であっても、塗
布稜可及的に速やかに溶剤を除去することが可能なため
、基体表面を傷めるととが無いと云った副次的効果も見
い出した。極〈通常のプレポリマーのみでかかる塗膜が
得られることは予懇もされなかったことである。
本発明において用いられる該プレポリマーは室温状態で
固形であシ、好ましくは作業性の点で融点５０℃以上で
あることが好ましい。またエポキシアクリレートプレポ
リマーとウレタンアクリレートプレポリマーを併用する
こと、架橋密度調整の為の若干の多官能アクリルモノマ
ーを融点を下げないという前提の上で適宜使用可能であ
る。塗布厚みについても、溶剤とプレポリマーの混合割
合で適宜調整可能であシ、実質的には溶剤除去後の膜厚
で１〜２０μ程度に調整することが望ましい。塗布方法
はスピンナーコート、またはディップコートが一般的で
ある。また増感剤としてはベンゾフェノン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等が用いら
れる。また溶媒としては適宜選択可能であり、混合溶媒
も必要に応じて用いることが出来る。塗布乾燥さｉして
Ｐｎ仏基体上に形成され九膜は室温状態で粘着性が全く
ない固形皮膜であ汚。次いでこの膜に紫外線を照射して
硬化させる。かくして基体表面に形成された硬化塗膜に
次いで酸化物層を形成する。これら酸化物層は一般にス
パッタ法により形成される。
固形であシ、好ましくは作業性の点で融点５０℃以上で
あることが好ましい。またエポキシアクリレートプレポ
リマーとウレタンアクリレートプレポリマーを併用する
こと、架橋密度調整の為の若干の多官能アクリルモノマ
ーを融点を下げないという前提の上で適宜使用可能であ
る。塗布厚みについても、溶剤とプレポリマーの混合割
合で適宜調整可能であシ、実質的には溶剤除去後の膜厚
で１〜２０μ程度に調整することが望ましい。塗布方法
はスピンナーコート、またはディップコートが一般的で
ある。また増感剤としてはベンゾフェノン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等が用いら
れる。また溶媒としては適宜選択可能であり、混合溶媒
も必要に応じて用いることが出来る。塗布乾燥さｉして
Ｐｎ仏基体上に形成され九膜は室温状態で粘着性が全く
ない固形皮膜であ汚。次いでこの膜に紫外線を照射して
硬化させる。かくして基体表面に形成された硬化塗膜に
次いで酸化物層を形成する。これら酸化物層は一般にス
パッタ法により形成される。
塗膜厚みは１００〜５０００人の範囲が好ましい。
耐熱性、耐水蒸気透過性の面からは膜厚は厚い方が好ま
しいが、厚過ぎると酸化物層にクラック等が入シ好まし
くない。この膜の水蒸気透過性は００１ｆ／ｃｒｌ・２
４ｈｒｓ以下であシ、水蒸気による情報記録層劣化が防
がれる。
しいが、厚過ぎると酸化物層にクラック等が入シ好まし
くない。この膜の水蒸気透過性は００１ｆ／ｃｒｌ・２
４ｈｒｓ以下であシ、水蒸気による情報記録層劣化が防
がれる。
次いで情報記録薄膜層が形成されるが、この膜は記録す
べき情報に応じて変調されたレーザー光が照射された際
溶解し、次いで表面張力の影響で溶融材料がリング状に
収縮し記憶されるるこの記録層に用いられる材料として
は、引、Ｔｅ％５ｅＳＳｎ。
べき情報に応じて変調されたレーザー光が照射された際
溶解し、次いで表面張力の影響で溶融材料がリング状に
収縮し記憶されるるこの記録層に用いられる材料として
は、引、Ｔｅ％５ｅＳＳｎ。
Ａｓ％Ｓｂ％Ｇｅ１Ｇａｓ Ｉｒ１’ｒ＋１Ｓ ｓ Ｓ
ｉ等の元素群から選択された１種以上のものであシ、酸
化物薄膜層上に蒸着処理によシ容易に設けることが出来
る。
ｉ等の元素群から選択された１種以上のものであシ、酸
化物薄膜層上に蒸着処理によシ容易に設けることが出来
る。
厚みは約１０〜１１００ｎである。
以下に実施例につき述べる。
実施例
射出成形された厚み１．５％のＰＭ内円板基体とした。
この円板の表面上に分子量約１５４０、融点７０℃のエ
ポキシアクリレートプレポリマ−（昭和高分子■製、Ｖ
Ｒ−６０） １００重量部、酢酸ブチル４００重片部、
セロソルブアセテ−） １０ ＯＮＮ郡部ベンゾインエ
チルエーテル２重量部を５０℃にて攪拌、溶解して得ら
れる均一溶液を、スピンナーを用いて基体上に塗布し、
８０℃、３０分間乾燥機で溶媒を除去し、基体表面に粘
着性の無い塗膜（１０μｍ）を形成した。
ポキシアクリレートプレポリマ−（昭和高分子■製、Ｖ
Ｒ−６０） １００重量部、酢酸ブチル４００重片部、
セロソルブアセテ−） １０ ＯＮＮ郡部ベンゾインエ
チルエーテル２重量部を５０℃にて攪拌、溶解して得ら
れる均一溶液を、スピンナーを用いて基体上に塗布し、
８０℃、３０分間乾燥機で溶媒を除去し、基体表面に粘
着性の無い塗膜（１０μｍ）を形成した。
次いで該コーテイング膜に８０ Ｗ ／ ｃｍの高圧水
銀灯によシ、１５ｃｒｎの距離で３０秒間紫外線を照射
し樹脂層を硬化せしめた。次にこの硬化塗膜上にスパッ
タ法で５１０２薄膜を５００人厚さに形成した。
銀灯によシ、１５ｃｒｎの距離で３０秒間紫外線を照射
し樹脂層を硬化せしめた。次にこの硬化塗膜上にスパッ
タ法で５１０２薄膜を５００人厚さに形成した。
次いで該ＳＩＯ□薄膜上に同じくスパック法を用いて０
．０４μｍの厚さのＴｅ薄膜を形成した。かくして積層
情報記録用ディスクが得られる。得られたディスク２枚
を機能膜を内面にして、周辺部を接着剤によシ固定し、
サンドイッチ型ディスクを得た０得られたディスクは硬
化樹脂層およびＳｉＯ２樹脂層の優れた性能のため、機
能膜の安定性に優れたディスクであった。
．０４μｍの厚さのＴｅ薄膜を形成した。かくして積層
情報記録用ディスクが得られる。得られたディスク２枚
を機能膜を内面にして、周辺部を接着剤によシ固定し、
サンドイッチ型ディスクを得た０得られたディスクは硬
化樹脂層およびＳｉＯ２樹脂層の優れた性能のため、機
能膜の安定性に優れたディスクであった。
Claims (1)
- 光学的に透明なプラスチック成形体表面に、融点５０℃
以上のエポキシアクリレートプレポリマーおよび／また
は融点５０℃以上のウレタンアクリレートプレポリマー
の放射線硬化籟膜が設けられ、該塗膜面上に５ｆ０２、
ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ ２０３、Ｔａ２０５ 、Ｎ
ｂＯ３の群から選ばれた一種以上の酸化物薄膜が設けら
れ、該薄膜表面に更に情報記録用薄膜が設けられている
ことを特徴とする情報記録用ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58152445A JPS6045952A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 情報記録用ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58152445A JPS6045952A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 情報記録用ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6045952A true JPS6045952A (ja) | 1985-03-12 |
Family
ID=15540676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58152445A Pending JPS6045952A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 情報記録用ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6045952A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62205553A (ja) * | 1986-03-06 | 1987-09-10 | Toshiba Corp | 光デイスク |
| US4729938A (en) * | 1984-11-13 | 1988-03-08 | Hitachi, Ltd. | Optical disc base plate having a primer layer formed of an ultraviolet-cured resin composition |
| WO2001013371A1 (fr) * | 1999-01-12 | 2001-02-22 | Nikko Materials Company, Limited | Film photoemetteur et cible de pulverisation pour former ce film photoemetteur |
| US6528442B1 (en) | 1999-01-12 | 2003-03-04 | Nikko Materials Company, Limited | Optical transparent film and sputtering target for forming optical transparent film |
| WO2006043625A1 (ja) * | 2004-10-20 | 2006-04-27 | Fujifilm Corporation | 光記録媒体 |
| GB2478813A (en) * | 2010-03-16 | 2011-09-21 | Kabushikigaisya Fukuda Corp | Multi-coloured meterial with urethane methacrylate base coat and vaccum deposited intermediate layer |
-
1983
- 1983-08-23 JP JP58152445A patent/JPS6045952A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4729938A (en) * | 1984-11-13 | 1988-03-08 | Hitachi, Ltd. | Optical disc base plate having a primer layer formed of an ultraviolet-cured resin composition |
| JPS62205553A (ja) * | 1986-03-06 | 1987-09-10 | Toshiba Corp | 光デイスク |
| WO2001013371A1 (fr) * | 1999-01-12 | 2001-02-22 | Nikko Materials Company, Limited | Film photoemetteur et cible de pulverisation pour former ce film photoemetteur |
| US6528442B1 (en) | 1999-01-12 | 2003-03-04 | Nikko Materials Company, Limited | Optical transparent film and sputtering target for forming optical transparent film |
| WO2006043625A1 (ja) * | 2004-10-20 | 2006-04-27 | Fujifilm Corporation | 光記録媒体 |
| GB2478813A (en) * | 2010-03-16 | 2011-09-21 | Kabushikigaisya Fukuda Corp | Multi-coloured meterial with urethane methacrylate base coat and vaccum deposited intermediate layer |
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