JPS60233097A - アミノチオールジペプチド類 - Google Patents
アミノチオールジペプチド類Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はアミノチオールジペプチド類、更に詳しくは、
そのアンギオテンシン変換酵素抑制活性に基ブき血圧降
下剤として有用であり、また後述の定義においてXが−
N HCHCOOReでR。
そのアンギオテンシン変換酵素抑制活性に基ブき血圧降
下剤として有用であり、また後述の定義においてXが−
N HCHCOOReでR。
ある場合にエンケファリナーゼ(enkephal 1
nase)抑制活性に基づき鎮痛剤としても有用である
新規なアミノチオール置換ジペプチド化合物およびこれ
らの塩類に関する。
nase)抑制活性に基づき鎮痛剤としても有用である
新規なアミノチオール置換ジペプチド化合物およびこれ
らの塩類に関する。
発明の構成と効果
本発明の新規化合物は、下記式[1]で示される。
1
[式中、Xは
のアミノまノこはイミノ酸基;
nは0,1または2;
R)sは炭素数1〜4の低級アルキルまたはRは水素、
低級アルキル、シクロアルキル、(CHt)n@ ヒ(
CHt)2NH2、CCHt>3 NHv 、(CH2
)4−NHt、(CHJz OH、=(CHI)30H
−(CHy)* O’H’ 、 (CHt)t SH。
低級アルキル、シクロアルキル、(CHt)n@ ヒ(
CHt)2NH2、CCHt>3 NHv 、(CH2
)4−NHt、(CHJz OH、=(CHI)30H
−(CHy)* O’H’ 、 (CHt)t SH。
(c H’t)3S Hまたは−(CHt)4 SH;
R1は水素、低級アルキル、ハロ置換(低級)アルキル
、 −(cHt)ぺ◇ −(CHt)r−OH、−(CHffi)r−Nl2、
=(CH嚢)r−8H、(CHt)r S−低級アルキ
ル、−(CHI)t−8−(CHI)ffi−NH3、
−(CHt)r−c−Nl−1t; −(CH・)IIlす、 −(9H・)IRす、−(C
Ht)III−シクロアルキル、占 (CHt)r NHt 、(CHt)t SH、(CH
t)r S−低級アルキル、 または=(CHi)’r CN Ht;R4は水素、低
級アルキル、 −(cHt)ぺ◇ (CHy)aニビクロアルキル、 。
R1は水素、低級アルキル、ハロ置換(低級)アルキル
、 −(cHt)ぺ◇ −(CHt)r−OH、−(CHffi)r−Nl2、
=(CH嚢)r−8H、(CHt)r S−低級アルキ
ル、−(CHI)t−8−(CHI)ffi−NH3、
−(CHt)r−c−Nl−1t; −(CH・)IIlす、 −(9H・)IRす、−(C
Ht)III−シクロアルキル、占 (CHt)r NHt 、(CHt)t SH、(CH
t)r S−低級アルキル、 または=(CHi)’r CN Ht;R4は水素、低
級アルキル、 −(cHt)ぺ◇ (CHy)aニビクロアルキル、 。
−(CH山り、(CHJmワ、
R6は水素、低級アルキル、−(CHt)r@、(CH
t)r OH−(CHt)r NHt、(CHt)r−
SH,(CH2)r q−低級? −(CH,)r−C−NH,; rは1〜4の整数; R7は水素、低級アルキル1、ハロゲン、ヒト1 0キシ、−NH−C−低級アルキル1、アミノ、で示さ
れる1、−もしくは2−ナフチル、\ 1 I5 で示されるI−もしくは2−ナフチルオキシ、で示され
る1−もしくは2−ナフチルチオ;(R+=)p −〇−低級アルキル、 で示されるl−もしくは2−ナフチルオキシ、で示され
る1−もしくは2−ナフチルチオ;’R+。はハロゲン
または−Y−R+e;RIl、 R’ t + + R
1mおよびR′1.はそれぞれ個別に水素または低級ア
ルキル、もしくはR’ ll+RttおよびR′1.が
水素でR11がR33は水素、炭素数1〜4の低級アル
キル、炭素数1〜4の低級アルコキシ、炭素数1〜4の
低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリフ
ルオロメチル、ヒドロキシ、フェニル、フェノキシ、フ
ェニルチオまたはフェニルメチル;R14は水素、炭素
数1〜4の低級アルキル、炭素数l〜4の低級アルコキ
シ、炭素数1〜4の低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ
、フルオロ、トリフルオロメチルまたはヒドロキシ; mは0,1,2.3または4; pは1.2または3(但しR1,とRI 4のいずれか
が水素、メチル、メトキシ、クロロまたはフルオロであ
る場合、pはlより大); Roは水素または炭素数1〜4の低級アルキルYは酸素
または硫黄: Ryeは炭素数1〜4の低級アルキル、合して構成され
る非置換5〜6員環式基、あるいは1個ないしそれ以上
の環形成炭素原子が低級アルキル(炭素数1〜4)置換
基またはジ低級アルキル(炭素数1〜4)置換基を有す
る置換5〜6員環式基: Ryeは低級アルキル、ベンジルまたはフェネチル; R9゜は水素、低級アルキル、ベンジルまたはフェネチ
ル; R@は水素、低級アルキル、p−メトキシベンジR17
は水素、低級アルキル、シクロアルキルまノこはフェニ
ル; Ryeは水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはフ
ェニル、もしくはR+□とR+ sはその双方を合して
−(CHz)t−1−(cHt)s−1−CH=CH− R* + #よびRttはそれぞれ別個に水素または低
級アルキル;および Rtsは低級アルキルを表わす] 本発明は、その最も広い観点において、前記アミノチオ
ールジペプチド化合物[1]、該化合物の製造に用いる
中間体、この化合物を含む組成物、この化合物を薬剤成
分として使用する方法に関連する。
t)r OH−(CHt)r NHt、(CHt)r−
SH,(CH2)r q−低級? −(CH,)r−C−NH,; rは1〜4の整数; R7は水素、低級アルキル1、ハロゲン、ヒト1 0キシ、−NH−C−低級アルキル1、アミノ、で示さ
れる1、−もしくは2−ナフチル、\ 1 I5 で示されるI−もしくは2−ナフチルオキシ、で示され
る1−もしくは2−ナフチルチオ;(R+=)p −〇−低級アルキル、 で示されるl−もしくは2−ナフチルオキシ、で示され
る1−もしくは2−ナフチルチオ;’R+。はハロゲン
または−Y−R+e;RIl、 R’ t + + R
1mおよびR′1.はそれぞれ個別に水素または低級ア
ルキル、もしくはR’ ll+RttおよびR′1.が
水素でR11がR33は水素、炭素数1〜4の低級アル
キル、炭素数1〜4の低級アルコキシ、炭素数1〜4の
低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリフ
ルオロメチル、ヒドロキシ、フェニル、フェノキシ、フ
ェニルチオまたはフェニルメチル;R14は水素、炭素
数1〜4の低級アルキル、炭素数l〜4の低級アルコキ
シ、炭素数1〜4の低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ
、フルオロ、トリフルオロメチルまたはヒドロキシ; mは0,1,2.3または4; pは1.2または3(但しR1,とRI 4のいずれか
が水素、メチル、メトキシ、クロロまたはフルオロであ
る場合、pはlより大); Roは水素または炭素数1〜4の低級アルキルYは酸素
または硫黄: Ryeは炭素数1〜4の低級アルキル、合して構成され
る非置換5〜6員環式基、あるいは1個ないしそれ以上
の環形成炭素原子が低級アルキル(炭素数1〜4)置換
基またはジ低級アルキル(炭素数1〜4)置換基を有す
る置換5〜6員環式基: Ryeは低級アルキル、ベンジルまたはフェネチル; R9゜は水素、低級アルキル、ベンジルまたはフェネチ
ル; R@は水素、低級アルキル、p−メトキシベンジR17
は水素、低級アルキル、シクロアルキルまノこはフェニ
ル; Ryeは水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはフ
ェニル、もしくはR+□とR+ sはその双方を合して
−(CHz)t−1−(cHt)s−1−CH=CH− R* + #よびRttはそれぞれ別個に水素または低
級アルキル;および Rtsは低級アルキルを表わす] 本発明は、その最も広い観点において、前記アミノチオ
ールジペプチド化合物[1]、該化合物の製造に用いる
中間体、この化合物を含む組成物、この化合物を薬剤成
分として使用する方法に関連する。
式[1,1中、種々の記号の定義に用いた用語はそれぞ
れ次の意義を有する。低級アルキルは炭素数7を越えな
い直鎖もしくは分枝基を包含し、特に炭素数4を越えな
い低級アルキルが好ましく、メチルおよびエチルが最も
好ましい。同様に、低級アルコキシおよび低級アルキル
チオは酸素または硫黄に結合した前記のような低級アル
キルを包含する。シクロアルキルは炭素数3〜7の飽和
環式基を包含し、このうちシクロペンチルおよびシクロ
ヘキシルが最も好ましい。
れ次の意義を有する。低級アルキルは炭素数7を越えな
い直鎖もしくは分枝基を包含し、特に炭素数4を越えな
い低級アルキルが好ましく、メチルおよびエチルが最も
好ましい。同様に、低級アルコキシおよび低級アルキル
チオは酸素または硫黄に結合した前記のような低級アル
キルを包含する。シクロアルキルは炭素数3〜7の飽和
環式基を包含し、このうちシクロペンチルおよびシクロ
ヘキシルが最も好ましい。
ハロゲンはクロロ、ブロモおよびフルオロを包含する。
ハロ置換(低級)アルキルは、1個ないしそれ以上の水
素がクロロ、ブロモまたはフルオロで置換された前記の
ような低級アルキル基、たとえばトルフルオロメチル(
これが好ましい)、ペンタフルオロエチル、2,2.2
−トリクロロエチル、クロロメチル、ブロモメチルなど
を包含する。
素がクロロ、ブロモまたはフルオロで置換された前記の
ような低級アルキル基、たとえばトルフルオロメチル(
これが好ましい)、ペンタフルオロエチル、2,2.2
−トリクロロエチル、クロロメチル、ブロモメチルなど
を包含する。
はそれぞれのアルキレン橋が結合し得るすべての環形成
炭素原子に結合し得ることを表す。
炭素原子に結合し得ることを表す。
式[1]の本発明化合物は、以下に示す手順に従って製
造することができる。即ち、式: のアルデヒドを式: (Xの定義中のR,はt−ブチル、ベンズヒドリルまた
はp−メトキシベンジルなどの酸開裂可能保護基) のジペプチドエステルと還元的にカップリングする。
造することができる。即ち、式: のアルデヒドを式: (Xの定義中のR,はt−ブチル、ベンズヒドリルまた
はp−メトキシベンジルなどの酸開裂可能保護基) のジペプチドエステルと還元的にカップリングする。
得られる式:
のp−メトキシベンジル保護化合物をトルフルオロ酢酸
およびアニソールで処理してR11エステル基を除去し
、およびトルフルオロ酢酸第二水銀で処理してp−メ°
トキシベンジル硫黄保護基を除去し、式[11のアミノ
チオール生成物を得る。
およびアニソールで処理してR11エステル基を除去し
、およびトルフルオロ酢酸第二水銀で処理してp−メ°
トキシベンジル硫黄保護基を除去し、式[11のアミノ
チオール生成物を得る。
式[’[l]のアルデヒド中間体□は、以下の手順で製
造することができる。式: (Protはベンジルオキシカルボニルなどの保護基)
のN−保護カルボン酸をN−メチルモルホリンおよびク
ロロギ酸イソブチルの存在下、ジアゾメタンで処理して
式: の化合物を得ろ。
造することができる。式: (Protはベンジルオキシカルボニルなどの保護基)
のN−保護カルボン酸をN−メチルモルホリンおよびク
ロロギ酸イソブチルの存在下、ジアゾメタンで処理して
式: の化合物を得ろ。
式[VI]のジアゾ化合物をメタノール中、安息香酸お
よびトリエチルアミンで処理して、式:のメチルエステ
ルを得る。N−保護基を例えば水素添加で除去し、次い
で式: %式%[] の酸クロリドと反応させて、式: 1 Rs CHCHt C’ OCH3 R1 のメチルエステルを得る。
よびトリエチルアミンで処理して、式:のメチルエステ
ルを得る。N−保護基を例えば水素添加で除去し、次い
で式: %式%[] の酸クロリドと反応させて、式: 1 Rs CHCHt C’ OCH3 R1 のメチルエステルを得る。
式[IX]のメチルエステルをジイソプロピルアミン・
リチウムおよび式: ゛ のジスルフィドで低温にて処理し、式:の保護スルフィ
ドを得る。
リチウムおよび式: ゛ のジスルフィドで低温にて処理し、式:の保護スルフィ
ドを得る。
式[XI]のメヂルエステルを塩化リチウムおよびホウ
水素化ナトリウムで処理して、式:のアルコールを得る
。式[1]のアルコールをジイソプロピルエチルアミン
の存在下、ピリジウム−I−スルホネートおよびジメチ
ルスルホキシドで処理して、式[n]のアルデヒドを得
る。
水素化ナトリウムで処理して、式:のアルコールを得る
。式[1]のアルコールをジイソプロピルエチルアミン
の存在下、ピリジウム−I−スルホネートおよびジメチ
ルスルホキシドで処理して、式[n]のアルデヒドを得
る。
式[I[1]のジペプチド類は文献に記載されている。
これらは、式:
%式%[[]
(N−保護基はベンジルオキシカルボニル、【−ブトキ
シカルボニルまたはp−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル) のN−保護アミノ酸を、式: %式%[] のイミノまたはアミノ酸エステルと反応させることによ
り得ることができる。次にN−保護基を除去して式[I
I[]の中間体を得る。式[X■]のイミノまたはアミ
ノ酸は酸形状において公知であり、これを通常の方法で
エステルに容易に変換することができる。例えば、R8
がt−ブチルであるエステルは、対応するN−カルボベ
ンジルオキシイミノまたはアミノ酸を酸性条件下イソブ
チレンで処理し、次いでN−カルボベンジルオキシ保護
基を接触水素添加で除去することにより得ることができ
る。
シカルボニルまたはp−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル) のN−保護アミノ酸を、式: %式%[] のイミノまたはアミノ酸エステルと反応させることによ
り得ることができる。次にN−保護基を除去して式[I
I[]の中間体を得る。式[X■]のイミノまたはアミ
ノ酸は酸形状において公知であり、これを通常の方法で
エステルに容易に変換することができる。例えば、R8
がt−ブチルであるエステルは、対応するN−カルボベ
ンジルオキシイミノまたはアミノ酸を酸性条件下イソブ
チレンで処理し、次いでN−カルボベンジルオキシ保護
基を接触水素添加で除去することにより得ることができ
る。
以上に述べた種々の反応において、R,R,、R8およ
びR6のいずれかまたはそのすべてが(C)I t)r
S H、、(CHt)r OHまたはである場合、反
応の間にこれらの基中のヒドロキシル、アミノ、イミダ
ゾリル、メルカプタンまたはグアニジル基を保護すべき
である。好適な保護基としては、ベンジルオキシカルボ
ニル、t−ブトキシカルボニル、ベンジル、ベンズヒド
リル、トルチル等およびニトロ(グアニジルの場合)が
包含される。水素感化、酸処理または他の公知方法で保
護基を脱離してから、反応を完了する。
びR6のいずれかまたはそのすべてが(C)I t)r
S H、、(CHt)r OHまたはである場合、反
応の間にこれらの基中のヒドロキシル、アミノ、イミダ
ゾリル、メルカプタンまたはグアニジル基を保護すべき
である。好適な保護基としては、ベンジルオキシカルボ
ニル、t−ブトキシカルボニル、ベンジル、ベンズヒド
リル、トルチル等およびニトロ(グアニジルの場合)が
包含される。水素感化、酸処理または他の公知方法で保
護基を脱離してから、反応を完了する。
R11が
CHOCR+s
責、7
である式[1]のエステル生成物は、上述の既存エステ
ル基との反応において式[I11]のジペプチドを用い
ることにより得ることがで−きる。かかるエステル反応
体は、R6が水素である式[1]のジペプチドを (HsC)s COCCQ などの酸クロリドで処理してN原子を保護することによ
り製造することができる。次いで、保護された化合物を
塩基の存在下、式: %式%[] (Lは塩素、臭素、トリルスルホニルなどの脱離可能基
) の化合物と反応させた後、例えば酸処理または水素感化
でN−保護基を脱離する。
ル基との反応において式[I11]のジペプチドを用い
ることにより得ることがで−きる。かかるエステル反応
体は、R6が水素である式[1]のジペプチドを (HsC)s COCCQ などの酸クロリドで処理してN原子を保護することによ
り製造することができる。次いで、保護された化合物を
塩基の存在下、式: %式%[] (Lは塩素、臭素、トリルスルホニルなどの脱離可能基
) の化合物と反応させた後、例えば酸処理または水素感化
でN−保護基を脱離する。
またR8が
1
’CHOCRta
■
R1?
である式[11のエステル生成物は、R6が水素である
式[1]の生成物をモル過剰の式[XV]の化合物で処
理することによっても得ることができる。
式[1]の生成物をモル過剰の式[XV]の化合物で処
理することによっても得ることができる。
R11が−CCORz3である式[1]のニスtt
チル生成物は、R6が水素である式[1]の生成物をモ
ル過剰の式: %式%[ の化合物で処理することにより製造することかできる。
ル過剰の式: %式%[ の化合物で処理することにより製造することかできる。
′:
Reが−CH(CHy OH) ! またはOHOHで
ある式[1]のエステル 生成物は、R11が水素である式[1]の生成物をカッ
プリング剤(例えばジシクロへキシルカルボジイミド)
の存在下、モル過剰の式: の化合物とカップリングした後ヒドロキシル保護基を脱
離することにより製造するごとができる。
ある式[1]のエステル 生成物は、R11が水素である式[1]の生成物をカッ
プリング剤(例えばジシクロへキシルカルボジイミド)
の存在下、モル過剰の式: の化合物とカップリングした後ヒドロキシル保護基を脱
離することにより製造するごとができる。
同様に、R6が−(CHt)t N (CHs)を生成
物は、R6が水素である式[1]の生成物をジシクロヘ
キシルカルボジイミドなどのカップリング剤の存在下、
モル過剰の式: %式%[] の化合物とカップリングすることにより製造することが
できる。
物は、R6が水素である式[1]の生成物をジシクロヘ
キシルカルボジイミドなどのカップリング剤の存在下、
モル過剰の式: %式%[] の化合物とカップリングすることにより製造することが
できる。
R7がアミノである式[1]の生成物は、R’ 7がア
ジドである式目]の対応生成物を還元することによって
得られてよい。
ジドである式目]の対応生成物を還元することによって
得られてよい。
R’rがアミノである式[1]の生成物は、R9がアジ
ドである式[1]の対応生成物を還元することにより得
られる。
ドである式[1]の対応生成物を還元することにより得
られる。
式[1]の構造中、ペプチド部分に関する好ましい化合
物[1]は次の通りである。
物[1]は次の通りである。
1えが水素または炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(
低級)アルキル; R1が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級
)アルキル1.CF3、 (CHt)r NH!(rは
1〜4の整数)、 1 (CHz)t 5−(CHt)t NH*−−(CH,
)、−8−CH,、 R4が水素、シクロヘキシルまたはフェニル;R6が水
素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキ
ル、−CH* OH−H −CHy−8,Hq (CHJt S −CHa、R6
が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)ア
ルキル、アルカリ金属塩、CH−OCRyelCHC0
Rts、 R。
低級)アルキル; R1が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級
)アルキル1.CF3、 (CHt)r NH!(rは
1〜4の整数)、 1 (CHz)t 5−(CHt)t NH*−−(CH,
)、−8−CH,、 R4が水素、シクロヘキシルまたはフェニル;R6が水
素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキ
ル、−CH* OH−H −CHy−8,Hq (CHJt S −CHa、R6
が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)ア
ルキル、アルカリ金属塩、CH−OCRyelCHC0
Rts、 R。
−CH(CHa 0H)tl、 CHv CHCH*、
1 Q)l 0H (CHz)t N (CH5)t rカ41〜4の整数: R23が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)ア
ルキル、特に−〇(CHa)s :Rl ?が水素、炭
素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキルまた
はシクロヘキシル;Rlsが炭素数1〜4の直鎖もしく
は分枝状(低級)アルキルまたはフェニル: R9が水素; R9がヒドロキシ; R7が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アル
キルまたはシクロヘキシル;R7がアミノ;R?が一〇
−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜4の直鎖も
しくは分枝状基)。
1 Q)l 0H (CHz)t N (CH5)t rカ41〜4の整数: R23が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)ア
ルキル、特に−〇(CHa)s :Rl ?が水素、炭
素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキルまた
はシクロヘキシル;Rlsが炭素数1〜4の直鎖もしく
は分枝状(低級)アルキルまたはフェニル: R9が水素; R9がヒドロキシ; R7が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アル
キルまたはシクロヘキシル;R7がアミノ;R?が一〇
−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜4の直鎖も
しくは分枝状基)。
または2、R1,は水素、メチル、メトキシ、メチルチ
オ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ); l−ナフチルオキシまたは2−ナフチルオキシ(Ill
は0、■または2、R33は水素、メチル、メトキシ、
メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキ
シ); R7が−S−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝状基); 亀 l−ナフチルチオまたは2−ナフチルチオ(Illは0
.1または2、R18は水素、メチル、メトキシ、メチ
ルチオ、クロロ、ブ台モ、フルオロまたはヒドロキシ)
: R6が−〇−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝状基); (Illは0、lまたは2、RI3は水素、メチル、メ
トキシ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたは
ヒドロキシ); R8が−8−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝状基); (lは0、lまたは2、R,3は水素、メチル、メトキ
シ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒド
ロキシ); R9がフェニル、2−ヒドロキシフェニルまたは4−ヒ
ドロキシフェニル; RIoが双方共にフルオロまたはクロロ;RIoが双方
共に−Y RIo(Yは酸素または硫黄、RI6は炭素
数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキル、もし
くは2個のR1,が合して構成される非置換5〜6員環
式基あるいは1個ないしそれ以上の環形成炭素原子がメ
チルまたはジメチル置換基を有する置換5〜6員環式基
):R+tt R’t+t RIoおよびR’ ttが
すべて水素、もしくはR11がフェニル、2−ヒドロキ
シフェニルまたは4−ヒドロキシフェニルでR’ll、
RltおよびR゛1.が水素:Rt4がフェニルであ
る化合物[1]。
オ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ); l−ナフチルオキシまたは2−ナフチルオキシ(Ill
は0、■または2、R33は水素、メチル、メトキシ、
メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキ
シ); R7が−S−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝状基); 亀 l−ナフチルチオまたは2−ナフチルチオ(Illは0
.1または2、R18は水素、メチル、メトキシ、メチ
ルチオ、クロロ、ブ台モ、フルオロまたはヒドロキシ)
: R6が−〇−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝状基); (Illは0、lまたは2、RI3は水素、メチル、メ
トキシ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたは
ヒドロキシ); R8が−8−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝状基); (lは0、lまたは2、R,3は水素、メチル、メトキ
シ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒド
ロキシ); R9がフェニル、2−ヒドロキシフェニルまたは4−ヒ
ドロキシフェニル; RIoが双方共にフルオロまたはクロロ;RIoが双方
共に−Y RIo(Yは酸素または硫黄、RI6は炭素
数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキル、もし
くは2個のR1,が合して構成される非置換5〜6員環
式基あるいは1個ないしそれ以上の環形成炭素原子がメ
チルまたはジメチル置換基を有する置換5〜6員環式基
):R+tt R’t+t RIoおよびR’ ttが
すべて水素、もしくはR11がフェニル、2−ヒドロキ
シフェニルまたは4−ヒドロキシフェニルでR’ll、
RltおよびR゛1.が水素:Rt4がフェニルであ
る化合物[1]。
式[11の構造中、ペプチド部分に関する最も好ましい
化合物[+]を以下に列挙する。
化合物[+]を以下に列挙する。
R4R6
(L)
Rが水素またはメチル;
R8が水素、メチルまたは−(CI(e)* NHt;
R6が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分岐状(低級
)アルキルまたはアルカリ金属塩;R4がシクロヘキシ
ルまたはフェニルでR6が水素; R6が水素でR6がメチル、=CHt−CH(CHs)
t、R7が水素、シクロヘキシル、炭素数1〜4のまた
は2、R1,は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、特にR
7が水素; tが2または3、特に2 である化合物[1]。
R6が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分岐状(低級
)アルキルまたはアルカリ金属塩;R4がシクロヘキシ
ルまたはフェニルでR6が水素; R6が水素でR6がメチル、=CHt−CH(CHs)
t、R7が水素、シクロヘキシル、炭素数1〜4のまた
は2、R1,は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、特にR
7が水素; tが2または3、特に2 である化合物[1]。
式[1]の構造中、チオール置換部分に関する好ましい
化合物[I]を以下に列挙する。
化合物[I]を以下に列挙する。
(sは0,1または2、R14は水素、メチル、メトキ
シ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒド
ロキシ)、特にフェニル: R3が炭素数1〜4の直鎖もしくは分岐状(低級)アル
キル、−(C1(t)r N R2、(lは0.1また
は2、RI4は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
タロ口、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ、rは1〜
4の整数)、特にベンジル である化合物[1]。
シ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒド
ロキシ)、特にフェニル: R3が炭素数1〜4の直鎖もしくは分岐状(低級)アル
キル、−(C1(t)r N R2、(lは0.1また
は2、RI4は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
タロ口、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ、rは1〜
4の整数)、特にベンジル である化合物[1]。
R6が水素である本発明化合物[1]は種々の無機また
は有機塩基との塩を形成する。非毒性であって薬理学的
に許容される塩が好ましいが、その他の塩も生成物を単
離または精製するのに有用である。このような薬理学的
に許容される塩類は、ナトリウム、カリウムまたはリチ
ウムのようなアルカリ金属の塩類、カルシウムまたはマ
グネシウムのよう5なアルカリ土類金属の塩類、アルギ
ニン、リシンなどのようなアミノ酸から誘導傘れる塩類
を包含する。かかる塩は、本発明の酸型化合物と所望の
イオンの供給塩基当量を、塩沈澱性媒体中で反応させる
か、または水性媒体中で反啼させて凍結乾燥することに
より、、得ることができる。
は有機塩基との塩を形成する。非毒性であって薬理学的
に許容される塩が好ましいが、その他の塩も生成物を単
離または精製するのに有用である。このような薬理学的
に許容される塩類は、ナトリウム、カリウムまたはリチ
ウムのようなアルカリ金属の塩類、カルシウムまたはマ
グネシウムのよう5なアルカリ土類金属の塩類、アルギ
ニン、リシンなどのようなアミノ酸から誘導傘れる塩類
を包含する。かかる塩は、本発明の酸型化合物と所望の
イオンの供給塩基当量を、塩沈澱性媒体中で反応させる
か、または水性媒体中で反啼させて凍結乾燥することに
より、、得ることができる。
同様に本発明化合物[Iコは、憚々の無機酸または有機
酸との塩を形成する。かかる塩も上記同様に非毒性であ
って薬理学的に許容される雫が好ましいが、その他の塩
であっても生成物を単離または精製するのに有用夕ある
。このような薬理学的に許容される塩は、塩酸、メタン
スルホン酸、硫酸、マレイン酸などとの塩を集合する。
酸との塩を形成する。かかる塩も上記同様に非毒性であ
って薬理学的に許容される雫が好ましいが、その他の塩
であっても生成物を単離または精製するのに有用夕ある
。このような薬理学的に許容される塩は、塩酸、メタン
スルホン酸、硫酸、マレイン酸などとの塩を集合する。
この塩は生成物と当量の酸を、塩沈澱性媒体中で反応さ
せることによりえることができる。
せることによりえることができる。
前記のように、本発明化合物[1]の分子中、RRIO
は水素以外)はL−配置にある。また、式[1]中*で
表される分子のチオール置換部分には、lまた2個の不
斉中心が存在する。勿論、R3が水素の場合は1個のみ
の中心が存在する。このように本発明化合物[1]はジ
アステレオ異性体形状またはその混合物として存在する
ことができる。前記製造法において出発物質としてラセ
ミ化合物、エナンチオマーまたはジアステレオマーを使
用することができる。ジアステレオマー化合物を製造す
るとき、この生成物を常套のクロマトグラフィーまたは
分別結晶法により分離することができる。
表される分子のチオール置換部分には、lまた2個の不
斉中心が存在する。勿論、R3が水素の場合は1個のみ
の中心が存在する。このように本発明化合物[1]はジ
アステレオ異性体形状またはその混合物として存在する
ことができる。前記製造法において出発物質としてラセ
ミ化合物、エナンチオマーまたはジアステレオマーを使
用することができる。ジアステレオマー化合物を製造す
るとき、この生成物を常套のクロマトグラフィーまたは
分別結晶法により分離することができる。
イミノ酸環がモノ置換されている本発明化合物[11は
シス−トランス異性を現わす。最終生成物の配置は出発
物質[XIV]中のR7,RsおよびR。
シス−トランス異性を現わす。最終生成物の配置は出発
物質[XIV]中のR7,RsおよびR。
置換基の配置に依存する。
本発明化合物[I]およびその薬理学的に許容される塩
類は、血圧降下剤である。これらの化合物はデカペプチ
ドであるアンギオテンシンIのアンギオテンシン■への
変換を抑制し、それ故アンギオテンシン関連性高血圧症
を軽減または緩和させるのに有用である。アンギオテン
シノーゲン、血中シュードグロブリンに対する酵素レニ
ンの作用によりアンギオテンンン■を産生ずる。アンギ
オテンシIはアンギオテンシン変換酵素(ACE)によ
りアンギオテンシン■に変換する。アンギオテンシン■
は血圧上昇活性物質であって、種々の哺乳類(たとえば
ヒト)の種々の類型の高血圧の原因となる物質として関
連性がある。本発明化合物は、アンギオテンシン変換酵
素を抑制し、血圧上昇活性物質アンギオテンシンHの生
成を減退または阻止することにより、アンギオテンシノ
ーゲンー(レニン)→アンギオテンシンI→アンギオテ
ンシン■系に介在する。このように、本発明化合物1種
(または混合物)を含む組成物を投与することにより、
高血圧症の哺乳類(たとえばヒト)のアンギオテンシン
依存性高血圧を軽減させることができる。
類は、血圧降下剤である。これらの化合物はデカペプチ
ドであるアンギオテンシンIのアンギオテンシン■への
変換を抑制し、それ故アンギオテンシン関連性高血圧症
を軽減または緩和させるのに有用である。アンギオテン
シノーゲン、血中シュードグロブリンに対する酵素レニ
ンの作用によりアンギオテンンン■を産生ずる。アンギ
オテンシIはアンギオテンシン変換酵素(ACE)によ
りアンギオテンシン■に変換する。アンギオテンシン■
は血圧上昇活性物質であって、種々の哺乳類(たとえば
ヒト)の種々の類型の高血圧の原因となる物質として関
連性がある。本発明化合物は、アンギオテンシン変換酵
素を抑制し、血圧上昇活性物質アンギオテンシンHの生
成を減退または阻止することにより、アンギオテンシノ
ーゲンー(レニン)→アンギオテンシンI→アンギオテ
ンシン■系に介在する。このように、本発明化合物1種
(または混合物)を含む組成物を投与することにより、
高血圧症の哺乳類(たとえばヒト)のアンギオテンシン
依存性高血圧を軽減させることができる。
血圧を降下させるため、約0.1’−100a+g’(
好ましくは約l〜50mg)/Kg(体重)7日の投与
量を基準としこれを1日当たり1回好ましくは2〜4回
に分けて投与するのが適当である。活性物質は経口的に
投与するの力(好ましいが、皮下、筋肉内、静脈内また
は腹腔内のような非経口的に投与しそもよい。
好ましくは約l〜50mg)/Kg(体重)7日の投与
量を基準としこれを1日当たり1回好ましくは2〜4回
に分けて投与するのが適当である。活性物質は経口的に
投与するの力(好ましいが、皮下、筋肉内、静脈内また
は腹腔内のような非経口的に投与しそもよい。
また本発明化合物は゛これ番高血圧症治療のための利尿
剤と組み合わせて一則することができる。
剤と組み合わせて一則することができる。
本発明化合物と利尿剤を組み合わせて成る薬細は、これ
を必要とする哺乳類C;、′1日当たり未発明化合物約
30〜600mg、好ましくは約s o−1−a aO
mgと利尿剤約15〜a6omg、好ましくは約15〜
200+ngから成る有効量で投与することができる。
を必要とする哺乳類C;、′1日当たり未発明化合物約
30〜600mg、好ましくは約s o−1−a aO
mgと利尿剤約15〜a6omg、好ましくは約15〜
200+ngから成る有効量で投与することができる。
本発明化合物と組集合わせて使用するために計画される
利尿剤の例とtで、チアジド利尿剤たとえばクロロチア
リド、□ヒドロクロロチアジド、フルメチアジド、ヒド
ロフルメチアット、ペンドロフルメチアジド、メチクロ
チアジド、トリクロロメチアジド、ポリチアジドまたは
ベンズチアジド、およびエタクリン酸、チクリナフエン
、クロルタリドン、フロセミド、ムソリミン、ブメタニ
ド、トリアムテレン、アミロリド、スピロノラクトンお
よびこれらの化合物の塩類があげられる。
利尿剤の例とtで、チアジド利尿剤たとえばクロロチア
リド、□ヒドロクロロチアジド、フルメチアジド、ヒド
ロフルメチアット、ペンドロフルメチアジド、メチクロ
チアジド、トリクロロメチアジド、ポリチアジドまたは
ベンズチアジド、およびエタクリン酸、チクリナフエン
、クロルタリドン、フロセミド、ムソリミン、ブメタニ
ド、トリアムテレン、アミロリド、スピロノラクトンお
よびこれらの化合物の塩類があげられる。
血圧を降下させるのに使用するため、本発明化合物を経
口投与用錠剤、カプセル剤またはエリキシル剤のような
組成物、あるいは非経口投与用減菌液もし:くは懸濁液
とし才製剤することができる。
口投与用錠剤、カプセル剤またはエリキシル剤のような
組成物、あるいは非経口投与用減菌液もし:くは懸濁液
とし才製剤することができる。
許容される薬理学的慣行に適合する単位投与剤型中に本
発明化合物[1]約10〜50hgを、生理学的、0許
容あオ0.媒体、担オ、賦形剤、門合剤、保存剤、委定
剤、香味剤などに配合する。これらの組成物または薬剤
中の活性物質の壷は前記のような必要な投与量が投与さ
れるような量とすべきである。
発明化合物[1]約10〜50hgを、生理学的、0許
容あオ0.媒体、担オ、賦形剤、門合剤、保存剤、委定
剤、香味剤などに配合する。これらの組成物または薬剤
中の活性物質の壷は前記のような必要な投与量が投与さ
れるような量とすべきである。
また本発明のxが−NH−CH−GOOR,で5
ある化合物[r]はエンケファリナーゼ抑制活性を有し
、鎮痛剤として有用である。それ故このような化合物[
11またはその薬理学的に許容される塩類の1種ないし
混合物を含有する組成物を投与することにより、哺乳類
の苦痛を軽減することができる。活性化合物的0.1−
11−1O0好ましくは約1〜50mg)/Kg(体重
)7日の投与量を基準としてこれを1日当たり1回、好
ましくは2〜4( 回に分けて投与することにより所望の鎮痛活性を現わす
。組成物は経口的に投与するのが好ましいが、皮下投与
のような非経口的方法で投与してもよい。
、鎮痛剤として有用である。それ故このような化合物[
11またはその薬理学的に許容される塩類の1種ないし
混合物を含有する組成物を投与することにより、哺乳類
の苦痛を軽減することができる。活性化合物的0.1−
11−1O0好ましくは約1〜50mg)/Kg(体重
)7日の投与量を基準としてこれを1日当たり1回、好
ましくは2〜4( 回に分けて投与することにより所望の鎮痛活性を現わす
。組成物は経口的に投与するのが好ましいが、皮下投与
のような非経口的方法で投与してもよい。
次に実施例をあげて本発明化合物を具体的に説明する。
実施例中、温度単位は℃てあり、L H−20はPha
rmacia Fine Chemicals社から商
業上入手しうる5ephadexクロマトグラフイーゲ
ルを指称する。
rmacia Fine Chemicals社から商
業上入手しうる5ephadexクロマトグラフイーゲ
ルを指称する。
実施例1
1−CN−((35)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト−4−フェニルブチル〕−し一アラニル〕
−17−プロリン(異性体A)の製造ニーa)(4−メ
トキシフェニル)メチルジスルフィドベンゼン(300
W(りおよび重炭酸ナトリウム(29,4g、0.35
モル)を含む水(3001ff)中の4−メトキンベン
ゼンメタンチオール(25g、0.162モル)の攪拌
混合物に、ヨウ素のベンゼン溶液をヨウ素の色が持続す
るまで加える。15分間攪拌後、チオ硫酸ナトリウムで
過剰ヨウ素の反応を抑える。ベンゼン画分を水、水性チ
オ硫酸ナトリウム、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩水
で洗う。
−メルカプト−4−フェニルブチル〕−し一アラニル〕
−17−プロリン(異性体A)の製造ニーa)(4−メ
トキシフェニル)メチルジスルフィドベンゼン(300
W(りおよび重炭酸ナトリウム(29,4g、0.35
モル)を含む水(3001ff)中の4−メトキンベン
ゼンメタンチオール(25g、0.162モル)の攪拌
混合物に、ヨウ素のベンゼン溶液をヨウ素の色が持続す
るまで加える。15分間攪拌後、チオ硫酸ナトリウムで
過剰ヨウ素の反応を抑える。ベンゼン画分を水、水性チ
オ硫酸ナトリウム、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩水
で洗う。
無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去して褐色固
体を得、これをエーテルで洗って淡黄褐色固体を得る。
体を得、これをエーテルで洗って淡黄褐色固体を得る。
こめ物質を再結晶のため温酢酸エチルに溶解し、その間
冷却して無色溶液を暗褐色(これはヨウ素を示す)に変
色させる。得られる溶液を水浴で冷却し、生成固体を濾
取する。次いでこの固体を酢酸エチルより再結晶し、エ
ーテルで洗って1 ’5 、19の(4−メトキシフェ
ニル)メチルジスルフィドを無色固体で得る。m、p、
98〜100゜元素分析(C+sH+sOzs vと
して)計算値:C62,7L )(5,92、S20.
92実測値:C62,60、H5,97、S20.86
b)(S)−3−((ベンゾイルオキシカルボニル)ア
ミノII−ジアゾー4−フェニル−2−ブタノン乾燥テ
トラヒドロフラン(250i(り中のN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−フェニルアラニン(53,9g、1
80ミリモル)およびN−メチルモルポリン(19,8
d、180ミリモル)の溶液に、アルゴン下−20°で
クロロギ酸イソブチル(23,4111L180ミリモ
ル)を加える。15分間攪拌後、濾過してN−メチルモ
ルポリン塩酸塩を除去し、濾液をジアゾメタンの冷(0
?)エーテル溶液で処理する。得られる混合物を室温に
温め、2時間攪、拌する。反応混合物に窒素流を30分
間吹き込み、過剰のジアゾメタンを除去する。溶媒を減
圧除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。得られる溶液
を水(2回)、IN−重炭酸ナトリウム(2回)、0゜
25M−クエン酸(2回)および塩水で洗う。無水Mg
5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をイソプロ
ピルエーテルに溶解する。生成する沈殿物を濾取して、
41.079の(S)−3−((ベンジルオキシカルボ
ニル)アミノコ−1−ジアゾ−4−フェニル−2−ブタ
ノンを淡黄色固体で得る。TLC(シリカゲル、ヘキサ
ン/酢酸エチル= 3 : 1 ):Rf=0.12゜ c)(S)−β−〔(ベンジルオキシカルボニル)アミ
ノコベンゼンブタン酸メチルエステルメタノール(10
0峠)中の(S)−3−((ベンジルオキシカルボニル
)アミノ11−ジアゾ−4−フェニル−2−ブタノン(
10g、30.8ミリモル)の溶液に、トリエチルアミ
ン(12;51ff)中の安息香酸銀(1,09)の溶
液0 、5 yiQを加える。窒素発□生が止まってか
ら、更に0 、5 mlの安息香酸銀/トリエチルアミ
ン溶液を加え、攪拌を更に15分間続ける。反応混合物
を活性炭で処理し、セライト(Celite)で濾過す
る。濾液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解する。
冷却して無色溶液を暗褐色(これはヨウ素を示す)に変
色させる。得られる溶液を水浴で冷却し、生成固体を濾
取する。次いでこの固体を酢酸エチルより再結晶し、エ
ーテルで洗って1 ’5 、19の(4−メトキシフェ
ニル)メチルジスルフィドを無色固体で得る。m、p、
98〜100゜元素分析(C+sH+sOzs vと
して)計算値:C62,7L )(5,92、S20.
92実測値:C62,60、H5,97、S20.86
b)(S)−3−((ベンゾイルオキシカルボニル)ア
ミノII−ジアゾー4−フェニル−2−ブタノン乾燥テ
トラヒドロフラン(250i(り中のN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−フェニルアラニン(53,9g、1
80ミリモル)およびN−メチルモルポリン(19,8
d、180ミリモル)の溶液に、アルゴン下−20°で
クロロギ酸イソブチル(23,4111L180ミリモ
ル)を加える。15分間攪拌後、濾過してN−メチルモ
ルポリン塩酸塩を除去し、濾液をジアゾメタンの冷(0
?)エーテル溶液で処理する。得られる混合物を室温に
温め、2時間攪、拌する。反応混合物に窒素流を30分
間吹き込み、過剰のジアゾメタンを除去する。溶媒を減
圧除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。得られる溶液
を水(2回)、IN−重炭酸ナトリウム(2回)、0゜
25M−クエン酸(2回)および塩水で洗う。無水Mg
5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をイソプロ
ピルエーテルに溶解する。生成する沈殿物を濾取して、
41.079の(S)−3−((ベンジルオキシカルボ
ニル)アミノコ−1−ジアゾ−4−フェニル−2−ブタ
ノンを淡黄色固体で得る。TLC(シリカゲル、ヘキサ
ン/酢酸エチル= 3 : 1 ):Rf=0.12゜ c)(S)−β−〔(ベンジルオキシカルボニル)アミ
ノコベンゼンブタン酸メチルエステルメタノール(10
0峠)中の(S)−3−((ベンジルオキシカルボニル
)アミノ11−ジアゾ−4−フェニル−2−ブタノン(
10g、30.8ミリモル)の溶液に、トリエチルアミ
ン(12;51ff)中の安息香酸銀(1,09)の溶
液0 、5 yiQを加える。窒素発□生が止まってか
ら、更に0 、5 mlの安息香酸銀/トリエチルアミ
ン溶液を加え、攪拌を更に15分間続ける。反応混合物
を活性炭で処理し、セライト(Celite)で濾過す
る。濾液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解する。
この溶液を水、IN−塩酸、IN−重炭酸ナトリウム(
2回)および塩水で洗う。無水Mg5O,上で乾燥後、
溶媒を減圧除去し、残渣をクロマトグラフィー(フロリ
ジル(F 1orisil)、エーテル)に付し、9.
439の(S)−β−〔(ベンジルオキシカルボニル)
アミノコベンゼンブタン酸メチルエステルをワックス状
黄色固体で得る。TLC(シリカゲル、ヘキサン/酢酸
エfル=4:1):Rr=0.25゜ d)(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−ベンゼンブタ
ン酸メチルエステル 95%エタノール(170峠)中の(S)−β−〔(ベ
ンジルオキシカルボニル)アミノコベンゼンブタン酸メ
チルエステル(10,0g、30.5ミリモル)、p−
トルエンスルホン酸・モノ水和物(s、sy、30.5
ミリモル)および水酸化パラジウム/炭素触媒(1,0
9)の混合物を、水素雰囲気(バルーン)下で攪拌する
。かかる系を排気し、20分毎に新鮮な水素を再充填す
る。1.5時間後触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮して無
色固体を得る。
2回)および塩水で洗う。無水Mg5O,上で乾燥後、
溶媒を減圧除去し、残渣をクロマトグラフィー(フロリ
ジル(F 1orisil)、エーテル)に付し、9.
439の(S)−β−〔(ベンジルオキシカルボニル)
アミノコベンゼンブタン酸メチルエステルをワックス状
黄色固体で得る。TLC(シリカゲル、ヘキサン/酢酸
エfル=4:1):Rr=0.25゜ d)(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−ベンゼンブタ
ン酸メチルエステル 95%エタノール(170峠)中の(S)−β−〔(ベ
ンジルオキシカルボニル)アミノコベンゼンブタン酸メ
チルエステル(10,0g、30.5ミリモル)、p−
トルエンスルホン酸・モノ水和物(s、sy、30.5
ミリモル)および水酸化パラジウム/炭素触媒(1,0
9)の混合物を、水素雰囲気(バルーン)下で攪拌する
。かかる系を排気し、20分毎に新鮮な水素を再充填す
る。1.5時間後触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮して無
色固体を得る。
無水テトラヒドロフラン(1501(り中の上記無色固
体およびジイソプロピルエチルアミン(8,23a12
,47.2ミリモル)の溶液にθ°で、塩化ベンゾイル
(6,27112,54ミリモル)を加える。30分間
攪拌後、混合物を室温に温め、攪拌を45分間続ける。
体およびジイソプロピルエチルアミン(8,23a12
,47.2ミリモル)の溶液にθ°で、塩化ベンゾイル
(6,27112,54ミリモル)を加える。30分間
攪拌後、混合物を室温に温め、攪拌を45分間続ける。
次いで反応混合物をIN−重炭酸ナトリウム(1501
Q)で処理する。30分間攪拌後大部分のテトラヒドロ
フランを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで抽出する。酢
酸エチル画分を水(2回)、IN−塩酸(2回)、IN
−重炭酸ナトリウム(2回)および塩水で洗う。無水M
g5Oi上で乾燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をヘキサ
ノで洗って8.15gの(S)−β−(ベンゾイルアミ
ノ)−ベンゼンブタン酸メチルエステルを無色固体で得
る。1’LCCシリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル−1
:1):Rf=0.38゜ e)(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−(((4
−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタン酸
メチルエステル 乾燥テトラヒドロフラン(20xN)中の新たに蒸留し
たジイソプロピルアミン(2,07i+e% 14,8
ミリモル)の溶液に、アルゴン下0°でn−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液(2,4M溶液6.02112゜1
4.5ミリモル)を加える。0°で30分間攪拌後、得
られるジイソプロピルアミド・リチウムの溶液を一78
″に冷却し、テトラヒドロフラン(20iQ)中の(S
)−β−(ベンゾイルアミノ)−ベンゼンブタン酸メチ
ルエステル(:l’、Oy、6.72ミリモル)の溶液
を5分にわたって滴下する。−78’で15分冊攪拌後
、テトラヒドロフラン(91e)中の(4−メトキシフ
ェニル)メチルジスルフィド(2゜5g、8,07ミリ
モル)の溶液を加える。−78゜亀 で5分後混合物を0°に温め、攪拌を45分間続ける。
Q)で処理する。30分間攪拌後大部分のテトラヒドロ
フランを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで抽出する。酢
酸エチル画分を水(2回)、IN−塩酸(2回)、IN
−重炭酸ナトリウム(2回)および塩水で洗う。無水M
g5Oi上で乾燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をヘキサ
ノで洗って8.15gの(S)−β−(ベンゾイルアミ
ノ)−ベンゼンブタン酸メチルエステルを無色固体で得
る。1’LCCシリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル−1
:1):Rf=0.38゜ e)(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−(((4
−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタン酸
メチルエステル 乾燥テトラヒドロフラン(20xN)中の新たに蒸留し
たジイソプロピルアミン(2,07i+e% 14,8
ミリモル)の溶液に、アルゴン下0°でn−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液(2,4M溶液6.02112゜1
4.5ミリモル)を加える。0°で30分間攪拌後、得
られるジイソプロピルアミド・リチウムの溶液を一78
″に冷却し、テトラヒドロフラン(20iQ)中の(S
)−β−(ベンゾイルアミノ)−ベンゼンブタン酸メチ
ルエステル(:l’、Oy、6.72ミリモル)の溶液
を5分にわたって滴下する。−78’で15分冊攪拌後
、テトラヒドロフラン(91e)中の(4−メトキシフ
ェニル)メチルジスルフィド(2゜5g、8,07ミリ
モル)の溶液を加える。−78゜亀 で5分後混合物を0°に温め、攪拌を45分間続ける。
IN〜塩酸で反応を抑え、酢酸エチルで希釈する。得ら
れる溶液を水、IN−塩酸、IN−重炭酸ナトリウムお
よび塩水で洗う。無水Mg5O。
れる溶液を水、IN−塩酸、IN−重炭酸ナトリウムお
よび塩水で洗う。無水Mg5O。
上で乾、燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をフラッシュク
ロマトグラフィー(4リカゲルLPS−1,ベンゼン/
酢酸エチル−93ニア)に付し、1.859の淡黄色固
体の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−〔〔(4
−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタン酸
メチルエステルをジアステレオマー混合物で得る。TL
C(シリカゲル、ベンゼン/酢酸エチル−9:l):R
f=0.29および0.26゜「)(S)−β−(ベン
ゾイルアミノ)−α−[:((4−メトキシフェニル)
メチル〕チオ〕ベンゼンブタノール(異性体A) テトラヒドロフラン(25酎)および無水エタノール(
2531の中の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α
−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼ
ンブタン酸メチルエステル(1,859,4,11ミリ
モル)の溶液に、塩化リチウム(0,79,4当量)お
よびホウ水素化ナトリウム(0,62g、4当量)を加
える。室温で21時藺攪拌後、混合物にIN−塩酸を加
えて反応を抑え、酢酸エチルで希釈する。得られる溶液
を水、IN=塩酸、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩水
で洗う。無水Mg5o。
ロマトグラフィー(4リカゲルLPS−1,ベンゼン/
酢酸エチル−93ニア)に付し、1.859の淡黄色固
体の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−〔〔(4
−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタン酸
メチルエステルをジアステレオマー混合物で得る。TL
C(シリカゲル、ベンゼン/酢酸エチル−9:l):R
f=0.29および0.26゜「)(S)−β−(ベン
ゾイルアミノ)−α−[:((4−メトキシフェニル)
メチル〕チオ〕ベンゼンブタノール(異性体A) テトラヒドロフラン(25酎)および無水エタノール(
2531の中の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α
−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼ
ンブタン酸メチルエステル(1,859,4,11ミリ
モル)の溶液に、塩化リチウム(0,79,4当量)お
よびホウ水素化ナトリウム(0,62g、4当量)を加
える。室温で21時藺攪拌後、混合物にIN−塩酸を加
えて反応を抑え、酢酸エチルで希釈する。得られる溶液
を水、IN=塩酸、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩水
で洗う。無水Mg5o。
上で乾燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をフラッシュクロ
マトグラフィー(シリカゲルLPS−1.ベンゼン/ア
セトン=91=9)に付し、分離したジアステレオマー
の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−〔〔(4−
メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタノール
を無色固、体で得る。異性体A:0.489、TLC(
シリカゲル、ベンゼン/アセ)7=9二I)Rf=0.
27、および異性体B:0゜52g、TLC(シリカゲ
ル、ベンゼン/アセトン=9:I)Rf=0.16゜ g)(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−(((4
−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタナー
ル(異性体A) 無水ジメチルスルホキシド(5xQ)およびピリジニウ
ム−1−スルホネート(0,919,5,651(りの
混合物をアルゴン下室温にて15分、間攪拌し、次いで
乾燥塩化メチレン(5me)で希釈する。得られる溶液
に、塩化メチレン(7xQ)中の(、S)−β−(ベン
ゾイルアミノ)−α−〔〔(4−メトキシフェニル)メ
チル〕チオ〕ベンゼンブタノール(異性体A)(0,4
8g、l、13ミリモル)およびジイソプロピルエチル
アミン(1,98xQ、11.3ミリモル)の溶液を加
える。15分間攪拌後、混合物を酢酸エチルで希釈し、
水(2回)、IN−重炭酸ナトリウム(2回)および塩
水で洗う。無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去
し、0.459の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−
α−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベン
ゼンブタナール(異性体A)を淡黄色固体で得る。TL
C(シリカゲル、ベンゼン/7セ):/=9:1):R
f=0.44゜h) ト(N−((35)−3−(ベン
ゾイルアミノ)−2−([(4−メト干ンフェニル)メ
チル〕チオ〕−4−フェニルブチル〕−L−アラニルI
L−プロリン・1.1−ジメチルエチルエステル(異性
体A)テトラヒドロフラン(51(りおよび無水エタノ
ール(5mQ)中の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)
−α−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベ
ンゼンブタナール(異性体A80.45..1,07ミ
リモル)、し−アラニル−゛L−プロリン・1.1−ジ
メチルエチルエステル(0,78?、3.21ミリモル
)、および粉砕した3人モレキュラーシーブス(2v)
の混合物を、アルゴン下室温で攪拌する。2.5時間後
シアノホウ水素化ナトリウム(0,20?、3当量)を
加え、攪拌を15時間続ける。反応混合物を濾過してシ
ーブスを除去し、濾液を酢酸エチルで希釈し、水、IN
−塩酸(2回)、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩水で
洗う。無水Mg5o4上で乾燥後、溶媒を除去してジア
ステレオマー混合物の所望生成物を淡黄色油状物で得る
。TLC(シリカゲル、ベンゼン/アセトン−4: I
):異性体AのRf=OJ Oおよび異性体80′)
Rf=0.13゜フラッシュクロマトグラフィー(シリ
カゲルLPS−1、ベンゼン/アセトン−7=3)によ
り不純生成物(異性体A)を得る。更にフラッシュクロ
マトグラフィー(シリカゲルLPG−1、酢酸エチル/
ベンゼン−6=4)を繰波し、0.209のト〔N−(
(35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−(((4)−
メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−フェニルブチ
ル)−L−アラニルIL−プロリン・t ’、 t −
ジメチルエチルエステル(異性体A)をほぼ無色の油状
物で得る。
マトグラフィー(シリカゲルLPS−1.ベンゼン/ア
セトン=91=9)に付し、分離したジアステレオマー
の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−〔〔(4−
メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタノール
を無色固、体で得る。異性体A:0.489、TLC(
シリカゲル、ベンゼン/アセ)7=9二I)Rf=0.
27、および異性体B:0゜52g、TLC(シリカゲ
ル、ベンゼン/アセトン=9:I)Rf=0.16゜ g)(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−(((4
−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタナー
ル(異性体A) 無水ジメチルスルホキシド(5xQ)およびピリジニウ
ム−1−スルホネート(0,919,5,651(りの
混合物をアルゴン下室温にて15分、間攪拌し、次いで
乾燥塩化メチレン(5me)で希釈する。得られる溶液
に、塩化メチレン(7xQ)中の(、S)−β−(ベン
ゾイルアミノ)−α−〔〔(4−メトキシフェニル)メ
チル〕チオ〕ベンゼンブタノール(異性体A)(0,4
8g、l、13ミリモル)およびジイソプロピルエチル
アミン(1,98xQ、11.3ミリモル)の溶液を加
える。15分間攪拌後、混合物を酢酸エチルで希釈し、
水(2回)、IN−重炭酸ナトリウム(2回)および塩
水で洗う。無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去
し、0.459の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−
α−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベン
ゼンブタナール(異性体A)を淡黄色固体で得る。TL
C(シリカゲル、ベンゼン/7セ):/=9:1):R
f=0.44゜h) ト(N−((35)−3−(ベン
ゾイルアミノ)−2−([(4−メト干ンフェニル)メ
チル〕チオ〕−4−フェニルブチル〕−L−アラニルI
L−プロリン・1.1−ジメチルエチルエステル(異性
体A)テトラヒドロフラン(51(りおよび無水エタノ
ール(5mQ)中の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)
−α−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベ
ンゼンブタナール(異性体A80.45..1,07ミ
リモル)、し−アラニル−゛L−プロリン・1.1−ジ
メチルエチルエステル(0,78?、3.21ミリモル
)、および粉砕した3人モレキュラーシーブス(2v)
の混合物を、アルゴン下室温で攪拌する。2.5時間後
シアノホウ水素化ナトリウム(0,20?、3当量)を
加え、攪拌を15時間続ける。反応混合物を濾過してシ
ーブスを除去し、濾液を酢酸エチルで希釈し、水、IN
−塩酸(2回)、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩水で
洗う。無水Mg5o4上で乾燥後、溶媒を除去してジア
ステレオマー混合物の所望生成物を淡黄色油状物で得る
。TLC(シリカゲル、ベンゼン/アセトン−4: I
):異性体AのRf=OJ Oおよび異性体80′)
Rf=0.13゜フラッシュクロマトグラフィー(シリ
カゲルLPS−1、ベンゼン/アセトン−7=3)によ
り不純生成物(異性体A)を得る。更にフラッシュクロ
マトグラフィー(シリカゲルLPG−1、酢酸エチル/
ベンゼン−6=4)を繰波し、0.209のト〔N−(
(35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−(((4)−
メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−フェニルブチ
ル)−L−アラニルIL−プロリン・t ’、 t −
ジメチルエチルエステル(異性体A)をほぼ無色の油状
物で得る。
1)1−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)
−2−メルカプト−4−フェニルブチル)−L−アラニ
ル)−L−プロリン(異性体A) トリフルオロ酢酸(191&)中の上記(h)の1.1
−ジメチルエチルエステル生成物C0,579,0,8
8ミリモル)およびアニソール(1,0112)の溶液
を、室温で1時間攪拌する。0″に冷却後、トリフルオ
ロ酢酸第二水銀<9761′yJO,88ミリモル)を
加える。1時間攪拌後火部分のトリフルオロ酢酸を減圧
除去する。残渣をエーテルで処理して無色固体を得、こ
れを濾取する(535o)。
−2−メルカプト−4−フェニルブチル)−L−アラニ
ル)−L−プロリン(異性体A) トリフルオロ酢酸(191&)中の上記(h)の1.1
−ジメチルエチルエステル生成物C0,579,0,8
8ミリモル)およびアニソール(1,0112)の溶液
を、室温で1時間攪拌する。0″に冷却後、トリフルオ
ロ酢酸第二水銀<9761′yJO,88ミリモル)を
加える。1時間攪拌後火部分のトリフルオロ酢酸を減圧
除去する。残渣をエーテルで処理して無色固体を得、こ
れを濾取する(535o)。
上記固体(535N?)を80−酢酸(20g9)に溶
解し、該溶液に硫化水素を30分間吹き込む。生成する
黒色の硫化第二水銀をセライトで濾去する。
解し、該溶液に硫化水素を30分間吹き込む。生成する
黒色の硫化第二水銀をセライトで濾去する。
濾液をテフロン(T ef 1on)ミリポアフィルタ
−で□再度濾過し、減圧濃縮讐る。残渣を無水エタノー
ルで2回追い出しくchase)、水(8112)に溶
解し、IN−塩酸(0,5m+2)テ処理し、凍結乾燥
しテ0.33gの1−(N−((35)−3−(ベンゾ
イルアミノ)−2−メルカプト−4−フェニルブチル)
−L−アラニルIL−プロリン(異性体A)を無色固体
で得る。
−で□再度濾過し、減圧濃縮讐る。残渣を無水エタノー
ルで2回追い出しくchase)、水(8112)に溶
解し、IN−塩酸(0,5m+2)テ処理し、凍結乾燥
しテ0.33gの1−(N−((35)−3−(ベンゾ
イルアミノ)−2−メルカプト−4−フェニルブチル)
−L−アラニルIL−プロリン(異性体A)を無色固体
で得る。
111.1)、142〜176°(分解)、(t2)”
=−89,6゜(c=1.07、メタノール)。TLC
(シリカゲル、n−ブタノール/酢酸/水=4:l:1
):Rf=0.50゜元素分析(CtaH3+N504
S ’ HC(1’ 0 、38Heoとして) 計算値:C58,54、H6,44、H8,19、Cf
f 6.9L H6,25、SH6,45実測値:C5
B、54、H6,44、H8,15,0g6.91、H
6,15、SH6,26実施例2 1[N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2−
メルカプト−4−フェニルブチルCL−アラニル〕−L
−プロリン・モノ塩酸塩(異性体B)の製造ニーa)1
−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2−
(((4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−フ
ェニルブチル)−L−アラニルコル−プロリン・1.1
−ジメチルエチルエステル(異性体B)実施例1(h)
の部分精製したジアステレオマー混合物(ここで異性体
Bが主要成分)を再度クロマトグラフィー(フラッシュ
、シリカゲルLPS−1、クロロホルム/メタノール=
99:1)に付し、0.269のト(N−[(35)−
3−(ベンゾイルアミノ)−2−(((4−メトキシフ
ェニル)メチル)チオ〕−4−フェニルブチルIL−ア
ラニル)−L−プロリン・1.1−ジメチルエチルエス
テル(異性体B)を無色油状物で得る。TLC(シリカ
ゲル、クロロホルム/メタノール=96:4)二R「=
0..28゜b)ト+:N−((as)、4−+:ペン
ゾイルアミノ)−2−メルカプト−4−フェニルブチル
)−L−アラニル)−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性
体B)トリフルオロ酢酸(9,5112)中の上記(a
)のl。
=−89,6゜(c=1.07、メタノール)。TLC
(シリカゲル、n−ブタノール/酢酸/水=4:l:1
):Rf=0.50゜元素分析(CtaH3+N504
S ’ HC(1’ 0 、38Heoとして) 計算値:C58,54、H6,44、H8,19、Cf
f 6.9L H6,25、SH6,45実測値:C5
B、54、H6,44、H8,15,0g6.91、H
6,15、SH6,26実施例2 1[N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2−
メルカプト−4−フェニルブチルCL−アラニル〕−L
−プロリン・モノ塩酸塩(異性体B)の製造ニーa)1
−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2−
(((4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−フ
ェニルブチル)−L−アラニルコル−プロリン・1.1
−ジメチルエチルエステル(異性体B)実施例1(h)
の部分精製したジアステレオマー混合物(ここで異性体
Bが主要成分)を再度クロマトグラフィー(フラッシュ
、シリカゲルLPS−1、クロロホルム/メタノール=
99:1)に付し、0.269のト(N−[(35)−
3−(ベンゾイルアミノ)−2−(((4−メトキシフ
ェニル)メチル)チオ〕−4−フェニルブチルIL−ア
ラニル)−L−プロリン・1.1−ジメチルエチルエス
テル(異性体B)を無色油状物で得る。TLC(シリカ
ゲル、クロロホルム/メタノール=96:4)二R「=
0..28゜b)ト+:N−((as)、4−+:ペン
ゾイルアミノ)−2−メルカプト−4−フェニルブチル
)−L−アラニル)−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性
体B)トリフルオロ酢酸(9,5112)中の上記(a
)のl。
l−ジメチルエチルエステル生成物(0,269,0゜
40ミリモル)およびアニソール(0,5112)の溶
液を、室温で1時間攪拌する。θ°に冷却後トリフルオ
ロ酢酸第二水銀(171xy、1当量)を加える。
40ミリモル)およびアニソール(0,5112)の溶
液を、室温で1時間攪拌する。θ°に冷却後トリフルオ
ロ酢酸第二水銀(171xy、1当量)を加える。
45分間攪拌後、大部分のトリフルオロ酢酸を減圧除去
する。残渣をエーテルで処理して、無色生成物を得、こ
れを濾取する(260mg)。
する。残渣をエーテルで処理して、無色生成物を得、こ
れを濾取する(260mg)。
上記無色固体(26019)を80%酢酸(10112
)に溶解し、該溶液に硫化水素を30分間吹き込む。
)に溶解し、該溶液に硫化水素を30分間吹き込む。
生成する黒色の硫化第二水銀をセライトで濾去する。生
成物を再度濾過(テフロンミリボア)し、濾液を減圧濃
縮する。残渣を無水エタノールで1回追い出し、水(1
03112)に溶解し、次いでIN−塩酸で処理する。
成物を再度濾過(テフロンミリボア)し、濾液を減圧濃
縮する。残渣を無水エタノールで1回追い出し、水(1
03112)に溶解し、次いでIN−塩酸で処理する。
得られる溶液を凍結乾燥して白色のやわらかい固体(1
50o)を得る。この物質を水(91N)に溶解し、濾
過(テフロンミリボア)し、再度凍結乾燥して白色のや
わらかい固体とし、次いでこれを減圧上五酸化リン上で
乾燥し、136R9の1−CN−((35)−3,−(
ベンゾイルアミノ)−2−メルカチトートフェ子ルブチ
ル〕ルーアラニル〕−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性
体B)を得る。
50o)を得る。この物質を水(91N)に溶解し、濾
過(テフロンミリボア)し、再度凍結乾燥して白色のや
わらかい固体とし、次いでこれを減圧上五酸化リン上で
乾燥し、136R9の1−CN−((35)−3,−(
ベンゾイルアミノ)−2−メルカチトートフェ子ルブチ
ル〕ルーアラニル〕−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性
体B)を得る。
謹、p、1477162°、〔α齢=−64.5゜(c
=1.06、メタノール)。TLC(シリカゲル、i−
ブタノール/酢酸/水=4:l:l):Rf=0−47
゜元素分析(C*5HsiNsO&S−HCQ−’0
、36HxOとして) 計算値:C5B、5B、H6,44、H8,20゜H6
,25、Cl26.92、SH6,45実測値:C58
,5B、H6,50,H8,14;H6,+5、C&6
.71.SH6,IO実施例3 1−(N−((35)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト4−フェニルブチル)−L−リシル〕−L
−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)の製造ニーa)l
−(N″−〔(ベンジル1オキシ)カルボニル〕N’−
((1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル〕−L〜プ
ロリン・1.1−ジメチルエチルエステル酢酸エチル(
3001ff)中のN”−((ベンジルオキシ)カルボ
ニル)−N’−((1、l−ジメチルエトキシ)カルボ
ニル)−L−リシン・ジシクロヘキシルアミン塩(10
,09,17,8ミリモル)の懸濁液を、IN−塩酸(
3回)で抽出する。次いで有機相を水および塩水で洗う
。無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を除去して5.81
9のN″=[(ベンジルオキシ)カルボニル]−N’−
((1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル)−L−リ
シンを淡黄色油状物で得る。
=1.06、メタノール)。TLC(シリカゲル、i−
ブタノール/酢酸/水=4:l:l):Rf=0−47
゜元素分析(C*5HsiNsO&S−HCQ−’0
、36HxOとして) 計算値:C5B、5B、H6,44、H8,20゜H6
,25、Cl26.92、SH6,45実測値:C58
,5B、H6,50,H8,14;H6,+5、C&6
.71.SH6,IO実施例3 1−(N−((35)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト4−フェニルブチル)−L−リシル〕−L
−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)の製造ニーa)l
−(N″−〔(ベンジル1オキシ)カルボニル〕N’−
((1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル〕−L〜プ
ロリン・1.1−ジメチルエチルエステル酢酸エチル(
3001ff)中のN”−((ベンジルオキシ)カルボ
ニル)−N’−((1、l−ジメチルエトキシ)カルボ
ニル)−L−リシン・ジシクロヘキシルアミン塩(10
,09,17,8ミリモル)の懸濁液を、IN−塩酸(
3回)で抽出する。次いで有機相を水および塩水で洗う
。無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を除去して5.81
9のN″=[(ベンジルオキシ)カルボニル]−N’−
((1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル)−L−リ
シンを淡黄色油状物で得る。
乾燥塩化メチレン(70m12)中のN”−((ベンジ
ルオキシ)カルボニル)−N@−((1,1−ジメチル
エトキシ)カルボニル)−L−リシン(5,81g、■
5.3ミリモル)およびし−プロリン・1.l−ジメチ
ルエチルエステル(2,80g、16.4ミリモル)の
溶液に、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(2゜02
g、14.95ミリモル)およびジシクロへキシルカル
ボジイミド(3,09g、14.98ミリモル)を加え
る。室温で15分間攪拌後、混合物を濾過してジシクロ
へキシルウレアを除去する。濾液を減圧濃縮し、残渣を
エーテルに溶解し、再度濾過する。濾液を水(2回)、
IN−塩酸(2回)、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩
水で洗う。無水MgSO4上で乾燥後、溶媒を減圧除去
し、残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル
LPS−1、ヘキサン/酢酸エチル−tit)に付し、
8.13gの1−(N”−((ベンジルオキシ)カルボ
ニル)−N”−((1,l−ジメチルエトキシ)カルボ
ニル)−L−リシル)−L−プロリン・1.1−ジメチ
ルエチルエステルを無色油状物で得る。’l” L C
(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル−1+1):Rf
=0、.21゜ b)l(Nl′−((1,1−ジメチルエトキシ)カル
ボニル)−L−リシル)−L−プロリン・1.1−ジメ
チルエチルエステル 酢酸エチル(90112)およびエタノール(10iQ
)中の上記(a)の1.1−ジメチルエチルエステル生
成物(4,13g、7.73ミリモル)および水酸化パ
ラジウム・炭素触媒(400o)の混合物を、水素雰囲
気(バルーン)下で攪拌する。系を排気し、再度新しい
水素を30分間毎に充填する。3時間攪拌後、触媒を濾
去(Teflonミリボア)し、濾液を減圧濃縮して3
.159の1−(N’−((1,1−ジメチルエトキン
)カルボニルLL−リシル〕−L−プロリン・1.1−
ジメチルエチルエステルを無色固体で得る。
ルオキシ)カルボニル)−N@−((1,1−ジメチル
エトキシ)カルボニル)−L−リシン(5,81g、■
5.3ミリモル)およびし−プロリン・1.l−ジメチ
ルエチルエステル(2,80g、16.4ミリモル)の
溶液に、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(2゜02
g、14.95ミリモル)およびジシクロへキシルカル
ボジイミド(3,09g、14.98ミリモル)を加え
る。室温で15分間攪拌後、混合物を濾過してジシクロ
へキシルウレアを除去する。濾液を減圧濃縮し、残渣を
エーテルに溶解し、再度濾過する。濾液を水(2回)、
IN−塩酸(2回)、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩
水で洗う。無水MgSO4上で乾燥後、溶媒を減圧除去
し、残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル
LPS−1、ヘキサン/酢酸エチル−tit)に付し、
8.13gの1−(N”−((ベンジルオキシ)カルボ
ニル)−N”−((1,l−ジメチルエトキシ)カルボ
ニル)−L−リシル)−L−プロリン・1.1−ジメチ
ルエチルエステルを無色油状物で得る。’l” L C
(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル−1+1):Rf
=0、.21゜ b)l(Nl′−((1,1−ジメチルエトキシ)カル
ボニル)−L−リシル)−L−プロリン・1.1−ジメ
チルエチルエステル 酢酸エチル(90112)およびエタノール(10iQ
)中の上記(a)の1.1−ジメチルエチルエステル生
成物(4,13g、7.73ミリモル)および水酸化パ
ラジウム・炭素触媒(400o)の混合物を、水素雰囲
気(バルーン)下で攪拌する。系を排気し、再度新しい
水素を30分間毎に充填する。3時間攪拌後、触媒を濾
去(Teflonミリボア)し、濾液を減圧濃縮して3
.159の1−(N’−((1,1−ジメチルエトキン
)カルボニルLL−リシル〕−L−プロリン・1.1−
ジメチルエチルエステルを無色固体で得る。
c)l−(N−((3S)3−(ベンゾイルアミノ)−
2−(((4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4
−フェニルブチル)−N”−((1,1−ジメチルエト
キシ)カルボニル)−L−リシル)−L−プロリン・1
.1−ジメチルエチルエステル(異性体A)テトラヒド
ロフラン(5mのおよび無水エタノール(5xQ)中の
(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−〔〔(4−メ
トキシフェニル)メチル〕チオ〕−ベンゼンフタナール
(異性体A)(0,599,1,40ミlJモル)、1
−(N@−((1,ドジメチルエトキシ)カルボニル〕
−L−リシル〕−L−プロリン・1.1−ジメチルエチ
ルエステル(1,559,3,88ミリモル)、および
粉砕3人モレキコラーシーブ(2,09)の混合物を、
アルゴン下室温で攪拌する。2時間攪拌後シアノホウ水
素化ナトリウム(0,27y、3当屯)を加え、18時
間攪拌を続ける。反応混合物をセライトで濾過し、シー
ブを除去する。次いて濾液を酢酸エチルで希釈し、水、
1N−塩酸(2回)、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩
水で洗う。
2−(((4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4
−フェニルブチル)−N”−((1,1−ジメチルエト
キシ)カルボニル)−L−リシル)−L−プロリン・1
.1−ジメチルエチルエステル(異性体A)テトラヒド
ロフラン(5mのおよび無水エタノール(5xQ)中の
(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−〔〔(4−メ
トキシフェニル)メチル〕チオ〕−ベンゼンフタナール
(異性体A)(0,599,1,40ミlJモル)、1
−(N@−((1,ドジメチルエトキシ)カルボニル〕
−L−リシル〕−L−プロリン・1.1−ジメチルエチ
ルエステル(1,559,3,88ミリモル)、および
粉砕3人モレキコラーシーブ(2,09)の混合物を、
アルゴン下室温で攪拌する。2時間攪拌後シアノホウ水
素化ナトリウム(0,27y、3当屯)を加え、18時
間攪拌を続ける。反応混合物をセライトで濾過し、シー
ブを除去する。次いて濾液を酢酸エチルで希釈し、水、
1N−塩酸(2回)、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩
水で洗う。
無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去して所望生
成物のジアステレオマー混合物を淡黄色油状物で得る。
成物のジアステレオマー混合物を淡黄色油状物で得る。
TLC(シリカ′グル、ベンゼン/アセトン−4:1)
:異性体AのRf=0.31.異性体BのRf=0.5
10クロマトグラフイー(フラッシュ、シリカゲルLP
S−1、クロロホルム/メタノール−98:2、ヘキサ
ン/アセトン=65:35、ベンゼン/アセトン=4:
1.酢酸エチル/ヘキサン−6=4、酢酸エチル/ヘキ
サン−6:4)を繰返して、0.4 Ifの1−(N−
((35)−3−(ベンゾイルアミノ))−2−(((
4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−フェニル
ブチル)−N8−((1,1−ジメチルエトキシ)カル
ボニルLL−リシルIL−プロリン・1.1−ジメチル
エチルエステル(異性体A)を無色油状物で得る。
:異性体AのRf=0.31.異性体BのRf=0.5
10クロマトグラフイー(フラッシュ、シリカゲルLP
S−1、クロロホルム/メタノール−98:2、ヘキサ
ン/アセトン=65:35、ベンゼン/アセトン=4:
1.酢酸エチル/ヘキサン−6=4、酢酸エチル/ヘキ
サン−6:4)を繰返して、0.4 Ifの1−(N−
((35)−3−(ベンゾイルアミノ))−2−(((
4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−フェニル
ブチル)−N8−((1,1−ジメチルエトキシ)カル
ボニルLL−リシルIL−プロリン・1.1−ジメチル
エチルエステル(異性体A)を無色油状物で得る。
d) l −(N−((35)−3−(ベンゾイルアミ
ノ)〕−〕2−メルカプトー4−フェニルブチルLLリ
シル〕−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)トリフ
ロオロ酢酸(12112)中の上記(c)の1.1ジメ
チルエチルエステル生成物c0.419.0.51ミリ
モル)およびアニソール(0,611(りの溶液を、室
温で1時間攪拌する。0°に冷却後、トリフロオロ酢酸
第二水銀(217+H11,0当量)を加える。0°で
1時間攪拌後、トリフロオロ酢酸の大部分を減圧除去す
る。残渣をエーテルで処理して、無色固体を得、これを
濾取する(0.491F)。
ノ)〕−〕2−メルカプトー4−フェニルブチルLLリ
シル〕−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)トリフ
ロオロ酢酸(12112)中の上記(c)の1.1ジメ
チルエチルエステル生成物c0.419.0.51ミリ
モル)およびアニソール(0,611(りの溶液を、室
温で1時間攪拌する。0°に冷却後、トリフロオロ酢酸
第二水銀(217+H11,0当量)を加える。0°で
1時間攪拌後、トリフロオロ酢酸の大部分を減圧除去す
る。残渣をエーテルで処理して、無色固体を得、これを
濾取する(0.491F)。
コノ固体(0,499)を80%酢酸(17xff)i
、:溶解し、該溶液に硫化水素を30分間吹込む。生成
する黒色硫化第二水銀をセライトで濾去する。濾液を再
度濾過(Teflon ミリボア)し、次いで減圧濃縮
する。残渣を水(10112)に溶解し、IN−塩酸(
1,5i(2)で処理し、次いで凍結乾燥する。
、:溶解し、該溶液に硫化水素を30分間吹込む。生成
する黒色硫化第二水銀をセライトで濾去する。濾液を再
度濾過(Teflon ミリボア)し、次いで減圧濃縮
する。残渣を水(10112)に溶解し、IN−塩酸(
1,5i(2)で処理し、次いで凍結乾燥する。
物質を少量の塩化水素酸を含む水中に再溶解し、再度凍
結乾燥する。物質を最終的に水より凍結乾燥して、29
019の1−(N−((35)−3−(ベンゾイルアミ
ノ)〕−2−メルカプト−4−フェニルブデル)−L−
リシルコル−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)を得る
。s+、I)、157〜180’ 、(α)”=−60
,0°(c=1.15、メタノール)。TLC(シリカ
ゲル、n−ブタノール/酢酸/水=4:I:l):Rf
=0.16゜ 元素分析(CtsHssN40*S # 2HCQ・1
.OH,Oとして) 計算値:C54,45、H6,85、H9,07、S5
.H9、Cl211.4B、S H5J5実測値:C5
4,35、H6,67、H8,97、S5.20、C1
!11.36、S H5,23実施例4〜42 実施例1〜3と同様にして、下記側lに示すカルボン酸
メチルエステルを(4−メトキシフェニル)メチルジス
ルフィドと反応させ、欄■に示すカルボン酸メチルエス
テルを得る。次いでこれを対応アルコールに変換し、次
いで欄■に示すアルデヒドに変換する。次にアルデヒド
を欄■に示すペプチジルエステルと反応させ、欄■に示
す保護されたスルフィド生成物を得る。S−保護基およ
びカルボン酸エステル基を除去して、欄■に示す最終生
成物を得る。
結乾燥する。物質を最終的に水より凍結乾燥して、29
019の1−(N−((35)−3−(ベンゾイルアミ
ノ)〕−2−メルカプト−4−フェニルブデル)−L−
リシルコル−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)を得る
。s+、I)、157〜180’ 、(α)”=−60
,0°(c=1.15、メタノール)。TLC(シリカ
ゲル、n−ブタノール/酢酸/水=4:I:l):Rf
=0.16゜ 元素分析(CtsHssN40*S # 2HCQ・1
.OH,Oとして) 計算値:C54,45、H6,85、H9,07、S5
.H9、Cl211.4B、S H5J5実測値:C5
4,35、H6,67、H8,97、S5.20、C1
!11.36、S H5,23実施例4〜42 実施例1〜3と同様にして、下記側lに示すカルボン酸
メチルエステルを(4−メトキシフェニル)メチルジス
ルフィドと反応させ、欄■に示すカルボン酸メチルエス
テルを得る。次いでこれを対応アルコールに変換し、次
いで欄■に示すアルデヒドに変換する。次にアルデヒド
を欄■に示すペプチジルエステルと反応させ、欄■に示
す保護されたスルフィド生成物を得る。S−保護基およ
びカルボン酸エステル基を除去して、欄■に示す最終生
成物を得る。
(以下余白)
欄I
1
il
Cw。
2
欄■
欄■
欄■
(L)
欄V
代ち
欄■
朋2
r! 山 山 山
偶−! w エ
ml −= !! す
1ml+! 冨 8
ゃ1 ニー4′L
−1 工 、& 工
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M fQ g
係+、4 l& シ
’N 、S 、S
11 ♂ ♂ I
tsr ! 、& 去
−
g″1
al 山
?
貝
υ
si”l m
実施例20〜26のRI保護基、実施例29の 。
R8保護基、および実施例35のR6保護基を合成 保
護の最終工程で除去す□る。実施例30の4−アジドプ
ロリンは、これを還元剤で処理して4−アミノプロリン
生−物を得□る。実施例37〜42のR。
護の最終工程で除去す□る。実施例30の4−アジドプ
ロリンは、これを還元剤で処理して4−アミノプロリン
生−物を得□る。実施例37〜42のR。
エステル基は除去せず。
実施例43〜55
1−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−
フェニルブチル)−L−アラニル)−L−ブ[lリン(
異性体A)を下記側1の試薬で処理して、欄■に示す生
成物を得る。
−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−
フェニルブチル)−L−アラニル)−L−ブ[lリン(
異性体A)を下記側1の試薬で処理して、欄■に示す生
成物を得る。
欄■
R1
お、トリフルオロ酢酸第二水銀で処理して脱を行い、所
望の最終生成物を得る。
望の最終生成物を得る。
(以下余白)
実施例 !」 罠。
ち )
実施例 欄 I 罠。
52 110−CM、−C124(2,)、 −01,
−Q12−M (01,125410片@ 噌、)バ◇ ss >tea、)4 −tell、r層実施例50〜
55の場合、欄Iの試薬との反応はジシクロヘキシルカ
ルボジイミドなどのカップリング剤の存在下で行う。
−Q12−M (01,125410片@ 噌、)バ◇ ss >tea、)4 −tell、r層実施例50〜
55の場合、欄Iの試薬との反応はジシクロヘキシルカ
ルボジイミドなどのカップリング剤の存在下で行う。
実施例56
1−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト−4−フェニルブチル〕−シーアラニル〕
−し−プロリン・ナトリウム塩(異性体A)の製造ニー
1−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト−4−フェニルブチル)−L−アラニル〕
−L−プロリン(異性体A)(1ミリモル)を水(50
gff)に溶解する。水性重炭酸ナトリウム(0,IN
、20酎)を加え、水溶液を凍結乾燥する。次いでこれ
を水(10xQ)に溶解し、S ephadex クロ
マトグラフィーゲルG−10のカラム(5cxx 60
ci+)に適用し、水で溶離する。所望生成物を含む画
分をプールし、凍結乾燥して1−(N−((35)−3
−(ベンゾイルアミノ)−2−メルカプト−4−フェニ
ルブチル〕−L−アラニル)−L−プロリン・ナトリウ
ム塩(異性体A)を得る。
−メルカプト−4−フェニルブチル〕−シーアラニル〕
−し−プロリン・ナトリウム塩(異性体A)の製造ニー
1−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト−4−フェニルブチル)−L−アラニル〕
−L−プロリン(異性体A)(1ミリモル)を水(50
gff)に溶解する。水性重炭酸ナトリウム(0,IN
、20酎)を加え、水溶液を凍結乾燥する。次いでこれ
を水(10xQ)に溶解し、S ephadex クロ
マトグラフィーゲルG−10のカラム(5cxx 60
ci+)に適用し、水で溶離する。所望生成物を含む画
分をプールし、凍結乾燥して1−(N−((35)−3
−(ベンゾイルアミノ)−2−メルカプト−4−フェニ
ルブチル〕−L−アラニル)−L−プロリン・ナトリウ
ム塩(異性体A)を得る。
実施例57
顧
1(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2−
メルカプト−4−フェニルブチルIL−アラニル〕−L
−プロリン・ナトリウム塩(異性体A)・・・・・・・
・・100mg コーンスターチ − ・・・藺・・501fIゼラチン
・・・叫・・ 7 、5 mgアビセル(Avice
L微結晶セルロース)・・・・・・・・・ 25yIg ステアリン酸マグネシウム ・・・・・・ニーツユLJ
。
メルカプト−4−フェニルブチルIL−アラニル〕−L
−プロリン・ナトリウム塩(異性体A)・・・・・・・
・・100mg コーンスターチ − ・・・藺・・501fIゼラチン
・・・叫・・ 7 、5 mgアビセル(Avice
L微結晶セルロース)・・・・・・・・・ 25yIg ステアリン酸マグネシウム ・・・・・・ニーツユLJ
。
計 1851g
上記成分をそれぞれ含有するt ooo個の錠剤を十分
なバルク量から製造する。即ち、1−(N−((35)
−3−(ベンゾイルアミノ)−2〜メルカプト−4−フ
ェニルブチル〕−L−アラニル〕−L−プロリン・ナト
リウム塩(異性体A)およびコーンスターチをゼラチン
の水溶液と混合する。混合物を乾燥し、粉砕して微粉末
とする。アビセル、次いでステアリン酸マグネシウムを
粗砕しながら混合する。
なバルク量から製造する。即ち、1−(N−((35)
−3−(ベンゾイルアミノ)−2〜メルカプト−4−フ
ェニルブチル〕−L−アラニル〕−L−プロリン・ナト
リウム塩(異性体A)およびコーンスターチをゼラチン
の水溶液と混合する。混合物を乾燥し、粉砕して微粉末
とする。アビセル、次いでステアリン酸マグネシウムを
粗砕しながら混合する。
次いでこの混合物をタブレット成形機仲て打錠し、10
(ljIgの活性成分をそれぞれ含有する1000個の
錠剤を形成する。
(ljIgの活性成分をそれぞれ含有する1000個の
錠剤を形成する。
同様にして、実施例1〜55のいずれかの生成物100
19を含有する錠剤を製造することができまた同様な操
作で50mgの活性成分を含有する錠剤も形成すること
ができる。
19を含有する錠剤を製造することができまた同様な操
作で50mgの活性成分を含有する錠剤も形成すること
ができる。
実施例58
5019の1−(N−((35)−3−(ベンゾイルア
ミノ)−2−メルカプト−4−フェニルブチル)−L−
リシル)ループロリン・モノ塩酸塩(異性体A)をそれ
ぞれ含有するツーピース#lゼラチンカプセル剤に、下
記成分混合物を充填する。
ミノ)−2−メルカプト−4−フェニルブチル)−L−
リシル)ループロリン・モノ塩酸塩(異性体A)をそれ
ぞれ含有するツーピース#lゼラチンカプセル剤に、下
記成分混合物を充填する。
駄
1−(N−((35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−
メルカプト4−フェニルブチルLL−リシル〕−し一プ
ロリン・モノ塩酸塩(異性体A)・・・・・・・・ 5
011F ステアリン酸マグネシウム ・・・・・・・・・ 7m
gラクトース ・・・・・・・・193mg計2501
9 同様にして、実施例1,2および4〜56のいずれかの
生成物501gを含有するカプセル剤を製造することが
できる。
メルカプト4−フェニルブチルLL−リシル〕−し一プ
ロリン・モノ塩酸塩(異性体A)・・・・・・・・ 5
011F ステアリン酸マグネシウム ・・・・・・・・・ 7m
gラクトース ・・・・・・・・193mg計2501
9 同様にして、実施例1,2および4〜56のいずれかの
生成物501gを含有するカプセル剤を製造することが
できる。
実施例59
注射液を以下の手順で製造する。
1−(N−((35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−
メルカプト−4−フェニルブチル)−L−アラニル〕−
L−プロリン・ナトリウム塩(異性体A)・・・・・・
・・・5009 メチルパラベン ・・・・・・・・・ 5gプロピルパ
ラベン ・・・・・・・・・ 19塩化ナトリウム ・
・・・・・・・・ 251F注射用水 ・・・・・・・
・・ 5e 上記活性物質、保存剤および塩化ナトリウムを3Qの注
射用水に溶解し、次いで容量を5eに調整する。溶液を
殺菌フィルターで濾過し、これをご菌バイアルに無菌的
に充填し、殺菌ゴム栓で密閉する。各バイアルは5酎の
注射液を含有し、該注射液の濃度は活性成分100xf
l/x(lである。
メルカプト−4−フェニルブチル)−L−アラニル〕−
L−プロリン・ナトリウム塩(異性体A)・・・・・・
・・・5009 メチルパラベン ・・・・・・・・・ 5gプロピルパ
ラベン ・・・・・・・・・ 19塩化ナトリウム ・
・・・・・・・・ 251F注射用水 ・・・・・・・
・・ 5e 上記活性物質、保存剤および塩化ナトリウムを3Qの注
射用水に溶解し、次いで容量を5eに調整する。溶液を
殺菌フィルターで濾過し、これをご菌バイアルに無菌的
に充填し、殺菌ゴム栓で密閉する。各バイアルは5酎の
注射液を含有し、該注射液の濃度は活性成分100xf
l/x(lである。
実施例1〜56のいずれかの生成物に対しても、同様に
10019の活性成分/R(lを含有する注射液を製造
することができる。
10019の活性成分/R(lを含有する注射液を製造
することができる。
実施例60
成分
1−[N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト−4−フェニルブチルコル−アラニル〕−
し一プロリン・ナトリウム塩(異性体A)・・・・・・
・・・iofRg アビセル ・・・・・・・・100x9ヒドロクロロチ
アジド ・・・・・・・・12.519ラクトース ・
・・・・・・・・113゜コーンスターチ ・・・・・
・・・・17.5uステアリン酸 ・・・・・・・・
7所計350u −に記成分をそれぞれ含有する1000個の錠剤、、
を十分なバルク量から製造する。即ち、1−(N−((
35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−メルカプト−4
−フェニルブチル)−L−アラニルコル−プロリン・ナ
トリウム塩(異性体A)、アビセル、および一部のステ
アリン酸をスラッジし、かかるスラッジを粉砕し、#2
スクリーンに通し、次いでヒドロクロロチアジド、ラク
トース、コーンスターチおよび残りのステアリン酸と混
合する。混合物をタブレット成形機にて35019のカ
プセル型錠剤に打錠する、かかる錠剤に半分分割の割目
を入れる。
−メルカプト−4−フェニルブチルコル−アラニル〕−
し一プロリン・ナトリウム塩(異性体A)・・・・・・
・・・iofRg アビセル ・・・・・・・・100x9ヒドロクロロチ
アジド ・・・・・・・・12.519ラクトース ・
・・・・・・・・113゜コーンスターチ ・・・・・
・・・・17.5uステアリン酸 ・・・・・・・・
7所計350u −に記成分をそれぞれ含有する1000個の錠剤、、
を十分なバルク量から製造する。即ち、1−(N−((
35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−メルカプト−4
−フェニルブチル)−L−アラニルコル−プロリン・ナ
トリウム塩(異性体A)、アビセル、および一部のステ
アリン酸をスラッジし、かかるスラッジを粉砕し、#2
スクリーンに通し、次いでヒドロクロロチアジド、ラク
トース、コーンスターチおよび残りのステアリン酸と混
合する。混合物をタブレット成形機にて35019のカ
プセル型錠剤に打錠する、かかる錠剤に半分分割の割目
を入れる。
同様にして、実施例1〜55のいずれかの生成物100
1gを含有する錠剤を製造することができる。
1gを含有する錠剤を製造することができる。
特許出願人 イー・アール・スクイブ・アンド・サンズ
・インコーホレイテッド 代理 人弁理士青 山 葆 外1名
・インコーホレイテッド 代理 人弁理士青 山 葆 外1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式、 C20 Hm nは0.1または2; Rzsは炭素数1〜4の低級アルキルまたは(CHm)
r@。 Rは水素、低級アルキル、シクロアルキル、(CHりI
I@ 、(CHt)t’ NHオ、(CHx)s NH
t 、(CHt)48Ht、(CHx)t ()H’
1. (CHt)s OH。 (CHy)* OH−(CHt)t SH。 −(CH,)3− S Hまたは−(CHI)4−9H
;R+は水素、低級アルキル、ハロ置換(低級)アルキ
ル、 −(CHt)r@ (CHz)r OH、(CHJr N I−1t、(C
Ht)r SH、(CH2)r S−低級アルキル、
(CHt)t S (CH2)2 N H,t、1 −(CIりr−C−Nl−Itニ ー(CHt)III−シクロアルキル、(CHt)r
NHt 、(CHI)2 3HN(CHt)r S−低
級アルキル、 または−(CH−)r C、NHt: R4は水素、低級アルキル、 −(CI4.)n+〜シクロアルキル、R6は水素、低
級アルキル、−(cH,)r@、(CHt)r OH,
(CHt)r NHz、−(CHt)r−SH,−(C
H2)r−S−低級−(。□Jr (!= NHt; rは1〜4の整数; R?は水素、低級アルキル1、ハロゲン、ヒドロキシ、
−NH−C,−低級アルキル1、アミノ、で示されるl
−もしくは2−ナフチル、で示されるI−もしくは2−
ナフチルオキシ、〜で示されるI−もしくは2−ナフチ
ルチオ;(R+a)p −〇−低級アルキル、 で示されるl−もしくは2−ナフチルオキシ、で示され
る1−もしくは2−ナフチルチオ:R3゜はハロゲンま
たは−Y R+s;RIl、R″1.RIffiおよび
R′、、はそれぞれ個別に水素または低級アルキル、も
しくはR’ll+R+2およびR′1.が水素でR11
がR13は水素、炭素数1〜4の低級アルキル、炭素数
1〜4の低級アルコキシ、炭素数1〜4の低級アルキル
チオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル
、ヒドロキシ、フェニル、フェノキシ、フェニルチオま
たはフェニルメチル:R84は水素、炭素数1〜4の低
級アルキル、炭素数1〜4の低級アルコキシ、炭素数l
〜4の低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、
トリフルオロメチルまたはヒドロキシ; mは0.1,2.3または4; pは1.2または3(但しRt sとR14のいずれか
が水素、メチル、メトキシ、クロロまたはフルオロであ
る場合、pは1より大); RI5は水素または炭素数1〜4の低級アルキルYは酸
素または硫黄; R18は炭素数l〜4の低級アルキル、合して構成され
る非置換5〜6員環式基、あるいは1個ないしそれ以上
の環形成炭素原子が低級アルキル(炭素数1〜4)置換
基またはジ低級アルキル(炭素数1〜4)置換基を有す
る置換5〜6員環式基; R+sは低級アルキル、ベンジルまたはフェネチル; Rhoは水素、低級アルキル、ベンジルまたはフェネチ
ル; R8は水素、低級アルキル、p−メトキシベンジル、ベ
ンズヒドリル、−cl−I=o−C−R,、、青1゜ 晶2゜ = c I−+ 2−CH−CI−12、(CH2)2
N (CH3)tOHOH Rl ?は水素、低級アルキル、シクロアルキルまたは
フェニル: R+eは水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはフ
ェニル、もしくはR17とRI8はその双方を合して−
(CHz)t−1−(CHt)i−1−CH=CH− R□およびRltはそれぞれ別個に水素または低級アル
キル;および R23は低級アルキルを表わす] で示される化合物またはその医薬的に許容しうる塩。 2、 Rが水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(
低級)アルキルまたはフェニル2R1が水素、炭素数1
〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキル、CF 3
、 (CHz)r N Ht、H−CH,−8H。 −(CHt)礁−8(CHz)t NHt、(CHt)
t S CHsl 1 (c HJ x c N Ht ; R4が水素、シクロヘキシルまたはフェニル;R6が水
素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキ
ル、 H(CH2)4 NHt 、 CHz SH、(CHt)t S CHa、1 または −(CHz)t CNHt; Roが水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級
)アルキル、アルカリ金属塩イオン、Rl ?が水素、
炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキルま
たはシクロヘキシル;R,、が炭素数1〜4の″直鎖も
しくは分枝状(低級)アルキルまたはフェニル; R1,が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)ア
ルキル; □ R8が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アル
キル、−(CHJr N Ht、 R7が水素、ヒドロキシ、炭素数l〜4の直鎖もしくは
分枝状(低級)アルキル、シクロヘキシル、アミノ、−
〇−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜4の直鎖
もしくは分枝状基)、■−ナフチルオキシ、2−ナフチ
ルオキシ、−8−低級アルキル(低級アルキルは炭素数
l〜4の1−ナフチルチオまたは2−ナフチルチオ:R
@が一〇−低級アルキル、−S−低級アルキル、枝状基
): R,がフェニル、2−ヒドロキシフェニルまたは4−ヒ
ドロキシフェニル; R1゜がその双方共に−Y R111;Yは酸素または
硫黄; R1@が炭素数1〜4の直鎖もしくは2個のR1gが合
して構成される非置換5〜6員環式基、あるいは環状に
メチルまたはジメチル置換基を有する置換5〜6員環式
基; 1’L++ R’1++ R+!およびR′1.がすべ
て水素、もしくはR11がフェニル、2−ヒドロキシフ
ェニルまたは4−ヒドロキシフェニルでR′IIRI!
およびR゛3.がすべて水素; rが1〜4の整数; 膳が0.1または2; R13が水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、クロロ
、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ;および R34がフェニルである前記第1項記載の化合物。 3、Xが −N−CH−COOR。 I R,R。 +(L)’ ILL) HH Rが水素またはメチル; R3が水素、メチルまたは−(CHt)* NHt;R
6が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)
アルキルまたはアルカリ金属塩イオン;R4がシクロヘ
キシルまたはフェニルでR6が水素、またはR4が水素
でR6がメチル、−CH,−CH5)y、 R9が水素、シクロヘキシル、炭素数1−4のmが0.
1または2; R+aが水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、クロロ
、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ;および 【が2または3である前記第2項記載の化合物。 4、Xが−NH−CI−Co、OR。 Rs。 である前記第1項記載の化合物。 5、Xが である前記第3項記載の化合物。 6、Xが である前記第3項記載の化合物。 7、Xが R9 である前記第3項記載の化゛合物。 である前記第7項記載の化合物。 9、R1が水素である前記第8項の化合物。 10、 R@が水素、Rが水素、R1がメチルである前
記第9項記載の化合物。 11.1−[N−[(3S)−3−(ベンゾイルアミノ
)−2−メルカプト−4−フェニルブチル]−L−アラ
ニル]−L−20リン(異性体A)である前記載10項
記載の化合物。 12.1−[N−[(3S)−3−(ベンゾイルアミノ
)−2−メルカプト−4−フェニルブチル]−L−アラ
ニル]、−L−プロリン(異性体B)である前記第10
項記載の化合物。 13、 Rsが水素、Rが水素、RIが−(CHt)*
−NH,である前記第9項記載の化合物。 14.1−[N−[(3S)−3−(ベンゾイルアミノ
)−2−メルカプト−4−フェニルブチル]−L−アラ
ニル]−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)である
前記第13項記載の化合物。 15、式、 [式中、R3およびR3は前記第1項の記載と同意義]
で示される化合物。 16、式、 1 [式中、R1およびR3は前記第1項の記載と同意義]
で示される化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/602,030 US4500518A (en) | 1984-04-19 | 1984-04-19 | Amino thiol dipeptides |
US602030 | 2003-06-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60233097A true JPS60233097A (ja) | 1985-11-19 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP60085306A Pending JPS60233097A (ja) | 1984-04-19 | 1985-04-19 | アミノチオールジペプチド類 |
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EP (1) | EP0158947B1 (ja) |
JP (1) | JPS60233097A (ja) |
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US4500518A (en) * | 1984-04-19 | 1985-02-19 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Amino thiol dipeptides |
US4636560A (en) * | 1984-11-16 | 1987-01-13 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Amino thiol peptides |
US4762821A (en) * | 1985-03-22 | 1988-08-09 | Syntex (U.S.A.) Inc. | N',N"-dialkylguanidino dipeptides |
DK77487A (da) * | 1986-03-11 | 1987-09-12 | Hoffmann La Roche | Hydroxylaminderivater |
WO1988003022A1 (en) * | 1986-10-31 | 1988-05-05 | Pfizer Inc. | Relatively low molecular weight polypeptides as renin inhibitors |
US4923864A (en) * | 1987-12-15 | 1990-05-08 | Pfizer Inc. | Certain heterocyclic-hexanamides useful for treating hypertension |
DE10055969C1 (de) * | 2000-11-11 | 2002-05-02 | Schott Glas | Verfahren und Vorrichtung zur Läuterung einer Glasschmelze |
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EP0048159A3 (en) * | 1980-09-17 | 1982-05-12 | University Of Miami | Novel carboxyalkyl peptides and thioethers and ethers of peptides as antihypertensive agents |
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