JPS6032731A - エタノ−ルを主成分とする含酸素化合物を製造する方法 - Google Patents
エタノ−ルを主成分とする含酸素化合物を製造する方法Info
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- JPS6032731A JPS6032731A JP58141083A JP14108383A JPS6032731A JP S6032731 A JPS6032731 A JP S6032731A JP 58141083 A JP58141083 A JP 58141083A JP 14108383 A JP14108383 A JP 14108383A JP S6032731 A JPS6032731 A JP S6032731A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一酸化炭素と水素とを含有する混合気体を触媒
の存在下反応させ、エタノールを主成分とする含酸素化
合物を製造する方法に関する。
の存在下反応させ、エタノールを主成分とする含酸素化
合物を製造する方法に関する。
更に詳細には、Ｈ）ロジウム、トリウム及び（ロ）コの
成分あるいは更に（ハ）鉄を添加して成る触媒の存在下
、当該混合気体を反応させることによジェタノールを主
成分とする含酸素化合物を製造する方法に関する。
成分あるいは更に（ハ）鉄を添加して成る触媒の存在下
、当該混合気体を反応させることによジェタノールを主
成分とする含酸素化合物を製造する方法に関する。
本発明において目的物とする含酸素化合物とは、アルコ
ール、アルデヒド、脂肪酸及びそのエステル等を意味す
る。更に詳しくは本発明における目的とする物質は炭素
数２の含酸素化合物、すなわちエタノール、アセトアル
デヒド、酢酸及びそのエステル等である。更に限定的に
言えば、本発明の目的物はエタノールを主成分として炭
素数２の含酸素化合物である。
ール、アルデヒド、脂肪酸及びそのエステル等を意味す
る。更に詳しくは本発明における目的とする物質は炭素
数２の含酸素化合物、すなわちエタノール、アセトアル
デヒド、酢酸及びそのエステル等である。更に限定的に
言えば、本発明の目的物はエタノールを主成分として炭
素数２の含酸素化合物である。
含酸素化合物、特にエタノール等の含酸素化合物は従来
ナフサを原料とする石油化学的方法によって製造されて
きた。しかし近年の原油の価格の高騰によシ、者しい製
造価格の上昇が起り、原料転換の必要性が生じている。
ナフサを原料とする石油化学的方法によって製造されて
きた。しかし近年の原油の価格の高騰によシ、者しい製
造価格の上昇が起り、原料転換の必要性が生じている。
一方、豊富で且つ安価に入手可能な一酸化炭素及び水素
の混合ガスより含酸素化合物を製造する方法が柾々検討
されている。即ち混合ガスを、ロジウムを主成分とし、
チタン、ジルコニウム、タングステン、マンガンなどの
金属もしくは金属酸化物より成る触媒の存在下に反応さ
せて、炭素数２の含酸素化合物を選択的に作る方法は公
知である。
の混合ガスより含酸素化合物を製造する方法が柾々検討
されている。即ち混合ガスを、ロジウムを主成分とし、
チタン、ジルコニウム、タングステン、マンガンなどの
金属もしくは金属酸化物より成る触媒の存在下に反応さ
せて、炭素数２の含酸素化合物を選択的に作る方法は公
知である。
しかしながら、かかる方法も副生ずる炭化水素、例えば
メタン等の１が多く、含酸素化合物の選択率が低い、更
に尚価な貴金属であるロジウム単位あたシの目的化合物
の生成麓が壕だまた少なく、経済的にもプロセス的にも
完成された技術が提供されていないのが実状である。
メタン等の１が多く、含酸素化合物の選択率が低い、更
に尚価な貴金属であるロジウム単位あたシの目的化合物
の生成麓が壕だまた少なく、経済的にもプロセス的にも
完成された技術が提供されていないのが実状である。
本発明名ら１」１、従来法に代わる新たな方法を提供す
る目的で鋭、１に検討を重ねた結果−酸化炭素及び水素
を含む気体を（イ）ロジウム、トリウム及び（ロ）助触
媒金属の群から選ばれた少なくとも一種の成分あるいは
更に（ハ）鉄を添加して成る触媒の存イ１−下に反応さ
ぜることによシ炭化水素の副生をおさえつつエタノール
を主成分とする含酸素化合物を高収率、高選択率で製造
しうろことを見出して本発明を完成した。
る目的で鋭、１に検討を重ねた結果−酸化炭素及び水素
を含む気体を（イ）ロジウム、トリウム及び（ロ）助触
媒金属の群から選ばれた少なくとも一種の成分あるいは
更に（ハ）鉄を添加して成る触媒の存イ１−下に反応さ
ぜることによシ炭化水素の副生をおさえつつエタノール
を主成分とする含酸素化合物を高収率、高選択率で製造
しうろことを見出して本発明を完成した。
本発明は（イ）ロジウム、トリウム及び（ロ）助触媒金
属の群から選ばれた少なくとも一種の成分よシ構成され
た触媒の存在下、−酸化炭素及び水素を含有する混合気
体を反応させエタノールを主成分とする含酸素化合物を
製造するものである。
属の群から選ばれた少なくとも一種の成分よシ構成され
た触媒の存在下、−酸化炭素及び水素を含有する混合気
体を反応させエタノールを主成分とする含酸素化合物を
製造するものである。
以下、本発明ｆｆ１ｌｌ［次詳述する。
本発明において用いられる触媒は前述の如くロジウム、
トリウム及び助触媒金属の群から選ばれた少なくとも一
種の成分あるいは更に鉄を添加して成る成分を主たる構
成成分とする。実質的には通常貴金属触媒において行わ
れる如く、担体上に上記の成分を分散させた触媒を用い
る。
トリウム及び助触媒金属の群から選ばれた少なくとも一
種の成分あるいは更に鉄を添加して成る成分を主たる構
成成分とする。実質的には通常貴金属触媒において行わ
れる如く、担体上に上記の成分を分散させた触媒を用い
る。
本発明にふ・い−〔用いられる触媒は貴金属常法を用い
て調製することができる。例えば含浸法、浸漬法、イオ
ン交換能、共沈法、混線法等によって調製できる。
て調製することができる。例えば含浸法、浸漬法、イオ
ン交換能、共沈法、混線法等によって調製できる。
触媒を構成する諸成分、ロジウム、トリウム及び助触媒
金属の群から選はれた少なくとも一種の成分あるいは鉄
を添加した触媒調製のだめの原料化合物としては、酸化
物、塩化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、酢酸塩、シェ
ラ酸塩、アセチルアセトナート塩、ジメチルグリオキシ
ム塩、エチレンジアミン酢酸￥Ｍ−２！有機塩又はキレ
ート化物、カルボニル化合物、シクロペンタジェニル化
合物、アンミン錯体、金属アルコキシド化合物、アルキ
ル金属化合物等通常貴金属触媒を調製する際に用いられ
る化合物を使用することができる。
金属の群から選はれた少なくとも一種の成分あるいは鉄
を添加した触媒調製のだめの原料化合物としては、酸化
物、塩化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、酢酸塩、シェ
ラ酸塩、アセチルアセトナート塩、ジメチルグリオキシ
ム塩、エチレンジアミン酢酸￥Ｍ−２！有機塩又はキレ
ート化物、カルボニル化合物、シクロペンタジェニル化
合物、アンミン錯体、金属アルコキシド化合物、アルキ
ル金属化合物等通常貴金属触媒を調製する際に用いられ
る化合物を使用することができる。
以下に含浸法に例をとり触媒の調製法を説明する０
上記の金属化合物を水、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ノルマルヘキサン、ベン
ゼン、トルエン等の溶媒に溶解し、その溶液に担体を加
え浸漬し、溶媒を留去、乾燥し、必要とあれば加熱等の
処理を行い、担体に金属化合物を担持する。
ラヒドロフラン、ジオキサン、ノルマルヘキサン、ベン
ゼン、トルエン等の溶媒に溶解し、その溶液に担体を加
え浸漬し、溶媒を留去、乾燥し、必要とあれば加熱等の
処理を行い、担体に金属化合物を担持する。
担持の手法としては、ロジウム、トリウム及び助触媒金
属の群から選ばれた少なくとも一種の成分あるいは鉄を
含む原料化合物を同一溶媒に同時に溶解した混合溶液を
作シ、担体に同時に担持す −る方法、各成分を遂次的
に担体に担持する方法、あるいは各成分を必要に応じて
還元、熱処理等の処理を行いながら遂次的、段階的に担
持する方法などの各手法を用いることができる。
属の群から選ばれた少なくとも一種の成分あるいは鉄を
含む原料化合物を同一溶媒に同時に溶解した混合溶液を
作シ、担体に同時に担持す −る方法、各成分を遂次的
に担体に担持する方法、あるいは各成分を必要に応じて
還元、熱処理等の処理を行いながら遂次的、段階的に担
持する方法などの各手法を用いることができる。
その他の調製法、例えば担体のイオン交換能を利用した
イオン交換によって金属を担持する方法、共沈法によっ
て触媒を調製する方法なども本発明方法に用いられる触
媒の調製手法として採用できる。
イオン交換によって金属を担持する方法、共沈法によっ
て触媒を調製する方法なども本発明方法に用いられる触
媒の調製手法として採用できる。
上述の手法によって調製された触媒は通常還元処理を行
うことによりｆ８性化し次いで反応に供せられる。還元
を行うには水素を含有する気体によシ昇温下で行うこと
が簡便であって好ましい。この際還元温度として、ロジ
ウムの還元される温度、即ち１０００程度・温度条件下
でも還元処理ができるのであるが、好ましくは２００Ｃ
〜６００ｃの温度下で還元処理を行う。この際触媒の各
成分の分散を十分に行わせる目的で低温よシ徐々にある
いは段階的に昇温しながら水素還元を行ってもよい。
うことによりｆ８性化し次いで反応に供せられる。還元
を行うには水素を含有する気体によシ昇温下で行うこと
が簡便であって好ましい。この際還元温度として、ロジ
ウムの還元される温度、即ち１０００程度・温度条件下
でも還元処理ができるのであるが、好ましくは２００Ｃ
〜６００ｃの温度下で還元処理を行う。この際触媒の各
成分の分散を十分に行わせる目的で低温よシ徐々にある
いは段階的に昇温しながら水素還元を行ってもよい。
また還元剤を用いて、化学的に還元を行うこともできる
。／ことえは、−酸化炭素と水を用いたシ、ヒドラジン
、水素化ホウ素化合物、水素化アルミニウム化合物など
の還元剤を用いた還元処理を行ってもよい。
。／ことえは、−酸化炭素と水を用いたシ、ヒドラジン
、水素化ホウ素化合物、水素化アルミニウム化合物など
の還元剤を用いた還元処理を行ってもよい。
本発明において用いられる担体は好ましくは比表面積１
０〜１０００ｍ２／ｇ、細孔径１０Ａ以上を有するもの
であれは通常担体として知られているものを使用するこ
とができる。具体的な担体としては、シリカ、珪酸塩、
シリカゲル、モレキュラーシーブ、ケイソウ上等のシリ
カ系担体、アルミナ、活性炭などがあげられるがシリカ
系の担体が好ましい。
０〜１０００ｍ２／ｇ、細孔径１０Ａ以上を有するもの
であれは通常担体として知られているものを使用するこ
とができる。具体的な担体としては、シリカ、珪酸塩、
シリカゲル、モレキュラーシーブ、ケイソウ上等のシリ
カ系担体、アルミナ、活性炭などがあげられるがシリカ
系の担体が好ましい。
更には触媒の構成要素として用いられるトリウム及び助
触媒金属の珪酸塩あるいはトリウム及び助触媒金属の酸
化物を担体として用いることもできる。
触媒金属の珪酸塩あるいはトリウム及び助触媒金属の酸
化物を担体として用いることもできる。
この場合の触媒の調製法は前述のロジウム、トリウム及
び助触媒金属の群から選ばれた少なくとも一棟の成分あ
るいは鉄及び担体よシ構成される触媒の調製法と同様に
、ロジウム及びトリウムにトリウム及び／又は助触媒金
属の珪酸塩もしくは酸化物に担持させる。いずれの場合
も触媒中の各成分の濃度と組成比は広い範囲でかえるこ
とができる。
び助触媒金属の群から選ばれた少なくとも一棟の成分あ
るいは鉄及び担体よシ構成される触媒の調製法と同様に
、ロジウム及びトリウムにトリウム及び／又は助触媒金
属の珪酸塩もしくは酸化物に担持させる。いずれの場合
も触媒中の各成分の濃度と組成比は広い範囲でかえるこ
とができる。
ロジウムの相体に対する比率は、担体の比表面積を考慮
して重量比で０．０００１〜０．５、好ましくは０．０
０１〜０．３である。また、トリウム／ロジウムが原子
比で０．００５〜２０．好ましくは０．０１〜１０の範
囲である。更に助触媒金属及び鉄の比率はロジウムに対
し原子比で各々ｏ、ｏ ｏ ｉ〜１０、好ましくは０．
０１〜５の範囲である。
して重量比で０．０００１〜０．５、好ましくは０．０
０１〜０．３である。また、トリウム／ロジウムが原子
比で０．００５〜２０．好ましくは０．０１〜１０の範
囲である。更に助触媒金属及び鉄の比率はロジウムに対
し原子比で各々ｏ、ｏ ｏ ｉ〜１０、好ましくは０．
０１〜５の範囲である。
本発明は、たとえは固定床の流通式反応装置に適用する
ことができる。すなわち反応器内に触媒を充填し、原料
ガスを送入して反応を行わせる。
ことができる。すなわち反応器内に触媒を充填し、原料
ガスを送入して反応を行わせる。
生成物は分離し、未反応の原料ガスはｎ製したのちに循
］１）使用することも可能である。
］１）使用することも可能である。
また、本発明は流動床式の反応装置にも適用できる。す
なわち原料ガスと流動化した触媒を同伴させて反応を行
わせることもできる。更には本発明は溶媒中に触媒を分
散させ、原料ガスを送入し反応を行うことからなる液相
不均一反応にも適用できる。
なわち原料ガスと流動化した触媒を同伴させて反応を行
わせることもできる。更には本発明は溶媒中に触媒を分
散させ、原料ガスを送入し反応を行うことからなる液相
不均一反応にも適用できる。
本発明を実施するに際して採用される条件は、エタノー
ルを主成分とする含酸素化合物を高収率・高選択率で製
造することを目的として種々の反応条件の因子を有機的
に組合せて選択される。反応圧力は常圧（すなわちＯＫ
ｇ／ｃＩｉｔゲージ）でも当該目的化合物を高選択率・
高収率で製造できるのであるが、空時収率を高める目的
で加圧下において反応を行うことができる。
ルを主成分とする含酸素化合物を高収率・高選択率で製
造することを目的として種々の反応条件の因子を有機的
に組合せて選択される。反応圧力は常圧（すなわちＯＫ
ｇ／ｃＩｉｔゲージ）でも当該目的化合物を高選択率・
高収率で製造できるのであるが、空時収率を高める目的
で加圧下において反応を行うことができる。
従って反応圧力としてはＯＫ９／ｆｆｌゲージ〜３５０
Ｆ−ｙ／ｃｒｌゲージ、好筐しくはＯＫｇ轟ゲージ〜２
５０匂／ｄゲージの圧力下で行う。反応温度は１５０ｔ
Ｚ”〜４５０Ｃ１好ましくは１８０Ｃ〜３５０Ｃである
。反応温度が高い場合には、炭化水素の副生量が増加す
るため原料の送入速度を早くする必要がある。従って、
空間速度（原料ガス送入量×触媒容積）は、標準状態（
ＯＣ，１気圧）換算で１０ｈ−’〜１０６ｈ−’の範囲
より、反応圧力と反応温度、原料ガス組成との関係より
適宜選択される。
Ｆ−ｙ／ｃｒｌゲージ、好筐しくはＯＫｇ轟ゲージ〜２
５０匂／ｄゲージの圧力下で行う。反応温度は１５０ｔ
Ｚ”〜４５０Ｃ１好ましくは１８０Ｃ〜３５０Ｃである
。反応温度が高い場合には、炭化水素の副生量が増加す
るため原料の送入速度を早くする必要がある。従って、
空間速度（原料ガス送入量×触媒容積）は、標準状態（
ＯＣ，１気圧）換算で１０ｈ−’〜１０６ｈ−’の範囲
より、反応圧力と反応温度、原料ガス組成との関係より
適宜選択される。
尚該原料ガスの組成は、主として一酸化戻累と水素を含
有しているガスであって、窒素、アルゴン、ヘリウム、
メタン等の不活性ガスあるいは反応条件下において気体
の状態であれは炭化水素や炭酸ガスや水を含有していて
もよい。−酸化炭素と水素の混合比はＣＯ／Ｈ２比で０
．１〜１０、好ましくは０，２５〜５（容積化）である
。
有しているガスであって、窒素、アルゴン、ヘリウム、
メタン等の不活性ガスあるいは反応条件下において気体
の状態であれは炭化水素や炭酸ガスや水を含有していて
もよい。−酸化炭素と水素の混合比はＣＯ／Ｈ２比で０
．１〜１０、好ましくは０，２５〜５（容積化）である
。
以下実施例によって本発明を更に詳細に説明する。
実施例１
塩化ロジウム（１，ｉ、ｌＩＣｌ ｓ・３Ｈ２０） ０
．６ｇ （２，２８ｍｍｏ ｌ） 、石門１波トリウム
［’ｌ’ｈ （ＮＯ：、）４ ・４Ｈ２０〕１．２５８
ｇ （２，２８＋ｎｍ ｏ （１）及び塩化コバルト
（Ｃｏ ＣＩｔ ２・６Ｈ２０） ０．０５４ ｇ
（０，２２８ｍｔｏｏ ｌ）をエタノール（９９，５％
、以下も同じ）２０＋＋ｌに溶解させた。その溶液中に
シリカゲ／ｌ／ （Ｄａｖｉｓｏｎ ＋５７、Ｄａｖｉ
ｓｏｎ社製、以下も同じ）５ｇを浸漬した。次いでロー
タリーエバポレーターを用いて溶媒を留出して得られた
相持触媒を反応管に充填し、水素及びヘリウムの混合ガ
ス（Ｈ２／Ｈｅ＝２００／１００ ｍ６７分）の通気下
で段階的に昇温し、最終的には４００Ｃで５時間、計１
６時間水素還元し、活性化処理を行７つだ。得られた触
媒のうち２１５の量（５ゴ）をを シリカゲル１０ｒｎｌで希釈したものを高圧流通反応゛
装置の反応管（チタン金属内はシ１５φ×５００ｍｍ）
に充填し、水素ガス（５Ｋｑ／ｃａ、１ｏｏｏＷ分）の
通気下、２００Ｃで１時間再還元したのち、水素、−酸
化炭素の混合ガス（Ｃｏ／Ｈ２＝１／２）を２０に２／
ａｔ！、５００ ｌｕｌ／分の速度で送入し、反応を
行った。
．６ｇ （２，２８ｍｍｏ ｌ） 、石門１波トリウム
［’ｌ’ｈ （ＮＯ：、）４ ・４Ｈ２０〕１．２５８
ｇ （２，２８＋ｎｍ ｏ （１）及び塩化コバルト
（Ｃｏ ＣＩｔ ２・６Ｈ２０） ０．０５４ ｇ
（０，２２８ｍｔｏｏ ｌ）をエタノール（９９，５％
、以下も同じ）２０＋＋ｌに溶解させた。その溶液中に
シリカゲ／ｌ／ （Ｄａｖｉｓｏｎ ＋５７、Ｄａｖｉ
ｓｏｎ社製、以下も同じ）５ｇを浸漬した。次いでロー
タリーエバポレーターを用いて溶媒を留出して得られた
相持触媒を反応管に充填し、水素及びヘリウムの混合ガ
ス（Ｈ２／Ｈｅ＝２００／１００ ｍ６７分）の通気下
で段階的に昇温し、最終的には４００Ｃで５時間、計１
６時間水素還元し、活性化処理を行７つだ。得られた触
媒のうち２１５の量（５ゴ）をを シリカゲル１０ｒｎｌで希釈したものを高圧流通反応゛
装置の反応管（チタン金属内はシ１５φ×５００ｍｍ）
に充填し、水素ガス（５Ｋｑ／ｃａ、１ｏｏｏＷ分）の
通気下、２００Ｃで１時間再還元したのち、水素、−酸
化炭素の混合ガス（Ｃｏ／Ｈ２＝１／２）を２０に２／
ａｔ！、５００ ｌｕｌ／分の速度で送入し、反応を
行った。
生成物中、含酸素化合物などの有機化合物は水に溶解し
て捕集し、炭化水素はそのままガスクロによって分析し
、生成物の分布をめた。その結果を表−１に示した。
て捕集し、炭化水素はそのままガスクロによって分析し
、生成物の分布をめた。その結果を表−１に示した。
実施例２〜４
塩化ロジウム（）もｈｅ／ ３−３Ｈ２０） ０．６ｇ
（２，２８ｍｍｏｌ）、硝酸トリク、Ａ（Ｔｈ （Ｎ
Ｏ３）４ ・４Ｈ２”）１．２５８ｇ （２，２８ｍｍ
０ｌ）に第３成分として塩化リチウム（ＬｉＣｌ・ｌ−
１□０）０．０１４ｇ （０，２２８ｍｍｏＡ）、塩化
インジウム（Ｉｎ（Ｊ３−ｘＨ２Ｏ、Ｉ ｎ Ｃ７１ｓ
８０チ含有） ０．０３１ ｇ （０，１１４ｍｍｏ
ｌ）及び塩化カドミウム（ＣｄＣ７２・１／２Ｈ２０）
０．０２２ｇ （０，１１４ｍｍｏｌ）を加えたエタノ
ール溶液にシリカゲル５ｇを浸漬し、触媒を調製した。
（２，２８ｍｍｏｌ）、硝酸トリク、Ａ（Ｔｈ （Ｎ
Ｏ３）４ ・４Ｈ２”）１．２５８ｇ （２，２８ｍｍ
０ｌ）に第３成分として塩化リチウム（ＬｉＣｌ・ｌ−
１□０）０．０１４ｇ （０，２２８ｍｍｏＡ）、塩化
インジウム（Ｉｎ（Ｊ３−ｘＨ２Ｏ、Ｉ ｎ Ｃ７１ｓ
８０チ含有） ０．０３１ ｇ （０，１１４ｍｍｏ
ｌ）及び塩化カドミウム（ＣｄＣ７２・１／２Ｈ２０）
０．０２２ｇ （０，１１４ｍｍｏｌ）を加えたエタノ
ール溶液にシリカゲル５ｇを浸漬し、触媒を調製した。
これらの触媒の調製及び水素還元処理法などは実施例１
と同様にして行った。これを実施例１と同様の操作によ
シ加圧反応試験を行った。その結果を表−１に示した。
と同様にして行った。これを実施例１と同様の操作によ
シ加圧反応試験を行った。その結果を表−１に示した。
実施例５〜７
塩化ロジウム（凡ｈＣ１３・３Ｈ，０） ０．６ｇ （
２，２８ｍｍｏｌ）、硝酸トリウム〔Ｔｈ（Ｎ０３）４
・４Ｈ２０〕１．２５８ｇ （２，２８ｍｍｏ／）に第
３成分として塩化コハル） （ＣｏＣ１２・６Ｈ２０）
０．０５４ｇ （０，２２８ｍｍｏ／）、塩化リチウム
（Ｌｉ（Ｊ −Ｈ２Ｏ） ０．０２８ｇ （０，４５６
ｍｍｏｌ）及び塩化インジウム（ＩｎＣＩ、・ｘＨ２Ｏ
）０．０３１ ｇ （０，１１４ｍｍｏ ｌ） 、第４
成分として塩化イリジウＡ （Ｉｒ（Ｊ４−）（２ｏ）
０．１６０ｇ （０，４５６ｍｍｏＡり、塩化第二鉄（
ＦｅＣＪ３−６Ｈ，０）０．０３１ｇ（０，１１４ｍｍ
ｏＡり 、０．１２３ｇ（０，４５６ｍｍｏｌ）及び０
．２０５ ｇ（０，７６ｍｍｏｌ）を加えたエタノール
溶液にシリカゲル５ｇを浸漬後、溶媒を留去した。これ
らの触媒の調製及び水素還元処理法などは実施例１と同
様にして行った。これを実施例１と同様の操作により加
圧反応試験を行った。その結果を表−２に示した。
２，２８ｍｍｏｌ）、硝酸トリウム〔Ｔｈ（Ｎ０３）４
・４Ｈ２０〕１．２５８ｇ （２，２８ｍｍｏ／）に第
３成分として塩化コハル） （ＣｏＣ１２・６Ｈ２０）
０．０５４ｇ （０，２２８ｍｍｏ／）、塩化リチウム
（Ｌｉ（Ｊ −Ｈ２Ｏ） ０．０２８ｇ （０，４５６
ｍｍｏｌ）及び塩化インジウム（ＩｎＣＩ、・ｘＨ２Ｏ
）０．０３１ ｇ （０，１１４ｍｍｏ ｌ） 、第４
成分として塩化イリジウＡ （Ｉｒ（Ｊ４−）（２ｏ）
０．１６０ｇ （０，４５６ｍｍｏＡり、塩化第二鉄（
ＦｅＣＪ３−６Ｈ，０）０．０３１ｇ（０，１１４ｍｍ
ｏＡり 、０．１２３ｇ（０，４５６ｍｍｏｌ）及び０
．２０５ ｇ（０，７６ｍｍｏｌ）を加えたエタノール
溶液にシリカゲル５ｇを浸漬後、溶媒を留去した。これ
らの触媒の調製及び水素還元処理法などは実施例１と同
様にして行った。これを実施例１と同様の操作により加
圧反応試験を行った。その結果を表−２に示した。
実施例８
ｖ＝ ウＡ カルホ＝ル（Ｒｅ ２（Ｃｏ） １Ｇ ）
０．０３ｇ（０，０４６ｍｍｏりをｎ−ヘキサン（９５
％） １．０ｒｔＬｌに溶解させ、その溶液中に実施例
５で用いたものと同じロジウム〒トリウム−インジウム
／シリカ触媒５Ｍを１５０Ｃで１時間真空下で焼成脱気
したものを加え浸漬した。この触媒を実施例１と同様の
調製及び水素還元処理法を用いて調製した。これを実施
例１と同様の操作により加圧反応試験を行った。その結
果ｆ：Ｎ−２に示した。
０．０３ｇ（０，０４６ｍｍｏりをｎ−ヘキサン（９５
％） １．０ｒｔＬｌに溶解させ、その溶液中に実施例
５で用いたものと同じロジウム〒トリウム−インジウム
／シリカ触媒５Ｍを１５０Ｃで１時間真空下で焼成脱気
したものを加え浸漬した。この触媒を実施例１と同様の
調製及び水素還元処理法を用いて調製した。これを実施
例１と同様の操作により加圧反応試験を行った。その結
果ｆ：Ｎ−２に示した。
比較例１〜５
塩化ロジウム（Ｉ（、ｈＣ１３・ａＨ２０） ０．６ｇ
（２，２８ｍｍｏｌ）に第２成分として硝酸トリウム
〔Ｔｈ（Ｎｏ３）４−４Ｈ２０］ １１．２５８ｇ（２
，２８ｍｍｏＡ）、塩化コバルト （ＣｏＣＡ！ ２−
６Ｈ２０）０．０５４ｇ （０，２２８ｍｍ０１）、塩
化リチウム（ＩｎＣ１２・Ｈ２Ｏ）０．１３８ｇ（２，
２３ｍｍｏ ｌ） ％塩化インジウム（ＩｎＣ１３・ｘ
Ｈ２Ｏ）０．６３０ ｇ （２，２８ｍｍｏ Ｊ）及び
塩化カドミウム（ＣｄＣＡ！、−１／２Ｈ２０）０．４
３８ｇ （２，２８ｍｍｏＡ）を各反応装置を用いて水
素及び窒素の混合ガス（ＯＫｇ／ｆｆｌ、Ｈｇ／Ｎ、＝
ｚｏｏ／２ｏｏ ｔｔｌ／分）の通気下、３００ｔ：’
で２時間再還元したのち、水素、−酸化炭素の混合ガス
（ｃｏ、４（ｌ＝ １／２ ）を５０に９／ｉ、１００
０ａｌ／分の速度で送入し、反応を行った。反応生成物
は実施例１と同様の操作によって分析した。
（２，２８ｍｍｏｌ）に第２成分として硝酸トリウム
〔Ｔｈ（Ｎｏ３）４−４Ｈ２０］ １１．２５８ｇ（２
，２８ｍｍｏＡ）、塩化コバルト （ＣｏＣＡ！ ２−
６Ｈ２０）０．０５４ｇ （０，２２８ｍｍ０１）、塩
化リチウム（ＩｎＣ１２・Ｈ２Ｏ）０．１３８ｇ（２，
２３ｍｍｏ ｌ） ％塩化インジウム（ＩｎＣ１３・ｘ
Ｈ２Ｏ）０．６３０ ｇ （２，２８ｍｍｏ Ｊ）及び
塩化カドミウム（ＣｄＣＡ！、−１／２Ｈ２０）０．４
３８ｇ （２，２８ｍｍｏＡ）を各反応装置を用いて水
素及び窒素の混合ガス（ＯＫｇ／ｆｆｌ、Ｈｇ／Ｎ、＝
ｚｏｏ／２ｏｏ ｔｔｌ／分）の通気下、３００ｔ：’
で２時間再還元したのち、水素、−酸化炭素の混合ガス
（ｃｏ、４（ｌ＝ １／２ ）を５０に９／ｉ、１００
０ａｌ／分の速度で送入し、反応を行った。反応生成物
は実施例１と同様の操作によって分析した。
Claims (1)
- （１）（イ）ロジウム、トリウム及び（ロ）コバルト、
リチウム、インジウム、イリジウム、カドミウム、レニ
ウムより成る群から選ばれた少なくとも一種の成分ある
いは更に（ハ）鉄を添加して成る触媒の存在下、−酸化
炭素及び水素を含有する混合気体を反応させエタノール
を主成分とする含酸素化合物を製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58141083A JPS6032731A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | エタノ−ルを主成分とする含酸素化合物を製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58141083A JPS6032731A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | エタノ−ルを主成分とする含酸素化合物を製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6032731A true JPS6032731A (ja) | 1985-02-19 |
| JPS6119611B2 JPS6119611B2 (ja) | 1986-05-17 |
Family
ID=15283808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58141083A Granted JPS6032731A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | エタノ−ルを主成分とする含酸素化合物を製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032731A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006198095A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Hoshizaki Electric Co Ltd | 温蔵庫 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6382011U (ja) * | 1986-11-19 | 1988-05-30 |
-
1983
- 1983-08-03 JP JP58141083A patent/JPS6032731A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006198095A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Hoshizaki Electric Co Ltd | 温蔵庫 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6119611B2 (ja) | 1986-05-17 |
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