JPS60122522A - 長波長赤外線による調理用鍋 - Google Patents
長波長赤外線による調理用鍋Info
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- JPS60122522A JPS60122522A JP23117883A JP23117883A JPS60122522A JP S60122522 A JPS60122522 A JP S60122522A JP 23117883 A JP23117883 A JP 23117883A JP 23117883 A JP23117883 A JP 23117883A JP S60122522 A JPS60122522 A JP S60122522A
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- Japan
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- wavelength infrared
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、セラミックスによる長fjlS赤外線加熱に
よる調理用鍋、ホットプレート、天プラ鍋等に関するも
のである。
よる調理用鍋、ホットプレート、天プラ鍋等に関するも
のである。
長波長赤外線を放射するセラミックス(ジルコニア等)
を金属、素焼等にプラズマ溶着又は焼付けたものを加熱
すれは、放射される長波長赤外線と被加熱物との共微吸
収現象tこより加熱効果か大であることはよく知られて
おり塗料の乾燥等tこ利用されている。
を金属、素焼等にプラズマ溶着又は焼付けたものを加熱
すれは、放射される長波長赤外線と被加熱物との共微吸
収現象tこより加熱効果か大であることはよく知られて
おり塗料の乾燥等tこ利用されている。
併しながら、調理用鍋のようtこ11こ水、油等の欲に
接しさらに塩、ソースなどの過酷な腐食環境におかれる
ものには全く使用されていない。
接しさらに塩、ソースなどの過酷な腐食環境におかれる
ものには全く使用されていない。
此は、従来の技v#tこおいては次のような欠陥が有っ
たからである。
たからである。
長波長赤外線を放射するセラミックスを金属又は素焼に
プラズマ溶着した場合は溶着層に多数の気孔が存在する
。例えば、長波長赤外線な放射するために広く使用さf
しるジルコニアを主体とするセラミックスを溶着した場
合は、その溶濯層は容積重にて真の気孔率は15%(見
掛けの気孔率はLO%)に到する。従って、微視的に観
察すれは母体(金属、素焼)に到する無数の気孔が存在
する。
プラズマ溶着した場合は溶着層に多数の気孔が存在する
。例えば、長波長赤外線な放射するために広く使用さf
しるジルコニアを主体とするセラミックスを溶着した場
合は、その溶濯層は容積重にて真の気孔率は15%(見
掛けの気孔率はLO%)に到する。従って、微視的に観
察すれは母体(金属、素焼)に到する無数の気孔が存在
する。
此の状MMを第1図にボす。図において、(1)は母体
金属、(2Jは俗射されたセラミックス、(8)は気孔
をボす。
金属、(2Jは俗射されたセラミックス、(8)は気孔
をボす。
次に第2図は、素焼にイツトリア等を固溶したジルコニ
ア粉末を特殊溶液にて混会したペーストを塗布して電気
炉で高温にて焼付けた場合を示す。図において、(4)
はジルコニアを主体とした赤外線放射層、(5)は素焼
、(6)は素焼の中に埋込れた発熱用のニクロム線であ
る。
ア粉末を特殊溶液にて混会したペーストを塗布して電気
炉で高温にて焼付けた場合を示す。図において、(4)
はジルコニアを主体とした赤外線放射層、(5)は素焼
、(6)は素焼の中に埋込れた発熱用のニクロム線であ
る。
又、第8図は、第2図における表向の部分を拡大したも
の、第4図は第8図の平面図である。図にボ丁ように、
此の種の放射体は使用中に表面の赤外線射層に多数のき
裂を発生する。此の発生するき裂は細いものであるが母
体億焼)に到している。
の、第4図は第8図の平面図である。図にボ丁ように、
此の種の放射体は使用中に表面の赤外線射層に多数のき
裂を発生する。此の発生するき裂は細いものであるが母
体億焼)に到している。
以上に述べたごとく、現在発表さnている放射体は母体
(金属、素焼)に到する無数の気孔又はき裂?:有して
いる。従って此を水蒸気の多い雰囲気又は液体と接して
使用すると次のような重大な欠陥を発生して使用は不i
iJ能である。
(金属、素焼)に到する無数の気孔又はき裂?:有して
いる。従って此を水蒸気の多い雰囲気又は液体と接して
使用すると次のような重大な欠陥を発生して使用は不i
iJ能である。
1)、液に微少な電解質(食塩、アルカリ、酸)及び水
を含むと、第5図にボすごとく極部電池を構成して母体
金属にクロム線)が腐蝕される。特に温度の高い場合は
腐蝕速度か大である。此は、表面に溶着さrしているジ
ルコニアtこはイツトリア、布土畑元票等が含れており
導電性を示し、母体金属の方が電気的に卑で返るから母
体金属が侵されることになる。
を含むと、第5図にボすごとく極部電池を構成して母体
金属にクロム線)が腐蝕される。特に温度の高い場合は
腐蝕速度か大である。此は、表面に溶着さrしているジ
ルコニアtこはイツトリア、布土畑元票等が含れており
導電性を示し、母体金属の方が電気的に卑で返るから母
体金属が侵されることになる。
2)、溶着されたセラミックス層の気孔、き裂等は微細
であるために、浸入した液は洗浄によっても排出が不可
能であり洗浄後も電気的腐蝕は進行する。
であるために、浸入した液は洗浄によっても排出が不可
能であり洗浄後も電気的腐蝕は進行する。
8)、特に食品機器の場合は、セラミックス層の気孔を
乙固着した物質は腐敗して良中苺の原因となる恐れがあ
る。
乙固着した物質は腐敗して良中苺の原因となる恐れがあ
る。
第5図の電気的腐蝕について説明する。図において、(
ILI)は金属母体(−1,(11)は溶着されたセラ
ミックス(→、 (12)は浸入した電解質を含む液で
ある。此の場合、矢印の方向に電流が流れて卑である金
属母体の(18)の部分が腐蝕される。
ILI)は金属母体(−1,(11)は溶着されたセラ
ミックス(→、 (12)は浸入した電解質を含む液で
ある。此の場合、矢印の方向に電流が流れて卑である金
属母体の(18)の部分が腐蝕される。
本発明は、以上の欠陥を除去して水、油等の液をこ接し
て過酷な腐蝕環境においても使用しえて、放射面に物質
が1着しない長波長赤外線を放射する調理用鍋?提供す
るものである。
て過酷な腐蝕環境においても使用しえて、放射面に物質
が1着しない長波長赤外線を放射する調理用鍋?提供す
るものである。
次に本発明の詳f411を実施例〉もって説明する。
実施例1)。
第6図に、アルミニウム又はアルミニウム合金を基材と
してジルコニア(ZrOz)ヲ87%、イツトリア(Y
!011 )を8%、チタニアぐfi02)を5%混合
した粒径10μ〜80μ程度のセラミックス微粉末をプ
ラズマ溶着し、さらE、7ツ素樹脂デイスバージ習ン溶
液な全回に塗布し乾燥、焼付は後さらに仕上層としてフ
ッ素樹脂ディスパーシロンを塗布、焼付けした1113
m用鍋を示す。イツトリアは安定、チタニアを工熱衝撃
による剥離防止のために加えたものである。(14)は
鍋本体、(15)は長波長赤外線放射面、(16)はシ
ーズヒーター、(17)はバイメタルを示す。第7図は
、第6図におけるAgllt面の詳細を示す。図tこお
いて、 鍋本体(14)にセラミックス微粉末(18)kプラズ
マ溶着した場合に浴射被ali!には無数の気孔が有り
その中には基材に達するピンホール(19)も多数存在
する。此1こフッ紫樹脂を焼付けると、フッ票樹脂が気
孔、ピンホールをこ没入して投餉効果により強固な被M
(助)を形成する。故に、過酷な腐蝕環iM、において
も使用に耐え物質も固着せず、而も長波長赤外線の加熱
効果を発揮しうる調理用鍋を提供する。
してジルコニア(ZrOz)ヲ87%、イツトリア(Y
!011 )を8%、チタニアぐfi02)を5%混合
した粒径10μ〜80μ程度のセラミックス微粉末をプ
ラズマ溶着し、さらE、7ツ素樹脂デイスバージ習ン溶
液な全回に塗布し乾燥、焼付は後さらに仕上層としてフ
ッ素樹脂ディスパーシロンを塗布、焼付けした1113
m用鍋を示す。イツトリアは安定、チタニアを工熱衝撃
による剥離防止のために加えたものである。(14)は
鍋本体、(15)は長波長赤外線放射面、(16)はシ
ーズヒーター、(17)はバイメタルを示す。第7図は
、第6図におけるAgllt面の詳細を示す。図tこお
いて、 鍋本体(14)にセラミックス微粉末(18)kプラズ
マ溶着した場合に浴射被ali!には無数の気孔が有り
その中には基材に達するピンホール(19)も多数存在
する。此1こフッ紫樹脂を焼付けると、フッ票樹脂が気
孔、ピンホールをこ没入して投餉効果により強固な被M
(助)を形成する。故に、過酷な腐蝕環iM、において
も使用に耐え物質も固着せず、而も長波長赤外線の加熱
効果を発揮しうる調理用鍋を提供する。
実施例2)。
第8図に、アルミニウム又はアルミニウム会合基材な陽
極として電解し酸化被膜(r−AIguB)を生1ff
lせしめ、ジルコニアcθ2)92%とイツトリア(h
)8%を混付したセラミックス微粉末をプラズマ溶層し
、さらにフッ素樹脂ディスパーシロンを全rm#c塗布
してプライマー、仕上けと2回にわたり焼付けしたホッ
トプレートをボす。
極として電解し酸化被膜(r−AIguB)を生1ff
lせしめ、ジルコニアcθ2)92%とイツトリア(h
)8%を混付したセラミックス微粉末をプラズマ溶層し
、さらにフッ素樹脂ディスパーシロンを全rm#c塗布
してプライマー、仕上けと2回にわたり焼付けしたホッ
トプレートをボす。
(21)は本体、(羽)は長波長赤外線放射面、(7A
)はシーズヒーター、(次)はバイメタルを示す。第9
図は、第8図tこおけるB部断面の詳細をボす。図にお
いて、本俸(21)を1164に酸化してi、AlgU
aの無数の微孔(2b)を有する酸化液ill (26
)Y生成せしめ、次いでセラミックス(”lOをプラズ
マ溶着し、さらにフッ素m脂被w!(2B)tこて全面
を被覆している。
)はシーズヒーター、(次)はバイメタルを示す。第9
図は、第8図tこおけるB部断面の詳細をボす。図にお
いて、本俸(21)を1164に酸化してi、AlgU
aの無数の微孔(2b)を有する酸化液ill (26
)Y生成せしめ、次いでセラミックス(”lOをプラズ
マ溶着し、さらにフッ素m脂被w!(2B)tこて全面
を被覆している。
被膜(28)は、セラミックス層の気孔(29)と、酸
化被膜の微孔(25)との二重投錨効果により ′極め
て強固であり、過酷な腐蝕環境に耐え物質も固着せず、
而も長波長赤外線の加熱効果を発揮しうるホットプレー
トを提供する。
化被膜の微孔(25)との二重投錨効果により ′極め
て強固であり、過酷な腐蝕環境に耐え物質も固着せず、
而も長波長赤外線の加熱効果を発揮しうるホットプレー
トを提供する。
第1O図tこ、陽極酸化1こまる被膜の詳I#M1こり
いて説明する。酸化被膜は(8tJ)と(81)の2層
に分れる。(80)は活生層でありr、a+2uBより
成りtl、 1層程度の厚さであり緻密で極めて侠く電
気的絶縁性が大であり孔は無く基材との結合は強固であ
る。(81)は多孔層であり(J、 1層程度の無数の
微孔がはは面に一直角に明いている。此の層の−さは、
アルミニウムのa度を80とすると表向では110位で
あるが内側に進むに従って懐くなり(8o)層において
は5000位となる。(aO)、(81)層共にその線
膨張係数は6〜g x lu Aegであり、溶着セラ
ミックスの7〜10 X 10 /degと近似してい
る。
いて説明する。酸化被膜は(8tJ)と(81)の2層
に分れる。(80)は活生層でありr、a+2uBより
成りtl、 1層程度の厚さであり緻密で極めて侠く電
気的絶縁性が大であり孔は無く基材との結合は強固であ
る。(81)は多孔層であり(J、 1層程度の無数の
微孔がはは面に一直角に明いている。此の層の−さは、
アルミニウムのa度を80とすると表向では110位で
あるが内側に進むに従って懐くなり(8o)層において
は5000位となる。(aO)、(81)層共にその線
膨張係数は6〜g x lu Aegであり、溶着セラ
ミックスの7〜10 X 10 /degと近似してい
る。
此は溶着セラミックスの熱m軍による剥離に対しては極
て有利である。アルミニウム及び会合基材の線IIl#
宗係数は28 X 1 u−2d(ある。
て有利である。アルミニウム及び会合基材の線IIl#
宗係数は28 X 1 u−2d(ある。
第11図に、アルミニウム又はアルミニウム基材を陽極
として電解して酸化被膜(r−A12011)を生成せ
しめ、此の上にジルコニア(如2)92%、イツトリア
(Y2O3) 8%を混会したセラミックス微粉末をプ
ラズマ浴着し、さらにシリコン樹脂を浴剤に溶した液を
布薄液、濃厚液と2回に分けて塗布、焼(11け処理し
た天ブラ鍋を示す。(85)は本体、(ア)は長波長赤
外線放射口、(87)はシースヒーター、(88)はバ
イメタルを示す。第12図は、第11図におけるC部断
面の詳#11を示す。図Vこ8いて、本体(85)を陽
極酸化してr−A120gの無数の微孔(二ゆを有する
酸化被膜蘂を生成せしめ、次いでセラミックス(綴ンヲ
プラズマ溶着し、さらにシリコン樹脂被膜(89)tこ
て全面を被覆している。被11N’(89)は、セラミ
ックス層の気孔(41J)と、酸化被膜の微孔(g)と
の二重投錨効果tこより極めて強−であり、過酷な腐蝕
環境に剛え物質も固着せず、而も長波長赤外線の加熱効
果を発揮しうる大ブラ鍋を提供する。
として電解して酸化被膜(r−A12011)を生成せ
しめ、此の上にジルコニア(如2)92%、イツトリア
(Y2O3) 8%を混会したセラミックス微粉末をプ
ラズマ浴着し、さらにシリコン樹脂を浴剤に溶した液を
布薄液、濃厚液と2回に分けて塗布、焼(11け処理し
た天ブラ鍋を示す。(85)は本体、(ア)は長波長赤
外線放射口、(87)はシースヒーター、(88)はバ
イメタルを示す。第12図は、第11図におけるC部断
面の詳#11を示す。図Vこ8いて、本体(85)を陽
極酸化してr−A120gの無数の微孔(二ゆを有する
酸化被膜蘂を生成せしめ、次いでセラミックス(綴ンヲ
プラズマ溶着し、さらにシリコン樹脂被膜(89)tこ
て全面を被覆している。被11N’(89)は、セラミ
ックス層の気孔(41J)と、酸化被膜の微孔(g)と
の二重投錨効果tこより極めて強−であり、過酷な腐蝕
環境に剛え物質も固着せず、而も長波長赤外線の加熱効
果を発揮しうる大ブラ鍋を提供する。
次に、セラミックス層ンこフッ素樹脂及びシリコン樹脂
を焼付けた理由を説明する。
を焼付けた理由を説明する。
セラミックス溶着層には、陽極酸化被膜1こより基材に
渥する気孔は存在しないわけであるがその表面には無数
の凹凸があり此に液又番工液中物質が固着する傾向があ
る。故に有機物に非混和性で#1Ill:型作用の強い
フッ素樹脂及びシリコン樹脂を被覆して常tこ清潔に保
つようにした。フッ素樹脂は連続使用耐熱温度は260
℃、シリコン樹脂は800°Cであり耐熱性にも優れて
いる。次に最も電!!なことは。
渥する気孔は存在しないわけであるがその表面には無数
の凹凸があり此に液又番工液中物質が固着する傾向があ
る。故に有機物に非混和性で#1Ill:型作用の強い
フッ素樹脂及びシリコン樹脂を被覆して常tこ清潔に保
つようにした。フッ素樹脂は連続使用耐熱温度は260
℃、シリコン樹脂は800°Cであり耐熱性にも優れて
いる。次に最も電!!なことは。
本発明は長波長赤外線放射が目的であるから老うミソク
ス面より放射された長波長赤外線を吸収せず艮く透過す
る物質を選定することである。このためtこフッ素樹脂
及びシリコン樹脂を選定した。
ス面より放射された長波長赤外線を吸収せず艮く透過す
る物質を選定することである。このためtこフッ素樹脂
及びシリコン樹脂を選定した。
第18図に各種被覆材料の赤外線吸収スペクトルをボす
。図において斜線の部分#r−相当した赤外線は吸収さ
れる。故に、フッ素m脂とシリコン樹脂以外は被覆材と
しては不適当である。
。図において斜線の部分#r−相当した赤外線は吸収さ
れる。故に、フッ素m脂とシリコン樹脂以外は被覆材と
しては不適当である。
又、セラミックスより放射された全放射エネルギーのう
ち、透過するエネルギーと樹脂に吸収されるエネルギー
との胸係乞、7ソ素樹lIIこついては第14図、シリ
コン樹脂ニついては第15図に示す。
ち、透過するエネルギーと樹脂に吸収されるエネルギー
との胸係乞、7ソ素樹lIIこついては第14図、シリ
コン樹脂ニついては第15図に示す。
第14図は、セラミックスの表面温度が260°Cの場
合におけるフッ素樹脂被膜を施した場・片の放射エネル
ギー分布を示す。
合におけるフッ素樹脂被膜を施した場・片の放射エネル
ギー分布を示す。
図において、ビーク波長%nax)は5.4μであり、
波長7.8μ以上の赤外線はフッ素111脂被膜層に吸
収されて熱となる。(E2の部分)波長7.8μより短
い赤外線は透過して長波長赤外線として有効eこ作用す
る。(、Elの部分)此の場合、吸収される放射エネル
ギー(句は全放射エネルギー(flt化2〕の約84%
であり、El(66%)よ透過する。従って笑用上は全
く間−はンよい。吸収された放射エネルギー(E−は熱
#r−変換さくL被加熱物を直接trX41)こより加
熱する。 峰・第15図は、セラミックスの表面温度が
300°Cの場合におけるシリコン樹脂被膜を施した場
合の放射エネルギー分布を示す。
波長7.8μ以上の赤外線はフッ素111脂被膜層に吸
収されて熱となる。(E2の部分)波長7.8μより短
い赤外線は透過して長波長赤外線として有効eこ作用す
る。(、Elの部分)此の場合、吸収される放射エネル
ギー(句は全放射エネルギー(flt化2〕の約84%
であり、El(66%)よ透過する。従って笑用上は全
く間−はンよい。吸収された放射エネルギー(E−は熱
#r−変換さくL被加熱物を直接trX41)こより加
熱する。 峰・第15図は、セラミックスの表面温度が
300°Cの場合におけるシリコン樹脂被膜を施した場
合の放射エネルギー分布を示す。
図において、ピーク波長−(ロ)は5.1μであり、波
長8μ以上の赤外線はシリコン樹脂被験層に吸収されて
熱となる。(V部分)波長(8μ)より短い赤外線は透
過して長波長赤外線として有効に作用する。(Ed’)
8分)此の場合、吸収される放射エネルギー(Eωは全
放射エネルギー(E8毬4)の約80%であり、b、<
7O%ンは透過する。従って笑用土は全く部組はない。
長8μ以上の赤外線はシリコン樹脂被験層に吸収されて
熱となる。(V部分)波長(8μ)より短い赤外線は透
過して長波長赤外線として有効に作用する。(Ed’)
8分)此の場合、吸収される放射エネルギー(Eωは全
放射エネルギー(E8毬4)の約80%であり、b、<
7O%ンは透過する。従って笑用土は全く部組はない。
吸収された放射エネルギー(胸)は熱tこ変換さlして
被加熱物をUL接伝導1こより加熱する。
被加熱物をUL接伝導1こより加熱する。
かくして本発明は、従来全く不ij能であった水蒸気の
多い雰囲気又は液(水又は′a等)と接する状態におい
て長波長赤外線の放射なP」能としただけでなく、放射
面の汚染を取り除いて、極めて加熱効率の艮い各種のA
11埋用鍋を提供するものである。
多い雰囲気又は液(水又は′a等)と接する状態におい
て長波長赤外線の放射なP」能としただけでなく、放射
面の汚染を取り除いて、極めて加熱効率の艮い各種のA
11埋用鍋を提供するものである。
第1図は、従来の長波長赤外線を放射するセラミックス
を金属又は素焼にプラズマ溶射した場合の断面を示す。 第2図は、素焼にイツトリア等を固溶したジルコニア粉
末を特殊浴液にて混合したペーストを顔面して電気炉で
晶泥tこて焼付げた従来の放射体の断IflIヲボす。 第3図は、第2図tこおける表面の部分を拡大してボす
。 7・・I3i俸の表面に焼(Jけられた放射層8・・放
射層に発生したき裂 9・・素焼等の基材 第4図は%第3図の表面図である。 第5図は、電気的腐蝕の例をボす。 第6図は1本発明による実施例1)全示す。 IJS7図は、第61!83における断囲詳相をボす。 第8図は、本発明による実施例2)を示す。 第9図は、第8図をこおける断面詳細を示す。 第1O図は、陽極酸化tこよる被膜の詳Satこりいて
ボす。 32・・浴着したセラミックス 33・・微孔 84・・基板(母体金属)第11図は、
本発明による実施例8)を示す。 第12図は、第11図における断面詳細を示す。 第13図は、各種被覆材料の赤外吸収スペクトルを示す
。 a・・フッ素auv b・・シリコン樹脂C・・ナイロ
ン−6d・・メラミン樹脂e・・エポキシ樹脂 「・・
3zガラス板とアクリル板 第14図は、ナラミックスの表面温度か260°Cの場
合におけるフッ素&J側被膜を施した場合の放射工不ル
キー分i’r示す。 第15図は、セラミックスの表面温FXか300℃の場
合におけるシリコン樹脂鼓膜を施した場合の放射エネル
ギー分布乞示す。 JLL!ZL −[蔓]−〜鴻闘− 」Lθ−]し 二組−ム乳−勇一 手続補正書 昭和59年や綻n8日 特許庁長官 若杉和夫 殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第231178号2
、発明の名称 長波長赤外線による調理用鍋3、補正を
する者 事件との関係 特許出願人 住所 愛知県名古屋市千種区高見 5、補正の対象 図面の第12図、第13図 6、補正の内容
を金属又は素焼にプラズマ溶射した場合の断面を示す。 第2図は、素焼にイツトリア等を固溶したジルコニア粉
末を特殊浴液にて混合したペーストを顔面して電気炉で
晶泥tこて焼付げた従来の放射体の断IflIヲボす。 第3図は、第2図tこおける表面の部分を拡大してボす
。 7・・I3i俸の表面に焼(Jけられた放射層8・・放
射層に発生したき裂 9・・素焼等の基材 第4図は%第3図の表面図である。 第5図は、電気的腐蝕の例をボす。 第6図は1本発明による実施例1)全示す。 IJS7図は、第61!83における断囲詳相をボす。 第8図は、本発明による実施例2)を示す。 第9図は、第8図をこおける断面詳細を示す。 第1O図は、陽極酸化tこよる被膜の詳Satこりいて
ボす。 32・・浴着したセラミックス 33・・微孔 84・・基板(母体金属)第11図は、
本発明による実施例8)を示す。 第12図は、第11図における断面詳細を示す。 第13図は、各種被覆材料の赤外吸収スペクトルを示す
。 a・・フッ素auv b・・シリコン樹脂C・・ナイロ
ン−6d・・メラミン樹脂e・・エポキシ樹脂 「・・
3zガラス板とアクリル板 第14図は、ナラミックスの表面温度か260°Cの場
合におけるフッ素&J側被膜を施した場合の放射工不ル
キー分i’r示す。 第15図は、セラミックスの表面温FXか300℃の場
合におけるシリコン樹脂鼓膜を施した場合の放射エネル
ギー分布乞示す。 JLL!ZL −[蔓]−〜鴻闘− 」Lθ−]し 二組−ム乳−勇一 手続補正書 昭和59年や綻n8日 特許庁長官 若杉和夫 殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第231178号2
、発明の名称 長波長赤外線による調理用鍋3、補正を
する者 事件との関係 特許出願人 住所 愛知県名古屋市千種区高見 5、補正の対象 図面の第12図、第13図 6、補正の内容
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)、アルミニウム又はアルミニウム合金基材に、ジル
コニア(ZrO2)を主体としたセラミックス微粉末を
プラズマ溶着し、さらにフッ素樹脂を全面に焼付けする
ことを特徴とする長波長赤外線による調理用鍋。 2)、アルミニウム又はアルミニタム合金基材を陽極と
して電解することにより酸化被膜(r−A1908)
y生成せしめ、此の上にジルコニア(Zr(J21を主
体としたセラミックス微粉末をプラズマ溶着し、さらに
フッ素樹脂を全面に焼付けすることを特徴とする長波長
赤外線tこよる調理用鍋。 8)、アルミニウム又はアルミニウム合金基材を陽−と
して電解することKより酸化被膜(r@AltOs )
’?を生成せしめ、此の上をこジルコニア(Zrt)
41)Y主体としたセラミックス微粉末をプラズマ溶着
し、さらにシリコン樹脂を全面に焼付けすることを特徴
とする長波長赤外線による調理用鍋。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23117883A JPS60122522A (ja) | 1983-12-07 | 1983-12-07 | 長波長赤外線による調理用鍋 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23117883A JPS60122522A (ja) | 1983-12-07 | 1983-12-07 | 長波長赤外線による調理用鍋 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60122522A true JPS60122522A (ja) | 1985-07-01 |
Family
ID=16919535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23117883A Pending JPS60122522A (ja) | 1983-12-07 | 1983-12-07 | 長波長赤外線による調理用鍋 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60122522A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS644332U (ja) * | 1987-06-27 | 1989-01-11 | ||
JPWO2016047702A1 (ja) * | 2014-09-24 | 2017-04-27 | 京セラ株式会社 | 電子部品搭載用基板およびそれを用いた発光装置 |
-
1983
- 1983-12-07 JP JP23117883A patent/JPS60122522A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS644332U (ja) * | 1987-06-27 | 1989-01-11 | ||
JPWO2016047702A1 (ja) * | 2014-09-24 | 2017-04-27 | 京セラ株式会社 | 電子部品搭載用基板およびそれを用いた発光装置 |
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