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JPS60233097A - アミノチオールジペプチド類 - Google Patents

アミノチオールジペプチド類

Info

Publication number
JPS60233097A
JPS60233097A JP60085306A JP8530685A JPS60233097A JP S60233097 A JPS60233097 A JP S60233097A JP 60085306 A JP60085306 A JP 60085306A JP 8530685 A JP8530685 A JP 8530685A JP S60233097 A JPS60233097 A JP S60233097A
Authority
JP
Japan
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hydrogen
lower alkyl
carbon atoms
cht
alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60085306A
Other languages
English (en)
Inventor
エリツク・エム・ゴードン
ジヨリー・デイ・ゴツドフリー,ジユニア
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ER Squibb and Sons LLC
Original Assignee
ER Squibb and Sons LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ER Squibb and Sons LLC filed Critical ER Squibb and Sons LLC
Publication of JPS60233097A publication Critical patent/JPS60233097A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はアミノチオールジペプチド類、更に詳しくは、
そのアンギオテンシン変換酵素抑制活性に基ブき血圧降
下剤として有用であり、また後述の定義においてXが−
N HCHCOOReでR。
ある場合にエンケファリナーゼ(enkephal 1
nase)抑制活性に基づき鎮痛剤としても有用である
新規なアミノチオール置換ジペプチド化合物およびこれ
らの塩類に関する。
発明の構成と効果 本発明の新規化合物は、下記式[1]で示される。
1 [式中、Xは のアミノまノこはイミノ酸基; nは0,1または2; R)sは炭素数1〜4の低級アルキルまたはRは水素、
低級アルキル、シクロアルキル、(CHt)n@ ヒ(
CHt)2NH2、CCHt>3 NHv 、(CH2
)4−NHt、(CHJz OH、=(CHI)30H
−(CHy)* O’H’ 、 (CHt)t SH。
(c H’t)3S Hまたは−(CHt)4 SH;
R1は水素、低級アルキル、ハロ置換(低級)アルキル
、 −(cHt)ぺ◇ −(CHt)r−OH、−(CHffi)r−Nl2、
=(CH嚢)r−8H、(CHt)r S−低級アルキ
ル、−(CHI)t−8−(CHI)ffi−NH3、
−(CHt)r−c−Nl−1t; −(CH・)IIlす、 −(9H・)IRす、−(C
Ht)III−シクロアルキル、占 (CHt)r NHt 、(CHt)t SH、(CH
t)r S−低級アルキル、 または=(CHi)’r CN Ht;R4は水素、低
級アルキル、 −(cHt)ぺ◇ (CHy)aニビクロアルキル、 。
−(CH山り、(CHJmワ、 R6は水素、低級アルキル、−(CHt)r@、(CH
t)r OH−(CHt)r NHt、(CHt)r−
SH,(CH2)r q−低級? −(CH,)r−C−NH,; rは1〜4の整数; R7は水素、低級アルキル1、ハロゲン、ヒト1 0キシ、−NH−C−低級アルキル1、アミノ、で示さ
れる1、−もしくは2−ナフチル、\ 1 I5 で示されるI−もしくは2−ナフチルオキシ、で示され
る1−もしくは2−ナフチルチオ;(R+=)p −〇−低級アルキル、 で示されるl−もしくは2−ナフチルオキシ、で示され
る1−もしくは2−ナフチルチオ;’R+。はハロゲン
または−Y−R+e;RIl、 R’ t + + R
1mおよびR′1.はそれぞれ個別に水素または低級ア
ルキル、もしくはR’ ll+RttおよびR′1.が
水素でR11がR33は水素、炭素数1〜4の低級アル
キル、炭素数1〜4の低級アルコキシ、炭素数1〜4の
低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリフ
ルオロメチル、ヒドロキシ、フェニル、フェノキシ、フ
ェニルチオまたはフェニルメチル;R14は水素、炭素
数1〜4の低級アルキル、炭素数l〜4の低級アルコキ
シ、炭素数1〜4の低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ
、フルオロ、トリフルオロメチルまたはヒドロキシ; mは0,1,2.3または4; pは1.2または3(但しR1,とRI 4のいずれか
が水素、メチル、メトキシ、クロロまたはフルオロであ
る場合、pはlより大); Roは水素または炭素数1〜4の低級アルキルYは酸素
または硫黄: Ryeは炭素数1〜4の低級アルキル、合して構成され
る非置換5〜6員環式基、あるいは1個ないしそれ以上
の環形成炭素原子が低級アルキル(炭素数1〜4)置換
基またはジ低級アルキル(炭素数1〜4)置換基を有す
る置換5〜6員環式基: Ryeは低級アルキル、ベンジルまたはフェネチル; R9゜は水素、低級アルキル、ベンジルまたはフェネチ
ル; R@は水素、低級アルキル、p−メトキシベンジR17
は水素、低級アルキル、シクロアルキルまノこはフェニ
ル; Ryeは水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはフ
ェニル、もしくはR+□とR+ sはその双方を合して
−(CHz)t−1−(cHt)s−1−CH=CH− R* + #よびRttはそれぞれ別個に水素または低
級アルキル;および Rtsは低級アルキルを表わす] 本発明は、その最も広い観点において、前記アミノチオ
ールジペプチド化合物[1]、該化合物の製造に用いる
中間体、この化合物を含む組成物、この化合物を薬剤成
分として使用する方法に関連する。
式[1,1中、種々の記号の定義に用いた用語はそれぞ
れ次の意義を有する。低級アルキルは炭素数7を越えな
い直鎖もしくは分枝基を包含し、特に炭素数4を越えな
い低級アルキルが好ましく、メチルおよびエチルが最も
好ましい。同様に、低級アルコキシおよび低級アルキル
チオは酸素または硫黄に結合した前記のような低級アル
キルを包含する。シクロアルキルは炭素数3〜7の飽和
環式基を包含し、このうちシクロペンチルおよびシクロ
ヘキシルが最も好ましい。
ハロゲンはクロロ、ブロモおよびフルオロを包含する。
ハロ置換(低級)アルキルは、1個ないしそれ以上の水
素がクロロ、ブロモまたはフルオロで置換された前記の
ような低級アルキル基、たとえばトルフルオロメチル(
これが好ましい)、ペンタフルオロエチル、2,2.2
−トリクロロエチル、クロロメチル、ブロモメチルなど
を包含する。
はそれぞれのアルキレン橋が結合し得るすべての環形成
炭素原子に結合し得ることを表す。
式[1]の本発明化合物は、以下に示す手順に従って製
造することができる。即ち、式: のアルデヒドを式: (Xの定義中のR,はt−ブチル、ベンズヒドリルまた
はp−メトキシベンジルなどの酸開裂可能保護基) のジペプチドエステルと還元的にカップリングする。
得られる式: のp−メトキシベンジル保護化合物をトルフルオロ酢酸
およびアニソールで処理してR11エステル基を除去し
、およびトルフルオロ酢酸第二水銀で処理してp−メ°
トキシベンジル硫黄保護基を除去し、式[11のアミノ
チオール生成物を得る。
式[’[l]のアルデヒド中間体□は、以下の手順で製
造することができる。式: (Protはベンジルオキシカルボニルなどの保護基)
のN−保護カルボン酸をN−メチルモルホリンおよびク
ロロギ酸イソブチルの存在下、ジアゾメタンで処理して
式: の化合物を得ろ。
式[VI]のジアゾ化合物をメタノール中、安息香酸お
よびトリエチルアミンで処理して、式:のメチルエステ
ルを得る。N−保護基を例えば水素添加で除去し、次い
で式: %式%[] の酸クロリドと反応させて、式: 1 Rs CHCHt C’ OCH3 R1 のメチルエステルを得る。
式[IX]のメチルエステルをジイソプロピルアミン・
リチウムおよび式: ゛ のジスルフィドで低温にて処理し、式:の保護スルフィ
ドを得る。
式[XI]のメヂルエステルを塩化リチウムおよびホウ
水素化ナトリウムで処理して、式:のアルコールを得る
。式[1]のアルコールをジイソプロピルエチルアミン
の存在下、ピリジウム−I−スルホネートおよびジメチ
ルスルホキシドで処理して、式[n]のアルデヒドを得
る。
式[I[1]のジペプチド類は文献に記載されている。
これらは、式: %式%[[] (N−保護基はベンジルオキシカルボニル、【−ブトキ
シカルボニルまたはp−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル) のN−保護アミノ酸を、式: %式%[] のイミノまたはアミノ酸エステルと反応させることによ
り得ることができる。次にN−保護基を除去して式[I
I[]の中間体を得る。式[X■]のイミノまたはアミ
ノ酸は酸形状において公知であり、これを通常の方法で
エステルに容易に変換することができる。例えば、R8
がt−ブチルであるエステルは、対応するN−カルボベ
ンジルオキシイミノまたはアミノ酸を酸性条件下イソブ
チレンで処理し、次いでN−カルボベンジルオキシ保護
基を接触水素添加で除去することにより得ることができ
る。
以上に述べた種々の反応において、R,R,、R8およ
びR6のいずれかまたはそのすべてが(C)I t)r
 S H、、(CHt)r OHまたはである場合、反
応の間にこれらの基中のヒドロキシル、アミノ、イミダ
ゾリル、メルカプタンまたはグアニジル基を保護すべき
である。好適な保護基としては、ベンジルオキシカルボ
ニル、t−ブトキシカルボニル、ベンジル、ベンズヒド
リル、トルチル等およびニトロ(グアニジルの場合)が
包含される。水素感化、酸処理または他の公知方法で保
護基を脱離してから、反応を完了する。
R11が CHOCR+s 責、7 である式[1]のエステル生成物は、上述の既存エステ
ル基との反応において式[I11]のジペプチドを用い
ることにより得ることがで−きる。かかるエステル反応
体は、R6が水素である式[1]のジペプチドを (HsC)s COCCQ などの酸クロリドで処理してN原子を保護することによ
り製造することができる。次いで、保護された化合物を
塩基の存在下、式: %式%[] (Lは塩素、臭素、トリルスルホニルなどの脱離可能基
) の化合物と反応させた後、例えば酸処理または水素感化
でN−保護基を脱離する。
またR8が 1 ’CHOCRta ■ R1? である式[11のエステル生成物は、R6が水素である
式[1]の生成物をモル過剰の式[XV]の化合物で処
理することによっても得ることができる。
R11が−CCORz3である式[1]のニスtt チル生成物は、R6が水素である式[1]の生成物をモ
ル過剰の式: %式%[ の化合物で処理することにより製造することかできる。
 ′: Reが−CH(CHy OH) ! またはOHOHで
ある式[1]のエステル 生成物は、R11が水素である式[1]の生成物をカッ
プリング剤(例えばジシクロへキシルカルボジイミド)
の存在下、モル過剰の式: の化合物とカップリングした後ヒドロキシル保護基を脱
離することにより製造するごとができる。
同様に、R6が−(CHt)t N (CHs)を生成
物は、R6が水素である式[1]の生成物をジシクロヘ
キシルカルボジイミドなどのカップリング剤の存在下、
モル過剰の式: %式%[] の化合物とカップリングすることにより製造することが
できる。
R7がアミノである式[1]の生成物は、R’ 7がア
ジドである式目]の対応生成物を還元することによって
得られてよい。
R’rがアミノである式[1]の生成物は、R9がアジ
ドである式[1]の対応生成物を還元することにより得
られる。
式[1]の構造中、ペプチド部分に関する好ましい化合
物[1]は次の通りである。
1えが水素または炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(
低級)アルキル; R1が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級
)アルキル1.CF3、 (CHt)r NH!(rは
1〜4の整数)、 1 (CHz)t 5−(CHt)t NH*−−(CH,
)、−8−CH,、 R4が水素、シクロヘキシルまたはフェニル;R6が水
素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキ
ル、−CH* OH−H −CHy−8,Hq (CHJt S −CHa、R6
が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)ア
ルキル、アルカリ金属塩、CH−OCRyelCHC0
Rts、 R。
−CH(CHa 0H)tl、 CHv CHCH*、
1 Q)l 0H (CHz)t N (CH5)t rカ41〜4の整数: R23が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)ア
ルキル、特に−〇(CHa)s :Rl ?が水素、炭
素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキルまた
はシクロヘキシル;Rlsが炭素数1〜4の直鎖もしく
は分枝状(低級)アルキルまたはフェニル: R9が水素; R9がヒドロキシ; R7が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アル
キルまたはシクロヘキシル;R7がアミノ;R?が一〇
−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜4の直鎖も
しくは分枝状基)。
または2、R1,は水素、メチル、メトキシ、メチルチ
オ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ); l−ナフチルオキシまたは2−ナフチルオキシ(Ill
は0、■または2、R33は水素、メチル、メトキシ、
メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキ
シ); R7が−S−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝状基); 亀 l−ナフチルチオまたは2−ナフチルチオ(Illは0
.1または2、R18は水素、メチル、メトキシ、メチ
ルチオ、クロロ、ブ台モ、フルオロまたはヒドロキシ)
: R6が−〇−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝状基); (Illは0、lまたは2、RI3は水素、メチル、メ
トキシ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたは
ヒドロキシ); R8が−8−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜
4の直鎖もしくは分枝状基); (lは0、lまたは2、R,3は水素、メチル、メトキ
シ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒド
ロキシ); R9がフェニル、2−ヒドロキシフェニルまたは4−ヒ
ドロキシフェニル; RIoが双方共にフルオロまたはクロロ;RIoが双方
共に−Y RIo(Yは酸素または硫黄、RI6は炭素
数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキル、もし
くは2個のR1,が合して構成される非置換5〜6員環
式基あるいは1個ないしそれ以上の環形成炭素原子がメ
チルまたはジメチル置換基を有する置換5〜6員環式基
):R+tt R’t+t RIoおよびR’ ttが
すべて水素、もしくはR11がフェニル、2−ヒドロキ
シフェニルまたは4−ヒドロキシフェニルでR’ll、
 RltおよびR゛1.が水素:Rt4がフェニルであ
る化合物[1]。
式[11の構造中、ペプチド部分に関する最も好ましい
化合物[+]を以下に列挙する。
R4R6 (L) Rが水素またはメチル; R8が水素、メチルまたは−(CI(e)* NHt;
R6が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分岐状(低級
)アルキルまたはアルカリ金属塩;R4がシクロヘキシ
ルまたはフェニルでR6が水素; R6が水素でR6がメチル、=CHt−CH(CHs)
t、R7が水素、シクロヘキシル、炭素数1〜4のまた
は2、R1,は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ)、特にR
7が水素; tが2または3、特に2 である化合物[1]。
式[1]の構造中、チオール置換部分に関する好ましい
化合物[I]を以下に列挙する。
(sは0,1または2、R14は水素、メチル、メトキ
シ、メチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロまたはヒド
ロキシ)、特にフェニル: R3が炭素数1〜4の直鎖もしくは分岐状(低級)アル
キル、−(C1(t)r N R2、(lは0.1また
は2、RI4は水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、
タロ口、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ、rは1〜
4の整数)、特にベンジル である化合物[1]。
R6が水素である本発明化合物[1]は種々の無機また
は有機塩基との塩を形成する。非毒性であって薬理学的
に許容される塩が好ましいが、その他の塩も生成物を単
離または精製するのに有用である。このような薬理学的
に許容される塩類は、ナトリウム、カリウムまたはリチ
ウムのようなアルカリ金属の塩類、カルシウムまたはマ
グネシウムのよう5なアルカリ土類金属の塩類、アルギ
ニン、リシンなどのようなアミノ酸から誘導傘れる塩類
を包含する。かかる塩は、本発明の酸型化合物と所望の
イオンの供給塩基当量を、塩沈澱性媒体中で反応させる
か、または水性媒体中で反啼させて凍結乾燥することに
より、、得ることができる。
同様に本発明化合物[Iコは、憚々の無機酸または有機
酸との塩を形成する。かかる塩も上記同様に非毒性であ
って薬理学的に許容される雫が好ましいが、その他の塩
であっても生成物を単離または精製するのに有用夕ある
。このような薬理学的に許容される塩は、塩酸、メタン
スルホン酸、硫酸、マレイン酸などとの塩を集合する。
この塩は生成物と当量の酸を、塩沈澱性媒体中で反応さ
せることによりえることができる。
前記のように、本発明化合物[1]の分子中、RRIO は水素以外)はL−配置にある。また、式[1]中*で
表される分子のチオール置換部分には、lまた2個の不
斉中心が存在する。勿論、R3が水素の場合は1個のみ
の中心が存在する。このように本発明化合物[1]はジ
アステレオ異性体形状またはその混合物として存在する
ことができる。前記製造法において出発物質としてラセ
ミ化合物、エナンチオマーまたはジアステレオマーを使
用することができる。ジアステレオマー化合物を製造す
るとき、この生成物を常套のクロマトグラフィーまたは
分別結晶法により分離することができる。
イミノ酸環がモノ置換されている本発明化合物[11は
シス−トランス異性を現わす。最終生成物の配置は出発
物質[XIV]中のR7,RsおよびR。
置換基の配置に依存する。
本発明化合物[I]およびその薬理学的に許容される塩
類は、血圧降下剤である。これらの化合物はデカペプチ
ドであるアンギオテンシンIのアンギオテンシン■への
変換を抑制し、それ故アンギオテンシン関連性高血圧症
を軽減または緩和させるのに有用である。アンギオテン
シノーゲン、血中シュードグロブリンに対する酵素レニ
ンの作用によりアンギオテンンン■を産生ずる。アンギ
オテンシIはアンギオテンシン変換酵素(ACE)によ
りアンギオテンシン■に変換する。アンギオテンシン■
は血圧上昇活性物質であって、種々の哺乳類(たとえば
ヒト)の種々の類型の高血圧の原因となる物質として関
連性がある。本発明化合物は、アンギオテンシン変換酵
素を抑制し、血圧上昇活性物質アンギオテンシンHの生
成を減退または阻止することにより、アンギオテンシノ
ーゲンー(レニン)→アンギオテンシンI→アンギオテ
ンシン■系に介在する。このように、本発明化合物1種
(または混合物)を含む組成物を投与することにより、
高血圧症の哺乳類(たとえばヒト)のアンギオテンシン
依存性高血圧を軽減させることができる。
血圧を降下させるため、約0.1’−100a+g’(
好ましくは約l〜50mg)/Kg(体重)7日の投与
量を基準としこれを1日当たり1回好ましくは2〜4回
に分けて投与するのが適当である。活性物質は経口的に
投与するの力(好ましいが、皮下、筋肉内、静脈内また
は腹腔内のような非経口的に投与しそもよい。
また本発明化合物は゛これ番高血圧症治療のための利尿
剤と組み合わせて一則することができる。
本発明化合物と利尿剤を組み合わせて成る薬細は、これ
を必要とする哺乳類C;、′1日当たり未発明化合物約
30〜600mg、好ましくは約s o−1−a aO
mgと利尿剤約15〜a6omg、好ましくは約15〜
200+ngから成る有効量で投与することができる。
本発明化合物と組集合わせて使用するために計画される
利尿剤の例とtで、チアジド利尿剤たとえばクロロチア
リド、□ヒドロクロロチアジド、フルメチアジド、ヒド
ロフルメチアット、ペンドロフルメチアジド、メチクロ
チアジド、トリクロロメチアジド、ポリチアジドまたは
ベンズチアジド、およびエタクリン酸、チクリナフエン
、クロルタリドン、フロセミド、ムソリミン、ブメタニ
ド、トリアムテレン、アミロリド、スピロノラクトンお
よびこれらの化合物の塩類があげられる。
血圧を降下させるのに使用するため、本発明化合物を経
口投与用錠剤、カプセル剤またはエリキシル剤のような
組成物、あるいは非経口投与用減菌液もし:くは懸濁液
とし才製剤することができる。
許容される薬理学的慣行に適合する単位投与剤型中に本
発明化合物[1]約10〜50hgを、生理学的、0許
容あオ0.媒体、担オ、賦形剤、門合剤、保存剤、委定
剤、香味剤などに配合する。これらの組成物または薬剤
中の活性物質の壷は前記のような必要な投与量が投与さ
れるような量とすべきである。
また本発明のxが−NH−CH−GOOR,で5 ある化合物[r]はエンケファリナーゼ抑制活性を有し
、鎮痛剤として有用である。それ故このような化合物[
11またはその薬理学的に許容される塩類の1種ないし
混合物を含有する組成物を投与することにより、哺乳類
の苦痛を軽減することができる。活性化合物的0.1−
11−1O0好ましくは約1〜50mg)/Kg(体重
)7日の投与量を基準としてこれを1日当たり1回、好
ましくは2〜4( 回に分けて投与することにより所望の鎮痛活性を現わす
。組成物は経口的に投与するのが好ましいが、皮下投与
のような非経口的方法で投与してもよい。
次に実施例をあげて本発明化合物を具体的に説明する。
実施例中、温度単位は℃てあり、L H−20はPha
rmacia Fine Chemicals社から商
業上入手しうる5ephadexクロマトグラフイーゲ
ルを指称する。
実施例1 1−CN−((35)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト−4−フェニルブチル〕−し一アラニル〕
−17−プロリン(異性体A)の製造ニーa)(4−メ
トキシフェニル)メチルジスルフィドベンゼン(300
W(りおよび重炭酸ナトリウム(29,4g、0.35
モル)を含む水(3001ff)中の4−メトキンベン
ゼンメタンチオール(25g、0.162モル)の攪拌
混合物に、ヨウ素のベンゼン溶液をヨウ素の色が持続す
るまで加える。15分間攪拌後、チオ硫酸ナトリウムで
過剰ヨウ素の反応を抑える。ベンゼン画分を水、水性チ
オ硫酸ナトリウム、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩水
で洗う。
無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去して褐色固
体を得、これをエーテルで洗って淡黄褐色固体を得る。
こめ物質を再結晶のため温酢酸エチルに溶解し、その間
冷却して無色溶液を暗褐色(これはヨウ素を示す)に変
色させる。得られる溶液を水浴で冷却し、生成固体を濾
取する。次いでこの固体を酢酸エチルより再結晶し、エ
ーテルで洗って1 ’5 、19の(4−メトキシフェ
ニル)メチルジスルフィドを無色固体で得る。m、p、
 98〜100゜元素分析(C+sH+sOzs vと
して)計算値:C62,7L )(5,92、S20.
92実測値:C62,60、H5,97、S20.86
b)(S)−3−((ベンゾイルオキシカルボニル)ア
ミノII−ジアゾー4−フェニル−2−ブタノン乾燥テ
トラヒドロフラン(250i(り中のN−ベンジルオキ
シカルボニル−L−フェニルアラニン(53,9g、1
80ミリモル)およびN−メチルモルポリン(19,8
d、180ミリモル)の溶液に、アルゴン下−20°で
クロロギ酸イソブチル(23,4111L180ミリモ
ル)を加える。15分間攪拌後、濾過してN−メチルモ
ルポリン塩酸塩を除去し、濾液をジアゾメタンの冷(0
?)エーテル溶液で処理する。得られる混合物を室温に
温め、2時間攪、拌する。反応混合物に窒素流を30分
間吹き込み、過剰のジアゾメタンを除去する。溶媒を減
圧除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。得られる溶液
を水(2回)、IN−重炭酸ナトリウム(2回)、0゜
25M−クエン酸(2回)および塩水で洗う。無水Mg
5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をイソプロ
ピルエーテルに溶解する。生成する沈殿物を濾取して、
41.079の(S)−3−((ベンジルオキシカルボ
ニル)アミノコ−1−ジアゾ−4−フェニル−2−ブタ
ノンを淡黄色固体で得る。TLC(シリカゲル、ヘキサ
ン/酢酸エチル= 3 : 1 ):Rf=0.12゜ c)(S)−β−〔(ベンジルオキシカルボニル)アミ
ノコベンゼンブタン酸メチルエステルメタノール(10
0峠)中の(S)−3−((ベンジルオキシカルボニル
)アミノ11−ジアゾ−4−フェニル−2−ブタノン(
10g、30.8ミリモル)の溶液に、トリエチルアミ
ン(12;51ff)中の安息香酸銀(1,09)の溶
液0 、5 yiQを加える。窒素発□生が止まってか
ら、更に0 、5 mlの安息香酸銀/トリエチルアミ
ン溶液を加え、攪拌を更に15分間続ける。反応混合物
を活性炭で処理し、セライト(Celite)で濾過す
る。濾液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解する。
この溶液を水、IN−塩酸、IN−重炭酸ナトリウム(
2回)および塩水で洗う。無水Mg5O,上で乾燥後、
溶媒を減圧除去し、残渣をクロマトグラフィー(フロリ
ジル(F 1orisil)、エーテル)に付し、9.
439の(S)−β−〔(ベンジルオキシカルボニル)
アミノコベンゼンブタン酸メチルエステルをワックス状
黄色固体で得る。TLC(シリカゲル、ヘキサン/酢酸
エfル=4:1):Rr=0.25゜ d)(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−ベンゼンブタ
ン酸メチルエステル 95%エタノール(170峠)中の(S)−β−〔(ベ
ンジルオキシカルボニル)アミノコベンゼンブタン酸メ
チルエステル(10,0g、30.5ミリモル)、p−
トルエンスルホン酸・モノ水和物(s、sy、30.5
ミリモル)および水酸化パラジウム/炭素触媒(1,0
9)の混合物を、水素雰囲気(バルーン)下で攪拌する
。かかる系を排気し、20分毎に新鮮な水素を再充填す
る。1.5時間後触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮して無
色固体を得る。
無水テトラヒドロフラン(1501(り中の上記無色固
体およびジイソプロピルエチルアミン(8,23a12
,47.2ミリモル)の溶液にθ°で、塩化ベンゾイル
(6,27112,54ミリモル)を加える。30分間
攪拌後、混合物を室温に温め、攪拌を45分間続ける。
次いで反応混合物をIN−重炭酸ナトリウム(1501
Q)で処理する。30分間攪拌後大部分のテトラヒドロ
フランを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで抽出する。酢
酸エチル画分を水(2回)、IN−塩酸(2回)、IN
−重炭酸ナトリウム(2回)および塩水で洗う。無水M
g5Oi上で乾燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をヘキサ
ノで洗って8.15gの(S)−β−(ベンゾイルアミ
ノ)−ベンゼンブタン酸メチルエステルを無色固体で得
る。1’LCCシリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル−1
:1):Rf=0.38゜ e)(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−(((4
−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタン酸
メチルエステル 乾燥テトラヒドロフラン(20xN)中の新たに蒸留し
たジイソプロピルアミン(2,07i+e% 14,8
ミリモル)の溶液に、アルゴン下0°でn−ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液(2,4M溶液6.02112゜1
4.5ミリモル)を加える。0°で30分間攪拌後、得
られるジイソプロピルアミド・リチウムの溶液を一78
″に冷却し、テトラヒドロフラン(20iQ)中の(S
)−β−(ベンゾイルアミノ)−ベンゼンブタン酸メチ
ルエステル(:l’、Oy、6.72ミリモル)の溶液
を5分にわたって滴下する。−78’で15分冊攪拌後
、テトラヒドロフラン(91e)中の(4−メトキシフ
ェニル)メチルジスルフィド(2゜5g、8,07ミリ
モル)の溶液を加える。−78゜亀 で5分後混合物を0°に温め、攪拌を45分間続ける。
IN〜塩酸で反応を抑え、酢酸エチルで希釈する。得ら
れる溶液を水、IN−塩酸、IN−重炭酸ナトリウムお
よび塩水で洗う。無水Mg5O。
上で乾、燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をフラッシュク
ロマトグラフィー(4リカゲルLPS−1,ベンゼン/
酢酸エチル−93ニア)に付し、1.859の淡黄色固
体の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−〔〔(4
−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタン酸
メチルエステルをジアステレオマー混合物で得る。TL
C(シリカゲル、ベンゼン/酢酸エチル−9:l):R
f=0.29および0.26゜「)(S)−β−(ベン
ゾイルアミノ)−α−[:((4−メトキシフェニル)
メチル〕チオ〕ベンゼンブタノール(異性体A) テトラヒドロフラン(25酎)および無水エタノール(
2531の中の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α
−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼ
ンブタン酸メチルエステル(1,859,4,11ミリ
モル)の溶液に、塩化リチウム(0,79,4当量)お
よびホウ水素化ナトリウム(0,62g、4当量)を加
える。室温で21時藺攪拌後、混合物にIN−塩酸を加
えて反応を抑え、酢酸エチルで希釈する。得られる溶液
を水、IN=塩酸、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩水
で洗う。無水Mg5o。
上で乾燥後、溶媒を減圧除去し、残渣をフラッシュクロ
マトグラフィー(シリカゲルLPS−1.ベンゼン/ア
セトン=91=9)に付し、分離したジアステレオマー
の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−〔〔(4−
メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタノール
を無色固、体で得る。異性体A:0.489、TLC(
シリカゲル、ベンゼン/アセ)7=9二I)Rf=0.
27、および異性体B:0゜52g、TLC(シリカゲ
ル、ベンゼン/アセトン=9:I)Rf=0.16゜ g)(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−(((4
−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベンゼンブタナー
ル(異性体A) 無水ジメチルスルホキシド(5xQ)およびピリジニウ
ム−1−スルホネート(0,919,5,651(りの
混合物をアルゴン下室温にて15分、間攪拌し、次いで
乾燥塩化メチレン(5me)で希釈する。得られる溶液
に、塩化メチレン(7xQ)中の(、S)−β−(ベン
ゾイルアミノ)−α−〔〔(4−メトキシフェニル)メ
チル〕チオ〕ベンゼンブタノール(異性体A)(0,4
8g、l、13ミリモル)およびジイソプロピルエチル
アミン(1,98xQ、11.3ミリモル)の溶液を加
える。15分間攪拌後、混合物を酢酸エチルで希釈し、
水(2回)、IN−重炭酸ナトリウム(2回)および塩
水で洗う。無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去
し、0.459の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−
α−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベン
ゼンブタナール(異性体A)を淡黄色固体で得る。TL
C(シリカゲル、ベンゼン/7セ):/=9:1):R
f=0.44゜h) ト(N−((35)−3−(ベン
ゾイルアミノ)−2−([(4−メト干ンフェニル)メ
チル〕チオ〕−4−フェニルブチル〕−L−アラニルI
L−プロリン・1.1−ジメチルエチルエステル(異性
体A)テトラヒドロフラン(51(りおよび無水エタノ
ール(5mQ)中の(S)−β−(ベンゾイルアミノ)
−α−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕ベ
ンゼンブタナール(異性体A80.45..1,07ミ
リモル)、し−アラニル−゛L−プロリン・1.1−ジ
メチルエチルエステル(0,78?、3.21ミリモル
)、および粉砕した3人モレキュラーシーブス(2v)
の混合物を、アルゴン下室温で攪拌する。2.5時間後
シアノホウ水素化ナトリウム(0,20?、3当量)を
加え、攪拌を15時間続ける。反応混合物を濾過してシ
ーブスを除去し、濾液を酢酸エチルで希釈し、水、IN
−塩酸(2回)、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩水で
洗う。無水Mg5o4上で乾燥後、溶媒を除去してジア
ステレオマー混合物の所望生成物を淡黄色油状物で得る
。TLC(シリカゲル、ベンゼン/アセトン−4: I
 ):異性体AのRf=OJ Oおよび異性体80′)
Rf=0.13゜フラッシュクロマトグラフィー(シリ
カゲルLPS−1、ベンゼン/アセトン−7=3)によ
り不純生成物(異性体A)を得る。更にフラッシュクロ
マトグラフィー(シリカゲルLPG−1、酢酸エチル/
ベンゼン−6=4)を繰波し、0.209のト〔N−(
(35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−(((4)−
メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−フェニルブチ
ル)−L−アラニルIL−プロリン・t ’、 t −
ジメチルエチルエステル(異性体A)をほぼ無色の油状
物で得る。
1)1−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)
−2−メルカプト−4−フェニルブチル)−L−アラニ
ル)−L−プロリン(異性体A) トリフルオロ酢酸(191&)中の上記(h)の1.1
−ジメチルエチルエステル生成物C0,579,0,8
8ミリモル)およびアニソール(1,0112)の溶液
を、室温で1時間攪拌する。0″に冷却後、トリフルオ
ロ酢酸第二水銀<9761′yJO,88ミリモル)を
加える。1時間攪拌後火部分のトリフルオロ酢酸を減圧
除去する。残渣をエーテルで処理して無色固体を得、こ
れを濾取する(535o)。
上記固体(535N?)を80−酢酸(20g9)に溶
解し、該溶液に硫化水素を30分間吹き込む。生成する
黒色の硫化第二水銀をセライトで濾去する。
濾液をテフロン(T ef 1on)ミリポアフィルタ
−で□再度濾過し、減圧濃縮讐る。残渣を無水エタノー
ルで2回追い出しくchase)、水(8112)に溶
解し、IN−塩酸(0,5m+2)テ処理し、凍結乾燥
しテ0.33gの1−(N−((35)−3−(ベンゾ
イルアミノ)−2−メルカプト−4−フェニルブチル)
−L−アラニルIL−プロリン(異性体A)を無色固体
で得る。
111.1)、142〜176°(分解)、(t2)”
=−89,6゜(c=1.07、メタノール)。TLC
(シリカゲル、n−ブタノール/酢酸/水=4:l:1
):Rf=0.50゜元素分析(CtaH3+N504
S ’ HC(1’ 0 、38Heoとして) 計算値:C58,54、H6,44、H8,19、Cf
f 6.9L H6,25、SH6,45実測値:C5
B、54、H6,44、H8,15,0g6.91、H
6,15、SH6,26実施例2 1[N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2−
メルカプト−4−フェニルブチルCL−アラニル〕−L
−プロリン・モノ塩酸塩(異性体B)の製造ニーa)1
−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2−
(((4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−フ
ェニルブチル)−L−アラニルコル−プロリン・1.1
−ジメチルエチルエステル(異性体B)実施例1(h)
の部分精製したジアステレオマー混合物(ここで異性体
Bが主要成分)を再度クロマトグラフィー(フラッシュ
、シリカゲルLPS−1、クロロホルム/メタノール=
99:1)に付し、0.269のト(N−[(35)−
3−(ベンゾイルアミノ)−2−(((4−メトキシフ
ェニル)メチル)チオ〕−4−フェニルブチルIL−ア
ラニル)−L−プロリン・1.1−ジメチルエチルエス
テル(異性体B)を無色油状物で得る。TLC(シリカ
ゲル、クロロホルム/メタノール=96:4)二R「=
0..28゜b)ト+:N−((as)、4−+:ペン
ゾイルアミノ)−2−メルカプト−4−フェニルブチル
)−L−アラニル)−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性
体B)トリフルオロ酢酸(9,5112)中の上記(a
)のl。
l−ジメチルエチルエステル生成物(0,269,0゜
40ミリモル)およびアニソール(0,5112)の溶
液を、室温で1時間攪拌する。θ°に冷却後トリフルオ
ロ酢酸第二水銀(171xy、1当量)を加える。
45分間攪拌後、大部分のトリフルオロ酢酸を減圧除去
する。残渣をエーテルで処理して、無色生成物を得、こ
れを濾取する(260mg)。
上記無色固体(26019)を80%酢酸(10112
)に溶解し、該溶液に硫化水素を30分間吹き込む。
生成する黒色の硫化第二水銀をセライトで濾去する。生
成物を再度濾過(テフロンミリボア)し、濾液を減圧濃
縮する。残渣を無水エタノールで1回追い出し、水(1
03112)に溶解し、次いでIN−塩酸で処理する。
得られる溶液を凍結乾燥して白色のやわらかい固体(1
50o)を得る。この物質を水(91N)に溶解し、濾
過(テフロンミリボア)し、再度凍結乾燥して白色のや
わらかい固体とし、次いでこれを減圧上五酸化リン上で
乾燥し、136R9の1−CN−((35)−3,−(
ベンゾイルアミノ)−2−メルカチトートフェ子ルブチ
ル〕ルーアラニル〕−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性
体B)を得る。
謹、p、1477162°、〔α齢=−64.5゜(c
=1.06、メタノール)。TLC(シリカゲル、i−
ブタノール/酢酸/水=4:l:l):Rf=0−47
゜元素分析(C*5HsiNsO&S−HCQ−’0 
、36HxOとして) 計算値:C5B、5B、H6,44、H8,20゜H6
,25、Cl26.92、SH6,45実測値:C58
,5B、H6,50,H8,14;H6,+5、C&6
.71.SH6,IO実施例3 1−(N−((35)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト4−フェニルブチル)−L−リシル〕−L
−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)の製造ニーa)l
−(N″−〔(ベンジル1オキシ)カルボニル〕N’−
((1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル〕−L〜プ
ロリン・1.1−ジメチルエチルエステル酢酸エチル(
3001ff)中のN”−((ベンジルオキシ)カルボ
ニル)−N’−((1、l−ジメチルエトキシ)カルボ
ニル)−L−リシン・ジシクロヘキシルアミン塩(10
,09,17,8ミリモル)の懸濁液を、IN−塩酸(
3回)で抽出する。次いで有機相を水および塩水で洗う
。無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を除去して5.81
9のN″=[(ベンジルオキシ)カルボニル]−N’−
((1,1−ジメチルエトキシ)カルボニル)−L−リ
シンを淡黄色油状物で得る。
乾燥塩化メチレン(70m12)中のN”−((ベンジ
ルオキシ)カルボニル)−N@−((1,1−ジメチル
エトキシ)カルボニル)−L−リシン(5,81g、■
5.3ミリモル)およびし−プロリン・1.l−ジメチ
ルエチルエステル(2,80g、16.4ミリモル)の
溶液に、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(2゜02
g、14.95ミリモル)およびジシクロへキシルカル
ボジイミド(3,09g、14.98ミリモル)を加え
る。室温で15分間攪拌後、混合物を濾過してジシクロ
へキシルウレアを除去する。濾液を減圧濃縮し、残渣を
エーテルに溶解し、再度濾過する。濾液を水(2回)、
IN−塩酸(2回)、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩
水で洗う。無水MgSO4上で乾燥後、溶媒を減圧除去
し、残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル
LPS−1、ヘキサン/酢酸エチル−tit)に付し、
8.13gの1−(N”−((ベンジルオキシ)カルボ
ニル)−N”−((1,l−ジメチルエトキシ)カルボ
ニル)−L−リシル)−L−プロリン・1.1−ジメチ
ルエチルエステルを無色油状物で得る。’l” L C
(シリカゲル、ヘキサン/酢酸エチル−1+1):Rf
=0、.21゜ b)l(Nl′−((1,1−ジメチルエトキシ)カル
ボニル)−L−リシル)−L−プロリン・1.1−ジメ
チルエチルエステル 酢酸エチル(90112)およびエタノール(10iQ
)中の上記(a)の1.1−ジメチルエチルエステル生
成物(4,13g、7.73ミリモル)および水酸化パ
ラジウム・炭素触媒(400o)の混合物を、水素雰囲
気(バルーン)下で攪拌する。系を排気し、再度新しい
水素を30分間毎に充填する。3時間攪拌後、触媒を濾
去(Teflonミリボア)し、濾液を減圧濃縮して3
.159の1−(N’−((1,1−ジメチルエトキン
)カルボニルLL−リシル〕−L−プロリン・1.1−
ジメチルエチルエステルを無色固体で得る。
c)l−(N−((3S)3−(ベンゾイルアミノ)−
2−(((4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4
−フェニルブチル)−N”−((1,1−ジメチルエト
キシ)カルボニル)−L−リシル)−L−プロリン・1
.1−ジメチルエチルエステル(異性体A)テトラヒド
ロフラン(5mのおよび無水エタノール(5xQ)中の
(S)−β−(ベンゾイルアミノ)−α−〔〔(4−メ
トキシフェニル)メチル〕チオ〕−ベンゼンフタナール
(異性体A)(0,599,1,40ミlJモル)、1
−(N@−((1,ドジメチルエトキシ)カルボニル〕
−L−リシル〕−L−プロリン・1.1−ジメチルエチ
ルエステル(1,559,3,88ミリモル)、および
粉砕3人モレキコラーシーブ(2,09)の混合物を、
アルゴン下室温で攪拌する。2時間攪拌後シアノホウ水
素化ナトリウム(0,27y、3当屯)を加え、18時
間攪拌を続ける。反応混合物をセライトで濾過し、シー
ブを除去する。次いて濾液を酢酸エチルで希釈し、水、
1N−塩酸(2回)、IN−重炭酸ナトリウムおよび塩
水で洗う。
無水Mg5O,上で乾燥後、溶媒を減圧除去して所望生
成物のジアステレオマー混合物を淡黄色油状物で得る。
TLC(シリカ′グル、ベンゼン/アセトン−4:1)
:異性体AのRf=0.31.異性体BのRf=0.5
10クロマトグラフイー(フラッシュ、シリカゲルLP
S−1、クロロホルム/メタノール−98:2、ヘキサ
ン/アセトン=65:35、ベンゼン/アセトン=4:
1.酢酸エチル/ヘキサン−6=4、酢酸エチル/ヘキ
サン−6:4)を繰返して、0.4 Ifの1−(N−
((35)−3−(ベンゾイルアミノ))−2−(((
4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−フェニル
ブチル)−N8−((1,1−ジメチルエトキシ)カル
ボニルLL−リシルIL−プロリン・1.1−ジメチル
エチルエステル(異性体A)を無色油状物で得る。
d) l −(N−((35)−3−(ベンゾイルアミ
ノ)〕−〕2−メルカプトー4−フェニルブチルLLリ
シル〕−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)トリフ
ロオロ酢酸(12112)中の上記(c)の1.1ジメ
チルエチルエステル生成物c0.419.0.51ミリ
モル)およびアニソール(0,611(りの溶液を、室
温で1時間攪拌する。0°に冷却後、トリフロオロ酢酸
第二水銀(217+H11,0当量)を加える。0°で
1時間攪拌後、トリフロオロ酢酸の大部分を減圧除去す
る。残渣をエーテルで処理して、無色固体を得、これを
濾取する(0.491F)。
コノ固体(0,499)を80%酢酸(17xff)i
、:溶解し、該溶液に硫化水素を30分間吹込む。生成
する黒色硫化第二水銀をセライトで濾去する。濾液を再
度濾過(Teflon ミリボア)し、次いで減圧濃縮
する。残渣を水(10112)に溶解し、IN−塩酸(
1,5i(2)で処理し、次いで凍結乾燥する。
物質を少量の塩化水素酸を含む水中に再溶解し、再度凍
結乾燥する。物質を最終的に水より凍結乾燥して、29
019の1−(N−((35)−3−(ベンゾイルアミ
ノ)〕−2−メルカプト−4−フェニルブデル)−L−
リシルコル−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)を得る
。s+、I)、157〜180’ 、(α)”=−60
,0°(c=1.15、メタノール)。TLC(シリカ
ゲル、n−ブタノール/酢酸/水=4:I:l):Rf
=0.16゜ 元素分析(CtsHssN40*S # 2HCQ・1
.OH,Oとして) 計算値:C54,45、H6,85、H9,07、S5
.H9、Cl211.4B、S H5J5実測値:C5
4,35、H6,67、H8,97、S5.20、C1
!11.36、S H5,23実施例4〜42 実施例1〜3と同様にして、下記側lに示すカルボン酸
メチルエステルを(4−メトキシフェニル)メチルジス
ルフィドと反応させ、欄■に示すカルボン酸メチルエス
テルを得る。次いでこれを対応アルコールに変換し、次
いで欄■に示すアルデヒドに変換する。次にアルデヒド
を欄■に示すペプチジルエステルと反応させ、欄■に示
す保護されたスルフィド生成物を得る。S−保護基およ
びカルボン酸エステル基を除去して、欄■に示す最終生
成物を得る。
(以下余白) 欄I 1 il Cw。
2 欄■ 欄■ 欄■ (L) 欄V 代ち 欄■ 朋2 r! 山 山 山 偶−! w エ ml −= !! す 1ml+! 冨 8 ゃ1 ニー4′L −1 工 、& 工 cJ a!”l me ff1 M fQ g 係+、4 l& シ ’N 、S 、S 11 ♂ ♂ I tsr ! 、& 去 − g″1 al 山 ? 貝 υ si”l m 実施例20〜26のRI保護基、実施例29の 。
R8保護基、および実施例35のR6保護基を合成 保
護の最終工程で除去す□る。実施例30の4−アジドプ
ロリンは、これを還元剤で処理して4−アミノプロリン
生−物を得□る。実施例37〜42のR。
エステル基は除去せず。
実施例43〜55 1−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−〔〔(4−メトキシフェニル)メチル〕チオ〕−4−
フェニルブチル)−L−アラニル)−L−ブ[lリン(
異性体A)を下記側1の試薬で処理して、欄■に示す生
成物を得る。
欄■ R1 お、トリフルオロ酢酸第二水銀で処理して脱を行い、所
望の最終生成物を得る。
(以下余白) 実施例 !」 罠。
ち ) 実施例 欄 I 罠。
52 110−CM、−C124(2,)、 −01,
−Q12−M (01,125410片@ 噌、)バ◇ ss >tea、)4 −tell、r層実施例50〜
55の場合、欄Iの試薬との反応はジシクロヘキシルカ
ルボジイミドなどのカップリング剤の存在下で行う。
実施例56 1−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト−4−フェニルブチル〕−シーアラニル〕
−し−プロリン・ナトリウム塩(異性体A)の製造ニー
1−(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト−4−フェニルブチル)−L−アラニル〕
−L−プロリン(異性体A)(1ミリモル)を水(50
gff)に溶解する。水性重炭酸ナトリウム(0,IN
、20酎)を加え、水溶液を凍結乾燥する。次いでこれ
を水(10xQ)に溶解し、S ephadex クロ
マトグラフィーゲルG−10のカラム(5cxx 60
ci+)に適用し、水で溶離する。所望生成物を含む画
分をプールし、凍結乾燥して1−(N−((35)−3
−(ベンゾイルアミノ)−2−メルカプト−4−フェニ
ルブチル〕−L−アラニル)−L−プロリン・ナトリウ
ム塩(異性体A)を得る。
実施例57 顧 1(N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2−
メルカプト−4−フェニルブチルIL−アラニル〕−L
−プロリン・ナトリウム塩(異性体A)・・・・・・・
・・100mg コーンスターチ − ・・・藺・・501fIゼラチン
 ・・・叫・・ 7 、5 mgアビセル(Avice
L微結晶セルロース)・・・・・・・・・ 25yIg ステアリン酸マグネシウム ・・・・・・ニーツユLJ
計 1851g 上記成分をそれぞれ含有するt ooo個の錠剤を十分
なバルク量から製造する。即ち、1−(N−((35)
−3−(ベンゾイルアミノ)−2〜メルカプト−4−フ
ェニルブチル〕−L−アラニル〕−L−プロリン・ナト
リウム塩(異性体A)およびコーンスターチをゼラチン
の水溶液と混合する。混合物を乾燥し、粉砕して微粉末
とする。アビセル、次いでステアリン酸マグネシウムを
粗砕しながら混合する。
次いでこの混合物をタブレット成形機仲て打錠し、10
(ljIgの活性成分をそれぞれ含有する1000個の
錠剤を形成する。
同様にして、実施例1〜55のいずれかの生成物100
19を含有する錠剤を製造することができまた同様な操
作で50mgの活性成分を含有する錠剤も形成すること
ができる。
実施例58 5019の1−(N−((35)−3−(ベンゾイルア
ミノ)−2−メルカプト−4−フェニルブチル)−L−
リシル)ループロリン・モノ塩酸塩(異性体A)をそれ
ぞれ含有するツーピース#lゼラチンカプセル剤に、下
記成分混合物を充填する。
駄 1−(N−((35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−
メルカプト4−フェニルブチルLL−リシル〕−し一プ
ロリン・モノ塩酸塩(異性体A)・・・・・・・・ 5
011F ステアリン酸マグネシウム ・・・・・・・・・ 7m
gラクトース ・・・・・・・・193mg計2501
9 同様にして、実施例1,2および4〜56のいずれかの
生成物501gを含有するカプセル剤を製造することが
できる。
実施例59 注射液を以下の手順で製造する。
1−(N−((35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−
メルカプト−4−フェニルブチル)−L−アラニル〕−
L−プロリン・ナトリウム塩(異性体A)・・・・・・
・・・5009 メチルパラベン ・・・・・・・・・ 5gプロピルパ
ラベン ・・・・・・・・・ 19塩化ナトリウム ・
・・・・・・・・ 251F注射用水 ・・・・・・・
・・ 5e 上記活性物質、保存剤および塩化ナトリウムを3Qの注
射用水に溶解し、次いで容量を5eに調整する。溶液を
殺菌フィルターで濾過し、これをご菌バイアルに無菌的
に充填し、殺菌ゴム栓で密閉する。各バイアルは5酎の
注射液を含有し、該注射液の濃度は活性成分100xf
l/x(lである。
実施例1〜56のいずれかの生成物に対しても、同様に
10019の活性成分/R(lを含有する注射液を製造
することができる。
実施例60 成分 1−[N−((3S)−3−(ベンゾイルアミノ)−2
−メルカプト−4−フェニルブチルコル−アラニル〕−
し一プロリン・ナトリウム塩(異性体A)・・・・・・
・・・iofRg アビセル ・・・・・・・・100x9ヒドロクロロチ
アジド ・・・・・・・・12.519ラクトース ・
・・・・・・・・113゜コーンスターチ ・・・・・
・・・・17.5uステアリン酸 ・・・・・・・・ 
7所計350u −に記成分をそれぞれ含有する1000個の錠剤、、 
を十分なバルク量から製造する。即ち、1−(N−((
35)3−(ベンゾイルアミノ)−2−メルカプト−4
−フェニルブチル)−L−アラニルコル−プロリン・ナ
トリウム塩(異性体A)、アビセル、および一部のステ
アリン酸をスラッジし、かかるスラッジを粉砕し、#2
スクリーンに通し、次いでヒドロクロロチアジド、ラク
トース、コーンスターチおよび残りのステアリン酸と混
合する。混合物をタブレット成形機にて35019のカ
プセル型錠剤に打錠する、かかる錠剤に半分分割の割目
を入れる。
同様にして、実施例1〜55のいずれかの生成物100
1gを含有する錠剤を製造することができる。
特許出願人 イー・アール・スクイブ・アンド・サンズ
・インコーホレイテッド 代理 人弁理士青 山 葆 外1名

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式、 C20 Hm nは0.1または2; Rzsは炭素数1〜4の低級アルキルまたは(CHm)
    r@。 Rは水素、低級アルキル、シクロアルキル、(CHりI
    I@ 、(CHt)t’ NHオ、(CHx)s NH
    t 、(CHt)48Ht、(CHx)t ()H’ 
    1. (CHt)s OH。 (CHy)* OH−(CHt)t SH。 −(CH,)3− S Hまたは−(CHI)4−9H
    ;R+は水素、低級アルキル、ハロ置換(低級)アルキ
    ル、 −(CHt)r@ (CHz)r OH、(CHJr N I−1t、(C
    Ht)r SH、(CH2)r S−低級アルキル、 
    (CHt)t S (CH2)2 N H,t、1 −(CIりr−C−Nl−Itニ ー(CHt)III−シクロアルキル、(CHt)r 
    NHt 、(CHI)2 3HN(CHt)r S−低
    級アルキル、 または−(CH−)r C、NHt: R4は水素、低級アルキル、 −(CI4.)n+〜シクロアルキル、R6は水素、低
    級アルキル、−(cH,)r@、(CHt)r OH,
    (CHt)r NHz、−(CHt)r−SH,−(C
    H2)r−S−低級−(。□Jr (!= NHt; rは1〜4の整数; R?は水素、低級アルキル1、ハロゲン、ヒドロキシ、
    −NH−C,−低級アルキル1、アミノ、で示されるl
    −もしくは2−ナフチル、で示されるI−もしくは2−
    ナフチルオキシ、〜で示されるI−もしくは2−ナフチ
    ルチオ;(R+a)p −〇−低級アルキル、 で示されるl−もしくは2−ナフチルオキシ、で示され
    る1−もしくは2−ナフチルチオ:R3゜はハロゲンま
    たは−Y R+s;RIl、R″1.RIffiおよび
    R′、、はそれぞれ個別に水素または低級アルキル、も
    しくはR’ll+R+2およびR′1.が水素でR11
    がR13は水素、炭素数1〜4の低級アルキル、炭素数
    1〜4の低級アルコキシ、炭素数1〜4の低級アルキル
    チオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、トリフルオロメチル
    、ヒドロキシ、フェニル、フェノキシ、フェニルチオま
    たはフェニルメチル:R84は水素、炭素数1〜4の低
    級アルキル、炭素数1〜4の低級アルコキシ、炭素数l
    〜4の低級アルキルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、
    トリフルオロメチルまたはヒドロキシ; mは0.1,2.3または4; pは1.2または3(但しRt sとR14のいずれか
    が水素、メチル、メトキシ、クロロまたはフルオロであ
    る場合、pは1より大); RI5は水素または炭素数1〜4の低級アルキルYは酸
    素または硫黄; R18は炭素数l〜4の低級アルキル、合して構成され
    る非置換5〜6員環式基、あるいは1個ないしそれ以上
    の環形成炭素原子が低級アルキル(炭素数1〜4)置換
    基またはジ低級アルキル(炭素数1〜4)置換基を有す
    る置換5〜6員環式基; R+sは低級アルキル、ベンジルまたはフェネチル; Rhoは水素、低級アルキル、ベンジルまたはフェネチ
    ル; R8は水素、低級アルキル、p−メトキシベンジル、ベ
    ンズヒドリル、−cl−I=o−C−R,、、青1゜ 晶2゜ = c I−+ 2−CH−CI−12、(CH2)2
     N (CH3)tOHOH Rl ?は水素、低級アルキル、シクロアルキルまたは
    フェニル: R+eは水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはフ
    ェニル、もしくはR17とRI8はその双方を合して−
    (CHz)t−1−(CHt)i−1−CH=CH− R□およびRltはそれぞれ別個に水素または低級アル
    キル;および R23は低級アルキルを表わす] で示される化合物またはその医薬的に許容しうる塩。 2、 Rが水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(
    低級)アルキルまたはフェニル2R1が水素、炭素数1
    〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキル、CF 3
    、 (CHz)r N Ht、H−CH,−8H。 −(CHt)礁−8(CHz)t NHt、(CHt)
    t S CHsl 1 (c HJ x c N Ht ; R4が水素、シクロヘキシルまたはフェニル;R6が水
    素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキ
    ル、 H(CH2)4 NHt 、 CHz SH、(CHt)t S CHa、1 または −(CHz)t CNHt; Roが水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級
    )アルキル、アルカリ金属塩イオン、Rl ?が水素、
    炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アルキルま
    たはシクロヘキシル;R,、が炭素数1〜4の″直鎖も
    しくは分枝状(低級)アルキルまたはフェニル; R1,が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)ア
    ルキル; □ R8が炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)アル
    キル、−(CHJr N Ht、 R7が水素、ヒドロキシ、炭素数l〜4の直鎖もしくは
    分枝状(低級)アルキル、シクロヘキシル、アミノ、−
    〇−低級アルキル(低級アルキルは炭素数1〜4の直鎖
    もしくは分枝状基)、■−ナフチルオキシ、2−ナフチ
    ルオキシ、−8−低級アルキル(低級アルキルは炭素数
    l〜4の1−ナフチルチオまたは2−ナフチルチオ:R
    @が一〇−低級アルキル、−S−低級アルキル、枝状基
    ): R,がフェニル、2−ヒドロキシフェニルまたは4−ヒ
    ドロキシフェニル; R1゜がその双方共に−Y R111;Yは酸素または
    硫黄; R1@が炭素数1〜4の直鎖もしくは2個のR1gが合
    して構成される非置換5〜6員環式基、あるいは環状に
    メチルまたはジメチル置換基を有する置換5〜6員環式
    基; 1’L++ R’1++ R+!およびR′1.がすべ
    て水素、もしくはR11がフェニル、2−ヒドロキシフ
    ェニルまたは4−ヒドロキシフェニルでR′IIRI!
    およびR゛3.がすべて水素; rが1〜4の整数; 膳が0.1または2; R13が水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、クロロ
    、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ;および R34がフェニルである前記第1項記載の化合物。 3、Xが −N−CH−COOR。 I R,R。 +(L)’ ILL) HH Rが水素またはメチル; R3が水素、メチルまたは−(CHt)* NHt;R
    6が水素、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝状(低級)
    アルキルまたはアルカリ金属塩イオン;R4がシクロヘ
    キシルまたはフェニルでR6が水素、またはR4が水素
    でR6がメチル、−CH,−CH5)y、 R9が水素、シクロヘキシル、炭素数1−4のmが0.
    1または2; R+aが水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、クロロ
    、ブロモ、フルオロまたはヒドロキシ;および 【が2または3である前記第2項記載の化合物。 4、Xが−NH−CI−Co、OR。 Rs。 である前記第1項記載の化合物。 5、Xが である前記第3項記載の化合物。 6、Xが である前記第3項記載の化合物。 7、Xが R9 である前記第3項記載の化゛合物。 である前記第7項記載の化合物。 9、R1が水素である前記第8項の化合物。 10、 R@が水素、Rが水素、R1がメチルである前
    記第9項記載の化合物。 11.1−[N−[(3S)−3−(ベンゾイルアミノ
    )−2−メルカプト−4−フェニルブチル]−L−アラ
    ニル]−L−20リン(異性体A)である前記載10項
    記載の化合物。 12.1−[N−[(3S)−3−(ベンゾイルアミノ
    )−2−メルカプト−4−フェニルブチル]−L−アラ
    ニル]、−L−プロリン(異性体B)である前記第10
    項記載の化合物。 13、 Rsが水素、Rが水素、RIが−(CHt)*
    −NH,である前記第9項記載の化合物。 14.1−[N−[(3S)−3−(ベンゾイルアミノ
    )−2−メルカプト−4−フェニルブチル]−L−アラ
    ニル]−L−プロリン・モノ塩酸塩(異性体A)である
    前記第13項記載の化合物。 15、式、 [式中、R3およびR3は前記第1項の記載と同意義]
    で示される化合物。 16、式、 1 [式中、R1およびR3は前記第1項の記載と同意義]
    で示される化合物。
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