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JPS60211073A - Substrate coated by plasma increasing chemical vapor deposition, and apparatus and method for producing the same - Google Patents

Substrate coated by plasma increasing chemical vapor deposition, and apparatus and method for producing the same

Info

Publication number
JPS60211073A
JPS60211073A JP4845085A JP4845085A JPS60211073A JP S60211073 A JPS60211073 A JP S60211073A JP 4845085 A JP4845085 A JP 4845085A JP 4845085 A JP4845085 A JP 4845085A JP S60211073 A JPS60211073 A JP S60211073A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
coated substrate
plasma
coated
core
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4845085A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
リチヤード・エイチ・クラセン
ウオード・チヤールズ・スチーブンズ
チヤールズ・パーシング・ビーツ・ジユニア
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wyeth Holdings LLC
Original Assignee
American Cyanamid Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by American Cyanamid Co filed Critical American Cyanamid Co
Publication of JPS60211073A publication Critical patent/JPS60211073A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 te)、例えばカー・ポンmIIi、フィラメント、小
繊維、フィルム、リボン、シート、板等を、容量的にカ
ップリングされたプラズマを使用して、プラズマ増進化
学蒸着(plasma enhanced chemi
cal vapor deposition)にかける
ことにおいて、基体をラジオ周波数電極の一方とするこ
とに関する.こうして処理された基体、または例えば気
相グラフト化によって後処理された基体は、かなり変え
られ或いは修飾された表面特性を示す.本発明は、また
、上記の処理にかけられた、セラミックもしくは有機ポ
リブー材料と異種のもの同士組み合わされて作られた、
複合体に関し、この物品が高められた機械的強度の如き
種々の改善された物理特性を示すものに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION te), e.g. carpon mIIi, filaments, fibrils, films, ribbons, sheets, plates, etc., can be deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (plasma enhanced chemical vapor deposition) using a capacitively coupled plasma. enhanced chemistry
Relating to the use of a substrate as one of the radio frequency electrodes in a cal vapor deposition process. Substrates treated in this way, or post-treated, for example by vapor phase grafting, exhibit significantly altered or modified surface properties. The present invention also provides for the use of ceramic or organic polybu materials made in combination with dissimilar ones, which have been subjected to the above-described treatment.
The present invention relates to composites in which the article exhibits various improved physical properties such as increased mechanical strength.

ガラス、カーボン、合成繊維、シリコンカーバイド,ホ
ウ素等の如き種々の起源の材料で強化されたセラミック
スもしくはプラスチックからなる複合材料は、飛行機、
自動車、事務機器、スポーツ用品において、そしてまた
他の多くの分野において、アルミニウム、スチール、チ
タン、ビニルポリマー類、ナイロン類、ポリエステル類
等の如き、より重いか或いはより強度の低い通常の材料
からなる部品を置きかえるのに広汎な用途を有するに至
っている.複合材料は2種もしくはそれ以hの成分から
なり、そのうちの少なくとも1つのものは連続相もしく
は「マトリックス」を規定し、そして少なくとも1つの
他者は、組み立てのための1強化」を規定する。
Composite materials made of ceramics or plastics reinforced with materials of various origins such as glass, carbon, synthetic fibers, silicon carbide, boron, etc.
In automobiles, office equipment, sporting goods, and also in many other areas, materials made of heavier or less strong materials such as aluminum, steel, titanium, vinyl polymers, nylons, polyesters, etc. It has come to be used in a wide range of ways to replace parts. The composite material consists of two or more components, at least one of which defines the continuous phase or "matrix" and at least one other which defines the reinforcement for assembly.

該複合材料において強化材を使用する際の一つの共通の
問題は、これらのものの特性を、そこに究極的且つ緊密
な接触がなされるべき材料、例えばセラミックもしくは
熱硬化性ポリマーに、移す能力が外観上欠如しているこ
とである。このことは、複合材料を構成するマトリック
ス成分と強化用手段との間の接着の欠如のために、特性
の損失を招来する。先行する技術は、強化材に種々の表
面処理を行なうことによって、マトリックスと基体との
間の接着に改良を加えるための試みに富んでおり、これ
らのものには、種々の化学的、電気化学的、機械的処理
その他が含まれる。
One common problem when using reinforcements in such composites is the ability to transfer their properties to the materials with which ultimate and intimate contact is to be made, such as ceramics or thermoset polymers. This is something that is visually lacking. This leads to a loss of properties due to the lack of adhesion between the matrix components making up the composite and the reinforcing means. The prior art is replete with attempts to improve the adhesion between the matrix and the substrate by applying various surface treatments to the reinforcement, including various chemical, electrochemical and physical, mechanical processing, etc.

例えば、カーボン基体は、光酸化であることからなる、
装造後の表面処理をなされることがしばしばであるが,
これによって複合材料中の層間の剪断強度が改善される
。更に、多くの該基体には,また、エポキシもしくはポ
リイミドマトリックス樹脂と相溶性のポリマーの形のサ
イジングが桿供される。このような技術は比較的簡単で
コストも低いが、これらのものはその用途範囲が限定さ
れている。酸処理、アンモニア処理,カーバイドコーテ
ィング、二酸化炭素処理、電気分解処理、照射、イソシ
アネート処理、ハロゲン化金属処理、有機金属処理、ひ
げ結晶化等の如き他の技術もまた提案されている。プラ
ズマで扶助されたものも含めたイオンプレーティング処
理は、数多くの特許および出版物に記載されている.例
えば、S.C.Sanday,Proceedings
 Fifth Metal MatrixCompos
ites TechnologyConference
 、1983年5月、P.27−1〜27−11は、ブ
レーティング層が最終的には複合材料の連続マトリック
ス相に転化されることからなる、繊維上へのイオンブレ
ーティングを扱っている。Ai senbergの米国
特許第3.904,505号および同3,961,10
3号では、イオンブレーティングを加速するのに外部的
に生起させたプラズマを使用しており、この例では、基
体はラジオ周波数励起される。誘導プラズマに扶助され
た蒸着は、K、R,Li ngerによる3つの論文に
記述されている:COmpsites (G、B、)V
ol、8.No。
For example, the carbon substrate consists of being photo-oxidized,
Although surface treatment is often performed after installation,
This improves the shear strength between the layers in the composite material. Additionally, many such substrates are also provided with a sizing in the form of a polymer that is compatible with the epoxy or polyimide matrix resin. Although such techniques are relatively simple and low cost, they have a limited range of applications. Other techniques have also been proposed, such as acid treatment, ammonia treatment, carbide coating, carbon dioxide treatment, electrolysis treatment, irradiation, isocyanate treatment, metal halide treatment, organometallic treatment, whisker crystallization, etc. Ion plating processes, including plasma-assisted ones, are described in numerous patents and publications. For example, S. C. Sunday, Proceedings
Fifth Metal Matrix Compos
ites Technology Conference
, May 1983, P. Nos. 27-1 to 27-11 deal with ion-blating onto fibers, in which the brating layer is ultimately converted into a continuous matrix phase of the composite material. U.S. Pat. Nos. 3,904,505 and 3,961,10 to Ai Senberg.
No. 3 uses an externally generated plasma to accelerate ion blating, in this example the substrate is radio frequency excited. Induced plasma assisted deposition is described in three papers by K.R.Linger: COMPsites (G,B,)V
ol, 8. No.

31pp、139〜44.1977年7月:VOrab
drucke Plansee Sem1n、9th、
1977.2.D12/1−DI2/4およびProc
−Conf、Ion−Plating A11ied 
Tech、1977゜223〜9゜他のこのような処理
は、Toh。
31pp, 139-44. July 1977: VOrab
drucke Plansee Sem1n, 9th,
1977.2. D12/1-DI2/4 and Proc
-Conf, Ion-Plating A11ied
Tech, 1977° 223-9°; and other such treatments, Toh.

Be5lOn Co、の下記の特許に開示されている:
特公昭第58,120,876号(1983)(C,A
、100:8406r)、イオン衝撃およびイオンブレ
ーティング;特公昭環79゜163.790号(197
9)(C,A、92:202O2375,イオンブレー
ティング;特公昭環79,162,690号(1979
)(C8A、92 : 202376n)、これもイオ
ンブレーティング;特公昭環78.34,083号(1
978)(C,A、90ニア5547a)、プラズマエ
ツチングおよびイオンブレーティング:特公昭環78.
66.831号(1976)(C0A、90:1103
2w)、プラズマm+7チングおよびイオンブレーティ
ング;特公昭環78,38.793号(1978)(C
,A、89:91997s)、イオンブレーティング;
特公昭環78.38,791号(1978)(C,A、
89:202717n)、イオンブレーティング、ラミ
ネート化およびホットプレス;および特公昭環77.2
7,826号(1977)(C,A、87:43143
n)、プラズマエツチングおよびイオンブレーティング
、プラズマ溶射コーティング技術もまた公知であり、例
えばC,A、96:56379eがあるが、そこでは、
金属が、そのまま繊維−ヒに蒸着された微粒子として出
てくる。
Be5lOn Co., as disclosed in the following patents:
Special Publication No. 58,120,876 (1983) (C, A
, 100:8406r), ion bombardment and ion brating;
9) (C, A, 92:202O2375, ion brating; Tokko Shokan No. 79, 162, 690 (1979
) (C8A, 92: 202376n), also ion brating;
978) (C, A, 90 Near 5547a), Plasma Etching and Ion Blating: Tokko Shokan 78.
No. 66.831 (1976) (C0A, 90:1103
2w), plasma m+7 ching and ion brating;
, A, 89:91997s), ion brating;
Tokuko Showan No. 78.38, 791 (1978) (C, A,
89:202717n), ion blating, laminating and hot pressing; and Tokuko Showan 77.2
No. 7,826 (1977) (C, A, 87:43143
n), plasma etching and ion blating, plasma spray coating techniques are also known, e.g. C, A, 96:56379e, where:
The metal comes out as fine particles that are deposited on the fibers.

他のプラズマ処理も公知であり、例えば、Ro。Other plasma treatments are also known, such as Ro.

mの米国特許第3.723.289号、同3,824.
398号および同3.780.255号およびHOu(
7)米国特許第3,762,941号および3.767
.774号に記載された、カーボン−ヒでのプラズマで
発生された熱で処理することによる表面改質、およびM
asottiらの米国特許第3,813,282号にお
ける外面のカソードスパタリング改質がある。71リフ
エニレンポリマーは、Houc7)米国特許第3,74
5,104号および同3.853.600号記載の如く
、カーボン上のコーティングとしてプラズマから沈着さ
せられる。FujimOriらの1983年の特公昭環
70.770号は、20ILのカーボンm維の上へシリ
コンカーバイドのプラズマ扶助化学蒸着を使用して引張
強度を高めることを漠然と記載しているが、有利な影響
を与える複合材料に関してはデータが何も示されていな
い、この関連でやはり興味深いのは、スパタリングを用
いた、プラズマに扶助されたイオンブレーティングであ
り、Sumitomo Electric Ind、1
7)特公昭環8070−769号(1983)(C,A
、99=14622W)、特公昭第8060063号(
1983)(C,A、99: 144596)、および
Mitsubishi Electric Corp、
の特公昭環81,140.021号(1981)(C,
A、96:71290n)記載の技術で、誘導プラズマ
中でのシランおよびメタンの沈着によるシリコン/カー
ボンである。Sung、Dagl iおよびYi ng
は、ブロックおよび繊維の両方のグラファイト基体のプ
ラズマ処理による表面改質を、37thAnnual 
Conference、Re1nforced Pla
stics/ComposItes In5titut
e、The 5ociety of the Plas
tics Industry、Inc、、1982年1
月11日〜15日、5ession23−B、1〜B頁
に記載している。使用された技法は、誘導的にカップリ
ングされたプラズマを使用するものであったが、そこで
は、基体は励起されない、気相グラフト化も達成し得る
こともまた開示されている。
No. 3,723,289, U.S. Pat. No. 3,824.
No. 398 and No. 3.780.255 and Hou (
7) U.S. Patent Nos. 3,762,941 and 3.767
.. No. 774, surface modification by treatment with plasma-generated heat with carbon-H and M
There is a cathode sputtering modification of the outer surface in US Pat. No. 3,813,282 to Asotti et al. Houc7) U.S. Pat. No. 3,74
No. 5,104 and No. 3,853,600, it is deposited from a plasma as a coating on carbon. The 1983 Japanese Patent Publication No. 70.770 of FujimOri et al. vaguely describes the use of plasma-assisted chemical vapor deposition of silicon carbide onto 20IL carbon m-fibers to increase tensile strength, but no beneficial effects were found. Also of interest in this connection is plasma-assisted ion blating using sputtering, as reported by Sumitomo Electric Ind, 1
7) Special public Shokan No. 8070-769 (1983) (C, A
, 99=14622W), Special Publication No. 8060063 (
1983) (C, A, 99: 144596), and Mitsubishi Electric Corp.
Tokuko Showan No. 81, 140.021 (1981) (C,
A, 96:71290n) by deposition of silane and methane in an induced plasma. Sung, Dagl i and Yin ng.
surface modification by plasma treatment of graphite substrates, both blocks and fibers, in the 37th Annual
Conference, Re1nforced Pla
stics/ComposItes In5titut
e, The 5ociety of the Plus
tics Industry, Inc., 1982 1
March 11th to 15th, 5ession 23-B, pages 1 to B. Although the technique used was to use an inductively coupled plasma, it is also disclosed that gas phase grafting can also be achieved in which the substrate is not excited.

この技法で改質された繊維から作られる複合材料は、未
処理の繊維から作られるものよりも低い抗折力しか有さ
ないが、より良い(但し「認知できるほどではない」)
層間剪断強度を有するものであった。やはり興味深いの
はToray Industries、Inc、の特公
昭第72,24.979号(1972)(C,A、78
:31295 q)であり、これはカーボン繊維のアク
リル蒸気誘導プラズマ処理を開示している。かかる技術
もまた、繊維のヤーン糸(y a r n)もしくはト
ウ糸(tow)を処理すべき場合は、最内部の繊維の中
までの侵入がかなり乏しいために、良好で−・様なコー
ティングを生成させることはない、Goanは、誘導的
にカップリングされたプラズマを使用して(米国特許第
3,776.829号、アンモニアおよび米国特許第3
,634゜220号、酸素)、エポキシ樹脂複合材料中
の繊維のリンネル糸(line)と並ぶ抗折力、引張応
力および剪断強度を有利に高揚させる1機能化されたカ
ーボン繊維を製造する方法を記載している6層間剪断強
度への有利な効果は何も開示されていない。
Composites made from fibers modified with this technique have a lower transverse rupture strength than those made from untreated fibers, but are better (though "not appreciably")
It had interlaminar shear strength. What is also interesting is Toray Industries, Inc., Special Publication No. 72, 24.979 (1972) (C, A, 78
:31295 q), which discloses acrylic vapor induced plasma treatment of carbon fibers. Such techniques also provide good-like coatings when yarn or tow of fibers are to be treated, since penetration into the innermost fibers is rather poor. Using an inductively coupled plasma (U.S. Pat. No. 3,776.829, ammonia and U.S. Pat.
, No. 634゜220, Oxygen), a method for producing functionalized carbon fibers that advantageously enhances the transverse rupture strength, tensile stress and shear strength of fibers in line with fibers in epoxy resin composites. No beneficial effect on the six-layer shear strength described is disclosed.

不幸にして、今日までに達成されている結果は、一般的
に不十分なものであり、さもなければ欠陥のあるもので
あると考えることができ、且つ/或いは容易には再現で
きない、主要な欠点は、一様なフィルムの沈着の欠如ま
たは不完全な繊維便入であると考えられる。更に、殊に
イオンブレーティング法に関しては、ヤーン糸もしくは
トウ糸からなる基体に良好な取扱性を賦与することのな
い、粗い表面コーティングが製造される。2〜3束でイ
オンブレーティングされた時に1aIIiのバイアスな
しで製造されたコーティングは、やはり粗くてL)11
11m<、繊維が共に溶融している。従って、複合材料
の物理的特性を改善して、これらの特性を理論値により
近くそろえることに関する需要が存在する。
Unfortunately, the results achieved to date have generally been unsatisfactory and can otherwise be considered flawed, and/or there are no major improvements that are not easily reproducible. The drawbacks are believed to be lack of uniform film deposition or incomplete fiber entrainment. Furthermore, particularly with respect to the ion-blasting method, rough surface coatings are produced which do not endow the substrates made of yarn or tow with good handling properties. Coatings produced without bias of 1aIIi when ion-blated with 2-3 bundles are still rough and L) 11
11m<, the fibers are fused together. Accordingly, there is a need to improve the physical properties of composite materials to bring these properties closer to their theoretical values.

従って、本発明の主要な目的は、その他の点では通常の
ものである複合材料組み立て材において、最終的な用途
を目途された強化手段のものに対する、改善された表面
処理を提供することである。
It is therefore a primary object of the present invention to provide an improved surface treatment for reinforcing means intended for end use in otherwise conventional composite assemblies. .

本発明の今一・つの別の目的は、そのような表面処理を
行なうための装置を提供することである。
Another object of the invention is to provide an apparatus for carrying out such surface treatment.

本発明の今二つの別の目的は、その物理的特性が、先行
技術に関して、増進もしくは改善された、改善された複
合材料組み立て材を提供することである。
Another object of the present invention is to provide an improved composite material assembly whose physical properties are increased or improved with respect to the prior art.

本発明の尚も別の目的は、増進された表面特性を有する
基体にして、これらのものに対する種々のマトリックス
成分に対する大きな接着性と共に、その大きな相溶性の
理由で、そのものから複合材を構築するのに著しく好適
であるような基体を提供することである。
Yet another object of the present invention is to make substrates with enhanced surface properties from which composites are constructed due to their great compatibility as well as their great adhesion to the various matrix components. The object of the present invention is to provide a substrate which is eminently suitable for

これらの目的を達成する際に、本発明の1つの特徴は、
例えば繊維、フィラメント、小繊維、フィルム、リボン
、シート、板、ブロック等の形の、基体1例えばカーボ
ン、シリコン、シリコンカーバイド等の如き電気伝導性
基体を、基体をラジオ周波数の励起状態に置きながら、
容量的にカップリングされたプラズマで増進された化学
蒸着にかけることにある。これは、プラズマが容量的に
カー7プリングされ、基体自身がラジオ周波数でバイア
スされている点が、先行する技術と異なっている。この
ことにより、例えば3.000乃至12.000本の繊
維の、束からなるヤーン糸もしくはトウ糸の最内部の繊
維上でさえも、更に効率的で更に一様な表面コーティン
グが導かれる。
In achieving these objectives, one feature of the invention is:
A substrate 1, e.g. in the form of a fiber, filament, fibril, film, ribbon, sheet, plate, block, etc., is electrically conductive, e.g. carbon, silicon, silicon carbide, etc., while the substrate is subjected to radio frequency excitation. ,
It consists in subjecting it to capacitively coupled plasma enhanced chemical vapor deposition. This differs from previous techniques in that the plasma is capacitively coupled and the substrate itself is biased at radio frequencies. This leads to a more efficient and more uniform surface coating even on the innermost fibers of a yarn or tow of bundles, for example of 3,000 to 12,000 fibers.

更に、好ましい特徴のものにおいては、ラジオ周波数の
入力は、特性を使用されるマトリックスにマツチングさ
せるために、予めめられた引張応力の広い範囲のものを
産み出すべく変化させることができる0本発明の今一つ
の別の特徴は、別のモノマーとのグラフト化を含む、後
処理の段階にある0本発明の尚も別の特徴は、これらの
もののための強化手段としてこうして処理された基体を
利用し、該複合材料が引張強度および/または曲げ強度
等の如き、増進され改善された物理的および/または機
械的特性を示す、種々の複合材料組み立て材を構築する
ことにある。
Additionally, in a preferred feature, the radio frequency input can be varied to produce a wide range of predetermined tensile stresses in order to match the properties to the matrix used. Yet another feature of the present invention is the use of the thus treated substrate as a reinforcing means for these post-treatment steps, including grafting with other monomers. The object of the present invention is to construct various composite assemblies in which the composite materials exhibit enhanced and improved physical and/or mechanical properties, such as tensile strength and/or flexural strength.

本発明の、他の目的、特徴および利点は、以下に続〈発
明の詳細な説明から、本分野に熟達した人には明らかで
あろう。
Other objects, features, and advantages of the present invention will be apparent to those skilled in the art from the detailed description of the invention that follows.

本発明は、添付図面を参照することによって更に容易に
理解することができる: プラズマ増進化学蒸着は、上記の文献のうちのいくつか
のものに例示されている如く非常によく知られた技法で
あり、表面上に高架橋された薄膜(厚さ約1000オン
グストローム)を生成させる、モノマー性ガスのプラズ
マ重合という、等しくよ〈知られた現象に基づいており
、基体の化学的性質に依存して、コーティングを基体に
グラフト化させることもできる。プラズマ処理のために
は、ラジオ周波数の発振器をインピーダンスマツチング
ボックスにカップリングさせることができ、出力を反応
容器に供給することができる。典型的には、10乃至l
Ooワットの動力入力が。
The present invention can be more easily understood by referring to the accompanying drawings: Plasma enhanced chemical vapor deposition is a very well known technique as exemplified in some of the above-mentioned documents. It is based on the equally well-known phenomenon of plasma polymerization of monomeric gases, which produces highly crosslinked thin films (approximately 1000 angstroms thick) on surfaces, and depending on the chemistry of the substrate, The coating can also be grafted onto the substrate. For plasma processing, a radio frequency oscillator can be coupled to an impedance matching box and power can be provided to the reaction vessel. Typically 10 to 1
Oo watts of power input.

好ましくは実質的に水銀柱約5000μを超えない圧力
、最も好ましくは20乃至500ILの範囲の圧力にお
いて使用される。動力発振器の周波数は広く変えること
ができるが、普通は、約0.5kHz乃至約2500M
Hzの範囲内とする。13.6MHzの発振の標準の市
販装置が好便である。この方法は回分式もしくは連続的
に行なわせることができる。
Preferably it is used at a pressure substantially not exceeding about 5000 μl of mercury, most preferably in the range of 20 to 500 IL. The frequency of the power oscillator can vary widely, but typically ranges from about 0.5kHz to about 2500M
Within the range of Hz. Standard commercial equipment with 13.6 MHz oscillation is convenient. This process can be carried out batchwise or continuously.

本発明においては、ラジオ周波数励起を確かなものとす
るために、基体にエネルギーを供給することがプロセス
に対して重大である。先行技術の殆どの方法とは異なり
、本発明においては、プラズマは容量的にカップリング
される0本発明のそのような特徴によって、多フイラメ
ント繊維およびトウ糸がコーティングされるべき場合、
最内部の繊維においてさえも、一様で且つ平担なフィル
ムコーティングが提供される。必須というわけではない
が、実質的に大気圧以下、殊に好ましくは水銀柱約50
00g、(microns)以下の圧力で操作すること
もまた極めて好ましい、上記の如く、水銀柱lO乃至5
00#Lの範囲内で操作することが尚もより好ましく、
最適の結果は水銀柱lO乃至lOO#Lの範囲内で達成
される。
In the present invention, supplying energy to the substrate is critical to the process to ensure radio frequency excitation. Unlike most methods of the prior art, in the present invention the plasma is capacitively coupled. With such features of the present invention, when multifilament fibers and tow yarns are to be coated,
A uniform and even film coating is provided even on the innermost fibers. Although not required, the pressure is substantially below atmospheric pressure, particularly preferably about 50 mercury columns.
It is also highly preferred to operate at pressures below 00 g, (microns);
It is still more preferable to operate within the range of 00#L;
Optimal results are achieved within the range of lO to lOO#L of mercury.

本発明に従い、そして第2図を参照すると、基本的なプ
ラズマコーティング装置は、ラジオ周波数(RF)発振
器2 (13,56MHz、Materials Re
5earch Co rp、)、インピーダンスマツチ
ング回路4、およびガスを通さない容器6(ペルジャー
)からなる。インピーダンスマツチング回路4は、プラ
ズマに対して最適のRF動力転送を可能とする。マスフ
ロー−r−=ター8(Matheson)は反応容器6
の中へのガスの流れを計測する。七ツマ−の液体は、容
器lOの中に保持される。不活性ガス、例えばアルゴン
は、タンク12の中に保持される。乾燥窒素はタンク1
4の中に貯蔵される。
In accordance with the present invention and referring to FIG. 2, a basic plasma coating apparatus includes a radio frequency (RF) oscillator 2 (13,56 MHz, Materials Re
5earch Corp.), an impedance matching circuit 4, and a gas-tight container 6 (Pelger). Impedance matching circuit 4 allows optimal RF power transfer to the plasma. Mass flow -r-=tar 8 (Matheson) is reaction vessel 6
Measure the flow of gas into the. Seven liquids are held in a container IO. An inert gas, such as argon, is maintained in tank 12. Dry nitrogen is in tank 1
It is stored in 4.

真−空ポンプ16はコールドトラップ18を通して装置
に接続されるが、コールドトラップは例えば液体窒素で
冷却されるものとする。数々の電極配置のうちの何れの
ものでも使用することができるが、例えば、基体20が
電極であってRFバイアスされていることからなる、そ
れぞれ図2a、2bおよび2Cに示されているものを使
用し得る。
The vacuum pump 16 is connected to the apparatus through a cold trap 18, which is assumed to be cooled with liquid nitrogen, for example. Any of a number of electrode arrangements can be used, such as those shown in Figures 2a, 2b and 2C, respectively, in which the substrate 20 is an electrode and is RF biased. Can be used.

他の電極22は接地されている。全ての場合において、
配置は、一様で、非方向性バイアスの膜蒸着を提供する
べく、選択されなければならない。
The other electrode 22 is grounded. In all cases,
The geometry must be selected to provide uniform, non-directionally biased film deposition.

例えば、もし電極が基体から成り、10インチの長さま
たはs 、oooもしくは12,000木のカーボン繊
維のトウ糸であり(例えばCELION 6におよび1
2に、Ce1anese C。
For example, if the electrode consists of a substrate 10 inches long or s, ooo or 12,000 wood carbon fiber tow (e.g. CELION 6 and 1
2, Ce1anese C.

rP、)、RF動力の入力が水銀柱30乃至400ルの
圧力において10〜100ワツトの範囲内である場合は
、50乃至10.000オングストローム、好ましくは
200乃至5,000オングストロームの範囲の一様な
コーティングが、最内部の繊維もまたコーティングされ
て、容易に製造される。
rP, ), if the RF power input is in the range of 10 to 100 watts at a pressure of 30 to 400 liters of mercury, then the uniform Coatings are easily manufactured in which the innermost fibers are also coated.

供給および取り上げ装置は、連続的なトウ糸がプラズマ
の中を搬送され、前記の原理に従ってコーティングされ
得るように、容易に組み立てることができ、ここで、連
続法は本発明の好ましい特徴である。好適な装置を第3
図に示す。ここで、反応帯の容器24は、石英反応管か
らなる。RF発振器およびインピーダンスマツチング回
路26は第2図記載の如くである。グラファイト繊維2
8のヤーン糸もしくはトウ糸は、真空導入ブッシング3
2を通って容器管24の中へ行く前に、伝導性のローラ
ー30aおよび30bの一ヒを通過させることによって
励起される。他の電極は、RF接地されたスクリーン3
4からなる。ガスはボート36aおよび36bを通して
反応容器24の中へ供給され、系を真空に引く手段は、
真空ポンプ(図示せず)に接続されたボート38からな
る。
The supply and take-up device can be easily assembled so that a continuous tow yarn can be conveyed through the plasma and coated according to the principles described above, where a continuous process is a preferred feature of the invention. A third suitable device
As shown in the figure. Here, the reaction zone container 24 is made of a quartz reaction tube. The RF oscillator and impedance matching circuit 26 is as shown in FIG. graphite fiber 2
The yarn yarn or tow yarn of 8 is placed in the vacuum introduction bushing 3.
2 and into the container tube 24 by passing it through one of the conductive rollers 30a and 30b. The other electrode is the RF grounded screen 3
Consists of 4. Gas is supplied into reaction vessel 24 through boats 36a and 36b, and means for evacuating the system include
It consists of a boat 38 connected to a vacuum pump (not shown).

気密性を保つために、コーティングされたトウ糸は、こ
れもまた真空に接続された、出口管38を通して取り除
かれる。支持板40aおよび40bは装置を共に保持し
、接地されたスクリーン電極34の接地手段を提供する
。供給ロール42および取り上げロール44は、繊維を
供給し、コーティングされた繊維を集めるのに使用され
る。場合により、第2図のり、C,装置3で示される如
く、基体をり、C,伝導性とするための、電池等からな
る手段を介在させることができる。これにより伝導性基
体20は電荷を帯びたイオンをひきつけることができる
ようになり、幾つかの例では増進されたフィルム特性が
提供される。
To maintain airtightness, the coated tow yarn is removed through an outlet tube 38, which is also connected to a vacuum. Support plates 40a and 40b hold the device together and provide a means for grounding the grounded screen electrode 34. A supply roll 42 and a pick-up roll 44 are used to supply the fibers and collect the coated fibers. Optionally, means, such as a battery, may be interposed to render the substrate conductive, as shown in FIG. 2, device 3. This allows conductive substrate 20 to attract charged ions, providing enhanced film properties in some instances.

実施例によって例示される如く、それぞれの反応容器に
供給される材料は、元素、化合物、またはそれらのもの
の混合物であるを問わず、望まれる殆ど全ての種類の、
プラズマによって増進された、化学蒸着による膜を生成
する。この手順によれば、−・つの側面では、少なくと
も1種の金属、半金属もしくは非金属の元素、例えばア
ンチモン、タングステン、チタン、シリコンおよびα−
炭素を基体の上にコーティングすることができる。今一
つ別の側面では、5iXC1−X、Al2O3,CaO
1A I PO4#並びにシリコン/窒素、シリコン/
炭素、シリコン/炭素/酸素、シリコン/炭素/酸素/
窒素および同様のコーティングの如き無機材料を一様に
コーティングし得ることが示されよう。このような耐火
物のコーティングは、溶融金属の濡れおよび繊維束の含
浸を増進させる。例えば、カーボン上のAlPO4は、
アルミニウムによる濡れを増進させるが、これについて
は米国特許第4,008,299号を参照されたい。こ
のようなコーティングは、酸化抵抗を賦与し、セラミッ
クマトリックスに対する結合を制御するので、セラミッ
ク複合材ネ1の組み立てにおいてもまた有用である。こ
れらのコーティングは摩耗抵抗もまた提供することが期
待され、これらのものの用途を、商業的な織機もしくは
組みひも装置へも拡げていく。尚も別の側面においては
、高い存在確立の活性座位を有する無定形カーボンの膜
で一様にコーティングされた基体が、プラズマ装置から
取り出す前で尚も中位の真空下にある間に、反応性座位
と反応するモノマーもしくはポリマーのガスに曝され、
気相のものが七ツマ−もしくはポリマーの分子を無定形
カーボン表面へグラフト化させ、そしてこれによッテ有
@ff1J (o rgan i c f i Im)
を官能化させる。そのような七ツマ−もしくはポリマー
は、マトリックス材料に対する結合に最大の両立性(c
ompatibility)を与えるべく選択される。
As illustrated by the examples, the materials fed to each reaction vessel can be of almost any desired type, whether elements, compounds, or mixtures thereof.
Produces a plasma enhanced chemical vapor deposition film. According to this procedure, in one aspect, at least one metal, metalloid or non-metallic element, such as antimony, tungsten, titanium, silicon and α-
Carbon can be coated onto the substrate. In another aspect, 5iXC1-X, Al2O3, CaO
1A I PO4# and silicon/nitrogen, silicon/
Carbon, silicon/carbon/oxygen, silicon/carbon/oxygen/
It will be shown that inorganic materials such as nitrogen and similar coatings can be uniformly coated. Such refractory coatings enhance wetting of the molten metal and impregnation of the fiber bundles. For example, AlPO4 on carbon is
Enhanced wetting by aluminum, see US Pat. No. 4,008,299. Such coatings are also useful in the assembly of ceramic composite materials because they provide oxidation resistance and control bonding to the ceramic matrix. These coatings are expected to also provide abrasion resistance, extending their use to commercial looms or braiding equipment. In yet another aspect, a substrate uniformly coated with a film of amorphous carbon having a high probability of active sites is subjected to a reaction while still under moderate vacuum prior to removal from the plasma apparatus. exposed to a monomer or polymer gas that reacts with the sexual locus,
The gas phase causes the polymer or polymer molecules to be grafted onto the amorphous carbon surface, and thereby
to sensualize. Such polymers or polymers exhibit maximum compatibility (c) for bonding to matrix materials.
compatibility).

例えば、スチレンプラズマ中で製造される無定形カーボ
ンコーティングは、まわりの大気に曝す前にコーティン
グをアンモニアプラズマに簡単に曝すことによって、ア
ミドの如き窒素含有基で選択的に官能化させることがで
きる。無定形カーボンコーティングは、また、無定形カ
ーボンコーティングをまわりの空気に曝すことによって
、酸素含有基で官能化させることもできる。
For example, an amorphous carbon coating produced in a styrene plasma can be selectively functionalized with nitrogen-containing groups such as amides by briefly exposing the coating to an ammonia plasma before exposure to the surrounding atmosphere. Amorphous carbon coatings can also be functionalized with oxygen-containing groups by exposing the amorphous carbon coating to surrounding air.

アクリル酸蒸気中で沈着されたカーボンコーティングは
、繊維表面上でアクリル酸のフリーラジカル重合を結果
的にもたらし、このことはX線光電子分光によって証明
することができる。
Carbon coatings deposited in acrylic acid vapor result in free radical polymerization of acrylic acid on the fiber surface, which can be demonstrated by X-ray photoelectron spectroscopy.

第1図および18図を参照すると、本発明に従ってコア
50の中で使用される繊維の連続した束は、市販で数多
くの供給先から入手できる。例えば、好適なカーボン繊
維のヤーン糸は、Hereules Company、
Hitco、Great Lakes Carbon 
Company、AVCOCompanyおよび米国の
同様の供給先、および海外から入手できる。全てのもの
は、一般に、米国特許第3.677.705号記載の手
順によって製造される。繊維は長く連続的とすることが
でき、或いは短くすることもでき、例えば長さ1乃至1
5cmとする。
Referring to FIGS. 1 and 18, continuous bundles of fibers used in core 50 in accordance with the present invention are commercially available from a number of sources. For example, suitable carbon fiber yarns are available from Hereules Company;
Hitco, Great Lakes Carbon
Company, AVCO Company and similar suppliers in the United States, and internationally. All are generally manufactured by the procedure described in US Pat. No. 3,677,705. The fibers can be long and continuous, or they can be short, e.g.
The length shall be 5cm.

コアは、また、金属を含むこともでき、好ましくは表面
層として、殊に好ましくはニッケル、銅、鉛、金、銀、
これらのものの混合物等を含有する、電気めっきされた
金属層として含むことができる。これらのものは、好ま
しくは、本出願者による欧州特許出願第8310119
5.2号(1983年9月21日)に開示されている手
順によって製造されるものとする。
The core can also contain metals, preferably as a surface layer, particularly preferably nickel, copper, lead, gold, silver,
It can be included as an electroplated metal layer containing mixtures of these and the like. These are preferably European Patent Application No. 8310119 by the applicant
5.2 (September 21, 1983).

膜52は、プラズマ増進化学蒸着によってコアのトヘ沈
着された、あらゆる金属、半金属もしくは非金属の、元
素もしくは化合物、またはこれらのものの混合物からな
る。操作実施例で示される如く、そのような膜は2層も
しくはそれ以上の層のものでさえも施用することができ
、膜は同種のものとも異種のものともすることができる
Membrane 52 consists of any metal, metalloid or non-metal, element or compound, or mixture thereof, deposited onto the core by plasma enhanced chemical vapor deposition. As shown in the operational examples, such membranes can be applied with two or even more layers, and the membranes can be of the same type or of different types.

他の具体例では(図示せず)、コアは板状の基体からな
ることができ、接着剤もしくはコーティングが膜上に施
用されることが可能で、接着性の連続相がそのためのマ
トリックスとして作用する。そのような基体におよぼす
それぞれの膜の有利な影響を例示するために、板状物は
、例えばビスフェノールAジエポキシドおよびジエチレ
ントリアミンの薄層からなる、接着剤の薄い層でコーテ
ィングされ得る。樹脂を で16時間、そして次に80
℃で2時間硬化させることにより、本発明の表面膜の存
在のため、結合強度の顕著な増加が提供される。
In other embodiments (not shown), the core can consist of a plate-like substrate and an adhesive or coating can be applied onto the membrane, for which the adhesive continuous phase acts as a matrix. do. To illustrate the beneficial influence of each membrane on such substrates, the platelets can be coated with a thin layer of adhesive, for example consisting of a thin layer of bisphenol A diepoxide and diethylene triamine. resin for 16 hours and then at 80
Cure for 2 hours at 0.degree. C. provides a significant increase in bond strength due to the presence of the surface film of the present invention.

本発明の膜でコーティングされた繊維は、通常の手段で
組み立てられて、第4図に表わされた複合材料とするこ
とができ1図中、マトリックス54はプラスチック、例
えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂またはセラミック、
例えばガラスとするが、マトリックスは、膜コーティン
グされた繊維状コア50の存在のおかげで強化されてい
る。
Fibers coated with the membranes of the present invention can be assembled by conventional means into a composite material as shown in FIG. ceramic,
The matrix, for example glass, is reinforced thanks to the presence of a membrane-coated fibrous core 50.

ポリマー性マトリックス、繊維強化複合材料を製造する
ためには、本出願者の欧州特許出願第83101196
.0 (1983年10月5日)に記載されている方法
の如き、本技術分野で公知のどんな方法でも使用し得る
。ポリマー材料は、繊維、ヤーン糸もしくはトウ糸、織
り、組みひもとし、もしくは編みあげられた繊維布、非
織シート、寸断された繊維等の形の、膜コーティングさ
れた強化材の上へ、膜コーティング、溶融ブレンド、溶
媒ブレンド等を行ない得る。好適な樹脂はポリエステル
、ポリエーテル、ポリカーボネート、エポキシド、フェ
ノール樹脂、エポキシノボラック、エポキシポリウレタ
ン、尿素型の樹脂、フェノールホルムアルデヒド樹脂、
メラミン樹脂、メラミンチオ尿素樹脂、尿素−アルデヒ
ド樹脂、アルキド樹脂ポリスルフィド樹脂、ビニル有機
プレポリマー、多官能性ビニルエーテル、環状エーテル
、環状エステル、ポリカーボネートコニステル、ポリカ
ーポネートコシリコーン、ポリエーテルエステル、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリエステルイミド、ポリアミド
イミド、ポリエーテルイミドおよびポリビニルクロリド
、上記の何れかのものの混合物等である。ポリマー材料
は単独またはコポリマーと組み合せて存在せしめること
ができ、ポリマーブレンドもまた使用し得る。ポリマー
材料は、本発明のコーティングされた強化材と組み合さ
れた時、熱もしくは光によって、単独または触媒、加速
剤、架橋剤等と組み合されて、質、保護被覆、スポーツ
材料、オフィス機器の架橋、テレビのキャビネット等の
如き最終用途に好適な部品を形成するべく転化させ得る
。使用する強化材の量は通常のものとするが、好ましく
は、強化材は複合材料の少なくとも約40容量%をなす
ものとする。
For the production of polymeric matrix fiber-reinforced composite materials, the applicant's European Patent Application No. 83101196
.. Any method known in the art may be used, such as the method described in J.D. 0 (October 5, 1983). The polymeric material can be applied onto a membrane-coated reinforcement in the form of fibers, yarns or tows, woven, braided or knitted fabrics, non-woven sheets, shredded fibers, etc. Coating, melt blending, solvent blending, etc. may be performed. Suitable resins include polyesters, polyethers, polycarbonates, epoxides, phenolic resins, epoxy novolacs, epoxy polyurethanes, urea-type resins, phenol formaldehyde resins,
Melamine resin, melamine thiourea resin, urea-aldehyde resin, alkyd resin polysulfide resin, vinyl organic prepolymer, polyfunctional vinyl ether, cyclic ether, cyclic ester, polycarbonate conistere, polycarbonate cosilicone, polyether ester, polyimide, polyamide , polyesterimide, polyamideimide, polyetherimide and polyvinyl chloride, mixtures of any of the above, and the like. Polymeric materials can be present alone or in combination with copolymers, and polymer blends can also be used. Polymeric materials, when combined with the coated reinforcements of the present invention, can be cured by heat or light, alone or in combination with catalysts, accelerators, cross-linking agents, etc., to form materials, protective coatings, sports materials, office equipment, etc. can be converted to form parts suitable for end uses such as crosslinking, television cabinets, etc. The amount of reinforcement used is conventional, but preferably the reinforcement will constitute at least about 40% by volume of the composite.

セラミックスマトリックス強化複合材料をつくるための
は、Carbon and Graphite Fib
ers、Marshall 5itt 1g1i’、N
oyes Data Co rp、、1980.pp、
263−269記載の方法の如き、未技術分野で公知の
どの方法でも使用し得る。膜コーティングされた繊維1
例えば少なくとも40容量%のものは、ガラス、セメン
ト。
Carbon and Graphite Fib is used to make ceramic matrix reinforced composite materials.
ers, Marshall 5itt 1g1i', N
oyes Data Corp, 1980. pp,
Any method known in the art may be used, such as the method described in No. 263-269. Membrane coated fiber 1
For example, at least 40% by volume of glass, cement.

および炭化ニオブもしくは炭化タンタルの如き耐火化合
物の如きセラミックスと、複合材料に成形され得る。熱
衝撃抵抗および脆性の減少は、セラミックスをこの方法
で強化することによって有利に影響を受ける、2つの特
性である。
and ceramics such as refractory compounds such as niobium carbide or tantalum carbide. Thermal shock resistance and reduced brittleness are two properties that are advantageously affected by strengthening ceramics in this way.

以下の非限定的な実施例により本発明を例示する。The invention is illustrated by the following non-limiting examples.

基本的なプラズマコーティング装置は第2図に模式的に
表わされている0部材は、ラジオ周波数(RF)発振器
(13,56MHz 、Mat e rials Re
5earch Corp、)、インピーダンスマツチン
グ回路およびペルジャーもしくは管状反応容器からなる
容器で構成されるものとした。インピーダンスマツチン
グ回路は、プラズマへの最適のRF動力転送を可能とし
ている。反応容器の中へのガスの流れは、MatheS
onのマスフローモニターによって測定した。
The basic plasma coating apparatus is schematically represented in FIG.
5earch Corp.), an impedance matching circuit, and a Pelger or tubular reaction vessel. The impedance matching circuit allows for optimal RF power transfer to the plasma. The flow of gas into the reaction vessel is controlled by MatheS
It was measured using a mass flow monitor on.

使用される電極配置は、第2a−c図に示されており、
実際の配置はそれぞれの実施例の中で特定されている。
The electrode arrangement used is shown in Figures 2a-c,
The actual placement is specified within each example.

反応容器へのRF動力の投入量は、典型的には、水銀柱
30乃至400ILの圧力でlO乃至100ワツトの範
囲内とした。殆どの実施例は、Ce1ion 6に、6
000カーボン繊維トウ糸の10インチの長さのものに
ついて行なった。しかし、連続加工のためには、供給お
よび取すヒげ装置を組み立てて、全容量をlOmとして
トウ糸をプラズマの中を連続的に搬送させた。
The RF power input to the reaction vessel was typically in the range of lO to 100 Watts at a pressure of 30 to 400 IL of mercury. Most embodiments are based on Ce1ion 6, 6
The test was carried out on a 10 inch length of 000 carbon fiber tow yarn. However, for continuous processing, a feed and take-off whisker device was assembled to transport the tow yarn continuously through the plasma with a total capacity of lOm.

プラズマ扶助化学蒸着(c v n)の表面効果は、処
理済および未処理の繊維試料の両方について、X線光電
子分光(XPS’)および走査型電子顕微鏡を使用して
評価した。
The surface effects of plasma-assisted chemical vapor deposition (c v n) were evaluated using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS') and scanning electron microscopy on both treated and untreated fiber samples.

実Ju11 第2図の装置を、示された電極配置を用いて使用した。Real Ju11 The apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown.

RF小出力20ワツトとし、全圧は5bC1,蒸気40
mTo rr (404)とした0反応容器のバックグ
ラウンドの圧力はlOmTorrであった。15分曝し
た後に、約1000オングストロームの厚さのアンチモ
ンの金属的に見えるコーティングが、束の各々の繊維の
上に−・様に得られた。一様ではない、方向的にバイア
スのかかったnQの蒸着は無かった。
RF small output 20 watts, total pressure 5bC1, steam 40
The background pressure of the zero reaction vessel was 10 mTorr at mTorr (404). After 15 minutes of exposure, a metallic-looking coating of antimony approximately 1000 angstroms thick was obtained on each fiber of the bundle. There was no non-uniform, directionally biased nQ deposition.

T」、、a2第2図の装置を、示された電極配置を用い
て使用した。RF小出力lOワットとし、全圧は100
mTorrとした。反応容器のバックグラウンドの圧力
はlOmTorrであった。15分曝した後に、約50
00オングストロームの厚さのチタンの薄膜で一様にコ
ーティングされた繊維が得られた。
The apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown. RF small output 10 watts, total pressure 100
mTorr. The background pressure in the reaction vessel was lOmTorr. After 15 minutes of exposure, approximately 50
A fiber uniformly coated with a thin film of titanium with a thickness of 0.00 angstroms was obtained.

看よ第2図の装置を、示された電極配置を用いて使用し
た。RF比出力20ワツトとし、全圧は100mTor
rとした0反応容器のバックグラウンドの圧力はlOm
Torrであった0反応容器圧力をwpaで20mTo
rrまで高めた0反応容器を次にH2で20mTorr
からloomTorrまで加圧した。10分後、タング
ステンのコーティングが沈着され、約5000オングス
トロームの厚さであった。
The apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown. RF specific output is 20 Watts, total pressure is 100mTor
The background pressure of the 0 reaction vessel is 1Om
0 reaction vessel pressure which was Torr to 20mTo in wpa
The 0 reaction vessel heated to 20 mTorr was then heated to 20 mTorr with H2.
The pressure was increased from 100 to roomTorr. After 10 minutes, a coating of tungsten was deposited and was about 5000 Angstroms thick.

X5ユl!!J、第2図の装置を、示された電極配置を
用いて使用した。RF比出力25ワツトとした。全圧は
40mTorrとした(SiH,+Ar)。系のバック
グラウンドの圧力はl OmTorrであった。反応容
器圧力をArで30mTorrまで上げ、次にS iH
,で40mTo r rまで高めた。5分後、約1川(
10,000オングストローム)の厚さのSiの平担な
コーティングが繊維上に沈着された。
X5 Yul! ! J, the apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown. The RF specific output was set to 25 watts. The total pressure was 40 mTorr (SiH, +Ar). The background pressure of the system was 1 OmTorr. The reaction vessel pressure was increased to 30 mTorr with Ar, then SiH
, the pressure was increased to 40 mTorr. After 5 minutes, about 1 river (
A flat coating of Si 10,000 angstroms thick was deposited onto the fibers.

(CΣ、第2図の装置を、示された電極配置を用いて使
用した。RF比出力50ワツトとした。全圧は60mT
orrとした。バックグラウンドの圧力はlOmTor
rであった0反応容器圧力をスチレン蒸気で60mTo
rrまで高めた。3分後、約t oooオングストロー
ムの厚さのα−カーボンの一様な薄膜が繊維上に沈着さ
れた。
(CΣ, The apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown. The RF specific power was 50 Watts. The total pressure was 60 mT.
It was set as orr. The background pressure is lOmTor
The 0 reaction vessel pressure, which was r, was reduced to 60 mTo with styrene vapor.
Raised it to rr. After 3 minutes, a uniform thin film of α-carbon about two hundred angstroms thick was deposited on the fibers.

装置を、示された電極配置を用いて使用した。RF比出
力20ワツトとし、全圧は約56〜58mTorrとし
た。CH4流速は毎分1.7標準立方センナメートル(
SCCM)とした、SiH4流速は1.73CCMとし
た。Ar流速は21゜23CCMとした。1時間後、約
1500オングストロームのカーボン−シリコン薄膜が
繊維上に一様にコーティングされた。
The device was used with the electrode arrangement shown. The RF specific output was 20 Watts, and the total pressure was about 56-58 mTorr. The CH4 flow rate is 1.7 standard cubic centimeters per minute (
SCCM), and the SiH4 flow rate was 1.73 CCM. The Ar flow rate was 21° and 23 CCM. After 1 hour, approximately 1500 angstroms of carbon-silicon film was uniformly coated onto the fibers.

第2図の装置を、示された電極配置を用いて使用した。The apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown.

RF比出力40ワツトとし、全圧は26mTorrとし
た。SiH4流速は1.8SCCMとした。C2H,流
速は11−753CCとした。1時間後、約14の厚さ
のカーボン−シリコン膜が繊維上に一様にコーティング
された。
The RF specific output was 40 Watts, and the total pressure was 26 mTorr. The SiH4 flow rate was 1.8 SCCM. C2H, flow rate was 11-753CC. After 1 hour, a carbon-silicon film approximately 14 mm thick was uniformly coated onto the fibers.

!惠1J SiCI NHびN から シリコン −窒素(SiN)蒸着。! Kei 1J SiCI NHBIN to silicon - Nitrogen (SiN) evaporation.

第2図の装置を、示された電極配置を用いて使用した。The apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown.

RF比出力20ワツトとし、全圧は約40mTorrと
した。NH3流速は1 、O3CC間とした。N2流速
は1.5secMとした。
The RF specific output was 20 Watts, and the total pressure was about 40 mTorr. The NH3 flow rate was between 1 and O3CC. The N2 flow rate was 1.5 secM.

5iC14流速は0.73CCMとした。45分後、約
500オングストロームの厚さのシリコン−窒素からな
る膜で薄く一様にコーティングされたカーボン繊維が得
られた。
The 5iC14 flow rate was 0.73 CCM. After 45 minutes, the carbon fibers were thinly and uniformly coated with a silicon-nitrogen film approximately 500 angstroms thick.

す。第2図の装置を、示された電極配置を用いて使用し
た。RF比出力20ワツトとした。全圧は60mTor
rとした。空気はそのうち20mTorrとした。Si
H4,CH,およびアルゴンガスを1次の流速で流入さ
せることによって系を60mTorrとした:SiH4
,1,7scCM; CH4,1,7SCCM;および
アルゴン21.23CCM、1時間後、約6000〜7
000オングストロームの厚さの一様な薄膜が沈着され
たが、これは次の元素粗製を有するものであった:C,
22,4原子%;0,44.5原子%、N、7.4原子
%;およびSi、25.8原子%。
vinegar. The apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown. The RF specific output was set to 20 watts. Total pressure is 60mTor
It was set as r. The air pressure was 20 mTorr. Si
The system was brought to 60 mTorr by flowing H4, CH, and argon gases at a first-order flow rate: SiH4
, 1,7 scCM; CH4, 1,7 scCM; and argon 21.23 CCM, after 1 hour, about 6000-7
A uniform thin film of 0.000 angstroms thickness was deposited with the following elemental crudes: C,
22.4 at.%; 0.44.5 at.%, N, 7.4 at.%; and Si, 25.8 at.%.

支東旌土0−12 スチレンプラズマをブタンおよびアクリル酸蒸気のプラ
ズマで置きかえて、実施例6の一般手順をくり返した。
Shito Jingtu 0-12 The general procedure of Example 6 was repeated, replacing the styrene plasma with a butane and acrylic acid vapor plasma.

全ての場合に、無定形カーボン(α−カーボン)膜が沈
着された。
In all cases, amorphous carbon (α-carbon) films were deposited.

夾廠迩ユ1:」」 実施例6の手順により、但しスチレンプラズマのかわり
にアクリル酸プラズマで置きかえ、そして引き続いて無
定形のα−カーボンフィルムでコーティングされた繊維
を実験室の空気に曝すことによって、顕著に増加された
表面の酸素の量(XPSによる)、および官能性の分布
の変化(未処理の繊維表面上よりも多い一〇=0基)が
得られる。フィルムのxPS分析によって次の組成が得
られた:O、a、at原子%;o 、2゜1s 1s 26原子%;c 、65.58原子%;s C,16,0原子%;そしてC,7,3is ls 6原子%。
EXAMPLE 1: Following the procedure of Example 6, but substituting an acrylic acid plasma for the styrene plasma, and subsequently exposing the amorphous alpha-carbon film coated fibers to laboratory air. A significantly increased amount of surface oxygen (according to XPS) and a change in the distribution of functionality (more 10=0 groups than on the untreated fiber surface) are obtained. xPS analysis of the film yielded the following compositions: O, a, at %; o, 2° 1s 1s 26 atomic %; c, 65.58 atomic %; s C, 16,0 atomic %; and C. ,7,3is ls 6 atom%.

もし、α−カーボンフィルム蒸着の直後に、フィルムを
最初にアクリル酸モノマー蒸気に曝し、次に(排気後)
空気に曝す点景外は、この手順をくり返すとすれば、更
に選択的に官能化された表面が得られ、C−O基の量の
顕著な増加とC=0基の量の減少がおこる。
If immediately after α-carbon film deposition, the film is first exposed to acrylic acid monomer vapor and then (after evacuation)
If this procedure were repeated outside the entourage exposed to air, a more selectively functionalized surface would be obtained, with a marked increase in the amount of C-O groups and a decrease in the amount of C=0 groups. It happens.

フィルムのXPS分析により、次の結果が得られた:0
 .11.16原子%:0,31 S I S 。
XPS analysis of the film gave the following results: 0
.. 11.16 atomic %: 0.31 S I S .

15原子%;c 、58.0原子%;01s。15 atom%; c, 58.0 atom%; 01s.

s 21.17原子%;そしてC,6,52原子s %。s 21.17 atom%; and C, 6,52 atom s %.

!崖倒ユ1:」1 第2図の装置を、示された電極配置を用いて使用した。! Falling down the cliff 1:”1 The apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown.

RF小出力25ワツトとした。真空系は最初アルゴンで
201Lの圧力まで充たし、次にスチレン蒸気で401
Lまで充たした。10分後、α−カーボン膜ココ−ティ
ングれた繊維を空気に曝した。Oの量は5.3原子%で
あり、C1ss は94.7原子%であった。上記の方法をくり返したが
、但し、空気のかわりに、α−カーボンフィルムを、1
000μで15分間、アンモニアガスに直ちに曝した。
The low RF output was set at 25 watts. The vacuum system was first filled with argon to a pressure of 201 L, then filled with styrene vapor to a pressure of 401 L.
Filled up to L. After 10 minutes, the α-carbon film co-coated fibers were exposed to air. The amount of O was 5.3 at% and C1ss was 94.7 at%. The above method was repeated, except that instead of air, one α-carbon film was used.
Immediately exposed to ammonia gas for 15 minutes at 000μ.

フィルムをXPS分析で分析したが、痕跡量の窒素が示
された:0 .6゜s 25原子%;c 、92.4原子%:そしてS N 、1.32原子%、この手順をくり返しs て、但しアンモニアプラズマ中で後処理を使用すると(
50終のアンモニア圧力において20ワツトのRF小出
力2分)、分析された膜の中の〜1のN10比は、窒素
がNH,基の形で存在することを示した。分析によれば
、0 .8.11原s 子%、C,83,4原子%;そしてNIs’s 8.44原子%であった。全ての場合、コーティングは
約1000オングストロームの厚さであった。
The film was analyzed by XPS analysis and showed traces of nitrogen: 0. 6°s 25 at%; c, 92.4 at%; and S N, 1.32 at%; repeating this procedure, but using post-treatment in ammonia plasma (
The N10 ratio of ~1 in the analyzed membranes indicated that the nitrogen was present in the form of NH, groups (at 20 watts RF power for 2 minutes at ammonia pressure of 500 min). According to the analysis, 0. 8.11 atomic %, C, 83.4 atomic %; and NIs' 8.44 atomic %. In all cases, the coating was approximately 1000 angstroms thick.

ニッケルコーチ ングされたカーボン へのSiHからのシリコン Si 第2図の装置を、示された電極配置を用いて使用した。Nickel-coated carbon Silicon from SiH to The apparatus of Figure 2 was used with the electrode arrangement shown.

基体は、本出願者の上記の欧州特許出願第831011
95.2の実施例1に記載された電気めっき法によって
50重量%のニッケルでコーティングされた6000の
カーボン繊維トウ糸からなるものとした。RF小出力3
0ワツトとした。全圧は水銀柱33JLとした。SiH
4の流速は3.55CCMとした。10分後、約10,
000オングストロームの厚さのSiの平担なコーティ
ングが、ニッケルコーティングされたカーボン繊維の一
ヒに沈着された。
The substrate is based on the applicant's above-mentioned European Patent Application No. 831011.
It consisted of 6000 carbon fiber tow yarn coated with 50% by weight nickel by the electroplating method described in Example 1 of 95.2. RF small output 3
It was set to 0 watts. The total pressure was 33 JL of mercury. SiH
The flow rate in No. 4 was 3.55 CCM. 10 minutes later, about 10,
A flat coating of Si, 1,000 angstroms thick, was deposited onto a piece of nickel-coated carbon fiber.

夷隻舅1J ピロリティックグラファイト板を第2図の装置の中に置
き、40ワツトのRF小出力バイアスをかけた。全圧は
80mTorrとした0反応容器を4mTorrまで排
気し、次にH2で42mTorrまで逆充填させ、更に
Al(CH*)si’80mTorrまで充たした。蒸
着時間は30分とした。一様な膜が板の上に沈着され、
このものはAlOHからなるものであったが、式中x 
y y Xは2以下、yは3以下である。〜1000℃まで熱処
理した後、膜は化学量論的なAl2O5を生成した。
A pyrolytic graphite plate was placed in the apparatus shown in Figure 2 and a low RF power bias of 40 watts was applied. The zero reaction vessel, whose total pressure was 80 mTorr, was evacuated to 4 mTorr, then backfilled with H2 to 42 mTorr, and further filled to Al(CH*)si' 80 mTorr. The deposition time was 30 minutes. A uniform film is deposited on the plate,
This one was made of AlOH, and in the formula x
y y X is 2 or less, and y is 3 or less. After heat treatment to ˜1000° C., the film produced stoichiometric Al2O5.

支振m 実施例17の手順によって選択的に官能化されたα−カ
ーボンフィルムでコーティングされた、整列されたグラ
ファイトヤーン糸からアレーを作る。エポキシ樹脂およ
びポリアミノ硬化剤を含有する熱硬化性組成物でこれら
のものを含浸する。
Sway m An array is made from aligned graphite yarn threads coated with a selectively functionalized alpha-carbon film by the procedure of Example 17. These are impregnated with a thermosetting composition containing an epoxy resin and a polyamino curing agent.

アレーを3次元の形に組み立て、エポキシ樹脂を熱硬化
させて、樹脂がマトリックスであってフィルムコーティ
ングされたグラファイトヤーン糸が強化用の相(約40
〜50容量%)であることからなる複合材料を提供させ
る。この複合材料は、本発明に従ってコーティングされ
ていなl/〜グラファイトヤーン糸で作られるものと比
較して、改善された短角材剪断強度を示す。
The array was assembled into a three-dimensional shape and the epoxy resin was heat cured, with the resin being the matrix and the film-coated graphite yarns being the reinforcing phase (approximately 40
~50% by volume). This composite material exhibits improved short beam shear strength compared to that made with uncoated l/~ graphite yarn yarn according to the present invention.

火廠負ヱ」 カーボンからなり、実施例7の手順でカーボン−シリコ
ン膜でコーティングされた、膜コーティング慧れた繊維
トウ糸を、粉末化されたガラスを強化材に融合させるこ
とによって、セラミックマトリックス複合材料に転化さ
せる(強化材約40容量%)、この複合材料は1本発明
に従う膜でコーティングされていない繊維で強化された
ものよりも良好な安定性を、酸化性の雰囲気中での熱サ
イクルの後に示す。
A membrane-coated fiber tow yarn made of carbon and coated with a carbon-silicon membrane according to the procedure of Example 7 was fabricated into a ceramic matrix by fusing powdered glass to the reinforcement. Converted into a composite material (approximately 40% by volume of reinforcement), this composite material exhibits better stability than those reinforced with fibers not coated with a membrane according to the invention, when exposed to heat in an oxidizing atmosphere. Shown after the cycle.

プラズマコーティングされた繊維を含有する実施例の複
合材料の物品は、軽量で堅い部材が必要とされる、空間
構造物における支持角材、軽量の橋梁、ガスタービンの
内燃機関部材および飛行機用の内燃機器、空中の乗物等
の如き応用に、用途が見出される。
Example composite articles containing plasma-coated fibers are useful for support beams in space structures, lightweight bridges, internal combustion engine components for gas turbines and internal combustion equipment for aircraft, where lightweight and stiff components are required. It finds use in applications such as , aerial vehicles, etc.

前記の特許および出版物は、本明細書中で参照して組み
入れである。上記の詳細な説明の見方の中で、本発明の
多くの変種が本技術分腎に熟達した人には思いつかれる
だろう0例えば、実施例1〜15および17の手順によ
ってコーティングされた繊維で強化された、エポキシも
しくはポリイミドポリマーマトリックスからなる、複合
材料も製造し得る。そして実施例1〜6および8〜17
の手順でコーティングされた繊維で強化された、他のセ
ラミックスおよびセメントからなる、複合材料も製造し
得る。更に、ラジオ周波数出力は、予め決められた引張
応力を有する膜を製造するべく、変えることができる。
The patents and publications mentioned above are herein incorporated by reference. In view of the above detailed description, many variations of the invention will occur to those skilled in the art. Composite materials can also be produced consisting of reinforced epoxy or polyimide polymer matrices. and Examples 1-6 and 8-17
Composite materials of other ceramics and cements reinforced with fibers coated with the procedure can also be produced. Furthermore, the radio frequency power can be varied to produce membranes with predetermined tensile stresses.

出力を高くすると高い引張応力がもたらされる。10乃
至100の範囲内のワット数によって、平方インチあた
り30o、ooo乃至30.000.000ポンドの範
囲内のフィルム引張応力がもたらされる。出力を最終の
引張応力に変換するために、較正チャートを容易につく
ることができる。このような変種は、全て、冒頭の特許
請求の範囲に規定の如き本発明の目途された全範囲の中
にあるものであ
Higher power results in higher tensile stress. Wattages in the range of 10 to 100 provide film tensile stresses in the range of 30°, ooo to 30.000.000 pounds per square inch. A calibration chart can easily be created to convert the output to final tensile stress. All such variations are intended to be within the full intended scope of the invention as defined in the following claims.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

添付図面は、本発明に従って膜コーティングされた繊維
、本発明の方法を行なわせるために装置とその電極配置
1本発明を連続的に行なわせるための装置および本発明
の膜コーティングされた繊維で強化されたマトリックス
複合材料を表わす。 概略の図面である。 第1図は1本発明のフィルムコーティングされた繊維の
横断的な断面図である。 第1a図は、本発明に従うフィルムコーティングされた
繊維の、長さ方向の断面図である。 第2図は、本発明の方法を行なわせるための装置を示す
図である。 第2a、2bおよび20図は、本発明の方法を行なわせ
るためのts2図で示された装置において使用するのに
好適な、電極配置の図である。 第3図は、本発明のプラズマ扶助化学蒸着法を連続的に
行なわせるための装置の模式図である。 第4図は、本発明のフィルムコーティングされたm#I
強化マトリックス複合材料の部分断面図である。 特許出願人 アメリカン・サイアナミド・カンパFIG
、2a FIG、2c FIG、2b FjG、4 第1頁の続き 優先権主張 ■198病4月16日[相]米国(U S
)[株]5902520198群3月16日[相]米国
(US)[相]5902530198群3月16日[相
]米国(US)[株]5902540発 明 者 チャ
ールズ・バージン アメリカ合衆国グ・ビーン・ジュニ
ア ジホールロードミシガン州48462オートンビル
・グレイン500 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和6D年特許願第48450号 2、発明の名称 3、補正をする童 事件との関係 特許出願人 4、代 理 人〒107 電 話 685−2256
The accompanying drawings show a fiber coated with a membrane according to the invention, an apparatus for carrying out the method of the invention and its electrode arrangement, 1 an apparatus for carrying out the process of the invention continuously, and a fiber reinforced with a membrane coated fiber of the invention. represents a matrix composite material. This is a schematic drawing. FIG. 1 is a cross-sectional view of a film-coated fiber of the present invention. FIG. 1a is a longitudinal cross-sectional view of a film-coated fiber according to the invention. FIG. 2 shows an apparatus for carrying out the method of the invention. Figures 2a, 2b and 20 are illustrations of electrode arrangements suitable for use in the apparatus shown in the ts2 diagram for carrying out the method of the invention. FIG. 3 is a schematic diagram of an apparatus for continuously carrying out the plasma-assisted chemical vapor deposition method of the present invention. Figure 4 shows the film-coated m#I of the present invention.
FIG. 2 is a partial cross-sectional view of a reinforced matrix composite. Patent applicant American Cyanamid Campa FIG
, 2a FIG, 2c FIG, 2b FjG, 4 Continued from page 1 Priority claim ■198 disease April 16 [phase] United States (U.S.
) [Co.] 5902520198 Group March 16 [Phase] United States (US) [Phase] 5902530198 Group March 16 [Phase] United States (US) [Co.] 5902540 Inventors Charles Bergin United States of America Gu Bean Jr. Hall Road, Michigan 48462 Ortonville Grain 500 Procedural Amendment (Method) % Formula % 1. Display of the case Showa 6D Patent Application No. 48450 2. Title of the invention 3. Relationship with the children's case making the amendment Patent applicant 4. Agent Address: 107 Phone: 685-2256

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ラジオ周波数伝導性コアおよび、該コアをラジオ周
波数励起しながらプラズマ増進化学蒸着によって該コア
上に蒸着されたカーボンと少なくとも1種の他の非金属
を含んでなる少なくとも1種の薄く一様で且つ堅固に接
着された有機膜からなる、コーティングされた基体。 2、該有機膜が、予め決められた引張応力を有する膜を
製造するべく選択された応用ラジオ周波数動力で、該コ
ア上に蒸着されたことからなる、特許請求の範囲第1項
記載のコーティングされた基体。 3、該有機膜が官能化されることからなる特許請求の範
囲第1項記載のコーティングされた基体。 4、該官能化された有機膜が、予め決められた引張応力
を有する膜を製造するべく選択された応用ラジオ周波数
動力で、該コア上に蒸着されたことからなる、特許請求
の範囲第3項記載のコーティングされた基体。 5、応用ラジオ周波数動力が約10乃至約1000ワツ
トの範囲内にあり、膜の引張応力が平方インチあたり約
300.000乃至約30,00o 、oooポンドの
範囲内であることからなる、特許請求の範囲第2項記載
のコーティングされた基体。 6、応用ラジオ周波数動力が約lO乃至約1000ワツ
トの範囲内にあり、膜の引張応力が平方インチあたり約
300.000乃至約30,00o、oooボンドの範
囲内であることからなる、特許請求の範囲第4項記載の
コーティングされた基体。 7、膜が実質的に水銀柱的5.000%を超えない蒸気
圧において該コアに蒸着されることがらなる、特許請求
の範囲第1項記載のコーティングされた基体。 8、膜が水銀柱約20乃至約500.の範囲の蒸気圧に
おいて該コア上に蒸着されることからなる、特許請求の
範囲第7項記載のコーティングされた基体。 9、フィルムの厚さが約50乃至約io、o。 Oオングストロームの範囲内であることからなる。特許
請求の範囲第1項記載のコーティングされた基体。 10、フィルムの厚さが約200乃至約50.000オ
ングストロームの範囲内であることからなる、特許請求
の範囲第9項記載のコーティングされた基体。
Claims: 1. at least a radio frequency conductive core comprising carbon and at least one other non-metal deposited on the core by plasma enhanced chemical vapor deposition while exciting the core with radio frequencies; A coated substrate consisting of a thin, uniform, and firmly adhered organic film. 2. The coating of claim 1, wherein the organic film is deposited on the core with applied radio frequency power selected to produce a film with a predetermined tensile stress. substrate. 3. The coated substrate of claim 1, wherein the organic film is functionalized. 4. The functionalized organic film is deposited on the core with applied radio frequency power selected to produce a film with a predetermined tensile stress. Coated substrates as described in Section. 5. A claim comprising: the applied radio frequency power is in the range of about 10 to about 1000 watts; and the membrane tensile stress is in the range of about 300,000 to about 30,00 degrees, ooo pounds per square inch. The coated substrate according to claim 2. 6. A patent claim comprising: the applied radio frequency power is in the range of about lO to about 1000 watts; and the membrane tensile stress is in the range of about 300,000 to about 30,00 o, ooo bond per square inch. 4. The coated substrate according to claim 4. 7. The coated substrate of claim 1, wherein the film is deposited on the core at a vapor pressure of substantially no more than 5.000% mercury. 8. The membrane has a mercury content of about 20 to about 500. 8. The coated substrate of claim 7, wherein the coated substrate is deposited onto the core at a vapor pressure in the range of . 9. The thickness of the film is about 50 to about io, o. 0 angstroms. A coated substrate according to claim 1. 10. The coated substrate of claim 9, wherein the film thickness is within the range of about 200 to about 50,000 Angstroms.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000064047A (en) * 1998-06-26 2000-02-29 James A Mclaughlin Device and method for coating substrate with diamond- like carbon(dlc) or other vacuum deposition film

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS582032A (en) * 1981-06-29 1983-01-07 Fujitsu Ltd Organic thin film formation

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